JPS6035054A - 光記録媒体 - Google Patents
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- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
■ 発明の背景
技術分野
本発明は、光記録媒体、特にヒートモードの光記録媒体
に関する。
に関する。
先行技術
光記録媒体は、媒体と書き込みないし読み出しヘッドが
非接触であるので、記録媒体が摩耗劣化しないという特
徴をもち、このため、種々の光記録媒体の開発研究が行
われている。
非接触であるので、記録媒体が摩耗劣化しないという特
徴をもち、このため、種々の光記録媒体の開発研究が行
われている。
このような光記録媒体のうち、暗室による画像処理が不
要である等の点で、ヒートモード光記録媒体の開発が活
発になっている。
要である等の点で、ヒートモード光記録媒体の開発が活
発になっている。
このヒートモードの光記録媒体は、記録光を熱として利
用する光記録媒体であり、その1例として、レーザー等
の記録光で媒体の一部を融解、除去等して、ピットと称
される小穴を形成して書き込みを行い、このピットによ
り情報を記録し、このピットを読み出し光で検出して読
み出しを行うものがある。
用する光記録媒体であり、その1例として、レーザー等
の記録光で媒体の一部を融解、除去等して、ピットと称
される小穴を形成して書き込みを行い、このピットによ
り情報を記録し、このピットを読み出し光で検出して読
み出しを行うものがある。
そして、このようなピット形成型の媒体の1例として、
基体上に、光吸収色素からなる記録層を設層して、色素
を融解してピットを形成するものや、ニトロセルロース
等の自己酸化性の樹脂と光吸収色素とを含む記録層を設
層し、ニトロセルロース等を分解させてピットを形成す
るものや、熱可塑性樹脂と光吸収色素とからなる記録層
を塗設し、樹脂および色素を融解してピットを形成する
ものなどが知られている。
基体上に、光吸収色素からなる記録層を設層して、色素
を融解してピットを形成するものや、ニトロセルロース
等の自己酸化性の樹脂と光吸収色素とを含む記録層を設
層し、ニトロセルロース等を分解させてピットを形成す
るものや、熱可塑性樹脂と光吸収色素とからなる記録層
を塗設し、樹脂および色素を融解してピットを形成する
ものなどが知られている。
ところで、光吸収色素の1つとして、シアニン色素が知
られている。
られている。
しかし、シアニン色素を用いて記録層を形成するときに
は、書き込み後の読み出しの際の読み出し光のくりかえ
し照射によって、色素が脱色し、読み出しのS/N比が
劣化してしまうという、いわゆる再生劣化が大きく、実
用に耐えないという欠点がある。
は、書き込み後の読み出しの際の読み出し光のくりかえ
し照射によって、色素が脱色し、読み出しのS/N比が
劣化してしまうという、いわゆる再生劣化が大きく、実
用に耐えないという欠点がある。
II 発明の目的
本発明の主たる目的は、再生劣化が改善された、シアニ
ン色素を含む記録層を有する光記録媒体を提供すること
にある。
ン色素を含む記録層を有する光記録媒体を提供すること
にある。
このような目的は、下記の本発明によって達成される。
すなわち本発明は、
シアニン色素またはシアニン色素および樹脂を含み、さ
らに下記一般式(I)で示される化合物を含む記録層を
基体上に有することを特徴とする光記録媒体である。
らに下記一般式(I)で示される化合物を含む記録層を
基体上に有することを特徴とする光記録媒体である。
一般式(I)
(上記一般式(I)において、
Rは、1価の基を表わし、
文は、θ〜6であり、
Mは、遷移金属原子を表わし、
Catは、カチオンを表わす、)
なお、特開昭58−18888号には、上記一般式(I
)で示される化合物を、光吸収色素として用いる旨が開
示されているが、この化合物を光吸収色素として用いる
ときには、書き込み感度が低く、十分な読み出しのS/
N比がとれず、実用不能である(後記実施例 媒体fl
k1.12参照)。
)で示される化合物を、光吸収色素として用いる旨が開
示されているが、この化合物を光吸収色素として用いる
ときには、書き込み感度が低く、十分な読み出しのS/
N比がとれず、実用不能である(後記実施例 媒体fl
k1.12参照)。
■ 発明の具体的構成
以下、本発明の具体的構成にろいて詳細に説明する。
本発明の光記録媒体の記録層中には、シアニン色素が含
有される。
有される。
シアニン色素のなかでは、下記式1)−c’示されるも
のが好ましい。
のが好ましい。
式(TI )
Φ−L=ψ (X−)m
上記式(II )において、Φおよび!は、芳香族環、
画えばベンゼン環、ナフタレン環、フェナントレン環等
が縮合してもよいインドール環、チアゾール環、オキサ
ゾール環、セレナゾール環、イミダゾール環、ピリジン
環等をあられす。
画えばベンゼン環、ナフタレン環、フェナントレン環等
が縮合してもよいインドール環、チアゾール環、オキサ
ゾール環、セレナゾール環、イミダゾール環、ピリジン
環等をあられす。
これらΦおよびψは、同一でも異なっていてもよいが1
通常は同一のものであり、これらの環には、種々の置換
基が結合していてもよい。
通常は同一のものであり、これらの環には、種々の置換
基が結合していてもよい。
なお、Φは、環中の窒素原子が十電荷をもち、ψは、環
中の窒素原子が中性のものである。
中の窒素原子が中性のものである。
これらのΦおよびψの骨格環としては、下記式〔Φ■〕
〜〔Φ双〕で示されるものであることが好ましい。
〜〔Φ双〕で示されるものであることが好ましい。
なお、下記においては、構造はΦの形で示される。
1
(R4)Q
1
1
〔Φ■〕
1
0
〔Φで〕
1
1
〔Φ店〕R1′
1
1
このような各種卵において、環中の窒素原子(イミダゾ
ール環では2個の窒素原子)に結合する基R1(R1、
R1′)は、置換または非置換のアルキル基またはアリ
ール基である。
ール環では2個の窒素原子)に結合する基R1(R1、
R1′)は、置換または非置換のアルキル基またはアリ
ール基である。
このような環中の、窒素原子に結合する基R,,R,′
の炭素原子数には、特に制限はない。 また、この基が
さらに置換基を有するものである場合、置換基としては
、スルホン酸基、アルキルカルボニルオキシ基、アルキ
ルアミド基、アルキルスルホンアミド基、アルコキシカ
