JPS60239736A - 感光性組成物 - Google Patents
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D161/00—Coating compositions based on condensation polymers of aldehydes or ketones; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D161/04—Condensation polymers of aldehydes or ketones with phenols only
- C09D161/06—Condensation polymers of aldehydes or ketones with phenols only of aldehydes with phenols
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D251/00—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings
- C07D251/02—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings
- C07D251/12—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D251/14—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hydrogen or carbon atoms directly attached to at least one ring carbon atom
- C07D251/24—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hydrogen or carbon atoms directly attached to at least one ring carbon atom to three ring carbon atoms
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
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- G03F7/0295—Photolytic halogen compounds
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野」
本発明は、新規な、光により遊離基を生成する化合物を
含有する感光性組成物に関するものである。更に詳しく
は、新規な感光性8−)リアジン化合物を含有する感光
性組成物に関するものである。
含有する感光性組成物に関するものである。更に詳しく
は、新規な感光性8−)リアジン化合物を含有する感光
性組成物に関するものである。
「従来の技術」
光に曝すことにより分解して遊離基を生成する化合物(
遊離基生成剤)はグラフイツクアーツの分野でよく知ら
れている。それらは光重合性組成物中の光重合開始剤、
遊離基写真組成物中の光活性剤および光で生じる酸によ
シ触媒される反応の光開始剤として広く用いられている
。そのような遊離基生成剤を用いて印刷、複製、複写お
よびその他の画像形成系で有用な種々の感光性材料が作
られる。
遊離基生成剤)はグラフイツクアーツの分野でよく知ら
れている。それらは光重合性組成物中の光重合開始剤、
遊離基写真組成物中の光活性剤および光で生じる酸によ
シ触媒される反応の光開始剤として広く用いられている
。そのような遊離基生成剤を用いて印刷、複製、複写お
よびその他の画像形成系で有用な種々の感光性材料が作
られる。
有機ハロゲン化合物は光分解して、塩素遊離基、臭素遊
離基のようなハロゲン遊離基を与える。これらのハロゲ
ン遊離基は良好な水素引抜き剤であリ、水素供与体が存
在すると酸を生じる。それらの光重合過程および遊離基
写真過程への応用についてはJ、Kosar著 「Li
ght SensitiveSystemsJJ、Wi
ley & 5ons (New York/9tり/
10〜/II頁および3t)〜370頁に記載されてい
る。
離基のようなハロゲン遊離基を与える。これらのハロゲ
ン遊離基は良好な水素引抜き剤であリ、水素供与体が存
在すると酸を生じる。それらの光重合過程および遊離基
写真過程への応用についてはJ、Kosar著 「Li
ght SensitiveSystemsJJ、Wi
ley & 5ons (New York/9tり/
10〜/II頁および3t)〜370頁に記載されてい
る。
この種の光の作用によりハロゲン遊離基を生じる化合物
としては、これまで四臭化炭素、ヨードホルム、トリブ
ロモアセトフェノンなどが代表的なものであり、広く用
いられてきた。しかしながらこれらの遊離基生成剤はか
なり限られた波長領域の光でしか分屏しないという欠点
を有していた。
としては、これまで四臭化炭素、ヨードホルム、トリブ
ロモアセトフェノンなどが代表的なものであり、広く用
いられてきた。しかしながらこれらの遊離基生成剤はか
なり限られた波長領域の光でしか分屏しないという欠点
を有していた。
つまシそれは通常用いられる光源の主波長より短波の紫
外領域に感度があった。それゆえこれらの化合物は光源
の発する近紫外から可視域の光を有効に利用する能力が
ないため、遊離基生成能が劣っていた。
外領域に感度があった。それゆえこれらの化合物は光源
の発する近紫外から可視域の光を有効に利用する能力が
ないため、遊離基生成能が劣っていた。
この欠点を改良するため、ある種の増感剤を混合するこ
とにより感光波長域を広げることが提案された。例えば
米国特許第j 、104 、≠t6および同第j、/2
/、433に記載のメロシアニン色素、スチリル塩基お
よびシアニン塩基のような増感剤である。確かにこれら
の増感剤の添加により四臭化炭素やヨードホルムの感光
波長域が可視光まで広がったが、未だ満足できるもので
はなかった。というのは増感剤としては、遊離基生成剤
又は感光性組成物中の他の要素と相溶性の良いものを選
ぶ必要があるにも拘らず、相溶性が良好で、しかも高感
度を示すものの選択が困難であったからである。
とにより感光波長域を広げることが提案された。例えば
米国特許第j 、104 、≠t6および同第j、/2
/、433に記載のメロシアニン色素、スチリル塩基お
よびシアニン塩基のような増感剤である。確かにこれら
の増感剤の添加により四臭化炭素やヨードホルムの感光
波長域が可視光まで広がったが、未だ満足できるもので
はなかった。というのは増感剤としては、遊離基生成剤
又は感光性組成物中の他の要素と相溶性の良いものを選
ぶ必要があるにも拘らず、相溶性が良好で、しかも高感
度を示すものの選択が困難であったからである。
この欠点を改良するため、感光波長域が近紫外から可視
光領域にあるハロゲン遊離基生成剤が提案された。例え
ば米国特許第3.りj44,117!号、同第3,21
r7,037号および同第≠、lrり、323号に記載
のハロメチル−5−)リアジン化合物群がある。これら
の化合物群は近紫外から可視光領域に感光波長域がある
ものの、照射された光が有効に用いられず光分解の感度
は比較的低い。
光領域にあるハロゲン遊離基生成剤が提案された。例え
ば米国特許第3.りj44,117!号、同第3,21
r7,037号および同第≠、lrり、323号に記載
のハロメチル−5−)リアジン化合物群がある。これら
の化合物群は近紫外から可視光領域に感光波長域がある
ものの、照射された光が有効に用いられず光分解の感度
は比較的低い。
「発明が解決しようとする問題点」
感光波長域が近紫外から可視光領域にある遊離基生成剤
においても、まだ光分解の感度が低く感光性組成物の感
度が充分高くないことである。
においても、まだ光分解の感度が低く感光性組成物の感
度が充分高くないことである。
「問題点を解決するための手段」
本発明者らは穐々研究の結果、上記問題点は新規な下記
一般式CI)で示されるS −) IJアジン化合物を
含有した感光性組成物によって解決した。
一般式CI)で示されるS −) IJアジン化合物を
含有した感光性組成物によって解決した。
また本発明の化合物は、組成物中の他の成分との相溶性
も良好であった。
も良好であった。
ここで、Aは無置換または置換された芳香族残基を、Y
は塩素原子または臭素原子を、nは1〜3の整数を表わ
す。
は塩素原子または臭素原子を、nは1〜3の整数を表わ
す。
本発明について更に詳細に説明する。
一般式CI)において、人の芳香族残基としてはアリー
ル基および複素芳香族残基金倉み、好ましくは単環ある
いは2環のものであり、例えばフェニル基、l−ナフチ
ル基、λ−ナフチル基、コーフリル基、コーチェニル基
、コーチアゾール基、コーチアゾール基、2−イミダゾ
ール基、コーヒリジル基、λ−ベンゾ7リル基、コーベ
ンゾチェニル基、コーペンゾオキサゾール基、λ−ベン
ゾチアゾール基、コーペンゾイミダゾール基、ベンゾト
リアゾール基、λ−インドリル基、コーキノリル基など
が挙げられる。好ましくは単環のアリール基である。
ル基および複素芳香族残基金倉み、好ましくは単環ある
いは2環のものであり、例えばフェニル基、l−ナフチ
ル基、λ−ナフチル基、コーフリル基、コーチェニル基
、コーチアゾール基、コーチアゾール基、2−イミダゾ
ール基、コーヒリジル基、λ−ベンゾ7リル基、コーベ
ンゾチェニル基、コーペンゾオキサゾール基、λ−ベン
ゾチアゾール基、コーペンゾイミダゾール基、ベンゾト
リアゾール基、λ−インドリル基、コーキノリル基など
が挙げられる。好ましくは単環のアリール基である。
Aの置換芳香族残基としては上記のような芳香族残基に
、例えばメチル基、エチル基などの炭素原子数7〜2個
のアルキル基、例えばメトキシ基、エトキシ基などの炭
素原子数7〜2個のアルコキシ基、例えば塩素原子など
のハロゲン原子、ニトロ基、フェニル基、カルボキシ基
、ヒドロキシ基、シアノ基などが置換したものが含まれ
、具体的には≠−クロロフェニル基、コークロロフェニ
ル基、μmブロモフェニル基、≠−ニトロフェニル基、
3−ニトロフェニル基、≠−フェニルフェニル基、弘−
メチルフェニル基、コーメチルフェニル基、≠−エチル
フェニル基、≠−メトキシフェニル基、λ−メトキシフ
ェニル基、≠−エトキシフェニル基、コーカルボキシフ
エ二ル基、≠−シアノフェニル基、3.弘−メチレンジ
オキシフェニル基、≠−フェノキシフェニル基、≠−ア
セトキシフェニル基、≠−ヒドロキシフェニル基、2.
