JPS62273529A - 画像形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は異なった波長での化学線に暴露することを包含
する基質上の液体コーティングからの画像形成方法に関
するものである。

〔従来の技術〕

従来、光重合による画像の形成は、基体に固体の光重合
性物質を揮発性有機溶媒中に溶解した溶液を塗布し、溶
媒が蒸発するかもしくは蒸発させて光重合性物質のフィ
ルムを残し、像様に化学線をフィルムに照射し、それに
よって照射が遮断された部分は実質的に影響を受けずに
残るが照射により攻撃をうけたフィルムの部分が光重合
しく及び溶解性が低下する）その後、照射、光重合部分
を溶解しない適当な溶媒にフィルムの未照射、未光重合
部分を完全に溶解させて除去することにより行われる。

この最後の工程は従来“現像″として知られている。

光重合性物質の層を基体に適用し、この層は有機溶媒を
使用せずに儂を通した照射ですぐに使用でき実質的に固
体で非粘着性状態に変化する方法が望ましい。この工程
において、毒性及び易燃性の問題が存在しそれらを回収
するのに費用がかかる溶媒の使用を避けうるのみでなく
、傷形成照射に容易な、塗布基質の連続ベースでの生産
を容易にするであろう。

本発明者等は化学線に暴露した時に重合するが、２種の
物質または二官能物質の２つの官能基が異なる波長に対
して感応する２つもしくｈそれより多くの物質、もしく
は少なくともひとつの二官能物質のどちらか、もしくは
一方がある波長での化学線によって重合可能であり、他
方は、第二の異なった波長での化学線の施用により重合
可能である両物質を含有するある液体組成物を使用する
ことによりこの目的が達成されることを発見した。固化
は混合物が感応するある波長における化学線に暴露され
ることによって行われ、安定した固体であるがまだ感光
性である層を得る。しかしながら、もうひとつの輻射線
感応物質もしくは官能基は異なった波長、でのみ感応す
るので、第一の波長の輻射線へ長期間暴露しても固化し
た物質にはほとんど影響しない。それ故、第一の波長で
は、処理時間を越えても、非常に慎重な制御を要するこ
となく固化させてよく、これに従って、第二の波長の輻
射線が存在しないところで長期間貯蔵することもできる
。所望したとき、組成物の一部分を、組成物が感応する
第二の波長の輻射線で暴露する。すると更に暴露面で重
合が生じるので、物理的特性における相違が、第二の暴
露を受けたそれらの面と第二の暴露を受けない面との間
に生じる。適当な溶媒との接触もしくは現像の他の方法
により第二の波長に暴露を受けていない面を除去して、
ネガ像が形成される。

アメリカ合衆国特許４２９１１１１３号明細書には化学
硬化剤により、通常は化学線に暴露することによってフ
ィルムを固化し、その後フィルムの一部分を化学的に変
化させるために像の形で化学線に固化されたフィルムを
再暴露し、その後溶媒で洗浄することによって化学線で
像の形に暴露しなかった部分を選択的に除去することか
らなる液体光重合性物質のフィルムから画像レリーフを
形成するだめの方法を述べている。

２度の暴露のための２種の異なった波長の化学線を使用
することの可能性はどこにも記載されていない。提示し
ている実施例において、両方の暴露は同じ固定パルスの
キセノン光源から輻射されている。記載されている唯一
の光重合物質はポリエンとポリチオールとの混合物であ
る。この方法はうま〈実施するのが難しい。初期の固化
を照射によって実施する時、もし照射量が少なすぎると
液体組成物が凝固せず、またもし多すぎると、第２照射
のあとに良い画像を得ることが不可能となるので、光の
照射量には最大の注意を払わなければならない。その上
更に、化学線に暴露すると開始するポリエンとポリチオ
ールとの間の反応が、そのような輻射線を中断したとき
も続く。この理由の為に、明細書では第１照射後第２照
射を３０分より短かく好ましくは１０分より短かい時間
内に開始することを勧めており、多くのシステムにおい
て、３０分もしくけそれ以上の画処理間の保留時間は、
固体物質の化学的状態において適当な区別ができないこ
とになるということを述べている。

この時間制限は産業上の実用的方法において、いっそう
の拘束を与えている。

それ数本発明は、 （１）＾　カチオン重合可能な成分と、（Ｂｌ　　（Ａ
ｌのための輻射線活性化重合開始剤と、（Ｃ）　　（Ａ
ｌと異なる輻射線硬化性成分と、及び所望により、 （至）（０の硬化のための輻射線活性化開始剤よりなる
液体組成物の層を基体に塗布すること、（１１）　　該
組成物を、開始剤（Ｂ）は活性化されるが成分（Ｃ）及
び／ま九は開始剤（ＤＨＩ；を実質的に活性化されない
波長を有する化学線に暴露し、必要であれば続けて囚を
重合して、液体組成物の層を凝固させるが、光硬化性は
残存させるように加熱すること、 （１）該凝固層を所定のパターンで、段階（ＩＩ３で便
用した輻射線と異なる波長を有し、かつ輻射線硬化性成
分子ｃｌ及び／または開始剤の）が活性化される波長を
有する化学線に、暴露面においては（Ｃ）が実質的に硬
化されるように暴露すること、そして （１ｖ）　　実質的に硬化されなかった凝固層の部分を
除去することからなる画像形成方法を提供する。

“化学線にあらかじめ決まっている型で固化した層を暴
露し″という表現は、画像形成のために不透明及び透明
部分から成る像をもつ透明体を通した暴露及びまた、た
とえばコンピュータによって決められたように、あらか
じめ決まった型の中で動かされた化学線のビームに暴露
することの両方を含んでいる。

本発明に従って用いられる硬化性液化組成物は、更に重
合開始剤（Ｂｌを活性化するために使用した波長と異な
った波長のみで化学線に暴露することにより重合される
ひとつもしくはそれ以上のカチオン峠重合可能な物質と
ある波長で化学線に暴露することにより重合されるひと
つあるいはそれ以上の物質の混合物から成る。その代わ
りとして、同分子中に２つの型の光重合性機能を有する
物質、即ちそのうちのひとつは、重合開始剤（Ｂ）が活
性化される波長と異なった波長で照射されることによっ
てのみ活性化される、ひとつもしくはそれ以上の“二官
能”物質から成るものでもよい。組成物は、記載された
ひとつもしくはそれ以上の二官能物質とひとつもしくは
それ以上の該二官能物質との混合物から成るものでもよ
い。

