JPS60226890A - プレセラミツク有機シラザン重合体 - Google Patents
プレセラミツク有機シラザン重合体Info
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- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title claims description 63
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 40
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 24
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 19
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 18
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 17
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims description 16
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims description 15
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 15
- -1 alkali metal alkoxide Chemical class 0.000 claims description 14
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims description 12
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 11
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 10
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 10
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 10
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 10
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 9
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 claims description 8
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 7
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 7
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 6
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 claims description 5
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 claims description 5
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 4
- INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N iodomethane Chemical compound IC INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052987 metal hydride Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000004681 metal hydrides Chemical class 0.000 claims description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical group C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims description 3
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical group [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 3
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 3
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011591 potassium Substances 0.000 claims description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011734 sodium Chemical group 0.000 claims description 3
- 150000001350 alkyl halides Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052744 lithium Chemical group 0.000 claims description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 2
- 150000002431 hydrogen Chemical group 0.000 claims 8
- 125000005103 alkyl silyl group Chemical group 0.000 claims 3
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims 2
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical group [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 108010013381 Porins Proteins 0.000 claims 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 claims 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 claims 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims 1
- 102000007739 porin activity proteins Human genes 0.000 claims 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 30
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 25
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 239000000047 product Substances 0.000 description 20
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 15
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 13
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 12
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 12
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 11
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 10
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 9
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 9
- 238000007710 freezing Methods 0.000 description 9
- 230000008014 freezing Effects 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 9
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000002411 thermogravimetry Methods 0.000 description 8
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 7
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 7
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 7
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- 241000894007 species Species 0.000 description 6
- 239000002585 base Substances 0.000 description 5
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 5
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 5
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 5
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 5
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 5
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 4
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 4
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 3
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 3
- 230000005595 deprotonation Effects 0.000 description 3
- 238000010537 deprotonation reaction Methods 0.000 description 3
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- QKDIBALFMZCURP-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-1$l^{3}-silinane Chemical compound C[Si]1CCCCC1 QKDIBALFMZCURP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241001072332 Monia Species 0.000 description 2
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N Tetrahydropyran Chemical compound C1CCOCC1 DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 229910000102 alkali metal hydride Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000008046 alkali metal hydrides Chemical class 0.000 description 2
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 2
- 238000005915 ammonolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000280 densification Methods 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 229910000069 nitrogen hydride Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- 239000012704 polymeric precursor Substances 0.000 description 2
- 238000000634 powder X-ray diffraction Methods 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- 238000007363 ring formation reaction Methods 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ODZPKZBBUMBTMG-UHFFFAOYSA-N sodium amide Chemical compound [NH2-].[Na+] ODZPKZBBUMBTMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XINQFOMFQFGGCQ-UHFFFAOYSA-L (2-dodecoxy-2-oxoethyl)-[6-[(2-dodecoxy-2-oxoethyl)-dimethylazaniumyl]hexyl]-dimethylazanium;dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].CCCCCCCCCCCCOC(=O)C[N+](C)(C)CCCCCC[N+](C)(C)CC(=O)OCCCCCCCCCCCC XINQFOMFQFGGCQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical group [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018954 NaNH2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000722114 Nabalus albus Species 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910001516 alkali metal iodide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical group 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005524 ceramic coating Methods 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 229920006037 cross link polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 150000004292 cyclic ethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 150000001983 dialkylethers Chemical class 0.000 description 1