ルボニル基、アルキルアミノ基、アルキル\ カルバモイル基、アルキルスルファモイル基、水酸基、
カルボキシ基、ハロゲン原子等いずれであってもよい。
の炭素原子数には、特に制限はない。 また、この基が
さらに置換基を有するものである場合、置換基としては
、スルホン酸基、アルキルカルボニルオキシ基、アルキ
ルアミド基、アルキルスルホンアミド基、アルコキシカ
ルボニル基、アルキルアミノ基、アルキル\ カルバモイル基、アルキルスルファモイル基、水酸基、
カルボキシ基、ハロゲン原子等いずれであってもよい。
なお、後述のmが0である場合、Φ中の窒素原子に結合
する基R1は、置換アルキルまたはアリール基であり、
かつ−電荷をもつ。
する基R1は、置換アルキルまたはアリール基であり、
かつ−電荷をもつ。
さらに、Φおよびψの環が、縮合ないし非縮合のインド
ール環(式〔ΦI〕〜(ΦIT))である場合、その3
位には、2つの置換基R2。
ール環(式〔ΦI〕〜(ΦIT))である場合、その3
位には、2つの置換基R2。
2
R3が結合することが好ましい。 この場合、3位に結
合する2つの置換基R2,R3としては、アルキル基ま
たはアリール基であることが好ましい。 そして、これ
らのうちでは、炭素原子数1または2、特に1の非置換
アルキル基であることが好ましい。
合する2つの置換基R2,R3としては、アルキル基ま
たはアリール基であることが好ましい。 そして、これ
らのうちでは、炭素原子数1または2、特に1の非置換
アルキル基であることが好ましい。
一方、Φおよび!で表わされる環中の所定の位置には、
さらに他の置換基R4が結合していてもよい。 このよ
うな置換基としては、アルキル基、アリール基、複素環
残基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキルチオ基、
アルキルオキシカルボニル基、アルキルカルボニルオキ
シ基、カルボン酸基等積々の置換基であってよい。
さらに他の置換基R4が結合していてもよい。 このよ
うな置換基としては、アルキル基、アリール基、複素環
残基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキルチオ基、
アルキルオキシカルボニル基、アルキルカルボニルオキ
シ基、カルボン酸基等積々の置換基であってよい。
そして、これらの置換基の数(P + q+ r+s、
t)は、通常、Oまたは1〜4程度とされるゆ なお、
P + ’L + r t S 、 tが2以上である
とき、複数のR4は互いに異なるものであってよい。
t)は、通常、Oまたは1〜4程度とされるゆ なお、
P + ’L + r t S 、 tが2以上である
とき、複数のR4は互いに異なるものであってよい。
なお、これらのうちでは、式〔Φ■〕〜〔Φ■〕の縮合
ないし非縮合のインドール環を有するものが好ましい。
ないし非縮合のインドール環を有するものが好ましい。
これらは、塗膜性、安定性にすぐれ、きわめて高い反
射率を示し、読み出しのC/N比がきわめて高くなるか
らである。
射率を示し、読み出しのC/N比がきわめて高くなるか
らである。
他方、Lは、モノ、ジ、トリまたはテトラカルボシアニ
ン色素を形成するための連結基を表わすが、特に式(L
I)〜〔L■〕のいずれかであることが好ましい。
ン色素を形成するための連結基を表わすが、特に式(L
I)〜〔L■〕のいずれかであることが好ましい。
式(LI)
cH= C)I−CH= CH−C= CH−co=
CH−CH番 式(LII) CH=CH−CH=C−CH=CH−C
H式(Lm) 式(Illl) CM−C=CH−CH5 ここに、Yは、水素原子または1価の基を表わす、 こ
の場合、1価の基としては、メチル基等の低級アルキル
基、メトキシ基等の低級アルコキシ基、ジメチルアミ7
基、ジフェニルアミノ基、メチルフェニルアミノ基、モ
ルホリノ基、イミダゾリジシ基、エトキシカルボニルピ
ペラジン基なとのジ置換アミノ基、アセトキシ基等のア
ルキルカルボニルオキシ基、メチルチオ基等のアルキル
チオ基、シアノ基、ニトロ基、Br、CIL等のハロゲ
ン原子などであることが好ましい。
CH−CH番 式(LII) CH=CH−CH=C−CH=CH−C
H式(Lm) 式(Illl) CM−C=CH−CH5 ここに、Yは、水素原子または1価の基を表わす、 こ
の場合、1価の基としては、メチル基等の低級アルキル
基、メトキシ基等の低級アルコキシ基、ジメチルアミ7
基、ジフェニルアミノ基、メチルフェニルアミノ基、モ
ルホリノ基、イミダゾリジシ基、エトキシカルボニルピ
ペラジン基なとのジ置換アミノ基、アセトキシ基等のア
ルキルカルボニルオキシ基、メチルチオ基等のアルキル
チオ基、シアノ基、ニトロ基、Br、CIL等のハロゲ
ン原子などであることが好ましい。
また、R8およびR9は、それぞれ水素原子またはメチ
ル基等の低級アルキル基を表わす。
ル基等の低級アルキル基を表わす。
そして、文は、0またはlである。
なお、これら式(L I) 〜(LVI) +7)中で
は、トリカルボシアニン連結基、特に式(LII )、
(Lm)が好ましい。
は、トリカルボシアニン連結基、特に式(LII )、
(Lm)が好ましい。
さらに、X−は陰イオンであり、その好ましい例として
は、I −、B r −、Cl 04−、B F4−。
は、I −、B r −、Cl 04−、B F4−。
6
を挙げることができる。
なお、mは0またはlであるが、mが0であるときには
、通常、ΦのR1が一電荷をもち、分子内塩となる。
、通常、ΦのR1が一電荷をもち、分子内塩となる。
次に、本発明のシアニン色素の具体例を挙げるが、本発
明はこれらのみに限定されるものではない。
明はこれらのみに限定されるものではない。
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このような色素は、大有機化学(朝食書店)含窒素複素
環化合物I432ページ等の成書に記載された方法に準
じて容易に合成することができる。
環化合物I432ページ等の成書に記載された方法に準
じて容易に合成することができる。
すなわち、まず対応するΦ′−CH3(Φ′は前記Φに
対応する環を表わす、)を、過剰のRI I (Rtは
アルキル基またはアリール基)とともに加熱して、R1
をΦ′中の窒素原子に導入してΦ−CH3I−を得る。
対応する環を表わす、)を、過剰のRI I (Rtは
アルキル基またはアリール基)とともに加熱して、R1
をΦ′中の窒素原子に導入してΦ−CH3I−を得る。
