JPH09180124A - 磁気ヘッドの摺動面形成方法 - Google Patents
磁気ヘッドの摺動面形成方法Info
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- JPH09180124A JPH09180124A JP33364995A JP33364995A JPH09180124A JP H09180124 A JPH09180124 A JP H09180124A JP 33364995 A JP33364995 A JP 33364995A JP 33364995 A JP33364995 A JP 33364995A JP H09180124 A JPH09180124 A JP H09180124A
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- tape
- magnetic head
- chip core
- chip
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- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 磁気ヘッドのテープ摺動面の曲率（Ｒ面）を
高精度に形成させる。 【解決手段】 チップコア７を所定直径を有する回転部
材３の円周からチップコア７のテープ摺動面１を突き出
して配設し、チップコア７のテープ摺動面１に対接する
様に配設したラッピング手段２とを有し、回転部材３の
直径及びチップコア７の大きさ及び所定曲率で定まる基
準値より余分に突出させてラッピングを行なうことで所
定の曲率のテープ摺動面を得る。
高精度に形成させる。 【解決手段】 チップコア７を所定直径を有する回転部
材３の円周からチップコア７のテープ摺動面１を突き出
して配設し、チップコア７のテープ摺動面１に対接する
様に配設したラッピング手段２とを有し、回転部材３の
直径及びチップコア７の大きさ及び所定曲率で定まる基
準値より余分に突出させてラッピングを行なうことで所
定の曲率のテープ摺動面を得る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は磁気ヘッドのテープ
摺動面の形成方法に係り、特にテープ摺動面の曲率形成
方法に関する。
摺動面の形成方法に係り、特にテープ摺動面の曲率形成
方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来からＶＴＲ等の磁気記録再生装置に
用いられる磁気ヘッドとしては種々の形状のものが提案
されフェライトヘッド、ＭＩＧヘッド（メタル・イン・
ギャップヘッド）、或いは積層型ヘッド等が知られてい
る。近時磁気テープの高密度化に伴い、デジタルＶＴＲ
ではヘッドに対するテープの相対速度は８ｍｍＶＴＲの
約３倍の１０．２ｍ／ｓの高速となっていることや、Ｖ
ＴＲの小型化に伴って磁気テープの厚みが薄くなって来
ていること等から、磁気ヘッドの磁気テープとの対接面
は良好な当りを確保する為に高精度の摺動面曲率が要求
されている。
用いられる磁気ヘッドとしては種々の形状のものが提案
されフェライトヘッド、ＭＩＧヘッド（メタル・イン・
ギャップヘッド）、或いは積層型ヘッド等が知られてい
る。近時磁気テープの高密度化に伴い、デジタルＶＴＲ
ではヘッドに対するテープの相対速度は８ｍｍＶＴＲの
約３倍の１０．２ｍ／ｓの高速となっていることや、Ｖ
ＴＲの小型化に伴って磁気テープの厚みが薄くなって来
ていること等から、磁気ヘッドの磁気テープとの対接面
は良好な当りを確保する為に高精度の摺動面曲率が要求
されている。
【０００３】従来の例えば８ｍｍＶＴＲ等に用いる磁気
ヘッド等では、上述の各種磁気ヘッドの１つを完成させ
た状態、例えばＭＩＧヘッドのチップコアに巻線を施し
た図５に示す状態でテープ摺動面１をラッピング用テー
プ（研磨テープ）２でラッピングして所定形状の曲面
