JPS5877027A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPS5877027A JPS5877027A JP56175304A JP17530481A JPS5877027A JP S5877027 A JPS5877027 A JP S5877027A JP 56175304 A JP56175304 A JP 56175304A JP 17530481 A JP17530481 A JP 17530481A JP S5877027 A JPS5877027 A JP S5877027A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
- G11B5/7368—Non-polymeric layer under the lowermost magnetic recording layer
- G11B5/7373—Non-magnetic single underlayer comprising chromium
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
■ 発明の背景
A a術分野
本発明は磁気記録媒体に関する。 更に詳しくは、特に
1例えば、Co−P系またはCo−N1−P系等のスパ
ッタ薄膜などの気相被着薄膜を磁性層とする連続薄膜形
の磁気記録媒体に関する。
1例えば、Co−P系またはCo−N1−P系等のスパ
ッタ薄膜などの気相被着薄膜を磁性層とする連続薄膜形
の磁気記録媒体に関する。
B 先行技術 ・
近都、金属磁性薄膜を磁性層とすや連続薄膜形の磁気記
録媒体が注目を集めている。
録媒体が注目を集めている。
このような連続薄膜形の磁気記録媒体の磁性層としては
種々のものがある。
種々のものがある。
磁性層の1つとしてCo−Pないし、Co−N1−P系
薄膜を例にとって説明すると、従来、この薄膜は、鍍金
法によって作製されている。
薄膜を例にとって説明すると、従来、この薄膜は、鍍金
法によって作製されている。
しかし、これら鍍金法によるときには、先ず、薄膜の基
体に対する接着性と、膜の機械的強度とが低く、磁気ヘ
ッドとの摺接により、薄膜の摩札剥離が生じ、磁気特性
の経時変化を生じるという欠点がある。 また、磁性薄
膜の表面性が悪く、’?iK高域での出力が低下すると
いう欠点もある。
体に対する接着性と、膜の機械的強度とが低く、磁気ヘ
ッドとの摺接により、薄膜の摩札剥離が生じ、磁気特性
の経時変化を生じるという欠点がある。 また、磁性薄
膜の表面性が悪く、’?iK高域での出力が低下すると
いう欠点もある。
更には、鍍金浴に存在するアル′カリ金属イオン、酸、
塩基等が、薄膜中に混入し、この混入不純物により、薄
膜の磁気特性が経時劣化してしまった 。
塩基等が、薄膜中に混入し、この混入不純物により、薄
膜の磁気特性が経時劣化してしまった 。
す、場合によっては、磁気ヘッドを腐食するなど゛の不
都合もある。 加えて、その原因は明白でないが、%k
、オーディオ用テープに適用するとき、3m−3H2に
おける第3次高調波に対する歪が大きく、実用上問題と
なっている。
都合もある。 加えて、その原因は明白でないが、%k
、オーディオ用テープに適用するとき、3m−3H2に
おける第3次高調波に対する歪が大きく、実用上問題と
なっている。
このような実状に鑑み、本発明者らは、先に、Co−P
系ないしCo −Ni−P系の薄膜磁性層をスパッタリ
ングにより形成した磁気記録媒体についての提案を行な
っている。 このように磁性層をスパッタリングにより
形成すると、良好な磁気特性を示し、磁性層薄膜の機械
的強度と接着強度は鍍金法によるときよりも格段と高く
、又そ、の表面性も良好となるとともに、更にこれらに
加え、高温高湿下での長期保存の際の磁気特性の経時変
化もきわめて小さく、又333Hzにおける第3次高調
波に対する歪もきわめて小さい。
系ないしCo −Ni−P系の薄膜磁性層をスパッタリ
ングにより形成した磁気記録媒体についての提案を行な