’l−ジヒドロキシフェニル基、≠−メチルーl−ナフ
チル基、≠−りo C1−/−fフチル基、’−二トロ
=/−ナフチル基、t−クロロ−2−ナフチル基、ター
フロモー2−ナフチル基、j−二トロー1−ナフチル基
、6−メチル−2−ベンゾフリル基、t−メチル−λ〜
ベンゾオキサゾール基、t−メチル−λ−ベンゾチアゾ
ール基、t−クロロ−2=ベンゾチアゾール基などが挙
げられる。好ましくは単環の置換芳香族残基である。
、例えばメチル基、エチル基などの炭素原子数7〜2個
のアルキル基、例えばメトキシ基、エトキシ基などの炭
素原子数7〜2個のアルコキシ基、例えば塩素原子など
のハロゲン原子、ニトロ基、フェニル基、カルボキシ基
、ヒドロキシ基、シアノ基などが置換したものが含まれ
、具体的には≠−クロロフェニル基、コークロロフェニ
ル基、μmブロモフェニル基、≠−ニトロフェニル基、
3−ニトロフェニル基、≠−フェニルフェニル基、弘−
メチルフェニル基、コーメチルフェニル基、≠−エチル
フェニル基、≠−メトキシフェニル基、λ−メトキシフ
ェニル基、≠−エトキシフェニル基、コーカルボキシフ
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’l−ジヒドロキシフェニル基、≠−メチルーl−ナフ
チル基、≠−りo C1−/−fフチル基、’−二トロ
=/−ナフチル基、t−クロロ−2−ナフチル基、ター
フロモー2−ナフチル基、j−二トロー1−ナフチル基
、6−メチル−2−ベンゾフリル基、t−メチル−λ〜
ベンゾオキサゾール基、t−メチル−λ−ベンゾチアゾ
ール基、t−クロロ−2=ベンゾチアゾール基などが挙
げられる。好ましくは単環の置換芳香族残基である。
本発明で用いられる前記一般式(I)で示されるS −
) IJアジン化合物は、下記の方法によシ合成される
。すなわち、R、Ad am s ら編1’−Orga
nic 5yntheses J (’J、Wiley
& 5ons )Collective Volume
−2、t、23頁に記載の方法、あるいは、V 、 C
ovjell。
) IJアジン化合物は、下記の方法によシ合成される
。すなわち、R、Ad am s ら編1’−Orga
nic 5yntheses J (’J、Wiley
& 5ons )Collective Volume
−2、t、23頁に記載の方法、あるいは、V 、 C
ovjell。
ら著、He1vetica Chimica Acta
Xtり、1’/り〜13≠(lり76)に記載の方法
にしたがい合成される一般式(II)で示される芳香族
ニトリル化合物とハロアセトニトリルを用い、K。
Xtり、1’/り〜13≠(lり76)に記載の方法
にしたがい合成される一般式(II)で示される芳香族
ニトリル化合物とハロアセトニトリルを用い、K。
Wakabayashiら著、
(ここで、Aは一般式CI)と同義)
Bulletin of the Chemical
5ocietyof JapanX442、フタ+2≠
〜コタ30(/りtり)に記載の方法にしたがい環化さ
せることによシ合成することができる。
5ocietyof JapanX442、フタ+2≠
〜コタ30(/りtり)に記載の方法にしたがい環化さ
せることによシ合成することができる。
次に示す構造を有する化合物が本発明に用いられる遊離
生成剤として特に有利である。
生成剤として特に有利である。
A/
Ad
ム3
CH(J 2
Aμ
j
A
ct3
A7
屋r
Cα3
屋り
cz CCl3
10
煮//
A/、2
ct3
Al2
A/ ≠
ll
ct3
A/、4
Al7
本発明の遊離基生成剤は光重合性組成物中の光重合開始
剤として用いる場合及び平版印刷版、IC回路、フォト
マスク製造のための感光性レジスト形成性組成物に、露
光によシ現像することなく可視像を与える性能を与える
場合に特に有用である。
剤として用いる場合及び平版印刷版、IC回路、フォト
マスク製造のための感光性レジスト形成性組成物に、露
光によシ現像することなく可視像を与える性能を与える
場合に特に有用である。
本発明の遊離基生成剤を光重合性組成物中に用いる場合
、光重合性組成物は、エチレン性不飽和結合を有する重
合可能な化合物と光重合開始剤と、必要とするならば結
合剤と、さらに必要とするならば増感剤とから構成され
、特に感光性印刷版の感光層、7オトンジスト等に有用
である。
、光重合性組成物は、エチレン性不飽和結合を有する重
合可能な化合物と光重合開始剤と、必要とするならば結
合剤と、さらに必要とするならば増感剤とから構成され
、特に感光性印刷版の感光層、7オトンジスト等に有用
である。
本発明の光重合性組成物におけるエチレン性不飽和結合
を有する重合可能な化合物とは、その化学構造中に少な
くとも1個のエチレン性不飽和結合を有する化合物であ
って、モノマー、プレポリマー、すなわちλ量体、3量
体および他のオリゴマーそれらの混合物ならびにそれら
の共重合体などの化学的形態をもつものである。それら
の例としては不飽和カルボン酸およびその塩、脂肪族多
価アルコール化合物とのエステル、脂肪族多価アミン化
合物とのアミド等があげられる。
を有する重合可能な化合物とは、その化学構造中に少な
くとも1個のエチレン性不飽和結合を有する化合物であ
って、モノマー、プレポリマー、すなわちλ量体、3量
体および他のオリゴマーそれらの混合物ならびにそれら
の共重合体などの化学的形態をもつものである。それら
の例としては不飽和カルボン酸およびその塩、脂肪族多
価アルコール化合物とのエステル、脂肪族多価アミン化
合物とのアミド等があげられる。
不飽和カルボン酸の具体例としては、アクリル酸、メタ
クリル酸、イタコン酸、クロトン酸、インクロトン酸、
マレイン酸などがある。
クリル酸、イタコン酸、クロトン酸、インクロトン酸、
マレイン酸などがある。
不飽和力にボン酸の塩としては、前述の酸のナトリウム
塩およびカリウム塩などがある。
塩およびカリウム塩などがある。
脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエ
ステルの具体例としてはアクリル酸エステルとして、エ
チレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコ
ールジアクリレー)、/、J−ブタンジオールジアクリ
レート、テトラメチレングリコールジアクリレート、ゾ
ロピレングリコールジアクリレート、トリメチロ−々ゾ
ロ/モノトリアクリレート、トリメチロールエタントリ
アクリレート、/、≠−シクロヘキサンジオールジアク
リレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、
ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリ
トールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
アクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート
、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタ
エリスリトールテトラアクリレート、ソルビトールトリ
アクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソル
ビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアク
リレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等があ
る。メタクリに酸エステルとしては、テトラメチレング
リコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジ
メタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリ
レート、トリメチロールエタントリメタクリV−ト、エ
チレングリコールジメタクリレート、l、3−ブタンジ
オールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタ
クリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリート、
ジペンタエリスリトールジアクリレート、ンルビトール
トリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレー
ト、ビス−(p−(J−メタクリルオキシ−コーヒドロ
キシゾロポキシ)フェニルクジメチルメタン、ビス−(
p−、cアクリルオキシエトキシ)フェニルクジメチル
メタン等がある。イタコン酸エステルとしては、エチレ
ングリコールシイタコネート、プロピレングリコールジ
イタコネー)、/、J−ブタンジオ−に、シイタコネー
ト、l、≠−ブタンジオールシイタコネート、テトラメ
チレングリコールシイタコネート、ペンタエリスリトー
ルシイタコネート、ソルビトールテトライタコネート“
等がある。クロトン酸エステルとしては、エチレングリ
コールジクロトネート、テトラメチレングリコールジク
ロトネート、ベンタエリスリトールジクロトネート、ソ
ルビトールテトラクロトネート等がある。イソクロトン
版エステ〜トシてハ、エチレングリコールジイソクロト
ネート、ベンタエリスリトールジインンロトネート、ン
ルビトールテトツイソクロトネート等がある。マレイン
酸エステルとしては、エチレングリコールシマレート、
トリエチレングリコールシマレート、ペンタエリスリト
ールシマレート、ツルピトーにテトラマレート等がある
。
ステルの具体例としてはアクリル酸エステルとして、エ
チレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコ
ールジアクリレー)、/、J−ブタンジオールジアクリ
レート、テトラメチレングリコールジアクリレート、ゾ
ロピレングリコールジアクリレート、トリメチロ−々ゾ
ロ/モノトリアクリレート、トリメチロールエタントリ
アクリレート、/、≠−シクロヘキサンジオールジアク
リレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、
ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリ
トールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
アクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート
、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタ
エリスリトールテトラアクリレート、ソルビトールトリ
アクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソル
ビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアク
リレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等があ
る。メタクリに酸エステルとしては、テトラメチレング
リコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジ
メタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリ
レート、トリメチロールエタントリメタクリV−ト、エ
チレングリコールジメタクリレート、l、3−ブタンジ
オールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタ
クリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリート、
ジペンタエリスリトールジアクリレート、ンルビトール
トリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレー
ト、ビス−(p−(J−メタクリルオキシ−コーヒドロ
