JPS5877028A - 磁気記録媒体 - Google Patents

磁気記録媒体

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Publication number
JPS5877028A
JPS5877028A JP56175305A JP17530581A JPS5877028A JP S5877028 A JPS5877028 A JP S5877028A JP 56175305 A JP56175305 A JP 56175305A JP 17530581 A JP17530581 A JP 17530581A JP S5877028 A JPS5877028 A JP S5877028A
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JP
Japan
Prior art keywords
magnetic
thin film
magnetic layer
sputtering
layer
Prior art date
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Pending
Application number
JP56175305A
Other languages
English (en)
Inventor
Osamu Kawamoto
修 河本
Takahiro Yamamoto
隆洋 山本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TDK Corp
Original Assignee
TDK Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by TDK Corp filed Critical TDK Corp
Priority to JP56175305A priority Critical patent/JPS5877028A/ja
Publication of JPS5877028A publication Critical patent/JPS5877028A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
    • G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
    • G11B5/7368—Non-polymeric layer under the lowermost magnetic recording layer

Landscapes

  • Magnetic Record Carriers (AREA)
  • Thin Magnetic Films (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 l 発明の背景 A技術分野 本発明は磁気記録媒体に関する。 更に詳しくは、特に
、例えば、Co−P系またはC0−N1−P系等のスパ
ッタ薄膜などの気相被着薄膜を磁性層とする連−続薄膜
形の磁気記録媒体に関する。
B先行技術 近年、金属磁性薄膜を磁性層とする連続薄膜形の磁気記
録媒体が注目を集めている。
このような連続薄膜形の磁気記録媒体の磁性層としては
種々のものがある。
磁性層の1つとしてCo −Pないし、Co −Ni−
P系薄膜を例にとって説明すると、従来、この薄膜は、
鍍金法によって作製されている。
しかし、これらの鍍金法によるときKは、先ず、薄膜の
基体に対する接着性と、膜の機械的強度とが低く、磁気
ヘッドとの摺接により、薄膜の摩耗、剥離が生じ、磁気
特性の経時変化を生じるという欠点がある。 また、薄
膜の表面性がきわめて悪く、特に高域での出力が低下す
るという欠点もある。 更には鍍金浴に存在するアルカ
リ金属イオン、酸、塩基等が、薄膜中に混入し、この混
入不純物により、薄膜の磁気特性が経時劣化してしまっ
たり、場合によっては、磁気ヘッドを腐食するなどの不
都合もある。 加えて、その原因は明白でないが、特に
、オーディオ用テープに適用するとき、333HzKお
ける第3次高調波に対する歪が大きく、実用上問題とな
っている。
このような実状VC@み、本発明者らは、先に、Co 
−P系ないしGo −Ni = P系の薄膜磁性層をス
パッタリングにより形成した磁気記録媒体についての提
案を行っている。
このように磁性層をスパッタリングにより形成すると、
良好な磁気特性を示し、磁性層薄膜の機械的強度と接着
強度は鍍金法によるときよりも格段と高く、又その表面
性も良好となるとともに、更にこれらに加え、高温高湿
下での長期保存の際の磁気特性の経時変化もきわめて小
さく、又333 Hzにおける第3次高調波に対する歪
もきわめて小さい。
しかし、このようなスパッタ薄膜磁性層をもつ磁気記録
媒体にも以、下のような欠点がある。
