JPH1062942A - 感光材料処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 空間現像部における感光材料およびそこに塗
布された処理液の温度の低下を防止することにより、処
理むらの発生を防止することができる感光材料処理装置
を提供することを目的とする。 【解決手段】 温風案内板１６０が開放位置にあるとき
には、バッファ部２６の一端が開放され、バッファ部２
６には通気孔１６２を含めて２カ所の開口部が形成され
る。この状態においては、ファン１０５およびヒータ１
０６により発生する温風の一部は、矢印Ｂ２で示すよう
に、乾燥部３４から安定部３３、現像部３２、バッファ
部２６を通って乾燥部３４に戻る循環経路を循環する。
このため、現像液塗布機構４３から一対の絞りローラ４
４、４５に至る空間現像部も、上記循環経路を循環する
温風により加熱される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、感光材料を処理
液により処理する感光材料処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】フィルム、印画紙、印刷版等の感光材料
は、画像が記録された後に、現像液、定着液、安定化
液、水洗水等の処理液によって処理される。このような
処理を行う感光材料の処理装置としては、複数の搬送ロ
ーラ対等により構成される搬送手段により処理液を貯留
した処理槽中に感光材料を搬送し、感光材料を処理液中
に浸漬することにより処理を行う浸漬型の処理装置が知
られている。

【０００３】このような浸漬型の処理装置においては、
感光材料の処理に伴う処理疲労、あるいは大気中の炭酸
ガスや酸素による経時疲労等により処理液が劣化するた
め、処理液に補充液を補充することにより処理液の劣化
を回復させている。このため、処理開始時の処理液の成
分と、その後も処理を継続した場合の処理液の成分とは
異なることになり、厳密に均一な処理を行うことは不可
能である。また、このような浸漬型の処理装置は、処理
液の廃液量が多く、また、装置のメンテナンス性が悪い
という問題もある。

【０００４】このような問題点を解消するための感光材
料処理装置として、感光材料を処理液中に浸漬するかわ
りに、感光材料の処理に必要な量の処理液を感光材料の
感光面に塗布して処理を行う塗布方式の処理装置も使用
されている。例えば、特公平６−７２５７号公報におい
ては、このような塗布方式の処理装置として、処理液を
供給した後の感光材料の感光面にシャフトの周囲にワイ
ヤーを螺旋状に巻き付けて構成したワイヤバーを当接さ
せ、感光材料に塗布される処理液の量を計量することに
より、感光材料に処理に必要な量の処理液のみを塗布す
るようにした処理装置が開示されている。

【０００５】このような塗布方式の処理装置において
は、処理液を塗布された感光材料が空間現像部と呼称さ
れる領域を搬送されている間に、感光材料の感光面の現
像処理がなされる。なお、この空間現像部と呼称される
領域は、処理液を塗布された感光材料が、その感光面を
一切のものに接触することなく搬送される領域である。

【０００６】上述した処理装置においては、処理液は通
常所定の温度まで加熱されているが、感光材料に塗布す
る処理液の量が少量であることから、感光材料に塗布さ
れた時点で感光材料の熱容量により処理液の温度が低下
してしまう。このため、上述した特公平６−７２５７号
公報に記載された処理装置においては、処理液が塗布さ
れる前の感光材料を、その内部にヒータが配設され、感
光材料と同期して回転する加熱ローラにより予め加熱す
るようにしている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】上述した塗布方式の処
理装置を冬季に使用する場合や寒冷地で使用する場合な
ど、処理装置が低温の雰囲気内に設置された状態で感光
材料の処理を行う場合においては、空間現像部も低温と
なっているため、感光材料を加熱ローラにより予め加熱
した場合であっても、感光材料が空間現像部を搬送され
ている間に感光材料およびそこに塗布された処理液の温
度が低下してしまうという現象が発生する。感光材料に
処理液が塗布された後、処理が完了する前に感光材料お
よびそこに塗布された処理液の温度が低下した場合にお
いては、感光材料に処理むらが発生するという問題点が
ある。