次いで、これを不飽和ジアルデヒドまたは不飽和ヒド
ロキシアルデヒドとアルカリ触媒を用いて脱水縮合すれ
ばよい。
ロキシアルデヒドとアルカリ触媒を用いて脱水縮合すれ
ばよい。
さらに、このような色素は、通常、単量体の形で記録層
中に含有させられるが、必要に応じ、重合体の形で含有
させられてもよい。
中に含有させられるが、必要に応じ、重合体の形で含有
させられてもよい。
この場合、重合体は、色素の2分子以上を有するもので
あって、これら色素の縮合物であってもよい。
あって、これら色素の縮合物であってもよい。
例えば、−OH、−COOH、−5O3H等の官能基の
1種以上を、1個または2個以上有する上記色素の単独
ないし共縮合物、 あるいはこれらと、ジアルコール、ジカルボン酸ないし
その塩化物、ジアミン、ジないしトリイソシアナート、
ジェポキシ化合物、酸無水物、ジヒドラジド、ジイミノ
カルボナート等の共縮合成分や他の色素との共縮合物が
ある。
1種以上を、1個または2個以上有する上記色素の単独
ないし共縮合物、 あるいはこれらと、ジアルコール、ジカルボン酸ないし
その塩化物、ジアミン、ジないしトリイソシアナート、
ジェポキシ化合物、酸無水物、ジヒドラジド、ジイミノ
カルボナート等の共縮合成分や他の色素との共縮合物が
ある。
あるいは、」二足の官能基を有する色素を、単独で、あ
るいはスペーサー成分や他の色素とともに、金属系架橋
剤で架橋したものであってもよい。
るいはスペーサー成分や他の色素とともに、金属系架橋
剤で架橋したものであってもよい。
この場合、金属系架橋剤としては、
チタン、ジルコン、アルミニウム等のアルコキシド、
チタン、ジルコン、アルミニウム等のキレート(例えば
、β−ジケトン、ケトエステル、ヒドロキシカルボン酸
ないしそのエステル、ケトアルコール、アミンアルコー
ル、エノール性活性水素化合物等を配位子とするもの)
、チタン、ジルコン、アルミニウム等の7シレートなど
がある。
、β−ジケトン、ケトエステル、ヒドロキシカルボン酸
ないしそのエステル、ケトアルコール、アミンアルコー
ル、エノール性活性水素化合物等を配位子とするもの)
、チタン、ジルコン、アルミニウム等の7シレートなど
がある。
6
さらには、−OH基、−0COR基 および−COOH
基(ここに、Rは、置換ないし非置換のアルキル基ない
しアリール基である)のうちの少なくとも1つを有する
色素の1種または2種以上、あるいはこれと他のスペー
サー成分ないし他の色素とをエステル交換反応によって
、−COO−基によって結合したものも使用可能である
。
基(ここに、Rは、置換ないし非置換のアルキル基ない
しアリール基である)のうちの少なくとも1つを有する
色素の1種または2種以上、あるいはこれと他のスペー
サー成分ないし他の色素とをエステル交換反応によって
、−COO−基によって結合したものも使用可能である
。
この場合、エステル交換反応は、チタン、ジルコン、ア
ルミニウム等のアルコキシドを触媒とすることが好まし
い。
ルミニウム等のアルコキシドを触媒とすることが好まし
い。
加えて、上記の色素は、樹脂と結合したものであっても
よい。
よい。
このような場合には、所定の基を有する樹脂を用い、上
記の重合体の場合に準じ、樹脂の側鎖に、縮合反応やエ
ステル交換反応によったり、架橋によったりして、必要
に応じスペーサー成分等を介し、色素を連結する。
記の重合体の場合に準じ、樹脂の側鎖に、縮合反応やエ
ステル交換反応によったり、架橋によったりして、必要
に応じスペーサー成分等を介し、色素を連結する。
さらには、記録層中には、樹脂が含まれていてもよい。
7
用いる樹脂としては、自己酸化性、解重合性ないし熱可
塑性樹脂が好適である。
塑性樹脂が好適である。
これらのうち、特に好適に用いることができる熱可塑性
樹脂には、以下のようなものがある。
樹脂には、以下のようなものがある。
i)ポリオレフィン
ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ4−メチルペンテ
ン−1など。
ン−1など。
ii)ポリオレフィン共重合体
例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体。
エチレン−アクリル酸エステル共重合体、エチレン−ア
クリル酸共重合体、エチレン−プロピレン共重合体、エ
チレン−ブテン−1共重合体、エチレン−無水マレイン
酸共重合体、エチレンプロピレンターポリマー(EPT
)など。
クリル酸共重合体、エチレン−プロピレン共重合体、エ
チレン−ブテン−1共重合体、エチレン−無水マレイン
酸共重合体、エチレンプロピレンターポリマー(EPT
)など。
この場合、コモノマーの重合比は任意のものとすること
ができる。
ができる。
1ii)塩化ビニル共重合体
例えば、酢酸ビニル−塩化ビニル共重合体、塩化ビニル
−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−無水マレイン
酸共重合体、アクリル酸エステルないしメタアクリル酸
エステルと塩化ビニルとの共重合体、アクリロニトリル
−塩化ビニル共重合体、塩化ビニルエーテル共重合体、
エチレンないしプロピレン−塩化ビニル共重合体、エチ
レン−酢酸ビニル共重合体に塩化ビニルをグラフト重合
したものなど。
−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−無水マレイン
酸共重合体、アクリル酸エステルないしメタアクリル酸
エステルと塩化ビニルとの共重合体、アクリロニトリル
−塩化ビニル共重合体、塩化ビニルエーテル共重合体、
エチレンないしプロピレン−塩化ビニル共重合体、エチ
レン−酢酸ビニル共重合体に塩化ビニルをグラフト重合
したものなど。
この場合、共重合比は任意のものとすることができる。
iマ)塩化ビニリデン共重合体
塩化ビニリデン−塩化ビニル共重合体、塩化ビニリデン
−塩化ビニル−7クリロニトリル共重合体、塩化ビニリ
デン−ブタジェン−ハロゲン化ビニル共重合体など。
−塩化ビニル−7クリロニトリル共重合体、塩化ビニリ
デン−ブタジェン−ハロゲン化ビニル共重合体など。
この場合、共重合比は、任意のものとすることができる
。
。
マ)ポリスチレン
マi)スチレン共重合体
例えば、スチレン−アクリロニトリル共重合体(AS樹
脂)、スチレン−7クリロニトリル一ブタジエン共重合
体(ABS樹脂)、スチレン−無水マレイン酸共重合体
(SMA樹脂)、スチレン−アクリル酸エステル−アク
