JPH1010690A - ハロゲン化銀カラー写真感光材料 - Google Patents
ハロゲン化銀カラー写真感光材料Info
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- JPH1010690A JPH1010690A JP15818196A JP15818196A JPH1010690A JP H1010690 A JPH1010690 A JP H1010690A JP 15818196 A JP15818196 A JP 15818196A JP 15818196 A JP15818196 A JP 15818196A JP H1010690 A JPH1010690 A JP H1010690A
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- Japan
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- atom
- silver halide
- halide emulsion
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【課題】 発色性に優れ、しかもマゼンタ色素画像の光
堅牢性が著しく改良されたハロゲン化銀カラー写真感光
材料の提供。 【解決手段】 支持体上に、青感性ハロゲン化銀乳剤
層、緑感性ハロゲン化銀乳剤層及び赤感性ハロゲン化銀
乳剤層を含む写真構成層を有するハロゲン化銀カラー写
真感光材料において、該緑感性ハロゲン化銀乳剤層の少
なくとも一層に、下記式[M]で表されるカプラーの少
なくとも1種を含有する。
堅牢性が著しく改良されたハロゲン化銀カラー写真感光
材料の提供。 【解決手段】 支持体上に、青感性ハロゲン化銀乳剤
層、緑感性ハロゲン化銀乳剤層及び赤感性ハロゲン化銀
乳剤層を含む写真構成層を有するハロゲン化銀カラー写
真感光材料において、該緑感性ハロゲン化銀乳剤層の少
なくとも一層に、下記式[M]で表されるカプラーの少
なくとも1種を含有する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はマゼンタカプラーを
含有するハロゲン化銀カラー写真感光材料に関し、更に
詳しくはピラゾロトリアゾール系マゼンタカプラーを含
有することによって、色再現性及び発色性が優れ、更
に、熱や光に対して安定な色素画像が得られるハロゲン
化銀カラー写真感光材料に関する。
含有するハロゲン化銀カラー写真感光材料に関し、更に
詳しくはピラゾロトリアゾール系マゼンタカプラーを含
有することによって、色再現性及び発色性が優れ、更
に、熱や光に対して安定な色素画像が得られるハロゲン
化銀カラー写真感光材料に関する。
【0002】
【従来の技術】ハロゲン化銀カラー写真感光材料(以
下、単にカラー写真感光材料、感光材料ともいう)にお
いて、一般に用いられるカプラーとしては、開鎖ケトメ
チレン系化合物からなるイエローカプラー、ピラゾロン
系化合物、ピラゾロアゾール系化合物からなるマゼンタ
カプラー、フェノール系化合物、ナフトール系化合物か
らなるシアンカプラー等が知られている。
下、単にカラー写真感光材料、感光材料ともいう)にお
いて、一般に用いられるカプラーとしては、開鎖ケトメ
チレン系化合物からなるイエローカプラー、ピラゾロン
系化合物、ピラゾロアゾール系化合物からなるマゼンタ
カプラー、フェノール系化合物、ナフトール系化合物か
らなるシアンカプラー等が知られている。
【0003】従来より、5−ピラゾロン化合物がマゼン
タカプラーとしてよく使用されている公知のピラゾロン
マゼンタカプラーとしては、米国特許2,600,78
8号、同3,519,429号、特開昭49−1116
31号、同57−35858号等に記載されている。し
かし、ザ・セオリー・オブ・ザ・フォトグラフィック・
プロセス(The Theory of the Ph
otographicProcess)マクミラン社4
版(1977)356〜358頁、ファインケミカル、
シー・エム・シー社刊14巻8号38〜41頁、日本写
真学会・昭和60年度年次大会講演要旨集108〜11
0頁に記載されている如く、ピラゾロンマゼンタカプラ
ーより形成される色素は好ましくない副吸収があり、そ
の改良が望まれている。
タカプラーとしてよく使用されている公知のピラゾロン
マゼンタカプラーとしては、米国特許2,600,78
8号、同3,519,429号、特開昭49−1116
31号、同57−35858号等に記載されている。し
かし、ザ・セオリー・オブ・ザ・フォトグラフィック・
プロセス(The Theory of the Ph
otographicProcess)マクミラン社4
版(1977)356〜358頁、ファインケミカル、
シー・エム・シー社刊14巻8号38〜41頁、日本写
真学会・昭和60年度年次大会講演要旨集108〜11
0頁に記載されている如く、ピラゾロンマゼンタカプラ
ーより形成される色素は好ましくない副吸収があり、そ
の改良が望まれている。
【0004】先の文献にも記載されている如く、ピラゾ
ロアゾール系マゼンタカプラーより形成される色素には
副吸収がない。このカプラーが良好なカプラーであるこ
とは、先の文献にも米国特許3,725,067号、同
3,758,309号、同3,810,761号等に記
載されている。
ロアゾール系マゼンタカプラーより形成される色素には
副吸収がない。このカプラーが良好なカプラーであるこ
とは、先の文献にも米国特許3,725,067号、同
3,758,309号、同3,810,761号等に記
載されている。
【0005】しかしながら、これらのカプラーから形成
されるアゾメチン色素の光に対する堅牢性は著しく低
く、カラー写真感光材料、特にプリント系カラー写真感
光材料の性能を著しく損なうものであった。
されるアゾメチン色素の光に対する堅牢性は著しく低
く、カラー写真感光材料、特にプリント系カラー写真感
光材料の性能を著しく損なうものであった。
【0006】従来から光に対する堅牢性を改良するため
の研究が行われてきた。例えば特開昭59−12573
2号、同61−282845号、同61−292639
号、同61−279855号にはピラゾロアゾール系マ
ゼンタカプラーに、フェノール系化合物又はフェニルエ
ーテル化合物を併用する技術が、特開昭61−7224
6号、同62−208048号、同62−157031
号、同63−163351号にはアミン系化合物を併用
する技術が開示されている。
の研究が行われてきた。例えば特開昭59−12573
2号、同61−282845号、同61−292639
号、同61−279855号にはピラゾロアゾール系マ
ゼンタカプラーに、フェノール系化合物又はフェニルエ
ーテル化合物を併用する技術が、特開昭61−7224
6号、同62−208048号、同62−157031
号、同63−163351号にはアミン系化合物を併用
する技術が開示されている。
【0007】更に特開昭63−24256号には、アル
キルオキシフェニルオキシ基を有するピラゾロアゾール
系マゼンタカプラーが提案されている。
キルオキシフェニルオキシ基を有するピラゾロアゾール
系マゼンタカプラーが提案されている。
【0008】しかし、上記技術においても、マゼンタ色
素画像の光に対する堅牢性は不充分であり、その改良が
強く望まれていた。
素画像の光に対する堅牢性は不充分であり、その改良が
強く望まれていた。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記問題点を