キシゾロポキシ)フェニルクジメチルメタン、ビス−(
p−、cアクリルオキシエトキシ)フェニルクジメチル
メタン等がある。イタコン酸エステルとしては、エチレ
ングリコールシイタコネート、プロピレングリコールジ
イタコネー)、/、J−ブタンジオ−に、シイタコネー
ト、l、≠−ブタンジオールシイタコネート、テトラメ
チレングリコールシイタコネート、ペンタエリスリトー
ルシイタコネート、ソルビトールテトライタコネート“
等がある。クロトン酸エステルとしては、エチレングリ
コールジクロトネート、テトラメチレングリコールジク
ロトネート、ベンタエリスリトールジクロトネート、ソ
ルビトールテトラクロトネート等がある。イソクロトン
版エステ〜トシてハ、エチレングリコールジイソクロト
ネート、ベンタエリスリトールジインンロトネート、ン
ルビトールテトツイソクロトネート等がある。マレイン
酸エステルとしては、エチレングリコールシマレート、
トリエチレングリコールシマレート、ペンタエリスリト
ールシマレート、ツルピトーにテトラマレート等がある
。
さらに、前述のエステルの混合物もあげることができる
。 ゛ 脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミド
の具体例としては、メチレ/ビス−アクリルアミド、メ
チレンビス−メタクリルアミド、/、乙−ヘキサメチレ
ンビス−アクリンアミド、/、4−へキサメチレンビス
−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアク
リルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレ
ンビスメタクリルアミド等がある。
。 ゛ 脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミド
の具体例としては、メチレ/ビス−アクリルアミド、メ
チレンビス−メタクリルアミド、/、乙−ヘキサメチレ
ンビス−アクリンアミド、/、4−へキサメチレンビス
−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアク
リルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレ
ンビスメタクリルアミド等がある。
その他の例としては、特公昭≠?−≠/701号公報中
に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基
を有するポリイソシアネート化合物に、下記の一般式(
II)で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付
加せしめた7分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有
するビニルウレタン化合物等があげられる CH=C(R)COOCH2CH(R’)OH(III
) (ただし、RおよびR′はHあるいはCH3を示す。) 本発明の遊離基生成剤を光重合性組成物中の光重合開始
剤として用いる場合、該光重合性組成物には必要に応じ
て結合剤を含有させることができる。
に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基
を有するポリイソシアネート化合物に、下記の一般式(
II)で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付
加せしめた7分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有
するビニルウレタン化合物等があげられる CH=C(R)COOCH2CH(R’)OH(III
) (ただし、RおよびR′はHあるいはCH3を示す。) 本発明の遊離基生成剤を光重合性組成物中の光重合開始
剤として用いる場合、該光重合性組成物には必要に応じ
て結合剤を含有させることができる。
本発明の光重合性組成物における結合剤としては、重合
可能なエチレン性不飽和化合物および光重合開始剤に対
する相溶性が相成物の塗布液の調製、塗布および乾燥に
至る感光材料の製造工程の全てにおいて脱混合を起さな
い程度に良好であること、感光層あるいはレジスト層と
して例えば溶液現像にせよ剥離現像にせよ像露光後の現
像処理が可能であること、感光層あるいはレジスト層と
して強靭な皮膜を形成し得ることなどの特性を有するこ
とが要求されるが、通常線状有機高分子重合体よυ適宜
、選択される。結合剤の具体的な例としては、塩素化ポ
リスチレン、塩素化ポリプロピレン、ポリアクリル酸ア
ルキルエステル(アルキル基としては、メチル基、エチ
ル基、n−ブチル基、i s o−7” fル基、n−
ヘキシル基、2−エチルヘキシル基など)、アクリM酸
アルキルエステル(アルキル基は同上)とアクリロニト
リル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、スチレン、ブタジ
ェンなどのモノマーの少なくとも一種との共重合体、ポ
リ塩化ビニル、塩化ビニルとアクリロニトリルとの共重
合体、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデンとアクリロ
ニトリルとの共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルア
ルコール、ポリアクリロニトリル、アクリロニトリルと
スチレンとの共重合体、アクリロニトリルとブタジェン
およびスチレンとの共重合体、ポリメタアクリル酸アル
キルエステル(アルキル基としては、メチル基、エチル
基、n−プロピル基、n−ブチル基、is。
可能なエチレン性不飽和化合物および光重合開始剤に対
する相溶性が相成物の塗布液の調製、塗布および乾燥に
至る感光材料の製造工程の全てにおいて脱混合を起さな
い程度に良好であること、感光層あるいはレジスト層と
して例えば溶液現像にせよ剥離現像にせよ像露光後の現
像処理が可能であること、感光層あるいはレジスト層と
して強靭な皮膜を形成し得ることなどの特性を有するこ
とが要求されるが、通常線状有機高分子重合体よυ適宜
、選択される。結合剤の具体的な例としては、塩素化ポ
リスチレン、塩素化ポリプロピレン、ポリアクリル酸ア
ルキルエステル(アルキル基としては、メチル基、エチ
ル基、n−ブチル基、i s o−7” fル基、n−
ヘキシル基、2−エチルヘキシル基など)、アクリM酸
アルキルエステル(アルキル基は同上)とアクリロニト
リル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、スチレン、ブタジ
ェンなどのモノマーの少なくとも一種との共重合体、ポ
リ塩化ビニル、塩化ビニルとアクリロニトリルとの共重
合体、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデンとアクリロ
ニトリルとの共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルア
ルコール、ポリアクリロニトリル、アクリロニトリルと
スチレンとの共重合体、アクリロニトリルとブタジェン
およびスチレンとの共重合体、ポリメタアクリル酸アル
キルエステル(アルキル基としては、メチル基、エチル
基、n−プロピル基、n−ブチル基、is。
−ブチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、λ−
エチルヘキシル基など)、メタアクリル酸アルキルエス
テル(アルキル基は同上)とアクリロニトリル、塩化ビ
ニル、塩化ビニリデン、スチレン、ブタジェンなどの七
ツマ−の少なくとも一種との共重合体、ポリスチレン、
ポリ−α−メチルスチレン、・ポリアミド(乙−ナイロ
ン、A、j−ナイロ:/flト)、メチルセルロース、
エチルセルロース、アセチルセルロース、ポリビニルフ
オルマール、ポリビニルブチラールなどが挙げられる。
エチルヘキシル基など)、メタアクリル酸アルキルエス
テル(アルキル基は同上)とアクリロニトリル、塩化ビ
ニル、塩化ビニリデン、スチレン、ブタジェンなどの七
ツマ−の少なくとも一種との共重合体、ポリスチレン、
ポリ−α−メチルスチレン、・ポリアミド(乙−ナイロ
ン、A、j−ナイロ:/flト)、メチルセルロース、
エチルセルロース、アセチルセルロース、ポリビニルフ
オルマール、ポリビニルブチラールなどが挙げられる。
さらに、水あるいはアルカリ水可溶性有機高分子重合体
を用いると水あるいはアルカリ水現像が可能となる。こ
のような高分子重合体としては側鎖にカルボン酸を有す
る付加重合体、たとえばメタクリル酸共重合体(たとえ
ば、メタクリル酸メチルとメタクリル酸との共重合体、
メタクリル酸エテルとメタクリル酸との共重合体、メタ
クリル酸ブチルとメタクリル酸との共重合体、アクリル
酸エチルとメタクリル酸との共重合体、メタクリル酸と
スチレンおよびメタクリル酸との共重合体など)、アク
リル酸共重合体(アクリル酸エチルとアクリル酸との共
重合体、アクリル酸ブチルとアクリル酸との共重合体、
アクリル酸エチルとスチレンおよびアクリル酸との共重
合体など)、さらにはイタコン酸共重合体、クロトン酸
共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体などがあ
り、また同様に側鎖にカルボン酸を有する酸性セルロー
ス誘導体がある。
を用いると水あるいはアルカリ水現像が可能となる。こ
のような高分子重合体としては側鎖にカルボン酸を有す
る付加重合体、たとえばメタクリル酸共重合体(たとえ
ば、メタクリル酸メチルとメタクリル酸との共重合体、
メタクリル酸エテルとメタクリル酸との共重合体、メタ
クリル酸ブチルとメタクリル酸との共重合体、アクリル
酸エチルとメタクリル酸との共重合体、メタクリル酸と
スチレンおよびメタクリル酸との共重合体など)、アク
リル酸共重合体(アクリル酸エチルとアクリル酸との共
重合体、アクリル酸ブチルとアクリル酸との共重合体、
アクリル酸エチルとスチレンおよびアクリル酸との共重
合体など)、さらにはイタコン酸共重合体、クロトン酸
共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体などがあ
り、また同様に側鎖にカルボン酸を有する酸性セルロー
ス誘導体がある。
これらの高分子重合体は、単独で結合剤として用いても
よいが、二種以上の互いに相溶性が、塗布液の調製から
塗布、乾燥に至る製造工程中に脱混合を起さない程度に
良い高分子重合体を適合な比で混合して結合剤として用
いることができる。
よいが、二種以上の互いに相溶性が、塗布液の調製から
塗布、乾燥に至る製造工程中に脱混合を起さない程度に
良い高分子重合体を適合な比で混合して結合剤として用
いることができる。
結合剤として用いられる高分子重合体の分子量は、重合
体の種類により広範な値をとシうるが、一般には5千〜
−200万、よシ好ましくは1万〜ioo万の範囲のも
のが好適である。
体の種類により広範な値をとシうるが、一般には5千〜
−200万、よシ好ましくは1万〜ioo万の範囲のも
のが好適である。
本発明の光重合性組成物に、増感剤を更に含有させる場
合には、一般式(1)で表わされる光重合開始剤との併
用により光重合速度を増大させる増感剤が選択される。
合には、一般式(1)で表わされる光重合開始剤との併
用により光重合速度を増大させる増感剤が選択される。
このような増感剤の具体例としては、ベンゾイン、ベン
ゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、タ
ーフルオレノン、λ−クロロ=2−フルオレノン、λ−
メチルーターフルオレノン、ターアントロン、λ−プロ
モーターアントロン、コーエチルーターアントロン、り
、IO−アントラキノン、λ−エチルータ。
ゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、タ
ーフルオレノン、λ−クロロ=2−フルオレノン、λ−
メチルーターフルオレノン、ターアントロン、λ−プロ
モーターアントロン、コーエチルーターアントロン、り
、IO−アントラキノン、λ−エチルータ。