- HAKOAQCVDUCPTM-UHFFFAOYSA-N dichloro(propan-2-yl)silane Chemical compound CC(C)[SiH](Cl)Cl HAKOAQCVDUCPTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004177 diethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000013399 edible fruits Nutrition 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 210000003746 feather Anatomy 0.000 description 1
- 210000003608 fece Anatomy 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 238000010574 gas phase reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002465 imidoyl halides Chemical class 0.000 description 1
- 230000008595 infiltration Effects 0.000 description 1
- 238000001764 infiltration Methods 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- HVTICUPFWKNHNG-UHFFFAOYSA-N iodoethane Chemical compound CCI HVTICUPFWKNHNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 239000012263 liquid product Substances 0.000 description 1
- 239000010871 livestock manure Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 238000003760 magnetic stirring Methods 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- VRSGUQGYSUXDGX-UHFFFAOYSA-N methanamine Chemical compound CN.CN.CN.CN VRSGUQGYSUXDGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005055 methyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052863 mullite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005121 nitriding Methods 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012454 non-polar solvent Substances 0.000 description 1
- 238000013421 nuclear magnetic resonance imaging Methods 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920005547 polycyclic aromatic hydrocarbon Polymers 0.000 description 1
- 229920005594 polymer fiber Polymers 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- NTTOTNSKUYCDAV-UHFFFAOYSA-N potassium hydride Chemical compound [KH] NTTOTNSKUYCDAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000105 potassium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000000425 proton nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000005297 pyrex Substances 0.000 description 1
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 239000012744 reinforcing agent Substances 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004626 scanning electron microscopy Methods 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 238000000526 short-path distillation Methods 0.000 description 1
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical compound [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 1
- 235000014347 soups Nutrition 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000009987 spinning Methods 0.000 description 1
- 238000010561 standard procedure Methods 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 239000013638 trimer Substances 0.000 description 1
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 1
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
- 239000002759 woven fabric Substances 0.000 description 1
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/60—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule in which all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms
- C08G77/62—Nitrogen atoms
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- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、 Sx、N4/StCセラミックス製造に有
用な有機シラザン重合体およびそれから製造した成形品
、およびこのような有機シラザン重合体を製造し、これ
を熱分解してセラミック材料とする方法に関する。
用な有機シラザン重合体およびそれから製造した成形品
、およびこのような有機シラザン重合体を製造し、これ
を熱分解してセラミック材料とする方法に関する。
窒化珪素、炭化珪素およびこれらの混合物はセラミック
材料として注目されている。これらは。
材料として注目されている。これらは。
高い熱ならびに酸化安定性を有し、もし最大理論密度を
達成することができるならば大気圧で製造し得る最も固
い物質の中に入る。その他の有利な特性としては、低電
気伝導度、低い熱膨張率、優れた耐熱衝撃性および耐ク
リープ性、高温での高い強度および耐蝕性がある。
達成することができるならば大気圧で製造し得る最も固
い物質の中に入る。その他の有利な特性としては、低電
気伝導度、低い熱膨張率、優れた耐熱衝撃性および耐ク
リープ性、高温での高い強度および耐蝕性がある。
窒化珪素および窒化珪素/炭化珪素材料における経済的
重機性は高い。窒化珪素の製造にはこれまで三つの主経
路があった: (1)気体状窒素の元素状珪素との高温反応(「窒化」
); (2)比較的高温でのアノモニアのクロルシラ/(Si
C6,、H8lCe3. H2SlCe2) ト(D気
相反応;および (3)溶液中テノア/モニアノ5ICe4マタハHsI
Ce3との反応とそれに続く塩化ア/モニウム除去後の
不溶性のア/モノリンス生成物の熱分解。
重機性は高い。窒化珪素の製造にはこれまで三つの主経
路があった: (1)気体状窒素の元素状珪素との高温反応(「窒化」
); (2)比較的高温でのアノモニアのクロルシラ/(Si
C6,、H8lCe3. H2SlCe2) ト(D気
相反応;および (3)溶液中テノア/モニアノ5ICe4マタハHsI
Ce3との反応とそれに続く塩化ア/モニウム除去後の
不溶性のア/モノリンス生成物の熱分解。
最近では、セイファース(Seyferth)外、J。
Amer、 Ceram、 5oc−66s c−3ペ
ージからC−14ペー9(1983)には、適当な溶媒
中でのアノモニアのH2SlCe2 との反応による可
溶性シラザン重合体の形成が記載されている。この重合
体は。
ージからC−14ペー9(1983)には、適当な溶媒
中でのアノモニアのH2SlCe2 との反応による可
溶性シラザン重合体の形成が記載されている。この重合
体は。
窒素雰囲気中で熱分解させてSt 3N、を生成させる
ことができる。
ことができる。
上のセイファース(Seyferth)外によって記載
されたようなプレセラミック重合体物鵞には今日大きな
関心が持たれており、このものの熱分解によシ5t3N
、、 SiCまたは813N−IC物鵞が得られる。こ
のような重合体に対する用途には特に次のものがある: 1)複雑な形のものを形成し、続いて熱分解して同じ形
のセラミック材料を得′る: 2)紡糸して連続した繊維とし1次いでこれを熱分解し
て、セラミック繊維を得る; 3)炭素またはセラミック繊維用のマトリックス材料と
して、またはセラミック粉末用結合剤として(次に熱分
解してセラミック体を形成するため); 4)酸化を受け得る材料(熱分解グラファイトのような
)上の耐酸化被膜(重合体被覆を行なった後、このもの
を熱分解して耐性のセラミック被膜を得ることができる
); 5)反応焼結させた窒化珪素から得たセラミック体のよ
うな有孔セラミック体の1重合体自体(液体の場合)ま
たはこの重合体の溶液による浸透とそれに続く熱分解に
よりセラミックを形成させ、その結果そのセラミック体
の強度、耐酸化性等を増す;および 6)エレクトロニクス用のセラミック材料の薄膜の形成
。
されたようなプレセラミック重合体物鵞には今日大きな
関心が持たれており、このものの熱分解によシ5t3N
、、 SiCまたは813N−IC物鵞が得られる。こ
のような重合体に対する用途には特に次のものがある: 1)複雑な形のものを形成し、続いて熱分解して同じ形
のセラミック材料を得′る: 2)紡糸して連続した繊維とし1次いでこれを熱分解し
て、セラミック繊維を得る; 3)炭素またはセラミック繊維用のマトリックス材料と
して、またはセラミック粉末用結合剤として(次に熱分
解してセラミック体を形成するため); 4)酸化を受け得る材料(熱分解グラファイトのような
)上の耐酸化被膜(重合体被覆を行なった後、このもの
を熱分解して耐性のセラミック被膜を得ることができる
); 5)反応焼結させた窒化珪素から得たセラミック体のよ
うな有孔セラミック体の1重合体自体(液体の場合)ま
たはこの重合体の溶液による浸透とそれに続く熱分解に
よりセラミックを形成させ、その結果そのセラミック体
の強度、耐酸化性等を増す;および 6)エレクトロニクス用のセラミック材料の薄膜の形成
。
Sci、27.第3751−61−、−ジ(1982)
にはポリカーボンラザ/先駆体からの炭化珪素−窒化珪
素繊維の製造が記載されている。トリス(N−メチルア
ミン)メチルンラ/単量体は、乾燥石油エーテル中での
モノメチルアミ/とメチルトリクロルシラ/との反応に
よって形成され%ポリカーボンラザ/樹脂は、この単量
体を、520℃でガラスのラーシツヒリ/ダ上を通すご
とによシ形成された。この脆性重合体は塩化メチレ/お
よびクロロホルムなどに可溶性であった。この生成物を
紡糸して、繊維とし、空気中で架橋し1次に熱分解して
セラミック繊維を得ている。
にはポリカーボンラザ/先駆体からの炭化珪素−窒化珪
素繊維の製造が記載されている。トリス(N−メチルア
ミン)メチルンラ/単量体は、乾燥石油エーテル中での
モノメチルアミ/とメチルトリクロルシラ/との反応に
よって形成され%ポリカーボンラザ/樹脂は、この単量
体を、520℃でガラスのラーシツヒリ/ダ上を通すご
とによシ形成された。この脆性重合体は塩化メチレ/お
よびクロロホルムなどに可溶性であった。この生成物を
紡糸して、繊維とし、空気中で架橋し1次に熱分解して
セラミック繊維を得ている。
その他の、炭化珪素および窒化珪素セラミック形成用重
合体先駆体は、米国特許第310a985号;3g53
s67号;a894583号:431Q651号および
431名970号;に記載されている。これらの直鎖状
または架橋重合体およびセラミック羽料製造法は一般に
1またはそれ以上の点で不十分であることがわかった。
合体先駆体は、米国特許第310a985号;3g53
s67号;a894583号:431Q651号および
431名970号;に記載されている。これらの直鎖状
または架橋重合体およびセラミック羽料製造法は一般に
1またはそれ以上の点で不十分であることがわかった。
容易に得ることができしかも比較的安価な出発物濁から
高収率で形成され;液体であるかまたはもし固体である
ならは有機溶媒に可溶性であシ:室温で長時間安定であ
シ;大気水分による加水分解に対して比較的安定であシ
;シかも熱分解によ)高収率のセラミック材料を与える
ことができる、813N4/SICセラミツク材料用の
重合体先駆体を得ることはたいへん望ましいことであろ
う。
高収率で形成され;液体であるかまたはもし固体である
ならは有機溶媒に可溶性であシ:室温で長時間安定であ
シ;大気水分による加水分解に対して比較的安定であシ
;シかも熱分解によ)高収率のセラミック材料を与える
ことができる、813N4/SICセラミツク材料用の
重合体先駆体を得ることはたいへん望ましいことであろ
う。
上記の望ましい性質の多くは本発明のプレセラミンク重
合体によって与えられるが、これは複数の1式■: のS1□N2 橋によりてお互いに結合している式l:
の反復単位の環状および/または直鎖状先駆体残基、よ
り成っている。式中、Rは、水素、炭素原子1ないし約
6個を有する低級アルキル基、置換または非置換ビニル
基、置換または非置換アリル基、置換または非置換ば/
ジル基、炭素原子6ないし約10個を有する置換または
非置換の低級アリール基、トリ(低級)アルキル−また
は′)(低級)アルキルアミノ基、ジ(低級)アルキル
アミノ基、炭素原子1ないし約6個を有する低級アルコ
キシ基、であり:nは1より大きい整数である。
合体によって与えられるが、これは複数の1式■: のS1□N2 橋によりてお互いに結合している式l:
の反復単位の環状および/または直鎖状先駆体残基、よ
り成っている。式中、Rは、水素、炭素原子1ないし約
6個を有する低級アルキル基、置換または非置換ビニル
基、置換または非置換アリル基、置換または非置換ば/
ジル基、炭素原子6ないし約10個を有する置換または
非置換の低級アリール基、トリ(低級)アルキル−また
は′)(低級)アルキルアミノ基、ジ(低級)アルキル
アミノ基、炭素原子1ないし約6個を有する低級アルコ
キシ基、であり:nは1より大きい整数である。
置換されている基は、低級アルキル基および低級アリー
ル基で置換されている。
