JPS5916367A - マルチトランジスタ - Google Patents
マルチトランジスタInfo
- Publication number
- JPS5916367A JPS5916367A JP57125541A JP12554182A JPS5916367A JP S5916367 A JPS5916367 A JP S5916367A JP 57125541 A JP57125541 A JP 57125541A JP 12554182 A JP12554182 A JP 12554182A JP S5916367 A JPS5916367 A JP S5916367A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- collector
- emitter
- base
- transistor
- region
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
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- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims description 16
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 241000272525 Anas platyrhynchos Species 0.000 description 1
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- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D84/00—Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers
- H10D84/60—Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers characterised by the integration of at least one component covered by groups H10D10/00 or H10D18/00, e.g. integration of BJTs
- H10D84/645—Combinations of only lateral BJTs
Landscapes
- Bipolar Transistors (AREA)
- Bipolar Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はトランジスタの構造に関するもので、特に、ベ
ース及びエミッタ、コレクタの引き出し用電極の構造に
特徴を有するマルチトランジスタの構造に関するもので
ある。
ース及びエミッタ、コレクタの引き出し用電極の構造に
特徴を有するマルチトランジスタの構造に関するもので
ある。
単一ノエミッターベースーコレクタ構造ではなく、複数
のエミッターペースを形成することによってトランジス
タの特性を向上させることが考えられている。この場合
にコレクタ埋込み層のない構造とするとコレクタ領域の
抵抗が大きくなるだめに、良好な伝達特性を得にくくな
る。従来、一般に用いられるマルチエミッタトランジス
タにおいては、複数の分離したベース拡散領域−それぞ
れエヤツタ拡散領域を形成し、それらのベース拡散領域
の下方にコレクタ埋込み層を形成したものが知られてい
る。これによって電流l特性の伸びを良くすることが考
えられている。
のエミッターペースを形成することによってトランジス
タの特性を向上させることが考えられている。この場合
にコレクタ埋込み層のない構造とするとコレクタ領域の
抵抗が大きくなるだめに、良好な伝達特性を得にくくな
る。従来、一般に用いられるマルチエミッタトランジス
タにおいては、複数の分離したベース拡散領域−それぞ
れエヤツタ拡散領域を形成し、それらのベース拡散領域
の下方にコレクタ埋込み層を形成したものが知られてい
る。これによって電流l特性の伸びを良くすることが考
えられている。
上記のように、埋込み層を用いることのできるマルチト
ランジスタにおいては、良好な伝達特性を得ることが可
nHとなるが、埋込み層の形成が容易なエピタキシアル
構造ではない、誘電体分離構造、SO8構造のようなト
ランジスタにおいては埋込み層の形成が困難となり、満
足(特性を得ることが難しくなる。
ランジスタにおいては、良好な伝達特性を得ることが可
nHとなるが、埋込み層の形成が容易なエピタキシアル
構造ではない、誘電体分離構造、SO8構造のようなト
ランジスタにおいては埋込み層の形成が困難となり、満
足(特性を得ることが難しくなる。
本発明は、上記のような問題を解決して、埋込み層のな
い構造においてマルチトラ、ンジスタの特性を向上させ
ることを目的とするものである。特に、薄噂トランジス