第一照射は可視スペクトル中の輻射線を使用することに
より行い、及び第二照射は、紫外線を使用することによ
り実施されるのがひとつの方法である；しかしながら両
方の照射は異なる波長の紫外線を使用して行ってもよい
し、あるいは、両方の照射は、異なる波長の可視スペク
トルでの輻射線を使用して行ってもよい。

重合開始剤ＣＢ＋は、成分（Ｃ）と、存在する場合は開
始剤の）とは異なった波長での輻射線を吸収しなければ
ならない。成分子ｃ）及び開始剤ＣＤ）が開始剤ＣＢ＋
より短波長での輻射線を吸収する場合は、それらは、ｓ
　ｏ　ｏ　ｎｍ以上の波長での輻射線を吸収しないこと
が好ましい。

液体組成物の一部分囚として使用するのに適当なカチオ
ン重合可能である成分け、公知であり、そして環状エー
テル、例えばオキセタンもしくはテトラヒドロフラン；
環状エステル、例えばラクトン；またはエピスルフィド
、例えばエチレンスルフィドのようなカチオン重合可能
な複素環式化合物であってもよい。好ましい（Ｎｄ、１
．２−エポキシド、ビニルエーテルもしくはそれらの混
合物であ゛る。適当な１，２−エポキシドは、エチレン
オ・キシド、プロピレンオキシド及びエビクロロヒドリ
ンを含む。好ましい１，２−エポキシドは、アルコール
もしくはフェノールのグリシジルエーテルであり、特に
−価アルコールもしくはフェノールのグリシジルエーテ
ルで、例えばｎ−ブチルグリシジルエーテル、ｎ−オク
チルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル
及びクレジルグリシジルエーテル；アルファーピネンオ
キシドのようなモノエポキシド及び３，４−エポキシシ
クロヘキシルメチル−３′、４′−エポキシンクロヘキ
サンカルボキシレートのようなエポキシ樹脂及びその６
，６′−ジメチル誘導体を含む脂環式エポキシド、並び
にグリシジルエステル、特にプロピオン酸、シクロヘキ
サンカルボン酸及び安息香酸のようなモノカルボン酸の
グリシジルエステルである。適当なビニルエーテルは、
ジヒドロピラン成分及び好ましくはフェノールのビニル
オキシアルキルエーテルを含む環状ビニルエーテルを包
含する。

囚のための広範な重合開始剤を使用してもよい。例えば
囚のための輻射線活性化重合開始剤は、少なくとも一種
の次式（■）： ｅ）ａｎ　ａｎ　　　　　ｅｑ Ｒ−（ＬＱｍ）　　　　　（１） 〔式中、 Ｌは２価ないし７価の金属もしくは非金属を表わし、 Ｑはハロゲン原子を表わすか、またはＱのひとつが゛与
ヒドロキシル基を表わし、 ｑは１ないし３の整数を表わし、 ｍ　ｔｄ　Ｌ　＋　ｑの価数に相当する整数を表わし、
ａは１もしくは２を表わし、 ｎけ１ないし３の整数を表わし、並びにＲけ、次式： ％式％ （式中、Ａｒ及びＡｒ’は置換もしくは未置換の芳香族
基を表わす。）で表わされる基； 次式二 （０１（Ｙ−Ｚ−（Ｃｏ）工〕“ （式中、Ｙはアレーンもしくはジエニリウム基を表わし
、ｚはチタン、バナジウム、クロム、マンガン、鉄、コ
バルト、ニッケル、銅、ニオブ、モリブデン、ルテニウ
ム、ロジウム、パラジウム、銀、タンタル、タングステ
ン、レニウム、オスミウム、イリジウム、白金及び金か
ら選択されるｄ−ブロックの遷移元素の原子を表わし、
並びにＸは、２が閉殻電子配置であるような正の整数を
表わす。）で表わされる基； （ＩＩｉ）芳香族ジアゾニウムイオン；＋ｉＶ）　　（
（Ｒ１）（ＲＩＭ）ａ）”（式中、ａ及びｎは上記で定
義した意味を表わし、Ｍけ周期表の第■ｂないし■ｂ族
、第１族もしくは第ｔｂ族からの１価ないし多価のカチ
オンを表わし、Ｒ１はπ−アレーンを表わし、並びＫ　
Ｒ”はπ−アレーンもしくはπ−アレーンのアニオンを
表わす。）で表わされる基； （ｖ）　　芳香族スルホニウムイオン；または（ｖｌ）
　　芳香族スルホキソニウムイオンから選択されたイオ
ンを表わす。〕で表わされる化合物であってもよい。

Ｒがヨードニウム塩であるとき、開始剤は次式（■）： （Ａｒｈ−１−Ａｒ’ｉ当（ＬＱｍ）−（ｋ−’）　　
ＦＩ［ｌ（式中、 Ａｒは一価の芳香族基を表わし、 Ａｒ’Ｈ二価の芳香族基を表わし、 ｈは０を表わし、かつｉけ１を表わすか、または ｈは２を表わし、かつｉはＯを表わし、ｊはｌ（１を表
わし、 ｔはＬの価数を表わし、並びに ｋは１よりも大きく、８までの整数を表わし、並びに り、　　Ｑ及びｍは上記で定義した意味を表わす。）で
表わされる化合物であってよい。

Ａｒに包含される基は、同一または異種の炭素原子数１
ないし８のアルコキン基、炭素原子数１ないし８のアル
キル基、ニトロ基もしくは塩素原子から選“択された１
ないし４個の一価の基で置換できる、６ないし２０の炭
素原子を有する芳香族炭素環基もしくは複素環基であり
うる。

Ａｒは特に、フェニル基、クロロフェニル基、ニトロフ
ェニル基、メトキシフェニル基モしくケビリジル基であ
る。Ａｒ’に包含される基は、次式： （式中、 Ｖは、好ましくは１もしくは２を表わす。）で表わされ
る基のよりな二価の基である。