【０００８】また、感光材料として、現像の進行が速い
銀錯塩拡散転写法（ＤＴＲ法）を利用する平版印刷版を
使用した場合には、上記の問題が特に顕著となるばかり
ではなく、平版印刷版特有の問題である印刷性能の低
下、特に耐刷性が低下するという問題が生ずる。

【０００９】この発明は、上記課題を解決するためにな
されたものであり、空間現像部における感光材料および
そこに塗布された処理液の温度の低下を防止することに
より、処理むらの発生を防止することができる感光材料
処理装置を提供することを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】この発明は、搬送手段に
よって搬送される感光材料に処理液を塗布する処理液塗
布部と、処理液が塗布された感光材料を搬送することに
より当該感光材料を現像処理する空間現像部と、ヒータ
とファンとを有し感光材料を温風により乾燥する乾燥部
と、前記乾燥部から前記空間現像部に至る温風の循環経
路を形成することにより前記乾燥部で発生した温風を前
記空間現像部に案内する位置と、前記循環経路を遮断す
ることにより前記空間現像部への温風の進入を規制する
位置とを切り替え可能な温風案内手段とを備えたことを
特徴とする。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図
面に基づいて説明する。図１はこの発明に係る感光材料
処理装置を備えた平版印刷版の製版装置の概要図であ
る。

【００１２】この製版装置は、感光材料として銀錯塩拡
散転写法（ＤＴＲ法）を用いた平版印刷版Ｍを使用し、
この平版印刷版Ｍに対して画像の露光と現像処理とを行
うものであり、平版印刷版Ｍに対して露光を行う露光装
置２と、露光後の平版印刷版Ｍに対して現像処理を行う
現像処理装置３とから構成される。

【００１３】なお、銀錯塩拡散転写法（ＤＴＲ法）を用
いた平版印刷版、特に、ハロゲン化銀乳剤層の上に物理
現像核層を有する平版印刷版は、例えば、米国特許第
３，７２８，１１４号、同４，１３４，７６９号、同
４，１６０，６７０号、同４，３３６，３２１号、同
４，５０１，８１１号、同４，５１０，２２８号、同
４，６２１，０４１号明細書等に記載されており、露光
されたハロゲン化銀はＤＴＲ現像により化学現像を生起
し黒色の銀となり親水性の非画線部を形成し、一方、未
露光のハロゲン化銀結晶は現像液中の銀塩錯化剤により
銀錯体となって表面の物理現像核層まで拡散し、核の存
在により物理現像を生起してインキ受容性の物理現像銀
を主体とする画線部を形成する。

【００１４】先ず、露光装置２の構成について説明す
る。この露光装置２は、原稿ホルダー１２に装着された
原稿からの反射光を、投影光学系１３によって平版印刷
版Ｍの表面に投影することにより、平版印刷版Ｍに原稿
の画像を露光するものである。

【００１５】原稿ホルダー１２は、原稿を載置するため
の透光板１４と、この透光板１４に対して開閉可能な上
蓋１５とを有し、モータ１６の駆動により原稿を保持し
た状態で、図１において実線で示す位置と二点鎖線で示
す位置との間を左右方向に往復移動可能に構成されてい
る。また、投影光学系１３は、原稿ホルダー１２の往復
移動経路の下方に固設され、原稿ホルダー１２に保持さ
れて水平移動する原稿の表面に照明光を照射するための
ロッド状の光源１７と、光源１７による原稿からの反射
光を案内するための複数の折返しミラー１８と、複数の
折返しミラー１８により案内された反射光を平版印刷版
Ｍに投影するための投影レンズ１９とを備える。