（以下Ｒ面と記す）と成す様に成されている。
ヘッド等では、上述の各種磁気ヘッドの１つを完成させ
た状態、例えばＭＩＧヘッドのチップコアに巻線を施し
た図５に示す状態でテープ摺動面１をラッピング用テー
プ（研磨テープ）２でラッピングして所定形状の曲面
（以下Ｒ面と記す）と成す様に成されている。
【０００４】即ち、円筒状のスピンドル３の下側にはモ
ータ４を配設し、スピンドル３を矢印方向に回転させ
て、該スピンドル３上に配設した磁気ヘッド５を回転さ
せて、テープ摺動面１のＲ面を研磨する。この磁気ヘッ
ド５をスピンドル３上に取り付ける際には先ずＶＴＲの
ドラム等に磁気ヘッド５を取り付ける際に用いるヘッド
ベース６上に磁気ヘッド５を固定し、所定の位置出しを
行った後に、更にヘッドベース６をスピンドル３に固定
し、所定寸法の位置出しを行なう様に成されていた。
ータ４を配設し、スピンドル３を矢印方向に回転させ
て、該スピンドル３上に配設した磁気ヘッド５を回転さ
せて、テープ摺動面１のＲ面を研磨する。この磁気ヘッ
ド５をスピンドル３上に取り付ける際には先ずＶＴＲの
ドラム等に磁気ヘッド５を取り付ける際に用いるヘッド
ベース６上に磁気ヘッド５を固定し、所定の位置出しを
行った後に、更にヘッドベース６をスピンドル３に固定
し、所定寸法の位置出しを行なう様に成されていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上述した様に磁気ヘッ
ドのテープ摺動面のＲ面研磨の為の工数はヘッドベース
６のスピンドル３への取り付け調整並びに磁気ヘッド５
のヘッドベース６への取付け調整と、その工数が多く煩
雑なものであった。
ドのテープ摺動面のＲ面研磨の為の工数はヘッドベース
６のスピンドル３への取り付け調整並びに磁気ヘッド５
のヘッドベース６への取付け調整と、その工数が多く煩
雑なものであった。
【０００６】又、一般的にこのテープの摺動面のＲ面形
状の作製工程は、上述の様にラッピングテープを用いて
ラッピングが行われている。然しながらこのラッピング
テープを用いての研磨は、機械研削と異なり出来上がる
Ｒ面形状がラッピングテープの剛性（Stiffness)に大き
く依存し、最終的にはラッピングテープとヘッドチップ
先端との接触状態によって決定される一様な形状とな
る。
状の作製工程は、上述の様にラッピングテープを用いて
ラッピングが行われている。然しながらこのラッピング
テープを用いての研磨は、機械研削と異なり出来上がる
Ｒ面形状がラッピングテープの剛性（Stiffness)に大き
く依存し、最終的にはラッピングテープとヘッドチップ
先端との接触状態によって決定される一様な形状とな
る。
【０００７】更に、磁気ヘッド５のテープ摺動面１のラ
ッピングテープによる研磨では所定の設計値で定められ
るテープ摺動面の曲率よりやや大きめの曲率にＲ面が形
成された磁気ヘッド５をヘッドベース６上に固定し、ス
ピンドル３の外周から磁気ヘッド５のテープ摺動面１の
先端までの距離（以下突出し量と記す）をＡＴとする
と、図６Ｂに示す様に基準の突出し量に比べ図６Ａの様
にラッピングテープ２に対して押し込んだ状態（＋ＡＴ
方向）ではギャップ８部分のＲ形状に比べて両端９Ｌ及
び９ＲのＲ形状が小さくなって、磁気テープ摺動面積が
減少するためヘッド寿命の短命化及び良好な当りが困難
となる問題があった。
ッピングテープによる研磨では所定の設計値で定められ
るテープ摺動面の曲率よりやや大きめの曲率にＲ面が形
成された磁気ヘッド５をヘッドベース６上に固定し、ス
ピンドル３の外周から磁気ヘッド５のテープ摺動面１の
先端までの距離（以下突出し量と記す）をＡＴとする
と、図６Ｂに示す様に基準の突出し量に比べ図６Ａの様
にラッピングテープ２に対して押し込んだ状態（＋ＡＴ
方向）ではギャップ８部分のＲ形状に比べて両端９Ｌ及
び９ＲのＲ形状が小さくなって、磁気テープ摺動面積が
減少するためヘッド寿命の短命化及び良好な当りが困難