リルアミド共重合体、スチレン−ブタジェン共重合体(
SBR)、スチレン−塩化ビニリデン共重合体、スチレ
ン−メチルメタアクリレート共重合体など。
脂)、スチレン−7クリロニトリル一ブタジエン共重合
体(ABS樹脂)、スチレン−無水マレイン酸共重合体
(SMA樹脂)、スチレン−アクリル酸エステル−アク
リルアミド共重合体、スチレン−ブタジェン共重合体(
SBR)、スチレン−塩化ビニリデン共重合体、スチレ
ン−メチルメタアクリレート共重合体など。
この場合、共重合比は任意のものとすることができる。
マii)スチレン型重合体
例えば、α−メチルスチレン、p−メチルスチレン、2
.5−ジクロルスチレン、α。
.5−ジクロルスチレン、α。
β−ビニルナフタレン、α−ビニルピリジン、アセナフ
テン、ビニルアントラセンなど、あるいはこれらの共重
合体、例えば、α−メチルスチレンとメタクリル酸エス
テルとの共重合体。
テン、ビニルアントラセンなど、あるいはこれらの共重
合体、例えば、α−メチルスチレンとメタクリル酸エス
テルとの共重合体。
0
マ1ii)クマロン−インデン樹脂
クマロン−インデン−スチレンの共重合体。
ix)テルペン樹脂ないしピコライト
例えば、α−ピネンから得られるリモネンの重合体であ
るテルペン樹脂や、β−ピネンから得られるピコライト
。
るテルペン樹脂や、β−ピネンから得られるピコライト
。
りアクリル樹脂
特に下記式で示される原子団を含むものが好ましい。
式 RIn
−CI(−C−
−0R20
上記式において、R10は、水素原子またはアルキル基
を表わし、R,は、置換または非置換のアルキル基を表
わす、 この場合、上記式において、R1Gは、水素原
子または炭素原子数1〜4の低級アルキル基、特に水素
原子またはメチル基であることが好ましい。
を表わし、R,は、置換または非置換のアルキル基を表
わす、 この場合、上記式において、R1Gは、水素原
子または炭素原子数1〜4の低級アルキル基、特に水素
原子またはメチル基であることが好ましい。
1
また、R20は、置換、非置換いずれのアルキル基であ
ってもよいが、アルキル基の炭素原子数は1〜8である
ことが好ましく、また、R20が置換アルキル基である
ときには、アルキル基を置換する置換基は、水酸基、ハ
ロゲン原子またはアミン基(特に、ジアルキルアミノ基
)であることが好ましい。
ってもよいが、アルキル基の炭素原子数は1〜8である
ことが好ましく、また、R20が置換アルキル基である
ときには、アルキル基を置換する置換基は、水酸基、ハ
ロゲン原子またはアミン基(特に、ジアルキルアミノ基
)であることが好ましい。
このような上記式で示される原子団は、他のくりかえし
原子団とともに、共重合体を形成して各種アクリル樹脂
を構成してもよいが、通常は、上記式で示される原子団
の1種または2種以上をくりかえし単位とする単独重合
体または共重合体を形成してアクリル樹脂を構成するこ
とになる。
原子団とともに、共重合体を形成して各種アクリル樹脂
を構成してもよいが、通常は、上記式で示される原子団
の1種または2種以上をくりかえし単位とする単独重合
体または共重合体を形成してアクリル樹脂を構成するこ
とになる。
xi)ポリアクリロニトリル
x+i)アクリロニトリル共重合体
例えば、アクリロニトリル−酢酸ビニル共重合体、アク
リロニトリル−塩化ビニル共重合体、アクリロニトリル
−スチレン共重合体、アクリロニトリル−塩化ビニリデ
ン共重合体、アクリロニトリル−ビニルピリジン共重合
体、アクリロニトリル−メタクリル酸メチル共重合体、
アクリロニトリル−ブタジェン共重合体、アクリロニト
リル−アクリル酸ブチル共重合体など。
リロニトリル−塩化ビニル共重合体、アクリロニトリル
−スチレン共重合体、アクリロニトリル−塩化ビニリデ
ン共重合体、アクリロニトリル−ビニルピリジン共重合
体、アクリロニトリル−メタクリル酸メチル共重合体、
アクリロニトリル−ブタジェン共重合体、アクリロニト
リル−アクリル酸ブチル共重合体など。
この場合、共重合比は任意のものとすることができる。
xiii)ダイアセトンアクリルアミドポリマーアクリ
ロニトリルにアセトンを作用させたダイア七トンアクリ
ルアミドポリマー。
ロニトリルにアセトンを作用させたダイア七トンアクリ
ルアミドポリマー。
重層マ)ポリ酢酸ビニル
冨マ)酢酸ビニル共重合体
例えば、アクリル酸エステル、ビニルニー5− Jl/
、エチレン、塩化ビニル等との共重合体など。
、エチレン、塩化ビニル等との共重合体など。
共重合比は任意のものであってよい。
xvi)ポリビニルエーテル
例えば、ポリビニルメチルエーテル、ポリビニルエチル
エーテル、ポリビニルブチルエーテルなど。
エーテル、ポリビニルブチルエーテルなど。
4
冨マii) ポリアミド
この場合、ポリアミドとしては、ナイロン6、ナイロン
6−6、ナイロン6−1O、ナイロン6−12.ナイロ
ン9、ナイロンll、ナイロン12、ナイロン13等の
通常のホモナイロンの他、ナイロン676−676−1
0、ナイロン67ロー6712、ナイロン6/8−8/
11等の重合体や、場合によっては変性ナイロンであっ
てもよい。
6−6、ナイロン6−1O、ナイロン6−12.ナイロ
ン9、ナイロンll、ナイロン12、ナイロン13等の
通常のホモナイロンの他、ナイロン676−676−1
0、ナイロン67ロー6712、ナイロン6/8−8/
11等の重合体や、場合によっては変性ナイロンであっ
てもよい。
!マ1ii)ポリエステル
例えば、シュウ酸、コハク酸、マレイン酸、アジピン酸
、セバステン酸等の脂肪族二塩基酸、あるいはイソフタ
ル酸、−テレフタル酸などの芳香族二塩基酸などの各種
二塩基酸と、エチレングリコール、テトラメチレングリ
コール、ヘキサメチレングリコール等のグリコール類と
の縮合物や、共縮合物が好適である。
、セバステン酸等の脂肪族二塩基酸、あるいはイソフタ
ル酸、−テレフタル酸などの芳香族二塩基酸などの各種
二塩基酸と、エチレングリコール、テトラメチレングリ
コール、ヘキサメチレングリコール等のグリコール類と
の縮合物や、共縮合物が好適である。
そして、これらのうちでは、特に脂肪族二塩基酸とグリ
コール類との縮合物や、グリ5 コール類と脂肪族二塩基酸と、の共縮合物は、特に好適
である。
コール類との縮合物や、グリ5 コール類と脂肪族二塩基酸と、の共縮合物は、特に好適
である。
さらに、例えば、無水フタル酸とグリセリンとの縮合物
であるグリプタル樹脂を、脂肪酸、天然樹脂等でエステ
