JPH08330346A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
半導体装置の製造方法Info
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- JPH08330346A JPH08330346A JP7133681A JP13368195A JPH08330346A JP H08330346 A JPH08330346 A JP H08330346A JP 7133681 A JP7133681 A JP 7133681A JP 13368195 A JP13368195 A JP 13368195A JP H08330346 A JPH08330346 A JP H08330346A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】接続信頼性が高くボンディングワイヤのショー
トによる不良がなく製造工程を簡略化できるワイヤボン
ディング工程を含む半導体装置の製造方法を提供する。 【構成】ワイヤボンディング工程が、キャピラリ1にて
半導体ペレット3上にAuワイヤ2のボールを形成し半
導体ペレット3とAuワイヤ2を接続する工程と、少く
ともボールを含むAuワイヤ2表面にスプレー7にて絶
縁物8を塗布しながらAuワイヤ2のループ形状に従っ
て内部リード6の内側先端部まで絶縁物8を塗布する工
程と、Auワイヤ2の表面が露出した状態で内部リード
6へボンディグを行い半導体ペレット3と内部リード6
とを接続する工程とを含む。
トによる不良がなく製造工程を簡略化できるワイヤボン
ディング工程を含む半導体装置の製造方法を提供する。 【構成】ワイヤボンディング工程が、キャピラリ1にて
半導体ペレット3上にAuワイヤ2のボールを形成し半
導体ペレット3とAuワイヤ2を接続する工程と、少く
ともボールを含むAuワイヤ2表面にスプレー7にて絶
縁物8を塗布しながらAuワイヤ2のループ形状に従っ
て内部リード6の内側先端部まで絶縁物8を塗布する工
程と、Auワイヤ2の表面が露出した状態で内部リード
6へボンディグを行い半導体ペレット3と内部リード6
とを接続する工程とを含む。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体装置の製造方法に
関し、特にワイヤボンディング工程を有する半導体装置
の製造方法に関する。
関し、特にワイヤボンディング工程を有する半導体装置
の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】絶縁物被覆ワイヤを用いた従来例1のボ
ンディング方法は、まず、図2(a)に示すように、フ
ァーストボンディングで半導体ペレット(以下、ペレッ
トと記す)3に絶縁被膜9をコーティングしたAuワイ
ヤ2をキャピラリ1を用いてボール形状にボンディング
する。次に、図2(b)に示すように、リードフレーム
の内部リード6へセカンドボンディングを行いペレット
3と内部リード6を接続する。
ンディング方法は、まず、図2(a)に示すように、フ
ァーストボンディングで半導体ペレット(以下、ペレッ
トと記す)3に絶縁被膜9をコーティングしたAuワイ
ヤ2をキャピラリ1を用いてボール形状にボンディング
する。次に、図2(b)に示すように、リードフレーム
の内部リード6へセカンドボンディングを行いペレット
3と内部リード6を接続する。
【0003】又、従来例2として、図3に示すように、
Cuワイヤ10をペレット3にボールボンディングを行
った後、Cuワイヤ10の表面を酸化させて酸化膜11
を形成しボンディングワイヤのショートを防止する方法
や従来例3として、図4に示すように、Cuワイヤ10
をペレット3のAl配線13にボールボンディングを行
った後、少くともCuワイヤ10の表面にエナメルコー
ティングを行いエナメル膜12を形成する方法がある
(特開平1−10555号公報参照)。
Cuワイヤ10をペレット3にボールボンディングを行
った後、Cuワイヤ10の表面を酸化させて酸化膜11
を形成しボンディングワイヤのショートを防止する方法
や従来例3として、図4に示すように、Cuワイヤ10
をペレット3のAl配線13にボールボンディングを行
った後、少くともCuワイヤ10の表面にエナメルコー
ティングを行いエナメル膜12を形成する方法がある
(特開平1−10555号公報参照)。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従来例1の絶縁物被覆
ワイヤを用いたボンディング方法では、セカンドボンデ
ィングの際にAuワイヤに絶縁物被膜がコーティングさ
れたままで内部リードへボンディングされるので、Au
ワイヤと内部リード間に絶縁膜が介在した状態となりA
uワイヤが内部リードから剥がれるという問題点があ
る。
ワイヤを用いたボンディング方法では、セカンドボンデ
ィングの際にAuワイヤに絶縁物被膜がコーティングさ
れたままで内部リードへボンディングされるので、Au
ワイヤと内部リード間に絶縁膜が介在した状態となりA
uワイヤが内部リードから剥がれるという問題点があ
る。
【0005】一方、従来例2,3のボンディング後に、
酸化膜やエナメル膜を形成する方法では、ボンディング
と被膜形成が2つの工程になるので製造工程が増加する
という問題点がある。
酸化膜やエナメル膜を形成する方法では、ボンディング
と被膜形成が2つの工程になるので製造工程が増加する
という問題点がある。
【0006】本発明の目的は、ボンディングワイヤと内
部リードの接続信頼性が高く、製造工程の簡略化が可能
な半導体装置の製造方法を提供することにある。
部リードの接続信頼性が高く、製造工程の簡略化が可能
な半導体装置の製造方法を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体装置の製
造方法は、半導体ペレットとリードフレームの内部リー
ドをボンディングワイヤにて接続するワイヤボンディン
グ工程を含む半導体装置の製造方法において、前記ワイ
ヤボンディング工程が、キャピラリにて半導体ペレット
上にファーストボンディングを行い前記ボンディングワ
イヤのボールを形成し前記半導体ペレットと前記ボンデ