ル基で置換されている。
これらの重合体は′ir規なはしご様または平面配列構
造を形成し、これらは普通の有機溶媒に可溶性であシ、
室温で安定であって、しかも約550℃まで熱的に安定
である。本発明のはしご様または平面配列重合体は、珪
゛素に隣接するNH官能基を脱プロト/化することので
きる塩基性触媒の存在における。環状および/または直
鎖状の残基の反応によって高収率で形IJX、キれる。
造を形成し、これらは普通の有機溶媒に可溶性であシ、
室温で安定であって、しかも約550℃まで熱的に安定
である。本発明のはしご様または平面配列重合体は、珪
゛素に隣接するNH官能基を脱プロト/化することので
きる塩基性触媒の存在における。環状および/または直
鎖状の残基の反応によって高収率で形IJX、キれる。
このような重合体を熱分解すると、窒化珪素−炭化珪素
物質を高収率で生成させることができる。
物質を高収率で生成させることができる。
これらの重合体は、窒化珪素または窒化珪累−炭化珪素
の種々の造形品(繊維、フィラメント。
の種々の造形品(繊維、フィラメント。
フレーク、粉末、フィルム、被膜、およびこれに類する
もの、ならびに、マット、織布、スラブ。
もの、ならびに、マット、織布、スラブ。
スリーブ、構造用複合材料、などのような他の製品、を
含む)を製造するのに有用である。このような造形品は
、その化学組成のために、また、高温まで耐酸化性であ
る拐料となる。この材料9良好な物性とすばらしい機械
的強度のため、これらは繊維、フィラメントおよびフレ
ークの形で、プラスチック、ガラス、セラミック材料お
よび金属の強化剤としてたいへん適している。類似の被
膜は高温での腐蝕および酸化に対して保護されるべき装
置の部品の内張シに適しており、一方このようなセラミ
ック材料のフオームは、耐熱性および耐蝕性絶縁材料お
よびフィルター材料または触媒担体として非常に有利に
使用することができる。
含む)を製造するのに有用である。このような造形品は
、その化学組成のために、また、高温まで耐酸化性であ
る拐料となる。この材料9良好な物性とすばらしい機械
的強度のため、これらは繊維、フィラメントおよびフレ
ークの形で、プラスチック、ガラス、セラミック材料お
よび金属の強化剤としてたいへん適している。類似の被
膜は高温での腐蝕および酸化に対して保護されるべき装
置の部品の内張シに適しており、一方このようなセラミ
ック材料のフオームは、耐熱性および耐蝕性絶縁材料お
よびフィルター材料または触媒担体として非常に有利に
使用することができる。
これらの混合物の管、るつは、/Lんがまたはこれに類
するものは、その良好彦耐薬品性のために高温材料とし
て使用するのに適している。
するものは、その良好彦耐薬品性のために高温材料とし
て使用するのに適している。
本発明の重合体は、S10 StC,513N4.B2
O3゜2@ BC−BN、Ag2C3,Ag4C3,AeN、TlG
2.TlG。
O3゜2@ BC−BN、Ag2C3,Ag4C3,AeN、TlG
2.TlG。
TiN、 ZrO2,ZrG、等のようなセラミック粉
末用の結合剤として、そしてSIC,St、2゜St
3N、 。
末用の結合剤として、そしてSIC,St、2゜St
3N、 。
BN、グラ7フイ)、Ag2O3,84G、ナトI)ヨ
うなセラミック繊維または上記のリストからの粉末およ
び繊維の種々の混合物、用の母材として特に有用である
。
うなセラミック繊維または上記のリストからの粉末およ
び繊維の種々の混合物、用の母材として特に有用である
。
こうして1本発明の重合体は、下肥の路体構造;によっ
て表すことができる。式中、RV′i、上に定義したa
シの置換基であ)、xおよびyは各々別個にOまたは正
の整数であシ、そしてmは1よシ大きい整数でありて、
Xおよびyはその重合体中の各先駆体残基について同一
であるかまたは異なっていてよい。さらに1式■のSi
□N2橋は、このような直線状のはしご様重合体を下に
示したような(構造IV )結合したはしごの平面配列
に結びつけることができる。
て表すことができる。式中、RV′i、上に定義したa
シの置換基であ)、xおよびyは各々別個にOまたは正
の整数であシ、そしてmは1よシ大きい整数でありて、
Xおよびyはその重合体中の各先駆体残基について同一
であるかまたは異なっていてよい。さらに1式■のSi
□N2橋は、このような直線状のはしご様重合体を下に
示したような(構造IV )結合したはしごの平面配列
に結びつけることができる。
式中、Xおよびmは上に定義した通プであシ&7’およ
びm′はyおよびmについて上に定義したのと同じ意味
を有する。
びm′はyおよびmについて上に定義したのと同じ意味
を有する。
すべての塩基性基が1例えは沃化メチルで反応停止(q
uench)させられているときは、これらの重合体は
その構造成分によって、(R8iHNH)a−(RsI
HNCH3)b(R8IN)。トじテ表ワスコトカテキ
る。ここでa、bおよびCは各型の構造単位のモル分率
である(a+b+c=1)aこの各特定重合体調製品の
構造は、プロ)/NMR分光法(有機基の水素原子のシ
グナル、、N−0H3,5t−HおよびN−Hプロト/
シグナルの積分)および/またはC,H,、NおよびS
l に対する燃焼分析によって得られ、これはその重合
体の官能構造を明らかにするのに役立つ請求電子性反応
停止(quenching)試薬で処理する前には、溶
液中に存在する重合体種は(R8iHNH)a(R8i
HNM)b(R8iN)。(KH−触媒を用いる反応の
場合にはM=にであシ:さらに一般的には1Mは使用す
る塩基性触媒によって。
uench)させられているときは、これらの重合体は
その構造成分によって、(R8iHNH)a−(RsI
HNCH3)b(R8IN)。トじテ表ワスコトカテキ
る。ここでa、bおよびCは各型の構造単位のモル分率
である(a+b+c=1)aこの各特定重合体調製品の
構造は、プロ)/NMR分光法(有機基の水素原子のシ
グナル、、N−0H3,5t−HおよびN−Hプロト/
シグナルの積分)および/またはC,H,、NおよびS
l に対する燃焼分析によって得られ、これはその重合
体の官能構造を明らかにするのに役立つ請求電子性反応
停止(quenching)試薬で処理する前には、溶
液中に存在する重合体種は(R8iHNH)a(R8i
HNM)b(R8iN)。(KH−触媒を用いる反応の
場合にはM=にであシ:さらに一般的には1Mは使用す
る塩基性触媒によって。
アルカリ今風または偽当量のアルカリ土類金属。
などである)型のものであろう。
本発明の実抱に有用なR8IHCe2 ア/モノリンス
生成物(l(、!およびyが上に定戎した通シである式
Vの環状先駆体、および2が1よシ大きい整数である式
■のおそらく直鎖状先駆体)は。
生成物(l(、!およびyが上に定戎した通シである式
Vの環状先駆体、および2が1よシ大きい整数である式
■のおそらく直鎖状先駆体)は。
■
溶液中で無水ア/モニアを式l1l(ここでRは上に定
義した通りであシ、Xは)・ロゲ/原子または他の電気
的に陰性の原子または基であってこの原子または基は無
水ア/モニアまたはアミドイオ/との反応によfi N
H2で置き換えることができる)。
義した通りであシ、Xは)・ロゲ/原子または他の電気
的に陰性の原子または基であってこの原子または基は無
水ア/モニアまたはアミドイオ/との反応によfi N
H2で置き換えることができる)。
の珪素化合物と反応させることによって製造することが
できる。好ましくは、Xは塩素または臭累である。
できる。好ましくは、Xは塩素または臭累である。
適当なR基としては、水嵩、メチル基、エチル基、n−
プロピル基、イソプロピル基などのような炭素原チェな
いし約6個を有する直釦および分枝鎖状低級アルキル基
:ビニル払、アリル基、べ/:)ル基:メトギン基、エ
トキン基、n−プロポキン基、イソプロポキン敞、t−
ブトキン柄などのような低級アルコキシ基;ジメチル−
、ジエチル−、メチルエチル−、ジイソプロピル−アミ
ノ基などのような:)(低級)アルキルアミノ基ニトリ
メチル−、ジメチル−、トリエチルーンリル基などのよ
うなトリーおよびジー(低級)アルキルーシリル基;フ
ェニル基。トリル基、ギンリル基などのような炭素原子
6ないし約10個を含有する低級アリール基およびN、
N−ジメチルアミノフェニル基、トリメチルンリルフェ
ニル基などのように置換された上記の基;がある。低級
アルキルまたはアリール基がR基上の置換基として使用
されるときは、これらは上のリストから選択格れる。
プロピル基、イソプロピル基などのような炭素原チェな
いし約6個を有する直釦および分枝鎖状低級アルキル基
:ビニル払、アリル基、べ/:)ル基:メトギン基、エ
トキン基、n−プロポキン基、イソプロポキン敞、t−
ブトキン柄などのような低級アルコキシ基;ジメチル−
、ジエチル−、メチルエチル−、ジイソプロピル−アミ
ノ基などのような:)(低級)アルキルアミノ基ニトリ
メチル−、ジメチル−、トリエチルーンリル基などのよ
うなトリーおよびジー(低級)アルキルーシリル基;フ
ェニル基。トリル基、ギンリル基などのような炭素原子
6ないし約10個を含有する低級アリール基およびN、
N−ジメチルアミノフェニル基、トリメチルンリルフェ
ニル基などのように置換された上記の基;がある。低級
アルキルまたはアリール基がR基上の置換基として使用
されるときは、これらは上のリストから選択格れる。
コノヨう10H3SIHGe2オj U他ノf(SIH
Ci1!2(7)ア/モノリンス反応は、ニス・ディー
・プルワー(S、D、Brewer)およびシー・ピー
、ヘイバー(C。
Ci1!2(7)ア/モノリンス反応は、ニス・ディー
・プルワー(S、D、Brewer)およびシー・ピー
、ヘイバー(C。
P、Haber)、 J、 Amer、 Ohem、
Soc、 l 948゜70.3888−91; ケイ
・エイ・ア/トリアノ88L178号に記載されておシ
、これらの報告内容は参照によシ本明細書に含まれる。
Soc、 l 948゜70.3888−91; ケイ
・エイ・ア/トリアノ88L178号に記載されておシ
、これらの報告内容は参照によシ本明細書に含まれる。
式Iの反復単位を有する。環状種およびおそらくはいく
つかの直鎖状の種(各々Vおよび■)の混合物が得られ
る。一般に、先駆体残基はnが約3から約12までであ
る種(R8tHNH)n、から成りている。
つかの直鎖状の種(各々Vおよび■)の混合物が得られ
る。一般に、先駆体残基はnが約3から約12までであ
る種(R8tHNH)n、から成りている。
このア/モノリンス生成物混合物は脱プロトン化触媒を
用いた溶液中での反応によシ重合され。
用いた溶液中での反応によシ重合され。
本発明のはしご様重合体または平面配列重合体が得られ
る。典型的には1重合体あたシの先駆体残基の数は、3
から約10までの範囲である。実際には1重合体中の平
均先駆体残基数は7から9″&での範囲にあった。
る。典型的には1重合体あたシの先駆体残基の数は、3
から約10までの範囲である。実際には1重合体中の平
均先駆体残基数は7から9″&での範囲にあった。
NH官能基を脱プロトン化することのできる塩基はどれ
でも触媒として使用することができる。
でも触媒として使用することができる。
適当な塩基性触媒剤には、水素化カリウム、水素化ナト
リウムなどのようなアルカリおよびアルカリ土類金属水
素化物: KB(、Sθc−C4H9)3H。
リウムなどのようなアルカリおよびアルカリ土類金属水
素化物: KB(、Sθc−C4H9)3H。
LIB(C2H5)3H,LtAJ(QC4H0)3H
fxト(Dヨウfz複合金属水素化物;カリウム、ナト
リウムまたはりチウムアルコキシドのようなアルカリ金
属アルコキシV;無水アルカリ金属アルコキシド:((
OH3)3Si)2NM (ここでMはアルカリ金属ま
たは≠当量のカルシウム、バリウム、ストロンチウムな
どのようなアルカリ土類全組である)のようなアルカリ
金属シリルアミド:アルカリ金属(単独またはナフタレ
ンのような亀子親和性の高い多核芳香族炭化水素と組み
会わせて)またはこれに類するもの;がある。
fxト(Dヨウfz複合金属水素化物;カリウム、ナト
リウムまたはりチウムアルコキシドのようなアルカリ金
属アルコキシV;無水アルカリ金属アルコキシド:((
OH3)3Si)2NM (ここでMはアルカリ金属ま
たは≠当量のカルシウム、バリウム、ストロンチウムな
どのようなアルカリ土類全組である)のようなアルカリ
金属シリルアミド:アルカリ金属(単独またはナフタレ
ンのような亀子親和性の高い多核芳香族炭化水素と組み
会わせて)またはこれに類するもの;がある。
この反応は触媒反応であるので、少量の塩基性触媒((
R8IHNH)反復単位を基準にして0.1−10モル
/ξ−セント)が必要とされるたけである。
R8IHNH)反復単位を基準にして0.1−10モル
/ξ−セント)が必要とされるたけである。
このように少量を使用するとき、一般に最終的な上2ミ
ック収率は比較的高い。しかしながら、これよシ多量の
塩基性触媒を使用することができ(実施例13を参照)
、事実、さらに多い量を使用すると1次の、適当な電子
試薬との反応によ2重合体の変性を行なうのに有用であ
り得る。
ック収率は比較的高い。しかしながら、これよシ多量の
塩基性触媒を使用することができ(実施例13を参照)
、事実、さらに多い量を使用すると1次の、適当な電子
試薬との反応によ2重合体の変性を行なうのに有用であ
り得る。
脱プロトン化/重合工程に使用することができる溶媒に
は、ジアルキルエーテル(特にジエチルエーテル)、テ
トラヒト80フラン(THF)、テトラヒドロピランm
L4−’オキサン、およびこれに類するもののような環
状エーテル、およびグリコールエーテル、のようなエー
テル類; ハy タ:y 。
は、ジアルキルエーテル(特にジエチルエーテル)、テ
トラヒト80フラン(THF)、テトラヒドロピランm
L4−’オキサン、およびこれに類するもののような環
状エーテル、およびグリコールエーテル、のようなエー
テル類; ハy タ:y 。
ヘキサンおよびこれに類するもののような脂肪族炭化水
素;およびベンゼン、トルエン、キシレ/およびこれに
類するもののような芳香族炭化水素;が含まれる。
素;およびベンゼン、トルエン、キシレ/およびこれに
類するもののような芳香族炭化水素;が含まれる。
脱プロトン化/重合工程は、一般に周囲温度で実幡され
るが、さらに高い温度(25℃ないし200°)1例え
ばテトラヒドロフラン溶液中還流温度(66℃)、また
はさらに低い温度(例えばテトラヒト90フラン溶液中
θ℃)で実検することができる。
るが、さらに高い温度(25℃ないし200°)1例え
ばテトラヒドロフラン溶液中還流温度(66℃)、また
はさらに低い温度(例えばテトラヒト90フラン溶液中
θ℃)で実検することができる。
実際にはこの反応の完了時の重合反応混合物を。
塩基性触媒種(重合体構造中に存在しているものを含む
)を分解するために、7リルアミド官能承と反応するこ
とができる継子化合物で処理するのが好ましい。こうし
た電子化合物には、有機ハロゲン化物(例えば沃化メチ
ルおよびエチルのような低級アルキルハロゲン化物:ハ
ロゲン化アリルおよびベンジル、ハロゲノ化アシルおよ
びイミドイル)、無水プロト/酸および有機酸、アルコ
ール、およびトリーおよびジー有機クロルシラ7 ((
OH3)3SiGe、(OH3)2H8iC/、(C;
2H5)3SiCe。
)を分解するために、7リルアミド官能承と反応するこ
とができる継子化合物で処理するのが好ましい。こうし
た電子化合物には、有機ハロゲン化物(例えば沃化メチ
ルおよびエチルのような低級アルキルハロゲン化物:ハ
ロゲン化アリルおよびベンジル、ハロゲノ化アシルおよ
びイミドイル)、無水プロト/酸および有機酸、アルコ
ール、およびトリーおよびジー有機クロルシラ7 ((
OH3)3SiGe、(OH3)2H8iC/、(C;
2H5)3SiCe。
C6H3(CH3)2St(J、 k l: U コレ
Vc類fルモノノjうなもの〕がある。゛まだ、溶液中
の架橋重曾体種を目的とすると@は多官能価求電子物質
を使用することができる。この中には、有機ジハロシラ
ン(例えハCH35IHCe2オヨヒ(CH3)28I
Ce2)。
Vc類fルモノノjうなもの〕がある。゛まだ、溶液中
の架橋重曾体種を目的とすると@は多官能価求電子物質
を使用することができる。この中には、有機ジハロシラ
ン(例えハCH35IHCe2オヨヒ(CH3)28I
Ce2)。
) リハo シーj y (物見ff H81Oe3.