解決すべくなされたものであり、本発明の目的は、発色
性に優れ、しかもマゼンタ色素画像の光堅牢性が著しく
改良されたハロゲン化銀カラー写真感光材料を提供する
ことにある。
解決すべくなされたものであり、本発明の目的は、発色
性に優れ、しかもマゼンタ色素画像の光堅牢性が著しく
改良されたハロゲン化銀カラー写真感光材料を提供する
ことにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、以
下の構成により達成される。
下の構成により達成される。
【0011】1.支持体上に、青感性ハロゲン化銀乳剤
層、緑感性ハロゲン化銀乳剤層及び赤感性ハロゲン化銀
乳剤層を含む写真構成層を有するハロゲン化銀カラー写
真感光材料において、該緑感性ハロゲン化銀乳剤層の少
なくとも一層に、下記一般式[M]で表されるカプラー
を含有することを特徴とするハロゲン化銀カラー写真感
光材料。
層、緑感性ハロゲン化銀乳剤層及び赤感性ハロゲン化銀
乳剤層を含む写真構成層を有するハロゲン化銀カラー写
真感光材料において、該緑感性ハロゲン化銀乳剤層の少
なくとも一層に、下記一般式[M]で表されるカプラー
を含有することを特徴とするハロゲン化銀カラー写真感
光材料。
【0012】
【化2】
【0013】式中、R1は水素原子または置換基を表
す。R2およびR3は水素原子または脂肪族残基を表す。
L1はアルキレン基およびアリーレン基を表す。L2は酸
素原子、硫黄原子、カルボニル基、スルホニル基を表
す。L3は酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、スルホ
ニル基、アルキレン基、アリーレン基、−NR4−およ
びこれらを組み合わせた2価の基を表す。R4は水素原
子、アルキル基、あるいはアリール基を表す。Xは水素
原子または発色現像主薬の酸化体との反応により脱離可
能な原子、基を表す。Zは含窒素複素環を形成するのに
必要な非金属原子群を表す。
す。R2およびR3は水素原子または脂肪族残基を表す。
L1はアルキレン基およびアリーレン基を表す。L2は酸
素原子、硫黄原子、カルボニル基、スルホニル基を表
す。L3は酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、スルホ
ニル基、アルキレン基、アリーレン基、−NR4−およ
びこれらを組み合わせた2価の基を表す。R4は水素原
子、アルキル基、あるいはアリール基を表す。Xは水素
原子または発色現像主薬の酸化体との反応により脱離可
能な原子、基を表す。Zは含窒素複素環を形成するのに
必要な非金属原子群を表す。
【0014】以下、本発明を詳細に説明する。
【0015】本発明の前記一般式[M]で表されるマゼ
ンタカプラーについて説明する。
ンタカプラーについて説明する。
【0016】前記一般式[M]において、R1で表され
る置換原子、置換基としては、アルキル基(例えば、メ
チル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、te
rt−ブチル基、ペンチル基、シクロペンチル基、ヘキ
シル基、シクロヘキシル基、オクチル基、ドデシル基
等)、アルケニル基(例えば、ビニル基、アリル基
等)、アルキニル基(例えば、プロパギル基等)、アリ
ール基(例えば、フェニル基、ナフチル基等)、複素環
残基(例えば、ピリジル基、チアゾリル基、オキサゾリ
ル基、イミダゾリル基、フリル基、ピロリル基、ピラジ
ニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、セレナゾリ
ル基、スルホラニル基、ピペリジニル基、ピラゾリル
基、テトラゾリル基等)、ハロゲン原子(例えば、塩素
原子、臭素原子、ヨウ素原子、フッ素原子等)、アルコ
キシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオ
キシ基、ペンチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、
ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、オクチル
オキシ基、ドデシルオキシ基等)、アリールオキシ基
(例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等)、アル
コキシカルボニル基(例えば、メチルオキシカルボニル
基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニ
ル基、オクチルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカ
ルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(例え
ば、フェニルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカル
ボニル基等)、スルホンアミド基(例えば、メチルスル
ホニルアミノ基、エチルスルホニルアミノ基、ブチルス
ルホニルアミノ基、ヘキシルスルホニルアミノ基、シク
ロヘキシルスルホニルアミノ基、オクチルスルホニルア
ミノ基、ドデシルスルホニルアミノ基、フェニルスルホ
ニルアミノ基等)、スルファモイル基(例えば、アミノ
スルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルア
ミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシ
ルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニ
ル基、オクチルアミノスルホニル基、ドデシルアミノス
ルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、ナフチルア
ミノスルホニル基、2−ピリジルアミノスルホニル基
等)、ウレイド基(例えば、メチルウレイド基、エチル
ウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレ
イド基、オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基、フ
ェニルウレイド基、ナフチルウレイド基、2−ピリジル
アミノウレイド基等)、アシル基(例えば、アセチル
基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ペン
チルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、オク
チルカルボニル基、2−エチルヘキシルカルボニル基、
ドデシルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ナフチ
ルカルボニル基、ピリジルカルボニル基等)、カルバモ
イル基(例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカ
ルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルア
ミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シク
ロヘキシルアミノカルボニル基、オクチルアミノカルボ
ニル基、2−エチルヘキシルアミノカルボニル基、ドデ
シルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル
基、ナフチルアミノカルボニル基、2−ピリジルアミノ
カルボニル基等)、アミド基(例えば、メチルカルボニ
ルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、ジメチルカル
ボニルアミノ基、プロピルカルボニルアミノ基、ペンチ
ルカルボニルアミノ基、シクロヘキシルカルボニルアミ
ノ基、2−エチルヘキシルカルボニルアミノ基、オクチ
ルカルボニルアミノ基、ドデシルカルボニルアミノ基、
フェニルカルボニルアミノ基、ナフチルカルボニルアミ
ノ基等)、スルホニル基(例えば、メチルスルホニル
基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、シクロ
ヘキシルスルホニル基、2−エチルヘキシルスルホニル
基、ドデシルスルホニル基、フェニルスルホニル基、ナ
フチルスルホニル基、2−ピリジルスルホニル基等)、
アミノ基(例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチ
ルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ
基、2−エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基、
アニリノ基、ナフチルアミノ基、2−ピリジルアミノ基
等)、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、カルボキシル
基、ヒドロキシル基等が挙げられる。
る置換原子、置換基としては、アルキル基(例えば、メ
チル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、te
rt−ブチル基、ペンチル基、シクロペンチル基、ヘキ
シル基、シクロヘキシル基、オクチル基、ドデシル基
等)、アルケニル基(例えば、ビニル基、アリル基
等)、アルキニル基(例えば、プロパギル基等)、アリ
ール基(例えば、フェニル基、ナフチル基等)、複素環
残基(例えば、ピリジル基、チアゾリル基、オキサゾリ
ル基、イミダゾリル基、フリル基、ピロリル基、ピラジ
ニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、セレナゾリ
ル基、スルホラニル基、ピペリジニル基、ピラゾリル
基、テトラゾリル基等)、ハロゲン原子(例えば、塩素
原子、臭素原子、ヨウ素原子、フッ素原子等)、アルコ
キシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオ
キシ基、ペンチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、
ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、オクチル
オキシ基、ドデシルオキシ基等)、アリールオキシ基
(例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等)、アル
コキシカルボニル基(例えば、メチルオキシカルボニル
基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニ
ル基、オクチルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカ
ルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(例え
ば、フェニルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカル
ボニル基等)、スルホンアミド基(例えば、メチルスル
ホニルアミノ基、エチルスルホニルアミノ基、ブチルス
ルホニルアミノ基、ヘキシルスルホニルアミノ基、シク
ロヘキシルスルホニルアミノ基、オクチルスルホニルア
ミノ基、ドデシルスルホニルアミノ基、フェニルスルホ
ニルアミノ基等)、スルファモイル基(例えば、アミノ
スルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルア
ミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシ
ルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニ
ル基、オクチルアミノスルホニル基、ドデシルアミノス
ルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、ナフチルア
ミノスルホニル基、2−ピリジルアミノスルホニル基
等)、ウレイド基(例えば、メチルウレイド基、エチル
ウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレ
イド基、オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基、フ
ェニルウレイド基、ナフチルウレイド基、2−ピリジル
アミノウレイド基等)、アシル基(例えば、アセチル
基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ペン
チルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、オク
チルカルボニル基、2−エチルヘキシルカルボニル基、
ドデシルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ナフチ
ルカルボニル基、ピリジルカルボニル基等)、カルバモ
イル基(例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカ
ルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルア
ミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シク
ロヘキシルアミノカルボニル基、オクチルアミノカルボ
ニル基、2−エチルヘキシルアミノカルボニル基、ドデ
シルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル
基、ナフチルアミノカルボニル基、2−ピリジルアミノ
カルボニル基等)、アミド基(例えば、メチルカルボニ
ルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、ジメチルカル
ボニルアミノ基、プロピルカルボニルアミノ基、ペンチ
ルカルボニルアミノ基、シクロヘキシルカルボニルアミ
ノ基、2−エチルヘキシルカルボニルアミノ基、オクチ
ルカルボニルアミノ基、ドデシルカルボニルアミノ基、
フェニルカルボニルアミノ基、ナフチルカルボニルアミ
ノ基等)、スルホニル基(例えば、メチルスルホニル
基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、シクロ
ヘキシルスルホニル基、2−エチルヘキシルスルホニル
基、ドデシルスルホニル基、フェニルスルホニル基、ナ
フチルスルホニル基、2−ピリジルスルホニル基等)、
アミノ基(例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチ
ルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ
基、2−エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基、
アニリノ基、ナフチルアミノ基、2−ピリジルアミノ基
等)、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、カルボキシル
基、ヒドロキシル基等が挙げられる。
【0017】これらの基は、さらに上記の置換原子、置
換基によって置換されていてもよい。これらのうちで、
例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル
基、アリール基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、
アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子、複素
環残基、スルホニル基、スルフィニル基、ホスホニル
基、アシル基、カルバモイル基、スルファモイル基、シ
アノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、複素環オキ
シ基、シロキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキ
シ基、アミノ基、アルキルアミノ基、イミド基、ウレイ
ド基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボニル
アミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、アルコ
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル、カルボ
キシル基等の各基が好ましい。
換基によって置換されていてもよい。これらのうちで、
例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル
基、アリール基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、
アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子、複素
環残基、スルホニル基、スルフィニル基、ホスホニル
基、アシル基、カルバモイル基、スルファモイル基、シ
アノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、複素環オキ
シ基、シロキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキ
シ基、アミノ基、アルキルアミノ基、イミド基、ウレイ
ド基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボニル
アミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、アルコ
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル、カルボ
キシル基等の各基が好ましい。
【0018】R1において更に好ましいものはアルキル
基であり、特に好ましくはt−ブチル基である。
基であり、特に好ましくはt−ブチル基である。
【0019】R2、R3で表される脂肪族残基としては、
アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ペンチル
基、シクロペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル
基、オクチル基、ドデシル基等)、アルケニル基(例え
ば、ビニル基、アリル基等)、アルキニル基(例えば、
プロパギル基等)、アリール基(例えば、フェニル基、
ナフチル基等)等が挙げられる。これらの基はさらに、
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール
基、複素環残基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリー
ルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシ
カルボニル基、スルホンアミド基、スルファモイル基、
ウレイド基、アシル基、カルバモイル基、アミド基、ス
ルホニル基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基、スルホ
基、カルボキシル基等によって置換されていてもよい。
アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ペンチル
基、シクロペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル
基、オクチル基、ドデシル基等)、アルケニル基(例え
ば、ビニル基、アリル基等)、アルキニル基(例えば、
プロパギル基等)、アリール基(例えば、フェニル基、
ナフチル基等)等が挙げられる。これらの基はさらに、
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール
基、複素環残基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリー
ルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシ
カルボニル基、スルホンアミド基、スルファモイル基、
ウレイド基、アシル基、カルバモイル基、アミド基、ス
ルホニル基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基、スルホ
基、カルボキシル基等によって置換されていてもよい。
【0020】L1で表されるアルキレン及びアリーレン
基としては、例えば以下に示す構造の基が挙げられる。
基としては、例えば以下に示す構造の基が挙げられる。
【0021】
【化3】
【0022】L1、L3で表されるアルキレン基またはア
リーレン基はさらに置換基を有してもよく、置換基とし
てはR2、R3で表される基への置換原子、置換基と同様
の基が挙げられる。
リーレン基はさらに置換基を有してもよく、置換基とし
てはR2、R3で表される基への置換原子、置換基と同様
の基が挙げられる。
【0023】L1で表されるアルキレン基またはアリー
レン基のうち、アルキレン基がより好ましい。
レン基のうち、アルキレン基がより好ましい。
【0024】L3で表される2価の原子、基のうち、酸
素原子、カルボニル基、アルキレン基、−NR4のうち
の2種類以上組み合わせた2価の基がより好ましい。
素原子、カルボニル基、アルキレン基、−NR4のうち
の2種類以上組み合わせた2価の基がより好ましい。
【0025】一般式[M]で表される化合物のうち、具
体的には以下の一般式[M−1]〜[M−4]で表され
る構造がより好ましく、これらの中でも一般式[M−
1]で表される構造が更に好ましい。
体的には以下の一般式[M−1]〜[M−4]で表され
る構造がより好ましく、これらの中でも一般式[M−
1]で表される構造が更に好ましい。
【0026】
【化4】
【0027】式中、R1、R2、R3、R4、L1、X及び
Zは上記一般式[M]におけるR1、R2、R3、R4、L
1、X及びZと同義である。L11はアルキレン基及びア
リーレン基を表す。L12は酸素原子、硫黄原子、カルボ
