JPS5892730U - 蒸着装置 - Google Patents

蒸着装置

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Publication number
JPS5892730U
JPS5892730U JP18822881U JP18822881U JPS5892730U JP S5892730 U JPS5892730 U JP S5892730U JP 18822881 U JP18822881 U JP 18822881U JP 18822881 U JP18822881 U JP 18822881U JP S5892730 U JPS5892730 U JP S5892730U
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JP
Japan
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vapor deposition
rotates
deposition equipment
semiconductor wafer
film thickness
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Pending
Application number
JP18822881U
Other languages
English (en)
Inventor
米沢 啓四郎
Original Assignee
日本電気ホームエレクトロニクス株式会社
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Publication date
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  • Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
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  • Electrodes Of Semiconductors (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は蒸着装置の概略を示す断面図、第2図及び第3
図は本考案の原理を説明するための説明図である。 20・・・・・・膜厚センサ、20a・・・・・・検出
面、21  。 ・・・・・・遮蔽板、23・・・・・・窓。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 半導体ウェーハを保持した状態で自転しながら公転する
    プラネタリウムを真空容器の内部上方に収納し、°ム空
    容−の内部下方に電子銃にて蒸着金属を飛散さすための
    装置を有する蒸着装置に於いて、半導体ウェーハ上に形
    成される蒸着膜の膜厚を測定する膜厚センサの下方に、
    所定の回転数で回転し、且つ当該膜厚センサの検出面と
    対向する窓を有する遮蔽板を配置したことを特徴とする
    蒸着装置。                    
       □−
JP18822881U 1981-12-16 1981-12-16 蒸着装置 Pending JPS5892730U (ja)

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JP18822881U JPS5892730U (ja) 1981-12-16 1981-12-16 蒸着装置

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JP18822881U JPS5892730U (ja) 1981-12-16 1981-12-16 蒸着装置

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JPS5892730U true JPS5892730U (ja) 1983-06-23

Family

ID=29991620

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