まず、磁性層スパッタ薄膜の膜厚がバラつく。 これは
スパッタ条件を厳密に維持しても生じるものであり、%
に長尺の基体上に連続的にスパッタリングを行うような
とき、このバラつきは無視できなくなり、テープ等の出
力変動の原因となる。
また、前記のように、磁性層表面の表面性は改善される
ものであるが、表面性は末だ十分とはいえず、ヘッドタ
ッチが悪く、高域の出力が低い。
さらに、特に高分子成形物からなる可撓性基体を用いる
磁気テープでは、機械的強度、特に負荷を加えた後の残
留伸びの点で満足できない。
また、可撓性基体と磁性層との接着性についそも、必ず
しも十分でなく、多数回の走行により、磁性層の接着劣
化にもとすくと思われる出力低下があられれる。
加えて、スパッタ薄膜を磁性層とするときには、そのB
)Iループを測定すると、減磁曲線上等に、2つ以上の
変曲点があられれ、その微分曲線(dB/dH)K極太
値が2つ以上出現することがある。 そして、このよう
な現像は連続スパッタに際し、ランダムに生起、し、テ
ープ等の媒体に対する適正バイアスの決定が複雑となっ
てしまう。
また、保磁力も、さらに高いものとすれば、より一層望
ましいものとなる。
これに対し、このような磁性層と可撓性基体との間に、
今風等の下地層を形成すれば、以上のような各種不都合
等は改善されるものと考えられる。
本発明者らの実験によれば、実際、チタン、クロム、ア
ルミニウム等の下地層な可撓性基体上に設層することに
より、上記した改善すべき各特性が向上することが判明
している。
しかし、これら緒特性の向上は必ずしも十分ではなく、
特性上置も好ましい部類に楓すルチタン、クロム、アル
、ミニラム埠の下地層を用いるときKも、機械的強度、
特に残留伸び、あるいは接着性、さら(は膜厚のバラつ
き、表面性、BHループの変形等において、より一層の
改良が望゛まれる。
なお、以上では、Co −PないしCo −Ni −P
系のスパッタ薄膜を例にとって説明したが、他の組成の
薄膜、あるいは蒸着等圧よって形成した薄膜についても
、上記した緒特性がより一層向上する新規な下地層の開
発が望まれている。
■ 発明の目的 本発明は、このような実状に鑑みなされたものであって
、新規な下地層を用いることにより、磁性層膜厚が均一
であり、またへラドタッチが良好であり、さらに機械的
強度が高く、しかも接着性が良好で、加えて磁気特性が
良好で、総合的にみて各特性ともきわめて良好な磁気記
録媒体を提供することを主たる目的とする。
本発明者らは、このような目的を達成する新規な下地層
組成を見出すべく鋭意研究を重ね、本発明をなすに至っ
たものである。
すなわち本発明は、可撓性基体上に下地層を有し、当該
下地層上に、薄膜磁性層を有する磁気記録媒体において
、上記下地層がチタン合金から形成されてなることを特
徴とする磁気記録媒体である。
■ 発明の具体的構成 以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。 
 一 本発明において用いる基体は、非磁性のものであり、可
撓性基体、特にポリエステル、ポリイミド、ポリアミド
等の高分子成形物からなるものであることが好ま、しい
。
本発明においては、このような基体上に、チタン合金か
らなる下地層を設層する。
この場合、チタン合金としては、チタンを主成分とする
各種合金を用いることができる。
これらのうち、特に好適なものとしては、A/。
庵、V、CrおよびFeのうちの少なくとも1種を、好
ましくは4Qwt%以下、より好ましくは0.1〜4Q
wt%、さらに好ましくは1〜30wt%含む本のを挙
げることができる。
なお、このような下地層は、通常、50〜5000A程
度の厚さとされる。
また、その形成法としては真空蒸着、スパッタリング、
イオンブレーティング、メッキ等徨々の方法いずれによ
ってもよいが、特に、スパッタリングを用いるのが好適
である。
このような下地層上には磁性層が設層される。
磁性層としては、種々の組成をもち、蒸着、イオンプレ
ーディング、スパッタリング等積々の気相被着法で形成
したものを用いてもよいが、本発明の効果がきわめて顕
著に発揮されるという点において、特にスパッタ薄膜で
あることぐが好ましい。
この場合、スパッタ薄膜は、Co −Ni系や、Co 
−Re系等種々のものであってよい。ただ、前記した諸
効果がより一層向上する点で、C0−PまたはCo −
Ni −P系合金からなることが好ましい。
そして、(C0100−X”X ) 100−)/P)
rと表わしたとき、X、すなわちCo/(Co+Ni、
)重量比は0〜35重蓋%であることが好ましい。Xが
35重量%を超えると、磁気特性、特に保磁力Hcが低
下してしまうからである。  この場合、保磁力Heの
点で、Xが0〜30重量%、特に、0〜28重量%であ
れば、より好ましい結果を得る。
一方、y、すなわちP含量は、0より大で、6重f%以
下であることが好ましい。・ 6゛重量%を超えると、
やはり磁隼特性、特に保磁力Hcが低下してしまう。 
