JPS6013033B2 - エステル化合物 - Google Patents
エステル化合物Info
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- JPS6013033B2 JPS6013033B2 JP14300279A JP14300279A JPS6013033B2 JP S6013033 B2 JPS6013033 B2 JP S6013033B2 JP 14300279 A JP14300279 A JP 14300279A JP 14300279 A JP14300279 A JP 14300279A JP S6013033 B2 JPS6013033 B2 JP S6013033B2
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Landscapes
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- Liquid Crystal Substances (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はヱステル化合物に係わ珍、さらに詳しくは一般
式が(但し、Rは炭素数3〜8の直鎖アルキル基を示す
。
式が(但し、Rは炭素数3〜8の直鎖アルキル基を示す
。
)で表わされるェステル化合合物に関する。近年液晶表
示体を用いた腕時計、電卓が大量に販売されるようにな
った。
示体を用いた腕時計、電卓が大量に販売されるようにな
った。
この液晶表示体にはッイステツドーネマチツクのFE型
の表示方式が用いられている。この方式では時分割動駆
動の桁数が余り大きくとれないため複雑な表示、例えば
キャラクターディスプレイ等への応用には問題があった
。
の表示方式が用いられている。この方式では時分割動駆
動の桁数が余り大きくとれないため複雑な表示、例えば
キャラクターディスプレイ等への応用には問題があった
。
この欠点を改良するために考えだされた方法が2周波駆
動液晶表示体である。
動液晶表示体である。
(App1jed,physics Letにrs V
o1 25 船.4 15 Augustl974
特開昭50一104043)この方法によれば現在のと
ころ数lq行駆動可能な程度までにきている。しかしこ
の方法の欠点として駆動電圧が高いことがあげられる。
これは第1図に示す低周波、高周波での誘電異方性(△
ご)の絶対値が小さいためである。
o1 25 船.4 15 Augustl974
特開昭50一104043)この方法によれば現在のと
ころ数lq行駆動可能な程度までにきている。しかしこ
の方法の欠点として駆動電圧が高いことがあげられる。
これは第1図に示す低周波、高周波での誘電異方性(△
ご)の絶対値が小さいためである。
尚第1図に示す特性は表1に示す液晶組成物の特性であ
り、この図において縦鼠は誘電異方性を、機軸は周波数
をそれぞれ示す。従来、2周波駆動液晶組成物としては
表1に示すような液晶組成物が優れていたが、第1図に
示すように高周波におけるl△ご lが小さく、駆動電
圧が高くなり、充分満足できるものではなかった。
り、この図において縦鼠は誘電異方性を、機軸は周波数
をそれぞれ示す。従来、2周波駆動液晶組成物としては
表1に示すような液晶組成物が優れていたが、第1図に
示すように高周波におけるl△ご lが小さく、駆動電
圧が高くなり、充分満足できるものではなかった。
表1
本発明の目的はこのような液晶組成物を改良する素材と
して有用な化合物を提供するためになされたものである
。
して有用な化合物を提供するためになされたものである
。
液晶組成物の改良は液晶性化合物、あるいは非液晶性化
合物を混合することにより得ることができる。
合物を混合することにより得ることができる。
本発明の化合物は一般式が
(但し、Rは炭素数3〜8の直鎖アルキル基を示す。
)で表わされる非液晶性ェステル化合物であり、次の合
成ルートにより簡単に合成できる。(但し、Rは炭素3
〜8の直鏡アルキル基を示す。)上記反応式により合成
された化合物は液晶相を示さないが、2周波駆動用液晶
に混合した場合、高周波におけるl△ごlを大きくする
特徴を有す。
成ルートにより簡単に合成できる。(但し、Rは炭素3
〜8の直鏡アルキル基を示す。)上記反応式により合成
された化合物は液晶相を示さないが、2周波駆動用液晶
に混合した場合、高周波におけるl△ごlを大きくする
特徴を有す。
次に本発明の化合物の製造法を詳しく説明する。
市販のQ−シアノケィヒ酸と塩化チオニルをフラスコに
とり、ガスの発生がやむまで加熱還流を行なう。
とり、ガスの発生がやむまで加熱還流を行なう。
反応後過剰の塩化チオニルを蟹去し、残査をそのまま次
の原料として用いる。次に市販の4一nーアルキルフェ
ノールを四塩化炭素に溶解し、温度を40〜50つ0に
保持する。
の原料として用いる。次に市販の4一nーアルキルフェ
ノールを四塩化炭素に溶解し、温度を40〜50つ0に
保持する。
続いてこの四塩化炭素中に臭素を滴下する。滴下後還流
を行ない、還流後溶媒を蟹去し、残査を減圧蒸留して、
