JPS6013594A - 感熱転写媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明はロイコ染料と顕色剤との間の発色反応を利用し
た感熱転写媒体に関するもので、さらに詳しくは、微少
エネルギーで高濃度の転写画像を与え、さらに多数回の
転写においても均一な濃度の転写画像を与える感熱転写
媒体に関するものである。

〔従来技術〕

従来、感熱転写媒体としては、熱昇華性染料を支持体上
に設けた転写シートと該シート裏面力１らの熱印字によ
って熱昇華性染料画像を受容する受容シートからなるも
のや、熱可融性物質と顔料や染料の転写層を支持体に設
けた転写シーＩ−と受容シートを組合せたものが知られ
、前者のもの１よ、熱昇華性染料を使用するため、受容
シート上の染料画像が保存性に劣り、転写画像上にオー
ツ＜−コートを施さなければならず、また後者のもの（
ま、熱可融性物質中に顔料あるいは染料を分散した転。

　耳屑であるため、高濃度画像を得る目１′１′−Ｊで
多量の顔料を含ませると転写効率が低くなり、結果的番
コ高濃度画像が得にくくなる他、さらに熱感度を上げる
ため、多量の熱可融性物質を使用した場合＆よ、多量の
熱可融性物質が受容シート側に移ｔテするため、転写シ
ートと受容シートを剥離する際、スｌ、−ズに剥離せず
、細線の画像部が不鮮明となる等の欠点があった。

一方、熱により相互に反応して発色する物質をそれぞれ
別々の支持体上に担持せしめ、この担持層を相対向接触
せしめて熱印字を行う感熱転写媒体も知られ工・いるが
、この種のものは、反応型であるがために、対面接触時
、単に転写層が受容層に移行するだけでは十分な発色反
応が行われず、低濃度画像となるし、十分な反応を促進
する目的で、加熱条件をより高温、長時間の熱印字とす
れば、受容シート上の画像はより高濃度画像となるもの
の、転写シート上においても発色反応が進行し１画像形
成が起るという欠点が認められる。

〔目　的〕

本発明は、微少熱エネルギーの使用により高濃度の安定
な転写画像を与えると共に、転写層から受容層への少量
のロイコ染料成分の移行によって、多数回の転写におい
ても均一な画像濃度を与える感熱転写媒体を提供するこ
とを目的とする。

〔構　成〕

本発明によれば、ロイコ染料を主成分とする転写層を支
持体上に設けた転写シートと、該ロイコ染料に刻する顕
色剤を主成分とする受容層を支持体」二に設けた受容シ
ートとからなり、該転写層は。

表面粗さが０．５〜３μｍの微細凹凸形状を有する支持
体表面上に設けられていることを特徴とする感熱転写媒
体が提供される。

本発明の感熱転写媒体は、転写シートに対し受容シート
をその受容層が転写シー１−の転写層に接触するように
して重ね、転写シー１〜裏面あるいは、受容シート裏面
からの熱印字によって受容シート表面に、所望の発色画
像が形成されるが、木発ｌす′においては、該転写シー
トの支持体表面を微細な凹凸形状を付与することにより
接着面積が増大され多数回の転写においても転写層から
受容層へのロイコ染料成分の移行がスムーズに行われ、
均一な画像濃度の転写画像が得られるものである。

微細な凹凸形状を付与するには、支持体をエンボス加工
法、サンドブラスト法、薬品処理法、顔料添加法、顔料
塗布法などにより処理することにより達成される。

エンボス加工法とは、微細な凹凸を有するロールを加熱
付与しながら加圧ロールで圧着してフィルム表面に凹凸
を付与する方法であり、サンドブラスト法とは、カーボ
ランダムあるいは金属粒子を圧搾空気と共にフィルム表
面に強力に吹きつけてフィルム表面に凹凸を付与する方
法であり、薬品処理法とは酸又はアルカリの濃厚溶液に
フィルムを浸漬してフィルム表面を幾分か侵して凹凸を
付与する方法であり、また顔料添加法とは、熱可塑性樹
脂中に無色又は有色顔料の微粉末を配合してプラスチッ
クフィルムの製造段階で凹凸を付与したフィルムを作成
する方法である。顔料塗布法は顔料添加法に使用する顔
料を結着剤樹脂と共にフィルム表面に塗布するものであ
る。

特に、プラスチックフィルム（又はシート）の製造過程
で例えばシリカ、水酸化アルミニウム、炭酸マグネシウ
ム、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化亜鉛、硫酸バ
リウムなどの白色顔料さらに必要に応じて有色顔料の微
粉末（粒径０．５〜１μｍ程度）を添加すれば、容易に
微細な凹凸形状機能を有したプラスチックフィルム（又
はシー１−）が得られる。