0H3SiCe3)。
0H3SiCe3)。
テトラハロ7ラン(例えば5ick、)、)リハリジン
化ホウ累、ハロゲン化シアヌル、B−トリクロルボンジ
ン、有機ジハロゲン化物(二塩基酸の酸ハロゲン化物の
よりなもの)などがある。
化ホウ累、ハロゲン化シアヌル、B−トリクロルボンジ
ン、有機ジハロゲン化物(二塩基酸の酸ハロゲン化物の
よりなもの)などがある。
式mおよび■の重合体は、出発物質および反応条件によ
って1種々の形1例えば有機−可溶性粉末、ろう様固体
または粘稠なろう様物質(実施例4−14の表を径間)
、で得ることができる。
って1種々の形1例えば有機−可溶性粉末、ろう様固体
または粘稠なろう様物質(実施例4−14の表を径間)
、で得ることができる。
理論によって縛られることは望まないけれども。
塩基によシ触媒作用される重合反応には、先駆体が少な
くとも2単位存在することが必要であると考えられる。
くとも2単位存在することが必要であると考えられる。
強塩基を用いたN−H官能基の脱プロト/化によシ1つ
のアミド官能基と2水素(H2)が発生する: 次に2つのこのような単位が結合して4員の81□N2
環が形成され、金属水素化物が再生される:この環形成
反応の機構はまだ知られていない。この反応は有機金属
経路によるかまたは’;5t=N−中間体を経て進行す
るであろう。しかしながら。
のアミド官能基と2水素(H2)が発生する: 次に2つのこのような単位が結合して4員の81□N2
環が形成され、金属水素化物が再生される:この環形成
反応の機構はまだ知られていない。この反応は有機金属
経路によるかまたは’;5t=N−中間体を経て進行す
るであろう。しかしながら。
環形成過程でアルカリ金属水素化物か発生するので1重
合を開始させるために触媒量の塩基だけが必要とされる
。アルカリ金属水素化物は強塩基であり、このため重合
を続けさせるであろう。それ放圧1重合を開始させるた
めにこの糸にどんな塩基性触媒を加えても1M合の進行
につれて有効な触媒はまもなく金属水素化物になるであ
ろう。従って追加の先駆体がはしご様の鎖に加えられる
。
合を開始させるために触媒量の塩基だけが必要とされる
。アルカリ金属水素化物は強塩基であり、このため重合
を続けさせるであろう。それ放圧1重合を開始させるた
めにこの糸にどんな塩基性触媒を加えても1M合の進行
につれて有効な触媒はまもなく金属水素化物になるであ
ろう。従って追加の先駆体がはしご様の鎖に加えられる
。
R8tHOg2 アンモノリシス生成物がすべて消費さ
れたとき塩基性部位(すなわちシリルアミド部位)がま
だ残っておシ、「リビングポリマー」。
れたとき塩基性部位(すなわちシリルアミド部位)がま
だ残っておシ、「リビングポリマー」。
すなわち先駆体とさらに反応しうる重合体が得られるこ
とに注目すべきである。また、これらの反る重合体が残
留していることも注目されるべきであるうこれらの単位
は比較的高温で熱的にひき起こされる架橋工程のための
手段を与え、さらに高いセラミック収率を達成するのに
役立つ。
とに注目すべきである。また、これらの反る重合体が残
留していることも注目されるべきであるうこれらの単位
は比較的高温で熱的にひき起こされる架橋工程のための
手段を与え、さらに高いセラミック収率を達成するのに
役立つ。
本発明は下記の実捲例によりてさらに具体的に説明され
るであろう。
るであろう。
1リツトルの三ツ首フラスコに頭上機械かくはん機、水
銀噴出装置に導く冷(−78℃)凝縮器および蓋をとり
つけ、これを強い窒素流下で火炎で乾燥させた(以下「
標準反応装置」という)。
銀噴出装置に導く冷(−78℃)凝縮器および蓋をとり
つけ、これを強い窒素流下で火炎で乾燥させた(以下「
標準反応装置」という)。
ジエチルエーテル(350++t/、ナトリウムベンゾ
轡 フェノンから蒸留したもの)およびCH3SIHCg2
(金属マグネシウムから蒸留) 32.1.9 (0,
279モル)をこのフラスコに加え、0℃に冷却した。
轡 フェノンから蒸留したもの)およびCH3SIHCg2
(金属マグネシウムから蒸留) 32.1.9 (0,
279モル)をこのフラスコに加え、0℃に冷却した。
過剰の気体状アンモニアしマテンン(Matheson
) 。
) 。
KOHベレットのカラムを通すことによって乾燥させた
〕を、かくはんしながら、シリンジの針を通して2.O
d気体/秒の速度で4時間この溶液に加えた。全体で1
.18モルのNH3を加えた。
〕を、かくはんしながら、シリンジの針を通して2.O
d気体/秒の速度で4時間この溶液に加えた。全体で1
.18モルのNH3を加えた。
この反応混合物を室温まであたためて1反応油合物をさ
らに4時間かくはんしたが、その際変化しなかったアン
モニアが逃げられるように冷凝縮器を空気凝縮器で置き
変えた。反応混合物の濾過(ドライボックス中)(35
0−の中度−ガラスロート)により、沈殿した塩化アン
モニウムを除シップートウートラップ(trap −t
o −trap) 蒸留しく室温70.03mH,!i
’ )、 :)xチルx−fルを除去した。残留物であ
る(OH3SIHNH)xは、透明な流動性の液体であ
った(11.63.L70%収率)。
らに4時間かくはんしたが、その際変化しなかったアン
モニアが逃げられるように冷凝縮器を空気凝縮器で置き
変えた。反応混合物の濾過(ドライボックス中)(35
0−の中度−ガラスロート)により、沈殿した塩化アン
モニウムを除シップートウートラップ(trap −t
o −trap) 蒸留しく室温70.03mH,!i
’ )、 :)xチルx−fルを除去した。残留物であ
る(OH3SIHNH)xは、透明な流動性の液体であ
った(11.63.L70%収率)。
分析 CH3N51としテノ計算値:C,20,31;
H,8,52;N、 23.68 実測値:C,20,27;H,8,42;N、23.6
4 ”HNMR(270MHz、 CDC+、//cH(J
3): a O,17(巾広1〜3H,5iCH3)。
H,8,52;N、 23.68 実測値:C,20,27;H,8,42;N、23.6
4 ”HNMR(270MHz、 CDC+、//cH(J
3): a O,17(巾広1〜3H,5iCH3)。
4.37(巾広、 〜0.13H。
5tH)、4.63 (巾広、 〜0.70H,5IH
)、4.81(巾広、〜0.17H,51H)、 0.
7−1.1 (巾広、〜1H,’NH)。
)、4.81(巾広、〜0.17H,51H)、 0.
7−1.1 (巾広、〜1H,’NH)。
IR(薄膜、 cm−”): 3380(ml、296
0[ml。
0[ml。
2900(Wl、2120 (s、ν5iH)、140
5(wl。
5(wl。
1253 (s、 5i−OH3)、 1175 (b
r、 s)。
r、 s)。
792 (sh)、765 (eh)。723(sh)
、608(W)= 他の同様の反応では85%までの収率の(OH3StH
NH)Xが得られた。いくつかの製造例の分子量測定値
(ベンゼン中の凝固点降下法)は。
、608(W)= 他の同様の反応では85%までの収率の(OH3StH
NH)Xが得られた。いくつかの製造例の分子量測定値
(ベンゼン中の凝固点降下法)は。
280−320#1モル(X−4,7−5,4)の範囲
であった。種々のカラム温度を用いた液体生成物のガス
クロマトグラフィー(GC;)分析は成功しなかった。
であった。種々のカラム温度を用いた液体生成物のガス
クロマトグラフィー(GC;)分析は成功しなかった。
短路蒸留(80℃、10”w)’J’)を行なって、は
っきりした沸点をもたなる透明な液体分画を25重量%
収率で、そして不揮発性の液体残留物を75重tチ収率
で得た。すべての分画は非常によく似たIHNMRおよ
びIRスイクトルを有していた。これらの生成物は、室
温で全く安定であるように思われた。
っきりした沸点をもたなる透明な液体分画を25重量%
収率で、そして不揮発性の液体残留物を75重tチ収率
で得た。すべての分画は非常によく似たIHNMRおよ
びIRスイクトルを有していた。これらの生成物は、室
温で全く安定であるように思われた。
2、べ/ゼン中
前記1の方法を用いて、乾燥に/セン500WLe中ノ
0H3SiHCJ233.15.51 (0,278モ
ル)を0℃で、過剰の気体状アンモニアで処理した。1
のように処理を続けると、透明でやや粘稠な液体の(C
;H3SiHNH)X、 13.4 # (78%収率
)が残った。
0H3SiHCJ233.15.51 (0,278モ
ル)を0℃で、過剰の気体状アンモニアで処理した。1
のように処理を続けると、透明でやや粘稠な液体の(C
;H3SiHNH)X、 13.4 # (78%収率
)が残った。
分析 0H5NStとしての
h士算値 :C,20,31:H,8,52;N、 2
3.68実測値:C,20,51:H,8,26;N、
23.48’ HNMR(270MH2,CDCe a
/cHe e a ) : δ0−17(巾広、〜3
H,5iCH3)、 0.7−1.1 (巾広、〜IH
,N−H)、4.37(巾広、〜0.26H,5iH)
。
3.68実測値:C,20,51:H,8,26;N、
23.48’ HNMR(270MH2,CDCe a
/cHe e a ) : δ0−17(巾広、〜3
H,5iCH3)、 0.7−1.1 (巾広、〜IH
,N−H)、4.37(巾広、〜0.26H,5iH)
。
4、(53(巾広、〜0,44H,5iH)、 4.8
1 (巾広。
1 (巾広。
δ0.3H,5iH)。
B、エチルジクロルシクンのアンモノリシス) −r−
fk x−−テk 250 m1c4J ノG2H5S
IHC4215,8I(0,123モル)および過剰の
気体状アンモニアの0℃での反応に、事実上同じ方法金
剛いた。上記のように処理して、透明な流動性の油。
fk x−−テk 250 m1c4J ノG2H5S
IHC4215,8I(0,123モル)および過剰の
気体状アンモニアの0℃での反応に、事実上同じ方法金
剛いた。上記のように処理して、透明な流動性の油。
(C2H5SiHNH) X を8.III(90チ)
4@た。
4@た。
分析C2H7NSiとしテノ
計算値:C,32,83:H,9,64:N、19.1
4チ実測値:C,32,86;H,9,60;N、19
.02%分子量:301 (X−4,1) (イ/ゼン
中の凝固点降下法)。
4チ実測値:C,32,86;H,9,60;N、19
.02%分子量:301 (X−4,1) (イ/ゼン
中の凝固点降下法)。
” HNMR(270MH2−CDCe 3/GHCe
a : 0.6 (巾広m’、〜2H,5iCH2)
、9.0 (巾広 J 〜3H。
a : 0.6 (巾広m’、〜2H,5iCH2)
、9.0 (巾広 J 〜3H。
0H3)、0.5−1.0 (巾広、〜I H,NH)
、 4.55(巾広 s、0.55H,5iH)、4.
73 (s、0.45H,5tH) 。
、 4.55(巾広 s、0.55H,5iH)、4.
73 (s、0.45H,5tH) 。
IR(薄膜+ ctn−”): 3380(ml、29
50fsl。
50fsl。
2930(sh)、28701m1. 2121(s、
y(Sin))、 1.460(WIll 455(w
% 1410(wl、 12ao(w)。
y(Sin))、 1.460(WIll 455(w
% 1410(wl、 12ao(w)。
1205−1’125(br、s)、101010(,
965(s)+ 930(vs)、900−790 (
br、s)。
965(s)+ 930(vs)、900−790 (
br、s)。
この生成物のガスクロマトグラフィー(GO)分析は、
性は等量の2つの揮発性化合物が存在することを示した
。この2つのうちの低沸点のものを集めて再注入したと
き、同様の1:1混合物が観察され、GO中に分解が起
こっていることが示された。
性は等量の2つの揮発性化合物が存在することを示した
。この2つのうちの低沸点のものを集めて再注入したと
き、同様の1:1混合物が観察され、GO中に分解が起
こっていることが示された。
C,イソプロピルジクロルシランのアンモノリZ己
0℃での、:)エチルエーテル25WLl中の(OH3
)2CH8iHC#214.3p (0,10モル)お
よび過剰の気体状アンモニアの反応に事実上同じ方法を
使用した。上記のように処理すると、透明な流動性の油
、 ((OH3)2CH8IHNH)X、が8.24.
!9(95チ)得られた。
)2CH8iHC#214.3p (0,10モル)お
よび過剰の気体状アンモニアの反応に事実上同じ方法を
使用した。上記のように処理すると、透明な流動性の油
、 ((OH3)2CH8IHNH)X、が8.24.
!9(95チ)得られた。
分析 C3H8NS1としての
計算値:C,41,32;H,10,40:N、16.
06%実測値:C,41,01;H,10,34;N、
16.01%IHNMR(250MH2,CDCe31
0HCe3); 0.4−0.7(br、 〜IH,N
H)、0.68−0.79 (m、IH。
06%実測値:C,41,01;H,10,34;N、
16.01%IHNMR(250MH2,CDCe31
0HCe3); 0.4−0.7(br、 〜IH,N
H)、0.68−0.79 (m、IH。
5iCH) 、o、 93−0−98 (m 、6 H
t CH2O) 、4.37−4.42(m、0.43
H,5iH)、4.58 (’t O,57゜5IH)
。
t CH2O) 、4.37−4.42(m、0.43
H,5iH)、4.58 (’t O,57゜5IH)
。
IR(薄膜HcWL−”) g 3400[4295o
(s+、2900(ml、2875fs1. 2120
tB1. 1462fm1. 1385+Wl、136
5fW1.12401m1,1200−1110(br
、 s)、 1070(mlsl 00 o(81,9
40(’)+820(sl、740(w)、710 (
ah)。
(s+、2900(ml、2875fs1. 2120
tB1. 1462fm1. 1385+Wl、136
5fW1.12401m1,1200−1110(br
、 s)、 1070(mlsl 00 o(81,9
40(’)+820(sl、740(w)、710 (
ah)。
粗製の反応混合物(11,12:l’の7リコート)を
、0.05mmH,Fで短絡蒸留した。揮発性の生成物
を40−120℃から蒸留して、留出物である透明なや
や粘稠な油を9.58311 (86%)得た。
、0.05mmH,Fで短絡蒸留した。揮発性の生成物
を40−120℃から蒸留して、留出物である透明なや
や粘稠な油を9.58311 (86%)得た。
この留出物をGO分析(2’、15%5E−3Q。
150−300℃、xoy分)すると、環状の三量体(
65%)および四量体(19%)と認定される2つの成
分があることが示された。
65%)および四量体(19%)と認定される2つの成
分があることが示された。
((OH3)2CH8iHNH)3. n”D 2.4
763゜分析 C,H27N3S13としての 計算値:C,41,32;H,10,40;N、16.