【００１６】この露光装置２により平版印刷版Ｍに原稿
の画像を露光する際には、原稿ホルダー１２を図１にお
いて実線で示す位置に配置し、上蓋１５を開放して透光
板１４上に原稿を載置した上で上蓋１５を閉じることに
より、原稿を原稿ホルダー１２に装着する。そして、光
源１７を点灯した状態で、原稿ホルダー１２を図１にお
ける左方向に移動させる。また、これと同期して、複数
の搬送ローラ２２およびガイド部材２３により、ロール
状に巻回された平版印刷版Ｍの先端を、原稿ホルダー１
２の移動速度と同一の速度で搬送する。これにより、原
稿ホルダー１２に保持された原稿は、順次光源１７から
の光の照射を受ける。そして、原稿からの反射光は複数
の折返しミラー１８および投影レンズ１９を介して原稿
ホルダー１２と同一の速度で移動する平版印刷版Ｍの表
面に照射され、平版印刷版Ｍには原稿の画像が露光され
る。

【００１７】画像が露光された平版印刷版Ｍは、露光装
置２から順次後段の現像処理装置３に搬送されて処理さ
れる。また、露光装置２の出口側には、平版印刷版Ｍの
搬送方向と垂直な方向に移動するカッター２４を備えた
切断装置２５が配設されており、この切断装置２５は平
版印刷版Ｍを露光終了部分の後端で切断する。

【００１８】なお、露光装置２における平版印刷版Ｍの
搬送速度は現像処理装置３における平版印刷版Ｍの搬送
速度より低速であるため、平版印刷版Ｍを単純に露光装
置２と現像処理装置３とに亘って搬送することはできな
い。また、切断装置２５による平版印刷版Ｍの切断時に
は、平版印刷版Ｍの搬送を停止する必要がある。このた
め、現像処理装置３における露光装置２との境界部には
平版印刷版Ｍのバッファ部２６が配設されており、露光
装置２において露光の終了した平版印刷版Ｍの搬送時
に、バッファ部２６に配設された一対のローラ２７、２
８の回転を一定時間停止することにより、平版印刷版Ｍ
を一定長さだけこのバッファ部２６に貯留した後、現像
処理装置３に搬送するように構成されている。

【００１９】また、現像処理装置３のバッファ部２６の
一端部には、図１において実線で示す位置と二点鎖線で
示す位置との間を、軸１６１を中心として移動可能な温
風案内板１６０が配設されている。なお、この温風案内
板１６０の構成については、後程詳細に説明する。

【００２０】次に、この発明に係る現像処理装置３の構
成について説明する。図２は、図１における現像処理装
置３を拡大して示す概要図であり、図３はその配管系を
示す概要図である。

【００２１】この現像処理装置３は、露光後の平版印刷
版Ｍに現像液（アクチベータ）を塗布して現像処理する
現像部３２と、現像処理後の平版印刷版Ｍに安定液（ス
タビライザー）を塗布して安定化処理する安定部３３
と、安定化処理後の平版印刷版Ｍを乾燥するための乾燥
部３４とから構成される。

【００２２】現像部３２は、バッファ部２６のローラ２
７、２８によって現像部３２に搬送された平版印刷版Ｍ
を挟持して搬送する一対の導入ローラ４１、４２と、一
対の導入ローラ４１、４２によって搬送された平版印刷
版Ｍの感光面に一定量の現像液を計量して塗布するため
の現像液塗布機構４３と、現像処理に供された現像液を
平版印刷版Ｍから除去するための一対の絞りローラ４
４、４５と、平版印刷版Ｍを案内するための複数のガイ
ド部材４６、４７、４８、４９、５０とを有する。

【００２３】前記一対の導入ローラ４１、４２のうち下
側のローラ４１は、そこを通過する平版印刷版Ｍを加熱
するため、ヒータを内蔵した加熱ローラとなっている。
また、上側のローラ４２は、平版印刷版Ｍを加熱ローラ
４１に押しつける押圧ローラとなっている。なお、現像
処理に先立って平版印刷版Ｍを予め加熱するのは、温度
制御された少量の現像液を平版印刷版Ｍに塗布して現像
処理する際に、平版印刷版Ｍの熱容量により平版印刷版
Ｍに接触した現像液の温度が低下することを防止するた
めである。