IO−アントラキノン、J−i−ブチルータ、IO−ア
ントラキノン、コ、6−シクロロータ、/θ−アントラ
キノン、キサントン、λ−メチルキサントン、コーメト
キシキサントン、チオキサントン、ベンジル、ジベンザ
ルアセトン、p−(ジメチルアミノ)フェニルスチリル
ケトン、p−(ジメチルアミン)フェニルp−メチルス
チリルケトン、ベンゾフェノン、p−(ジメチルアミノ
)ベンゾフェノン(またはミヒラーケトン)、p−(ジ
エチルアミノ)ベンゾフェノン、ベンズアントロンなど
をあげることができる。これらの化合物のうち、ミヒラ
ーケトンを用いた場合が特に好ましい。
ントラキノン、コ、6−シクロロータ、/θ−アントラ
キノン、キサントン、λ−メチルキサントン、コーメト
キシキサントン、チオキサントン、ベンジル、ジベンザ
ルアセトン、p−(ジメチルアミノ)フェニルスチリル
ケトン、p−(ジメチルアミン)フェニルp−メチルス
チリルケトン、ベンゾフェノン、p−(ジメチルアミノ
)ベンゾフェノン(またはミヒラーケトン)、p−(ジ
エチルアミノ)ベンゾフェノン、ベンズアントロンなど
をあげることができる。これらの化合物のうち、ミヒラ
ーケトンを用いた場合が特に好ましい。
さらに、本発明における好ましい増感剤としては、特公
昭よ−−≠grit号公報中に記載されている下記一般
式(■)で表わされる化合物があげられる。
昭よ−−≠grit号公報中に記載されている下記一般
式(■)で表わされる化合物があげられる。
1
式中、R工はアルキル基(例えば、メチル基、エチル基
、プロピル基など)、または置換アルキル基(例えば、
λ−ヒドロキシエチル基、コーメトキシエチル基、カル
iキシメチル基、コーカルボキシエチル基など)を表わ
す。
、プロピル基など)、または置換アルキル基(例えば、
λ−ヒドロキシエチル基、コーメトキシエチル基、カル
iキシメチル基、コーカルボキシエチル基など)を表わ
す。
R2はアルキル基(例えば、メチル基、エチル基など)
、またはアリール基(例えば、゛フェニル基、p−ヒド
ロキシフェニル基、ナフチル基、チェニル基など)を表
わす。
、またはアリール基(例えば、゛フェニル基、p−ヒド
ロキシフェニル基、ナフチル基、チェニル基など)を表
わす。
2は通常シアニン色素で用いられる窒素を含む複素環核
を形成するのに必要な非金属原子群、例えばベンゾチア
ゾール類(ベンゾチアゾール、j−クロロベンゾチアゾ
ール、t−クロロベンツチアゾールなど)、ナフトチア
ゾール類(α−ナフトチアゾール、β−ナフトチアゾ−
〜など)、ベンゾセレナゾール類(ベンゾセレナゾール
、!−クロロベンゾセレナゾール、t−メトキシベンゾ
センナゾールなど)、ナフトセレナゾール類(α−ナフ
トセレナゾール、β−ナフトセレナゾールなど)、ベン
ゾオキサゾール類(ベンゾオキサゾール、j−メチルベ
ンゾオキサゾ−〃、j−フェニルベンゾオキサゾールな
ど)、ナフトオキサゾール類(α−ナフトオキサゾール
、β−す7トオキサゾールなど)を表わす。
を形成するのに必要な非金属原子群、例えばベンゾチア
ゾール類(ベンゾチアゾール、j−クロロベンゾチアゾ
ール、t−クロロベンツチアゾールなど)、ナフトチア
ゾール類(α−ナフトチアゾール、β−ナフトチアゾ−
〜など)、ベンゾセレナゾール類(ベンゾセレナゾール
、!−クロロベンゾセレナゾール、t−メトキシベンゾ
センナゾールなど)、ナフトセレナゾール類(α−ナフ
トセレナゾール、β−ナフトセレナゾールなど)、ベン
ゾオキサゾール類(ベンゾオキサゾール、j−メチルベ
ンゾオキサゾ−〃、j−フェニルベンゾオキサゾールな
ど)、ナフトオキサゾール類(α−ナフトオキサゾール
、β−す7トオキサゾールなど)を表わす。
一般式(IV)で表わされる化合物の具体例としては、
これらZ、R工およびR2を組合せた化学構造を有する
ものであり、多くのものが公知物質として存在する。し
たがって、これら公知のものから適宜選択して使用する
ことができる。
これらZ、R工およびR2を組合せた化学構造を有する
ものであり、多くのものが公知物質として存在する。し
たがって、これら公知のものから適宜選択して使用する
ことができる。
さらに、本発明における好ましい増感剤としては、米国
特許a、ot2.trt号記載の増感剤、例工ばコー〔
ビス(2−フロイル)メチレンクー3−メチルベンゾチ
アゾリン、’(ビス(2−チノイル)メチレンクー3−
メチルベンゾチアゾリン、2−(ビス(+2−フロイル
)メチレンシー3−メチルナツト(/、2−d)チアゾ
リンなどが挙げられる。
特許a、ot2.trt号記載の増感剤、例工ばコー〔
ビス(2−フロイル)メチレンクー3−メチルベンゾチ
アゾリン、’(ビス(2−チノイル)メチレンクー3−
メチルベンゾチアゾリン、2−(ビス(+2−フロイル
)メチレンシー3−メチルナツト(/、2−d)チアゾ
リンなどが挙げられる。
さらに、本発明の組成物の製造中あるいは保存中におい
てエチレン性不飽和結合な有する重合可能な化合物の不
要な熱重合を阻止するために熱重合防止剤を添加するこ
とが望ましい。適当な熱重合防止剤としてはヒドロキノ
ン、p−メトキシフェノール、ジーt−iチルーp−ク
レゾール、ヒロガロール、t−iチャカテコール、ベン
ゾキノン、塩化第一銅、フェノチアジン、フロラニール
、ナフチルアミン、β−ナフトール、ニトロベンゼン、
ジニトロベンゼンなどがある。
てエチレン性不飽和結合な有する重合可能な化合物の不
要な熱重合を阻止するために熱重合防止剤を添加するこ
とが望ましい。適当な熱重合防止剤としてはヒドロキノ
ン、p−メトキシフェノール、ジーt−iチルーp−ク
レゾール、ヒロガロール、t−iチャカテコール、ベン
ゾキノン、塩化第一銅、フェノチアジン、フロラニール
、ナフチルアミン、β−ナフトール、ニトロベンゼン、
ジニトロベンゼンなどがある。
また場合によっては着色を目的として染料もしくは顔料
、例えばメチレンブルー、クリスタルバイオレット、ロ
ーダミンB1フクシン、オーラミン、アゾ系染料、アン
トラキノン系染料、酸化チタン、カーボンブラック、酸
化鉄、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料などを加えて
もよい。
、例えばメチレンブルー、クリスタルバイオレット、ロ
ーダミンB1フクシン、オーラミン、アゾ系染料、アン
トラキノン系染料、酸化チタン、カーボンブラック、酸
化鉄、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料などを加えて
もよい。
さらに、本発明の光重合性組成物には必要に応じて可塑
剤を添加することができる。可塑剤の例としては、ジブ
チルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレ
ート、ジエチルフタレート、ジシクロへキシルフタレー
ト、ジトリテシルフタレートなどのフタル酸エステル類
、ジメチルグリコールフタレート、エチルフタリルエチ
ルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレートな
どのグリコールエステル類、トリクレジルホスフェート
、トリフェニルホスフェートなどのリン酸エステル類、
ジイソブチルアジペート、ジオクチルアジペート、ジブ
チルセバケート、ジブチルマレートなどの脂肪族二塩基
酸エステル類などがある。
剤を添加することができる。可塑剤の例としては、ジブ
チルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレ
ート、ジエチルフタレート、ジシクロへキシルフタレー
ト、ジトリテシルフタレートなどのフタル酸エステル類
、ジメチルグリコールフタレート、エチルフタリルエチ
ルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレートな
どのグリコールエステル類、トリクレジルホスフェート
、トリフェニルホスフェートなどのリン酸エステル類、
ジイソブチルアジペート、ジオクチルアジペート、ジブ
チルセバケート、ジブチルマレートなどの脂肪族二塩基
酸エステル類などがある。
本発明の光重合性組成物は前述の各種構成成分を溶媒中
に溶解せしめ、適当な支持体上に公知の方法により塗布
して用いられる。次に、この場合の各種構成成分の好ま
しい比率をエチレン性不飽和結合を有する重合可能な化
合物100重量部に対する重量部で表わす。
に溶解せしめ、適当な支持体上に公知の方法により塗布
して用いられる。次に、この場合の各種構成成分の好ま
しい比率をエチレン性不飽和結合を有する重合可能な化
合物100重量部に対する重量部で表わす。
痙 、S、cbosoc>
”” g g g リ 誓 9
里
本発明の遊離基生成剤を感光性レジスト形成性組成物に
用いる場合、感光性レジスト組成物は露光作業における
黄色安全灯下で、露光のみによって可視画像が得られる
ため、例えば、同時に多くの印刷版を露光する過程で、
例えば仕事が中断された時など製版者に与えられた版が
露光されているかどうかを知ることが可能となる。
用いる場合、感光性レジスト組成物は露光作業における
黄色安全灯下で、露光のみによって可視画像が得られる
ため、例えば、同時に多くの印刷版を露光する過程で、
例えば仕事が中断された時など製版者に与えられた版が
露光されているかどうかを知ることが可能となる。
同様に例えば、平版印刷版を作るときのいわゆる殖版焼
付は味のように一枚の大きな版に対して何度も露光を与
える場合、作業者はどの部分が露光績であるかを直ちに
確かめることができる。
付は味のように一枚の大きな版に対して何度も露光を与
える場合、作業者はどの部分が露光績であるかを直ちに
確かめることができる。
本発明の遊離永住成剤、が有利に使用できる、露光によ
り直ちに可視画像を与える感光性レジスト形成性組成物
は必須成分として感光性レジスト形成性化合物、遊離基
生成剤、変色剤および任意に一つ又は複数の可塑剤、結
合剤、変色剤でない染料、顔料、かぶり防止剤、感光性
レジスト形成性化合物用増感剤等から通常構成される。
り直ちに可視画像を与える感光性レジスト形成性組成物
は必須成分として感光性レジスト形成性化合物、遊離基
生成剤、変色剤および任意に一つ又は複数の可塑剤、結
合剤、変色剤でない染料、顔料、かぶり防止剤、感光性
レジスト形成性化合物用増感剤等から通常構成される。
感光性レジスト形成性化合物は露光にょシ、溶解性、粘
着性、基板との接着性、等の物理的性質の変化する化合
物であって、例えば感光性ジアゾ化合物、感光性アジド
化合物、エチレン性不飽和結合を有する化合物、光で生
じる酸により触媒される反応をする化合物を含む。
着性、基板との接着性、等の物理的性質の変化する化合
物であって、例えば感光性ジアゾ化合物、感光性アジド
化合物、エチレン性不飽和結合を有する化合物、光で生
じる酸により触媒される反応をする化合物を含む。
適当な感光性ジアゾ化合物としてはp−ジアゾジフェニ
ルアミンの塩、例えばフェノール塩、フルオロカプリン
酸塩、及びトリイソプロピルナフタレンスルホン酸、≠
、ヒ′−ビスフェニルシス々ホン酸、!−二トロオルト
ートルエンスルホン酸、j−スルホサリチル酸、2.!
−ジメチルベンゼンスルホン酸、λ−ニトロベンゼンス
ルホン酸、3−クロロベンゼンスルホン酸、3−ブロモ
ベンゼンスルホン酸、コークロロー!−二トロベンゼン
スルホン酸、ノーフルオロカプリルナフタレンスルホン
L /−ナフトール−j−スルホン酸、コーメトキシー
≠−ヒドロキシ−!−ベンゾイルベンゼンスルホン酸及
びパラトルエンスルホン酸などのスルホン酸の塩などと
ホルムアルデヒドとの縮合物のように一分子中に二個以
上のジアゾ基を有する化合物が好ましい。その他好まし
いジアゾ化合物としては上記の塩を含む2.j?−ジメ
トキシ−μmp−トリルメルカゾトベンゼンジアゾニク
ムとホルムアルデヒドの縮合物、2.3−ジメトキシ−
l−モルホリノベンゼンジアゾニウムとホルムアルデヒ
ド又はアセトアルデヒドとの縮合物、などがある。
ルアミンの塩、例えばフェノール塩、フルオロカプリン
酸塩、及びトリイソプロピルナフタレンスルホン酸、≠
、ヒ′−ビスフェニルシス々ホン酸、!−二トロオルト
ートルエンスルホン酸、j−スルホサリチル酸、2.!