ヨードニウム塩は、染料増感剤と配合して使用する。

本発明の実施において上記のアリールヨードニウム塩と
配合して使用することのできる染料は、カチオン性染料
で、例えばＫｉｒｋ−ＯｔｈｍｅｒＥｎｃｙｃｌｏｐｅ
ｄｉａ　、第２版１９６９年、Ｊｏｈｎ　Ｗｉ　１ｅｙ
ａｎｄ　５ｏｎｓ　％Ｎｅｗ　Ｙｏｒｋの第２０巻１９
４−７頁に記載されているようなものである。使用する
ことのできるカチオン性染料のいくつかの例は、アクリ
ジンオレンジ；　Ｃ０！、４６００５アクリジンイエロ
ー；Ｃ０■、４６０３５ホスフインＲ；　Ｃ，１，４６
０４５ ベンゾフラビン；Ｃ０■、４６０６５ セトフラビンＴ　；　Ｃ，１，４９００５である。

上記に加えて、塩基性染料も使用してよい。

これらの塩基性染料のいくつかは、上述のＫｉｒｋ　−
Ｏｔｈｍｅｒ　Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ　、第７巻、
５３２−４頁に記述されておシ、以下のもの ヘマトポルフィリン、 ４４−ビスジメチルアミノベンゾフェノン及び ４４′−ビスジエチルアミノベンゾフェノン を包含する。

Ｒが式１）で表わされるカチオンであるとき、開始剤は
次式ＴＩ［Ｄ　： ［Ｙ−Ｚ−（Ｃｏ）、）”　　（ＬＱｍ）　　　　（１
１０（式中、 Ｙ％Ｚ％ｘ、Ｌ％Ｑ及びｍは上記で定義した意味を表わ
すっ）で表わされる。

Ｙがアレーン基、すなわちそれ自体が６電子配位子であ
るとき、これは網金環基を包含する単核もしくは多核基
であってよい。好ましくは、炭化水素基であり、所望に
より１個もしくはそれ以上のアルコキシ基により置換さ
れた炭化水素基で、好マしくはベンゼン、トルエン、メ
シチレン、ナフタレン、ビフェニル、フェナントレン、
フルオレン及びアントラセンのような６ないし１８個の
炭素原子を含有する。

Ｙがジエニリウム基を表わすとき、好ましくは次式： （式中、 ＲＡは炭素原子数１ないし４のアルキル基、炭素原子数
１ないし４のアルコキシ基、もしくけオキシカルボニル
基１個もしくはそれ以上によって中断され、かつ炭素原
子を１２個まで含有するアルキル基を表わし、 ｐは０．１．２もしくは３を表わし、 ｚｕ好ｉｔ、＜ｕクロム、コバルト、ニッケルを表わし
、特に鉄もしくはマンガンを表わす。）で表わされる環
状基のひとつである。

弐■（式中、Ｙはアレーン基を表わす。）で表わされる
特に好ましい個々の塩は、π−トルエントリカルボニル
マンガン、π−ベンゼントリカルボニルマンガン、π−
メシチレントυカルボニルマンガン、π−１−）ｌｆシ
ル−５，６，７゜８−テトラヒドロナフタレントリカル
ボニルマンガン、π−ヘキシルベンゼントリカルボニル
マンガン、π−メトキシベンゼントリカルボニルマンガ
ン及びπ−へキシルオキシベンゼントリカルボニルマン
ガンのへキサフルオロホスフェートを包含する。

これらの塩は、中心原子（マンガン）が閉殻電子配置す
なわち、その原子価殻中の１８個の電子を有し、単一陽
性カチオン中の一価のマンガンは６個の電子を提供し、
アレーン基は６個の電子を提供して、そして３個のカル
ボニル基はそれぞれ２個の電子を提供して閉殻電子配置
の要求を満足させている。

式■で表わされる塩は一般て公知であり、ヨ−ロツパ特
許出願第９４９１４号明細書に記述されているように製
造できる。

式１［１（式中、Ｙは環状のジエニリウム基を表わす。

）で表わされる特に好ましい個々の塩は、トリカルボニ
ル（シクロヘキサ−１，３−ジェニリウム）鉄テトラフ
ルオロボレート、トリカルボニル（１−メチルシクロヘ
キサ−２，４−ジエニリウム）鉄へキサフルオロホスフ
ェート、トリカルボニル（１−メチル−４−メトキシシ
クロヘキサ−２，４−ジェニリウム）鉄へキサフルオロ
ホスフェート、トリカルボニル（２−メトキシビシクロ
（４，４，０）　　デカ−２，４−ジエニリウム）鉄へ
キサフルオロホスフェート、トリカルボニル（１−（ア
セトキシ−メチル）−２−（メトキシカルボニルアセト
キシ）エチルシクロヘキサ−２，４−ジエニリウム）−
鉄へキサフルオロホスフェート、トリカルボニル（１−
エチル−４−イソプロポキシシクロヘキサ−２，４−ジ
エニリウム）鉄へキサフルオロホスフェート、トリカル
ボニル（１−（メトキシカルボニル）−４−メトキシシ
クロヘキサ−２，４−ジエニリウム）鉄テトラフルオロ
ポレート及び（π−シクロへキサジェニル）トリカルボ
ニル鉄（Ｉｌｌヘキサフルオロアルセネ−トｔ−包含す
る。

これらの塩は同様に、中心原子（鉄）が閉殻電子配置を
有するという要求を満たしており、鉄は７個の電子を提
供し、ジエニリウム基は５個の電子を提供し、そしてカ
ルボニル基は、それぞれ２個の電子を提供する（すなわ
ち全部で１８個）。

Ｒが芳香族ジアゾニウムイオンであるトキ、該芳香族基
は未置換または１個もしくはそれ以上のアリールチオ基
、アリールオキシ基、ジアルキルアミノ基、アルキル基
もしくはアルコキシ基によって置換されてもよい。