06%実111(ii:C,41,22;H,10,2
9;N、15.98%質量スSクトh : m / z
−261でM +。
763゜分析 C,H27N3S13としての 計算値:C,41,32;H,10,40;N、16.
06%実111(ii:C,41,22;H,10,2
9;N、15.98%質量スSクトh : m / z
−261でM +。
”HNMR(250MHz −cpce37’CHOe
3 ) : J O−4−0,7(br、 〜IH,
NH)、0.68−0.79 (m* IH。
3 ) : J O−4−0,7(br、 〜IH,
NH)、0.68−0.79 (m* IH。
Me2CI−1)、 0.93−0.98 (m、6
H,CI(3C)、 4.58(s、 1.H,5IH
) 、((C;H3)2C;H3IHNH)4゜n20
D1.4770 。
H,CI(3C)、 4.58(s、 1.H,5IH
) 、((C;H3)2C;H3IHNH)4゜n20
D1.4770 。
分析 C□2H36N4S14としての計算値:C,4
1,32;H,10,40:N、16.06%実測値:
Ce 41.06:H,,10,28;N、15.73
%質量ス、sクトル:m/z−347−でM”−H。
1,32;H,10,40:N、16.06%実測値:
Ce 41.06:H,,10,28;N、15.73
%質量ス、sクトル:m/z−347−でM”−H。
1HNMR(250MH2,CDCe3/CHCe3)
:δ0,4−0.7 (br、 〜tHs NH)*
0.68−0.79 (m+I He Me20H)
−o、 93−0゜98 (Ill、6H,0H3C)
。
:δ0,4−0.7 (br、 〜tHs NH)*
0.68−0.79 (m+I He Me20H)
−o、 93−0゜98 (Ill、6H,0H3C)
。
4.37−4.42 (m、I H,5in)。
過剰の気体状アンモニアの反応に、同じ方法ケ使用した
。上記のように処理して、非常罠粘稠な油。
。上記のように処理して、非常罠粘稠な油。
(C6H5S1HNH)X、を8.55g(94%)得
た。
た。
分析 06H7NSiとしての
計算値:C,59,45;H,5,82;N、11.5
6%実測値:C,59,13;l(,5,92;N、1
1.97%分子i1:435(X=3.6)(イ/ゼン
中での凝固点降下法)。
6%実測値:C,59,13;l(,5,92;N、1
1.97%分子i1:435(X=3.6)(イ/ゼン
中での凝固点降下法)。
IHNM)((ODGe3. TMS) : a O,
2−1,5(巾広。
2−1,5(巾広。
” He NHL 4,6−5.3 (巾広、5.31
で鋭いシグナルを有しティ7:r、I H,5l−H)
、7.0−’y、s (m、5H,C,H5) 、 I
R(薄膜、cm−”);3360(sl、30’70(
sl、3050(81,3010(回、2130 (v
’s)、 1+965(wl、 1890(畦、 1:
s 、25Jw)。
で鋭いシグナルを有しティ7:r、I H,5l−H)
、7.0−’y、s (m、5H,C,H5) 、 I
R(薄膜、cm−”);3360(sl、30’70(
sl、3050(81,3010(回、2130 (v
’s)、 1+965(wl、 1890(畦、 1:
s 、25Jw)。
1655(wle 1590(Inl、1570(Wl
、1540(Wl。
、1540(Wl。
1485(wl、1430 (vs)、13801wl
、1305(wl、1265(Wl$ 1220−11
30 (巾広、ve)。
、1305(wl、1265(Wl$ 1220−11
30 (巾広、ve)。
1110(va)、101065(、101025(。
101000(、980−900(巾広、vs)。
900−790(巾広* vs)、735(81@70
0(87゜ 重合反応のための一般法 ガラス栓、空気を通さないゴム栓、気付送込管が頂にあ
る還流冷却器および磁気かくはん棒をとシつけた。10
0yJの三ツロフラスコにドライボックス中で予め測定
した量の触媒を装入した。このフラスコをト″′2イボ
ックスからとり出して、窒素管路および油噴出装置に連
接した。予め測定した溶媒(60d)をこのフラスコに
カニユーレで注入した。かくはんを開始した後、窒素を
満たしたシリンジを用いて、約5分の間K(CH3S1
HNH)X(製造例A、1.に従って製造した)をゆつ
くシ加えた。すべての場合に1反応混合物を、それ以上
の気体(H2)の発生が観察されなくなるまで(THF
中のKH触媒を用いると、 11は15分)室温でか
くはんした後さらに15−30分かくはんした。一般に
、非極性溶媒中では反応ははるかに遅く、このため必要
とされるかくはん時間はさらに長かった。ナトリウムア
ミド、NaNH2,はさらにはるかにゆつくシ反応する
ので、室温で15分かくはんした後1反応混合物を30
分間還流温度に加熱した。(その他の特定条件は第1表
に書き入れである)。
0(87゜ 重合反応のための一般法 ガラス栓、空気を通さないゴム栓、気付送込管が頂にあ
る還流冷却器および磁気かくはん棒をとシつけた。10
0yJの三ツロフラスコにドライボックス中で予め測定
した量の触媒を装入した。このフラスコをト″′2イボ
ックスからとり出して、窒素管路および油噴出装置に連
接した。予め測定した溶媒(60d)をこのフラスコに
カニユーレで注入した。かくはんを開始した後、窒素を
満たしたシリンジを用いて、約5分の間K(CH3S1
HNH)X(製造例A、1.に従って製造した)をゆつ
くシ加えた。すべての場合に1反応混合物を、それ以上
の気体(H2)の発生が観察されなくなるまで(THF
中のKH触媒を用いると、 11は15分)室温でか
くはんした後さらに15−30分かくはんした。一般に
、非極性溶媒中では反応ははるかに遅く、このため必要
とされるかくはん時間はさらに長かった。ナトリウムア
ミド、NaNH2,はさらにはるかにゆつくシ反応する
ので、室温で15分かくはんした後1反応混合物を30
分間還流温度に加熱した。(その他の特定条件は第1表
に書き入れである)。
続いてこの反応混合物を0H3Iで処理しくすべての陰
イオン性、塩基性中心を「不活性化する」ために)S溶
媒を減圧でのトラップ−トウートラップ(trap−t
o−trap) 蒸留によって除去した。
イオン性、塩基性中心を「不活性化する」ために)S溶
媒を減圧でのトラップ−トウートラップ(trap−t
o−trap) 蒸留によって除去した。
残留物を30dのへキサ/で抽出し、残留する白色固体
(アルカリ金属沃素化物)を遠心分離によりて除去した
。透明な上澄み層を、火炎で乾燥させた50ゴの丸底フ
ラスコ内にカニュニレで注入し、ヘキサンを減圧で除去
すると、生成物の重合体が残った。
(アルカリ金属沃素化物)を遠心分離によりて除去した
。透明な上澄み層を、火炎で乾燥させた50ゴの丸底フ
ラスコ内にカニュニレで注入し、ヘキサンを減圧で除去
すると、生成物の重合体が残った。
生成された重合体はすべて、そのIHNMRスば1 )
ルにオイテa O,0−0,5(S1CH3)、 0
.6−1.4 (NH) 、2.4−2.6 (N(3
H3−C)13g反応停止(quench)から〕およ
び4.6−5.0 (SiH) の領域に、少なくとも
4つの巾広共鳴を示した。上で論議した重合機構を仮定
すれば1反応度は(反応性) SIHに対する(非反応
性) E310H3の比にょシ1次の式: によって決定する仁とができる。ここで(SIH)−8
t−H共鳴の面積そして(81CH3)−81−OH3
共鳴の面積である。セラミックの収量は、゛窒素流下の
熱重量分析(TGA)によシ、白金ボート中の試料を5
℃/分で室温から970℃まで加熱することによって決
定された。すべての場合に、黒いセラミツク体が生成さ
れた。はとんどの場合に、減量は550℃付近で始まり
900℃付近で完了した。
ルにオイテa O,0−0,5(S1CH3)、 0
.6−1.4 (NH) 、2.4−2.6 (N(3
H3−C)13g反応停止(quench)から〕およ
び4.6−5.0 (SiH) の領域に、少なくとも
4つの巾広共鳴を示した。上で論議した重合機構を仮定
すれば1反応度は(反応性) SIHに対する(非反応
性) E310H3の比にょシ1次の式: によって決定する仁とができる。ここで(SIH)−8
t−H共鳴の面積そして(81CH3)−81−OH3
共鳴の面積である。セラミックの収量は、゛窒素流下の
熱重量分析(TGA)によシ、白金ボート中の試料を5
℃/分で室温から970℃まで加熱することによって決
定された。すべての場合に、黒いセラミツク体が生成さ
れた。はとんどの場合に、減量は550℃付近で始まり
900℃付近で完了した。
(OH3SIHNH)xから誘導された重合体を用いた
T C,A/G C試験によシ、放出された揮発性vJ
質はH2およびOH4であることが示された。
T C,A/G C試験によシ、放出された揮発性vJ
質はH2およびOH4であることが示された。
実施例1:KHで触媒作用された(OH3SIHNH)
Xの重合 5001の三ツロ7ラスコに、ガラス栓、空気を通さな
いゴム栓、気体送込管および仕気かくはん棒をとツクけ
、ドライボックス中で、水鷹化カリウムsKH,0,4
0g(10,0ミリモル。
Xの重合 5001の三ツロ7ラスコに、ガラス栓、空気を通さな
いゴム栓、気体送込管および仕気かくはん棒をとツクけ
、ドライボックス中で、水鷹化カリウムsKH,0,4
0g(10,0ミリモル。
0H3SIHNHを基準にして3.9モル幅)を装入し
た。
た。
このフラスコをドライボックスからとシ出し、窒素管路
および油噴出装置に連接した。テトラヒト1:1727
(300+wl) ヲコのフラスコ内ニカニューレで
注入し、混合物をかくはんしてKHを分散させた。次に
窒素を満たしたシリンジを用いて。
および油噴出装置に連接した。テトラヒト1:1727
(300+wl) ヲコのフラスコ内ニカニューレで
注入し、混合物をかくはんしてKHを分散させた。次に
窒素を満たしたシリンジを用いて。
かくはんしたKHス−>’) −に15分かけて。
151.271.9(0,258モル)の(OH3S1
)iNH)X(X〜4.9)(製造例A、lに従って製
造した)をゆりく)加えた。この添加の間に大量の気体
が発生したが1発熱は見られなかった。室温で90分か
くはんした後、気体の発生が止[L透明で均質な溶液が
残った。沃化メチル(2,28i16.1ミリモル)を
加えると、ただちにKIの白色沈殿が生じた。この反応
混合物を、さらに30分間かくはんした。次に大部分の
THF溶媒を減圧で除去し、残留する白色スラリーに8
0−のへキサンを加えた。この混合物を遠心分離し、上
澄み液を白色固体から分離した。この溶液をトラップ−
トウートラップ(trap−to−trap)蒸留する
と。
)iNH)X(X〜4.9)(製造例A、lに従って製
造した)をゆりく)加えた。この添加の間に大量の気体
が発生したが1発熱は見られなかった。室温で90分か
くはんした後、気体の発生が止[L透明で均質な溶液が
残った。沃化メチル(2,28i16.1ミリモル)を
加えると、ただちにKIの白色沈殿が生じた。この反応
混合物を、さらに30分間かくはんした。次に大部分の
THF溶媒を減圧で除去し、残留する白色スラリーに8
0−のへキサンを加えた。この混合物を遠心分離し、上
澄み液を白色固体から分離した。この溶液をトラップ−
トウートラップ(trap−to−trap)蒸留する
と。
15.1N(99重量%)の白色粉末が残った。この粉
末は、ヘキサン、インゼ/、THF おヨヒソの他の有
機溶媒に可溶性であった。ベンゼン中の凝固点降下法に
よるその分子量は、1180であった。その構造(プロ
トンNMRおよび分析による)は、 (OH3SIHN
H)、、3.(cH,5IHNCH,)。、。、(G1
3StN)。。
末は、ヘキサン、インゼ/、THF おヨヒソの他の有
機溶媒に可溶性であった。ベンゼン中の凝固点降下法に
よるその分子量は、1180であった。その構造(プロ
トンNMRおよび分析による)は、 (OH3SIHN
H)、、3.(cH,5IHNCH,)。、。、(G1
3StN)。。
であった。
分析 C1,04H3,94NS’としての計算値:0
.21.22;H,6,72;N、23.98;Si、
48.08チ 実測値:C,21,71;H,6,87;N、23.5
0;St、47.26% 1HNMR(90MH2,CDCe310HCe3):
δ0.0−0.5(巾広、3H,5iOH3)、0.6
−1.4 (巾広、0.43H,NH)、2.4−2.