【００２４】現像液塗布機構４３は、図３に示すよう
に、現像液を貯留する現像液タンク５２とポンプ５３を
介して接続されている。また、現像液塗布機構４３の下
方には回収トレイ５４が設置されている。現像液タンク
５２内の現像液はポンプ５３により現像液塗布機構４３
に圧送され、平版印刷版Ｍ上に供給される。そして、平
版印刷版Ｍの両端部や後端部から流出した現像液等の平
版印刷版Ｍに塗布されなかった現像液は、回収トレイ５
４上に滴下する。さらに、この現像液は、再使用が可能
なため、回収トレイ５４の下端部に設けられた回収管５
５を介して現像液タンク５２の液受部５６に滴下し、現
像液タンク５２内に回収される。現像液タンク５２に
は、パネルヒータ５７が内蔵されており、現像液タンク
５２から現像液塗布機構４３に至る現像液の循環路中を
循環する現像液を所定の温度に維持するように構成され
ている。

【００２５】また、一対の絞りローラ４４、４５の下方
には回収トレイ５８が設置されている。一対の絞りロー
ラ４４、４５によって平版印刷版Ｍから除去された疲労
現像液は、一対の絞りローラ４４、４５の下方に設けら
れた液受け部材６２の回収孔６３を介して回収トレイ５
８上に滴下する。そして、さらにこの現像液は、再使用
できないため、回収トレイ５８の下端部に設けられた回
収管５９を介して排液タンク６４に排出される。

【００２６】現像液塗布機構４３は、図４に示すよう
に、その下方に複数の吐出孔１２１が穿設された現像液
供給管１２２と、その下端部に現像液を流下させるため
の複数の開口部１２３を穿設した現像液受け部１２４
と、その表面に複数の溝を有し平版印刷版Ｍと当接して
回転する塗布ローラ１２５と、現像液受け部１２４の開
口部１２３から流下した現像液を塗布ローラ１２５に案
内するための拡散フィルム１２６と、現像液受け部１２
４の開口部１２３から流下した現像液の逆流を防止する
ための逆流防止フィルム１２７と、塗布ローラ１２５に
当接するバックアップローラ１２８とを有する。なお、
図４における矢印は、平版印刷版Ｍの搬送方向を示して
いる。

【００２７】現像液供給管１２２は、前述した現像液タ
ンク５２とポンプ５３を介して接続されており、現像液
はポンプ５３の駆動により複数の吐出孔１２１から吐出
される。この現像液は、現像液受け部１２４に一旦受け
取られた後、複数の開口部１２３から拡散フィルム１２
６に向けて流下する。現像液受け部１２４の開口部１２
３から流下した現像液は、塗布ローラ１２５と拡散フィ
ルム１２６との当接部分に一旦貯留されて、平版印刷版
Ｍの搬送方向と直交する方向に拡散される。そして、こ
の現像液は、塗布ローラ１２５の回転に伴い、塗布ロー
ラ１２５の溝による開口部を通過して塗布ローラ１２５
とバックアップローラ１２８との当接部方向に移動し、
そこに液溜めを形成する。

【００２８】そして、平版印刷版Ｍがこの液溜めを通過
するときに、平版印刷版Ｍの感光面に現像液が塗布され
る。このとき、平版印刷版Ｍの感光面はバックアップロ
ーラ１２８により塗布ローラ１２５の表面に押しつけら
れていることから、平版印刷版Ｍの感光面に塗布された
現像液は、塗布ローラ１２５の溝による開口部により一
定量に計量される。従って、バックアップローラ１２８
と塗布ローラ１２５との当接部を通過した平版印刷版Ｍ
の感光面には、常に現像に必要な一定量の現像液が塗布
されていることになる。

【００２９】安定部３３は、現像部３２より搬送された
平版印刷版Ｍの感光面に一定量の安定液を計量して塗布
するための安定液塗布機構７３と、安定化処理に供され
た安定液を平版印刷版Ｍから除去するための一対の絞り
ローラ７４、７５と、平版印刷版Ｍを案内するための複
数のガイド部材７６、７７、７８とを有する。