Ｒがメタロセニウムイオンであるとき、開始剤は、次式
■： （（Ｒ１）（Ｒ”Ｍ）ａ、ｌ”ａ”　”　ＣＬＱｍ〕’
Ｉ　　Ｍ（式中、 ａは１もしくは２を表わし、 ｎ及びｑｈ互いに独立して１がら３までの整数を表わし
、 Ｍ？−ｉ周期表の第１Ｖｂ族ないし第■ｂ族、第１族も
しくは第１ｂ族の一価ないし三価の金属のカチオンを表
わし、 Ｌ、Ｑ及びｍけ上記で定義した意味を表わし、Ｒ１はπ
−アレーンを表わし、並びに Ｒ雪はπ−アレーンモシクハπ−アレーンのアニオンを
表わす。）で表わされるものであってよい。

可能なπ−アレーンＲ１及びＲ２は、特に炭素原子数６
ないし２４の芳香族基もしくは炭素原子数３ないし３０
の芳香族複素環基を表わし、該基は未置換またはハロゲ
ン原子、好ましくは塩素原子もしくは臭素原子、あるい
は炭素原子数１ないし８のアルキル基、炭素原子数１な
いし８のアルコキシ基、シアノ基、炭素原子数１ないし
８のアルキルチオ基、炭素原子ａ２ないし６のモノカル
ボン酸アルキルエステル基、フェニル基、炭素原子数２
ないし５のアルカノイル基もしくはベンゾイル基のよう
な同一もしくは異種の一価の基によって一置換あるいは
多置換されてもよい。これらのπ−アレーン基は、単核
、縮合多核もしくは非縮合多核系であってよく、最後に
記載した系において、核は直接もしくは−５−１−〇−
あるいけ−Ｃ＝Ｃ−のような橋を介して結合してもよい
。

π−アレーンのアニオンとしてのＲ２は、例えばインデ
ニルアニオンのような上記の種類のπ−アレーンのアニ
オンで、特に未置換または炭素原子数１ないし８のアル
キル基、炭素原子数２ないし６のモノカルボン酸アルキ
ルエステル基、シアノ基、炭素原子数２ないし５のアル
カノイル基もしくはベンゾイル基のような同一もしくは
異種の一価の基によって一置換あるいは多置換されても
よいシクロペンタジェニルアニオンであってよい。

アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、モノカル
ボン酸アルキルエステル及びアル刀ノイル置換基は直鎖
もしくは枝分れ鎖であってよい。典型的なアルキル、ア
ルコキシ、アルキルチオ、モノカルボン酸アルキルエス
テルもしくはアルカノイル置換基は、：メチル基、エチ
ル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基
、第ニブチル基、第三ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−
ヘキシル基、ｎ−オクチル基、メトキシ基、エトキシ基
、ｎ−プロポキシ基、インプロポキシ基、ｎ−ブトキシ
基、ｎ−へキシルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、メ
チルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、イソ
プロピル基オ基、ｎ−ブチルチオ基、ｎ−ペンチルチオ
Ｍ、ｎ−へキシルチオ基、カルボン酸メチルエステル、
ｎ−ペンチルエステル基、アセチル基、プロピオニル基
、ブチリル基及びバレロイル基テする。アルキル基、ア
ルコキシ基、アルキルチオ基及びアルキル部分中に１な
いし４個、特に１もしくけ２個の炭素原子を含有するモ
ノカルボン酸アルキルエステル、及び２もしくけ３個の
炭素原子を含有するアルカノイル基が好ましい。好まし
い置換されたπ−アレーンもしくは置換されたπ−アレ
ーンのアニオンは、上述の置換基、特に塩素原子、臭素
原子、メチル基、エチル基、メトキシ基、エトキシ基、
シアノ基、カルボン酸メチルもしくはエチルエステル基
並びにアセチル基を１または２個含有するものである。

Ｒ１及びＲ２は同一もしくは異穐のπ−アレーンであっ
てよい。適当な芳香複素環π−アレーンは、Ｓ−１Ｎ−
及び／または〇一原子を含有する系である。Ｓ−及び／
またはＯ原子を含有する芳香複素環π−アレーンが好ま
しい。適当なπ−アレーンの例ハ、ベンゼン、トルエン
、キシレン、エチルベンゼン、クメン、メトキシベンゼ
ン、エトキシベンゼン、ジメトキシペン上１ン、ｐ−ｐ
ロロトルエン、クロロベンゼン、ブロモベンゼン、ジク
ロロベンゼン、アセチルベンゼン、トリメチルベンゼン
、トリメトキシベンゼン、ナフタレン、１，２−ジヒド
ロナフタレン、メトキシナフタレン、エトキシナフタレ
ン、クロロナフタレン、ブロモナフタレン、ビフェニル
、スチルベン、インデン、フルオレン、フェナントレン
、アントラセン、９．１０−ジヒドロアントラセン、ト
リフェニレン、ピレン、ペリレン、ナフタセン、コロネ
ン、チオフェン、クロメン、キサンチン、チオキサンチ
ン、ベンゾチオフェン、ナフトチオフェン、チアントレ
ン、ジフェニレンオキシド、ジフェニレンスルフィド、
アクリジン及びカルバゾールである。

ａが２であるとき、それぞれＲ２はπ−アレーンのアニ
オンであるのが好ましく、それぞれＭは、同一の金属原
子である。置換されたπ−アレーンのアニオンの例は、
メチル−、エチル−１ｎ−プロピル−及びｎ−ブチルシ
クロペンタジェンのアニオン、ジメチルシクロペンタジ
ェンのアニオン、シクロペンタジェンカルポン酸メチル
エステル及びエチルエステルのアニオン、了セチルシク
ロペンタジェンのアニオン、プロヒオニルーシクロペン
タジエンのアニオン、シアノシクロペンタジェンのアニ
オン及びベンゾイルシクロペンタジェンのアニオンであ
る。好ましいアニオンは未置換インデニル　アニオンで
、特に未置換シクロペンタジェンのアニオンである。

好ましくはａが１のとき、Ｒ１はベンゼン、トルエン、
キシレン、クメン、メトキシベンゼン、クロロベンゼン
、ｐ−クロロトルエン、ナフタレン、メチルナフタレン
、クロロナフタレン、メトキシナフタレン、ビフェニル
、インデン、ピレン、ヘリレンモシくハシフェニレンス
ルフィドｆｌ）、Ｒ”ｔ：ｔシクロペンタジェン、アセ
チル−シクロペンタジェンもＬ＜Ｈインデンのアニオン
、ベンゼン、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼン
、ナフタレンもしくはメチルナフタレンである。ＭＶｉ
例えばＴｉ＋、　Ｔｉ”　、　Ｔｉ”。

