JPS6034020Y2 - 蒸着用メタルマスク - Google Patents
蒸着用メタルマスクInfo
- Publication number
- JPS6034020Y2 JPS6034020Y2 JP1978021103U JP2110378U JPS6034020Y2 JP S6034020 Y2 JPS6034020 Y2 JP S6034020Y2 JP 1978021103 U JP1978021103 U JP 1978021103U JP 2110378 U JP2110378 U JP 2110378U JP S6034020 Y2 JPS6034020 Y2 JP S6034020Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal mask
- vapor deposition
- vapor
- deposited
- thin film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は半導体装置の製造において被蒸着基板上に所要
のパターンを形成するために用いられ、一般には該パタ
ーンが形成された後は上記メタルマスクに付着した蒸着
物質を洗浄除去腰再び何回か繰返し再生して使用される
ものである。
のパターンを形成するために用いられ、一般には該パタ
ーンが形成された後は上記メタルマスクに付着した蒸着
物質を洗浄除去腰再び何回か繰返し再生して使用される
ものである。
而して、上記の蒸着用メタルマスクを再生するに際して
は、一般には該メタルマスク面上に付着した蒸着物質を
化学エツチングにより溶解除去する方法がとられている
。
は、一般には該メタルマスク面上に付着した蒸着物質を
化学エツチングにより溶解除去する方法がとられている
。
しかしながら、耐蝕性の大きい物質を蒸着に用いた場合
は、上記のメタルマスク面上に付着した蒸着物質を化学
エツチングにより溶解除去することは困難である。
は、上記のメタルマスク面上に付着した蒸着物質を化学
エツチングにより溶解除去することは困難である。
このため、上記メタルマスク面を機械的に研摩すること
により蒸着物質を除去する方法がとられるが、この場合
は、該メタルマスクが薄板で形成されていることから取
扱いには十分な注意が必要であり、作業上の問題も多い
。
により蒸着物質を除去する方法がとられるが、この場合
は、該メタルマスクが薄板で形成されていることから取
扱いには十分な注意が必要であり、作業上の問題も多い
。
また機械的な研摩であるため、メタルマスク面の平坦度
ならびに形状等を精度よく再現するのが非常に困難であ
る。
ならびに形状等を精度よく再現するのが非常に困難であ
る。
更に、上記のメタルマスク自体を化学的にエツチングす
る方法もあるが、このものにおいては形状の変化が激し
く、上記した機械的に研摩する方法と同様に高精度の形
状復元が困難である。
る方法もあるが、このものにおいては形状の変化が激し
く、上記した機械的に研摩する方法と同様に高精度の形
状復元が困難である。
本考案は上記した不具合を解消するものであり、蒸着用
メタルマスクの蒸着面側に耐蝕性の小さな溶液に容易に
溶解する物質からなる薄膜を蒸着することにより、上記
メタルマスク面上に付着した蒸着物質を容易に溶解除去
せしめ、該メタルマスクの精度を損なうことなく再生す
ることができる蒸着用メタルマスクを提供することを目
的とする。
メタルマスクの蒸着面側に耐蝕性の小さな溶液に容易に
溶解する物質からなる薄膜を蒸着することにより、上記
メタルマスク面上に付着した蒸着物質を容易に溶解除去
せしめ、該メタルマスクの精度を損なうことなく再生す
ることができる蒸着用メタルマスクを提供することを目
的とする。
以下、本考案による蒸着用メタルマスクを再生する場合
について図面を参照して説明する。
について図面を参照して説明する。
尚、各図面ともａが概略平面図、ｂが概略断面図を示し
ている。
ている。
第１図において、１は被蒸着基板であり該基板１の所定
の面には所要のパターンが形成される。
の面には所要のパターンが形成される。
２は蒸着用メタルマスク（ステンレス、モリブデン等か
らなる）で、２Ａの部分がマスクされる部分であり、２
Ｂの部分が上記基板１上に所要のパターンが蒸着によっ
て形成される部分である。
らなる）で、２Ａの部分がマスクされる部分であり、２
Ｂの部分が上記基板１上に所要のパターンが蒸着によっ
て形成される部分である。
上記のメタルマスク２は基板１上の所定の位置に、精密
なマスク合わせにより載置固定され、マスクの形状は所
要のパターンに合わせて適宜作成される。
なマスク合わせにより載置固定され、マスクの形状は所
要のパターンに合わせて適宜作成される。
本考案におけるメタルマスクは、第２図に示す如く（上
記基板１上に既に載置固定された状態で示されている。
記基板１上に既に載置固定された状態で示されている。
）、第１図で示したメタルマスク２の蒸着物質が付着さ
れる面側に薄膜３が形成されている。
れる面側に薄膜３が形成されている。
この薄膜３には、耐蝕性の小さな酸性あるいはアルカリ
性溶液に容易に溶解除去されるアルミニウム（ＡＩ）あ
るいは銅（Ｃｕ）が使用され、２０００〜３０００Ａの
膜厚で蒸着により形成される。
性溶液に容易に溶解除去されるアルミニウム（ＡＩ）あ
るいは銅（Ｃｕ）が使用され、２０００〜３０００Ａの
膜厚で蒸着により形成される。
第３図は上記のメタルマスクを使用して、蒸着物質とし
て耐蝕性のクロム（Ｃｒ）膜４を蒸着した場合を示して
いる。
て耐蝕性のクロム（Ｃｒ）膜４を蒸着した場合を示して
いる。
４Ａは基板１面上に蒸着パターンとして形成される部分
、４Ｂはメタルマスクに形成された薄膜３上に付着され
た上記クロム膜である。
、４Ｂはメタルマスクに形成された薄膜３上に付着され
た上記クロム膜である。
ところで、上記耐蝕性の大なるクロム膜４等を蒸着した
ときには、メタルマスクに上記薄膜３が形成されていな
い場合、該メタルマスク面上に付着した蒸着物質（クロ
ム膜）を化学的に溶解除去しようとすると、メタルマス
クの方が上記蒸着物質より耐蝕性が劣るために、メタル
マスク自身も腐蝕されてしまうものである。
ときには、メタルマスクに上記薄膜３が形成されていな
い場合、該メタルマスク面上に付着した蒸着物質（クロ
ム膜）を化学的に溶解除去しようとすると、メタルマス
