JPS587973Y2 - 電子顕微鏡におけるビ−ム電流測定装置 - Google Patents
電子顕微鏡におけるビ−ム電流測定装置Info
- Publication number
- JPS587973Y2 JPS587973Y2 JP1976134032U JP13403276U JPS587973Y2 JP S587973 Y2 JPS587973 Y2 JP S587973Y2 JP 1976134032 U JP1976134032 U JP 1976134032U JP 13403276 U JP13403276 U JP 13403276U JP S587973 Y2 JPS587973 Y2 JP S587973Y2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample holder
- hole
- beam current
- electron beam
- aperture
- Prior art date
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- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は電子顕微鏡において試料を照射する電子ビーム
のビーム電流を測定する装置の改良に関するものである
。
のビーム電流を測定する装置の改良に関するものである
。
最近の電子顕微鏡においては応用分野の拡大がはかられ
、試料の形態観察の他に微小領域の構造解析及び元素分
析を可能とした分析電子顕微鏡が実用に供されている。
、試料の形態観察の他に微小領域の構造解析及び元素分
析を可能とした分析電子顕微鏡が実用に供されている。
しかして斯様に試料の分析を行う場合には試料を照射す
る電子ビームの単位面積当りのビーム電流を測定する必
要があり、そのために光軸と直交する方向から挿入され
る試料保持体にビーム電流測定装置（通常ファラデーケ
ージと呼ばれている）を組込み、試料保持体を移動させ
ることによって試料の観察（又は分析）とビーム電流測
定が行なわれるようになした装置が提案されている。
る電子ビームの単位面積当りのビーム電流を測定する必
要があり、そのために光軸と直交する方向から挿入され
る試料保持体にビーム電流測定装置（通常ファラデーケ
ージと呼ばれている）を組込み、試料保持体を移動させ
ることによって試料の観察（又は分析）とビーム電流測
定が行なわれるようになした装置が提案されている。
このとき前記ビーム電流測定装置においては測定すべき
ビーム電流の一部が反射電子及び二次電子となって逃げ
るのを防止するために検出部（電子ビームが照射される
部分）を微小径の絞り穴を有したマスクで包囲する構造
であり、又測定する電子ビームの径も数十μ程度の如き
微小なものである。
ビーム電流の一部が反射電子及び二次電子となって逃げ
るのを防止するために検出部（電子ビームが照射される
部分）を微小径の絞り穴を有したマスクで包囲する構造
であり、又測定する電子ビームの径も数十μ程度の如き
微小なものである。
従って電子ビームの中心をマスクの絞り穴の中心と一致
させて正確にビーム電流を測定するためには熟練を要す
ると共に多大な時間を費やす不都合が生ずる。
させて正確にビーム電流を測定するためには熟練を要す
ると共に多大な時間を費やす不都合が生ずる。
本考案は斯様な不都合を解決することのできる新規なビ
ーム電流測定装置を提供するもので、以下第１図及び第
２図に示した一実施例に基づき詳説する。
ーム電流測定装置を提供するもので、以下第１図及び第
２図に示した一実施例に基づき詳説する。
図において１は試料保持体で、該試料保持体はその長手
方向が光軸と直交するように鏡体側壁（図示せず）に固
定されており、又その先端（真空側）は対物レンズの上
、下磁極２ａと２ｂとの間に配置される。
方向が光軸と直交するように鏡体側壁（図示せず）に固
定されており、又その先端（真空側）は対物レンズの上
、下磁極２ａと２ｂとの間に配置される。
３は該試料保持体１に回転可能に保持された円形状の試
料ホルダーで、中央部に押しネジ４を介して試料５が保
持されており、又該試料ホルダーの外周にはＶ字状の溝
６が形威しである。
料ホルダーで、中央部に押しネジ４を介して試料５が保
持されており、又該試料ホルダーの外周にはＶ字状の溝
６が形威しである。
７は前記試料保持体１に回転可能に保持された回転体で
、該回転体の外周部７ａは絶縁物で形成され、試料保持
体１に対して電気的に絶縁されている。
、該回転体の外周部７ａは絶縁物で形成され、試料保持
体１に対して電気的に絶縁されている。
又該回転体の上部には電子ビームＥＢのビーム電流を測
定するための検出部８が設けてあり、更に該回転体に電
子ビームＥＢを通過させるための穴９が形成しである。
定するための検出部８が設けてあり、更に該回転体に電
子ビームＥＢを通過させるための穴９が形成しである。
前記検出部８は絞り穴１０を有したマスク１１によって
包囲されている。
包囲されている。
該絞り穴の中心と前記穴９の中心とは回転体７の回転中