ニル基、スルホニル基、アルキレン基、アリーレン基、
−NR4及びこれらを組み合わせた2価の原子、基又は
単なる結合手を表す。
Zは上記一般式[M]におけるR1、R2、R3、R4、L
1、X及びZと同義である。L11はアルキレン基及びア
リーレン基を表す。L12は酸素原子、硫黄原子、カルボ
ニル基、スルホニル基、アルキレン基、アリーレン基、
−NR4及びこれらを組み合わせた2価の原子、基又は
単なる結合手を表す。
【0028】Xの表す発色現像主薬の酸化体との反応に
より脱離可能な原子、基としては、例えばハロゲン原子
(塩素原子、臭素原子、フッ素原子等)およびアルコキ
シ、アリールオキシ基、複素環オキシ基、アシルオキシ
基、スルホニルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ
基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アルキルオキ
ザリルオキシ基、アルコキシオキザリルオキシ基、アル
キルチオ基、アリールチオ基、複素環チオ基、アルキル
オキシチオカルボニルチオ基、アシルアミノ基、スルホ
ンアミド基、N原子で結合した含窒素複素環残基、アル
キルオキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボ
ニルアミノ基、カルボキシル基等の各基が挙げられる
が、好ましくはハロゲン原子、特に好ましくは塩素原子
である。
より脱離可能な原子、基としては、例えばハロゲン原子
(塩素原子、臭素原子、フッ素原子等)およびアルコキ
シ、アリールオキシ基、複素環オキシ基、アシルオキシ
基、スルホニルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ
基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アルキルオキ
ザリルオキシ基、アルコキシオキザリルオキシ基、アル
キルチオ基、アリールチオ基、複素環チオ基、アルキル
オキシチオカルボニルチオ基、アシルアミノ基、スルホ
ンアミド基、N原子で結合した含窒素複素環残基、アル
キルオキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボ
ニルアミノ基、カルボキシル基等の各基が挙げられる
が、好ましくはハロゲン原子、特に好ましくは塩素原子
である。
【0029】またZにより形成される含窒素複素環とし
ては、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール
環、テトラゾール環等が挙げられ、これらはさらに置換
基を有していてもよい。
ては、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール
環、テトラゾール環等が挙げられ、これらはさらに置換
基を有していてもよい。
【0030】一般式[M]で表される骨格は下記のM−
a〜M−fであり、これらのうち好ましい骨格はM−
a、M−bおよびM−cであり、更に好ましくはM−a
である。
a〜M−fであり、これらのうち好ましい骨格はM−
a、M−bおよびM−cであり、更に好ましくはM−a
である。
【0031】
【化5】
【0032】以下に本発明の一般式[M]で表される化
合物の代表的具体例を示すが、本発明はこれらに限定さ
れない。
合物の代表的具体例を示すが、本発明はこれらに限定さ
れない。
【0033】
【化6】
【0034】
【化7】
【0035】
【化8】
【0036】
【化9】
【0037】
【化10】
【0038】
【化11】
【0039】
【化12】
【0040】
【化13】
【0041】
【化14】
【0042】本発明の前記ピラゾロアゾール系マゼンタ
カプラーは、ジャーナル・オブ・ザ・ケミカル・ソサイ
アティ(Journal of the Chemic
alSociety).パーキン(Perkin)I
(1977).2047〜2052、米国特許3,72
5,067号、特開昭59−99437号、同58−4
2045号、同59−162548号、同59−171
956号、同60−33552号、同60−43659
号、同60−172982号、同60−190779
号、同61−189539号、同61−241754
号、同63−163351号、同62−157031
号、Synthesys1981年40頁、同1984
年122頁、同1984年894頁、特開昭49−53
574号、英国特許1,410,846号、新実験化学
講座14−III巻1585〜1594頁(1977)丸
善刊、Helv Chem.Acta.36巻.75頁
(1953)、J.Am.Chem.Soc.72巻2
762頁(1950)、OrgSynth,II巻395
頁(1943)等を参考にして、当業者ならば容易に合
成することができる。
カプラーは、ジャーナル・オブ・ザ・ケミカル・ソサイ
アティ(Journal of the Chemic
alSociety).パーキン(Perkin)I
(1977).2047〜2052、米国特許3,72
5,067号、特開昭59−99437号、同58−4
2045号、同59−162548号、同59−171
956号、同60−33552号、同60−43659
号、同60−172982号、同60−190779
号、同61−189539号、同61−241754
号、同63−163351号、同62−157031
号、Synthesys1981年40頁、同1984
年122頁、同1984年894頁、特開昭49−53
574号、英国特許1,410,846号、新実験化学
講座14−III巻1585〜1594頁(1977)丸
善刊、Helv Chem.Acta.36巻.75頁
(1953)、J.Am.Chem.Soc.72巻2
762頁(1950)、OrgSynth,II巻395
頁(1943)等を参考にして、当業者ならば容易に合
成することができる。
【0043】次に本発明の前記ピラゾロアゾール系マゼ
ンタカプラーの代表的な合成例を以下に示す。
ンタカプラーの代表的な合成例を以下に示す。
【0044】合成例《例示化合物2の合成》
【0045】
【化15】
【0046】(化合物(III)の合成)特願平5−32
0185号に記載の化合物(I)12.0g、無水コハ
ク酸(II)12.3g、トルエン30mlを混ぜ、80
〜100℃で4時間加熱撹拌した。室温まで冷却後、酢
酸エチル150mlを加えて水洗を行った。酢酸エチル
層を分離、乾燥後、酢酸エチルを減圧留去した。得られ
た留分をカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:酢酸エ
チル、ヘキサン)をもちいて精製し、目的物(III)1
2.0gを得た。(収率73%、無色固体) (化合物(IV)の合成)化合物(III)12.0gをア
セトニトリル60mlに溶解し、無水酢酸3.96gを
加えた。ついでピリジン2.56gをゆっくり滴下して
加えて後1.5時間加熱還流した。反応終了後、放冷
し、酢酸エチル200mlを加えて1N塩酸、ついで水
で洗浄した。酢酸エチル層を分離、乾燥後、酢酸エチル
を減圧留去した。得られた留分をカラムクロマトグラフ
ィー(展開溶媒:酢酸エチル、ヘキサン)をもちいて精
製し、目的物(IV)12.0gを得た。(収率25%、
無色) (例示化合物2の合成)化合物(IV)6.0gをクロロ
ホルム45mlに溶解し、塩化チオニル3.6mlを加
えて40〜50℃で1時間加熱撹拌した。反応終了後溶
