JPH1045754A - 1,2,4−トリアゾール誘導体及び該誘導体を含有する除草剤 - Google Patents

1,2,4−トリアゾール誘導体及び該誘導体を含有する除草剤

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JPH1045754A
JPH1045754A JP20334996A JP20334996A JPH1045754A JP H1045754 A JPH1045754 A JP H1045754A JP 20334996 A JP20334996 A JP 20334996A JP 20334996 A JP20334996 A JP 20334996A JP H1045754 A JPH1045754 A JP H1045754A
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JP
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group
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lower alkyl
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JP20334996A
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Inventor
Mitsuyuki Murakami
充幸 村上
Hirobumi Nakagawa
博文 中川
Yoshinori Endo
慶典 遠藤
大輔 ▲柳▼▲瀬▼
Daisuke Yanase
Tatsuya Akasaka
達也 赤坂
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Otsuka Chemical Co Ltd
Original Assignee
Otsuka Chemical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は、除草剤として好適な1,2,4−
トリアゾ−ル誘導体を提供することを課題とする。 【解決手段】 本発明の1,2,4−トリアゾ−ル誘導
体は、一般式 【化1】 [式中、R1はメチル基又はエチル基を示す。R2及びR
3は、同一又は異なってハロゲン原子又は低級アルキル
基を示す。R4はメチル基又はエチル基を示す。R5はモ
ノフルオロメチル基又はジフルオロメチル基を示す。Y
は硫黄原子又は酸素原子を示す。]で表される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、1,2,4−トリ
アゾ−ル誘導体及び該誘導体を有効成分として含有する
除草剤に関する。
【0002】
【従来の技術】今日まで多くの除草活性化合物が見い出
され、その中のいくつかは広く農作物の雑草防除に使用
されている。米国特許第5108486号明細書にはあ
る種の4−フェニル−1,2,4−トリアゾ−ル誘導体
が除草活性を有することが開示されている。
【0003】また、特開平8ー20583号公報には、
一般式
【0004】
【化2】
【0005】[式中 RA及びRBは、同一又は異なって
水素原子又は低級アルキル基を示す。RCは低級アルキ
ル基を示す。Xは酸素原子又は硫黄原子を示す。)で表
される、トリアゾール環3位がトリフルオロメチル基で
ある化合物が開示されている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明者等は上述の背
景をふまえ、各種の4−アリール−1,2,4−トリア
ゾ−ル誘導体の除草効果と作物に対する選択性について
詳細に検討を続けてきた。その結果、下記一般式(1)
で表される新規な1,2,4−トリアゾ−ル誘導体が低
薬量で優れた除草活性を有すると共に、イネのみならず
大豆、小麦、大根、ソバ等の農作物及び芝生に対して極
めて安全な高い選択性を有することを見い出した。本発
明は、斯かる知見に基づき完成されたものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】即ち、本発明は、一般式
【0008】
【化3】
【0009】[式中、R1はメチル基又はエチル基を示
す。R2及びR3は、同一又は異なってハロゲン原子又は
低級アルキル基を示す。R4はメチル基又はエチル基を