6 (巾広s o、osH,N(H3)。
.21.22;H,6,72;N、23.98;Si、
48.08チ 実測値:C,21,71;H,6,87;N、23.5
0;St、47.26% 1HNMR(90MH2,CDCe310HCe3):
δ0.0−0.5(巾広、3H,5iOH3)、0.6
−1.4 (巾広、0.43H,NH)、2.4−2.
6 (巾広s o、osH,N(H3)。
4.6−5.0 (巾広* 0.43H,51)L)
。
。
IR(KBrベレット、CI+!−”); 3390(
巾広9m)。
巾広9m)。
29501m1,2900 (ah)、2810 (s
h)、2110(巾広* 8L 1260(saw 1
200−1091 (巾広、m)、1070−800(
巾広、vI3)、740(8h)。
h)、2110(巾広* 8L 1260(saw 1
200−1091 (巾広、m)、1070−800(
巾広、vI3)、740(8h)。
免:
2部に分けた触媒の添加
2つの標準三ツロ反応フラスコの各々に、 0.04M
1.0ミリモル)のKHを装入し、第一のフラスコには
601のTHFを装入した。(OH3St民)8゜1.
784.9(30,2ミリモル)(A、1.によって製
造した)を、この肌−フラスコに加えて1反応を45分
間進行させた(この時点で透明な溶液が存在し、気体の
発生が止まった)。次にこの溶液を、カニユーレでKH
をよシ多く含有している第二のフラスコに注入した。非
常にわずかな反応(気体の発生による)が観察されただ
けであったが、KHは結局消失した。0H3Iを添加し
た後。
1.0ミリモル)のKHを装入し、第一のフラスコには
601のTHFを装入した。(OH3St民)8゜1.
784.9(30,2ミリモル)(A、1.によって製
造した)を、この肌−フラスコに加えて1反応を45分
間進行させた(この時点で透明な溶液が存在し、気体の
発生が止まった)。次にこの溶液を、カニユーレでKH
をよシ多く含有している第二のフラスコに注入した。非
常にわずかな反応(気体の発生による)が観察されただ
けであったが、KHは結局消失した。0H3Iを添加し
た後。
標準的な処理を行なうと、凝固点降下法による分子量が
1240である白色粉末が得られた。
1240である白色粉末が得られた。
1HNMRKよればこのものは1組成
(OH3SIHNH)。、a 8(0H3E31HNO
H3)。、。4(OH3StN)。j8を有していた。
H3)。、。4(OH3StN)。j8を有していた。
TGAは81%収率の黒色セラミック体を生成した。
標準反応装置に、KHo、04M1.0ミリモル)およ
びT’HF60dを装入した。第一の(OH3SiHN
H)x(0,728& 、12.3ミリモル)(A、1
.によって製造したー)を加えて、気体の発生が止み、
透明な溶液が得られるまで、45分間KHと反応させた
。次に15.5ミリモル(0,9159)の(OH3S
tHNH)X(A、1.によって製造した)くけんしだ
後、0H3Iを加えた゛。標準処理を行なうと、凝固点
降下法による分子量1490の白色固体が1.7399
(100チ)残留した。プロトンNMRI/i構造 (OH3SIHNH)。、45(CH3StHNCH3
)。、o3(OH3StN)。、5□を示した。TCr
Aによれば82%のセラミック収率が得られた。
びT’HF60dを装入した。第一の(OH3SiHN
H)x(0,728& 、12.3ミリモル)(A、1
.によって製造したー)を加えて、気体の発生が止み、
透明な溶液が得られるまで、45分間KHと反応させた
。次に15.5ミリモル(0,9159)の(OH3S
tHNH)X(A、1.によって製造した)くけんしだ
後、0H3Iを加えた゛。標準処理を行なうと、凝固点
降下法による分子量1490の白色固体が1.7399
(100チ)残留した。プロトンNMRI/i構造 (OH3SIHNH)。、45(CH3StHNCH3
)。、o3(OH3StN)。、5□を示した。TCr
Aによれば82%のセラミック収率が得られた。
実施例4−14
指示された触媒(かっこ内にモルチで示した蓋)および
指示された溶媒を除き、実施例1に概略を述べたものと
同じ一般法を用いて、下表に示したようなさらに別のプ
レセラミック重合体ならひにそれから熱分解されたセラ
ミック材料を生成させた。
指示された溶媒を除き、実施例1に概略を述べたものと
同じ一般法を用いて、下表に示したようなさらに別のプ
レセラミック重合体ならひにそれから熱分解されたセラ
ミック材料を生成させた。
実帷例15
標準的な100−の反応装置に、’rHF60dおよび
KHo、04.!f+(1,0ミリモル、4.3チ)を
装入した。次いで、シリンジで、(C;2H5StHN
H)x(粗製の反応混合物、 1,705.9−、23
.3ミリモル)(製造例BKよる)を加えた。激しい反
応(おびただしい気体の発生)が始まった。この混合物
を室温で45分間かくはんしてから、窒素下で1時間加
熱して還流させた。次に沃化メチル(0,46L 3.
2ミリモル)を加えて、混合物を室温で30分間かくは
んした。減圧でTHFを除去した後、ヘキサ/を加え、
遠心分離によ5KIを沈降させた。有機層を分離し、減
圧で蒸発させると、構造 (C2H5SiHNH)。、a 、(C2H55tHN
CH3)。、。2(C2H5StN)。、5゜で、凝固
点降下法による分子量950の白色のろう様固体が1.
699g残留した。
KHo、04.!f+(1,0ミリモル、4.3チ)を
装入した。次いで、シリンジで、(C;2H5StHN
H)x(粗製の反応混合物、 1,705.9−、23
.3ミリモル)(製造例BKよる)を加えた。激しい反
応(おびただしい気体の発生)が始まった。この混合物
を室温で45分間かくはんしてから、窒素下で1時間加
熱して還流させた。次に沃化メチル(0,46L 3.
2ミリモル)を加えて、混合物を室温で30分間かくは
んした。減圧でTHFを除去した後、ヘキサ/を加え、
遠心分離によ5KIを沈降させた。有機層を分離し、減
圧で蒸発させると、構造 (C2H5SiHNH)。、a 、(C2H55tHN
CH3)。、。2(C2H5StN)。、5゜で、凝固
点降下法による分子量950の白色のろう様固体が1.
699g残留した。
分析 C5,02H5,86N1.0”” 1.0とし
ての計算値:C,33,58;H,8,17;N、19
.38実測値:C,33,51;H,8,38;N、1
8.13”HNklFI (90klklz −apc
g−b/’C1HOe a ) : J 0.2−1.
1(巾広 m 、 〜5 HT 5iCH2CHa +
NH12−3−2,7(巾広I O,12H,NCH
3)、 4.6−4.9 (巾広、 0.41H,5t
H) 。
ての計算値:C,33,58;H,8,17;N、19
.38実測値:C,33,51;H,8,38;N、1
8.13”HNklFI (90klklz −apc
g−b/’C1HOe a ) : J 0.2−1.
1(巾広 m 、 〜5 HT 5iCH2CHa +
NH12−3−2,7(巾広I O,12H,NCH
3)、 4.6−4.9 (巾広、 0.41H,5t
H) 。
IR(KBr <レット* cm−”); 3390(
畦2950(al、2910(ah)、28751e)
、2120(e)、14551m1. 14101w)
、1230(sl、1215−1075 (巾広、s)
、1060−750(巾広。
畦2950(al、2910(ah)、28751e)
、2120(e)、14551m1. 14101w)
、1230(sl、1215−1075 (巾広、s)
、1060−750(巾広。
vs)、735−580(巾広、θ)。
TGA(5ン分で25°→1000℃)Kよって1重合
体は24%収率で黒色セラミック固体に変わった。
体は24%収率で黒色セラミック固体に変わった。
実捲例16
((OH3) 20H8tHNH)Xの重合THF60
−中での、 ((OH3)20H8IHNH)!(製造
例Cからの粗製反応混合物)2.037,9(23,4
ミ17%ル)O,KHO,0411,0ミリモルS4.
3%)との反応に同じ方法を用いた。
−中での、 ((OH3)20H8IHNH)!(製造
例Cからの粗製反応混合物)2.037,9(23,4
ミ17%ル)O,KHO,0411,0ミリモルS4.
3%)との反応に同じ方法を用いた。
この反応は室温では遅いので1反応混合物を24時間加
熱して還流させ7’((窒素下)。上記の実抱例15の
ように処理すると、2.0041100チ)の非常に粘
稠なろう様生成物が残留した。
熱して還流させ7’((窒素下)。上記の実抱例15の
ように処理すると、2.0041100チ)の非常に粘
稠なろう様生成物が残留した。
((a(3)2■班君〕o3□〔(即、)2塁潟口、〕
0.。4〔(y3)2□□□ボ〕。59゜凝固点降下法
による分子量680゜ 分析 C3,04H7,9ONS1としての計算値:C
,42,18:H,9,20:N、16.18%実演趙
:C* 42.34 ;Ht 9.34 ;N、15.
16%’HNMR(90MH2,CDCey’0HCe
3) : 0゜8−1.2(巾広、〜’t、4 H,(
OH3)20H+ NH)、2.4−2.7(巾広、0
.12 H,NCH3)、4.1−4.9 (巾広。
0.。4〔(y3)2□□□ボ〕。59゜凝固点降下法
による分子量680゜ 分析 C3,04H7,9ONS1としての計算値:C
,42,18:H,9,20:N、16.18%実演趙
:C* 42.34 ;Ht 9.34 ;N、15.
16%’HNMR(90MH2,CDCey’0HCe
3) : 0゜8−1.2(巾広、〜’t、4 H,(
OH3)20H+ NH)、2.4−2.7(巾広、0
.12 H,NCH3)、4.1−4.9 (巾広。
0.41H,5tH)。
IR(KBr ”:レット2cm−”): 3400(
mis 2940(巾広= 8)、2860(sl+
2100tel、1460(sl、 P380t;1.
1362(wl、 12.40(ml、 I ZOO−
1080(巾広、va)、1050790(巾広、vs
)。
mis 2940(巾広= 8)、2860(sl+
2100tel、1460(sl、 P380t;1.
