JPS6033103B2 - チロシノ−ル誘導体の製造方法 - Google Patents
チロシノ−ル誘導体の製造方法Info
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- JPS6033103B2 JPS6033103B2 JP9844277A JP9844277A JPS6033103B2 JP S6033103 B2 JPS6033103 B2 JP S6033103B2 JP 9844277 A JP9844277 A JP 9844277A JP 9844277 A JP9844277 A JP 9844277A JP S6033103 B2 JPS6033103 B2 JP S6033103B2
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Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は式(1)
(式中、Xは低級アルキル基、ハロゲンまたは低級アル
コキシ基を示す)で表わされるチロシノール誘導体の製
法に関する。
コキシ基を示す)で表わされるチロシノール誘導体の製
法に関する。
本発明により製造されるチロシノール誘導体は優れた抗
消化糟傷作用を有する化合物物であり、医薬品としてき
わめて重要である。
消化糟傷作用を有する化合物物であり、医薬品としてき
わめて重要である。
化合物(1)の製造法としてはチロシンのェステル類を
水素化金属鍔化合物で還元する方法、チロシノール譲導
体にホスゲン類次いでアルコール類を反応させる方法が
知られている(昭和51年特許公開公報第12524び
号)。
水素化金属鍔化合物で還元する方法、チロシノール譲導
体にホスゲン類次いでアルコール類を反応させる方法が
知られている(昭和51年特許公開公報第12524び
号)。
しかし、前者の方法は高価な還元剤を必要とするため経
済性の点で問題があり、後者の方法はホスゲン類が健康
に有害であり、さらに反応によって発生する創生物を処
理して環境的に無害である物質にするためには費用がか
)り工業的規模で行なう場合の難点となっていた。また
、チロシノールとクロル炭酸置換ペンジルェステルを反
応させる方法も知られているが(昭和50羊特許公報第
125241号)、これらのクロル炭酸ペンジルェステ
ル類は不安定のため目的化合物の収率が純度が低下する
欠点を有している。
済性の点で問題があり、後者の方法はホスゲン類が健康
に有害であり、さらに反応によって発生する創生物を処
理して環境的に無害である物質にするためには費用がか
)り工業的規模で行なう場合の難点となっていた。また
、チロシノールとクロル炭酸置換ペンジルェステルを反
応させる方法も知られているが(昭和50羊特許公報第
125241号)、これらのクロル炭酸ペンジルェステ
ル類は不安定のため目的化合物の収率が純度が低下する
欠点を有している。
本発明は上述の先行技術における問題点、即ち、高価な
触媒の作用、ホスゲンの使用あるいは不安定な原料の使
用を避け、安価で安全で高収率で目的物(1)を得るこ
とに成功したものであり、本発明の要旨は下記の反応式
により示される。(式中、R,およびR2は同一または
相異なる低級アルカノィル基を、R3はフェニル基また
は置換フェニル基を示す。
触媒の作用、ホスゲンの使用あるいは不安定な原料の使
用を避け、安価で安全で高収率で目的物(1)を得るこ
とに成功したものであり、本発明の要旨は下記の反応式
により示される。(式中、R,およびR2は同一または
相異なる低級アルカノィル基を、R3はフェニル基また
は置換フェニル基を示す。
またXは低級アルキル基、ハ。ゲンまたは低級アルコキ
シ基を示す。)即ち、本発明の最大の特徴は化合物(0
)から化合物(1)を製造するに際し、中間体として新
規化合物(N)を経由せしめる点にある。
シ基を示す。)即ち、本発明の最大の特徴は化合物(0
)から化合物(1)を製造するに際し、中間体として新
規化合物(N)を経由せしめる点にある。
詳細に述べると、化合物(N)+化合物(V)→化合物
(W)の反応はェステル交換反応であるが、化合物(V
)をェステル交換反応の一方の原料とする本反応におい
ては他方の原料が化合物(W)に示されるフェニルェス
テル類でなければ反応は円滑に進行せず、化合物(W)
の代りに他のェステル類、例えば、低級アルキルェステ
ル類を使用する場合には所期の目的は達せられないので
ある。換言すると、化合物(の)をェステル交換反応で
得るには、原料として化合物(W)を使用することが極
めて優れた効果を奏することを発見し、本発明を完成し
たのである。以下、順を追って各反応を説明する。出発
原料として○・0′ージ低級アルカノィルチロシノール
(0)を使用する。
(W)の反応はェステル交換反応であるが、化合物(V
)をェステル交換反応の一方の原料とする本反応におい
ては他方の原料が化合物(W)に示されるフェニルェス
テル類でなければ反応は円滑に進行せず、化合物(W)