−ジメチルベンゼンスルホン酸、λ−ニトロベンゼンス
ルホン酸、3−クロロベンゼンスルホン酸、3−ブロモ
ベンゼンスルホン酸、コークロロー!−二トロベンゼン
スルホン酸、ノーフルオロカプリルナフタレンスルホン
L /−ナフトール−j−スルホン酸、コーメトキシー
≠−ヒドロキシ−!−ベンゾイルベンゼンスルホン酸及
びパラトルエンスルホン酸などのスルホン酸の塩などと
ホルムアルデヒドとの縮合物のように一分子中に二個以
上のジアゾ基を有する化合物が好ましい。その他好まし
いジアゾ化合物としては上記の塩を含む2.j?−ジメ
トキシ−μmp−トリルメルカゾトベンゼンジアゾニク
ムとホルムアルデヒドの縮合物、2.3−ジメトキシ−
l−モルホリノベンゼンジアゾニウムとホルムアルデヒ
ド又はアセトアルデヒドとの縮合物、などがある。
さらに、他の有用なジアゾ化合物は、米国特許第2.t
≠り、373号明細書に記載されているような化合物を
含む。
≠り、373号明細書に記載されているような化合物を
含む。
これらは活性光照射によシジアゾ基が分解して不溶性と
なるものである。
なるものである。
一方、活性光照射によりアルカ゛り可溶性となる感光性
ジアゾ化合物も使用できる。それは−分子中に少くとも
一つ00−キノンジアジド基を有する化合物であり、特
に0−キノンジアジドのスルホン酸エステル又はスルホ
ン酸アミドが好ましい。
ジアゾ化合物も使用できる。それは−分子中に少くとも
一つ00−キノンジアジド基を有する化合物であり、特
に0−キノンジアジドのスルホン酸エステル又はスルホ
ン酸アミドが好ましい。
このような化合物は、既に数多く知られている。
例えば米国特許第30≠tiio号、同第30≠A//
/号、同第30弘4/16号、同第30≠1/、/り号
、同第30蓼6120号、同第30444/21号、同
第30≠612λ号、同第3/300u7号、同第31
300uI号、同第311rJ’210号、同第311
41310号、同第J/Jo OII r号、同t7g
3io2ro9号、同第Jlti1?13号、同第31
fij11’i00号、同第313り022号などの各
明細書中に記載されているものを挙げることができる。
/号、同第30弘4/16号、同第30≠1/、/り号
、同第30蓼6120号、同第30444/21号、同
第30≠612λ号、同第3/300u7号、同第31
300uI号、同第311rJ’210号、同第311
41310号、同第J/Jo OII r号、同t7g
3io2ro9号、同第Jlti1?13号、同第31
fij11’i00号、同第313り022号などの各
明細書中に記載されているものを挙げることができる。
また適当な感光性アジド化合物としてはアジド基が直接
又はカルボニル基又はスルホニル基を介して芳香環に結
合している芳香族アジド化合物である。これらは光によ
如アジド基が分解して、ナイトレンを生じ、ナイトレン
の種々の反応により不溶化するものである。好ましい芳
香族アジド化合物としては、アジドフェニル、アジドス
チリルアジドベンザル、アジドベンゾイル及びアジドシ
ンナモイルの如き基を1個又はそれ以上含む化合物で、
たとえば≠ p/−ジアジド力にコン、グーアジド−u
’−(4cmアジドベンゾイルエトキシ)カルコン、N
lN−ビス−p−アジド、ベンザル−p−フ二二レンジ
アミン、/、J、4−)す(参′−アジドベンゾキシ)
ヘキサン、λ−アジドー3−クロローベンゾキノン、−
、弘−ジアジド−参′−エトキシアゾベンゼン、2,6
−ジ(≠!−アジドベンザル)−ターメチルシクロヘキ
サノン、り、≠′−ジアジドベンゾフェノン、λ、!−
ジアジドー3.t−ジクロロベンゾキノン、λ、j−ビ
ス(4cmアジドスチリル)−7゜3、蓼−オキサジア
ゾール、−一(≠−アジドシンナモイル)チオフェン、
λ、j−ジ(4c /−アジドベンザル)シクロヘキサ
ノン、≠、参I−ジアジドフェニルメタン、l−(4c
mアジドフェニル)−よ−フリル−2−ベンター2.≠
−ジエン−7−オン、/−(4A−アジドフェニル)−
j−(≠−メトキシフェニル)−ベンター1.≠−ジエ
ンー3−オン、/−(4C−アジドフェニル)−3−(
l−す7チル)ゾロベン−/−オン、ノー(≠−アジド
フェニル)−J−(<4−ジメチルアミノフェニル)−
プロパン−l−オン、/ (≠−アシドフェニルー5−
フェニル−/、4t−ペンタジェン−3−オン、/−C
a−アジドフエニル)−J−(≠−二トロフェニル)−
ノープロベン−l−オン、/−(≠−アジドフェニル)
−3−(2−フリル)−ノーゾロベン−l−オン、l。
又はカルボニル基又はスルホニル基を介して芳香環に結
合している芳香族アジド化合物である。これらは光によ
如アジド基が分解して、ナイトレンを生じ、ナイトレン
の種々の反応により不溶化するものである。好ましい芳
香族アジド化合物としては、アジドフェニル、アジドス
チリルアジドベンザル、アジドベンゾイル及びアジドシ
ンナモイルの如き基を1個又はそれ以上含む化合物で、
たとえば≠ p/−ジアジド力にコン、グーアジド−u
’−(4cmアジドベンゾイルエトキシ)カルコン、N
lN−ビス−p−アジド、ベンザル−p−フ二二レンジ
アミン、/、J、4−)す(参′−アジドベンゾキシ)
ヘキサン、λ−アジドー3−クロローベンゾキノン、−
、弘−ジアジド−参′−エトキシアゾベンゼン、2,6
−ジ(≠!−アジドベンザル)−ターメチルシクロヘキ
サノン、り、≠′−ジアジドベンゾフェノン、λ、!−
ジアジドー3.t−ジクロロベンゾキノン、λ、j−ビ
ス(4cmアジドスチリル)−7゜3、蓼−オキサジア
ゾール、−一(≠−アジドシンナモイル)チオフェン、
λ、j−ジ(4c /−アジドベンザル)シクロヘキサ
ノン、≠、参I−ジアジドフェニルメタン、l−(4c
mアジドフェニル)−よ−フリル−2−ベンター2.≠
−ジエン−7−オン、/−(4A−アジドフェニル)−
j−(≠−メトキシフェニル)−ベンター1.≠−ジエ
ンー3−オン、/−(4C−アジドフェニル)−3−(
l−す7チル)ゾロベン−/−オン、ノー(≠−アジド
フェニル)−J−(<4−ジメチルアミノフェニル)−
プロパン−l−オン、/ (≠−アシドフェニルー5−
フェニル−/、4t−ペンタジェン−3−オン、/−C
a−アジドフエニル)−J−(≠−二トロフェニル)−
ノープロベン−l−オン、/−(≠−アジドフェニル)
−3−(2−フリル)−ノーゾロベン−l−オン、l。
λ、を一トリ(≠′−アジドベンゾキシ)ヘキサン、コ
、6−ビス(≠−アジドベンジリジンーp−t−ブチル
)シクロヘキサノン、≠、≠′−ジアジドジベンザルア
セトン、り、参′−ジアジドスチルベンーー X /−
ジスルホン酸、μ′−アジドベンザルアセトフエノン−
ノースルホン酸、μ、≠′−ジアジドスチルベンーα−
カルボン酸、シー(≠−アジドーλ′−ヒドロキシベン
ザシ)アセトンーノースルホン酸、ψ−アジドベンザル
アセトフェノン−2−スルホン酸、λ−アジドー7.≠
−ジベンゼンスルホニルアミノナフタレン、。
、6−ビス(≠−アジドベンジリジンーp−t−ブチル
)シクロヘキサノン、≠、≠′−ジアジドジベンザルア
セトン、り、参′−ジアジドスチルベンーー X /−
ジスルホン酸、μ′−アジドベンザルアセトフエノン−
ノースルホン酸、μ、≠′−ジアジドスチルベンーα−
カルボン酸、シー(≠−アジドーλ′−ヒドロキシベン
ザシ)アセトンーノースルホン酸、ψ−アジドベンザル
アセトフェノン−2−スルホン酸、λ−アジドー7.≠
−ジベンゼンスルホニルアミノナフタレン、。
≠、≠′−ジアジドースチルベンー2,2′−ジスルホ
ン酸アニリド等をあげることが出来る。
ン酸アニリド等をあげることが出来る。
またこれらの低分子量芳香族アジド化合物以外にも特公
昭参≠−タO≠7、同l≠−3/Jr37、同φj−2
113、同≠j−2μり/j、同≠j−2jt7/3、
公報に記載のアジド基含有ポリマーも適肖である。
昭参≠−タO≠7、同l≠−3/Jr37、同φj−2
113、同≠j−2μり/j、同≠j−2jt7/3、
公報に記載のアジド基含有ポリマーも適肖である。
適当なエチレン不飽和結合を有する化合物としては、エ
チレン結合の光二量化反応で架橋しうるポリマーおよび
、光重合開始剤の存在下、光重合して不活性ポリマーを
与える重合可能な化合物が含まれる。
チレン結合の光二量化反応で架橋しうるポリマーおよび
、光重合開始剤の存在下、光重合して不活性ポリマーを
与える重合可能な化合物が含まれる。
例えばエチレン不飽和結合を有し光二量化によシネ溶化
するポリマーとしては、 −CH=CH−C−基を含むポリエステル類、ポ1 リアミド類、ポリカーボネート類がある。このようなポ
リマーとしては例えば米国′特許第3,030.201
号及び同第3.707.373号の各明細書に記載され
ているようなポリマー主鎖に感光基を含む感光性ポリマ
ー、例えばp−フェニレンジアクリル酸とジオールから
成る感光性ポリエステ々、米国特許第2.9!A 、1
7ざ号及び同第j 、/73.71r7号の各明細書に
記載されているような感光性ポリマー、例えばシンナミ
リデンマロン酸等の2−プロベリデンマロン酸化合物と
コ官能性グリノール類とから誘導される感光性ポリエス
テル、米国特許第2.tり0.り46号、同第2,73
2 、J7J号、同第2.732.3oi号の各明細書
に記載されているような感光性ポリマー、例えばポリビ
ニにアルコール、澱粉、セルロース及びその類似物のよ
うな水酸基含有ポリマーのケイ皮酸エステル類等である
。
するポリマーとしては、 −CH=CH−C−基を含むポリエステル類、ポ1 リアミド類、ポリカーボネート類がある。このようなポ
リマーとしては例えば米国′特許第3,030.201
号及び同第3.707.373号の各明細書に記載され
ているようなポリマー主鎖に感光基を含む感光性ポリマ
ー、例えばp−フェニレンジアクリル酸とジオールから
成る感光性ポリエステ々、米国特許第2.9!A 、1
7ざ号及び同第j 、/73.71r7号の各明細書に
記載されているような感光性ポリマー、例えばシンナミ
リデンマロン酸等の2−プロベリデンマロン酸化合物と
コ官能性グリノール類とから誘導される感光性ポリエス
テル、米国特許第2.tり0.り46号、同第2,73
2 、J7J号、同第2.732.3oi号の各明細書
に記載されているような感光性ポリマー、例えばポリビ
ニにアルコール、澱粉、セルロース及びその類似物のよ
うな水酸基含有ポリマーのケイ皮酸エステル類等である
。
また、光重合して不活性ポリマーを与える重合可能な化
合物としては光重合性組成物の成分として示した例があ
げられる。
合物としては光重合性組成物の成分として示した例があ
げられる。
露光のみにより可視像を得ることのできる感光性レジス
ト形成性組成物を製造するのに使用される変色剤として
は、遊離基生成剤の光分解生成物の作用により、本来無
色であるものから有色の状態に変るものと、本来固有の
色をもつものが変色し又は脱色するものとの2種類があ
る。
ト形成性組成物を製造するのに使用される変色剤として
は、遊離基生成剤の光分解生成物の作用により、本来無
色であるものから有色の状態に変るものと、本来固有の