となる問題があった。
【０００８】更に、この突出し量ＡＴを図６Ｃに示す様
に図６Ｂに示す基準の突出し量ＡＴに比べて−ＡＴ方向
にラッピングテープ２から引き込むと図６Ｃの破線で示
す磁気ヘッド５の両端９Ｌ及び９Ｒ部分に当り残りが発
生し、テープ摺動面１を基準のＲ面形状とすることが出
来ない問題があった。
に図６Ｂに示す基準の突出し量ＡＴに比べて−ＡＴ方向
にラッピングテープ２から引き込むと図６Ｃの破線で示
す磁気ヘッド５の両端９Ｌ及び９Ｒ部分に当り残りが発
生し、テープ摺動面１を基準のＲ面形状とすることが出
来ない問題があった。
【０００９】本発明は叙上の問題点を解消した磁気ヘッ
ドの摺動面形成方法を提供しようとするもので、その課
題とするところは高精度のテープ摺動面のＲ面形状が得
られる形成方法を得るにある。
ドの摺動面形成方法を提供しようとするもので、その課
題とするところは高精度のテープ摺動面のＲ面形状が得
られる形成方法を得るにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明の磁気ヘッドの摺
動面形成方法はその例が図１に示されている様にチップ
コア７の完成状態でテープ摺動面１に所定の曲率を形成
する様に成した磁気ヘッドの摺動面形成方法に於いて、
チップコア７を所定直径を有する回転部材３の円周から
上記チップコア７のテープ摺動面１を突き出して配設
し、チップコア７のテープ摺動面１に対接する様に配設
したラッピング手段２とを具備し、回転部材３の直径及
びチップコア７の大きさ及び所望曲率で定まるチップコ
ア７の突き出し基準値ＡＴより余分に突出させてラッピ
ングを行なう様に成したものである。
動面形成方法はその例が図１に示されている様にチップ
コア７の完成状態でテープ摺動面１に所定の曲率を形成
する様に成した磁気ヘッドの摺動面形成方法に於いて、
チップコア７を所定直径を有する回転部材３の円周から
上記チップコア７のテープ摺動面１を突き出して配設
し、チップコア７のテープ摺動面１に対接する様に配設
したラッピング手段２とを具備し、回転部材３の直径及
びチップコア７の大きさ及び所望曲率で定まるチップコ
ア７の突き出し基準値ＡＴより余分に突出させてラッピ
ングを行なう様に成したものである。
【００１１】本発明の磁気ヘッド摺動面形成方法によれ
ば極めて高精度でチップコアのテープ摺動面１の研磨を
行なうことが出来るので高品位の磁気ヘッドを容易に得
ることが出来る。
ば極めて高精度でチップコアのテープ摺動面１の研磨を
行なうことが出来るので高品位の磁気ヘッドを容易に得
ることが出来る。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、本発明の磁気ヘッドのテー
プ摺動面を所定の曲率に研磨する方法を図面によって詳
記する。
プ摺動面を所定の曲率に研磨する方法を図面によって詳
記する。
【００１３】本発明に適用する磁気ヘッドとしてはフェ
ライトヘッド、積層型ヘッド、或はＭＩＧヘッド等のテ
ープ摺動面に所定の曲率を形成させる為のＲ面形成方法
に適用可能であるが、以下には民生用のデジタルＶＴＲ
等に適用して好適なＭＩＧヘッドについて説明する。本
発明の構成を説明するに先立ち図４Ａ〜ＨによってＭＩ
Ｇヘッドチップコア１の製作工程を詳記する。
ライトヘッド、積層型ヘッド、或はＭＩＧヘッド等のテ
ープ摺動面に所定の曲率を形成させる為のＲ面形成方法
に適用可能であるが、以下には民生用のデジタルＶＴＲ
等に適用して好適なＭＩＧヘッドについて説明する。本
発明の構成を説明するに先立ち図４Ａ〜ＨによってＭＩ
Ｇヘッドチップコア１の製作工程を詳記する。
【００１４】先ずＭＩＧヘッドのチップコアを得るため
に、図４Ａに示す如く、酸化物磁性材（以下フェライト
と記す）基板１１を平面研削盤等を用いて平面出しが行
なわれる。本例では基板１１としてＭｎ−Ｚｎフェライ
トを用いたが、Ｎｉ−Ｚｎフェライト等の他のフェライ
ト材を用いても良い。又、図４Ａの様な面方位の単結晶