本発明において、支持体表面に設ける微細凹凸形状は、
転写画像濃度及び繰返しの転写回数に影響を与えること
から、本発明の場合、表面粗さくＲｚ）を０．５〜３μ
ｍに規定する時に好まい）結果を与えることが確認され
た。なお、本明細書で１）う表面粗さくＩｔｚ）は、Ｊ
ＩＳ　−Ｂ　−０６０１におり）て規定さ才したものを
意味する。表面粗さくｌ１ｚ）が０．５μｍ以下では画
像濃度は高くなるが、繰り返しの転写回数は減少し、一
方、３μｒｎ以上では１画像濃度は低くなるが転写回数
は増加する。支持体表面の凹凸形状は、０，５μｍ〜１
．５μｍ程度の表面粗さにするのがよい。

本発明で用いる転写シートは、前記したような表面に微
細な凹凸形状を有する支持体の表面【二ロイコ染料を主
成分とする転写層を設けたものである。この場合のロイ
コ染料としては、従来より感圧紙や感熱紙に対して用い
られてきたもの力＜％）ずれも適用でき、トリフェニル
メタン系、フルオラン系、フェノチアジン系、オーラミ
ン系、スピロピラン系のものが好ましく適用される。こ
れらのロイコ染料の具体例を以下に示す。　３，３−ビ
ス（Ｐ−ジメチルアミノフェニル）−フタリド、３．３
−ビス（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−６−シメチル
アミノフタリド（別名クリスタルバイオレットラフ１−
ン）、 ３．３−ビス（Ｐ−ジメチルアミノフェニル）−６−ジ
エチルアミノフェニル、 ３．３−ビス（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−６−ク
ロルフタリド、 ３．３−ビス（ｐ−ジブチルアミノフェニル）フタリド
、 ３−シクロヘキシルアミノ−６−クロルフルオラン。

３−ジメチルアミノ−５，７−シメチルフルオラン、３
−ジエチルアミノ−７−クロロフルオラン、３−ジエチ
ルアミノ−７−メチルフルオラン、３−ジエチルアミノ
−７，８−ベンズフルオラン、３−ジエチルアミノ−６
−メチル−７−クロルフルオラン、 ３−（Ｎ−ｐ−トリル−Ｎ−二チルアミノ）−６−メチ
ル−７−アニリノフルオラン。

３−ピロリジノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン
、 ２−　（Ｎ−（３’　−１−リフルオルメチルフェニル
）アミノ）−６−ジニチルアミノフルオラン、２−　（
３，６−ビス（ジエチルアミノ）−９−（ｏ−クロルア
ニリノ）キサンチル安息香酸ラクタム）、３−ジエチル
アミノ−６−メチル−７−（ｍ−トリクロロメチルアニ
リノ）フルオラン、 ３−ジエチルアミノ−７−（０−クロルアニリノ）フル
オラン、 ３−ジエチルアミノ−７−（０−クロルアニリノ）フル
オラン、 ３−Ｎ−メチル−Ｎ−アミルアミノ−６−メチル−７−
アニリノフルオラン、 ３−Ｎ−メチル−Ｎ−シクロへキシルアミノ−６−メチ
ル−７−アニリノフルオラン、 ３−ジエチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオ
ラン、 ３−（Ｎ、Ｎ−ジエチルアミノ）−５−メチル−７−（
Ｎ。

Ｎ−ジベンジルアミノ）フルオラン、 ベンゾイルロイコメチ【ノンブルー。

６′−クロロ−８′−メトキシ−ベンゾインドリノ−ピ
リロスピラン、 ６′−ブロモ−３′−メトキシ−ベンゾインドリノ−ピ
リロスピラン、 ３−（２’　−ヒドロキシ−４′−ジメチルアミノフェ
ニル）−３−（２’　−メトキシ−５′−クロルフェニ
ル）フタリド、 ３−（２’　−ヒドロキシ−４′−ジメチルアミノフェ
ニル）−３−（２’　−メ１〜キシー５′−二トロフェ
ニル）フタリド、 ３−（２’　−ヒドロキシ−４′−ジエチルアミノフェ
ニル）−：３−（２’　−メ１〜キシー５′−メチルフ
ェニル）フタリド、 ３−（２’　−メトキシ−４′−ジメチルアミノフェニ
ル）−３−（２’　−ヒドロキシ−４′−クロル−５′
−メチルフェニル）フタリ１九 本発明においては、前記ロイコ染料は、支持体に対し、
通常０．３〜３０ｇ／ｍ”　、好ましくは０．５〜２０
Ｂａｒｎ’程度の割合で用いられる。