Ｚｒ”、　Ｚｒ２＋、　Ｚｒ”、　Ｈｆ＋、　Ｈｆ”、
　Ｈｆ桔Ｎｂ”、　Ｎｂ”。

Ｎｂ”　、Ｃｒ”　、Ｍｏ”　　、Ｍｏ”　、Ｗ”　、
Ｗ”、Ｍｎ＋、Ｍｎ”。

Ｒｅ”　、　Ｆｅ”　、　Ｃｏ”　、　Ｃｏ”　、　Ｎ
ｉ”＋もしくはＣｕ”＋である。好ましくは、Ｍけクロ
ム、コバルト、マンガン、タングステンもしくけモリデ
ニウムカチオンで、特に鉄のカチオンで、最も好ましく
はＦｅ”　　である。

特に好ましくは、式■（式中、ａが１を表わし　Ｒ１が
クメン、η６−ピレンもしくはη６−ナフタレンを表わ
し、Ｒ２がψ−シクロペンタジェンのアニオンを表わし
、ｎが好ましくは１もしくは２、特に１を表わし、並び
にｑが好ましくは１を表わす。）で表わされる錯体であ
る。

式■で表わされる化合物は、例えばヨーロッパ特許出願
第９４９１５号明細書に記載されているような公知の方
法により製造してもよい。

上記の全ての化合物のイオン（ｔ、ｑｔＴｌ）−ｑ中の
適当な金属もしくは非金属りの例は、Ｓｂ、　Ｆｅ。

Ｓｎ、　Ｂｉ、　Ａｔ、　Ｇａ、　Ｉｎ、　Ｔｉ、　Ｚ
ｒ、　Ｓｃ、　Ｖ、　Ｃｒ。

Ｍｎ及びＣｕ　；　Ｃｅ、　Ｐｒ及びＮｄのようなラン
タニドまたはＴｈ、Ｐａ、ＵもしくはＮｐのようなアク
チニドである。適当な非金属原子は、特にＢ。

Ｐ及びＡｓである。ＬはＰ、　Ａｓ、　Ｂもしくはｓｂ
であるのが好ましく、Ｐ及びｓｂが最も好ましい。

錯アニオン〔ＬＱｍ〕−ｑの例は、ＢＦ４−、　ＰＦ、
　。

ＡｓＦ６　．５ｂＦａ　、５ｂＦ５（ＯＨ）、ＦｅＣｔ
４．５ｎＣ１ａ”　。

５ｂＣ４、ＢｉＣｔｓ−である。最も好ましい錯アニオ
ンは、ＳｂＦ６’−、ＢＦ４−、　ＡｓＦ６−及びＰＦ
、−である。

いくつかの場合において、式■で表わされる゛化合物を
重合開始剤として使用するとき、有機過酸化物もしくけ
ヒドロペルオキシドまたはキノリンと組み合わせて使用
してもよく、あるいは、照射だけでは固化させるのに不
十分であるとき、照射後、加熱してもよい。式■で表わ
される好ましい化合物と酸化剤の配合は、ヨーロッパ特
許出願第１２６７１２号明細書に記載されている。

有機過酸化物の範囲は、２，５−ジメチル−２，５−ビ
ス（ベンゾイル−ペルオキシ）ヘキサン、２，５−ジメ
チル−２，５−ビス（第三ブチルペルオキシ）ヘキサン
、ジー第三ブチルペルオキシド、ジヘキシレングリコー
ルペルオキシド、第三ブチルグミルベルオキシド、イン
ブチルメチルケトンペルオキシド、更に過安息香酸、過
酢酸第三ブチル、第三ブチルベルベンゾエート及び第三
ブチルペルフタレートのような過酸及び過エステルを使
用してもよい。使用してもよい有機ヒドロペルオキシド
は炭素原子数が１８までのアルキル、了り−ルもしくは
アルアルキルヒドロペルオキシドを包含する。典型的な
ヒドロペルオキシドは、メチルエチルケトンヒドロペル
オキシド、第三ブチルヒドロペルオキシド、クメンヒド
ロペルオキシド並びにセチンもしくはシクロヘキセンの
酸化によって生成されたヒドロペルオキシドを包含し、
第三ブチルヒドロペルオキシド及びクメンヒドロペルオ
キシドがとりわけ効果的である。適当なキノンはベンゾ
キノンを包含スル。

囚のための重合開始剤は、オニウム塩を含有する。エポ
キシド樹脂もしくは他のカチオン重合可能な物質と組み
合せるとき重合性混合物を与えるオニウム塩は、アメリ
カ特許第４０５８４００号及び第４０５８４０１号明細
書に記載されている。

同様の目的のために使用してもよい適当なスルホキソニ
ウム塩はアメリカ特許第４２９９９３８号、第４５５９
５６７号及び第４３８３０２５号明細書に開示されてい
る。この目的のために使用してもよいヨードニウム塩は
、イギリス特許第１５１６３５２号明細書中に記述され
ている。使用してもよいヨードシル塩は、ヨーロッパ４
１１第１０４１４３号明細書に記載されている。

硬化性成分（Ｃ）として使用してもよい感光性基を有す
る物質は、公知であり、かつアジド基、クマリン基、ス
チルベン基、マレイミド基、ビリジノン基、カルコン基
、フロペノン基、ペンタジェノン基、アントラセン基ま
たはα、β−不飽和基と共役した芳香族性もしくはエチ
レン性不飽和基を有するα、β−エチレン性不飽和エス
テル基を少なくとも２個、好ましくけ３個もしくはそれ
以上有するものを包含する。

別のタイプの可能な光硬化性成分Ｃ）は、適当な光開始
剤Ｄ）を加えることにより感光性を得るカチオン重合性
物質である。これらのタイプの配合物は、Ａ）及びＢ）
のために記述したような化合物の類から選択される。

硬化性成分（Ｃ）　Ｈ、アクリルエステルであってよく
、特に次式： ％式％（） （式中、 Ｒ３は水素原子もしくは塩素原子、またはメチル基もし
くはエチル基を表わす。）で表わされる基を少なくとも
２個含有する化合物である。