っている。 このように磁性層をスパッタリングにより
形成すると、良好な磁気特性を示し、磁性層薄膜の機械
的強度と接着強度は鍍金法によるときよりも格段と高く
、又そ、の表面性も良好となるとともに、更にこれらに
加え、高温高湿下での長期保存の際の磁気特性の経時変
化もきわめて小さく、又333Hzにおける第3次高調
波に対する歪もきわめて小さい。
しかし、このようなスパッタ薄膜磁性層をもつ磁気記録
媒体にも以下のような欠点がある。
媒体にも以下のような欠点がある。
まず、磁性層スパッタ薄膜の膜厚がバラつく。
これはスパッタ条件を厳密に維持しても生じるものであ
り、特に長尺の基体上に連続的にスノくツタリングを行
なうようなとき、゛このノ(うつきは無視できなくなり
、テープ等の出力変動の原因となる。
り、特に長尺の基体上に連続的にスノくツタリングを行
なうようなとき、゛このノ(うつきは無視できなくなり
、テープ等の出力変動の原因となる。
また、前記のように、磁性−表面の表面性は改善される
ものであるが、表面性は未に十分とはい先ず、ヘッドタ
ッチが悪く、高域の出力が低い。
ものであるが、表面性は未に十分とはい先ず、ヘッドタ
ッチが悪く、高域の出力が低い。
さらに、特に高分子成形物からなる可撓性基体を用いる
磁気テープでは、機械的強度、特に負荷を加えた後の残
留伸びの点で満足できない。
磁気テープでは、機械的強度、特に負荷を加えた後の残
留伸びの点で満足できない。
また、可撓性基体と磁性層との接猜性についても、必ず
しも十分でなく、多数回の走行により、磁性層の接着劣
化にもとづくと思われる。出力低下があられれる。
しも十分でなく、多数回の走行により、磁性層の接着劣
化にもとづくと思われる。出力低下があられれる。
加えて、スパッタ薄膜を磁性層とするときKG気そのB
Hループを測定すると、績磁曲線上郷に、2つ以上の変
曲点があられれ、その微分曲線(dB/dH) に極
大値が2つ以上出現することがあムそして、このような
現象は連続スパッタに際しランダ五に生起し、テープ等
の媒体に対する適正バイアスの決定が複雑となってしま
5゜ また、保磁力も、さらに高いものとすれば、より一層望
ましいものとなる。
Hループを測定すると、績磁曲線上郷に、2つ以上の変
曲点があられれ、その微分曲線(dB/dH) に極
大値が2つ以上出現することがあムそして、このような
現象は連続スパッタに際しランダ五に生起し、テープ等
の媒体に対する適正バイアスの決定が複雑となってしま
5゜ また、保磁力も、さらに高いものとすれば、より一層望
ましいものとなる。
これに対し、このような磁性層と可撓性基体との関に、
金属等の下地層を形成すれば1以上のような各種不一−
金等は改善されるものと考えられム本発明者らの実験に
よれば、実際、°クロム、アルミニウム等の下地層を可
撓性基体上に設層することにより、上記した改善すべき
各特性が向上することが判明している。
金属等の下地層を形成すれば1以上のような各種不一−
金等は改善されるものと考えられム本発明者らの実験に
よれば、実際、°クロム、アルミニウム等の下地層を可
撓性基体上に設層することにより、上記した改善すべき
各特性が向上することが判明している。
しかし、これら61%性の向上は必ずしも十分ではなく
、特性上置も良好な部類に属するりpム、アルミニウム
等の下地層を用いるときにも、膜厚のバラツキ、表面性
、接着性、 BHルーズの変形等において、より一層の
敗良が望まれる。
、特性上置も良好な部類に属するりpム、アルミニウム
等の下地層を用いるときにも、膜厚のバラツキ、表面性
、接着性、 BHルーズの変形等において、より一層の
敗良が望まれる。
なお、以上では、Co−PないしCo−N1−P系のス
パッタ薄膜を例にとって説明したが、他の組成の薄膜、
あ−るいは蒸着等によって形成した薄膜についても、上
記した緒特性がより一層向上する新規な下地層の開発が
望まれている。
パッタ薄膜を例にとって説明したが、他の組成の薄膜、
あ−るいは蒸着等によって形成した薄膜についても、上
記した緒特性がより一層向上する新規な下地層の開発が