本発明で用いる受容シートは、紙、合成紙、プラスチッ
クフィルム等の支持体上に、該ロイコ染料に対する顕色
剤を主成分とする受容層を設けたものである。この場合
、顕色剤としては、電子受容性物質、例えばフェノール
性物質、有機酸又はその塩もしくはニス宇ル等が適用さ
れ、実用性の点からは、好ましくは融点２００℃以下の
ものが適用される。本発明で好ましく適用される顕色剤
の具体例を以下に示す。なお、カッコ内の数字は融点を
示す。

４−　シｅｒＬ−ブチルフェノール（９８）、４−ヒド
ロキシジフェニルエーテル（８４）、■−ナフトール（
９８）、２−ナフトール（１２１）、メチル−４ニヒド
ロキシベンゾエート（１，３１）、４−ヒドロキシアセ
トフェノン（１０９）、２，２′　−ジヒドロキシジフ
ェニルエーテル（７９）、４−フェニルフェノール（１
６６）、４−シｅｒＬ−オクチルカテコール（１０９）
、２，２′　−ジヒドロキシジフェニル（１０３）、４
，４′　−メチレンビスフェノール（１６０）、２，２
′　−メチレンビス（４−クロロフェノール）（１６４
）、　２．２’　−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ
、ｅｒシープチルフェノール）（１２５）、４，４′　
−イソプロピリデンジフェノール（１５６）、４，４′
　−イソプロピリデンビス（２−クロロフェノール）（
９０）、４．４７−イソプロピリデンビス（２，６−ジ
ブロモフェノール）（１７２）、４，４′　−イソプロ
ピリデンビス（２−Ｌｅｒし一ブチルフェノール）（１
１０）、４，４′　−イソプロピリデンビス（２−メチ
ルフェノール）（１３６）、４．４′−イソプロピリデ
ンビス（２，６−ジメチルフェノール）（１６８）、４
．４’　−５ｅｃ−ブチリデンジフェノール（１１９）
、４．４’　−５ｅｃ−ブチリデンビス（２−メチルフ
ェノール）（１４２）、４，４′　−シクロへキシリデ
ンジフェノール（１８０）、４，４′　−シクロへキシ
リデンビス（２−メチルフェノール）（１８４）、サリ
チル酸（１６３）、サリチル酸メタトリルエステル（７
４）、サリチル酸フェナシルエステル（１１０）、４−
ヒドロキシ安息香酸メチルエステル（１３］、）、］４
−ヒドロキシ安息香酸エチルエステル１１．６）、４−
ヒドロキシ安息香酸プロピルエステル（９８）、４−ヒ
ドロキシ安息８酸イソプロピルエステル（８６）、４−
ヒドロキシ安息香酸ブチルエステル（７１）、４−ヒド
ロキシ安息香酸イソアミルエステル（５０）、４−ヒド
ロキシ安息香酸フェニルエステル（１７８）、４−ヒド
ロキシ安息香酸ベンジルエステル（１，１１）、４−ヒ
ドロキシ安息香酸シクロヘキシルエステル（１１９）、
５−ヒドロキシサリチル酸（２００）、５−クロルサリ
チル酸（１７２）、３−クロルサリチル酸（１７８）、
チオサリチル酸（１６４）、２−クロロ−５−二１−ロ
安息香酸（１６５）、４−メトキシフェノール（５３）
、２−ヒドロキシベンジルアルコール（８７）、２，５
−ジメチルフェノール（７５）、安息香酸（１２２）、
オルト１〜ルイル酸（１，０７）、メタ１ヘルイル１１
（１１１）、パラトルイル酸（１８１）、オルミルフロ
ル安息香酸（１４２）、メタオキシ安息香酸（２００）
、２，４ニジヒドロキシアセトフエノン（９７）、レゾ
ルシノール・モノベンゾニー１４（１３５）、４−ヒド
ロキシベンゾフェノン（］、３３）、２，４−ジヒドロ
キシベンゾフェノン（１／１４）、２−ナノ１−イック
・アシッド（］８４）、１−ヒドロキシ−２−ナフトイ
ック・アシッド（１９５）、３，４−ジヒドロキシ安息
香酸エチルエステル（１２８）、３，４−ジヒドロキシ
安息香酸フェニルエステル（１８９）、４−ヒドロキシ
プロピオフェノン（１５０）、サリシルサリシレーｈ（
１４８）、フタル酸モノベンジルエステル（４０７）。

また、本発明においては、顕色剤として、一般式 （式中、Ｒはエーテル結合１〜５個含有するアルキレン
基である） で表わされるフェノール性化合物を用いることができる
。このフェノール性物質はモノチオハイドロキノンと相
当するジハロゲノアルキルエーテルとをアルカリ性条件
下で反応させることにより、容易に高収率、高純度で、
且つ比較的安価に合成できる。