ル化変性した変性グリプタル樹脂等も好適に使用される
。
であるグリプタル樹脂を、脂肪酸、天然樹脂等でエステ
ル化変性した変性グリプタル樹脂等も好適に使用される
。
m1x)ポリビニルアセタール系樹脂
ポリビニルアルコールを、アセタール化して得られるポ
リビニルホルマール、ポリビニルアセタール系樹脂はい
ずれも好適に使用される。
リビニルホルマール、ポリビニルアセタール系樹脂はい
ずれも好適に使用される。
この場合、ポリビニルアセタール系樹脂のアセタール化
度は任意のものとすることができる。
度は任意のものとすることができる。
!冨)ポリウレタン樹脂
ウレタン結合をもつ熱可塑性ポリウレタン樹脂。
特に、グリコール類とジイソシアナート類との縮合によ
って得られるポリウレタン樹脂、とりわけ、アルキレン
グリコールとアルキレンジイソシアナートとの縮合によ
って得られるポリウレタン樹脂が好適である。
って得られるポリウレタン樹脂、とりわけ、アルキレン
グリコールとアルキレンジイソシアナートとの縮合によ
って得られるポリウレタン樹脂が好適である。
xxi)ポリエーテル
スチレンホルマリン樹脂、環状アセタールの開環重合物
、ポリエチレンオキサイドおよびグリコール、ポリプロ
ピレンオキサイドおよびグリコール、プロピレンオキサ
イド−エチレンオキサイド共重合体、ポリフェニレンオ
キサイドなど。
、ポリエチレンオキサイドおよびグリコール、ポリプロ
ピレンオキサイドおよびグリコール、プロピレンオキサ
イド−エチレンオキサイド共重合体、ポリフェニレンオ
キサイドなど。
xxii)セルロース誘導体
例えば、ニトロセルロース、アセチルセルロース、エチ
ルセルロース、アセチルブチルセルロース、ヒドロキシ
エチルセルロース。
ルセルロース、アセチルブチルセルロース、ヒドロキシ
エチルセルロース。
ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセルロース、エ
チルヒドロキシエチルセルロースなど、セルロースの各
種エステル、エーテルないしこれらの混合体。
チルヒドロキシエチルセルロースなど、セルロースの各
種エステル、エーテルないしこれらの混合体。
菫冨1ii)ポリカーボネート
例えば、ポリジオキシジフェニルメタンカーボネート、
ジオキシジフェニルプロパンカーボネート等の各種ポリ
カーボネート。
ジオキシジフェニルプロパンカーボネート等の各種ポリ
カーボネート。
xx+マ)アイオノマー
メタクリル酸、アクリル酸などのNa。
Li、Zn、Mg塩など。
!!マ)ケトン樹脂
例えば、シクロヘキサノンやアセトフェノン等の環状ケ
トンとホルムアルデヒドとの縮合物。
トンとホルムアルデヒドとの縮合物。
■マi)キシレン樹脂
例えば、m−キシレンまたはメシチレンとホルマリンと
の縮合物、あるいはその変性体。
の縮合物、あるいはその変性体。
xxvii)石油樹脂
C5系、C9系、C5−c9共重合系、ジシクロペンタ
ジェン系、あるいは、これらの共重合体ないし変性体な
ど。
ジェン系、あるいは、これらの共重合体ないし変性体な
ど。
!!マ1ii)上記i)〜XXマ目)の2種以上のブレ
ンド体、またはその他の熱可塑性樹脂とのブレンド体。
ンド体、またはその他の熱可塑性樹脂とのブレンド体。
なお、自己酸化性、熱可塑性等の樹脂の分子硅等は、種
々のものであってよい。
々のものであってよい。
このような自己酸化性、熱可塑性の樹脂と、前記の色素
とは、通常、重量比で1対0.1〜lOOの広範な蹟比
にて設層される。
とは、通常、重量比で1対0.1〜lOOの広範な蹟比
にて設層される。
このような記録層中には、上記一般式(I)で示される
クエンチャ−が含有される。
クエンチャ−が含有される。
これにより、読み出し光のくりかえし照射によるS/N
比の再生劣化が減少する。 また、明室保存による耐光
性が向上する。
比の再生劣化が減少する。 また、明室保存による耐光
性が向上する。
」二層一般式CI)において、Mは遷移金属原子を表わ
すが、特にNi、Co、Cu、Pd。
すが、特にNi、Co、Cu、Pd。
Ptが好適である。
Catはカチオンを表わすが、特に1価または2価以上
のカチオンである。
のカチオンである。
この場合、1価のカチオンとしては、
■、i”、Na”、に+のアルカリ金属イオン。
NH4”。
オニウムイオンがある。
オニウムイオンとしては、
8
シアン基、ヒドロキシ基、アルキル基、アリール基、ア
ルコキシ基、アリーロキシ基、アルコキシカルボニル基
、アリーロキシカルボニル基、アシル基、アシルアミノ
基、カルバモイル基、アルキルスルホニルアミノ基、ス
ルファモイル基、スルホニル基などで置換されることの
ある メチル基、エチル基、n−ブチル基、i−アミル基、n
−ドデシル基、n−オクタデシル基等のアルキル基、ま
たは フェニル基、トリル基、ナフチル基等のアリール基を有
する4級アンモニウムイオン、4級ホスホニウムイオン
または3級スルホニウムイオンがある。
ルコキシ基、アリーロキシ基、アルコキシカルボニル基
、アリーロキシカルボニル基、アシル基、アシルアミノ
基、カルバモイル基、アルキルスルホニルアミノ基、ス
ルファモイル基、スルホニル基などで置換されることの
ある メチル基、エチル基、n−ブチル基、i−アミル基、n
−ドデシル基、n−オクタデシル基等のアルキル基、ま
たは フェニル基、トリル基、ナフチル基等のアリール基を有
する4級アンモニウムイオン、4級ホスホニウムイオン
または3級スルホニウムイオンがある。
また、ピリジン、イミダゾール、ピロール。
2−ピロリン、ピロリジン、ピペリジン、ピラゾール、
ピラゾリン、イミダシリン等の、5または6員環を有す
る、N−アルキルまたはN。
ピラゾリン、イミダシリン等の、5または6員環を有す
る、N−アルキルまたはN。
N−ジアルキル環状4級アンモニウムイオンであっても
よい。
よい。
9
一方、2価のカチオンとしては、
M g 、 Ca 、 S n 、 B a等の他、ビ
スアンモニウムイオン、ビスホスホニウムイオンであっ
てもよい。
スアンモニウムイオン、ビスホスホニウムイオンであっ
てもよい。
あるいは、B−(N”R′3)11で表わされる、2価
ないし3価以上のカチオンであってもよい。
ないし3価以上のカチオンであってもよい。
この場合、Bは、炭化水素残基を表わし、R′は、置換
または非置換のアルキル基またはアリール基を表わし、
mは、2ないし3以上の整数である。
または非置換のアルキル基またはアリール基を表わし、