タとしで、誘電体分離、sog171J造に適したマル
チトランジスタを得ることを目的とする。
い構造においてマルチトラ、ンジスタの特性を向上させ
ることを目的とするものである。特に、薄噂トランジス
タとしで、誘電体分離、sog171J造に適したマル
チトランジスタを得ることを目的とする。
埋込み層を用いない誘暇゛体分ド准によるマルチトラン
ジ)りとして、ベース領域の周囲に高濃度層を形成して
これにコレクタ引出し用電極を接続するものが提案され
ている。本発明は、このような構造のマルチトランジス
タの構造の改良に関するものである。
ジ)りとして、ベース領域の周囲に高濃度層を形成して
これにコレクタ引出し用電極を接続するものが提案され
ている。本発明は、このような構造のマルチトランジス
タの構造の改良に関するものである。
不発ψ]によるマルチトランジスタは、複数のベース拡
散領域内にそれぞれエミッタ拡散領1.を形成するとと
もに、ベース拡散領域の周囲に高濃度に不純′吻がドー
プされたコレクタ引出し用の拡散層を形成した構造で、
ベース引出し用電極、コレクタ引出し用′成極、エミッ
タ引出し用電極に次のような特徴を有するものである。
散領域内にそれぞれエミッタ拡散領1.を形成するとと
もに、ベース拡散領域の周囲に高濃度に不純′吻がドー
プされたコレクタ引出し用の拡散層を形成した構造で、
ベース引出し用電極、コレクタ引出し用′成極、エミッ
タ引出し用電極に次のような特徴を有するものである。
第一に、ベース引出し用電臣を引き出す方向と、コレク
タ引出し用′成極及びエミッタ引出し用電極を引き出す
方向とが逆方向となっている点である。第二に、エミッ
タ引出し用厄甑は拡散抵抗領域の一端に接続され、他端
からまた引き出されるとともに、この拡散抵抗領域とコ
レクタ引出し用電極とが絶縁層を介して交差している点
である。
タ引出し用′成極及びエミッタ引出し用電極を引き出す
方向とが逆方向となっている点である。第二に、エミッ
タ引出し用厄甑は拡散抵抗領域の一端に接続され、他端
からまた引き出されるとともに、この拡散抵抗領域とコ
レクタ引出し用電極とが絶縁層を介して交差している点
である。
以下、図面に従りて、本発明の実施例につき説明する。
第1図は、本発明によるマルチトランジスタの一例を示
す平面図である。ある導電型のシリコン基板に複数の反
対導電型の拡散領域が形成されこれがベース領域11と
なる。したがって、このベース領域の周囲のある導′r
lf、型の基板はコレクタ領域12となる。ベース領域
11の中にある導電型の不純物を拡散した領域が形成さ
れてエミッタ領域13となる。ベース領域11を取り囲
むコレクタ領域には、ある導電型の不純物が高濃度にド
ープされたコレクタ引出し用拡散P!14が形成されて
いる。ベース領域11はそれぞれベース引出し用電極1
5にオーム性接続されて引き出される。
す平面図である。ある導電型のシリコン基板に複数の反
対導電型の拡散領域が形成されこれがベース領域11と
なる。したがって、このベース領域の周囲のある導′r
lf、型の基板はコレクタ領域12となる。ベース領域
11の中にある導電型の不純物を拡散した領域が形成さ
れてエミッタ領域13となる。ベース領域11を取り囲
むコレクタ領域には、ある導電型の不純物が高濃度にド
ープされたコレクタ引出し用拡散P!14が形成されて
いる。ベース領域11はそれぞれベース引出し用電極1
5にオーム性接続されて引き出される。
同様に、エミッタ領域1′5はエミッタ引出し用電極1
6に、コレクタ引出し用拡散層14はコレクタ引出し用
電極17に接続されている。
6に、コレクタ引出し用拡散層14はコレクタ引出し用
電極17に接続されている。
第2図は、第1図に示したマルチトランジスタのx−x
’断面図である。これで明らかなように、ある、半導体
基板に反対導電型の不純物がドープされた拡散領域を形
成してこれをベース領域11とし、次にベース領域内に
ある導電型の不純物がドープされてエミッタ頭載13が
拡散される。更にある導電型の不純物が高濃度にドーグ
されたコレクタ引出し用拡散層14が形成されて、同じ
基板の表面部分に複数のエミッタ、ベース、及びコレク
タを有するトランジスタが形成される。複数のエミッタ
、ベース、コレクタはそれぞれ、エミッタ引出し用電極
16、ベース引出し用電極15、コレクタ引出し用fF
L極17に接続されて同じイト号伝送路に接続されてい
る。
’断面図である。これで明らかなように、ある、半導体
基板に反対導電型の不純物がドープされた拡散領域を形
成してこれをベース領域11とし、次にベース領域内に
ある導電型の不純物がドープされてエミッタ頭載13が
拡散される。更にある導電型の不純物が高濃度にドーグ
されたコレクタ引出し用拡散層14が形成されて、同じ
基板の表面部分に複数のエミッタ、ベース、及びコレク
タを有するトランジスタが形成される。複数のエミッタ
、ベース、コレクタはそれぞれ、エミッタ引出し用電極
16、ベース引出し用電極15、コレクタ引出し用fF