の代りに他のェステル類、例えば、低級アルキルェステ
ル類を使用する場合には所期の目的は達せられないので
ある。換言すると、化合物(の)をェステル交換反応で
得るには、原料として化合物(W)を使用することが極
めて優れた効果を奏することを発見し、本発明を完成し
たのである。以下、順を追って各反応を説明する。出発
原料として○・0′ージ低級アルカノィルチロシノール
(0)を使用する。
この出発原料(0)はチロシノールを例えばアセチルク
ロライド、プロピオニルクロラィドの如き低級アルカノ
ィルハラィドでアシル化することにより合成される。こ
の原料化合物(0)を溶媒に溶解し第三級塩基存在下、
式(m)で表わされるクロル炭酸フェニルェステル類を
反応させれば新規化合物(N)が得られる。
ロライド、プロピオニルクロラィドの如き低級アルカノ
ィルハラィドでアシル化することにより合成される。こ
の原料化合物(0)を溶媒に溶解し第三級塩基存在下、
式(m)で表わされるクロル炭酸フェニルェステル類を
反応させれば新規化合物(N)が得られる。
こ)で用いる溶媒としては例えばクロロホルム エチレ
ンジクロライド等のハロゲン化炭化水素、ベンゼン、ト
ルェン等の芳香族炭化水素が挙げられ、第三級塩基とし
てはトリェチルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、
Nーメチルピベリジン等が挙げられる。反応は一50o
〜50℃、好ましくは−20o 〜25q0で進行する
。また、こ)で用いるクロル炭酸フェニルェステル類と
しては、クロル炭酸フェニルェステルのほかクロル炭酸
クロロフェニルェステル、クロル炭酸ニトロフェニルヱ
ステル等のクロル炭酸置換フェニルェステル類が挙げら
れる。次いで、式(W)の化合物を有機溶媒(例えばテ
トラハイドロフラン、ジオキサン、ベンゼン、トルエン
、クロロホルム等)に溶解し、これに有機塩基(例えば
トリェチルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、N・
N−ジメチルアニリン等)の存在下式(V)のアルコー
ル類を反応させれば新規化合物(W)が得られる。次い
で、化合物(W)を酸またはアルカリで加水分解するこ
とにより容易に式(1)の目的化合物が得られる。これ
らの反応はいずれも室温でも進行するが、加温によって
促進される。また化合物(W)、化合物(W)は純粋な
形で単離することも可能であるが、粗製のま)次の反応
に用いるのが有利である。このようにして製した式(1
)で示されるチロシ/ール誘導体は公知の分離操作、例
えば溶媒による抽出、洗浄、濃縮等により反応液から単
離し得る。また原料として光学活性体を用いれば、反応
中にラセミ化することなく光学活性を保持した目的化合
物が得られる。次に実施例を挙げて本発明を説明する。
実施例 1 ○・0′一ジアセチルチロシノール塩酸塩61.2夕を
クロロホルム500Mおよびトリエチルアミン42.5
夕の澄液に溶解した液をクロロホルム500のとおよび
クロル炭酸フェニルェステル紅.6夕の混液中に50〜
10午0にて滴下する。
ンジクロライド等のハロゲン化炭化水素、ベンゼン、ト
ルェン等の芳香族炭化水素が挙げられ、第三級塩基とし
てはトリェチルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、
Nーメチルピベリジン等が挙げられる。反応は一50o
〜50℃、好ましくは−20o 〜25q0で進行する
。また、こ)で用いるクロル炭酸フェニルェステル類と
しては、クロル炭酸フェニルェステルのほかクロル炭酸
クロロフェニルェステル、クロル炭酸ニトロフェニルヱ
ステル等のクロル炭酸置換フェニルェステル類が挙げら
れる。次いで、式(W)の化合物を有機溶媒(例えばテ
トラハイドロフラン、ジオキサン、ベンゼン、トルエン
、クロロホルム等)に溶解し、これに有機塩基(例えば
トリェチルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、N・
N−ジメチルアニリン等)の存在下式(V)のアルコー
ル類を反応させれば新規化合物(W)が得られる。次い
で、化合物(W)を酸またはアルカリで加水分解するこ
とにより容易に式(1)の目的化合物が得られる。これ
らの反応はいずれも室温でも進行するが、加温によって
促進される。また化合物(W)、化合物(W)は純粋な
形で単離することも可能であるが、粗製のま)次の反応
に用いるのが有利である。このようにして製した式(1
)で示されるチロシ/ール誘導体は公知の分離操作、例
えば溶媒による抽出、洗浄、濃縮等により反応液から単
離し得る。また原料として光学活性体を用いれば、反応
中にラセミ化することなく光学活性を保持した目的化合
物が得られる。次に実施例を挙げて本発明を説明する。
実施例 1 ○・0′一ジアセチルチロシノール塩酸塩61.2夕を
クロロホルム500Mおよびトリエチルアミン42.5
夕の澄液に溶解した液をクロロホルム500のとおよび
クロル炭酸フェニルェステル紅.6夕の混液中に50〜