望まれている。
■ 発明の目的
本発明はこのような実状に鑑みなされたものであって、
新規な下地層を用いることにより、磁性層膜厚が均!で
あり、またへラドタッチが良好であり、さらにi械的強
変が高く、しかも接着性が各特性ともきわめて良好な磁
気記録媒体を提供することを主たる目的とする。
新規な下地層を用いることにより、磁性層膜厚が均!で
あり、またへラドタッチが良好であり、さらにi械的強
変が高く、しかも接着性が各特性ともきわめて良好な磁
気記録媒体を提供することを主たる目的とする。
本発明者らは、このような目的を達成する新規な下地層
組成を見出すべく鋭意研究を重ね、本発明をなすに至っ
たものである。
組成を見出すべく鋭意研究を重ね、本発明をなすに至っ
たものである。
すなわち本発明は、可撓性基体上に、下地層を有し、当
該下地層上に、薄膜磁性層を有する磁気記録媒体におい
て、上記下地層がクロム合金から形成されてなることを
特徴とする磁気記録媒体である。
該下地層上に、薄膜磁性層を有する磁気記録媒体におい
て、上記下地層がクロム合金から形成されてなることを
特徴とする磁気記録媒体である。
■ 発明の具体的構成
以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。
本発明において用いる基体は、非磁性のものであり、可
撓性基体、4IKポリエステル、ポリイミド、ポリアミ
ド等の高分子成形物からなるものであることが好ましい
。
撓性基体、4IKポリエステル、ポリイミド、ポリアミ
ド等の高分子成形物からなるものであることが好ましい
。
本発明においては、このような基体上に、クロム合金か
らなる下地層を設層する。
らなる下地層を設層する。
この場合、クロム合金としては、りiムを含有する各種
合金を用いることができる; これらのうちで、特に好適なものとしては、Mo。
合金を用いることができる; これらのうちで、特に好適なものとしては、Mo。
Ti、Fe%Co およびN1の5ちの少なくとも1
種を、好ましくはfiQvt%以下、より好ましくはα
1〜60wt%、さらに好ましくは1〜50wt%含む
ものを挙げることができる。
種を、好ましくはfiQvt%以下、より好ましくはα
1〜60wt%、さらに好ましくは1〜50wt%含む
ものを挙げることができる。
なお、このような下地層は、通常、50〜5000A程
度の厚さとされる。
度の厚さとされる。
また、その形成法としては、真空蒸着、スパッタリング
、イオンブレーティング、メッキ等種々の方法いずれに
よってもよいが、特に、スパッタリングを用いるのが好
適である。
、イオンブレーティング、メッキ等種々の方法いずれに
よってもよいが、特に、スパッタリングを用いるのが好
適である。
このような下地層上には磁性層が設層される。
磁性層としては、種々の組成をもち、蒸着、イオンブレ
ーティング、スパッタリング等種々の気相被着法で形成
したものを用いてもよいが、本発明の効果がきわめて顕
著に発揮されるといさ点において、4IKスパツタ薄膜
である。ことが好ましい。
ーティング、スパッタリング等種々の気相被着法で形成
したものを用いてもよいが、本発明の効果がきわめて顕
著に発揮されるといさ点において、4IKスパツタ薄膜
である。ことが好ましい。
この場合、スパッタ薄膜は、Co−Nj系やC。
−Re系等種々のものであってよい。8 たり、前記し
た緒特性がより一層向上する点で、Co−PまたはCo
−Ni−P系合金からなることが好ましい。
た緒特性がより一層向上する点で、Co−PまたはCo
−Ni−P系合金からなることが好ましい。
そして、(CO□。。−一、)loo−yPy と表わ
したとき、xlすなわちCo/(Co+Ni )重量比
は0〜35重量%であることが好ましい。 Xが35重
量%を超えると、磁気特性、特に保持力Hcが低下して
しまうからである。 この場合、保磁力Hcの点で、X
が0〜30 重量5、特に0〜28重量%であれば、よ
り好ましい結果を得る。
したとき、xlすなわちCo/(Co+Ni )重量比