2−ブロム−4−nーアルキルフェノールを得る。続い
てN,N′‐ジメチルホルムアミド等を溶媒としてシア
ン化第一銅を用いシアノ化を行ない、2ーシアノ−4−
n−アルキルフェノールを得る。次にこの2ーシアノー
4−n−アルキルフエ/ールとQーシアノケィヒ酸クロ
リドを適当な塩基の存在の下にェステル化すれば目的物
を得ることができる。
を行ない、還流後溶媒を蟹去し、残査を減圧蒸留して、
2−ブロム−4−nーアルキルフェノールを得る。続い
てN,N′‐ジメチルホルムアミド等を溶媒としてシア
ン化第一銅を用いシアノ化を行ない、2ーシアノ−4−
n−アルキルフェノールを得る。次にこの2ーシアノー
4−n−アルキルフエ/ールとQーシアノケィヒ酸クロ
リドを適当な塩基の存在の下にェステル化すれば目的物
を得ることができる。
以下に本発明の実施の態様を更に詳しく示すため実施例
によりその製造例、及びその有用性を示す応用例を述べ
る。
によりその製造例、及びその有用性を示す応用例を述べ
る。
実施例 1
市販のQ−シアノケィヒ酸(赤外線吸収スペクトルを第
2図に示す。
2図に示す。
)25夕と塩化チオニル50の‘を200の‘フラスコ
にとり、ガスの発生がやむまで加熱還流した。還流後、
過剰の塩化チオニルを蟹去した。残査を精製なしに次工
程の原料とした。(この酸クロリドの赤外線吸収スペク
トルを第3図に示す。)次に市販の4一nーアミルフェ
ノール70夕(0.43モル)を四塩化炭素200の‘
に溶解し、温度を40〜50qCに維持して、臭素30
泌(0.55モル)を3時間にわたり滴下した。
にとり、ガスの発生がやむまで加熱還流した。還流後、
過剰の塩化チオニルを蟹去した。残査を精製なしに次工
程の原料とした。(この酸クロリドの赤外線吸収スペク
トルを第3図に示す。)次に市販の4一nーアミルフェ
ノール70夕(0.43モル)を四塩化炭素200の‘
に溶解し、温度を40〜50qCに維持して、臭素30
泌(0.55モル)を3時間にわたり滴下した。
滴下後1時間加熱還流を行なった。還流後溶媒を蟹去し
、残査を減圧蒸留して2ーブロム−4−アミルフエノー
ルを得た。沸点 160〜170℃/14肋日タこの化
合物の赤外線吸収スペクトルを第4図に示す。
、残査を減圧蒸留して2ーブロム−4−アミルフエノー
ルを得た。沸点 160〜170℃/14肋日タこの化
合物の赤外線吸収スペクトルを第4図に示す。
次にこの2−ブロム−4−n−アミルフェノ−ル31.
9夕(0.13モル)と、シアン化第一鋼13.8夕(
0.154モル)、N−メチル−2−ピロリドン120
奴【を300の【フラスコにとり、4時間加熱還流を行
なった。
9夕(0.13モル)と、シアン化第一鋼13.8夕(
0.154モル)、N−メチル−2−ピロリドン120
奴【を300の【フラスコにとり、4時間加熱還流を行
なった。
還流後、この反応混合物を、塩化第二鉄56夕、濃塩酸
21M、水100の‘よりなる水溶液に洋加し、6ぴ○
で3時間燈拝を行なった。縄梓後、冷却し、エーテルで
抽出し、印塩酸溶液及び水で洗浄後、エーテルを蟹去し
、残査を減圧蒸留し、−2−シアノ−4−n−アミルフ
ェノールを得た。沸点 130〜13〆0ノ2側日タこ
の化合物の赤外線吸収スペクトルを第5図に示す。
21M、水100の‘よりなる水溶液に洋加し、6ぴ○
で3時間燈拝を行なった。縄梓後、冷却し、エーテルで
抽出し、印塩酸溶液及び水で洗浄後、エーテルを蟹去し
、残査を減圧蒸留し、−2−シアノ−4−n−アミルフ
ェノールを得た。沸点 130〜13〆0ノ2側日タこ
の化合物の赤外線吸収スペクトルを第5図に示す。
次にこの2ーシアノー4一nーアミルフェノール1.9
夕(0.01モル)、トリエチルアミン2の【、エーテ
ル50の【を200の【フラスコにとり溶解した。
夕(0.01モル)、トリエチルアミン2の【、エーテ
ル50の【を200の【フラスコにとり溶解した。
続いてこのエーテル溶液を氷冷蝿拝しながら、Q−シア
ノケィヒ酸クロリド2.0夕(0.01モル)のエーテ
ル溶液20泌を滴下した。滴下後30分間加熱還流を行
ない反応を完結させた。還流後エーテル溶液を分液ロー
トにとり、水洗、塩酸溶液洗浄、水洗、アルカリ洗浄、
水洗と洗浄をくりかえした。洗浄後、無水硫酸ソーダで
脱水してからエーテルを蟹去し、残査をエタノールより
融点が一定になるまで再結晶をくり返した。融点 14
3℃ 収率 72% この化合物の赤外線吸収スペクトルを第6図に示す。
ノケィヒ酸クロリド2.0夕(0.01モル)のエーテ
ル溶液20泌を滴下した。滴下後30分間加熱還流を行
ない反応を完結させた。還流後エーテル溶液を分液ロー
トにとり、水洗、塩酸溶液洗浄、水洗、アルカリ洗浄、
水洗と洗浄をくりかえした。洗浄後、無水硫酸ソーダで
脱水してからエーテルを蟹去し、残査をエタノールより
融点が一定になるまで再結晶をくり返した。融点 14
3℃ 収率 72% この化合物の赤外線吸収スペクトルを第6図に示す。
実施例 2,3
実施例1の4−n−アミルフヱノールの代わりに4一n
ープチルフエノール、4−n−へキシルフェノールを用
い、実施例1と同様にしてQ−シアノケィヒ酸−2−シ