10午0にて滴下する。
滴下終了後室温でさらに一時間燈群する。
反応液を水洗、乾燥後溶媒を蜜去し浅漬にベンゼン−ィ
ソプロピルェーテルを加え、析出した結晶を猿過すれば
融点118〜12roの0・0′一ジアセチルーN一(
フエニルオキシカルボニル)チロシノール768夕を得
る。元素分析値 C2虹2,NQとして 計算値 CM.8〆日5.7uN377 実測値 C64.92、日5.72、N3斑このように
して得られた○・0′一ジアセチル−N一(フエニルオ
キシカルボニル)チロシノール186夕、アニスアルコ
ール09夕、トリエチルァミン10.0夕およびトルェ
ン200私の混液を2時間加熱還流する。
ソプロピルェーテルを加え、析出した結晶を猿過すれば
融点118〜12roの0・0′一ジアセチルーN一(
フエニルオキシカルボニル)チロシノール768夕を得
る。元素分析値 C2虹2,NQとして 計算値 CM.8〆日5.7uN377 実測値 C64.92、日5.72、N3斑このように
して得られた○・0′一ジアセチル−N一(フエニルオ
キシカルボニル)チロシノール186夕、アニスアルコ
ール09夕、トリエチルァミン10.0夕およびトルェ
ン200私の混液を2時間加熱還流する。
反応終了後、溶媒を蟹夫し残澄をィソプロピルェーテル
より再結晶すると0・0′一ジアセチル−N一(4ーメ
トオキシベンジルオキシカルボニル)チロシノール17
.6夕が得られる。鷲&点78〜7野○。このようにし
て得られた○・0′一ジアセチルー(4ーメトキシベン
ジルオキシカルボニル)チロシノール17.6夕をメタ
ノール300Mに溶解した液に、10%苛性ソーダ水溶
液40私を15o〜200℃にて滴下する。
より再結晶すると0・0′一ジアセチル−N一(4ーメ
トオキシベンジルオキシカルボニル)チロシノール17
.6夕が得られる。鷲&点78〜7野○。このようにし
て得られた○・0′一ジアセチルー(4ーメトキシベン
ジルオキシカルボニル)チロシノール17.6夕をメタ
ノール300Mに溶解した液に、10%苛性ソーダ水溶
液40私を15o〜200℃にて滴下する。
滴下後30分間室温で縄拝したのち希塩酸で中和する。
メタノールを蟹去し、析出した結晶を猿取、含水メタノ
ールから再結晶すると函亀点1390 〜141q○の
N−(4ーメトオキシベンジルオキシカルポニル)チロ
シノール137夕が取られる。実施例 2 ○・0′−ジアセチルチロシノール塩酸塩14.4夕、
トリエチルアミン10.0夕およびクロロホルム200
の‘の浪液をクロロホルム200の【およびクロル炭酸
バラニトロフェニルェステル10.5夕の混液中に−1
00 〜一20COにて滴下する。
メタノールを蟹去し、析出した結晶を猿取、含水メタノ
ールから再結晶すると函亀点1390 〜141q○の
N−(4ーメトオキシベンジルオキシカルポニル)チロ
シノール137夕が取られる。実施例 2 ○・0′−ジアセチルチロシノール塩酸塩14.4夕、
トリエチルアミン10.0夕およびクロロホルム200
の‘の浪液をクロロホルム200の【およびクロル炭酸
バラニトロフェニルェステル10.5夕の混液中に−1
00 〜一20COにて滴下する。
滴下終了後室温でさらに30分間燈梓する。反応液を水
洗、乾燥後溶媒を蟹去し、残澄をエチレンジクロラィド
から再結晶すると融点167〜169午○の○・0′一
ジアセチルーN一(4ーニトロフエニルオキシカルボニ
ル)チロシノール17.5夕が得られる。元素分析値
C2虹2州208として 計算値 C57.69日4.84N6.73実測値 C
57.60、日4.87、N6.78このようにして得
られた○・0′一ジアセチル−N一(4−ニトロフエニ
ルオキシカルボニル)チロシノール20.8夕、アニス
アルコール6.9夕、トリエチルアミン10.0夕およ
びエチレンジクロリド100の上の涙液を30分間加熱
還流する。
洗、乾燥後溶媒を蟹去し、残澄をエチレンジクロラィド
から再結晶すると融点167〜169午○の○・0′一
ジアセチルーN一(4ーニトロフエニルオキシカルボニ
ル)チロシノール17.5夕が得られる。元素分析値
C2虹2州208として 計算値 C57.69日4.84N6.73実測値 C
57.60、日4.87、N6.78このようにして得
られた○・0′一ジアセチル−N一(4−ニトロフエニ
ルオキシカルボニル)チロシノール20.8夕、アニス
アルコール6.9夕、トリエチルアミン10.0夕およ
びエチレンジクロリド100の上の涙液を30分間加熱
還流する。
反応終了後溶媒を蟹去し残澄をメタノール中希苛性ソー
ダ水溶液で処理するとN−(4ーメトオキシベンジルオ
キシカルボニル)チロシノール14.0夕が得られる。
実施例 3 0・0′一ジアセチル−N一(4ーニトロフエニルオキ
シカルボニル)チロシノール20.8夕、4ークロルベ
ンジルアルコール7.2夕、トリエチルアミン10.0
夕およびエチレンジクロリド100の‘の混液を実施例
2と同様に反応させ融点13す〜141℃のN−(4ー
クロルベンジルオキシカルボニル)チロシノール14.