媒と残存する塩化チオニルを減圧留去して、化合物
(V)を得た。
0185号に記載の化合物(I)12.0g、無水コハ
ク酸(II)12.3g、トルエン30mlを混ぜ、80
〜100℃で4時間加熱撹拌した。室温まで冷却後、酢
酸エチル150mlを加えて水洗を行った。酢酸エチル
層を分離、乾燥後、酢酸エチルを減圧留去した。得られ
た留分をカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:酢酸エ
チル、ヘキサン)をもちいて精製し、目的物(III)1
2.0gを得た。(収率73%、無色固体) (化合物(IV)の合成)化合物(III)12.0gをア
セトニトリル60mlに溶解し、無水酢酸3.96gを
加えた。ついでピリジン2.56gをゆっくり滴下して
加えて後1.5時間加熱還流した。反応終了後、放冷
し、酢酸エチル200mlを加えて1N塩酸、ついで水
で洗浄した。酢酸エチル層を分離、乾燥後、酢酸エチル
を減圧留去した。得られた留分をカラムクロマトグラフ
ィー(展開溶媒:酢酸エチル、ヘキサン)をもちいて精
製し、目的物(IV)12.0gを得た。(収率25%、
無色) (例示化合物2の合成)化合物(IV)6.0gをクロロ
ホルム45mlに溶解し、塩化チオニル3.6mlを加
えて40〜50℃で1時間加熱撹拌した。反応終了後溶
媒と残存する塩化チオニルを減圧留去して、化合物
(V)を得た。
【0047】化合物(VI)6.36gに酢酸エチル45
ml、ピリジン1.4gを加えて、得られた化合物
(V)の酢酸エチル(10ml)溶液を20分で滴下
し、さらに室温下で1時間撹拌した後40〜50℃で1
時間撹拌した。反応終了後、放冷し、酢酸エチル100
mlを加えて1N塩酸、ついで水で洗浄した。酢酸エチ
ル層を分離、乾燥後、酢酸エチルを減圧留去し、化合物
(VII)を得た。
ml、ピリジン1.4gを加えて、得られた化合物
(V)の酢酸エチル(10ml)溶液を20分で滴下
し、さらに室温下で1時間撹拌した後40〜50℃で1
時間撹拌した。反応終了後、放冷し、酢酸エチル100
mlを加えて1N塩酸、ついで水で洗浄した。酢酸エチ
ル層を分離、乾燥後、酢酸エチルを減圧留去し、化合物
(VII)を得た。
【0048】化合物(VII)に酢酸エチル50ml、3
0%アンモニア水4.0mlを加えて室温で2時間撹拌
した。反応終了後水洗、乾燥し酢酸エチルを減圧留去し
た。得られた留分をカラムクロマトグラフィー(展開溶
媒:酢酸エチル、ヘキサン)をもちいて精製し、例示化
合物2 4.5gを得た(3段階収率39%、無色アモ
ルファス)。同定は、MASS、NMR、IRスペクト
ルで行い、例示化合物2であることを確認した。
0%アンモニア水4.0mlを加えて室温で2時間撹拌
した。反応終了後水洗、乾燥し酢酸エチルを減圧留去し
た。得られた留分をカラムクロマトグラフィー(展開溶
媒:酢酸エチル、ヘキサン)をもちいて精製し、例示化
合物2 4.5gを得た(3段階収率39%、無色アモ
ルファス)。同定は、MASS、NMR、IRスペクト
ルで行い、例示化合物2であることを確認した。
【0049】本発明の一般式[M]で表されるマゼンタ
カプラーは他の種類のマゼンタカプラーと併用すること
ができる。
カプラーは他の種類のマゼンタカプラーと併用すること
ができる。
【0050】本発明の一般式[M]で表されるマゼンタ
カプラーを含有せしめるためには、従来の方法、例えば
公知のジブチルフタレート、トリクレジルホスフェート
等の如き高沸点溶媒と酢酸ブチル、酢酸エチル等の如き
低沸点溶媒の混合液あるいは低沸点溶媒のみの溶媒に一
般式[M]で示されるマゼンタカプラーをそれぞれ単独
で、あるいは併用して溶解せしめた後、界面活性剤を含
むゼラチン水溶液と混合し、次いで高速度回転ミキサー
またはコロイドミルもしくは超音波分散機を用いて乳化
分散させた後、乳剤中に直接添加する方法を採用するこ
とができる。又、上記乳化分散液をセットした後、細断
し、水洗した後、これを乳剤に添加してもよい。本発明
の一般式[M]で表されるマゼンタカプラーは、高沸点
溶媒と前記分散法によりそれぞれ別々に分散させてハロ
ゲン化銀乳剤に添加してもよいが、両化合物を同時に溶
解せしめ、分散し、乳剤に添加する方法が好ましい。
カプラーを含有せしめるためには、従来の方法、例えば
公知のジブチルフタレート、トリクレジルホスフェート
等の如き高沸点溶媒と酢酸ブチル、酢酸エチル等の如き
低沸点溶媒の混合液あるいは低沸点溶媒のみの溶媒に一
般式[M]で示されるマゼンタカプラーをそれぞれ単独
で、あるいは併用して溶解せしめた後、界面活性剤を含
むゼラチン水溶液と混合し、次いで高速度回転ミキサー
またはコロイドミルもしくは超音波分散機を用いて乳化
分散させた後、乳剤中に直接添加する方法を採用するこ
とができる。又、上記乳化分散液をセットした後、細断
し、水洗した後、これを乳剤に添加してもよい。本発明
の一般式[M]で表されるマゼンタカプラーは、高沸点
溶媒と前記分散法によりそれぞれ別々に分散させてハロ
ゲン化銀乳剤に添加してもよいが、両化合物を同時に溶
解せしめ、分散し、乳剤に添加する方法が好ましい。
【0051】前記高沸点溶媒の添加量は、本発明の一般
式[M]で表されるマゼンタカプラー1gに対して好ま
しくは0.01〜10g、さらに好ましくは0.1〜
3.0gの範囲である。
式[M]で表されるマゼンタカプラー1gに対して好ま
しくは0.01〜10g、さらに好ましくは0.1〜
3.0gの範囲である。
【0052】本発明の感光材料に用いるハロゲン化銀乳
剤としては、通常のハロゲン化銀乳剤の任意のものを用
いることができる。該乳剤は、常法により化学増感する
ことができ、増感色素を用いて、所望の波長域に光学的
に増感できる。ハロゲン化銀乳剤には、カブリ防止剤、
安定剤等を加えることができる。該乳剤のバインダーと
しては、ゼラチンを用いるのが有利である。
剤としては、通常のハロゲン化銀乳剤の任意のものを用
いることができる。該乳剤は、常法により化学増感する
ことができ、増感色素を用いて、所望の波長域に光学的
に増感できる。ハロゲン化銀乳剤には、カブリ防止剤、
安定剤等を加えることができる。該乳剤のバインダーと
しては、ゼラチンを用いるのが有利である。
【0053】乳剤層、その他の親水性コロイド層は、硬
膜することができ、又、可塑剤、水不溶性又は難溶性合
成ポリマーの分散物(ラテックス)を含有させることが
できる。カラー写真感光材料の乳剤層にはカプラーが用
いられる。
膜することができ、又、可塑剤、水不溶性又は難溶性合
成ポリマーの分散物(ラテックス)を含有させることが
できる。カラー写真感光材料の乳剤層にはカプラーが用
いられる。
【0054】更に色補正の効果を有しているカラードカ
プラー、競合カプラー及び現像主薬の酸化体とのカップ
リング反応により現像促進剤、漂白促進剤、現像剤、ハ
ロゲン化銀溶剤、調色剤、硬膜剤、カブリ剤、カブリ防
止剤、化学増感剤、分光増感剤及び減感剤のような写真
的に有用なフラグメントを放出する化合物を用いること
ができる。
プラー、競合カプラー及び現像主薬の酸化体とのカップ
リング反応により現像促進剤、漂白促進剤、現像剤、ハ
ロゲン化銀溶剤、調色剤、硬膜剤、カブリ剤、カブリ防
止剤、化学増感剤、分光増感剤及び減感剤のような写真
的に有用なフラグメントを放出する化合物を用いること
ができる。
【0055】また、本発明の感光材料には、色素画像の
劣化を防止する目的で画像安定剤及び紫外線吸収剤を用
いることができる。
劣化を防止する目的で画像安定剤及び紫外線吸収剤を用