この場合、保磁力Hcの点では、yが1〜6重量%、よ
り好ましくは1.5〜5.5重量%であれば、好ましい
結果を得る。
なお、以上のような組成において、薄膜中には、東に第
4成分として、例えばC01Ni以外の他の遷移金属元
素1等、例えばFe%Cr、Mn、Moなどの1種以上
が、全体の10重量%以下の範囲で含有されていてもよ
い。
このような磁性層薄膜の厚さについては、特に制限はな
く、磁気記録媒体がアナログ記録を行うものであるか、
ディジタル記録を行うものであるか、あるいはどのよう
な用途か等に″応じ、種々の厚さとすればよい。 ただ
〜 通常は、500A〜数μ惰程度の厚さの連続薄膜として
、可撓性基体上に形成されるものである。
このような本発明における磁性層薄膜は、最も好ましい
態様においては、上記の基体上に、スパッタリングによ
って被着形成される。
用いるスパッタリングとしては、いわゆるRFスパッタ
であっても、又いわゆるDCスパッタであってもよく、
その装置構成も2極、4極等いずれであってもよい。 
更には、いわゆるマグネトロンスパッタを用いてもよく
、又場合によっては、P等を流しながら行う、いわゆる
反応性スパッタによることもできる。
用いるターゲットとしては、通常の場合は、上記組成の
Co −Ni −P焼芦体を用いればよ〜1゜ 一方、衝撃イオンのイオン源と七ては、通常、Ar、 
Kr、 Xe等の不活性ガスを用いればよい。 そして
、これらの不活性カスは、動作時において、2X10−
2Torr以上の圧力に維持することが好ましい。 こ
のような圧力未満では、得られる薄膜の磁気特性、%に
保磁力Hcが低下してしまうからである。 一方動作時
の圧力を上げれば、ス゛バッタレートは低下してしまう
。 このため、動作時の圧力は、一般に5 X 10 
”〜2XIQ ”Torr程度とすることが好ましい。
なお、プレート電圧、プレート電流、極間間隙等には特
別の制限はなく、これらは、条件に応じ、任意の値に設
定することができる。
なお、このようにして形成される磁性層薄膜上には、必
要に応じ、保護層が設層される。
このような本発明の磁気記録媒体は、アナログないしデ
ィジタルの磁気記録を行う、各種磁気テープ、磁気ディ
スク、磁気ドラム、磁気シー′ト、磁気カード、磁気ス
ケール等として、有用であるが、特に磁気テープとして
好適である。
■ 発明の具体的効果 本発明によれば、磁性層膜厚のバラツキがきわめて少な
く、テープ等の出力変動がきわめて小さい。
また、磁性層表面の表面性が良好であり、ヘッドタッチ
カ;向上し、高域の出力が高い。
さらに、負荷後の残留伸びは小さく、テープの機械的強
度が高い。
また、磁性層の接着残置もきわめて高い。
加えて、BHループの減磁曲線上に2つ以上の変曲点が
生じることも少なく、また保磁力も高い。
この場合、他の金属ないし合金からなる下地層を用いた
ときと比較すると、本発明の媒体は、接着性の走行によ
る劣化、残留伸びともきわめて小さい。
そして、磁性層をスパッタ薄膜から形成するときには、
他の金属ないし合金からなる下地層を用いるときと比較
して、上、記接着性および残留伸びの向上の他、BHル
ープの変形も格段と改良される。
さらに、スパッタ薄膜をCo −PまたはCo−Ni 
−P系のものとしたときKは、これら接着性、機械的強
度およびBHルーズの変形発生が格段と改良された上で
゛、さらに、膜厚が均一化して、出力変動中がきわめて
小さくなり、また表面性が良好となり、高域出力が格段
と高くなる。
■実験例 本発明者らは、本発明の効果を確認するための種々実験
を行った。 以下にその1例を示す。
実験例1゜ 可撓性基体として、連続長尺の9μ慨厚のポリエチレン
テレフタレ、−トフイルムヲ15種類用意した。
この15種類の基体のうち、一つ°は何ら下地層を形成
せず、また残りの3棟には、表1に示されるように、本
発明罠従い、それぞれ’ri −5wt%At−awt
%Mn 、 Ti −5wt%At−2wt%Cr −
1wt%Fe、および’rt−13wt% V −11
wt%Cr−3wt%Atからなる下地層を形成した。
 さらに、残りの1種には、比較のため、^1に示され
るように、それぞれ’f’i 、 At、 Cu、 S
n、 At、 MO,Zn、 Ni、Cr 、 Cu 
−Be合金および5US304からなる下地層を形成し
た。
各下地層の形成は、DCスパッタリングにより行った。
この場合、ターゲットとしては対応する金属ないし合金
を用い、プレート電圧2 KV、投入電力1.8W/、
、iとし、衝撃イオン°としてはアルゴンを用い、動作
アルゴン圧は、 7X10−2Torrに維持した。 
 基体を連続的に走行させ、各下地層厚がそれぞれ10
0OAとなるようにした。
次いで、これら15種の基体フィルムK。
Go −Ni −P磁性層を形成した。 磁性層の形成
は、やはり、DCスパッタリングにより行った。
この場合、ターゲットとし壬は7 (CoQ8BNiQ