1362(wl、 12.40(ml、 I ZOO−
1080(巾広、va)、1050790(巾広、vs
)。
66011n)。
TGA (5°/分で25°→1000℃)によれに黒
色セラミック固体が、18%収率で生成された。
色セラミック固体が、18%収率で生成された。
実捲例17 : ((C,H5SIHNH)Xの重合T
HF60d中での(C,H5SiHNH)x(製造例り
による)1.884115.5ミリモル)の、KHo、
04.9 (1,0ミリモル、6.5%)との反応KS
同じ方法を使用した。室温で2時間反応させた後。
HF60d中での(C,H5SiHNH)x(製造例り
による)1.884115.5ミリモル)の、KHo、
04.9 (1,0ミリモル、6.5%)との反応KS
同じ方法を使用した。室温で2時間反応させた後。
0.2dのCH3工を加えて上記のように処理した。
白色粉末(2,006,9’、100%)が得られた;
(06H58iHNH)。、□(G6H5StHNCH
3)o、o 、(C,H5StN)o、s □。
(06H58iHNH)。、□(G6H5StHNCH
3)o、o 、(C,H5StN)o、s □。
凝固点降下法による分子量74o。
分析 C6,06H5,88NS1としての計算値:C
e 6o、2stHt 4.91 ;N、11.59チ
実測値:C,59,66;H,5,62;N、12.2
5%IHNMR(CDCl2.TMS); δ1.3−
2.4 (巾へ〇、4H,NHおよびNC;H3)、4
.8−5.6(巾へ 〇、38H。
e 6o、2stHt 4.91 ;N、11.59チ
実測値:C,59,66;H,5,62;N、12.2
5%IHNMR(CDCl2.TMS); δ1.3−
2.4 (巾へ〇、4H,NHおよびNC;H3)、4
.8−5.6(巾へ 〇、38H。
5IH)、6.8−8.3 (巾広* 5 Ht C6
H3) &IR(KBr−eし7)、cm−”): 3
370(m、3090(ah)、 3070(ml、
3050(ml、 3005(mJ。
H3) &IR(KBr−eし7)、cm−”): 3
370(m、3090(ah)、 3070(ml、
3050(ml、 3005(mJ。
2130(sl、1960(略 1895(wl、18
20(vl。
20(vl。
1660(wl、1590(ml、1507fwl、1
5401w)。
5401w)。
1490(ml、 1430(sl、1310(vrl
、1270(ml。
、1270(ml。
1220−1110(巾広、va)、1120 (va
)。
)。
101070(,1031035(1010−900(
巾広。
巾広。
va)、 890−780 (巾広、Vθ)、740(
8)#7051sl。
8)#7051sl。
T(、A(10°/分で25→1000°)では1重合
体は、65%収率で黒色セラミック固体に変わった。
体は、65%収率で黒色セラミック固体に変わった。
標準的nCH35IHCe2+ NH3反応混合物(製
造例A、lによる)の12.083.?のアリコートを
。
造例A、lによる)の12.083.?のアリコートを
。
80−100℃/10−3−旬での蒸留によってその揮
発性成分と不揮発性成分とに分離した。これによ#)、
”HNMFtおよびIRで(OH3SiHNH)X(M
W−225,X=3.8)であると認められた留出物s
、7s7#(48%)と、”HNMRおよびIRで(O
H3S1胎H)X(MW−490,X−8,3) と認
められた不揮発性重合体6.294.9(52%)が生
成された。上に概略を示した標準法を用いて、この2つ
の両分を別々に、室温でTHF中の〜3.5%KHを使
って重合させた。両方の反応ともに、定量的収率で白色
粉末が生成された。揮発性画分から誘導された重合体は
−IHNMRにより構造(OH3S1HNH) o、a
、 (OH3StHNCH3) o、o 3(OH3
SiN) o、g 。
発性成分と不揮発性成分とに分離した。これによ#)、
”HNMFtおよびIRで(OH3SiHNH)X(M
W−225,X=3.8)であると認められた留出物s
、7s7#(48%)と、”HNMRおよびIRで(O
H3S1胎H)X(MW−490,X−8,3) と認
められた不揮発性重合体6.294.9(52%)が生
成された。上に概略を示した標準法を用いて、この2つ
の両分を別々に、室温でTHF中の〜3.5%KHを使
って重合させた。両方の反応ともに、定量的収率で白色
粉末が生成された。揮発性画分から誘導された重合体は
−IHNMRにより構造(OH3S1HNH) o、a
、 (OH3StHNCH3) o、o 3(OH3
SiN) o、g 。
と指定され1分子量840を有し、TGAによ980%
収率の黒色セラミックを生成した。不揮発性画分から誘
導された重合体は、IHNMRによって構造 (OH3StHNH)。、41((3H3StHNCH
3)。、o2((3H3StN)(L。
収率の黒色セラミックを生成した。不揮発性画分から誘
導された重合体は、IHNMRによって構造 (OH3StHNH)。、41((3H3StHNCH
3)。、o2((3H3StN)(L。
と指定され1分子量1800を有し、TGAによ981
%収率で黒色セラミックを生成した。
%収率で黒色セラミックを生成した。
本発明のポリメチルシラザンは、不活性雰囲気下で加熱
すると粘稠な溶融体相のみを与え、流動性の重合体溶融
体は得られない、仁の挙動は、この重合体が室温でどん
な形にでも造形されることができ1次に簡単に熱分解さ
れその間にこの重合体が所望の形を保持してしる間に均
一に焼結(稠密化)すると考えられるため、造形された
セラミック製品の製造に望ましいものである。酸化によ
る「硬化j段階は必要でなく、稠密化は大気圧で起こっ
て適当に密な、空間率の低いセラミック製品が生成され
る。
すると粘稠な溶融体相のみを与え、流動性の重合体溶融
体は得られない、仁の挙動は、この重合体が室温でどん
な形にでも造形されることができ1次に簡単に熱分解さ
れその間にこの重合体が所望の形を保持してしる間に均
一に焼結(稠密化)すると考えられるため、造形された
セラミック製品の製造に望ましいものである。酸化によ
る「硬化j段階は必要でなく、稠密化は大気圧で起こっ
て適当に密な、空間率の低いセラミック製品が生成され
る。
実施例19:窒素下、1420℃でのポリメチルこの実
験には、リンデ(、L+1nae) 管炉(54233
型、1500℃まで)およびり/デ(Llnde )
制御器(59545型、500−1500℃)を使用し
た。パイレックス ジヨイントに融着させたムライト炉
管を、炭素試料ボートを入れるのに使用した。この試料
のとなシに内部熱電対(P t/pt 。
験には、リンデ(、L+1nae) 管炉(54233
型、1500℃まで)およびり/デ(Llnde )
制御器(59545型、500−1500℃)を使用し
た。パイレックス ジヨイントに融着させたムライト炉
管を、炭素試料ボートを入れるのに使用した。この試料
のとなシに内部熱電対(P t/pt 。
10%Rh)を置き、ゆるやかな(〜601/分)窒素
流下で熱分解を実施した。重合体(大規模な0H3St
HNH)XのK)(−解媒による反応からの試料;実施
例1)を、ドライボックス内のボートに移してから、密
封容器に移し、すばやく炉管に移して窒素で15分間フ
ラツメした。次にこの試料を急速に加熱して500℃と
し1次に8時間かけてゆ゛りく9加熱して1420℃と
した。このものを。
流下で熱分解を実施した。重合体(大規模な0H3St
HNH)XのK)(−解媒による反応からの試料;実施
例1)を、ドライボックス内のボートに移してから、密
封容器に移し、すばやく炉管に移して窒素で15分間フ
ラツメした。次にこの試料を急速に加熱して500℃と
し1次に8時間かけてゆ゛りく9加熱して1420℃と
した。このものを。
2時間この温度に保ち、続いて一夜かけてゆつくシ室温
まで冷却した。このセラミック生成物は。
まで冷却した。このセラミック生成物は。
色は黒くて多くの泡を有する単一物体であった。
粉末X−線回析(Nz フィルターを用いたCuKα)
は、α−813N4に対する極く小さい巾広のピークの
みを示した。SEM分析は、認識できる微小構造をもた
ない非晶構造を示した。このセラミツ〉の全体としての
外観は、熱分解が明らかに1重合体が溶融した後に起こ
ったことを示してい大、:すなわち、液体の泡が破裂し
た大きな孔やクレータがたくさんあった。
は、α−813N4に対する極く小さい巾広のピークの
みを示した。SEM分析は、認識できる微小構造をもた
ない非晶構造を示した。このセラミツ〉の全体としての
外観は、熱分解が明らかに1重合体が溶融した後に起こ
ったことを示してい大、:すなわち、液体の泡が破裂し
た大きな孔やクレータがたくさんあった。
熱分解は最高温[1420’Cまでで実施した。
ナセナラハ1450℃よシ上ではSi3N4のCとの反
応が熱力学的に有利になるからである。
応が熱力学的に有利になるからである。
熱分解を、最高温度1500℃でアルゴン下で実施する
と、淡緑色のセラミック体が得られた。
と、淡緑色のセラミック体が得られた。
このものの粉末X−線回析図形は、β−5zCと。
少量のα−813N4 とが結晶性生成物として存在し
ていることを示した。
ていることを示した。
揮発性の熱分解生成物は、TGA/C,Cにょシ。
H2とOH,とであることが決足され、そのため。
セラミック生成物の生成は方程式:
%式%(11
(セラミック収率−83チ)
によって与えることができる。このようなセラミック生
成物を分析すると:12.87%C,26,07%N、
59.52チSi、1.54%O(差による)、であっ
た。この分析は、上記の熱分解方程式および。
成物を分析すると:12.87%C,26,07%N、
59.52チSi、1.54%O(差による)、であっ
た。この分析は、上記の熱分解方程式および。
方程式1の481 を基準にしたセラミック構造。
0.88S13N4+ 1.27SiC+ 0.750
+ 0.098zO□と矛盾しない。
+ 0.098zO□と矛盾しない。
実権例20:セラミック繊維の製造
窒素を満たしたドライボックス内で、ろう様繊維固体が
生ずるように数グラムのポリメチルシラザン(実施例5
に従って製造)に数滴のトルエ/を添加した。重合体/
トルエ/を含有する小ビンに栓をして、ドライボックス
から取シ出した。はt21−2フイートの長さの繊維を
、浸漬させたガラスロッドで引いてろうのような固体と
して、すぐに石英管炉内に置き、N2でフラッジtた。
生ずるように数グラムのポリメチルシラザン(実施例5
に従って製造)に数滴のトルエ/を添加した。重合体/
トルエ/を含有する小ビンに栓をして、ドライボックス
から取シ出した。はt21−2フイートの長さの繊維を
、浸漬させたガラスロッドで引いてろうのような固体と
して、すぐに石英管炉内に置き、N2でフラッジtた。
次に重合体繊維を、10°/分で1000℃(45分間
保持した)までで熱分解することによってセラミック繊
維に変えた。これによって、収縮するがそれ以外にはそ
の形を保持する柔軟な黒色セラミック繊維が生成された
。
保持した)までで熱分解することによってセラミック繊
維に変えた。これによって、収縮するがそれ以外にはそ
の形を保持する柔軟な黒色セラミック繊維が生成された
。
実権例21:セラミック体の製造
ト9ライボックス内で、憾イ/チの円筒形ダイにメチル
シラザン重合体(実施例5による)1.00gを充填し
た。この重合体をカーパー(Carvθr)成形機中で
IQOOOポンド(5Q 000 psi)まで圧力を
かけた。固体の白色にレットを取り出して、すばやく石
英管炉に入れ、107分で500℃まで加熱した。温度
を一夜(11時間)、500℃に保持して、さらに稠密
化してから、10/分で1000℃まで増加させた(2
時間保持した)。
シラザン重合体(実施例5による)1.00gを充填し
た。この重合体をカーパー(Carvθr)成形機中で
IQOOOポンド(5Q 000 psi)まで圧力を
かけた。固体の白色にレットを取り出して、すばやく石
英管炉に入れ、107分で500℃まで加熱した。温度
を一夜(11時間)、500℃に保持して、さらに稠密
化してから、10/分で1000℃まで増加させた(2
時間保持した)。
こうして生じたにレット (0,80,9)は均一に〜
25%収縮し、開放空間率12%をともなう密度2.0
9#/CCを有t、テイタ。