【００３０】安定液塗布機構７３は、図３に示すよう
に、安定液を貯留する安定液タンク８２とポンプ８３を
介して接続されている。また、安定液塗布機構７３の下
方には回収トレイ８４が設置されている。安定液タンク
８２内の安定液はポンプ８３により安定液塗布機構７３
に圧送され、平版印刷版Ｍ上に供給される。そして、平
版印刷版Ｍの両端部や後端部から流出した安定液等の平
版印刷版Ｍに塗布されなかった安定液は、再使用可能な
ため、回収トレイ８４上に滴下する。そして、さらにこ
の安定液は、回収トレイ８４の下端部に設けられた回収
管８５を介して安定液タンク８２の液受部８６に滴下
し、安定液タンク８２内に回収される。

【００３１】また、一対の絞りローラ７４、７５の下方
には回収トレイ８８が設置されている。一対の絞りロー
ラ７４、７５によって平版印刷版Ｍから除去された安定
液は、一対の絞りローラ７４、７５の下方に設けられた
液受け部材９２の回収孔９３を介して回収トレイ８８上
に滴下する。そして、さらにこの安定液は、再使用でき
ないため、回収トレイ８８の下端部に設けられた回収管
８９を介して排液タンク６４に排出される。

【００３２】安定液塗布機構７３は、図５に示すよう
に、その下方に複数の吐出孔１３１が穿設された安定液
供給管１３２と、その下端部に安定液を流下させるため
の複数の開口部１３３を穿設した安定液受け部１３４
と、その表面が単泡性のスポンジより構成され平版印刷
版Ｍと当接して回転する塗布ローラ１３５と、その表面
が凹凸状に形成され安定液受け部１３４の開口部１３３
から流下した安定液を塗布ローラ１３５に案内するため
の拡散フィルム１３６と、平版印刷版Ｍを塗布ローラ１
３５に向けて付勢する板バネ１３８とを有する。なお、
図４における矢印は、平版印刷版Ｍの搬送方向を示して
いる。

【００３３】安定液供給管１３２は、前述した安定液タ
ンク８２とポンプ８３を介して接続されており、安定液
はポンプ８３の駆動により複数の吐出孔１３１から吐出
される。この安定液は、安定液受け部１３４に一旦受け
取られた後、複数の開口部１３３から拡散フィルム１３
６に向けて流下する。安定液受け部１３４の開口部１３
３から流下した安定液は、塗布ローラ１３５と拡散フィ
ルム１３６との当接部分に一旦貯留されて、平版印刷版
Ｍの搬送方向と直交する方向に拡散される。そして、こ
の安定液は、塗布ローラ１３５の回転に伴い、拡散フィ
ルム１３６表面の凹凸による開口部を通過して塗布ロー
ラ１３５と板バネ１３８との当接部方向に移動し、そこ
に液溜めを形成する。

【００３４】そして、平版印刷版Ｍがこの液溜めを通過
するときに、平版印刷版Ｍの感光面に安定液が塗布され
る。このとき、平版印刷版Ｍの感光面は板バネ１３８に
より塗布ローラ１３５の表面に押しつけられていること
から、平版印刷版Ｍの感光面に塗布された安定液は、塗
布ローラ１３５表面の単泡スポンジによる多数の孔によ
り一定量に計量される。従って、板バネ１３８と塗布ロ
ーラ１３５との当接部を通過した平版印刷版Ｍの感光面
には、常に安定に必要な一定量の安定液が塗布されてい
ることになる。

【００３５】なお、板バネ１３８には、板バネ１３８と
塗布ローラ１３５との当接部に必要以上の安定液が貯留
され、液溜めが過度に大きくなることを防止するための
オーバフロー孔１３７が設けられている。