は0〜35重量%であることが好ましい。 Xが35重
量%を超えると、磁気特性、特に保持力Hcが低下して
しまうからである。 この場合、保磁力Hcの点で、X
が0〜30 重量5、特に0〜28重量%であれば、よ
り好ましい結果を得る。
一方、y、すなわちP含量は、0より大で、6重量5以
下であることが好ましい。 6重量%を超えると、やは
り磁気特性、特に保磁力Hcが低下してしま5゜ この
場合、保磁力Hcの点で)Lyが1〜6重量%、より好
ましく1.5〜5.5重量%であれば、好ましい結果を
得る。
下であることが好ましい。 6重量%を超えると、やは
り磁気特性、特に保磁力Hcが低下してしま5゜ この
場合、保磁力Hcの点で)Lyが1〜6重量%、より好
ましく1.5〜5.5重量%であれば、好ましい結果を
得る。
なお、以上のよ5な組成において、薄膜中に鳳更に第4
成分として、例えばCo、 Ni 以外の他の遷移金
属元素等、例えばFe、 Cr、 Mn、 M。
成分として、例えばCo、 Ni 以外の他の遷移金
属元素等、例えばFe、 Cr、 Mn、 M。
などの1種以上が、全体の10重量弊以下の範囲で含有
されていてもよい。 。
されていてもよい。 。
このような磁性層薄膜の厚さkついては、%に制限はな
く、磁気記録媒体がアナログ記録を行な5ものであるか
、ディジタル記録な行なうものであるか、あるいはどの
ような用途に用いるか等に応じ、種々の厚さとすればよ
い゛。 ただ、通常は、5ooX〜数μm程度の厚さの
連続薄膜として、可撓性基体上に形成されるものである
。
く、磁気記録媒体がアナログ記録を行な5ものであるか
、ディジタル記録な行なうものであるか、あるいはどの
ような用途に用いるか等に応じ、種々の厚さとすればよ
い゛。 ただ、通常は、5ooX〜数μm程度の厚さの
連続薄膜として、可撓性基体上に形成されるものである
。
このよさな箪発BAにおける磁性層薄膜は、最も好まし
い態様においては、上記の基体上に1スパツタリングに
よって被着形成される。
い態様においては、上記の基体上に1スパツタリングに
よって被着形成される。
用いるスパッタリングとしては、いわゆるRFスパッタ
であっても、又いわゆるDCスパッタであってもよく、
その装置構成も2極、4極弊いずれであってもよい。
更には、いわゆるマグネトロンスパッタを用いてもよく
、又場合によってGLP等を流しながら行なう、(・ゎ
ゆる反応性スパッタによることもできる。
であっても、又いわゆるDCスパッタであってもよく、
その装置構成も2極、4極弊いずれであってもよい。
更には、いわゆるマグネトロンスパッタを用いてもよく
、又場合によってGLP等を流しながら行なう、(・ゎ
ゆる反応性スパッタによることもできる。
用いるターゲットとしては、通常の場合は、上記磁性層
組成に対応する焼結体等を即いればよい。
組成に対応する焼結体等を即いればよい。
一方、衝撃イオンのイオン源としては、通常、Ar、
Kr、 Xe 等の不活性ガスを用いればよい。
Kr、 Xe 等の不活性ガスを用いればよい。
そして、これらの不活性ガスは、動作時において、2
X 10−” Torr 以上)圧力に維持すること
が好ましい。 このような圧力未満では、得られる薄膜
の磁気特性、特に保磁力Hcが低下してしまうからであ
る。 一方、動作時の圧力を上げれば、スパッタレート
は低下してしまう。 このため、動作時の圧力は、一般
に 5 X 10’−”〜2 X IQ−” Torr
程度とすることが好ましい。
X 10−” Torr 以上)圧力に維持すること
が好ましい。 このような圧力未満では、得られる薄膜
の磁気特性、特に保磁力Hcが低下してしまうからであ
る。 一方、動作時の圧力を上げれば、スパッタレート
は低下してしまう。 このため、動作時の圧力は、一般
に 5 X 10’−”〜2 X IQ−” Torr
程度とすることが好ましい。
なお、プレート電圧、プレート電流、極間間隙等には特
別の制限はなく、これらは、条件に応じ、任意の値に設
定することができる。
別の制限はなく、これらは、条件に応じ、任意の値に設
定することができる。