前記一般式で表わされるフェノール性物質において、Ｒ
はエーテル基を１〜５個含有するアルキレン基であるが
、この場合、エーテル基はアルキレン基の主鎖中にあっ
てもよく、また側鎖にあってもよい。このエーテル基含
有アルキレン基中に含まれる炭素数は通常２〜１５個の
範囲である。好ましいエーテル基含有アルキレン基は、
エーテル結合１〜３個を含有し、かつ炭素数２〜７個を
有するものである。

本発明においては、前記受容層及び／又は転写層に対し
て吸油量５０ｍ　Ｑ　／　１００　ｇ　（ＪＩＳ　Ｋ　
５１０１法による）以上好ましくはＬ５０　ｍ　Ｑ　／
　１００　ｇ以上の多孔質填料を含有させるのが好まし
い。受容層に対して含有させる場合の多孔質填料は、顕
色剤１重量部に対して、０．０１重量部以上、通常０．
０５〜ｌＯ重量部、好ましくは０．１〜３重量部の範囲
である。転写層に含有させる場合の多孔質填料の割合は
、ロイコ染料１重量部に対し、０．０１〜１ｆｆｉｆｆ
ｉ部、好ましくは０．０３〜０．５重量部である。多孔
質填料の具体例を示すと、例えば、シリカ、ケイ酸アル
ミニウム、アルミナ、水酸化アルミニウム、水酸化マグ
ネシウム、尿素−ホルマリン樹脂、スチレン樹脂等の無
機及び有機の微粉末が挙げられる。

また、本発明゛においては、転写層及び必要に応じてさ
らに受容層に対し、融点２００℃以下、好ましくは１５
０℃以下の融点を有する熱可溶融性物質を添加させるこ
とができる。このものの使用量は、ロイコ染料１重量部
に対し０．１〜５０重量部である。

本発明において好ましく用いられる熱可溶融性物質を示
すと次の通りである。

（１）下記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表わされる脂肪
酸アミド類 Ｒ’ＮＨＣＯＲ”　（Ｉ） ７１り４ Ｒ３ＣＯＮ　、（ＩＩ） ＼Ｒ５ （式中、１＜２は炭素数１〜３０のアルキル基、Ｒ１，
Ｒ３は炭素数１０〜３０のアルキル基、Ｒ４、ｏｓは水
素又は低級アルキル基である） このような脂肪酸アミドの具体例としては、例えば以下
のようなものが挙げられる。

デシルアセトアミド、デシルプロピオンアミド、ウンデ
シルアセトアミド、ウンデシルプロピオンアミド、ラウ
リルアセトアミド、ラウリルプロピオンアミド、トリデ
シルアセ１〜アミド、トリデシルプロピオンアミド、ミ
リスチルアセトアミド、ミリスチルプロピオンアミド、
ペンタデシルアセトアミド、ペンタデシルプロピオンア
ミド、パルミチルアセトアミド、パルミチルプロピオン
アミド、パルミチルブチラミド、ヘプチルアセ１−アミ
ド、ヘプチルプロピオンアミド、ステアリルアセトアミ
ド、ステアリルプロピオンアミド、ステアリルブチラミ
ド、ステアリルバレルアミド、ステアリルカプロンアミ
ド、ステアリルラウリンアミド、ステアリルパルミチン
アミド、ステアリルステアリンアミド、ノナデシルアセ
１−アミド、ノナデシルプロピオンアミド、ベヘニルア
セトアミド、ベヘニルプロピオンアミド、ベヘニルステ
アリンアミド、ウンデカン酸メチルアミド、ウンデカン
酸エチルアミド、ラウリン酸メチルアミド、ラウリン酸
エチルアミド、トリデカン酸メチルアミド。

１−リゾカン酸エチルアミド、ミリスチン酸メチルアミ
ド、ミリスチン酸エチルアミド、ペンタデカン酸メチル
アミド、ペンタデカン酸エチルアミド、パルミチン酸メ
チルアミド、パルミチン酸ジメチルアミド、パルミチン
酸ブチルアミド、ステアリン酸メチルアミド、ステアリ
ン酸エチルアミド。

ステアリン酸プロピルアミド、ステアリン酸ブチルアミ
ド、ステアリン酸ジメチルアミド、ステアリン酸ジエチ
ルアミド、ステアリン酸ジブチルアミド、ノナデカン酸
メチルアミド、ノナデカン酸エチルアミド、ベヘン酸メ
チルアミド、オレイン酸メチルアミド、オレイン酸エチ
ルアミド（２）下記一般式（ＩＩＩ）で示される芳香族
カルボン酸アミド類 （式中、１（６は炭素数１〜３０のアルキル基、Ｒ７、
Ｒ９は水素、ハロゲン、低級アルキル基又は低級アルコ
キシ基であり、ｎはＯ又は１である）このような化合物
の具体例としては、例え＋ｉ以下に示すようなものが挙
げられる。