基板を用いたが、他の面方位での単結晶基板や多結晶基
板、あるいは単結晶フェライトと多結晶フェライトとの
接合基板を用いても良い。
に、図４Ａに示す如く、酸化物磁性材（以下フェライト
と記す）基板１１を平面研削盤等を用いて平面出しが行
なわれる。本例では基板１１としてＭｎ−Ｚｎフェライ
トを用いたが、Ｎｉ−Ｚｎフェライト等の他のフェライ
ト材を用いても良い。又、図４Ａの様な面方位の単結晶
基板を用いたが、他の面方位での単結晶基板や多結晶基
板、あるいは単結晶フェライトと多結晶フェライトとの
接合基板を用いても良い。
【００１５】次に図４Ｂの様に磁性フェライト基板１１
の長手方向に沿ってスライシングマシン等を用いて巻線
溝１７及びガラス溝１９を形成する。
の長手方向に沿ってスライシングマシン等を用いて巻線
溝１７及びガラス溝１９を形成する。
【００１６】更に、図４Ｃに示す様にスライシングマシ
ン等を用いて、巻線溝１７及びガラス溝１９と略直交す
る方向にトラック幅規制溝１２を形成し、トラック幅出
しを行なう。このトラック幅規制溝１２のＡ部拡大図を
図４Ｃ′に示す。図４Ｃ′のトラック幅規制溝１２間が
磁気ギャップ８を構成するトラック１３となる、トラッ
ク１３の表面はポリッシング等で鏡面加工される。
ン等を用いて、巻線溝１７及びガラス溝１９と略直交す
る方向にトラック幅規制溝１２を形成し、トラック幅出
しを行なう。このトラック幅規制溝１２のＡ部拡大図を
図４Ｃ′に示す。図４Ｃ′のトラック幅規制溝１２間が
磁気ギャップ８を構成するトラック１３となる、トラッ
ク１３の表面はポリッシング等で鏡面加工される。
【００１７】次に図４Ｄに示す様に磁性フェライト基板
１１を長手方向に同一幅ｗ1 で切断する。この工程でガ
ラス溝１９及び巻線溝１７を形成した基板１１ａと巻線
溝１７等のない基板１１ｂが一対となり基板１１ａ及び
１１ｂが最終的には後述するチップコア１の外側コア７
ｂ及び内側コア７ａと成る。
１１を長手方向に同一幅ｗ1 で切断する。この工程でガ
ラス溝１９及び巻線溝１７を形成した基板１１ａと巻線
溝１７等のない基板１１ｂが一対となり基板１１ａ及び
１１ｂが最終的には後述するチップコア１の外側コア７
ｂ及び内側コア７ａと成る。
【００１８】次に図４Ｅに示す様に一対の基板１１ａ及
び１１ｂ上にスパッタリング等を用いて磁性メタル１４
を図４ＥのＢ部拡大図の４Ｅ′及びＣ部拡大図の図４
Ｅ″に示す様に形成し、更に、その上に磁気ギャップ８
となるギャップ膜１５を形成する（図４Ｅ′参照）。
び１１ｂ上にスパッタリング等を用いて磁性メタル１４
を図４ＥのＢ部拡大図の４Ｅ′及びＣ部拡大図の図４
Ｅ″に示す様に形成し、更に、その上に磁気ギャップ８
となるギャップ膜１５を形成する（図４Ｅ′参照）。
【００１９】本例では磁性メタル１４としてＦｅＲｕＧ
ａＳｉ（ＳＭＸ）膜を用いたが、その他にセンダスト，
センダスト＋Ｏ，センダスト＋Ｎ，ＳＭＸ＋Ｏ，ＳＭＸ
＋Ｎ等の結晶質磁性膜、或はＦｅ系微結晶膜、Ｃｏ系微
結晶膜を用いても良い。また、本例は磁気ギャップ８と
なるギャップ膜１５にＳｉＯ2 膜を用いたが、Ｔａ2Ｏ
5 等の他の酸化物膜，Ｓｉ3 Ｎ4 等の窒化物膜、あるい
はＣｒ，Ａｌ，Ｓｉ，Ｐｔ等の金属膜およびそれらの合
金膜、あるいはそれらを組み合わせた積層膜を用いても
良い。また、基板とメタル膜との付着力向上の為にＳｉ
Ｏ2 ，Ｔａ2 Ｏ 5 等の酸化物膜，Ｓｉ3 Ｎ4 等の窒化物
膜、あるいはＣｒ，Ａｌ，Ｓｉ，Ｐｔ等の金属膜及びそ
れらの合金膜、あるいはそれらを組み合わせた積層膜を
メタル膜の下地膜として用いても良い。本例は、この付
着力向上の為の下地膜として５ｎｍ厚のＳｉＯ2 膜を用
いた。この工程において基板１１ａと基板１１ｂで別個
に磁性メタル膜１４の形成を行い、基板１１ｂに形成し
たメタル膜厚を変化させた。
ａＳｉ（ＳＭＸ）膜を用いたが、その他にセンダスト，
センダスト＋Ｏ，センダスト＋Ｎ，ＳＭＸ＋Ｏ，ＳＭＸ