mは、2ないし3以上の整数である。
さらに、Rは、水素原子と置換する1価の基を表わす。
この場合、1価の基としては、種々の置換基であってよ
いが、特に、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アルキル
置換アミン基、アルコキシル基、シアノ基等で置換され
てもよいアルキル基等が好適である。
いが、特に、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アルキル
置換アミン基、アルコキシル基、シアノ基等で置換され
てもよいアルキル基等が好適である。
また、文はO〜6、特にlまたは2である。
文が2以上のとき、複数のRは同一でも、異なっていて
もよい。
もよい。
このような一般式CI)で示される化合物は、J、A、
C,S、 91 (8) IE149 (19[19)
、 特開昭57−30101号等に従い合成される。
C,S、 91 (8) IE149 (19[19)
、 特開昭57−30101号等に従い合成される。
以下に、一般式CI)で示される化合物の具体例を挙げ
る。
る。
y 旦 1 ■
Q1旧HON(n−C4H9)4
Q2旧HON(CH3)3(C16H33)Q3 Co
HON(n−C4H9)4Q4 Pt HON(n−
C4H9)4Q5 Ni (:H31N (n−C4H
g ) 4Q6旧CI(31N (n−C4Hg )
4Q7 N; HON (C,2H25)(CH3)
3Q8旧HO(n−CH) N(CH) N(n−C,
H8)3493 22 これら一般式CI)で示されるクエンチャ−は、色素1
モルあたり0.01−12モル、特に0.1〜1.2モ
ル程度含有される。
HON(n−C4H9)4Q4 Pt HON(n−
C4H9)4Q5 Ni (:H31N (n−C4H
g ) 4Q6旧CI(31N (n−C4Hg )
4Q7 N; HON (C,2H25)(CH3)
3Q8旧HO(n−CH) N(CH) N(n−C,
H8)3493 22 これら一般式CI)で示されるクエンチャ−は、色素1
モルあたり0.01−12モル、特に0.1〜1.2モ
ル程度含有される。
なお、クエンチャ−の極大吸収波長は、用いる色素の極
大吸収波長以上であることが好ましい。
大吸収波長以上であることが好ましい。
これにより、再生劣化はきわめて小さくなる。
この場合、両者の差はOか、350nm以下であること
が好ましい。
が好ましい。
このような記録層を設層するには、一般に常法に従い塗
設すればよい。
設すればよい。
そして、記録層の厚さは、通常、0.03〜lO経膳程
度とされる。
度とされる。
なお、?のような記録層には、この他、他の色素や、他
のポリマーないしオリゴマー、各種可塑剤、界面活性剤
、帯電防止剤、滑剤、難燃剤、安定剤、分散剤、酸化防
止剤、そして架橋剤等が含有されていてもよい。
のポリマーないしオリゴマー、各種可塑剤、界面活性剤
、帯電防止剤、滑剤、難燃剤、安定剤、分散剤、酸化防
止剤、そして架橋剤等が含有されていてもよい。
このような記録層を設層するには、基体上に2
所定の溶媒を用いて塗布、乾燥すればよい。
なお、塗布に用いる溶媒としては、例えばメチルエチル
ケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等
のケトン系、酢酸ブチル、酢酸エチル、カルピトールア
セテート、ブチルカルピトールアセテート等のエステル
系、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のエーテル
系、ないしトルエン、キシレン等の芳香族系。
ケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等
のケトン系、酢酸ブチル、酢酸エチル、カルピトールア
セテート、ブチルカルピトールアセテート等のエステル
系、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のエーテル
系、ないしトルエン、キシレン等の芳香族系。
ジダロロエタン等のハロゲン化アルキル系、アルコール
系などを用いればよい。
系などを用いればよい。
このような記録層を設層する基体の材質には特に制限は
なく、各種樹脂、ガラス、セラミックス、金属等いずれ
であってもよい。
なく、各種樹脂、ガラス、セラミックス、金属等いずれ
であってもよい。
また、その形状は使用用途に応じ、テープ、ドラム、ベ
ルト等いずれであってもよい。
ルト等いずれであってもよい。
なお、基体は、通常、トラッキング用の溝を有する。
また、必要に応じ、反射層等の下地層や蓄熱層や光吸収
層などを有するものであってもよい。
また、必要に応じ、反射層等の下地層や蓄熱層や光吸収
層などを有するものであってもよい。
また、基体用の樹脂材質としては、ポリメチ3
ルメタクリレート、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリ
カーボネート樹脂、ポリサルフォン樹脂、ポリエーテル
サルフォノ2メチルペンテンポリマー等の、みぞ付きな
いしみぞなし基体が好適である。
カーボネート樹脂、ポリサルフォン樹脂、ポリエーテル
サルフォノ2メチルペンテンポリマー等の、みぞ付きな
いしみぞなし基体が好適である。
これらの基体には、耐溶剤性、ぬれ性、表面張力、熱伝
導度等を改善するために、基体上にプライマーをコーテ
ィングすることもできる。
導度等を改善するために、基体上にプライマーをコーテ
ィングすることもできる。
プライマーとしては、例えば、チタン系、シラン系、ア
ルミ系のカップリング剤や、各種感光性樹脂等を用いる
ことができる。
ルミ系のカップリング剤や、各種感光性樹脂等を用いる
ことができる。
また、記録層上には、必要に応じ、透明基体を用いると
き′に裏面として機能する反射層や、各種最上層保護層
、ハーフミラ一層などを設けることもできる。
き′に裏面として機能する反射層や、各種最上層保護層
、ハーフミラ一層などを設けることもできる。
本発明の媒体は、このような基体の一面上に」二層の記
録層を有するものであってもよく、その両面に記録層を
有するものであってもよい。
録層を有するものであってもよく、その両面に記録層を
有するものであってもよい。
また、基体の一面上に記録層を塗設したものを2つ用い
、そ゛れらを記録層が向かいあうようにして、所定の間
隙をもって対向させ、それを密閉したりして、ホコリや
キズがつかないようにすることもできる。