L極17に接続されて同じイト号伝送路に接続されてい
る。
第1図に示されているように、複数本の引出し用電極は
それぞれ同一領域に接続されているもの同士が同じ方向
に接続されており、コレクタ領域の外側において接続さ
れている。すなわち、ベース引出し用電極15は絶縁層
上を図の左側に引き出されて接続されており、同様にコ
レクタ引出し用71I極17は図の右側に引き川さノt
で接続されてい石。エミッタ引出し用電極16は、ベー
ス引出し用電極15と反対の方向、すなわちコレクタ引
出し用電極17と同じ方向に引き出される。
それぞれ同一領域に接続されているもの同士が同じ方向
に接続されており、コレクタ領域の外側において接続さ
れている。すなわち、ベース引出し用電極15は絶縁層
上を図の左側に引き出されて接続されており、同様にコ
レクタ引出し用71I極17は図の右側に引き川さノt
で接続されてい石。エミッタ引出し用電極16は、ベー
ス引出し用電極15と反対の方向、すなわちコレクタ引
出し用電極17と同じ方向に引き出される。
上記のように、複数のエミッタ引出し用電極16と複数
のコレクタ引出し用電極17とが同じ方向に引き出され
る。鴨合には、電、極を交差させなければならなくなる
。そとで、本発明によるマルチトランジスタにおいては
、第1図に示すように、拡散抵抗領域18を形成してこ
れにエミッタ引出し用電極16を接続する。すなわち、
883図に示すように、基板と反対導電型の不純物をド
ープした拡散抵抗領域18が形成されて、その一端にエ
ミッタ引出し用?σ、隠16が接続され、他端には信号
を取り出すためのトu極が形成される。拡散抵抗領域1
80表面には、8102などの絶m層19−1)1形成
さ2れ、その上にコレクタ引出し用宵1極17が配線さ
れる。
のコレクタ引出し用電極17とが同じ方向に引き出され
る。鴨合には、電、極を交差させなければならなくなる
。そとで、本発明によるマルチトランジスタにおいては
、第1図に示すように、拡散抵抗領域18を形成してこ
れにエミッタ引出し用電極16を接続する。すなわち、
883図に示すように、基板と反対導電型の不純物をド
ープした拡散抵抗領域18が形成されて、その一端にエ
ミッタ引出し用?σ、隠16が接続され、他端には信号
を取り出すためのトu極が形成される。拡散抵抗領域1
80表面には、8102などの絶m層19−1)1形成
さ2れ、その上にコレクタ引出し用宵1極17が配線さ
れる。
本発明によるマルチトランジスタ□の等価回路を第4図
に示す。信号の流れはベース(B)からエミッタ(乃と
いう方向となる。すなわち、それぞ九のトランジスタの
ベースに印加される信号に従ってエミッタから信号が得
られるようになるもので、エミッタには抵抗が接続され
たことになる。
に示す。信号の流れはベース(B)からエミッタ(乃と
いう方向となる。すなわち、それぞ九のトランジスタの
ベースに印加される信号に従ってエミッタから信号が得
られるようになるもので、エミッタには抵抗が接続され
たことになる。
本発明によるマルチトランジスタに、ち・いては、信号
の伝播遅延を考慮して、ベースと工2ツタを逆方向に引
き出しており、しかも、コレクタとエミッタを前記のよ
うな手段によって交差させている。これによってi上流
集中を抑圧できるという効果だけでなく、直流的なベー
ス・エミッタ間のd圧の分配が良好となるとともに、交
す1シ的な信号の伝換遅延が揃うために高周波特性σ)
伸びが生じる。
の伝播遅延を考慮して、ベースと工2ツタを逆方向に引
き出しており、しかも、コレクタとエミッタを前記のよ
うな手段によって交差させている。これによってi上流
集中を抑圧できるという効果だけでなく、直流的なベー
ス・エミッタ間のd圧の分配が良好となるとともに、交
す1シ的な信号の伝換遅延が揃うために高周波特性σ)
伸びが生じる。
したがつて、第5図に示すように、応答特性も人力信号
(−、)に対して出力信号(b)が得られるようになる
。従来の出力信号(C)に比較して忠実にパルス波形を
再現できるようになっている。このような特性は、従来
の単一のコレクタを用いた構造のトランジスタでは得る
ととができない。また、エミッタを拡散抵抗層に接続し
て交差しているので、帰還効果によって電流分配の均一
化が行なわれる利点もある。々お拡散抵抗領域18はア
ルミ等の配線層を用いた多層配線によって構成してもよ
いことは当然である。
(−、)に対して出力信号(b)が得られるようになる
。従来の出力信号(C)に比較して忠実にパルス波形を
再現できるようになっている。このような特性は、従来
の単一のコレクタを用いた構造のトランジスタでは得る
ととができない。また、エミッタを拡散抵抗層に接続し
て交差しているので、帰還効果によって電流分配の均一
化が行なわれる利点もある。々お拡散抵抗領域18はア
ルミ等の配線層を用いた多層配線によって構成してもよ
いことは当然である。
第1図は本発明によるマルチトランジスタの一例の平面
図、第2図はその側面断面図、第3図は同じく部分正面