＋Ｎ等の結晶質磁性膜、或はＦｅ系微結晶膜、Ｃｏ系微
結晶膜を用いても良い。また、本例は磁気ギャップ８と
なるギャップ膜１５にＳｉＯ2 膜を用いたが、Ｔａ2Ｏ
5 等の他の酸化物膜，Ｓｉ3 Ｎ4 等の窒化物膜、あるい
はＣｒ，Ａｌ，Ｓｉ，Ｐｔ等の金属膜およびそれらの合
金膜、あるいはそれらを組み合わせた積層膜を用いても
良い。また、基板とメタル膜との付着力向上の為にＳｉ
Ｏ2 ，Ｔａ2 Ｏ 5 等の酸化物膜，Ｓｉ3 Ｎ4 等の窒化物
膜、あるいはＣｒ，Ａｌ，Ｓｉ，Ｐｔ等の金属膜及びそ
れらの合金膜、あるいはそれらを組み合わせた積層膜を
メタル膜の下地膜として用いても良い。本例は、この付
着力向上の為の下地膜として５ｎｍ厚のＳｉＯ2 膜を用
いた。この工程において基板１１ａと基板１１ｂで別個
に磁性メタル膜１４の形成を行い、基板１１ｂに形成し
たメタル膜厚を変化させた。
【００２０】次に図４Ｆの様に基板１１ａ及び１１ｂを
ギャップ膜１５を形成した面を突き合わせ加圧しながら
ガラス溝９内に挿入した低溶融ガラスロッド１６を５０
０〜７００℃に加熱し、ガラス接合する。
ギャップ膜１５を形成した面を突き合わせ加圧しながら
ガラス溝９内に挿入した低溶融ガラスロッド１６を５０
０〜７００℃に加熱し、ガラス接合する。
【００２１】次に、図４Ｇの様に接合されたブロックの
基板１１ａ側を平面研削盤等を用いて所定の厚み（ｗ）
にした後にヘッド摺動面１側の円筒研削を行なう。
基板１１ａ側を平面研削盤等を用いて所定の厚み（ｗ）
にした後にヘッド摺動面１側の円筒研削を行なう。
【００２２】次に巻線ガイド溝の加工、並びに当り溝加
工等を行った後に目的とするチップ厚ｔ及びチップ幅ｗ
に図４Ｈの様に接合ブロックの長手方向と直交する様に
切断し、ガラス溝１９も略半分位置から下側を切り落と
す様に加工される。このチップ厚ｔの切断は２本の仮設
平行線に対しアジマス角の異なる２個の接合ブロックの
基板１１ａ及び１１ａを内側にしてアジマス角度分だけ
傾けてハの字状に固定した状態で所定のチップ厚ｔ及び
チップ幅ｗとなる様に切断し、当り幅加工時は目的とす
るチップコアのアジマス角に平行に切り落とされる。
工等を行った後に目的とするチップ厚ｔ及びチップ幅ｗ
に図４Ｈの様に接合ブロックの長手方向と直交する様に
切断し、ガラス溝１９も略半分位置から下側を切り落と
す様に加工される。このチップ厚ｔの切断は２本の仮設
平行線に対しアジマス角の異なる２個の接合ブロックの
基板１１ａ及び１１ａを内側にしてアジマス角度分だけ
傾けてハの字状に固定した状態で所定のチップ厚ｔ及び
チップ幅ｗとなる様に切断し、当り幅加工時は目的とす
るチップコアのアジマス角に平行に切り落とされる。
【００２３】この様に基板１１から作製されたチップコ
ア７は図３Ａの様に構成され、接合ブロック１１ａ及び
１１ｂがチップ厚ｔで切断され内側コア７ａ及び外側コ
ア７ｂと成され、トラック幅を定める磁気ギャップ８は
磁性メタル膜１４上にスパッタリングされたＳｉＯ2 等
の酸化膜等で構成され、巻線溝１７及び巻線ガイド溝１
８並びにガラス溝１９が外側コア１ｂに形成され、内側
コア７ａは板状と成され、内側コア７ａと外側コア７ｂ
は低融点ガラス２０等で接合されて一体化されている。
ア７は図３Ａの様に構成され、接合ブロック１１ａ及び
１１ｂがチップ厚ｔで切断され内側コア７ａ及び外側コ
ア７ｂと成され、トラック幅を定める磁気ギャップ８は
磁性メタル膜１４上にスパッタリングされたＳｉＯ2 等
の酸化膜等で構成され、巻線溝１７及び巻線ガイド溝１
８並びにガラス溝１９が外側コア１ｂに形成され、内側
コア７ａは板状と成され、内側コア７ａと外側コア７ｂ
は低融点ガラス２０等で接合されて一体化されている。
【００２４】そして、かかる一対のヘッドチップ７Ａ，
７Ｂを使用して記録再生を行なうダブルアジマスヘッド
を作製する場合、図３Ｂの様にヘッドベース６には一対
のチップコア７Ａ，７Ｂの内側コア７ａを対向する様に
配設されてＶＴＲの回転ドラムに１８０度対向配置して