示す。R5はモノフルオロメチル基又はジフルオロメチ
ル基を示す。Yは硫黄原子又は酸素原子を示す。]で表
される1,2,4−トリアゾ−ル誘導体、及び該誘導体
を有効成分とする除草剤に係る。
【0010】本発明の上記一般式(1)で表される1,
2,4−トリアゾール誘導体はトリアゾール環3位がよ
り低分子量のモノフルオロメチル基又はジフルオロメチ
ル基であるため、安全性、特定植物に対する選択性、工
業的製造工程の簡略化、製剤の容易さ等においてメリッ
トが期待される化合物である。
【0011】
【発明の実施の形態】上記一般式(1)の本発明化合物
には以下の化合物が包含される。
【0012】R1がメチル基、R2及びR3が共にハロゲ
ン原子、R5がフルオロメチル基又はジフルオロメチル
基である一般式(1)の化合物;R1がメチル基、R2
びR3が共に低級アルキル基、R5がフルオロメチル基又
はジフルオロメチル基である、一般式(1)の化合物;
1がメチル基、R2が低級アルキル基、R3がハロゲン
原子、R5がモノフルオロメチル基又はジフルオロメチ
ル基である一般式(1)の化合物;R1がメチル基、R2
がハロゲン原子、R3が低級アルキル基、R5がモノフル
オロメチル基又はジフルオロメチル基である一般式
(1)の化合物。
【0013】本明細書において、ハロゲン原子として
は、例えば弗素原子、塩素原子、臭素原子及び沃素原子
が挙げられる。また低級アルキル基としては、例えばメ
チル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソ
ブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル基等の
炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を挙げるこ
とができる。
【0014】本発明の一般式(1)で表される化合物
は、例えば下記反応式−1に示す方法により製造され
る。
【0015】
【化4】
【0016】[式中、R1、R2、R3、R4、R5及びY
は前記に同じ。R6は低級アルキル基を示す。] 上記反応式−1によれば、一般式(1)の本発明化合物
は、一般式(2)で表される(チオ)セミカルバジド類
と一般式(3)で表されるフルオロ酢酸エステルとを、
塩基の存在下、無溶剤又は溶剤中で反応させることによ
り製造される。この反応で使用される溶剤としては例え
ばメタノール、エタノール等のアルコール類、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、ジメチルホル
ムアミド、N−メチルピロリドン等のアミド類、ジメチ
ルスルホキシド等のスルホキシド類や、これらの混合溶
剤等を挙げることができる。この反応で使用される塩基
としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等
のアルカリ金属水酸化物類、水酸化カルシウム、水酸化
マグネシウム等のアルカリ土類金属水酸化物類、ナトリ
ウムメトキシド、カリウムエトキシド等の金属アルコキ
シド類、トリエチルアミン、ピリジン等の有機アミン類
等を挙げることができる。一般式(2)の(チオ)セミ
カルバジド類と一般式(3)のフルオロ酢酸エステルと
の使用割合としては特に限定されるものではないが、通
常前者に対して後者を0.5〜5倍モル程度、好ましく
は1〜3倍モル程度とするのがよい。一般式(2)の
(チオ)セミカルバジド類と塩基との使用割合としては
特に限定されるものではないが、通常前者に対して後者
を0.1〜3倍モル程度、好ましくは0.5〜2倍モル
程度とするのがよい。上記反応は室温から使用される溶
剤の沸点温度までの温度範囲で進行するが、通常反応時
間短縮のため加熱するのがよい。
【0017】上記反応式−1において用いられる一般式
(2)で表される(チオ)セミカルバジド類は相当する
アニリン類から公知の方法に準じて製造できる。その詳
細は例えば米国特許4514419号に記載されてい
る。また一般式(3)のフルオロ酢酸エステルは工業的
に容易に入手できる化合物である。
【0018】本発明によれば、水田、芝生及び畑地にお
いて、本発明化合物を土壌処理することにより、イネ、
芝生(コウライシバ、ヒメコウライシバ、ベントグラ
ス、ブルーグラス、ライグラス、テフトン)及び大豆、
小麦、大根、ソバ等の作物に安全で、作物生育の障害と
なる各種雑草を選択的に防除できる為、作物の生産向上
や農作業の労力低減に極めて有用である。