【００３６】乾燥部３４は、安定部３３より搬送された
平版印刷版Ｍを支持して搬送するゴムローラ１０２と、
ゴムローラ１０２に対して所定の圧力をもって当接する
ことにより平版印刷版Ｍの乾燥むらを防止する鏡面ロー
ラ１０３と、鏡面ローラ１０３に対してゴムローラ１０
２を介して洗浄液を供給するための洗浄液貯留部１０４
と、ファン１０５およびヒータ１０６を有し平版印刷版
Ｍに温風を吹き付けて乾燥する乾燥機構１０７と、平版
印刷版Ｍを搬送するための複数の搬送ローラ１０８、１
０９、１１０とを有する。洗浄液貯留部１０４は、図３
に示すように、現像部３２における一対の絞りローラ４
４、４５に対して洗浄液を供給するための洗浄液供給管
１０５とポンプ１０６を介して接続されている。

【００３７】この現像処理装置３による平版印刷版Ｍの
現像処理は以下のようにしてなされる。

【００３８】すなわち、前段の露光装置２により画像を
記録された平版印刷版Ｍは、一対の導入ローラ４１、４
２によって搬送され、現像液塗布機構４３により、平版
印刷版Ｍの現像処理に必要な量の現像液を塗布される。
現像処理に必要な量の現像液のみを塗布された平版印刷
版Ｍは、現像液塗布機構４３から一対の絞りローラ４
４、４５に至る空間現像部を搬送される間に、その感光
面において現像処理が完了する。そして、平版印刷版Ｍ
に付着している現像処理に供された現像液は、一対の絞
りローラ４４、４５により除去される。続いて、平版印
刷版Ｍは、安定液塗布機構７３により、平版印刷版Ｍの
安定処理に必要な量の安定液を塗布される。安定処理に
必要な量の安定液のみを塗布された平版印刷版Ｍは、一
対の絞りローラ７４、７５まで搬送される間に安定化処
理され、平版印刷版Ｍに付着している安定化処理に供さ
れた安定液は、一対の絞りローラ７４、７５により除去
される。そして、安定化処理の終了した平版印刷版Ｍ
は、鏡面ローラ１０３によって押圧されることにより乾
燥むらを予防された後、乾燥機構１０７により乾燥処理
され、図１に示す排出トレイ２９上に排出される。

【００３９】この現像処理装置３においては、平版印刷
版Ｍに現像処理に必要な量の現像液のみが塗布されて現
像処理が行われるため、処理に要する現像液の使用量を
減少することが可能となる。また、平版印刷版Ｍに対し
て、実質的に未使用の処理液が供給されることとなるた
め、平版印刷版Ｍに対して常に均一な処理を施すことが
可能となる。

【００４０】上述した現像処理装置３において、現像処
理に必要な量の現像液のみを塗布された平版印刷版Ｍ
が、現像液塗布機構４３から一対の絞りローラ４４、４
５に至る空間現像部を搬送される間に、平版印刷版Ｍお
よびそこに塗布された現像液の温度が低下した場合に
は、平版印刷版Ｍに処理むらが生じたり、処理後の平版
印刷版Ｍの印刷性能が低下したりする現象が発生する。
このため、この現像処理装置３においては、処理装置が
低温の雰囲気内に設置された場合に、乾燥部３４で発生
した温風を空間現像部に案内するため、前述した温風案
内板１６０が配設されている。

【００４１】この温風案内板１６０は、前述したよう
に、図示しないハンドルに連結する軸１６１を中心とし
て、図１において実線で示す閉鎖位置と二点鎖線で示す
開放位置との間を移動可能に構成されている。

【００４２】図６はこの温風案内板１６０が閉鎖位置に
ある状態を示す現像処理装置３の一部拡大概要図であ
り、図７は温風案内板１６０が開放位置にある状態を示
す現像処理装置３の一部拡大概要図である。

【００４３】温風案内板１６０が閉鎖位置にあるときに
は、図６に示すように、バッファ部２６の一端が温風案
内板１６０により閉じられており、バッファ部２６は、
その他端部に設けられた通気孔１６２を除き、循環路と
しては遮断されている。この状態においては、ファン１
０５およびヒータ１０６により発生する温風は、図６に
おいて矢印Ａ１、Ａ２で示すように、乾燥部３４内で循
環する。