なお、とのよ5kして形成される゛磁性薄膜上には、必
要に応じ、保護層が設層される。
要に応じ、保護層が設層される。
このような本発明の磁気記録媒体は、アナログないしデ
ィジタルの磁気記録を行なう、各種磁気テープ、磁気デ
ィスク、磁気ドラム、磁気シート、磁気スクール、磁気
スクール等として、有用であるが、特に磁気テープとし
て好適である。
ィジタルの磁気記録を行なう、各種磁気テープ、磁気デ
ィスク、磁気ドラム、磁気シート、磁気スクール、磁気
スクール等として、有用であるが、特に磁気テープとし
て好適である。
■ 発明の具体的効果
本発明によれば、磁性層の膜厚のバラツキがきわめて少
なく、テープ等の出力変動がきわめて小さい。
なく、テープ等の出力変動がきわめて小さい。
また、磁性層表面の表面性が良好であり、ヘッドタッチ
が向上し、高域の出力が高い。
が向上し、高域の出力が高い。
さらに、負荷後の残留伸びは小さく、テープの機械的強
度が高い。
度が高い。
また、磁性層の接着強度もきわめて高い。
加えて、BHルーズの減磁曲線上に2つ以上の変曲点が
生じることも少なく、また保磁力も為い。
生じることも少なく、また保磁力も為い。
この場合、他の金属ないし合金からなる下地層を用いる
ときと比較して、接着性、特にそのテープ走行による劣
化はきわめて小さい。
ときと比較して、接着性、特にそのテープ走行による劣
化はきわめて小さい。
そして、磁性層をスパッタ薄膜から形成するときには、
他の金属ないし合金からなる下地層を用いるときと比較
して、上記接着性の向上の他、BHルーズの変形かはと
んとなくなる。
他の金属ないし合金からなる下地層を用いるときと比較
して、上記接着性の向上の他、BHルーズの変形かはと
んとなくなる。
さらに、スパッタ薄膜をCo−P またはCo−N1−
P系のものとしたときには、締着性の向上と、BH−x
−プ変形の発生の減少とに加え、膜厚が均一化して、出
力変動中がきわめて小さくなり、また表面性が良好とな
り、高域出方が格段と高くなり、さらKは保磁力も高く
なる。
P系のものとしたときには、締着性の向上と、BH−x
−プ変形の発生の減少とに加え、膜厚が均一化して、出
力変動中がきわめて小さくなり、また表面性が良好とな
り、高域出方が格段と高くなり、さらKは保磁力も高く
なる。
■実験例
本発明者らは、本発明あ効果を確認するため種々実験を
行なった。 以下にその1例を示す。
行なった。 以下にその1例を示す。
実験例 l
可撓性基体とし′て、連続長尺の9μm厚のポリエチレ
ンテレフタレートフィルムを14 種類用意した。
ンテレフタレートフィルムを14 種類用意した。
この14種類の基体′f)うち、一つは、何ら下地層を
形成せず、また、2種には、表IK示されるように、本
発明に従い、それぞれ、Cr −25wt%Fe −1
5wt%MoおよびCr−15wt%re−10wt%
Co−15wt%Moからなる下地層を形成し九さらに
、残り11種には、比較のため、−1k示されるように
、それぞれ、Cr、 Ag、 Cu、 Sn。
形成せず、また、2種には、表IK示されるように、本
発明に従い、それぞれ、Cr −25wt%Fe −1
5wt%MoおよびCr−15wt%re−10wt%
Co−15wt%Moからなる下地層を形成し九さらに
、残り11種には、比較のため、−1k示されるように
、それぞれ、Cr、 Ag、 Cu、 Sn。
AI、 Mo&Zn、 Ni、 Ti、 Cu−Be合
金および5tJS 304 からなる下地層を形成した
。
金および5tJS 304 からなる下地層を形成した
。
各下地層の形成は、DCスパッタリングにより行なった
。
。
この場合、ターゲットとしては対応する金属ないし合金
を用い、プレート電圧2KV、投入電力1−8 W/j
と゛し、衝撃イオンとしてはアルゴンを用い、動作ア
ルゴン圧は、7 x 10−”Torr IK 維持
した。 基体を連続的に走行さす、各下地層厚がそれぞ
れ1000 Aとなるようにした。
を用い、プレート電圧2KV、投入電力1−8 W/j
と゛し、衝撃イオンとしてはアルゴンを用い、動作ア