色をもつものが変色し又は脱色するものとの2種類があ
る。
前者の形式に属する変色剤の代表的なものとしてはアリ
ールアミン類を挙げることができる。この目的に適する
アリールアミンとしては、第一級、第二級芳香族アミン
のような単なるアリールアミンのほかにいわゆるロイコ
色素が含まれ、これらの例としては次のようなものであ
る。
ールアミン類を挙げることができる。この目的に適する
アリールアミンとしては、第一級、第二級芳香族アミン
のような単なるアリールアミンのほかにいわゆるロイコ
色素が含まれ、これらの例としては次のようなものであ
る。
ジフェニルアミン、ジベンジルアニリン、トリフェニル
アミン、ジエチルアニリン、ジフェニル−p−フェニレ
ンジアミン、p−トルイジン、≠。
アミン、ジエチルアニリン、ジフェニル−p−フェニレ
ンジアミン、p−トルイジン、≠。
μ/iフェニルジアミン、0−クロロアニリン、O−ブ
ロモアニリン、J−クロロ−0−フェニレンジアミン、
o−iロモーN、N−ジメチルアニリン、/、2.3−
)リフェニルグアニジン、ナフチルアミン、ジアミノジ
フェニルメタン、アニリン、X、j−、)クロロアニリ
ン、N−メチルジフェニルアミン、o−トルイジン、I
) l I) ”7’トラメチルジアミノジフエニにメ
タン、N、N−ジメチル−p−フェニレンジアミン、1
.2−ジアニリノエチレン、p、p′ 、p“−ヘキサ
メチルトリアミノトリフェニルメタン、pII)’−テ
トラメチルジアミノトリフェニルメタン、p、p′−テ
トラメチルジアミノジフェニルメチルイミン、p、p’
、p“−トリアミノ−0−メチルトリフェニルメタン、
prp’+p“−トリアミノトリフェニルカルヒノール
、p、p′−テトラメチルアミノジフェニル−≠−アニ
リノナフチルメタン、p、p’、p“ヘトリアミノトリ
フェニルメタン、p、p’、p”−へキサプロピルトリ
アミノトリフェニルメタン。
ロモアニリン、J−クロロ−0−フェニレンジアミン、
o−iロモーN、N−ジメチルアニリン、/、2.3−
)リフェニルグアニジン、ナフチルアミン、ジアミノジ
フェニルメタン、アニリン、X、j−、)クロロアニリ
ン、N−メチルジフェニルアミン、o−トルイジン、I
) l I) ”7’トラメチルジアミノジフエニにメ
タン、N、N−ジメチル−p−フェニレンジアミン、1
.2−ジアニリノエチレン、p、p′ 、p“−ヘキサ
メチルトリアミノトリフェニルメタン、pII)’−テ
トラメチルジアミノトリフェニルメタン、p、p′−テ
トラメチルジアミノジフェニルメチルイミン、p、p’
、p“−トリアミノ−0−メチルトリフェニルメタン、
prp’+p“−トリアミノトリフェニルカルヒノール
、p、p′−テトラメチルアミノジフェニル−≠−アニ
リノナフチルメタン、p、p’、p“ヘトリアミノトリ
フェニルメタン、p、p’、p”−へキサプロピルトリ
アミノトリフェニルメタン。
また本来固有の色を有し、遊離基生成剤の光分解生成物
によシこの色が変色し二又は脱色するような変色剤とし
ては、ジフエニMメタン、トリフェニルメタン系チアジ
ン、オキサジン系、キサンチン系、アンスラキノン系、
イミノナフトキノン系、アゾメチン系等の各種色素が有
効に用いられる。
によシこの色が変色し二又は脱色するような変色剤とし
ては、ジフエニMメタン、トリフェニルメタン系チアジ
ン、オキサジン系、キサンチン系、アンスラキノン系、
イミノナフトキノン系、アゾメチン系等の各種色素が有
効に用いられる。
これらの例としては次のようなものである。ブリリアン
トグリーン、エオシン、エチルバイオレット、エリスロ
シンB1メチルグリーン、クリスタルバイオレット、(
イシツクフクシン、フェノールフタレイン、l、3−ジ
フェニルトリアジン、アリザリンレッドS1チモールブ
タンイン、メチルバイオレット2f3.キナルジンレッ
ド、ローズベンガル、メタニルイエロー、チモールスル
ホフタレイン、キシレノールブルー、メチルオレンジ、
オレンジ■、ジフェニルチオカルハソン、217−ジク
ロロフルオレセイン、/1!ラメチル・レット、コンゴ
ーレッド、ベンゾゾルプリン4(B、α−ナフチルレッ
ド、ナイルブルーJB、ナイルブルーA1フエナセタリ
ン、メチルバイオレット、マラカイトグリーン、〕ぐラ
ラックシンオイルブルー#603〔オリエント化学工業
■製〕、オイルピンク#31−2〔オリエント化学工業
■製〕、オイルレッドjB〔オリエント化学工業■製〕
、オイルブルーレツト#301(−オリエント化学工業
■製〕、オイルレッドOG(オリエント化−宇工業■製
〕、オイルレッドRR[オリエント化学工業■製]、オ
イルグリーン#jOλ〔オリエント化学工業■製〕、ス
ピロンレツドBEHスペシャル〔保士谷化学工業■製〕
、m−クレゾール/瘤−ゾル、クレゾールレッド、ロー
ダミンB、 ローダミンAG。
トグリーン、エオシン、エチルバイオレット、エリスロ
シンB1メチルグリーン、クリスタルバイオレット、(
イシツクフクシン、フェノールフタレイン、l、3−ジ
フェニルトリアジン、アリザリンレッドS1チモールブ
タンイン、メチルバイオレット2f3.キナルジンレッ
ド、ローズベンガル、メタニルイエロー、チモールスル
ホフタレイン、キシレノールブルー、メチルオレンジ、
オレンジ■、ジフェニルチオカルハソン、217−ジク
ロロフルオレセイン、/1!ラメチル・レット、コンゴ
ーレッド、ベンゾゾルプリン4(B、α−ナフチルレッ
ド、ナイルブルーJB、ナイルブルーA1フエナセタリ
ン、メチルバイオレット、マラカイトグリーン、〕ぐラ
ラックシンオイルブルー#603〔オリエント化学工業
■製〕、オイルピンク#31−2〔オリエント化学工業
■製〕、オイルレッドjB〔オリエント化学工業■製〕
、オイルブルーレツト#301(−オリエント化学工業
■製〕、オイルレッドOG(オリエント化−宇工業■製
〕、オイルレッドRR[オリエント化学工業■製]、オ
イルグリーン#jOλ〔オリエント化学工業■製〕、ス
ピロンレツドBEHスペシャル〔保士谷化学工業■製〕
、m−クレゾール/瘤−ゾル、クレゾールレッド、ロー
ダミンB、 ローダミンAG。
ファーストアシッドバイオレッドB1ス々ホローダミン
B1オーラミン、μ−p−ジエチルアミノフェニルイミ
ノナ7トキノン、λ−カルボキシアニリノー≠−p−ジ
エチルアミノフェニルイミノナフトキノン、−一カルボ
ステアリルアミノーμmp−ジヒドロオキシエチル−ア
ミノ−フェニルイミノナフトキノン、p−メトキシベン
ゾイル−p′−ジエチルアミン−07−メチルフエニル
イミツアセトアニリド、シアノ−p−ジエチルアミノフ
ェニルイミノアセトアニリド、l−フェニル−3−メチ
ルーダ−p−ジエチルアミノフェニルイミノ−!−ピラ
ゾロン、l−β−ナフチル−≠−p−ジエチルアミノフ
ェニルイミノ−j−ピラゾロン。
B1オーラミン、μ−p−ジエチルアミノフェニルイミ
ノナ7トキノン、λ−カルボキシアニリノー≠−p−ジ
エチルアミノフェニルイミノナフトキノン、−一カルボ
ステアリルアミノーμmp−ジヒドロオキシエチル−ア
ミノ−フェニルイミノナフトキノン、p−メトキシベン
ゾイル−p′−ジエチルアミン−07−メチルフエニル
イミツアセトアニリド、シアノ−p−ジエチルアミノフ
ェニルイミノアセトアニリド、l−フェニル−3−メチ
ルーダ−p−ジエチルアミノフェニルイミノ−!−ピラ
ゾロン、l−β−ナフチル−≠−p−ジエチルアミノフ
ェニルイミノ−j−ピラゾロン。
本発明の感光性組成物中で、光活性剤は経時的に安定で
あるが、変色剤として用いられるもののうちロイコトリ
フェニルメタン色素は一般に酸化されやすい。そこでこ
れらの色素を用いるときはある種の安定剤を含ませるこ
とが有効である。この目的の安定剤としては米国特許j
、011コ、J′7j号明細書に記載のアミン類、酸
化亜鉛、フェノール類、同3.0≠2.114号明細書
に記載のイオウ化合物、同3.0≠2.!lr号明細書
に記載のアルカリ金属ヨウ化物、有機酸、同30rdo
rt号明細書に記載の有機酸無水物、同3377/17
号明細書に記載のアンチモン、ヒ素、ビスマス、リンの
トリアリール化合物が有効である。
あるが、変色剤として用いられるもののうちロイコトリ
フェニルメタン色素は一般に酸化されやすい。そこでこ
れらの色素を用いるときはある種の安定剤を含ませるこ
とが有効である。この目的の安定剤としては米国特許j
、011コ、J′7j号明細書に記載のアミン類、酸
化亜鉛、フェノール類、同3.0≠2.114号明細書
に記載のイオウ化合物、同3.0≠2.!lr号明細書
に記載のアルカリ金属ヨウ化物、有機酸、同30rdo
rt号明細書に記載の有機酸無水物、同3377/17
号明細書に記載のアンチモン、ヒ素、ビスマス、リンの
トリアリール化合物が有効である。
本発明の感光性組成物は前述の各糧構成成分を溶媒中に
溶解せしめ、適当な支持体上に公知の方法により塗布し
て用いられる。次に、この場合の各種構成成分の好まし
い比率および特に好ましい比率を感光性レジスト形成性
化合物各ioo重量部に対する重量部で表わす。
溶解せしめ、適当な支持体上に公知の方法により塗布し
て用いられる。次に、この場合の各種構成成分の好まし
い比率および特に好ましい比率を感光性レジスト形成性
化合物各ioo重量部に対する重量部で表わす。
o Oも o os 。
本発明の感光性組成物を塗布するときに用いられる溶媒
としては、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メ
チルエチルケトン、酢酸メチルセロソルフ、モノクロル
ベンゼン、トルエン、酢酸エチルなどである。 − これらの溶媒は単独又は混合して使用される。
としては、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メ
チルエチルケトン、酢酸メチルセロソルフ、モノクロル
ベンゼン、トルエン、酢酸エチルなどである。 − これらの溶媒は単独又は混合して使用される。
感光性平版印刷版を製造する場合、塗布量は一般的に固
形分として0.1〜10.097m”が適当であり、特
に好ましくはO1!〜z、of/mである。
形分として0.1〜10.097m”が適当であり、特
に好ましくはO1!〜z、of/mである。
本発明の感光性組成物は感光性平版印刷版の感光層とし
て好適である。感光性平版印刷版に適した支持体として
は、親水化処理したアルミニウム板、たとえばシリケー
ト処理アルミニウム板、陽極酸化アルミニウム板、砂目
室てしたアルミニウム板、クリケート電着したアルミニ
ウム板があシ、その他亜鉛板、ステンレス板、クローム
処理銅板、親水化処理したプラスチックフィルムや紙を
挙げることができる。
て好適である。感光性平版印刷版に適した支持体として
は、親水化処理したアルミニウム板、たとえばシリケー
ト処理アルミニウム板、陽極酸化アルミニウム板、砂目
室てしたアルミニウム板、クリケート電着したアルミニ
ウム板があシ、その他亜鉛板、ステンレス板、クローム
処理銅板、親水化処理したプラスチックフィルムや紙を
挙げることができる。
また印刷用校正版、オーバーへラドプロジェクタ−用フ
ィルム、第2原図用フィルムの製造に本発明の感光性組