【００４４】一方、温風案内板１６０が開放位置にある
ときには、図７に示すように、温風案内板１６０が移動
してバッファ部２６の一端が開放され、バッファ部２６
には通気孔１６２を含めて２カ所の開口部が形成され
る。この状態においては、ファン１０５およびヒータ１
０６により発生する温風は、図７において矢印Ｂ１で示
すように、その一部は乾燥部３４内で循環するが、矢印
Ｂ２で示すように、一部は乾燥部３４から安定部３３、
現像部３２、バッファ部２６を通って乾燥部３４に戻る
循環経路を循環する。このため、現像液塗布機構４３か
ら一対の絞りローラ４４、４５に至る空間現像部も、上
記循環経路を循環する温風により加熱されることにな
る。

【００４５】従って、このような塗布方式の現像処理装
置３を冬季に使用する場合や寒冷地で使用する場合な
ど、現像処理装置３が低温の雰囲気内に設置された状態
で平版印刷版Ｍの現像処理を行う場合においては、オペ
レータが図示しないハンドルを操作して温風案内板１６
０を図７に示す開放位置に移動させる。これにより、乾
燥部３４のファン１０５およびヒータ１０６により発生
した温風が、現像液塗布機構４３から一対の絞りローラ
４４、４５に至る空間現像部を含む循環経路を循環す
る。このため、加熱ローラ４１により加熱され、現像液
塗布機構４３により現像に必要な量の現像液のみを塗布
された平版印刷版Ｍは、この温風により、その温度が低
下することなく空間現像部中を搬送される。従って、平
版印刷版Ｍの温度が低下することに起因する処理むらの
発生等を防止することが可能となる。

【００４６】一方、現像処理装置３を低温ではない雰囲
気下に設置して平版印刷版Ｍの現像処理を行う場合にお
いては、オペレータが図示しないハンドルを操作して温
風案内板１６０を図６に示す閉鎖位置に移動させる。こ
れにより、上述した乾燥部３４から安定部３３、現像部
３２、バッファ部２６を通って乾燥部３４に戻る循環経
路は、バッファ部２６の端部で閉鎖されることになり、
現像液塗布機構４３から一対の絞りローラ４４、４５に
至る空間現像部への温風の進入が規制される。このた
め、平版印刷版Ｍが空間現像部において過度に加熱され
ることを防止することができる。

【００４７】次に、この発明の他の実施形態について、
図８および図９に基づいて説明する。図８は温風案内板
１６０が閉鎖位置にある状態を示す現像処理装置３の一
部拡大概要図であり、図９は温風案内板１６０が開放位
置にある状態を示す現像処理装置３の一部拡大概要図で
ある。

【００４８】上述した実施の形態においては、温風案内
板１６０がバッファ部２６の一端を閉鎖する位置と開放
する位置との間を移動するように構成しているが、この
実施の形態においては、温風案内板１６０は乾燥機構１
０７から安定部３３を経て現像部３２に至る温風の通路
を遮断する位置と開放する位置との間を移動するように
構成されている。

【００４９】温風案内板１６０が閉鎖位置にあるときに
は、図８に示すように、乾燥機構１０７から安定部３３
を経て現像部３２に至る温風の通路が遮断されている。
この状態においては、ファン１０５およびヒータ１０６
により発生する温風は、図８において矢印Ａ１、Ａ２で
示すように、乾燥部３４内で循環する。

【００５０】一方、温風案内板１６０が開放位置にある
ときには、図９に示すように、乾燥機構１０７から安定
部３３を経て現像部３２に至る温風の通路が開放さる。
この状態においては、ファン１０５およびヒータ１０６
により発生する温風は、図９において矢印Ｂ１で示すよ
うに、その一部は乾燥部３４内で循環するが、矢印Ｂ２
で示すように、一部は乾燥部３４から安定部３３、現像
部３２、バッファ部２６を通って乾燥部３４に戻る循環
経路を循環する。このため、現像液塗布機構４３から一
対の絞りローラ４４、４５に至る空間現像部も、上記循
環経路を循環する温風により加熱されることになる。