ルゴン圧は、7 x 10−”Torr IK 維持
した。 基体を連続的に走行さす、各下地層厚がそれぞ
れ1000 Aとなるようにした。
次いで、これら14種の基体フィルムに、Co−Ni
−P 磁性層を形成した。 磁性層の形成は、やはり
、DCスパッタリングにより行なった。
−P 磁性層を形成した。 磁性層の形成は、やはり
、DCスパッタリングにより行なった。
この場合、ターゲットとしては、(coo、85” 0
.15J 96P4 組成となるように作製した焼結体
を用いた。 また、下地層におけると同様プレート電圧
は2KV、投入電圧は1−8W/j、動作アルゴン圧は
7 x 10−” Torrとした。 上記のように
下地層を形成した14種の一体を連続的に走行させ、各
基体上に、3500λ厚の上記組成のC。
.15J 96P4 組成となるように作製した焼結体
を用いた。 また、下地層におけると同様プレート電圧
は2KV、投入電圧は1−8W/j、動作アルゴン圧は
7 x 10−” Torrとした。 上記のように
下地層を形成した14種の一体を連続的に走行させ、各
基体上に、3500λ厚の上記組成のC。
−Ni −P@@磁性層を形成した。
次に、これらそれぞれを、&81−一にスリットし、常
法に従い、C−120カセツトテープとした。
法に従い、C−120カセツトテープとした。
このように形成した14種の媒体につき、各種特性を評
価した。
価した。
測定された各媒体の保磁力Hcを、下記表1に示す。
次に、これら各媒体テープk、8 KHz、 OdBの
シグナルを記録した後、再生しくテープ速度4、76
ts/sec )、C−12Of−プでの出力変動中(
Vυ)を測定し、主として磁性層膜厚のバラツキに起因
する出力変動の大小を評価した。 結果を表1に示す。
シグナルを記録した後、再生しくテープ速度4、76
ts/sec )、C−12Of−プでの出力変動中(
Vυ)を測定し、主として磁性層膜厚のバラツキに起因
する出力変動の大小を評価した。 結果を表1に示す。
また、主として、表面性の何頭によって生じるヘッドタ
ッチを評価するため、14KHzMOL を測定した。
ッチを評価するため、14KHzMOL を測定した。
結果を表1に示す。
次いで、テープ強度を評価するため、各媒体を1例表に
裁断し、その一端を固定してつるし、他端に200 f
の荷重を1分間かけ、その後の伸びを測定した。 この
よ5kして測定した残留伸び(妬)を、表1に示す。
裁断し、その一端を固定してつるし、他端に200 f
の荷重を1分間かけ、その後の伸びを測定した。 この
よ5kして測定した残留伸び(妬)を、表1に示す。
これとは別に、磁性層の接着性を評価するため、各媒体
カセットテープに記録を行なった後、1℃相相対変60
%にて、4.76 cm/secの走行を500回行な
い、その後再生して、5dB以下のレベル低下が何回あ
るかを測定した。 接着の劣化結果を表1に示す。
カセットテープに記録を行なった後、1℃相相対変60
%にて、4.76 cm/secの走行を500回行な
い、その後再生して、5dB以下のレベル低下が何回あ
るかを測定した。 接着の劣化結果を表1に示す。
さらに、これらとは別に%C−120テープ1巻(17
8m)につき、2惰おきに90箇所サンプリングして、
そのBHループを測定し、BHルーズの減磁曲線に2つ
以上の変曲点があられれる変形箇所の数を測定した。
結果を表1に示す。
8m)につき、2惰おきに90箇所サンプリングして、
そのBHループを測定し、BHルーズの減磁曲線に2つ
以上の変曲点があられれる変形箇所の数を測定した。
結果を表1に示す。
表1に宗される結果から、本発明の媒体は、他の下地層
を設けるときと比較して、保磁力、膜厚のバラツキにも
とづく出力変動中、表両性にもとづくヘッドタッチ、残
留のび、接着性、およびBHルーズの変形の発生におい
て、すべての特性とも最もすぐれた値を示すことがわか
る。
を設けるときと比較して、保磁力、膜厚のバラツキにも
とづく出力変動中、表両性にもとづくヘッドタッチ、残