Ｎ−ステアリルベンツアミド、Ｎ−ノ（ルミチル−２−
クロロペンツアミド、Ｎ−ステアリル−２−メトキシベ
ンツアミド、Ｎ−ステアリル−４−メチルベンツアミド
、Ｎ−パルミチルー２，４ージメチルベンツアミド、Ｎ
−ベヘニルベンツアミド、Ｎ−ベヘニル−２−メチルベ
ンツアミド、Ｎ−ステアリルフェニルアセチルアミド、
Ｎ−ベヘニルフェニルアセチルアミド。

（３）下記一般式（ＩＶ）及び（Ｖ）で表わされるシク
ロヘキシル環を有するアミド類 （式中、Ｒ９は炭素数１〜３０のアルキル基又は置換も
しくは未置換のアリール基、Ｒ　は水素、ノーロゲン又
は低級アルキル基である） （式中、Ｒ　は炭素数１〜３０のアルキル基、ｔｔ１２
は水素、ハロゲン又は低級アルキル基である）このよう
な化合物の具体例としては、例えば、以下に示すような
ものが挙げられる。

Ｎ−シクロへキシルアセトアミド、Ｎ−シクロへキシル
プロピオンアミド、Ｎ−シクロヘキシルステアリン酸ア
ミド、Ｎ−シクロへキシルベンツアミド、Ｎ−シクロへ
キシル−２−メチルベンツアミド、Ｎ−シクロへキシル
−２−クロロベンツアミド、Ｎ−シクロへキシル−２，
４−ジメチルベンツアミド、Ｎ−シクロへキシルパルミ
チン酸アミド、Ｎ−（クロロヘキシル）パルミチン酸ア
ミド、Ｎ−（２−メチルシクロヘキシル）ステアリン酸
アミド、Ｎ−ステアリルヘキサヒドロペンツアミド。

（４）下記一般式（ＶＩ）で表わされるヒドロキシ安息
香酸のフェニルエステル類 （式中、Ｘはハロゲン、炭素数１〜３０のアルキル基も
しくはアルコキシ基、ハロゲン、置換又は未置換のアリ
ールもしくはアルアルキル基、置換又は未置換のアリー
ルオキシもしくはアルアルキルオキシ基、カルボン酸基
又は水酸基であり、ｎは０，１゜２又は３であり１ｍは
１，２又は３である）このような化合物の具体例として
は、例えば、以下に示すようなものが挙げられる。

４−ヒドロキシ安息香酸フェニルエステル、４−ヒドロ
キシ安息香酸（２−メトキシフェニル）エステル、４−
ヒドロキシ安息香酸（２−メトキシ−４−メチルフェニ
ル）エステル、４−ヒドロキシ安息香酸（３，５−ジオ
キシフェニル）エステル、３−ヒドロキシ安息香酸（４
−カルボキシフェニル）エステル、４−ヒドロキシ安息
香酸（４−ブトキシフェニル）エステル、４−ヒドロキ
シ安息香酸（４−クロルフェニル）エステル、サリチル
酸（２−クロロフェニル）エステル、サリチル酸（４−
クロロフェニル）エステル、サリチル酸（２，３−ジク
ロロフェニル）エステル、サリチル酸（２，６−ジクロ
ロフェニル）エステル、サリチル酸（２，４，６−トリ
クロロフェニル）エステル、サリチル酸（２−ブロモフ
ェニル）エステル、サリチル酸（４−ブロモフェニル）
エステル、サリチル酸（２，４−ジブロモフェニル）エ
ステル、サリチル酸（２，６−ジブロモフェニル）エス
テル、サリチル酸（２，４，６−）−ジブロモフェニル
）エステル、サリチル酸（３−メチルフェニル）エステ
ル、サリチル酸（２，４−ジメチルフェニル）エステル
、サリチル酸（４−ターシャリブチルフェニル）エステ
ル、サリチル酸（４−ターシャリアミルフェニル）エス
テル、サリチル酸（２−メトキシフェニル）エステル、
サリチル酸（２−エトキシフェニル）エステル、サリチ
ル酸（３−メトキシフェニル）エステル、サリチル酸（
４−ヒドロキシフェニル）エステル、サリチル＃（４−
ベンジルフェニル）エステル、サリチル酸（４−ベンゾ
イルフェニル）エステル、サリチル酸（２−メトキシ−
４−アリルフェニル）エステル、サリチル酸（アルファ
ナフチル）エステル、サリチル酸（ベータナフチル）エ
ステル、サリチル酸（４−クロロ−３−メチルフェニル
）エステル、サリチル酸（３−ヒドロキシフェニル）エ
ステル、サリチル酸（４−プロペニルフェニル）エステ
ル、５−クロロサリチル酸（３−メチルフェニル）エス
テル、３．５−ジクロロサリチル酸（２−メトキシフェ
ニル）エステル。