式■で表わされる基を少なくとも２個有する適当なエス
テルは、特に脂肪族、脂環式、脂環式脂肪族、芳香脂肪
族もしくは複素環式脂肪族多価アルコールとりわけ、ジ
オール及びトリオールのエステル、特にアクリレート及
びメタアクリレート；ポリヒドロキシ−１特にジヒドロ
キシ−、カルボン酸；ポリヒドロキシ−１特にジヒドロ
キシ−、アルキルアミン；及びポリヒドロキシ−、ジヒ
ドロキシ−、アルキルニトリルのエステル、特にアクリ
レート及びメタクリレートを包含する。アクリルエステ
ル−ウレタン及び−ウレイドを使用してもよい。一般に
その様なエステルは、市販されており、また市販されて
いないものけ公知の方法によって製造できる。　　　・ 適当なアクリルエステルは、次式： Ｒ３は上記で定義した意味を表わし、 Ｒ５はＨ，−ＣＨ３、−Ｃ２Ｈ５、−ＣＨ，ＯＨもしく
は−ＣＨ，Ｏ−Ｃ−Ｃ＝　ＣＨ２を表わし、Ｒ’　　　
　　　　０ Ｒ４はＨｌＯＨもしくは一〇ＣＣ＝ＣＨ２を表わし、２
は１から８までの整数を表わし、 ｂは１から２０″！での整数を表わし、Ｃは０もしくは
１を表わす。）で表わされる化合物を包含する。

式■で表わされる化合物中、ｚ　ｎ　１から４″！での
整数を表わし、ｂは１から５までの整数を表わし、並び
にＲ３は水素原子もしくけメチル基を表わす化合物が好
ましい。その様な化合物の特別な例は、エチレングリコ
ール、プロピレングリコール、ブタン−１，４−ジオー
ル、ジエチレングリコール、シフロビレングリコール、
トリエチレングリコール、トリプロピレングリコール、
テトラエチレングリコール及びテトラプロピレングリコ
ールのジアクリレート及びジメタアクリレートである。

他の適当なアクリルニステルハ、次式：（式中、 ｂ、ｃ、Ｒ”及びＲ４は上記で定義した意味を表わし、 Ｃ及びｄが共に０でないという条件でｄｉ″ｉ。

もしくは正の整数を表わし、 ｅけ２，３もしくは４を表わし、 Ｒ６は指定のｂ個の酸素原子に対し炭素原子もしくはそ
れらの炭素原子を通して結合するｅ価の有機の基を表わ
す。）で表わされる化合物である。

式■で表わされる化合物中、好ましいものけ、式中、ｂ
％Ｃ及びｄがそれぞれ１を表わし、Ｒ３が水素原子もし
くはメチル基を表わし、並びにＲ６が２ないし６個の炭
素原子を有する脂肪族多価アルコールの炭化水素残基、
例えばベンタエ＋７　）　ＩＪメチル基表わすものであ
る。その様な化合物の特別な例は、ペンタエリトリチル
テトラキス（ジメチレングリコールアクリレート）であ
る。

更に他の適当なエステルは、次式： （式中、 Ｃ及びｅば、上記で定義した意味を表わし、Ｒ７は−Ｈ
もしくは−ｃＨ３を表わし、並びにＲａｄカルボニル基
の炭素原子以外のそれらの炭素原子を通して結合したｅ
価の有機の基を表わす。）で表わされる化合物である。

特に、Ｃが０であるとき、マは炭素原子数１ないし６０
のｅ個のヒドロキシル基を有するアルコールもしくはフ
ェノールの残基を表わす。

従ってＲ８は、芳香族、芳香脂肪族、アルキル芳香族、
脂環式、複素環式もしくけ複素環式脂肪族基で、例えば
１個のベンゼン環のみを含有する芳香族基、場合によっ
ては塩素原子、臭素原子もしくは炭素原子数１ないし９
のアルキル基によって置換された上記の基または２ない
し４のベンゼン環の鎖からなり、場合によってはエーテ
ルの酸素原子、炭素原子数１ないし４の脂肪族炭化水素
基またはスルホン基によって中断され、場合によって各
々のベンゼン環が塩素原子、臭素原子もしくは炭素原子
数１ないし９のアルキル基によって置換された芳香族基
、あるいはエーテルの酸素原子橋を含み、かつヒドロキ
シル基によって置換された飽和もしくは不飽和、直鎖も
しくは枝分れ鎖脂肪族基、とりわけ炭素原子数１ないし
８の飽和もしくはモノエチレン性不飽和直鎖脂肪族炭化
水素基である。

そのような化合物の特別な例は、式 −Ｃ６Ｈ４Ｃ（ＣＨり２Ｃ１１Ｈ４（この場合、ｅは２
を表わす）、式−ＣｓＨ＜　（ＣＨ２Ｃ５Ｈ３）　（−
ＣＨ２Ｃ６Ｈ４（式中、ｆは１もし゛くは２を表わし、
ｅは３もしくは４を表わす）で表わされる芳香族基、並
びに式−ＣＨ是Ｆ（ＣＨｚ−もしく　ｉ　−ＣＨ，とＨ
（ＣＨ，）、ＣＨ，−（ｅは３を表わす。）または式−
（ＣＨｚ）４−１−ＣＨ，ＣＨ＝Ｃ１（ＣＨ，−１−Ｃ
Ｈ，ＣＨ，ＯＣＨ，ＣＨ，−もしく　ｋｉ　−（ＣＨｚ
ＣＨｚＯｈＣＨｚＣＨｚ−（Ｃは２を表わす。）で表わ
される脂肪族基である。

Ｃが１であるとき、Ｒｓけ炭素原子数１ないし６０のｅ
個のカルボキシル基を有する酸の残基であり、塩素原子
によって置換されてもよく、ま六エーテル性酸素原子及
び／またはカルボニルオキシ基（−ＣＯＯ−）　　によ
って中断されてもよい炭素原子数１ないし２０の飽和も
しくはエチレン性不飽和の直鎖もしくは枝分れ鎖の脂肪
族炭化水素基を表わすか、または塩素原子によって置換
されてもよい少なくとも４個の炭素原子を有する飽和ま
たはエチレン性不飽和脂環式もしくは脂肪族−脂環式炭
化水素基、あるいけ塩素原子もしくは臭素原子によって
置換されてもよい炭素原子数６ないし１２の芳香族炭化
水素基であるのが好ましい。