、そ゛れらを記録層が向かいあうようにして、所定の間
隙をもって対向させ、それを密閉したりして、ホコリや
キズがつかないようにすることもできる。
■ 発明の具体的作用
本発明の媒体は、走行ないし回転下において、記録光を
パルス状に照射する。 このとき記録層中の色素の発熱
により、色素が融解し、ピットが形成される。
パルス状に照射する。 このとき記録層中の色素の発熱
により、色素が融解し、ピットが形成される。
このように形成されたピットは、やはり媒体の走行ない
し回転下、読み出し光の反射光ないし透過光、特に反射
光を検出することにより読み出される。
し回転下、読み出し光の反射光ないし透過光、特に反射
光を検出することにより読み出される。
この場合、記録および読み出しは、基体側から行っても
、記録層側から行ってもよい。
、記録層側から行ってもよい。
そして、一旦記録層に形成したピットを光ないし熱で消
去し、再書き込みを行うこともできる。
去し、再書き込みを行うこともできる。
なお、記録ないし読み出し光としては、半導体レーザー
、He−Neレーザー、Arレーザー、He−Cdレー
ザー等を用いることができる。
、He−Neレーザー、Arレーザー、He−Cdレー
ザー等を用いることができる。
■ 発明の具体的効果
本発明によれば、読み出し光による再生劣化がきわめて
小さくなる。
小さくなる。
そして、耐光性も向上し、明室保存による特性劣化が少
ない。
ない。
そして、消去および再書き込みを行うようなときにも特
性の劣化が少ない。
性の劣化が少ない。
■ 発明の具体的実施例
以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明をさらに詳
細に説明する。
細に説明する。
実施例1
下記表1に示される色素D、樹脂R、クエンチャ−Qと
を用い、表1に示される割合にて所定の溶媒中に溶解し
、直径15cmのアクリルディスク基板上に、0.07
1を鵬の厚さに塗布膜6 層して、各種媒体をえた。
を用い、表1に示される割合にて所定の溶媒中に溶解し
、直径15cmのアクリルディスク基板上に、0.07
1を鵬の厚さに塗布膜6 層して、各種媒体をえた。
この場合、表1において、NCは、窒素含量11.5〜
12,2%、JIS K 13703にもどづ〈粘度8
0秒のニトロセルロースである。
12,2%、JIS K 13703にもどづ〈粘度8
0秒のニトロセルロースである。
さらに、用いた色素は、上記にて例示した陽、のものを
用いた。
用いた。
加えて、用いたクエンチャ−は、上記にて例示したもの
の陽、で示される。
の陽、で示される。
そして、表1には、R/Dの重量比と、Q/Dのモル比
とが併記される。
とが併記される。
このようにして作成した各媒体につき、これを180
Orpmで回転させながら、 AJIGaA s−G
aA s半導体レーザー記録光(830nm)を14m
φに集光し (集光部出力 lOmW) 、所定周波数
で、パルス列状に照射した。
Orpmで回転させながら、 AJIGaA s−G
aA s半導体レーザー記録光(830nm)を14m
φに集光し (集光部出力 lOmW) 、所定周波数
で、パルス列状に照射した。
各媒体につき、書き込み光のパルス巾を変更して照射し
、消光比1.4が得られるパルス巾を測定し、その逆数
をとって、書き込み感度とした。 結果を表1に示す。
、消光比1.4が得られるパルス巾を測定し、その逆数
をとって、書き込み感度とした。 結果を表1に示す。
この場合、消光比は、後述の読み出し光の媒7
体表面の反射率のピット部における減衰度である。
これとは別に、パルス巾を100nsecとして書き込
みを行った・ この後、im−の半導体レーザー(830nm)読み出
し光を14sec巾、3 KHzのパルスとして照射し
て、ディスク表面におけるピーク−ピーク間の当初のS
/N比と、5分間照射後の基体裏面側からの反射率の変
化(%)とを測定した。
みを行った・ この後、im−の半導体レーザー(830nm)読み出
し光を14sec巾、3 KHzのパルスとして照射し
て、ディスク表面におけるピーク−ピーク間の当初のS
/N比と、5分間照射後の基体裏面側からの反射率の変
化(%)とを測定した。
これらの結果を表1に示す。
なお、比較用クエンチャ−Ql′およびQ2′は、下記
のものである。
のものである。
Ql′ (2,2′−チオビス(4−t−オクチルフェ
ノラート))−n−ブチルアミンニッケル(II ) 〔サイアソーブ U V −1084日本サイアナミツ
ド(株)社製〕 Q2’ ニッケルビス(オクチルフェニル)すルファイ
ド 〔フェロ A M −101口座フェロ有機化学(株)
社製〕 また、Drは、Drと0105とを、ジ−ミープロポキ
シ−ビス(アセチルアセトナート)チタンによって架橋
したもの、 D−Rは、PMMA (数平均分子量 1万)に、D8
をエステル変換によって連結したものである。
ノラート))−n−ブチルアミンニッケル(II ) 〔サイアソーブ U V −1084日本サイアナミツ
ド(株)社製〕 Q2’ ニッケルビス(オクチルフェニル)すルファイ
ド 〔フェロ A M −101口座フェロ有機化学(株)
社製〕 また、Drは、Drと0105とを、ジ−ミープロポキ
シ−ビス(アセチルアセトナート)チタンによって架橋
したもの、 D−Rは、PMMA (数平均分子量 1万)に、D8
をエステル変換によって連結したものである。
0
特開昭GO−35054(20)
表1に示される結果から、本発明の効果があきらかであ
る。
る。
なお、媒体No、12では、上記の条件では感度かえら
れなかった。
れなかった。
実施例2゜
実施例1の媒体 崩、4,5,6,7,9゜10.11
を用い、実施例1と同様に書き込みを行ったのち、赤外
線ヒーターを用い、媒体を150℃、15秒間加熱して
消去を行ったところ、各媒体とも、くりかえし何回もの
消去、再書き込みが良好にできることが確認された。
を用い、実施例1と同様に書き込みを行ったのち、赤外
線ヒーターを用い、媒体を150℃、15秒間加熱して
消去を行ったところ、各媒体とも、くりかえし何回もの
消去、再書き込みが良好にできることが確認された。
出願人 ティーディーケイ株式会社
代理人 弁理士 石 井 陽 −
2
第1頁の続き
0発 明 者 高 橋 −夫 東京都中央区式会社内
0発 明 者 黒 岩 顕 彦 東京都中央区式会社内
421−