ィングワイヤを接続する工程と、少くとも前記ボールを
含む前記ボンディングワイヤ表面にスプレーにて絶縁物
を塗布しながら前記ボンディングワイヤのループ形状に
従って前記内部リードの内側先端部まで前記絶縁物を塗
布する工程と、前記ボンディングワイヤの表面が露出し
た状態で前記内部リードへセカンドボンディングを行い
前記半導体ペレットと前記内部リードとを接続する工程
とを含むことを特徴とする。
造方法は、半導体ペレットとリードフレームの内部リー
ドをボンディングワイヤにて接続するワイヤボンディン
グ工程を含む半導体装置の製造方法において、前記ワイ
ヤボンディング工程が、キャピラリにて半導体ペレット
上にファーストボンディングを行い前記ボンディングワ
イヤのボールを形成し前記半導体ペレットと前記ボンデ
ィングワイヤを接続する工程と、少くとも前記ボールを
含む前記ボンディングワイヤ表面にスプレーにて絶縁物
を塗布しながら前記ボンディングワイヤのループ形状に
従って前記内部リードの内側先端部まで前記絶縁物を塗
布する工程と、前記ボンディングワイヤの表面が露出し
た状態で前記内部リードへセカンドボンディングを行い
前記半導体ペレットと前記内部リードとを接続する工程
とを含むことを特徴とする。
【0008】
【実施例】次に本発明の実施例について図面を参照して
説明する。
説明する。
【0009】図1(a)〜(c)は本発明の一実施例を
説明する工程順に示した断面図であ。本発明の一実施例
のボンディング工程は、まず、図1(a)に示すよう
に、キャピラリ1にてファーストボンディングをAuワ
イヤ2で行い、ペレット3上にボールを形成した後、ス
プレー7にて少くともボールを含むAuワイヤ表面に懸
濁粉末又は液状の絶縁物8を塗布する。次に、図1
(b)に示すように、Auワイヤ2のループ形状に従っ
て塗布しながら内部リード6の内側先端部迄絶縁物8を
コーティングする。次に、図1(c)に示すように、絶
縁物8の塗布を中止し、Auワイヤ2が露出した状態で
Auワイヤ2の内部リード6へのセカンドボンディング
を行いAuワイヤ2にてペレット3と内部リード6とを
絶縁物8をコーティングしたAuワイヤ2で接続する。
これにより、一工程でAuワイヤ2表面への絶縁物8の
塗布とボンディングが可能となり、Auワイヤ2と内部
リード6の接続信頼性が高くAuワイヤ2の接触による
ショート不良のない半導体装置を提供できる。
説明する工程順に示した断面図であ。本発明の一実施例
のボンディング工程は、まず、図1(a)に示すよう
に、キャピラリ1にてファーストボンディングをAuワ
イヤ2で行い、ペレット3上にボールを形成した後、ス
プレー7にて少くともボールを含むAuワイヤ表面に懸
濁粉末又は液状の絶縁物8を塗布する。次に、図1
(b)に示すように、Auワイヤ2のループ形状に従っ
て塗布しながら内部リード6の内側先端部迄絶縁物8を
コーティングする。次に、図1(c)に示すように、絶
縁物8の塗布を中止し、Auワイヤ2が露出した状態で
Auワイヤ2の内部リード6へのセカンドボンディング
を行いAuワイヤ2にてペレット3と内部リード6とを
絶縁物8をコーティングしたAuワイヤ2で接続する。
これにより、一工程でAuワイヤ2表面への絶縁物8の
塗布とボンディングが可能となり、Auワイヤ2と内部
リード6の接続信頼性が高くAuワイヤ2の接触による
ショート不良のない半導体装置を提供できる。
【0010】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、ペレット
上にファーストボンディングを行いボンディングワイヤ
のボールを形成しペレットとボンディングワイヤを接続
する工程と、少くともボールを含むボンディングワイヤ
表面にスプレーにて絶縁物を塗布しながらボンディング
ワイヤのループ形状に従って内部リードの内側先端部ま
で絶縁物を塗布する工程と、ボンディングワイヤの表面
が露出した状態で内部リードへセカンドボンディングを
行いペレットと内部リードとを接続する工程とを有する
ので、接続信頼性が高くボンディングワイヤのショート
による不良がなく製造工程が簡略化できる半導体装置の
製造方法を提供できるという効果がある。
上にファーストボンディングを行いボンディングワイヤ
のボールを形成しペレットとボンディングワイヤを接続
する工程と、少くともボールを含むボンディングワイヤ
表面にスプレーにて絶縁物を塗布しながらボンディング
ワイヤのループ形状に従って内部リードの内側先端部ま
で絶縁物を塗布する工程と、ボンディングワイヤの表面
が露出した状態で内部リードへセカンドボンディングを
行いペレットと内部リードとを接続する工程とを有する
ので、接続信頼性が高くボンディングワイヤのショート
による不良がなく製造工程が簡略化できる半導体装置の
製造方法を提供できるという効果がある。
【0011】
【図1】(a)〜(c)は本発明の一実施例を説明する
工程順に示した断面図である。
工程順に示した断面図である。
【図2】(a),(b)は従来例1を説明する工程順に
示した断面図である。
示した断面図である。
【図3】従来例2の断面図である。
【図4】従来例3の断面図である。
1 キャピラリ 2 Auワイヤ 3 ペレット 4 Agペースト 5 アイランド 6 内部リード 7 スプレー 8 絶縁物 9 絶縁被膜 10 Cuワイヤ 11 酸化膜 12 エナメル膜 13 Al配線
Claims (1)
- 【請求項1】 半導体ペレットとリードフレームの内部
リードをボンディングワイヤにて接続するワイヤボンデ
ィング工程を含む半導体装置の製造方法において、前記
ワイヤボンディング工程が、キャピラリにて半導体ペレ
ット上にファーストボンディングを行い前記ボンディン
グワイヤのボールを形成し前記半導体ペレットと前記ボ
ンディングワイヤを接続する工程と、少くとも前記ボー
ルを含む前記ボンディングワイヤ表面にスプレーにて絶
縁物を塗布しながら前記ボンディングワイヤのループ形
状に従って前記内部リードの内側先端部まで前記絶縁物
を塗布する工程と、前記ボンディングワイヤの表面が露
出した状態で前記内部リードへセカンドボンディングを
行い前記半導体ペレットと前記内部リードとを接続する
工程とを含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7133681A JPH08330346A (ja) | 1995-05-31 | 1995-05-31 | 半導体装置の製造方法 |