更に吐着しい化合物は、Ｃが１を表わすときＲ８は炭素
原子数１ないし８の場合によってヒドロキシル基によっ
て置換された飽和もしくはエチレン性不飽和直鎖もしく
け枝分れ鎖脂肪族炭化水素基；炭素原子数４ないし５ｏ
で鎖中、カルボニルオキシ基によって中断された飽和ま
たはエチレン性不飽和直鎖もしくは枝分れ鎖脂肪族炭化
水素基；炭素原子数６ないし８の飽和またはエチレン性
不飽和単環もしくは二環式脂環式炭化水素；炭素原子数
１０ないし５１のエチレン性不飽和脂環式−脂肪族炭化
水素基；または炭素原子数６ないし８の単核芳香族炭化
水素基を表わすものである。

カルボン酸残基の特別な例は、式−ＣＨｈＣＨ２−１−
ＣＴ（＝ＣＨ−及び−ＣｓＨｉ−（ｅは２を表わす。）
で表わされる基である。

式■で表わされる適当な化合物の特別な例は、１．４−
ビス（２−ヒドロキシ−３−（アクリロイルオキシ）プ
ロポキシ）ブタン；ビス（４−ヒドロキシフェニル）メ
タン（ビスフェノールＦ）、２．２−ビス（４−ヒドロ
キシフェニルプロパン）（ビスフェノールＡ）及びフェ
ノールホルムアルデヒドノボラックのポリ（２−に：）
”ｏ＊フシ−−アクリロイルオキシ）プロピル）エーテ
ル；ビス（２−ヒドロキシ−３−アクリロイルオキシプ
ロピル）アジペート並びに該化合物のメタアクリロイル
オキシ類似物である。

他の適当なエステルは次式： （式中、 Ｒ３け上記で定義した意味を表わし、 Ｒ９は指示した一〇−原子及び−Ｘ−原子あるいは基に
炭素原子もしくはそれらの炭素原子を通して結合する二
価の脂肪族、脂環式、芳香族も（−＜は芳香脂肪族基を
表わし、 Ｘは一〇−１−ＮＨ−もしくは−Ｎ（アルキル）−（式
中、アルキル基は１ないし８個の炭素原子を有する。）
を表わし、 ｇは最低が２で最高が６の整数を表わし、ＲＩＧは指定
したＮＨ基に対し炭素原子もしくはそれらの炭素原子を
通して結合するｇ価の脂環式、芳香族もしくは芳香脂肪
族基を表わす。）で表わされるアクリレート−ウレタン
及びアクリレート−ウレイドである。

好ましいＲ＠は炭素原子数２ないし６の二価の脂肪族基
を表わし、並びにＲＩＯは以下の基のひとつを表わす。

： 炭素原子数２ないし１０の二価の脂肪族基で、例えば以
下の式： ％式％） ）： で表わされる基、 フェニレン基、場合によってはメチル基もしくけ塩素原
子によって置換された該基；ナフチレン基；次式−Ｃ６
Ｈ４Ｃ，Ｈ，−１−Ｃ，Ｈ，Ｃ）Ｔ２Ｃ，Ｈ４−１もし
くは−Ｃ６Ｈ４Ｃ（ＣＨ３）２Ｃ６Ｈ４−で表わされる
基、または炭素原子数６ないし１０の単核のアルキルシ
クロアルキレン基もしくはアルキルシクロアルキレン基
、例えばメチルシクロヘキシ−２，４−イレン基、メチ
ルシクロヘキシ−２，６−イレン基、モしくｄｌ、３．
３−トリメチルシクロヘキシ−５−イレン−メチル基で
ある。

式■で表わされる化合物の特別な例は、２゜４−及び２
，６．−（ビス（２−アクリロイルオキシエトキシカル
ボンアミド））トルエン並びに相当するメタアクリロイ
ルオキシ化合物である。

更に適当なエステルは、次式： ％式％（ （式中、 Ｒｓは上記で定義した意味を表わし、 Ｒ１１はＣＨｌ−１Ｃ，Ｈ５−１−ＣＩ（、ＯＨもしく
はＣＨ，＝　Ｃ（Ｒ３）　Ｃ００ＣＨ２−を表わし、並
びにＲ１２は＝ＣＨ，ＯＨもしくは＝ＣＨ，００−Ｃ（
Ｒ３）＝ＣＨ２、特に１，１．１−トリメチロールプロ
パントリアクリレート、ペンタエリトリトールテトラア
クリレート及び相当するメタアクリレ−トラ表わす。）
で表わされる化合物である。

更に適当なアクリルエステルは、次式：（式中。

Ｒ３は上記で定義した意味を表わし、 Ｒ，１３は−Ｈ１−ＣＨ３もしくは＝ＣＨ，（Ｊ　　を
表わし、並びに Ｒ”は−〇〇０ＣＲ（Ｒ，”）ＣＨ，０ＯＣＣ（Ｒ３）
＝ＣＨ！及び−〇〇〇Ｈのそれぞれの対の基が直接隣接
した炭素原子に結合した４個のカルボキシル基全除去し
た後、２０個までの炭素原子と１個もしくはそれ以上の
炭素環を含有するテトラカルボン酸の四価の残基全表わ
す。）で表わされる化合物である。

好ましいＲ３及びＲ１３は−Ｈもしくは一〇Ｈ，で。

Ｒ１”は１もしくは２個のベンゼン環を有する芳香族テ
トラカルボン酸、特にピロメリット酸もしくはベンゾフ
ェノン−３，３，４，４−テトラカルボン酸の残基であ
る。

いかなる上記のアクリルエステルをも配合に使用しても
よいし、希釈剤と混合してもよいかゝとりわけアルキル
もしくはヒドロキシアルキルアクリレートまたはメタア
クリレートのような低粘性のアクリルエステルがよい。