心軸Ｏを中心にして等しい距離におがれている。
心軸Ｏを中心にして等しい距離におがれている。
前記回転体７の外周にはＶ字状の溝１２が形威しである
。
。
１３ａ及び１３ｂは弾性を有した棒体で、この棒体１３
ａ及び１３ｂは第２図にその状態を示すように前記回転
体７及び試料ホルダー３を間に挾んでこの回転体及び試
料ホルダーの溝１２及び６と夫々接触している。
ａ及び１３ｂは第２図にその状態を示すように前記回転
体７及び試料ホルダー３を間に挾んでこの回転体及び試
料ホルダーの溝１２及び６と夫々接触している。
又該両棒体の他端は図示はしないが前記試料保持体１に
保持され且つ逆ネジ等により互いに逆向きに移動する二
つの移動体（図示せず）に夫々取付けられている。
保持され且つ逆ネジ等により互いに逆向きに移動する二
つの移動体（図示せず）に夫々取付けられている。
従ってこの二つの移動体を互いに逆の方向に移動させる
と棒体１３ ａと１３ｂとが同様に互いに逆方向に移動
するため、接触部における偶力により回転体７及び試料
ホルダー３が回転する。
と棒体１３ ａと１３ｂとが同様に互いに逆方向に移動
するため、接触部における偶力により回転体７及び試料
ホルダー３が回転する。
１４は前記回転体７の上方におかれた絞り板で、試料保
持体１に取付けられている。
持体１に取付けられている。
又該絞り板には第１図にその状態を示すように前記回転
体に設けた穴９の中心と一致する絞り穴１５が形威しで
ある。
体に設けた穴９の中心と一致する絞り穴１５が形威しで
ある。
尚図示はしないが検出部８で検出されたビーム電流を外
部に設けられた電流計に導くためのリード線が設けであ
る。
部に設けられた電流計に導くためのリード線が設けであ
る。
而して今、第１図にその状態を示すように回転体７の穴
９と絞り板１４の絞り穴１５とを一致させた状態でこれ
ら回転体部分を電子ビーム通路上に配置すると、電子ビ
ームは絞り穴１５及び穴９を通過して結像レンズ系に入
射するため、螢光板上に絞り穴１５の像が投影される。
９と絞り板１４の絞り穴１５とを一致させた状態でこれ
ら回転体部分を電子ビーム通路上に配置すると、電子ビ
ームは絞り穴１５及び穴９を通過して結像レンズ系に入
射するため、螢光板上に絞り穴１５の像が投影される。
（このとき電子ビームの径が絞り穴１５よりも小さい場
合には絞り穴の像ではなくビームのスポット像となる。
合には絞り穴の像ではなくビームのスポット像となる。
）しかしてこの像を観察しながら試料保持体１を微動さ
せることによって螢光板の中心に像の中心を合致させる
。
せることによって螢光板の中心に像の中心を合致させる
。
これにより電子ビームの中心と穴９の中心とが一致した
ことになり、従ってこの状態において棒体１３ａ及び１
３ｂを互いに逆方向に移動させることにより回転体７を
１８０°回転させればマスク１１の絞り穴１０が絞り穴
１５の直下に位置するため、電子ビームの中心と絞り穴
１０の中心とが一致する。
ことになり、従ってこの状態において棒体１３ａ及び１
３ｂを互いに逆方向に移動させることにより回転体７を
１８０°回転させればマスク１１の絞り穴１０が絞り穴
１５の直下に位置するため、電子ビームの中心と絞り穴
１０の中心とが一致する。
その結果絞り穴１５を通過した電子ビームの全てが絞り
穴１０にカットされることなくマスク１１を通過して検
出部８に捕捉されるので、検出部８に流れるビーム電流
の値を絞り穴１５０面積で除算することにより、試料を
照射する電子ビームの単位面積当りのビーム電流値を測
定することができる。
穴１０にカットされることなくマスク１１を通過して検
出部８に捕捉されるので、検出部８に流れるビーム電流
の値を絞り穴１５０面積で除算することにより、試料を
照射する電子ビームの単位面積当りのビーム電流値を測
定することができる。
斯くすることにより本考案は電子ビーム中心に対するビ
ーム電流検出部におけるマスクの絞り穴中心の一致を極
めて容易に且つ正確に行なうことができる。
ーム電流検出部におけるマスクの絞り穴中心の一致を極
めて容易に且つ正確に行なうことができる。
又試料保持体を第１図中矢印Ｂ方向に移動させて試料ホ
ルダーを電子ビーム通路上に配置させればビーム電流測
定後直ちに試料の観察を行うことができる。
ルダーを電子ビーム通路上に配置させればビーム電流測
定後直ちに試料の観察を行うことができる。
尚前述の説明ではビーム電流検出部を回転させることに
よって電子ビーム通路上に位置させるように構成したが
、第３図で示すように傾動させてもよい。
よって電子ビーム通路上に位置させるように構成したが
、第３図で示すように傾動させてもよい。
第３図において１６は試料保持体１に傾斜軸１７を介し
て傾動可能に保持された導電性部材で（この部材がビー
ム電流を検出するための検出部となる。
て傾動可能に保持された導電性部材で（この部材がビー
ム電流を検出するための検出部となる。
）、該部材に電子ビームを通過させるための穴１８が形
威しである。
威しである。
該部材の上方には前記穴１８と一致する絞り穴１５を有
した絞り板１４が配置されている。
した絞り板１４が配置されている。