取り付けられ回転ドラムの１回転で磁気テープ上に同時
に４本の斜めトラックの記録再生を行なうことが出来る
様に成される。
７Ｂを使用して記録再生を行なうダブルアジマスヘッド
を作製する場合、図３Ｂの様にヘッドベース６には一対
のチップコア７Ａ，７Ｂの内側コア７ａを対向する様に
配設されてＶＴＲの回転ドラムに１８０度対向配置して
取り付けられ回転ドラムの１回転で磁気テープ上に同時
に４本の斜めトラックの記録再生を行なうことが出来る
様に成される。
【００２５】本例では図４Ｈで得られたチップコア７の
作製段階でテープ摺動面１の研磨を行なう様に成す。即
ち、チップコア７のテープ摺動面１は円筒研削されて所
定の曲率となされているが、この場合のＲ面は所定の設
計値より大きな値と成されている。
作製段階でテープ摺動面１の研磨を行なう様に成す。即
ち、チップコア７のテープ摺動面１は円筒研削されて所
定の曲率となされているが、この場合のＲ面は所定の設
計値より大きな値と成されている。
【００２６】この様なチップコア７を図１に示す様にモ
ータ４で回転駆動される回転手段、例えば円筒状のスピ
ンドル３の上面円形部２１に図２の平面図に示す様に接
着剤を介して固定する。勿論、螺子等を介して固定して
もよい。この様にスピンドルの上面円形部２１に配設さ
れたチップコア７は切欠部１６を形成した蓋１０で押さ
えられ動かない様に固定される。
ータ４で回転駆動される回転手段、例えば円筒状のスピ
ンドル３の上面円形部２１に図２の平面図に示す様に接
着剤を介して固定する。勿論、螺子等を介して固定して
もよい。この様にスピンドルの上面円形部２１に配設さ
れたチップコア７は切欠部１６を形成した蓋１０で押さ
えられ動かない様に固定される。
【００２７】上述の構成では１つのチップコア７をスピ
ンドルの上部円形部２１上に固定した場合を示したが円
周を等配した角度位置に複数のチップコア７を配設して
もよい。
ンドルの上部円形部２１上に固定した場合を示したが円
周を等配した角度位置に複数のチップコア７を配設して
もよい。
【００２８】上述の構成でのスピンドル３の上部円形部
２１の外周からの研磨されるチップコア７の突き出し量
ＡＴの基準値はチップコア７の所望曲率、チップコアの
幅ｗとチップコア厚みｔ及びスピンドル２の直径から計
算値で求められる。
２１の外周からの研磨されるチップコア７の突き出し量
ＡＴの基準値はチップコア７の所望曲率、チップコアの
幅ｗとチップコア厚みｔ及びスピンドル２の直径から計
算値で求められる。
【００２９】今、図３の斜視図でチップコア７の幅方向
ｗ（Ｘ−Ｘ軸方向）の曲率だけを考え、下記のチップコ
ア７の突き出し量ＡＴを求める。
ｗ（Ｘ−Ｘ軸方向）の曲率だけを考え、下記のチップコ
ア７の突き出し量ＡＴを求める。
【００３０】チップコアの所望曲率＝７ｍｍ チップコア幅ｗ＝１．５ｍｍ スピンドル３の直径＝４０ｍｍ とすれば基準の突き出し量ＡＴは７５μｍとなる。
【００３１】この様な設計（基準）突き出し量７５μｍ
でラッピングを行なうために研磨材を塗布したラッピン
グテープ２をスピンドル３を囲繞する様に配設し、スピ
ンドル３をモータ４を介して所定速度で回転させれば所
定の曲率が得られるはずであるが、実際には作製時のテ
ープ摺動面１の曲率のばらつき、チップコア幅ｗのばら
つき等の原因で図６Ｃの様に磁気ヘッド５（チップコア
７）の両端９Ｌ及び９Ｒに当り残りが発生することが確
認された。
でラッピングを行なうために研磨材を塗布したラッピン
グテープ２をスピンドル３を囲繞する様に配設し、スピ
ンドル３をモータ４を介して所定速度で回転させれば所
定の曲率が得られるはずであるが、実際には作製時のテ
ープ摺動面１の曲率のばらつき、チップコア幅ｗのばら
つき等の原因で図６Ｃの様に磁気ヘッド５（チップコア
７）の両端９Ｌ及び９Ｒに当り残りが発生することが確
認された。
【００３２】そこで、本発明では基準の突き出し量ＡＴ
よりも余分にラッピングテープ２側に突き出した結果、