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、 シアニン色素またはシアニン色素および樹脂を含
み、さらに下記一般式CI)で示される化合物を含む記
録層を基体上に有することを特徴とする光記録媒体。 (上記一般式(I)において、 Rは、1価の基を表わし、 見は、O〜6であり、 Mは、遷移金属原子を表わし、 Catは、カチオンを表わす。) 2、 シアニン色素が、下記一般式(TI )で示され
る化合物である特許請求の範囲第1項に記載の光記録媒
体。 一般式(II ) Φ−L=重 (X)m (上記一般式〔■〕において、 Φおよびψは、それぞれ、芳香族環が縮合してもよいイ
ンドール環、チアゾール環、オキサゾール環、セレナゾ
ール環、イミダゾール環またはピリジン環を表わし、 Lは、モノ、ジ、トリまたはテトラカルボシアニン色素
を形成するための連結基を表わし、X−は、アニオンを
表わし、 mは、0またはlである。) 3、 Φおよび!が、芳香族環が縮合してもよいインド
ール環である特許請求の範囲第2項に記載の光記録媒体
。 4、 シアニン色素が、記録層中に、単量体の形で含ま
れるか、重合体の形で含まれるか、あるいは樹脂と結合
した形で含まれている特許請求の範囲第1項ないし第3
項のいずれかに記載の光記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58143531A JPS6035054A (ja) | 1983-08-05 | 1983-08-05 | 光記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58143531A JPS6035054A (ja) | 1983-08-05 | 1983-08-05 | 光記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6035054A true JPS6035054A (ja) | 1985-02-22 |
| JPH0475144B2 JPH0475144B2 (ja) | 1992-11-30 |
Family
ID=15340903
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58143531A Granted JPS6035054A (ja) | 1983-08-05 | 1983-08-05 | 光記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6035054A (ja) |
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| WO2008108406A1 (ja) | 2007-03-05 | 2008-09-12 | Fujifilm Corporation | フォトレジスト用化合物、フォトレジスト液、およびこれを用いるエッチング方法 |
| WO2008123010A1 (ja) | 2007-03-05 | 2008-10-16 | Fujifilm Corporation | 発光素子およびその製造方法ならびに光学素子およびその製造方法 |
| EP1998329A2 (en) | 2007-06-01 | 2008-12-03 | Fujifilm Corporation | Optical information recording medium and method of recording information |
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| WO2009136624A1 (ja) | 2008-05-09 | 2009-11-12 | 富士フイルム株式会社 | 紫外線吸収剤組成物 |
| WO2010023790A1 (ja) | 2008-08-29 | 2010-03-04 | 富士フイルム株式会社 | パターン形成体の製造方法および電磁ビーム加工装置 |
| WO2010023789A1 (ja) | 2008-08-29 | 2010-03-04 | 富士フイルム株式会社 | パターン形成体およびその製造方法 |
| WO2010035483A1 (ja) | 2008-09-25 | 2010-04-01 | 富士フイルム株式会社 | 光情報記録媒体、情報記録方法、および、アゾ金属錯体色素 |
| WO2010041470A1 (ja) | 2008-10-10 | 2010-04-15 | 富士フイルム株式会社 | 光情報記録媒体、情報記録方法および光増感剤 |
| EP2216680A2 (en) | 2009-02-04 | 2010-08-11 | FUJIFILM Corporation | Fine particles and method for producing the same |
| EP2219053A1 (en) | 2009-02-04 | 2010-08-18 | FUJIFILM Corporation | Heat-ray reflective film, heat-ray reflective structure, and production method thereof |
| WO2010093062A1 (en) | 2009-02-13 | 2010-08-19 | Fujifilm Corporation | Organic electroluminescence device, and method for producing the same |
-
1983
- 1983-08-05 JP JP58143531A patent/JPS6035054A/ja active Granted
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| WO2010093062A1 (en) | 2009-02-13 | 2010-08-19 | Fujifilm Corporation | Organic electroluminescence device, and method for producing the same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0475144B2 (ja) | 1992-11-30 |
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