（５）下記一般式（ＶＩＩ）で表わされる安息香酸フェ
ニルエステル類 （式中、ＲｌＢは水素、炭素数１〜３０のアルキル基も
しくはアルコキシ基、ハロゲン、ニトロ基、ニトリル基
、アシルオキシ基、置換又は未置換のアリールもしくは
アルアルキル基、置換又は未置換のアリールオキシもし
くはアルアルキルオキシ基、Ｒ１４は水素、炭素数１〜
３０のアルキル基もしくはアルコキシ基、ハロゲン、二
１−ロ基、ニトリル基、アシルオキシ基、置換又は未置
換のアリールもしくはアルアルキル基、置換又は未置換
のアリールオキシもしくはアルアルキルオキシ基又はア
シル基である） このような化合物の具体例としては、例えば、以下に示
すようなものが挙げられる。

安息香酸フェニルエステル、安息香酸−４−メチルフェ
ニルエステル、安息香酸−２，４−ジクロルフェニルエ
ステル、安息香酸−２，４，６−トリクロルフェニルエ
ステル、安息香酸−２−メチル−４−クロルフェニルエ
ステル、安息香酸−３−ブロムフェニルエステル、安息
香酸−４−二トリルフェニルエステル、安唐Ｃ香酸−２
，４−ジブロムフエニルエステル、安息香酸−３−ヨー
ドフェニルエステル、安息香酸−３−二Ｉ−口フェニル
エステル、安息香酸−４−メチル−２，６−シクロルフ
エニルエステル、安息香酸−４−イソプロピルフェニル
エステル、安息香酸−４−ｔ−ブチルフェニルエステル
、安息香酸−４−ベンジルフェニルエステル、支店、香
酸−４−（１−ナフチル）フェニルエステル、安息香酸
−２−ベンゾイルオキシフェニルエステル、安息香酸−
４−（２−メチル）ジフェニルエステル、安息香酸−２
−フェニルエチルオキシフェニルエステル、安息香酸−
２−アセトキシフェニルエステル、安息香酸−４−メト
キシフェニルエステル、安息香酸−４−（４−メチル）
フェノキシフェニルエステル、４−メチル安息香酸フェ
ニルエステル、４−メトキシ安息香酸フェニルエステル
、４−ブエノキシ安息香酸フエニルエステル、４−アセ
トキシ安息香酸フェニルエステル、４−メトキシ安息香
酸−４−メトキシフェニルエステル、２−アセトキシ安
息香酸フェニルエステル、２−ベンゾイルオキシ安息香
酸フェニルエステル、２−二トロ安息香酸−４−メチル
フェニルエステル、４−二トロ安息香酸−４−メチルフ
ェニルエステル、４−ベンゾイルオキシベンゾフェノン
、２−ベンゾイルオキシ−４−メチルベンゾフェノン。

（６）下記一般式（ＶＩＩＩ）で表わされるベンゾイル
オキシ安息香酸エステル類 （式中、Ｒ１′は水素、炭素数１〜３０のアルキル基も
しくはアルコキシ基又はハロゲン、Ｒは炭素数１〜３０
のアルキル基、置換又は未置換のアリールもしくはアル
アルキル基である） このような化合物の具体例としては、例えば、以下に示
すようなものが挙げられる。

４−ベンゾイルオキシ安息香酸メチルエステル、４−ベ
ンゾイルオキシ安息香酸エチルエステル、４−ベンゾイ
ルオキシ安息香酸−ｎ−プロピルエステル、４−ベンゾ
イルオキシ安息香酸ベンジルエステル、４−ベンゾイル
オキシ安息香酸フェニルエステル、２−ベンゾイルオキ
シ安息香酸アエニルエステル、４−（４’　−メチルベ
ンゾイルオキシ）安息香酸エチルエステル、４−（４’
−メトキシベンゾイルオキシ）安息香酸エチルエステル
、４−Ｃ４’−クロロベンゾイルオキシ）安息香酸エチ
ルエステル。