| CN96106855A CN1083156C (zh) | 1995-05-31 | 1996-05-31 | 制造半导体器件的方法及实施该方法的设备 |
| KR1019960018971A KR100237511B1 (ko) | 1995-05-31 | 1996-05-31 | 반도체 디바이스 제조 장치 및 방법 |
| US08/655,864 US5950100A (en) | 1995-05-31 | 1996-05-31 | Method of manufacturing semiconductor device and apparatus for the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7133681A JPH08330346A (ja) | 1995-05-31 | 1995-05-31 | 半導体装置の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08330346A true JPH08330346A (ja) | 1996-12-13 |
Family
ID=15110399
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7133681A Pending JPH08330346A (ja) | 1995-05-31 | 1995-05-31 | 半導体装置の製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5950100A (ja) |
| JP (1) | JPH08330346A (ja) |
| KR (1) | KR100237511B1 (ja) |
| CN (1) | CN1083156C (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1328771C (zh) * | 2004-05-09 | 2007-07-25 | 江苏长电科技股份有限公司 | 微型半导体器件封装低弧度焊线的形成工艺 |
| JP2019009171A (ja) * | 2017-06-21 | 2019-01-17 | スタンレー電気株式会社 | 半導体装置 |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20040124545A1 (en) * | 1996-12-09 | 2004-07-01 | Daniel Wang | High density integrated circuits and the method of packaging the same |
| EP0903780A3 (en) * | 1997-09-19 | 1999-08-25 | Texas Instruments Incorporated | Method and apparatus for a wire bonded package for integrated circuits |
| JP3455092B2 (ja) * | 1997-10-27 | 2003-10-06 | 株式会社新川 | 半導体装置及びワイヤボンディング方法 |
| US6670214B1 (en) * | 2000-10-12 | 2003-12-30 | Lsi Logic Corporation | Insulated bonding wire for microelectronic packaging |
| US7517790B2 (en) * | 2002-10-31 | 2009-04-14 | International Business Machines Corporation | Method and structure to enhance temperature/humidity/bias performance of semiconductor devices by surface modification |
| US20040119172A1 (en) * | 2002-12-18 | 2004-06-24 | Downey Susan H. | Packaged IC using insulated wire |
| US20040178498A1 (en) * | 2003-03-10 | 2004-09-16 | Low Qwai H. | Wire bonding to full array bonding pads on active circuitry |
| KR100762873B1 (ko) * | 2003-06-10 | 2007-10-08 | 주식회사 하이닉스반도체 | 내부 전압 발생기 |
| KR100548008B1 (ko) * | 2004-05-20 | 2006-02-01 | 삼성테크윈 주식회사 | 와이어 본딩 기기의 자동 볼 형성방법 |
| US7202109B1 (en) * | 2004-11-17 | 2007-04-10 | National Semiconductor Corporation | Insulation and reinforcement of individual bonding wires in integrated circuit packages |
| US20090032972A1 (en) * | 2007-03-30 | 2009-02-05 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor device |
| US7932131B2 (en) * | 2007-11-05 | 2011-04-26 | Spansion Llc | Reduction of package height in a stacked die configuration |
| CN110164785A (zh) * | 2019-06-10 | 2019-08-23 | 广东禾木科技有限公司 | 一种键合丝打线后焊点的保护方法 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6189642A (ja) * | 1984-10-09 | 1986-05-07 | Fuji Xerox Co Ltd | 混成集積回路の製造方法 |