クの方が上記蒸着物質より耐蝕性が劣るために、メタル
マスク自身も腐蝕されてしまうものである。
これは、蒸着物質がメタルマスクと同材質からなる場合
であっても同様である。
であっても同様である。
第３図の如く基板１面上に所要の蒸着パターン４Ａが形
成されたなら、メタルマスク２を該基板１から取り外す
。
成されたなら、メタルマスク２を該基板１から取り外す
。
次いで第４図に示すように取り外されたメタルマスクを
、該メタルマスクが腐蝕されずかつアルミニウム（Ａ１
）、銅（Ｃｕ）等から形成された薄膜３を溶解可能な、
例えば水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）溶液あるいは硝酸
（ＮＨＯ３）溶液中に浸漬すると、メタルマスク２から
薄膜３（そして蒸着の際に付着したクロム膜４Ｂ）が剥
離され、第５図に示すようにもとのメタルマスク２が損
傷を受けることなく再現できる。
、該メタルマスクが腐蝕されずかつアルミニウム（Ａ１
）、銅（Ｃｕ）等から形成された薄膜３を溶解可能な、
例えば水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）溶液あるいは硝酸
（ＮＨＯ３）溶液中に浸漬すると、メタルマスク２から
薄膜３（そして蒸着の際に付着したクロム膜４Ｂ）が剥
離され、第５図に示すようにもとのメタルマスク２が損
傷を受けることなく再現できる。
このようにして再生されたメタルマスク２は、再び上記
した如くの薄膜３を蒸着により形成することにより繰返
して使用することができる。
した如くの薄膜３を蒸着により形成することにより繰返
して使用することができる。
以上記載した如く本考案によれば、メタルマスクの蒸着
物質が付着する面側に、耐蝕性の小なる薄膜を蒸着して
なるので、被蒸着基板へのパターン形成後において上記
メタルマスクへ付着した蒸着物質を容易に溶解除去する
ことができ、該メタルマスクに損傷を与えることなく繰
返し再生することのできる蒸着用メタルマスクを提供す
ることができる。
物質が付着する面側に、耐蝕性の小なる薄膜を蒸着して
なるので、被蒸着基板へのパターン形成後において上記
メタルマスクへ付着した蒸着物質を容易に溶解除去する
ことができ、該メタルマスクに損傷を与えることなく繰
返し再生することのできる蒸着用メタルマスクを提供す
ることができる。
第１図〜第５図は本考案によるメタルマスクを使用した
場合の再生過程を説明するための図であり、各図ともａ
が概略平面図、ｂが概略断面図である。 １・・・・・・被蒸着基板、２・・・・・・メタルマス
ク、３・・・・・・薄膜、４・・・・・・クロム膜。
場合の再生過程を説明するための図であり、各図ともａ
が概略平面図、ｂが概略断面図である。 １・・・・・・被蒸着基板、２・・・・・・メタルマス
ク、３・・・・・・薄膜、４・・・・・・クロム膜。
Claims (1)
- 被蒸着基板の一生面に介在せしめ所要形状の蒸着層パタ
ーンを部分的に形成せしめるようになしたメタルマスク
において、該メタルマスクはステンレスまたはモリブデ
ンからなり、上記メタルマスクの蒸着物質が付着する両
側に耐蝕性の小さなアルミニウムまたは銅からなる薄膜
を形成したことを特徴とする蒸着用メタルマスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1978021103U JPS6034020Y2 (ja) | 1978-02-20 | 1978-02-20 | 蒸着用メタルマスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1978021103U JPS6034020Y2 (ja) | 1978-02-20 | 1978-02-20 | 蒸着用メタルマスク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS54124052U JPS54124052U (ja) | 1979-08-30 |
| JPS6034020Y2 true JPS6034020Y2 (ja) | 1985-10-09 |
Family
ID=28853339
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1978021103U Expired JPS6034020Y2 (ja) | 1978-02-20 | 1978-02-20 | 蒸着用メタルマスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6034020Y2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20190089412A (ko) * | 2018-01-22 | 2019-07-31 | 공주대학교 산학협력단 | 파이프 펀칭 장치 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006199998A (ja) * | 2005-01-20 | 2006-08-03 | Seiko Epson Corp | 成膜装置、成膜方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5180165A (ja) * | 1975-01-10 | 1976-07-13 | Hitachi Ltd | Jochakuyokinzokumasuku |
| JPS51103041U (ja) * | 1975-02-14 | 1976-08-18 |
-
1978
- 1978-02-20 JP JP1978021103U patent/JPS6034020Y2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20190089412A (ko) * | 2018-01-22 | 2019-07-31 | 공주대학교 산학협력단 | 파이프 펀칭 장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS54124052U (ja) | 1979-08-30 |
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