【００５１】なお、温風案内板１６０が、乾燥機構１０
７から安定部３３を経て現像部３２に至る温風の通路を
遮断する閉鎖位置にある状態においても、温風案内板１
６０の先端部や平版印刷版Ｍの搬送路等においては、温
風が通過しうる隙間が生じているが、乾燥機構１０７か
ら吹き出す温風の大部分は、図８において矢印Ａ２で示
すように乾燥部３４内で循環する。この明細書で述べる
「遮断」とは、温風の循環路を完全に閉鎖する場合のみ
ならず、上記のように温風の通路の多くの部分を閉鎖す
る場合をも含む概念である。

【００５２】上述した実施の形態においては、オペレー
タが図示しないハンドルを操作することにより、温風案
内板１６０を移動させているが、モータ等の駆動により
温風案内板１６０を移動させるようにしてもよい。ま
た、現像処理装置３に外気温若しくは空間現像部の温度
を検出する温度センサを付設し、この温度センサの測定
値により、温風案内板１６０を開放位置または閉鎖位置
に自動的に移動させる構成としてもよい。

【００５３】また、上述した実施の形態においては、感
光材料として銀錯塩拡散転写法（ＤＴＲ法）を用いた平
版印刷版Ｍを使用した場合について説明したが、この発
明は、その他の各種の感光材料を使用する感光材料処理
装置にも適用することが可能である。

【００５４】

【発明の効果】この発明に係る感光材料処理装置によれ
ば、乾燥部から空間現像部に至る温風の循環経路を形成
することにより乾燥部で発生した温風を空間現像部に案
内する位置と、循環経路を遮断することにより空間現像
部への温風の進入を規制する位置とを切り替え可能な温
風案内手段を備えることから、必要に応じ空間現像部に
温風を循環させることにより、空間現像部を搬送される
感光材料およびそこに塗布された処理液の温度が低下す
ることを防止することができ、これにより感光材料に処
理むら等が発生することを防止することが可能となる。

【００５５】このとき、空間現像部を加熱するために特
別にヒータ等を設置する必要がないので、装置を簡易な
ものとすることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】平版印刷版の製版装置の概要図である。

【図２】現像処理装置３の概要図である。

【図３】現像処理装置３の配管系を示す概要図である。

【図４】現像液塗布機構４３を示す概要図である。

【図５】安定液塗布機構７３を示す概要図である。

【図６】温風案内板１６０が閉鎖位置にある状態を示す
概要図である。

【図７】温風案内板１６０が開放位置にある状態を示す
概要図である。

【図８】温風案内板１６０が閉鎖位置にある状態を示す
概要図である。

【図９】温風案内板１６０が開放位置にある状態を示す
概要図である。

【符号の説明】

２ 露光装置 ３ 現像処理装置 ３２ 現像部 ３３ 安定部 ３４ 乾燥部 ４１ 加熱ローラ ４２ 押圧ローラ ４３ 現像液塗布機構 １２２ 現像液供給管 １２５ 塗布ローラ １２８ バックアップローラ １６０ 温風案内板 １６１ 軸 １６２ 通気孔

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 川口 靖弘 滋賀県彦根市高宮町480番地の１ 大日本 スクリーン製造株式会社彦根地区事業所内 (72)発明者 福原 文人 滋賀県彦根市高宮町480番地の１ 大日本 スクリーン製造株式会社彦根地区事業所内

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 搬送手段によって搬送される感光材料に
   処理液を塗布する処理液塗布部と、 処理液が塗布された感光材料を搬送することにより当該
   感光材料を現像処理する空間現像部と、 ヒータとファンとを有し感光材料を温風により乾燥する
   乾燥部と、 前記乾燥部から前記空間現像部に至る温風の循環経路を
   形成することにより前記乾燥部で発生した温風を前記空
   間現像部に案内する位置と、前記循環経路を遮断するこ
   とにより前記空間現像部への温風の進入を規制する位置
   とを切り替え可能な温風案内手段と、 を備えたことを特徴とする感光材料処理装置。