【0019】本発明化合物を除草剤として使用する場
合、乳剤、水和剤、ドライフロアブル剤、フロアブル
剤、水溶剤、粒剤、微粒剤、顆粒剤、粉剤、塗布剤、ス
プレー用製剤、エアゾール製剤、マイクロカプセル製
剤、薫蒸用製剤、薫煙用製剤等の形態で用いることがで
きる。補助剤としては、この分野で通常使用されている
ものを広く使用でき、例えば珪藻土、カオリン、クレ
ー、ベントナイト、ホワイトカーボン、タルク等の増量
剤、非イオン界面活性剤としてはポリオキシエチレンア
ルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエステ
ル、ポリオキシエチレンソルビタンアルキルエステル、
陰イオン界面活性剤としてはアルキルベンゼンスルホネ
ート、アルキルスルホサクシネート、アルキルサルフェ
ート、ポリオキシエチレンアルキルサルフェート、アリ
ルスルフォネート、リグニン亜硫酸塩等を挙げることが
できる。
【0020】また溶解剤、希釈剤としては、水、各種有
機溶媒、各種エアゾール噴射剤、各種天然鉱物並びに各
種合成化合物等を用いることができる。例えば有機溶媒
としてはベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼ
ン、クロルベンゼン、アルキルナフタリン、クロルエチ
レン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メチル
イソブチルケトン、アルコール類、セロソルブ類、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニト
リル、鉱油留分等が好んで用いられる。エアゾール噴射
剤としては、例えばプロパン、ブタン、ハロゲン化炭化
水素、チッ素、二酸化炭素等を例示できる。これら製剤
には有機又は無機染料を用いて着色することも可能であ
る。
【0021】本発明において上記各種製剤を製造するに
当たっては、本発明の化合物を約0.1〜95重量%、
好ましくは約0.5〜90重量%を含有するように製剤
することができる。調製された製剤はそのまま又は担体
もしくは水で希釈して用いられるが、目的に応じて約
0.0001〜100重量%の範囲で自由に希釈するこ
とができ、好ましくは0.001〜10重量%の活性成
分を含有するように希釈して使用するのがよい。
【0022】本発明の除草剤を使用するに当たっては、
特に限定されるものではないが、土壌処理法において本
発明除草剤を使用するのが好ましい。その使用例として
例えば雑草発生前から雑草生育初期に本発明組成物を有
効成分量で1〜1000g/10a、望ましくは5〜2
00g/10aとなるよう散布して雑草を防除するとよ
い。更に本発明の使用に際しては、他の除草剤や殺菌剤
又は殺虫剤と混用して用いることも可能である。
【0023】
【実施例】以下に本発明化合物の配合例、製造例及び試
験例を掲げて、本発明をより一層明らかにするが、本発
明はこれらに限定されるものではない。尚、以下におい
て単に「部」とあるのは「重量部」を意味する。
【0024】 配合例1(10%水和剤) 一般式(1)の化合物 10.0部 ジ−クライト(カオリン系クレ−:ジ−クライト工業(株)製) 87.3部 ソルポ−ル800A 1.35部 ルノックスP−65−L(東邦化学工業(株)製) 1.35部 。
【0025】 配合例2(10%フロアブル剤) 一般式(1)の化合物 10.0部 KP−1436(25)(花王(株)製) 10.0部 ルノックス100C(東邦化学工業(株)製) 0.5部 1%ロドポール水(ローヌプーラン社製) 40.0部 水 39.5部 。
【0026】製造例1 4−(4,7−ジクロロ−2−メチルベンゾフラン 5
−イル)−3−ジフルオロメチル−1−メチル−1,
2,4−トリアゾール−5(1H)−チオン(化合物
1)の製造 チオセミカルバジド0.92gをメタノール5mlに懸
濁させた液にジフルオロ酢酸エチル0.50g及び28
%ナトリウムメトキシド/メタノール溶液0.58gを
加え、一晩加熱還流した。反応液を酢酸エチル50ml
で抽出し、水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネ
シウム上で乾燥後溶媒を留去し、残留物をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(展開溶媒; ヘキサン:酢酸
エチル=3:1)で精製して白色結晶0.8g(収率7
3%)を得た。