令弟３図に示すように部材１６を水平になした状態にお
いて電子ビームＥＢが絞り穴１５及び穴１８を通過する
ことを螢光板に投影される像により確認した後、部材１
６を第４図に示すように例えば４５°傾動させて穴１８
の内壁に電子ビームを衝突させることにより電子ビーム
を捕捉するように構成してもよい。
いて電子ビームＥＢが絞り穴１５及び穴１８を通過する
ことを螢光板に投影される像により確認した後、部材１
６を第４図に示すように例えば４５°傾動させて穴１８
の内壁に電子ビームを衝突させることにより電子ビーム
を捕捉するように構成してもよい。
前記穴１８の内壁に電子ビームが衝突することによって
生ずる反射電子及び二次電子を有効に捕捉するために穴
の内壁に空洞１９を形成してもよい。
生ずる反射電子及び二次電子を有効に捕捉するために穴
の内壁に空洞１９を形成してもよい。
第１図は本考案の一実施例を示す縦断面図、第２図は第
１図のＡ−Ａ断面図、第３図及び第４図は本考案の他の
実施例を示す縦断面図である。 第１図において １は試料保持体、２ａ及び２ｂは対物
レンズの上及び下磁極、３は試料ホルダー、５は試料、
６及び１２は溝、７は回転体、８はビーム電流の検出部
、９は穴、１１は絞り穴１０を有したマスク、１３ａ及
び１３ｂは棒体、１４は絞り穴１５を有した絞り板であ
る。
１図のＡ−Ａ断面図、第３図及び第４図は本考案の他の
実施例を示す縦断面図である。 第１図において １は試料保持体、２ａ及び２ｂは対物
レンズの上及び下磁極、３は試料ホルダー、５は試料、
６及び１２は溝、７は回転体、８はビーム電流の検出部
、９は穴、１１は絞り穴１０を有したマスク、１３ａ及
び１３ｂは棒体、１４は絞り穴１５を有した絞り板であ
る。
Claims (1)
- 試料ホルダーを支持する試料保持体と、該試料保持体を
レンズ光軸と垂直な方向へ移動させることによって前記
試料ホルダーをレンズ光軸上に位置させる手段とを備え
た装置において、前記試料保持体の前記試料ホルダー近
傍に絞りを設け、前記試料ホルダーの前記絞りの下方に
ビーム電流の検出部を有する部材を回転成いは傾動可能
に保持すると共に、前記部材に電子ビームを通過させる
ための穴を形成し、前記部材を外部がら回転成いは傾動
させるための手段を設けたことを特徴とする電子顕微鏡
におけるビーム電流測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1976134032U JPS587973Y2 (ja) | 1976-10-05 | 1976-10-05 | 電子顕微鏡におけるビ−ム電流測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1976134032U JPS587973Y2 (ja) | 1976-10-05 | 1976-10-05 | 電子顕微鏡におけるビ−ム電流測定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5351171U JPS5351171U (ja) | 1978-05-01 |
| JPS587973Y2 true JPS587973Y2 (ja) | 1983-02-12 |
Family
ID=28742984
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1976134032U Expired JPS587973Y2 (ja) | 1976-10-05 | 1976-10-05 | 電子顕微鏡におけるビ−ム電流測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS587973Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60260353A (ja) * | 1984-06-07 | 1985-12-23 | Oki Electric Ind Co Ltd | サ−マルヘツド |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5444537Y2 (ja) * | 1974-07-26 | 1979-12-21 | ||
| JPS5147363A (ja) * | 1974-10-21 | 1976-04-22 | Nippon Electron Optics Lab | |
| JPS529366A (en) * | 1975-07-11 | 1977-01-24 | Hitachi Ltd | Sample equipment for electron microscopes, etc |
-
1976
- 1976-10-05 JP JP1976134032U patent/JPS587973Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5351171U (ja) | 1978-05-01 |
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