留のび、接着性、およびBHルーズの変形の発生におい
て、すべての特性とも最もすぐれた値を示すことがわか
る。
なお、上記各媒体につき、磁性層上に、ポリ塩化7ビニ
リデンとテクリル酸エステルに1グリセリンモノステア
レートを含有させた保護層を、0.3μ惰厚にて設層し
−たところ、表1と#tP1同等の結果を得た。
リデンとテクリル酸エステルに1グリセリンモノステア
レートを含有させた保護層を、0.3μ惰厚にて設層し
−たところ、表1と#tP1同等の結果を得た。
実験例 2
磁性層組成と、下地層組成とを、下記表2に示されるよ
5kかえた他は、実験例1と全く同様に各媒体を作製し
、実験例1における各特性を評価した。
5kかえた他は、実験例1と全く同様に各媒体を作製し
、実験例1における各特性を評価した。
表2に示される結果から、本発明の効果が明らかである
。
。
Claims (1)
- 可撓性基体上に、下地層を有し、当該下地層上に、薄膜
磁性層を有する磁気記録媒体において、上記下地層がり
pム合金から形成されてなることを特徴とする磁気記録
媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56175304A JPS5877027A (ja) | 1981-10-31 | 1981-10-31 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56175304A JPS5877027A (ja) | 1981-10-31 | 1981-10-31 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5877027A true JPS5877027A (ja) | 1983-05-10 |
Family
ID=15993752
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56175304A Pending JPS5877027A (ja) | 1981-10-31 | 1981-10-31 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5877027A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63102033A (ja) * | 1986-10-17 | 1988-05-06 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS63142515A (ja) * | 1986-12-03 | 1988-06-14 | Konica Corp | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
| JPH09190622A (ja) * | 1997-01-14 | 1997-07-22 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体 |
-
1981
- 1981-10-31 JP JP56175304A patent/JPS5877027A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63102033A (ja) * | 1986-10-17 | 1988-05-06 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS63142515A (ja) * | 1986-12-03 | 1988-06-14 | Konica Corp | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
| JPH09190622A (ja) * | 1997-01-14 | 1997-07-22 | Toshiba Corp | 磁気記録媒体 |
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