テープ摺動面１の曲率に研磨残りのない高精度のチップ
コアが得られた。
よりも余分にラッピングテープ２側に突き出した結果、
テープ摺動面１の曲率に研磨残りのない高精度のチップ
コアが得られた。
【００３３】実施例 以下にチップ曲率７ｍｍ，チップコア幅１．５ｍｍ，ス
ピンドル直径４０ｍｍでの設計突き出し量ＡＴ７５μｍ
のチップコアを順次＋ＡＴ方向（ラッピングテープ方
向）に突き出した下記表１によって本例を説明する。
ピンドル直径４０ｍｍでの設計突き出し量ＡＴ７５μｍ
のチップコアを順次＋ＡＴ方向（ラッピングテープ方
向）に突き出した下記表１によって本例を説明する。
【００３４】
【表１】
【００３５】表１に示す様に突き出し量ＡＴを基準突き
出し量ＡＴに比べて＋ＡＴ方向に増加させ、７５μｍか
ら８０μｍ，８５μｍ，９０μｍとさせた場合のテープ
摺動面１の両端９Ｌ及び９Ｒでの当り残りは８０μｍ以
上では発生しないがテープ摺動面１の両端９Ｌ及び９Ｒ
部分での摩耗が９０μｍ以上では発生し、Ｒ形状が５．
５ｍｍ以下となって、Ｒ形状は７ｍｍ＞５．５ｍｍとな
り、両端９Ｌ及び９Ｒで研磨されすぎる問題が生じた。
出し量ＡＴに比べて＋ＡＴ方向に増加させ、７５μｍか
ら８０μｍ，８５μｍ，９０μｍとさせた場合のテープ
摺動面１の両端９Ｌ及び９Ｒでの当り残りは８０μｍ以
上では発生しないがテープ摺動面１の両端９Ｌ及び９Ｒ
部分での摩耗が９０μｍ以上では発生し、Ｒ形状が５．
５ｍｍ以下となって、Ｒ形状は７ｍｍ＞５．５ｍｍとな
り、両端９Ｌ及び９Ｒで研磨されすぎる問題が生じた。
【００３６】従って、設計（基準）突き出し量ＡＴに対
し５μｍ乃至１５μｍの範囲を選択することで表１の判
断例（×不良、○可）に示す様にテープ対接面１の曲率
形状が良好なチップコア７が得られた。
し５μｍ乃至１５μｍの範囲を選択することで表１の判
断例（×不良、○可）に示す様にテープ対接面１の曲率
形状が良好なチップコア７が得られた。
【００３７】尚、図３Ａに示す様にチップコア７のテー
プ摺動面１の曲率はチップコア７の厚み方向ｔ（Ｙ−Ｙ
方向）にもつけられる様に成される。この場合、ラッピ
ングテープ２はこのテープの幅方向にもカールされた状
態で研磨される。従って、チップコア７の厚みｔ方向に
も上述したと同様に基準の設計曲率に対し突き出し量Ａ
Ｔを＋ＡＴ方向（ラッピングテープ２方向）に突っ張る
様に構成させれば図３Ａでヘッドチップ７の前後方向
（厚み方向）の当り残りや研磨しすぎの問題も解消され
ることは明らかである。実際にはチップコア７の幅方向
ｗの寸法（例えば１１００μｍ）に対し厚み方向ｔの寸
法（例えば８０μｍ）が極めて小さいのでＹ−Ｙ軸方向
での当り残りや前後方向の研磨のしすぎは問題にならな
いと言える。
プ摺動面１の曲率はチップコア７の厚み方向ｔ（Ｙ−Ｙ
方向）にもつけられる様に成される。この場合、ラッピ
ングテープ２はこのテープの幅方向にもカールされた状
態で研磨される。従って、チップコア７の厚みｔ方向に
も上述したと同様に基準の設計曲率に対し突き出し量Ａ
Ｔを＋ＡＴ方向（ラッピングテープ２方向）に突っ張る
様に構成させれば図３Ａでヘッドチップ７の前後方向
（厚み方向）の当り残りや研磨しすぎの問題も解消され
ることは明らかである。実際にはチップコア７の幅方向
ｗの寸法（例えば１１００μｍ）に対し厚み方向ｔの寸
法（例えば８０μｍ）が極めて小さいのでＹ−Ｙ軸方向
での当り残りや前後方向の研磨のしすぎは問題にならな
いと言える。
【００３８】上述の様に本発明の磁気ヘッドの摺動面形
成方法によれば極めて高精度にテープ摺動面の曲率を形
成出来て高品質の磁気ヘッドが得られハイビジョンＶＴ
Ｒ等に適した磁気ヘッドが提供可能となる。上述の実施
例ではＭＩＧヘッドについて説明したが他のフェライト
ヘッド等の他の構成のヘッドについても本発明が適用可
能であることは明らかである。
成方法によれば極めて高精度にテープ摺動面の曲率を形