16 ) we P、組成となるように作製した焼結体
を用いた。 また、下地層におけると同様、プレート電
圧は2KV、投入電圧は1.8W/m、動作アルゴン圧
は7X10  ”rorrとした。
上記のように下地層を形成した15種の基体を連続的に
走行させ、各基体上に、3500A厚の上記組成のCo
 −Ni −P薄膜磁性層を形成した。
次に、これらそれぞれを、3.81−幅にスリットし、
常法に従い、C−120カセツトテープとした・ □ このように形成した15穐の媒体につき、各種特性
を評価した。 測定された各媒体の保磁力Heを、下記
表IK示す。
次に、これら各媒体テープt、$K)iz、 od13
のシグナルを記録した後、再生しくテープ速度4.76
m/ sec )、C−120チーブテノ出力変 。
動巾(VU)を測定し、主として磁性層膜厚のバラツキ
に起因する出力変動の大小を評価した。 結果を表1に
示す。
また、主として、表面性の何頭によって生じるヘッドタ
ッチを評価方るため、14KHzMOLを測定した。 
結果を表1に示す。
次いで、テープ強度を評価するため、各媒体を1m表に
裁断し、その一端を固定してつるし、他端に、200t
の荷重を1分間かけ、その後の伸びを測定した。゛この
ようにして測定した残留伸′tX%)を、表1に示す。
これとは別に、磁性層の接着性を評価するため、各媒体
カセットテープに記録を行った後、25℃、相対湿度6
0%にて、4.76 cm/ seeの走行を500回
行い、その後再生して、5dB以下のレベル低下が何回
あるかを測定した。 結果を表1に示す。
さらに、これとは別に、C−120テ一プ1巻(17$
m)につき、2mおきに90箇所サンプリングして、そ
のBHループを測定し、BHルーズの減磁曲線に2つ以
上、の変曲点があられれる変形箇所の数を測定した。 
結果を表1に示す。
表1+に示される結果から、本発明の媒体は、他の下地
層を設けるときと比較して、保磁力、膜厚のバラつきに
もとづく出力変動中、表面性にもとづくヘッドタッチ、
さらに、残留のび、接着性およ”びBHルーズの変形の
発生において、各特性とも最もすぐれた値を示すことが
わかる。
なお、上記各媒体につき、磁性層上に、ポリ塩化ビニリ
デンとアクリル酸エステルに、グリセリンモ、ノステア
レートを含有させた保護層を0.3μ−厚にて設層した
と9ろ、表1とほぼ同等の結果を得た。
実験例2゜ 磁性層組、成と、下地層組成とを、下記表2に示される
ようにかえた他は、実験例1と全く同様に各種媒体を′
作製し、実験例1における各特性を評価した。
表1・に示される結果から、本発明の効果が明らかであ
る。
代理人  弁理り石 井 陽 −

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 可撓性基体上に下地層を有し、当該下地層上に、薄膜磁
    性層を有する磁気記録媒体において。 上記下地層がチタン合金から形成されてなることを%徴
    とする磁気記録媒体。
JP56175305A 1981-10-31 1981-10-31 磁気記録媒体 Pending JPS5877028A (ja)

Priority Applications (1)

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JP56175305A JPS5877028A (ja) 1981-10-31 1981-10-31 磁気記録媒体

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JP56175305A JPS5877028A (ja) 1981-10-31 1981-10-31 磁気記録媒体

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JPS5877028A true JPS5877028A (ja) 1983-05-10

Family

ID=15993769

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP56175305A Pending JPS5877028A (ja) 1981-10-31 1981-10-31 磁気記録媒体

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JP (1) JPS5877028A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63217525A (ja) * 1987-02-25 1988-09-09 コマッグ・インコーポレイテッド 磁気ディスク構造及びその製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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