| JPH04154133A (ja) * | 1990-10-18 | 1992-05-27 | Kiyuuritsuku & Sofua Japan Kk | ボンディングワイヤの短絡防止方法 |
| JPH05102226A (ja) * | 1991-10-07 | 1993-04-23 | Seiko Epson Corp | 半導体装置の製造方法 |
| JPH05102227A (ja) * | 1991-10-07 | 1993-04-23 | Seiko Epson Corp | 半導体製造装置 |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5863142A (ja) * | 1981-10-12 | 1983-04-14 | Toshiba Corp | ボンデイズグワイヤおよびボンデイング方法 |
| JPS60167436A (ja) * | 1984-02-10 | 1985-08-30 | Hitachi Ltd | ワイヤボンデイング方法およびそれに用いるキヤピラリ |
| JPS62115731A (ja) * | 1985-07-03 | 1987-05-27 | Hitachi Ltd | 半導体製造装置 |
| JPS63283137A (ja) * | 1987-05-15 | 1988-11-21 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置の組立方法 |
| JPH01105553A (ja) * | 1987-10-19 | 1989-04-24 | Hitachi Ltd | 半導体装置の製造方法 |
| WO1990011617A1 (fr) * | 1989-03-28 | 1990-10-04 | Nippon Steel Corporation | Fil de liaison revêtu de resine, procede de production d'un tel fil et dispositif a semi-conducteur |
| US5045151A (en) * | 1989-10-17 | 1991-09-03 | Massachusetts Institute Of Technology | Micromachined bonding surfaces and method of forming the same |
| JPH03135042A (ja) * | 1989-10-20 | 1991-06-10 | Nippon Steel Corp | ボンディングワイヤの接合方法およびそれに用いる被覆装置 |
| JPH0465840A (ja) * | 1990-07-06 | 1992-03-02 | Oki Electric Ind Co Ltd | 樹脂封止型半導体装置及びその製造方法 |
| JPH05102228A (ja) * | 1991-10-07 | 1993-04-23 | Seiko Epson Corp | 半導体装置の製造方法 |
| US5656830A (en) * | 1992-12-10 | 1997-08-12 | International Business Machines Corp. | Integrated circuit chip composite having a parylene coating |
-
1995
- 1995-05-31 JP JP7133681A patent/JPH08330346A/ja active Pending
-
1996
- 1996-05-31 US US08/655,864 patent/US5950100A/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-05-31 CN CN96106855A patent/CN1083156C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1996-05-31 KR KR1019960018971A patent/KR100237511B1/ko not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6189642A (ja) * | 1984-10-09 | 1986-05-07 | Fuji Xerox Co Ltd | 混成集積回路の製造方法 |
| JPH04154133A (ja) * | 1990-10-18 | 1992-05-27 | Kiyuuritsuku & Sofua Japan Kk | ボンディングワイヤの短絡防止方法 |
| JPH05102226A (ja) * | 1991-10-07 | 1993-04-23 | Seiko Epson Corp | 半導体装置の製造方法 |
| JPH05102227A (ja) * | 1991-10-07 | 1993-04-23 | Seiko Epson Corp | 半導体製造装置 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1328771C (zh) * | 2004-05-09 | 2007-07-25 | 江苏长电科技股份有限公司 | 微型半导体器件封装低弧度焊线的形成工艺 |
| JP2019009171A (ja) * | 2017-06-21 | 2019-01-17 | スタンレー電気株式会社 | 半導体装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN1083156C (zh) | 2002-04-17 |
| KR100237511B1 (ko) | 2000-01-15 |
| US5950100A (en) | 1999-09-07 |
| CN1141504A (zh) | 1997-01-29 |
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