【0027】融点:179−181℃1 H−NMR(CDCl3)δppm;2.51(3
H)、3.83(3H)、6.43(1H)、6.53
(1H)、7.18(1H)。
【0028】製造例2 4−(4,7−ジクロロ−2−メチルベンゾフラン 5
−イル)−3−フルオロメチル−1−メチル−1,2,
4−トリアゾール−5(1H)−チオン(化合物2)の
製造 チオセミカルバジド1.84gをメタノール10mlに
懸濁させた液にフルオロ酢酸エチル0.86g及び28
%ナトリウムメトキシド/メタノール溶液1.12gを
加え、一晩加熱還流した。反応液を酢酸エチル100m
lで抽出し、水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグ
ネシウム上で乾燥後溶媒を留去し、残留物をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(展開溶媒;ヘキサン:酢酸
エチル=2:1)で精製して白色結晶1.2g(収率5
8%)を得た。
【0029】融点:88(軟化)〜120℃1 H−NMR(CDCl3)δppm;2.56(3
H)、3.90(3H)、5.06(1H)、5.21
(1H)、6.62(1H)、7.27(1H)。
【0030】上記製造例に準じて製造された化合物及び
その分光的データを表1及び表2に示す。
【0031】
【表1】
【0032】
【表2】
【0033】試験例1(湛水土壌処理試験) 外形9.2cm、内径8.5cm、高さ9.0cmの磁
製ポットに、予め混合機内で水を加えて適度な粘度に調
整した殖壌土と適当量の混合肥料とを入れ、土壌表面に
ノビエ、ホタルイ、広葉雑草(キカシグサ、アゼナ)、
タマガヤツリ及びコナギの種子を播種した。軽く鎮圧し
て土壌表面を平らにした後、2葉期のイネ(品種:アキ
ニシキ)を移植し約3cmの深さに湛水した。3日後、
供試化合物の有効成分量が20g/10aになるように
湛水面に均一に散布した。散布の際の薬液は、前記配合
例1に示した処方の水和剤を水で希釈してピペットによ
り湛水面に均一に滴下した。薬液散布3週間後にイネ及
び各種雑草に対する防除効果を下記の判定基準に従って
調査し、その結果を表3に示した。尚、表3中の供試化
合物番号(化合物No.)は、上記製造例における化合物
番号に対応する。また、比較のために、2ーベンゾチア
ゾール−2ーイルオキシーNーメチルアセトアニリド
(メフェナセット、この化合物を「化合物B」とする)
を用いて上記と同様にして除草効果を判定し、その結果
を表3に併せて示す。
【0034】判定基準;5…殺草率100%(完全枯
死)、4.5…90〜100%、4…70〜90%、3
…40〜70%、2…20〜40%、1…0〜20%、
0…0%(無害)
【0035】
【表3】
【0036】試験例2(芝生雑草に対する除草活性試
験) ポットに埴壌土と適量の混合肥料を充填し、検定植物と
してメヒシバ、スズメノカタビラ、ハコベ、及びオラン
ダミミナグサを播種した後、軽く覆土した。配合例2で
調製した10%フロアブル剤を1000倍希釈した水溶
液を、面積当たりの処理薬量が30g/10aとなるよ
うに土壌表面に均一に処理した後、下部吸水によって検
定植物を生育させた。3週間目に肉眼観察し、その結果
を表4に示した。除草効果の判定は、上記試験例1の判
定基準と同じ判定基準に従った。尚、表4中の供試化合
物番号は、上記製造例における化合物番号に対応する。
【0037】また、比較のため式
【0038】
【化5】
【0039】で表される化合物(米国特許第51084
86号明細書に記載の化合物、この化合物を「化合物
C」とする)を用いて上記と同様にして除草効果を判定
し、その結果を表4に併せて示す。
【0040】
【表4】
【0041】試験例3(芝生に対する安全性試験) (1)ヒメコウライシバ 口径15cmのポットにまさ土と埴壌土とを等量混合し
たものを充填し、ポットの口径に合わせて裁断したヒメ
コウライシバのマットを定植した。定植後1ヶ月目にポ
ット内の芝が十分根をおろしたことを確認し、茎葉部を
地上1cm程度に刈り込んだ後に配合例2で調製した1
0%フロアブル剤を500倍希釈した水溶液を、面積当
たりの処理薬量が100g/10aになるように芝生の
上から均一に散布した。薬剤処理後芝を1ヶ月間生育さ
せ、各薬剤の芝の生育に対する影響を観察した。芝に対
する薬害の程度を試験例1の判定基準に従い評価した。
【0042】(2)ベントグラス 口径15cmのポットにまさ土と埴壌土とを等量混合し