各支持体に対して転写層及び受容層を設ける場合、その
結合剤としては慣用のものが用いられ、例えば、ポリビ
ニルアルコール、メ１〜キシセルロース、ヒトＵキシエ
ヂルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ポリビ
ニルピロリドン、ポリアクリルアミド、ポリアクリル酸
、デンプン、ゼラチン、ポリスチレン、塩化ビニル−酢
酸ビニル共重合体、ポリブチルメタクリレ−１−などの
ような水溶性、有機溶剤可溶性又は水性エマルジョン形
成性のものを用いることができるが、殊に、転写層の場
合、融点又は軟化点が５０〜１３０℃を有する樹脂、例
えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、
石油樹脂、アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル
樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリビニルアルコール、セ
ルロース樹脂、ポリアミド、ポリアセタール、ポ１）カ
ーボネート、ボ響ジエステル、フッ素樹脂、けい素樹脂
、天然ゴム、塩化ゴム、ブタジェンゴム、オレフィンゴ
ム、フェノール樹脂、ユレア樹脂、メラミン樹脂、エポ
キシ樹脂、ポリイミド等を結合剤として用し）るのカス
好ましい。これらの樹脂は単独重合体、共重合体、ある
いは複数の樹脂の混合物の形で適宜用ｂＡられ、殊に、
ｓｐ値（溶解性パラメータ）が８以上、好ましくは９以
上のものの使用が好ましい。これらの樹脂を結着剤とし
て用いて転写シートを作成する場合、その転写形成液は
、溶剤塗布法、ホットメルト塗布法、又は水性エマルジ
ョン塗布法のｂ）ずれによっても塗布することができる
。

なお、前記ｓｐ値は、樹脂の溶解性ノτラメータを示す
もので、次の式で表わされる。

５、値〔（。８□／。。）”）＝（□／ｖ　＞ｈＥ・・
・樹脂の凝集エネルギー密度（Ｃａｔ／　ｍｏｌｅ）ｖ
−−−樹脂のモル体積（ｃｃ／ｍｏｌｅ）さらに、本発
明において、より高熱感度の転写媒体を得るためには、
前記熱可溶融性物質を含む転写層及び／又は受容層は、
その層形成時又は層形成後において、熱可溶融性物質の
融点以上の温度に熱処理を施し、熱可溶融性物質を一度
熱溶融させることが有利であり、さらに、ロイコ染料を
含む転写層を形成する場合、ロイコ染料を溶解状で含む
塗布液を用いることも好ましい手段である。

さらにまた、転写層及び／又は受容層の表面平度度（ベ
ックマン平滑度、ＪＩＳ　−Ｐ８１１９）を２００〜１
０００秒に調整することも有効である。

本発明の感熱転写媒体は、前記した各層形成成分を木等
の溶媒と共に、ボールミル、アトライター等の粉砕混合
手段によって分散溶解せしめて各層形成液を調製し、こ
れを各支持体上に乾燥付着量０．３〜３０ｇ／ｍとなる
ように塗布乾燥することによって得ることができる。

本発明で用いる転写シートにおいて、その表面に設ける
転写層は、支持体の全表面にわたって均一に設けたいわ
ゆる無地（無画像）状のものであってもよく、また、あ
らかじめ、所要の画像状に設けたものであってもよい。

無画像の転写層を持つ転写シートは、支持体の表面に、
転写層形成液を単に塗布することによって得ることがで
きる。一方、画像状の転写層を持つものは、支持体の表
面に、転写層形成液を、凸版印刷もしくは、グラビヤ印
刷法などにより、所要の画像（文字を含む）状に塗布す
ることによって得ることができるし、あるいは前記した
転写シー１への無画像の転写層の表面に、紙、合成紙、
プラスチックフィルム等の適当な支持体面を重ね、その
支持体側又は転写シー１へ側から、タイプライタ−や鉄
筆などの抑圧手段や、熱ヘッドや熱ペン等の加熱抑圧手
段により、画像状に押圧し、転写シートの無画像の転写
層を他の適当な支持体表面に画像状に付着させて得るこ
とができる。

本発明の感熱転写を行うには、例えば、画像状の転写層
を持つ転写シートを用いる場合、この転写層の面に受容
シートを、その受容層が接触するようにして重ね、これ
を加熱ロール間を通すことによって行うことができ、一
方、無画像の転写層を持つ転写シートを用いる場合には
、転写シートの転写層の面に受容シー１−の受容層を重
ね、転写シートの裏面から、サーマルプリンターを用い
て直接加熱印字することによって行うことができるし、
あるいは、転写シートの転写層の面に受容シーｌ−の受
容層を重ねると共に、さらにその転写シートの裏面に黒
色のインクで記載した原図を密着させ、受容シート面の
側から赤外線を照射し、その原図における黒色面色部の
みを選択的に高温に加熱することによって行うことがで
きる（なお、この場合の転写シート及び受容シートはい
ずれも赤外線に対して透過性のものであることが必要で
ある）。