いることができる。
【0056】支持体としては、ポリエチレン等をラミネ
ートした紙、ポリエチレンテレフタレートフィルム、バ
ライタ紙、三酢酸セルロース等をもちいることができ
る。
ートした紙、ポリエチレンテレフタレートフィルム、バ
ライタ紙、三酢酸セルロース等をもちいることができ
る。
【0057】本発明の感光材料を用いて色素画像を得る
には露光後、通常知られているカラー写真処理を行うこ
とができる。
には露光後、通常知られているカラー写真処理を行うこ
とができる。
【0058】
【実施例】次に本発明を実施例に基づき説明するが、本
発明の実施態様はこれに限定されない。
発明の実施態様はこれに限定されない。
【0059】実施例1 紙支持体の片面にポリエチレンを、もう一方の面に酸化
チタンを含有するポリエチレンをラミネートした支持体
上に、以下の表1、表2に示す構成の各層を酸化チタン
を含有するポリエチレン層の側に塗設し、多層カラー写
真感光材料試料101を作製した。
チタンを含有するポリエチレンをラミネートした支持体
上に、以下の表1、表2に示す構成の各層を酸化チタン
を含有するポリエチレン層の側に塗設し、多層カラー写
真感光材料試料101を作製した。
【0060】
【表1】
【0061】
【表2】
【0062】塗布液は下記の如く調製した。第1層塗布
液イエローカプラー(EY−1)26.7g、色素画像
安定化剤(ST−1)10.0g、色素画像安定化剤
(ST−2)6.67g、ステイン防止剤(HQ−1)
0.67gおよび高沸点有機溶媒(DNP)6.67g
に酢酸エチル60ccを加え溶解し、この溶液を20%
界面活性剤(SU−2)水溶液7ccを含有する10%
ゼラチン水溶液220ccに超音波ホモジナイザーを用
いて乳化分散させてイエローカプラー分散液を作製し
た。
液イエローカプラー(EY−1)26.7g、色素画像
安定化剤(ST−1)10.0g、色素画像安定化剤
(ST−2)6.67g、ステイン防止剤(HQ−1)
0.67gおよび高沸点有機溶媒(DNP)6.67g
に酢酸エチル60ccを加え溶解し、この溶液を20%
界面活性剤(SU−2)水溶液7ccを含有する10%
ゼラチン水溶液220ccに超音波ホモジナイザーを用
いて乳化分散させてイエローカプラー分散液を作製し
た。
【0063】この分散液を下記に示す青感性ハロゲン化
銀乳剤(銀8.67g含有)と混合し、更にイラジエー
ション防止染料(AIY−1)を加え第1層塗布液を調
製した。
銀乳剤(銀8.67g含有)と混合し、更にイラジエー
ション防止染料(AIY−1)を加え第1層塗布液を調
製した。
【0064】第2層〜第7層塗布液も第1層塗布液と同
様に調製した。又、硬膜剤として第2層及び第4層に
(HH−1)を、第7層に(HH−2)を添加した。塗
布助剤としては、界面活性剤(SU−1)、(SU−
3)を添加し、表面張力を調整した。
様に調製した。又、硬膜剤として第2層及び第4層に
(HH−1)を、第7層に(HH−2)を添加した。塗
布助剤としては、界面活性剤(SU−1)、(SU−
3)を添加し、表面張力を調整した。
【0065】以下に前述の各層中に使用される化合物の
構造式を示す。
構造式を示す。
【0066】
【化16】
【0067】
【化17】
【0068】
【化18】
【0069】
【化19】
【0070】
【化20】
【0071】第1層、第3層、第5層に使用したハロゲ
ン化銀乳剤は以下の通り。
ン化銀乳剤は以下の通り。
【0072】青感性ハロゲン化銀乳剤(Em−B) 平均粒径0.85μm、変動係数=0.07、塩化銀含
有率99.5モル%の単分散立方体塩臭化銀乳剤 チオ硫酸ナトリウム 0.8mg/モルAgX 塩化金酸 0.5mg/モルAgX 安定剤 STAB−1 6×10-4モル/モルAgX 増感色素 BS−1 4×10-4モル/モルAgX 増感色素 BS−2 1×10-4モル/モルAgX 緑感性ハロゲン化銀乳剤(Em−G) 平均粒径0.43μm、変動係数=0.08、塩化銀含
有率99.5モル%の単分散立方体塩臭化銀乳剤 チオ硫酸ナトリウム 1.5mg/モルAgX 塩化金酸 1.0mg/モルAgX 安定剤 STAB−1 6×10-4モル/モルAgX 増感色素 GS−1 4×10-4モル/モルAgX 赤感性ハロゲン化銀乳剤(Em−R) 平均粒径0.50μm、変動係数=0.08、塩化銀含
有率99.5モル%の単分散立方体塩臭化銀乳剤 チオ硫酸ナトリウム 1.8mg/モルAgX 塩化金酸 2.0mg/モルAgX 安定剤 STAB−1 6×10-4モル/モルAgX 増感色素 RS−1 1×10-4モル/モルAgX
有率99.5モル%の単分散立方体塩臭化銀乳剤 チオ硫酸ナトリウム 0.8mg/モルAgX 塩化金酸 0.5mg/モルAgX 安定剤 STAB−1 6×10-4モル/モルAgX 増感色素 BS−1 4×10-4モル/モルAgX 増感色素 BS−2 1×10-4モル/モルAgX 緑感性ハロゲン化銀乳剤(Em−G) 平均粒径0.43μm、変動係数=0.08、塩化銀含
有率99.5モル%の単分散立方体塩臭化銀乳剤 チオ硫酸ナトリウム 1.5mg/モルAgX 塩化金酸 1.0mg/モルAgX 安定剤 STAB−1 6×10-4モル/モルAgX 増感色素 GS−1 4×10-4モル/モルAgX 赤感性ハロゲン化銀乳剤(Em−R) 平均粒径0.50μm、変動係数=0.08、塩化銀含
有率99.5モル%の単分散立方体塩臭化銀乳剤 チオ硫酸ナトリウム 1.8mg/モルAgX 塩化金酸 2.0mg/モルAgX 安定剤 STAB−1 6×10-4モル/モルAgX 増感色素 RS−1 1×10-4モル/モルAgX
【0073】
【化21】
【0074】次に試料101の第3層のカプラーEM−
1を、カプラーEM−1添加量と等モルの下記表3に示
す本発明のカプラーまたは比較のカプラーに替えた以外
は試料101と同様にして試料102〜114を作製し
た。尚、比較試料に用いたマゼンタカプラーEM−2の
構造式は、先に記したEM−1と共に示してある。
1を、カプラーEM−1添加量と等モルの下記表3に示
す本発明のカプラーまたは比較のカプラーに替えた以外
は試料101と同様にして試料102〜114を作製し
た。尚、比較試料に用いたマゼンタカプラーEM−2の
構造式は、先に記したEM−1と共に示してある。
【0075】このようにして作製した各試料を、常法に
従って緑色光によってウエッジ露光後、下記の処理工程
に従って処理を行った。
従って緑色光によってウエッジ露光後、下記の処理工程
に従って処理を行った。
【0076】 処理工程 温 度 時 間 発色現像 35.0±0.3℃ 45秒 漂白定着 35.0±0.5℃ 45秒 安 定 化 30〜34℃ 90秒 乾 燥 60〜80℃ 60秒 各処理液の組成を以下に示す。尚、各処理液の補充量は
カラー写真感光材料1m2当たり80ccである。
カラー写真感光材料1m2当たり80ccである。
【0077】 発色現像液 タンク液 補充液 純水 800cc 800cc トリエタノールアミン 10g 18g N,N−ジエチルヒドロキシルアミン 5g 9g 塩化カリウム 2.4g − 1−ヒドロキシエチリデン−1,1−ジホスホン酸 1.0g 1.8g N−エチル−N−β−メタンスルホンアミドエチル −3−メチル−4−アミノアニリン硫酸塩 5.4g 8.2g 蛍光増白剤(4,4′−ジアミノスチルベンジスルホン酸誘導体) 1.0g 1.8g 炭酸カリウム 27g 27g 水を加えて全量を1000ccとし、タンク液において
はpHを10.10に、補充液においてはpHを10.