成出来て高品質の磁気ヘッドが得られハイビジョンＶＴ
Ｒ等に適した磁気ヘッドが提供可能となる。上述の実施
例ではＭＩＧヘッドについて説明したが他のフェライト
ヘッド等の他の構成のヘッドについても本発明が適用可
能であることは明らかである。
【００３９】
【発明の効果】本発明の磁気ヘッドのテープ摺動面の形
成方法によればテープ摺動面の曲率（Ｒ面形状）を基準
設計値に極めて近い値に研磨可能な高精度のチップコア
を得ることが出来る。
成方法によればテープ摺動面の曲率（Ｒ面形状）を基準
設計値に極めて近い値に研磨可能な高精度のチップコア
を得ることが出来る。
【図１】本発明の磁気ヘッドの摺動面形成方法を説明す
る斜視図である。
る斜視図である。
【図２】本発明の研磨方法説明図の平面図である。
【図３】本発明のチップコアの説明図である。
【図４】本発明のチップコアの作製方法説明図である。
【図５】従来の磁気ヘッドの研磨方法説明図である。
【図６】従来の磁気ヘッド突き出し量の説明図である。
１ テープ摺動面 ２ ラッピングテープ ３ スピンドル ７ チップコア ＡＴ 突き出し量
Claims (2)
- 【請求項１】 チップコアの完成状態でテープ摺動面に
所定の曲率を形成する様に成した磁気ヘッドの摺動面形
成方法に於いて、 上記チップコアを所定直径を有する回転部材の円周から
上記チップコアのテープ摺動面を突き出して配設し、該
チップコアのテープ摺動面に対接する様に配設したラッ
ピング手段とを具備し、 上記回転部材直径及び上記チップコアの大きさ及び所望
曲率で定まる該チップコアの突き出し基準値より余分に
突出させてラッピングを行うことを特徴とする磁気ヘッ
ドの摺動面形成方法。 - 【請求項２】 前記チップコアの突き出し量が５〜１５
μｍであることを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッド
の摺動面形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33364995A JPH09180124A (ja) | 1995-12-21 | 1995-12-21 | 磁気ヘッドの摺動面形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33364995A JPH09180124A (ja) | 1995-12-21 | 1995-12-21 | 磁気ヘッドの摺動面形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09180124A true JPH09180124A (ja) | 1997-07-11 |
Family
ID=18268425
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33364995A Pending JPH09180124A (ja) | 1995-12-21 | 1995-12-21 | 磁気ヘッドの摺動面形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09180124A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012218086A (ja) * | 2011-04-05 | 2012-11-12 | Honda Motor Co Ltd | 研削方法 |
-
1995
- 1995-12-21 JP JP33364995A patent/JPH09180124A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012218086A (ja) * | 2011-04-05 | 2012-11-12 | Honda Motor Co Ltd | 研削方法 |
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