アノー4−nーブチルフェニルェステル(融点120℃
)、Q−シアノケイヒ酸一2ーシアノ−4−n−へキシ
ルフエニルエステル(融点133.5℃)を得た。
ープチルフエノール、4−n−へキシルフェノールを用
い、実施例1と同様にしてQ−シアノケィヒ酸−2−シ
アノー4−nーブチルフェニルェステル(融点120℃
)、Q−シアノケイヒ酸一2ーシアノ−4−n−へキシ
ルフエニルエステル(融点133.5℃)を得た。
これらの化合物の赤外線吸収スペクトルを第7図、第8
図に示す。実施例4(応用例)第2表に示す液晶組成物
を作り、誘電異方性の周波数に対する変化を調べた。
図に示す。実施例4(応用例)第2表に示す液晶組成物
を作り、誘電異方性の周波数に対する変化を調べた。
この結果を第9図に示す。尚この結果は25℃のときの
ものである。この図と、第1図の比較より本発明の化合
物を混合すると高周波におけるl△ごlが大きくなるこ
とがわかる。表2 以上述べように本発明の化合物は高周波におけるl△ご
lを大きくする素材として好適である。
ものである。この図と、第1図の比較より本発明の化合
物を混合すると高周波におけるl△ごlが大きくなるこ
とがわかる。表2 以上述べように本発明の化合物は高周波におけるl△ご
lを大きくする素材として好適である。
又、このような化合物を含有する液晶組成物を用いた表
示体はキャラクターディスプレイとして応用範囲の広い
ものである。
示体はキャラクターディスプレイとして応用範囲の広い
ものである。
第1図は従来の液晶組成物の譲電特性を示す図であり、
縦軸は誘電異方性を、横軸は周波数を示す。 第2図はQ−シアノケィヒ酸の、第3図は、Q−シアノ
ケィヒ酸クロリドの赤外線吸収スペクトルを示す図であ
る。第4図は2−フロム−4−nーアミルフェノールの
、第5図は2ーシアノー4−nーアミルフェノールの赤
外線吸収スペクトルを示す図である。第6図、第7図、
第8図はそれぞれQ−シアノケイヒ酸一2−シアノ−4
−n−アミルフェニルェステル、Q−シアノケィヒ酸−
2−シアノ−4一n−ブチルフエニルエステル、Q−シ
アノケイヒ酸−2−シアノ−4−n−へキシルフェニル
ェステルの赤外線吸収スペクトルを示す図である。第9
図は本発明の化合物を含有する液晶組成物の譲蚕特性を
示す図である。第1図第2図 第3図 第4図 第5図 第6図 第7図 第8図 第9図
縦軸は誘電異方性を、横軸は周波数を示す。 第2図はQ−シアノケィヒ酸の、第3図は、Q−シアノ
ケィヒ酸クロリドの赤外線吸収スペクトルを示す図であ
る。第4図は2−フロム−4−nーアミルフェノールの
、第5図は2ーシアノー4−nーアミルフェノールの赤
外線吸収スペクトルを示す図である。第6図、第7図、
第8図はそれぞれQ−シアノケイヒ酸一2−シアノ−4
−n−アミルフェニルェステル、Q−シアノケィヒ酸−
2−シアノ−4一n−ブチルフエニルエステル、Q−シ
アノケイヒ酸−2−シアノ−4−n−へキシルフェニル
ェステルの赤外線吸収スペクトルを示す図である。第9
図は本発明の化合物を含有する液晶組成物の譲蚕特性を
示す図である。第1図第2図 第3図 第4図 第5図 第6図 第7図 第8図 第9図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式が ▲数式、化学式、表等があります▼ (但し、Rは炭素数3〜8の直鎖アルキル基を示す。 )で表わされるエステル化合物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14300279A JPS6013033B2 (ja) | 1979-11-05 | 1979-11-05 | エステル化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14300279A JPS6013033B2 (ja) | 1979-11-05 | 1979-11-05 | エステル化合物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5665862A JPS5665862A (en) | 1981-06-03 |
| JPS6013033B2 true JPS6013033B2 (ja) | 1985-04-04 |
Family
ID=15328655
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14300279A Expired JPS6013033B2 (ja) | 1979-11-05 | 1979-11-05 | エステル化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6013033B2 (ja) |
-
1979
- 1979-11-05 JP JP14300279A patent/JPS6013033B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5665862A (en) | 1981-06-03 |
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