60に調整する。
はpHを10.10に、補充液においてはpHを10.
60に調整する。
【0078】 漂白定着液(タンク液と補充液は同一) エチレンジアミン四酢酸第二鉄アンモニウム二水塩 60g エチレンジアミン四酢酸 3g チオ硫酸アンモニウム(70%水溶液) 100cc 亜硫酸アンモニウム(40%水溶液) 27.5cc 水を加えて全量を1000ccとし、炭酸カリウム又は
氷酢酸でpHを5.7に調整する。
氷酢酸でpHを5.7に調整する。
【0079】 安定化液(タンク液と補充液は同一) 5−クロル−2−メチル−4−イソチアゾリン−3−オン 1.0g エチレングリコール 1.0g 1−ヒドロキシエチリデン−1,1−ジホスホン酸 2.0g エチレンジアミン四酢酸 1.0g 水酸化アンモニウム(20%水溶液) 3.0g 蛍光増白剤(4,4′−ジアミノスチルベンジスルホン酸誘導体) 1.5g 水を加えて全量を1000ccとし、硫酸又は水酸化カ
リウムでpHを7.0に調整する。
リウムでpHを7.0に調整する。
【0080】連続処理後の試料を用いて以下の評価を行
った。
った。
【0081】《Dmax》最大発色濃度を測定した。
【0082】《耐光性》得られた試料をキセノンフェー
ドメータで10日間照射し、初濃度1.0における色素
画像の残存率(%)を求めた。これらの結果を表3に示
す。
ドメータで10日間照射し、初濃度1.0における色素
画像の残存率(%)を求めた。これらの結果を表3に示
す。
【0083】
【表3】
【0084】表3から明らかなように、試料101〜1
14において、本発明のカプラーを用いた試料103〜
114は、比較のカプラーを用いた試料101、102
に比べて、発色性も良好で、且つ、非常に大幅な耐光性
の向上が認められた。
14において、本発明のカプラーを用いた試料103〜
114は、比較のカプラーを用いた試料101、102
に比べて、発色性も良好で、且つ、非常に大幅な耐光性
の向上が認められた。
【0085】
【発明の効果】実施例で実証した如く、本発明によるハ
ロゲン化銀カラー写真感光材料は発色性に優れ、しかも
マゼンタ色素画像の光堅牢性が著しく改良され優れた画
像を得ることができる。
ロゲン化銀カラー写真感光材料は発色性に優れ、しかも
マゼンタ色素画像の光堅牢性が著しく改良され優れた画
像を得ることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 金子 豊 東京都日野市さくら町1番地コニカ株式会 社内
Claims (1)
- 【請求項1】 支持体上に、青感性ハロゲン化銀乳剤
層、緑感性ハロゲン化銀乳剤層及び赤感性ハロゲン化銀
乳剤層を含む写真構成層を有するハロゲン化銀カラー写
真感光材料において、該緑感性ハロゲン化銀乳剤層の少
なくとも一層に、下記一般式[M]で表されるカプラー
を含有することを特徴とするハロゲン化銀カラー写真感
光材料。 【化1】 〔式中、R1は水素原子または置換基を表す。R2および
R3は水素原子または脂肪族残基を表す。L1はアルキレ
ン基およびアリーレン基を表す。L2は酸素原子、硫黄
原子、カルボニル基、スルホニル基を表す。L3は酸素
原子、硫黄原子、カルボニル基、スルホニル基、アルキ
レン基、アリーレン基、−NR4−およびこれらを組み
合わせた2価の基を表す。R4は水素原子、アルキル
基、あるいはアリール基を表す。Xは水素原子または発
色現像主薬の酸化体との反応により脱離可能な原子、基
を表す。Zは含窒素複素環を形成するのに必要な非金属
原子群を表す。〕
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15818196A JPH1010690A (ja) | 1996-06-19 | 1996-06-19 | ハロゲン化銀カラー写真感光材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15818196A JPH1010690A (ja) | 1996-06-19 | 1996-06-19 | ハロゲン化銀カラー写真感光材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1010690A true JPH1010690A (ja) | 1998-01-16 |
Family
ID=15666048
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15818196A Pending JPH1010690A (ja) | 1996-06-19 | 1996-06-19 | ハロゲン化銀カラー写真感光材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1010690A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AU2017305111B2 (en) * | 2016-08-05 | 2019-11-14 | Komatsu Ltd. | Construction management system |
-
1996
- 1996-06-19 JP JP15818196A patent/JPH1010690A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AU2017305111B2 (en) * | 2016-08-05 | 2019-11-14 | Komatsu Ltd. | Construction management system |
| US11966990B2 (en) | 2016-08-05 | 2024-04-23 | Komatsu Ltd. | Construction management system |
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