本発明におけるような感熱転写においては、前記の繰作
を、同一の転写シートを用い、繰返し行うことにより、
多数枚のコピーを容易に得ることができる。また、多色
のコピーを得る場合には、異なる色調のロイコ染料を発
色主成分とした転写シートを作成し、例えば青色のロイ
コ染料による転写シートと赤色のロイコ染料による転写
シートを作成し、同一の受容シート上に転写により転写
画像を形成すれば、同一シート上に青色と赤色の発色画
像が形成できる。

〔効　果〕

本発明においては、ロイコ染料とその顕色剤とを、別々
の支持体上に含有せしめているので、従来の感熱紙に見
られたようなその製造時や保存時における発色カブリの
問題は全く生じず、さらに、得られたコピーは、その非
画像部には顕色剤のみが存在するだけで、ロイコ染料は
存在しないことから、これを加熱しても発色は生じない
（即ち、完全定着性のものである）。また、少量の加熱
エネルギーによって高濃度測色が得られ、かつ、同一の
転写シートを用いて多数枚のコピーが得られるため経済
的でもある。しかもこの場合に得られるコピーは、転写
シートの転写層からの受容シートの受容層へのロイコ染
料の移行が均一で、転写に際して少量ずつの染料移行が
行われるため、得られるコピーの画像濃度は均一化され
たものである。

〔実施例〕

次に本発明を実施例によりさらに詳細に説明する。なお
、以下において示す１部」及び「％」はいずれも重量基
準である。

実施例　１ アクリルポリオール　１５部 ポリイソシアネート　５　ｎ シリカ微粒子（平均粒径０．５〜１μｍ　）　５　ｎメ
チルエチルケトン　７５１７ 上記組成物をボールミルで２４時間分散後、ワイヤーバ
ーを用いて、１２μｍのポルエステルフィルムの表面に
塗布乾燥して表面粗さ１μｍの粗面化した支持体を得た
。

次に、感熱転写シートを作成するために、クリスタルバ
イオレットラクトン　１０部カルナバワックス　１Ｑｔ
ｔ エチルセルローズ　５　ｕ 水　７５ｎ より成るＡ液をボールミルを用いて２４時間分散後、ワ
イヤーバーを用いて、上記粗面化した支持体の表面に塗
布乾燥して付着量］、Ｏｇ／ｒｒｒの転写シーＩ・（Ａ
）を作成した。

次に、受容シートを作成するために、 ４−ヒドロキシ安息香酸ｒ１−ブチル　２０部エステル シリカ微粒子（吸油量２００ｍ　Ｑ　／　１００　ｇ　
）　１０　ｎポリビニルアルコール 水　］、００！＋ より成る組成物をボールミルを用いて２４時間分散後ワ
イヤーバーを用いて上質紙（３５ｇ／ｍ’）の表面に塗
布乾燥して伺着量５　ｇ　／　ｒｒ（の受容シートを作
成した。

実施例　２ 厚さ１２μｍのポリエステルフィルムを５％トリクル酢
酸溶液に５分間浸漬して水洗後、表面粗さが２．５μｍ
の粗面化した支持体を得た。

次に、上記支持体を用いる以外は実施例１と同様にして
転写シート（Ｂ）を作成した。

比較例　１ 実施例１の厚さ１２μｍの未粗面化ポリエステルフィル
ムの表面に前記Ａ液を実施例１と同様に塗布し、比較用
の転写シート（Ｃ）を作成した。

比較例　２ 実施例１において、支持体を粗面化する場合に、シリカ
微粒子（０．５〜１μｍ）の代りに、平均粒径が約５μ
ｍのものを用いて形成した表面粗さ５μｍの支持体を用
いた以外は同様にして比較用の転写シート（Ｄ）を作成
した。

以上のようにして得た転写シート（Ａ）　（Ｂ）　（Ｃ
）　（Ｄ）をそれぞれ前記受容シーＩ・と塗布面を接触
させ、転写シートの裏面にサーマルヘッドにより１ｍｊ
の加熱エネルギーを与えて熱転写を行なった。得られた
転写発色画像の濃度（マクベス濃度計により測定）を表
−１に示す。次の同一の転写シート（Ａ）（Ｂ）　（Ｃ
）　（ｏ）を用いて繰返しの転写を行い、その際に得ら
れたコピーの発色画像濃度を表−１に示す。

この表−１に示した結果から、本発明の転写シートは、
比較例のものに比べ高濃度で均一な画像濃度を与えるこ
とがわかる。

表−１

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）ロイコ染料を主成分とする転写層を支持体上に設
   けた転写シートと、該ロイコ染料に対する顕色剤を主成
   分とする受容層を支持体上に設けた受容シートとからな
   り、該転写層は、表面粗さが０．５〜３μｍの微細凹凸
   形状を有する支持体表面上に設けられていることを特徴
   とする感熱転写媒体１