成物を用いる場合、これらに適する支持体としてはポリ
エチレンテレフタV−)フィルム、三酢酸セルローズフ
ィルム等の透明フィルムや、これらのプラスチックフィ
ルムの表面を化学的又は物理的にマット化したものを挙
げることができる。
ィルム、第2原図用フィルムの製造に本発明の感光性組
成物を用いる場合、これらに適する支持体としてはポリ
エチレンテレフタV−)フィルム、三酢酸セルローズフ
ィルム等の透明フィルムや、これらのプラスチックフィ
ルムの表面を化学的又は物理的にマット化したものを挙
げることができる。
本発明の感光性組成物をフォトマスク用フィルムの製造
に使用する場合、好適な支持体としてはアルミニウム、
アルミニウム合金やクロムを蒸着させたポリエチレンテ
レフタレートフィルムや着色層を設けたポリエチレンテ
レフタレートフィルムを挙げることができる。
に使用する場合、好適な支持体としてはアルミニウム、
アルミニウム合金やクロムを蒸着させたポリエチレンテ
レフタレートフィルムや着色層を設けたポリエチレンテ
レフタレートフィルムを挙げることができる。
また本発明の組成物をフォトレジストとして使用する場
合には銅板又は銅メツキ板、ステンレス板、ガラス板等
の攬々のものを支持体として用いることができる。
合には銅板又は銅メツキ板、ステンレス板、ガラス板等
の攬々のものを支持体として用いることができる。
本発明による遊離基生成剤が種々の感光性レジスト形成
性化合物を含む感光性レジスト形成性組成物中で、光の
作用を受けたときに分解して共存する変色剤を効率よく
即座に変色させることは驚くべきことである。結果とし
て鮮明な境界が露光部分と未露光部分に得られ、コント
ラストに富んだ可視像として認識できる。
性化合物を含む感光性レジスト形成性組成物中で、光の
作用を受けたときに分解して共存する変色剤を効率よく
即座に変色させることは驚くべきことである。結果とし
て鮮明な境界が露光部分と未露光部分に得られ、コント
ラストに富んだ可視像として認識できる。
また、本発明による遊離基生成剤は感光性レジスト形成
性化合物の光分解をあまシ阻害しないので感光性レジス
ト形成性組成物の感光度(レジストの感光度)をあまり
低下させない。また本発明による遊離基生成剤は少量の
添加量で有効のため、感光性レジスト形成性組成物を画
像露光、現像後得られるレジスト画像の物理的緒特性を
劣化しない。たとえば本発明の感光性レジスト形成性組
成物を感光性平版印刷版の感光性層として用いたときに
得られる印刷版の現像性、感脂性、印刷汚れ、耐刷性な
どの緒特性は遊離基生成剤未添加時と同等である。
性化合物の光分解をあまシ阻害しないので感光性レジス
ト形成性組成物の感光度(レジストの感光度)をあまり
低下させない。また本発明による遊離基生成剤は少量の
添加量で有効のため、感光性レジスト形成性組成物を画
像露光、現像後得られるレジスト画像の物理的緒特性を
劣化しない。たとえば本発明の感光性レジスト形成性組
成物を感光性平版印刷版の感光性層として用いたときに
得られる印刷版の現像性、感脂性、印刷汚れ、耐刷性な
どの緒特性は遊離基生成剤未添加時と同等である。
また、本発明の遊離基生成剤は、良好な水素引抜き剤で
あシ、水素供与体が存在すると酸を生じる。したがって
、酸によシ分解する化合物を共存させることによシ光分
解性感光性組成物となる。
あシ、水素供与体が存在すると酸を生じる。したがって
、酸によシ分解する化合物を共存させることによシ光分
解性感光性組成物となる。
酸によシ分解する化合物の例としては、米国特許第≠、
10/、323号、同φ、2≠7.611号、同! 、
2411.937号、同≠、210.2≠7号あるいは
同≠、31/ 、7t2号の各明細書に記載されている
。
10/、323号、同φ、2≠7.611号、同! 、
2411.937号、同≠、210.2≠7号あるいは
同≠、31/ 、7t2号の各明細書に記載されている
。
以下、本発明に使用される遊離基生成剤の合成例と本発
明の実施例を記すが本発明はこれに限定されるものでは
ない。
明の実施例を記すが本発明はこれに限定されるものでは
ない。
合成例
2−(p−スチリルフェニル)−4′、g−ビス(トリ
クロロメチル)−8−トリアジン(例示化合物A/)の
合成 テレフタルアルデヒドJ/、Itをメタノール200算
1に溶解し、これにナトリウムメトキシド≠、3fをメ
タノールAOmlに溶解させた溶液を室温にて加えた。
クロロメチル)−8−トリアジン(例示化合物A/)の
合成 テレフタルアルデヒドJ/、Itをメタノール200算
1に溶解し、これにナトリウムメトキシド≠、3fをメ
タノールAOmlに溶解させた溶液を室温にて加えた。
この反応液に、塩化ベンジルトリフェニルホスホニウム
30.71をメタノール/!Omlに溶解させた溶液を
室温にて滴下し、さらに室温にて2時間反応を続けた。
30.71をメタノール/!Omlに溶解させた溶液を
室温にて滴下し、さらに室温にて2時間反応を続けた。
多量の水に反応液を投入し、生成する沈澱を炉集した。
エタノール、水混合溶媒よシ再結晶し、スチルベン−≠
−アルデヒドタ、≠7を得た。
−アルデヒドタ、≠7を得た。
スチルベン−≠−アルデヒド20 、J’りをエタノー
ル10.1に溶解させ室温にて、ヒドロキシルアミン硫
酸塩?、りVを水201g1に溶解させた溶液を加えた
。さらに、この反応液に水酸化ナトリウムt 、oyを
水10@lに溶解させた溶液を加え室温にて3時間反応
させた。生成する沈澱物を炉集し、水洗してスチルベン
−≠−アルドキジムコO0≠1を得た、このアルドキシ
ムλ0.≠2と無水酢酸AOtslを30分間加熱還流
した後氷水300m1に投入し、生成するり一ステリル
ベ/ゾニトリルit、syを得た。
ル10.1に溶解させ室温にて、ヒドロキシルアミン硫
酸塩?、りVを水201g1に溶解させた溶液を加えた
。さらに、この反応液に水酸化ナトリウムt 、oyを
水10@lに溶解させた溶液を加え室温にて3時間反応
させた。生成する沈澱物を炉集し、水洗してスチルベン
−≠−アルドキジムコO0≠1を得た、このアルドキシ
ムλ0.≠2と無水酢酸AOtslを30分間加熱還流
した後氷水300m1に投入し、生成するり一ステリル
ベ/ゾニトリルit、syを得た。
≠−スチリルベンゾニトリルタ、29およびトリクロロ
アセトニトリル/3.09をクロロホルム/!@lに溶
解させ、この溶液を−j ’Cに冷却しながら、フッ化
ホウ素エチ々エーテルコンプレックス/ mlを加え、
さらに塩化水素ガスを1時間反応系に導入した。塩化水
素ガスを吹込んだ後、O0Cにて2時間、室温にて3時
間反応させた。
アセトニトリル/3.09をクロロホルム/!@lに溶
解させ、この溶液を−j ’Cに冷却しながら、フッ化
ホウ素エチ々エーテルコンプレックス/ mlを加え、
さらに塩化水素ガスを1時間反応系に導入した。塩化水
素ガスを吹込んだ後、O0Cにて2時間、室温にて3時
間反応させた。
減圧下にて溶媒を留去させた後、氷水300 mlに投
入し、粗結晶を得た。粗結晶をクロロホルム、ヘキサン
混合溶媒より再結晶することにより、2−(p−スチリ
ルフェニル)−≠、6−ビス() IJジクロロチル)
−s−トリアジンs、sfを得た(融点/70.0〜i
’yi 、o 0c)。
入し、粗結晶を得た。粗結晶をクロロホルム、ヘキサン
混合溶媒より再結晶することにより、2−(p−スチリ
ルフェニル)−≠、6−ビス() IJジクロロチル)
−s−トリアジンs、sfを得た(融点/70.0〜i
’yi 、o 0c)。
実施例 1
ナイロンブラシで砂目立て後シリケート処理したアルミ
ニウム板に回転塗布機を用いて下記感光液を塗布し、1
0o 0c、3分間乾燥し、感光層を形成させ感光板を
作製した。
ニウム板に回転塗布機を用いて下記感光液を塗布し、1
0o 0c、3分間乾燥し、感光層を形成させ感光板を
作製した。
なお感光液は、本発明の一般式(1)で示される化合物
を用いたものと、比較のために公知の化合物を用いたも
のを調製した。化合物については第1表に示す。
を用いたものと、比較のために公知の化合物を用いたも
のを調製した。化合物については第1表に示す。
感光液
メタクリル酸メチル−メタクリル酸
(モル比1s//s )共重合体
CMEK中、300Cにおける極
限粘度0./it) iGコf
トリメチロールプロパントリ
アクリレート 3rt
一般式CI)の化合物(第1
表に記載)22
トリフェニルフォスフェート lOf
エチルセロソルブ tsoゴ
塩化メチレン 33;0g11
露光は真空焼枠装置を用いて、感光板上にステップ・ウ
ェッジ(濃度段差0./j0濃度段数O〜is段)を置
き、メタルハライドランプ(Oos k W )を照射
し、露光後下記処方の現像液を用いて現像した。
ェッジ(濃度段差0./j0濃度段数O〜is段)を置
き、メタルハライドランプ(Oos k W )を照射
し、露光後下記処方の現像液を用いて現像した。
現像液
リン酸三ナトリウム 252
リン酸−ナトリウム sr
ブチルセロソルブ 70F
活性剤 −2ml
水 /l
現像によシ得られた画像におけるステップ・ウェッジの
同一段数での濃度が等しくなるよう露光した場合の露光
時間を第1表に示した。露光時間が短いほど感度が高い
ことを意味する。
同一段数での濃度が等しくなるよう露光した場合の露光
時間を第1表に示した。露光時間が短いほど感度が高い
ことを意味する。
第7表に示したように本発明による一般式CI)で示さ
れる化合物は、既存のトリクロロメチル基を有するs−
トvアジン化合物(扁3〜jの化合物)に比較し、高い
感度を示し、本発明の所期の効果が十分に認められた。
れる化合物は、既存のトリクロロメチル基を有するs−
トvアジン化合物(扁3〜jの化合物)に比較し、高い
感度を示し、本発明の所期の効果が十分に認められた。
実施例 2
実施例1で得たアルミニウム板に次の感光液を塗布し、
感光性印刷版を得た。
感光性印刷版を得た。
ペンタエリスリトールテトラ
アクリレート ≠oy
一般式C般式C化合物(例示
化合物Aよ) 2?
メタクリル酸ベンジル−メタ
クリル酸(モル比73/27)
共重合体 609
メチルエチルケトン ≠00.l
メチルセロソルブアセテート j 00 mlこの感光
性印刷版をジェット・プリンター(2kW超高圧水銀灯
、オーク製作新製)にて像露光した後、下記組成の現像
液にて現像すると未露光部が除去され鮮明な画像が得ら
れた。
性印刷版をジェット・プリンター(2kW超高圧水銀灯
、オーク製作新製)にて像露光した後、下記組成の現像
液にて現像すると未露光部が除去され鮮明な画像が得ら
れた。
無水炭酸ナトリウム 109
ブチルセロソルブ !2
水 /1
また、未露光の印刷版を強制経時試験(≠50C714
几、H6!日間)した後に露光、現像しても塗布直後の
印刷版と全く同様に鮮明な画像が得られた。
几、H6!日間)した後に露光、現像しても塗布直後の
印刷版と全く同様に鮮明な画像が得られた。
実施例 3
実施例1で得たアルミニウム板に次の感光液を塗布し、
感光性印刷版を得た。
感光性印刷版を得た。
トリメチロールプロパン) IJ
メタクリレ−) 0.309
トリエチレングリコールジア
クリレー) 、0 、 Or ?