2夕が得られる。
ダ水溶液で処理するとN−(4ーメトオキシベンジルオ
キシカルボニル)チロシノール14.0夕が得られる。
実施例 3 0・0′一ジアセチル−N一(4ーニトロフエニルオキ
シカルボニル)チロシノール20.8夕、4ークロルベ
ンジルアルコール7.2夕、トリエチルアミン10.0
夕およびエチレンジクロリド100の‘の混液を実施例
2と同様に反応させ融点13す〜141℃のN−(4ー
クロルベンジルオキシカルボニル)チロシノール14.
2夕が得られる。
実施例 4
○・0′一ジアセチルーN一(フエニルオキシカルポニ
ル)チロシノール18.6夕、4−フロロベンジルアル
コール63夕、トリエチルアミン10.0夕およびトル
ェン100机から実施例1と同様に反応させ融点114
0〜11が0のN‐(4−フロロベンジルオキシカルポ
ニル)チロシノール12.5夕が得られる。
ル)チロシノール18.6夕、4−フロロベンジルアル
コール63夕、トリエチルアミン10.0夕およびトル
ェン100机から実施例1と同様に反応させ融点114
0〜11が0のN‐(4−フロロベンジルオキシカルポ
ニル)チロシノール12.5夕が得られる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1およびR_2は同一または相異なる低級
アルカノイル基を、R_3はフエニル基または置換フエ
ニル基を示す)で表わされるチロシノール誘導体を塩基
の存在下一般式▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Xは低級アルキル基、ハロゲンまたは低級アル
コキシ基を示す)で表わされるアルコール類を反応させ
、次いで加水分解することを特徴とする一般式▲数式、
化学式、表等があります▼ (式中、Xは前記と同じ)で表わされるチロシノール誘
導体の製造方法。 2 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1およびR_2は同一または相異なる低級
アルカノイル基を示す)で表わされる化合物に脱酸剤の
存在下一般式ClCOOR_3(式中、R_3はフエニ
ル基または置換フエニル基で示す)で表わされるクロル
炭酸エステル類を反応させ一般式▲数式、化学式、表等
があります▼ (式中、R_1、R_2およびR_3は前記と同じ)で
表わされる化合物とし、これに塩基の存在下一般式▲数
式、化学式、表等があります▼(式中、Xは低級アルキ
ル基、ハロゲンまたは低級アルコキシ基を示す)で表わ
れるアルコール類を反応させ、次いで加水分解すること
を特徴とする一般式▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Xは前記と同じ)で表わされるチロシノール誘
導体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9844277A JPS6033103B2 (ja) | 1977-08-17 | 1977-08-17 | チロシノ−ル誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9844277A JPS6033103B2 (ja) | 1977-08-17 | 1977-08-17 | チロシノ−ル誘導体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5432438A JPS5432438A (en) | 1979-03-09 |
| JPS6033103B2 true JPS6033103B2 (ja) | 1985-08-01 |
Family
ID=14219867
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9844277A Expired JPS6033103B2 (ja) | 1977-08-17 | 1977-08-17 | チロシノ−ル誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6033103B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4988424A (en) * | 1989-06-07 | 1991-01-29 | Ppg Industries, Inc. | Mask and method for making gradient sputtered coatings |
-
1977
- 1977-08-17 JP JP9844277A patent/JPS6033103B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5432438A (en) | 1979-03-09 |
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