断面図であり、第4図は本発明によるマルチトランジス
タの等価回路図、第51!2+はその応答特性図を示す
。 ・ 11・・・・・・ベース領域、 12・・・・・・コ
レクタ領域。 16・”°・・°エミクタ領域、14・・・・・・コレ
クタ引出し用拡散層、 15・・・・・・ベース引出
し用電極。 16・・・・・・エミッタ引出し用電極、 17・・
・・・・コレクタ引出し用電極、 18・・・・・・
拡散抵抗領域。 19・・・・・・絶縁層 特許出願人 自動計測技術研究組合 代理人 弁理士 大 1) 優
図、第2図はその側面断面図、第3図は同じく部分正面
断面図であり、第4図は本発明によるマルチトランジス
タの等価回路図、第51!2+はその応答特性図を示す
。 ・ 11・・・・・・ベース領域、 12・・・・・・コ
レクタ領域。 16・”°・・°エミクタ領域、14・・・・・・コレ
クタ引出し用拡散層、 15・・・・・・ベース引出
し用電極。 16・・・・・・エミッタ引出し用電極、 17・・
・・・・コレクタ引出し用電極、 18・・・・・・
拡散抵抗領域。 19・・・・・・絶縁層 特許出願人 自動計測技術研究組合 代理人 弁理士 大 1) 優
Claims (1)
- 複数のベース拡散領域内にそれぞれエミッタ拡散領域が
形成され、該ベース拡散領域の周囲にコレクタ引出し用
高濃度拡散便域を形成したマルチトランジスタにおいて
、エミッタ及びコレクタの′に極の引出し方向とベース
の電極の引き出し方向が逆方向となるように電極が形成
され、かつ、エミッタの引き出し電極に接続される抵抗
領域とコレクタの引き出し電極とが絶縁層を介して交差
して成るマルチトランジスタ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57125541A JPS5916367A (ja) | 1982-07-19 | 1982-07-19 | マルチトランジスタ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57125541A JPS5916367A (ja) | 1982-07-19 | 1982-07-19 | マルチトランジスタ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5916367A true JPS5916367A (ja) | 1984-01-27 |
| JPH0126545B2 JPH0126545B2 (ja) | 1989-05-24 |
Family
ID=14912745
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57125541A Granted JPS5916367A (ja) | 1982-07-19 | 1982-07-19 | マルチトランジスタ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5916367A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009094252A (ja) * | 2007-10-05 | 2009-04-30 | New Japan Radio Co Ltd | 電力増幅器 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5162979A (ja) * | 1974-11-29 | 1976-05-31 | Mitsubishi Electric Corp | |
| JPS5255476A (en) * | 1975-10-31 | 1977-05-06 | Fujitsu Ltd | Semiconductor device |
-
1982
- 1982-07-19 JP JP57125541A patent/JPS5916367A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5162979A (ja) * | 1974-11-29 | 1976-05-31 | Mitsubishi Electric Corp | |
| JPS5255476A (en) * | 1975-10-31 | 1977-05-06 | Fujitsu Ltd | Semiconductor device |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009094252A (ja) * | 2007-10-05 | 2009-04-30 | New Japan Radio Co Ltd | 電力増幅器 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0126545B2 (ja) | 1989-05-24 |
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