25%収縮し、開放空間率12%をともなう密度2.0
9#/CCを有t、テイタ。
実権例22 : S1G粉末複合材料の製造ドライボッ
クス内で、200dの丸底フラスコ中で、0.30Fの
微細SIG粉末および0.7011のメチルシラザン重
合体(実権例5による)を混合した。乾燥へキサン(5
0ILlりをこのフラスコ内にカニユーレで注入し、粉
末を超音波振動によ多分散させた。トラップ−トウート
ラップ(trap−to−trap)蒸留によって湿媒
を除去し、得られる黒色粉末を上記のようにグイ加圧し
、熱分解した黒色の円筒が形成されたが、このものは予
め熱分解させた試料から16%収縮した。アルキメデス
(Archimedee)密度H110,5%の開放空
間率を伴ない、1.74117CCであった。重合体を
、使用するS1C粉末の25重i%はどの少量で使用し
て(例えば、0.2(lのシラザン重合体および0.8
0SiC粉末)、同様な物体を形成させることができた
。
クス内で、200dの丸底フラスコ中で、0.30Fの
微細SIG粉末および0.7011のメチルシラザン重
合体(実権例5による)を混合した。乾燥へキサン(5
0ILlりをこのフラスコ内にカニユーレで注入し、粉
末を超音波振動によ多分散させた。トラップ−トウート
ラップ(trap−to−trap)蒸留によって湿媒
を除去し、得られる黒色粉末を上記のようにグイ加圧し
、熱分解した黒色の円筒が形成されたが、このものは予
め熱分解させた試料から16%収縮した。アルキメデス
(Archimedee)密度H110,5%の開放空
間率を伴ない、1.74117CCであった。重合体を
、使用するS1C粉末の25重i%はどの少量で使用し
て(例えば、0.2(lのシラザン重合体および0.8
0SiC粉末)、同様な物体を形成させることができた
。
本発明を、その好ましい具体化に関連させて詳しく記載
した。しかしながら、当技術分野に習熟した人々は、こ
の発表を考慮して1本発明の精神と範囲内で変形や改良
を行なうことができることは認められるであろう。
した。しかしながら、当技術分野に習熟した人々は、こ
の発表を考慮して1本発明の精神と範囲内で変形や改良
を行なうことができることは認められるであろう。
代理人 弁理士湯浅恭三 ・
(外5名)
第1頁の続き
■Int、C1,’ 識別記号 庁内整理番号3515
8 102 −/IN−46
8 102 −/IN−46
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)式: の反復単位を有し1式: (式中:Rは水素、1から約6個までの炭素原子を有す
る低級アルキル基、1から約6個までの炭素原子を有す
る低級アルコキシ基、直換またけ非置換のビニル基、置
換または非置換アリル基、6から約10個までの炭素原
子を有する置換または非置換低級アリール基、トリ(低
級)アルキル−または:)(低級)アルヤルシリル基マ
タはジ(低級)アルキルアミノ基でメジ;そして nは1よシ大きい整数であシ: 上記残基は環状または直鎖状である。〕を有する81□
N2橋によってお互いに結合していピル基、イソプロピ
ル基、ビニル基、アリル基。 ベンジル基、フェニル基およびトリル基よシ成る群から
選択される。特許請求の範囲第1項に記載のポリ7ラザ
ン。 (3)nが3から約12までの範囲内にある。特許請求
の範囲第1項に記載のポリ7ラザン。 (41重合体鎖あた夛の残基数が3から約10までの範
囲内にある。特許請求の範囲第1項に記載のポリンラザ
/。 (5)重合体鎖あたりの平均残基数が3から約5までで
ある。特許請求の範囲第1JJIに記載のポリシラザ/
。 (6) 重合体鎖あたシの平均残基数が約7から約9ま
でである。特許請求の範囲第1Jjjに記載のボリシラ
ザ/。 (力 環状先駆体残基よシ成シ、構造式:〔Rは、水素
、1から約6個までの炭素原子を有する低級アルキル基
、1から約6個までの炭素原子を有する低級アルコキン
基、置換または非置換ビニル基、ai換または非置換ア
リル基。 6ないし約10個の炭素原子を有する置換または非置換
低級アリール基、トリ(低級)アルキル−または:)(
低級)アルキルシリル基またはジ(低級)アルキルアミ
ン基であシ:そしてXおよびyは各々別個に0または止
の整数であシ; mは1よシ大さい整数であシ;そして Xおよびyは1重合体鎖中の各環状先駆体残基について
同一であるかまたは異なっていることができる〕 を有するボリンラザ7重合体。 (8)Rが、水素、メよル基、エチル基、プ目ビル基、
インプロピル基、べ/:)ル基、フェニル基およびトリ
ル基よシ成る群から選択される。特許請求の範囲第7項
に記載の重合体。 (9)各環状先駆体残基についてXとyとの合計が3か
ら約10までである。特許請求の範囲第7項に記載の重
合体。 α1mが3から約12までの範囲内にある。特許請求の
範囲第7項に記載の重合体。 (11) mが約3から約5までの範囲内にある。特許
請求の範囲第7項に記載の重合体。 a2 mが約7から約9までの範囲内にある。特許請求
の範囲第7項に記載の重合体。 警 03 Rがメチル基である。特許請求の範囲第7項に記
載の重合体。 α滲 無水アノモニアをR81HX2(ここでRは水素
。 炭素原チェないし約6個を有する低級アルキル基または
炭素原子6ないし約10個を有する置換または非置換低
級アリール基であシ、そしてXはハロゲンである)と溶
液中で反応させ、とれによりて環状および/または直鎖
状の先駆体の混合物を形成させ、上記の先駆体を、珪素
原子に隣接する窒素原子から水素を脱プロト/化するこ
とのできる塩基性触媒の存在において反応させて81□
N2橋を形成させることによって有機ンラザ/重合体を
形成させることよシ成る。 有機シラザ/重合体の製造方法。 (151さらに、上記の有機ンラザ/重合体を電子化合
物で処理する付加段階を訝む、特許請求の範囲第14J
jlに記載の方法。 皐 α頓 求電子化合物が沃化メチルである、特許請求基、
イソプロピル基、ビニル基、アリル基、べ/′)ル基、
フェニル基およびトリル基よシ成る群から選択される。 特gIf請求の範囲第1114に記載の方法。 錦 Rがメチル基である。特許請求の範囲第14駒に記
載の方法。 a9 上記の塩基性触媒が、アルカリおよびアルカリ土
類金属水素化物、複合金属水素化物、アルカリ金属アル
コキシド、無水アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属ア
ミドゝ1アルカリおよびアルカリ土類ンリルアミドおよ
びアルカリ金属よシ成る群から選択される。特許請求の
範囲第14項に記載の方法。 翰式: (式中、nはlよシ大きい整数であり、そして下記ポリ
メチルンラザ/中の各残基は同一または異なったもので
あることができる) を有する複数の環状単量体残基よシ成るポリメチルシラ
ザ/。 Qυ nが3から約10までである1%許請求の範囲第
20項に記載のポリメチルシラザ/。 (わ 環状残基の数が3ないし約12である。特許請求
の範囲第20項に記載のポリメチルシラザ/。 @ $11造単位: R81HNH,R81HNGH3
オヨヒBSINよシ成シ1式: %式%) 〔式中、&+’b+Qglであシ、Rは水素、炭素原子
1ないし約6個を有する低級アルキル基。 炭素原チェないし約6個を有する低級アルコキシ基、置
換または非置換ビニル基、置換または非置換アリル基、
炭素原子6ないし約10個を有する置換または非置換低
級アリール基、トリ(低級)アルキル−またはジ(低級
)アルキルシリル基また扛:)(低級)アルキルアミノ
基である〕 によって表わされる有機シラザン重合体。 (24Rが′、水素、メチル基、エチル基、n−プロピ
ル基、イソプロピル基、ビニル基、アリル基。 −?/:)ル基、フェニル基およびトリル基よル成る鮮
から選択される。特許請求の範囲第23Jjlに記載の
重合体。 13!9Rがメチル基である、特許請求の範囲第23項
に記載の重合体。 HII造単位: R81HNH,R81HNHオヨヒR
81Nよシ成シ1式: %式%) 〔式中、a+b+c=1であ!0;RFi水素、炭素原
子工ないし約6個を有する低級アルキル基。 炭素原子1ないし約6個を有する低級アルコキン基、置
換または非置換ビニル基、置換または非置換アリル基、
炭素原子6ないし約10個を有する置換または非置換低
級アリール基、トリ(低級)アルキル−または:)(低
級)アルキルシリル基またはジ(低級)アルキルアミノ
基であシ:そしてMはアルカリ金属または歿当量のアル
カリ土類金属である〕 によシ表わされる有機シラザン重合体。 (27)Rが、水素、メチル基、エチル基、n−プロピ
ル基、イソプロピル基、ビニル基、アリル基。 べ/:)ル基、フェニル基およびトリル基より成る群か
ら選択される。特許請求の範囲第26項に記載の重合体
。 @ Rがメチル基である。特許請求の範囲第26項に記
載の重合体。 @ Mがカリウム、ナトリウムまたはリチウムである。 特許請求の範囲第36項に記載の重合体。 (至)セラミック粉末またはセラミック繊維と混合した
。特許請求の範囲第1JJに記載のポリン2ザ/。 Gυ 有機ジハロシランをア/モニアと反応させてアン
モノリンス生成物を形成させ、このアンモノリンス生成
物を、 SIH基に隣接するNH基を脱プロト/化する
ことのできる塩基性触媒で処理してポリ′シラザ/を形
成させることによって製造されるポリンラザ/。 I3) さらに、 R8tHNM官能基と反応すること
のできる電子試薬で処理された。特許請求の範囲第31
項に記載のポリンラザ/。 (2)上記求電子試薬が、低級アルキルハロゲ/化物、
ハロゲノ化アリル、ハロゲノ化べ/:)ルおよびハロン
ランよシ成る群から選択される。特許請求の範囲第32
項に記載のポリシラ゛ザ/。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US572209 | 1984-01-19 | ||
| US06/572,209 US4482669A (en) | 1984-01-19 | 1984-01-19 | Preceramic organosilazane polymers |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63238632A Division JPH0647621B2 (ja) | 1984-01-19 | 1988-09-22 | プレセラミック有機シラザン重合体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60226890A true JPS60226890A (ja) | 1985-11-12 |
| JPH0461013B2 JPH0461013B2 (ja) | 1992-09-29 |
Family
ID=24286833
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60007330A Granted JPS60226890A (ja) | 1984-01-19 | 1985-01-18 | プレセラミツク有機シラザン重合体 |
| JP63238632A Expired - Lifetime JPH0647621B2 (ja) | 1984-01-19 | 1988-09-22 | プレセラミック有機シラザン重合体の製造方法 |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63238632A Expired - Lifetime JPH0647621B2 (ja) | 1984-01-19 | 1988-09-22 | プレセラミック有機シラザン重合体の製造方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4482669A (ja) |
| EP (1) | EP0153008B1 (ja) |
| JP (2) | JPS60226890A (ja) |
| CA (1) | CA1231515A (ja) |
| DE (1) | DE3571245D1 (ja) |
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| EP0153008B1 (en) | 1989-06-28 |
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