メタクリル酸メチルーアクリ
ル酸エチルーメタクリル酸
(モル比1rO/10/lo)
共重合体 o、tλ2
一般式CI)の化合物(例示
化合物At) 0.0コ2
0イコクリスタルパイオレツ
)0.0019
メチルエチルケトン log
この感光性平版印刷版を画像露光したところ、コントラ
ストに富んだ焼出し画像が得られた。
ストに富んだ焼出し画像が得られた。
その後苛性ソーダ/、2?、イソゾロビルアルコール3
oOm1.水り00 mlよシなる現像液により未露光
部を除去することにより平版印刷版を得た。
oOm1.水り00 mlよシなる現像液により未露光
部を除去することにより平版印刷版を得た。
実施例 4
表面を砂目室てした厚さ0.16mmのアルミニウム板
に次の感光液をホエ2−で塗布し1000Cにおいて2
分間乾燥を行ない感光性平版印刷版を作製した。
に次の感光液をホエ2−で塗布し1000Cにおいて2
分間乾燥を行ない感光性平版印刷版を作製した。
ナフトキノン−(/、2)−
ジアジド(2) −s−スルホニ
ルクロリドとピロガロール
アセトン樹脂とのエステル
化物 0.739
クレゾールノボラツク樹脂 λ、/f
テトラヒドロ無水フタル酸 0./jfクリスタルバイ
オレット 0.02f 遊離基生成剤(第−表に記 載のもの) 0.029 エチレンジクロリド /1r2 メチルセロソMブ 129 これらの感光性印刷版を実施例λで用いたジェット・プ
リンターを使用して露光し、露光部と未露光部の感光層
の光学濃度をマクベス反射濃度針を用いて測定した。
オレット 0.02f 遊離基生成剤(第−表に記 載のもの) 0.029 エチレンジクロリド /1r2 メチルセロソMブ 129 これらの感光性印刷版を実施例λで用いたジェット・プ
リンターを使用して露光し、露光部と未露光部の感光層
の光学濃度をマクベス反射濃度針を用いて測定した。
露光により得られた画像は露光部の濃度と未露光部のそ
れとの間の差(△D)が大きい程、鮮明にみえる。
れとの間の差(△D)が大きい程、鮮明にみえる。
さらにこれらの感光性平版印刷FXヲ強制経時させた後
、上記測定を繰返した。強制経時の条件は温度≠j’C
,湿度75%、7日間であった。
、上記測定を繰返した。強制経時の条件は温度≠j’C
,湿度75%、7日間であった。
これらの結果を第2表に示した。
第2表に示したように、本発明の遊離基生成剤は△Dの
値が大きく、鮮明な画像を与えた。また、本発明の遊離
基生成剤を用いた場合、’(1)−メトキシスチリル)
−≠、t−ビス(トリクロロメチル)−8−)リアジン
を用いた場合(比較例)に比較しても高い△Dの値を示
し、本発明の遊離基生成剤の高い感度が認められた。
値が大きく、鮮明な画像を与えた。また、本発明の遊離
基生成剤を用いた場合、’(1)−メトキシスチリル)
−≠、t−ビス(トリクロロメチル)−8−)リアジン
を用いた場合(比較例)に比較しても高い△Dの値を示
し、本発明の遊離基生成剤の高い感度が認められた。
さらに、露光後の印刷版をDr−/(商品名:富士写真
フィルム株式会社製、ポジ型PS版用現像液)の4倍希
釈液で2s 0cにおいて60秒間現現像感度を測定し
たところ、本発明の遊離基生成剤を用いた場合(第2表
、実験S2)、これを用いない場合(第2表、実験A/
)と同じであった。これにより、本発明の遊離基生成剤
は感光ψのレジスト感度を低下させないことが示された
。
フィルム株式会社製、ポジ型PS版用現像液)の4倍希
釈液で2s 0cにおいて60秒間現現像感度を測定し
たところ、本発明の遊離基生成剤を用いた場合(第2表
、実験S2)、これを用いない場合(第2表、実験A/
)と同じであった。これにより、本発明の遊離基生成剤
は感光ψのレジスト感度を低下させないことが示された
。
実施例 5
実施例≠で得たアルミニウム板に次の感光液を塗布し感
光性印刷版を得た。
光性印刷版を得た。
ナフトキノン−(/、2)−
ジアジド−(2)−s−スルホ
ニルクロリドとクレゾール
ノホラック樹脂のエステル
化反応生成物 0.73f
クレゾールノボラツク樹脂 λ、IO?テトラヒドロ無
水フタル酸 o、1zy一般式C7)で示される遊離 基生成剤屋t o、oiy クリスタルパイオレッ) 0.01f オイルブAI−#AO30,1)It (オリエント化学工業株式 ) %式% 乾燥後の塗布重量はコ、2f/m”であった。
水フタル酸 o、1zy一般式C7)で示される遊離 基生成剤屋t o、oiy クリスタルパイオレッ) 0.01f オイルブAI−#AO30,1)It (オリエント化学工業株式 ) %式% 乾燥後の塗布重量はコ、2f/m”であった。
この感光性平版印刷版Fi画偉露光する′ことによって
現像することなく鮮明な焼出し画像を得ることができた
。露光された部分が退色し、露光されなかった部分が元
の濃度に保たれたため、安全灯下でも画像の細部まで認
識することができた。
現像することなく鮮明な焼出し画像を得ることができた
。露光された部分が退色し、露光されなかった部分が元
の濃度に保たれたため、安全灯下でも画像の細部まで認
識することができた。
実施例 6
実施例1で得たアルミニウム板に次の感光液を塗布し感
光性印刷版を得た。
光性印刷版を得た。
p−ジアゾジフェニルアミン
とパラホルムアルデヒドの
縮合物のp−)ルエンスル
ホン酸塩 0.21
ポリビニルホルマール 0.719
遊離基生成剤A/ 0.02y
N、N−ジメチルアニリン 0−029メチルセロソル
ブ 20? メタノール If 乾燥塗布量は/、097m”であった。この感光性平版
印刷版を画像露光したところ、露光された部分が紫色に
発色し、露光されなかった部分は元の黄色に保たれたた
め、安全灯下でも細部まで認識できる焼出し画像が得ら
れた。
ブ 20? メタノール If 乾燥塗布量は/、097m”であった。この感光性平版
印刷版を画像露光したところ、露光された部分が紫色に
発色し、露光されなかった部分は元の黄色に保たれたた
め、安全灯下でも細部まで認識できる焼出し画像が得ら
れた。
実施例 7
実施例ノで得たアルミニウム板に次の感光液を塗布し感
光性印刷版を得た。
光性印刷版を得た。
p−フエニVンジアクリル
酸エチルと等モルのl、ダ
ービス(β−ヒドロキシエ
トキシ)シクロヘキサンと
の縮合で合成されたポリエ
ステル 0.!f
λ−ベンゾイルメチレンー3
一メチルーβ−ナフトチア
プリン 0.03?
遊離基生成剤A7 0.001f
ロイコクリスタルパイオレツ
)o、oory
モノクロルベンゼン タグ
エチレンジクロリド t1
乾燥後の塗布重量は1.2f/m2であった。
この感光性平版印刷版を画像露光したところ、露光され
た部分が紫色に発色し、露光されなかった部分は、元の
黄色に保たれたため安全灯下でも細部まで認識できる焼
出し画像返書られた。
た部分が紫色に発色し、露光されなかった部分は、元の
黄色に保たれたため安全灯下でも細部まで認識できる焼
出し画像返書られた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 下記一般式(T)で示される感光性s−)リアジン化合
物を含有する感光性組成物。 ここで、Aは無置換または置換された芳香族残基を、Y
は塩素原子または臭素原子を、nは1〜3の整数を表わ
す。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9625684A JPS60239736A (ja) | 1984-05-14 | 1984-05-14 | 感光性組成物 |
| DE19853517440 DE3517440A1 (de) | 1984-05-14 | 1985-05-14 | Lichtempfindliche zusammensetzung |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9625684A JPS60239736A (ja) | 1984-05-14 | 1984-05-14 | 感光性組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60239736A true JPS60239736A (ja) | 1985-11-28 |
| JPH0444737B2 JPH0444737B2 (ja) | 1992-07-22 |
Family
ID=14160114
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9625684A Granted JPS60239736A (ja) | 1984-05-14 | 1984-05-14 | 感光性組成物 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60239736A (ja) |
| DE (1) | DE3517440A1 (ja) |
Cited By (107)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61151644A (ja) * | 1984-12-26 | 1986-07-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
| JPS62115150A (ja) * | 1985-07-02 | 1987-05-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
| EP0747768A2 (en) | 1995-06-05 | 1996-12-11 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Chemically amplified positive resist composition |
| EP0784233A1 (en) | 1996-01-10 | 1997-07-16 | Mitsubishi Chemical Corporation | Photosensitive composition and lithographic printing plate |
| US5885746A (en) * | 1994-12-29 | 1999-03-23 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Photosensitive resin composition, photosensitive printing plate using the same and method of manufacturing printing master plate |
| US5908734A (en) * | 1996-07-09 | 1999-06-01 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Image formation method with a post exposure heating step |
| US6010824A (en) * | 1992-11-10 | 2000-01-04 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Photosensitive resin composition containing a triazine compound and a pre-sensitized plate using the same, and photosensitive resin composition containing acridine and triazine compounds and a color filter and a pre-sensitized plate using the same |
| EP1602982A2 (en) | 2004-05-31 | 2005-12-07 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | method of producing a lithographic printing plate and planographic printing method |
| EP1614537A1 (en) | 2004-07-07 | 2006-01-11 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
| EP1619023A2 (en) | 2004-07-20 | 2006-01-25 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image forming material |
| EP1621341A2 (en) | 2004-07-30 | 2006-02-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
| EP1621338A1 (en) | 2004-07-27 | 2006-02-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
| EP1621339A1 (en) | 2004-07-29 | 2006-02-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Plate-making method of lithographic printing plate |
| EP1630602A2 (en) | 2004-08-31 | 2006-03-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Polymerizable composition, hydrophilic film formed by curing said composition and planographic printing plate precursor |
| EP1630618A2 (en) | 2004-08-24 | 2006-03-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Production method of lithographic printing plate, lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
| EP1637324A2 (en) | 2004-08-26 | 2006-03-22 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Color image-forming material and lithographic printing plate precursor |
| EP1669195A1 (en) | 2004-12-13 | 2006-06-14 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing method |
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