たものを充填し、ベントグラスを播種して2ヶ月間生育
させた。その間2度にわたって刈り込みを行い、薬剤処
理前日に繁茂した茎葉部を地上1cmまで刈り込んだ。
薬剤処理及び芝に対する薬害の判定は上記ヒメコウライ
シバを用いた試験と同様に行った。
【0043】これらの試験結果を表5に示す。尚、表5
中の供試化合物番号は、上記製造例における化合物番号
に対応する。
【0044】
【表5】
【0045】試験例4(畑地雑草に対する除草活性試験
及び作物に対する薬害試験) ポットに埴壌土と適量の混合肥料を充填し、検定植物と
してアオビユ、ノビエ、イチビ、カヤツリグサ、大豆、
小麦、ダイコン及びソバを播種した後、軽く覆土した。
配合例2で調製した10%フロアブル剤を1000倍希
釈した水溶液を、面積当たりの処理薬量が50g/10
aとなるように土壌表面に均一に処理した後、下部吸水
によって検定植物を生育させた。3週間目に肉眼観察し
た結果を表6に示した。除草効果の判定は、上記試験例
1の判定基準と同じ判定基準に従った。尚、表6中の供
試化合物番号は、上記製造例における化合物番号に対応
する。
【0046】また、比較のため式(D)及び式(E)
【0047】
【化6】
【0048】で表される化合物(特開平8−20583
号公報明細書に記載の化合物、この化合物を「化合物
D」及び「化合物E」とする)を用いて上記と同様にし
て除草効果及び薬害を判定し、その結果を表6に併せて
示す。
【0049】
【表6】
フロントページの続き (72)発明者 ▲柳▼▲瀬▼ 大輔 徳島県鳴門市里浦町里浦字花面615番地 大塚化学株式会社鳴門研究所内 (72)発明者 赤坂 達也 徳島県鳴門市里浦町里浦字花面615番地 大塚化学株式会社鳴門研究所内

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式 【化1】 [式中、R1はメチル基又はエチル基を示す。R2及びR
    3は、同一又は異なってハロゲン原子又は低級アルキル
    基を示す。R4はメチル基又はエチル基を示す。R5はモ
    ノフルオロメチル基又はジフルオロメチル基を示す。Y
    は硫黄原子又は酸素原子を示す。]で表される1,2,
    4−トリアゾ−ル誘導体。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の1,2,4−トリアゾ−
    ル誘導体を有効成分として含有する除草剤。
JP20334996A 1996-08-01 1996-08-01 1,2,4−トリアゾール誘導体及び該誘導体を含有する除草剤 Pending JPH1045754A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998046561A1 (en) * 1997-04-11 1998-10-22 Otsuka Chemical Co., Ltd. Benzene derivatives, benzofuran derivatives, and processes for producing these
US6762197B2 (en) 1999-12-08 2004-07-13 Sumitomo Chemical Company, Limited Difluoromethyltriazolone compounds, use of the same and intermediates for the production thereof

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WO1998046561A1 (en) * 1997-04-11 1998-10-22 Otsuka Chemical Co., Ltd. Benzene derivatives, benzofuran derivatives, and processes for producing these
US6762197B2 (en) 1999-12-08 2004-07-13 Sumitomo Chemical Company, Limited Difluoromethyltriazolone compounds, use of the same and intermediates for the production thereof

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