適当彦アジドの例は、次式： （式中。

Ａｒは６ないし最大１４個の炭素原子金含有している単
核もしくは三核の二価の芳香族基。

特にフェニレン基もしくはナフチレン基ｔ−表わす。）
で表わでれる基を少なくとも２個含有する化合物である
。

適当なりマリンの例は１次式： （式中、 Ｒは散索原子、カルボニルオキシ基（−ＣＯＯ−）、ス
ルホニル基もしくはフルホニオキシ基ヲ表わす。）で表
わぢれる基を含有する化合物である。

スチルベン基を含有する化合物の例は、次式：（式中、 Ｒは全部で８個までの炭素原子を含有し、ベンゼン核も
しくはナフタレン核に融合した、５員もしくは６負の窒
素を含有する複素環の残基で、指示したベンゼン核に対
しそれらの窒素異原子に隣接した上記の複素環の炭素原
子を通して結合している残基全表わす。）の基を含有し
、例えばベンズイミダゾリル、ベンゾオキサシリル、ベ
ンゾトリアゾリル、ベンゾチアゾリルもしくはナフトト
リアゾリール基である。

マレイミド単位全含有する化合物の例は１次（式中。

それぞれ几は炭素原子数１ないし４のアルキル基、塩素
原子もしくけフヱニル基を表わすが。

特にメチル基であるかまたけ几１７のひとつが水素原子
で他方が上記で定義した基を表わす。）で表わされる基
を有する化合物である。

ビリジノン単位を含有する化合物の例は１次式： （式中。

Ｒ＃−を炭素原子数１ないし８の脂肪族もしくは脂環式
基を表わし、並びＫ ｒは０もしくは１ないし４の整数を表わす。）で表わ場
ねる基を含有する化合物である。

カルコン、プロペノン及びペンタジェノン基を含有する
化合物の例は１次式： ％式％） 〔式中。

そ九ぞｎ　Ｒ，はハロゲン原子、または炭素原子数１な
いし９の有機基１例えばアルキル基、シクロアルキル基
、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルコキシ基、
シクロアルコキシ基、アルケノキシ基、シクロアルケノ
キシ基、アルコキシカルボニル基、シクロアルコキシカ
ルボニル基、アルケノキシカルボニル基もＬ＜ｉシクロ
アルケノキシカルボニル基、もしくはニトロ基、あるい
は塩の形でのカルボン酸基、スルホン酸基もしくはリン
酸基を表わし、 ｒは上記で定義した意味を表わし。

Ｒは原子価結合もしくは水素原子全表わし、Ｙは次式： ％式％） もしくは （ＸＸ） （式中、 Ｒ２１及びＲ＋”は互いに独立して水素原子１例えば炭
素原子数１々いし４のアルキル基もしくはアリール基、
好ましくはフェニル基のよって単核の基を表わし、また
はＲ＋”及び几２２は結合して２ないし４個のメチレン
基のポリメチレン鎖ヲ表わし。

Ｒ２３及びＲ”はそれぞれ水素原子、例えば炭素原子数
１ないし４のアルキル基、萱なはフェニル基のような好
゛ましくは単核であるアリール基を表わし、 Ｓ及びｔｉｊ−すれらが共［０では々いという条件でそ
れぞれ０．１．２を表わす）、で表わされる基を表わし
、そして Ｚ′は酸素原子もしくはイオウ原子を表わす。〕で表わ
される化合物である。

適当なアントラセンは、未置換または１もしくは２個の
臭素、塩素、メチルもしくはニトロ置換ｉｖ有している
例えば１−１２−もしくは９−アントリール基のような
アントリール基を含有する化合物である。

適当な共役不飽和エステルは、例えばポリオキシアルキ
レングリコールのジソルベート、ポリビニルシンナメー
ト及びエポキシ樹脂−桂皮酸反応生成物のようなツルベ
ートもしくはシンナメート基を含有する化合物である。

他の適当な取分（Ｃ）は、成分（Ａ）のための上記で定
義したカチオン重合成分である。

成分（Ｃ）″Ｉｋ重合する輻射線活性化開始剤（Ｄ）は
、化学線に暴露し念とき、可視光線なめし紫外ａまで感
光しうる。

そのような開始剤は公知であり、ベンゾインエーテル、
アシロインエーテル、ハロゲン化アルキルもしくはアリ
ール誘導体、芳香族カルボニル誘導体、メタロセン、第
１ＶＡ族有機金属化合物と光還元染料の混合物、キノン
と脂肪族α炭素原子に結合した水素原子を有する脂肪族
アミンとの混合物、所望により上記で記載したアミン、
５−ケトクマリン、アシルホスフィンオキシト、金属カ
ルボニル、オニウム塩と混合した脂肪族ジカルボニル化
合物、並びに光還元染料と還元剤の混合物を包含する。

好ましい輻射線活性化触媒（Ｄ）ｌｄ、脂肪族α炭素原
子だ結合した水素原子を有する第三アミンとカンファー
キノンであり、例えばビス（４−ジメチルアミノ）ベン
ゾフェノン及びトリエタノールアミン、ビアセチル、ジ
マンガンデカカルボニル。

ベンジルジメチルケタール、１−ベンゾイルシクロヘキ
サノール、α、α−ジメチルーα−Ｎ−モルホリノ−４
−メチルチオアセトフェノンイソブチルベンゾインエー
テル、２，２．２−トリクロａ−４’−ｇ三ブチルアセ
トフェノン、ジェトキシアセトフェノン；３位に炭素環
状もしくは複素環式芳香族ケトン基を有するクマリン、
例えば３−ベンゾイル−７−メドキシクマリンもしくｆ
１３−（４−シアノベンゾイル）−Ｓ。

７−ジプロボキシクマリン；光還元性染料、典型的には
メチレンブルーもしくはローズベンガルト例えばトリメ
チルベンジルスタナン、トリブチル−４−メチルベンジ
ルスタナンもしくハシブチルジベンジルスタナンのよう
なスタナンとの混合物、ナトリウムベンゼンスルフィネ
ートモジくはベンゼンスルフィン酸のような電子供与体
と光還元性染料との混合物、及びビス（ビメチルシクロ
ベンタジエニル）ビス（シグマへキシルオキシテトラフ
ルオロフェニル）チタニウム（Ｍ）のようなチタンメタ
ロセンである。

組成物中で使用される好ましいメタロセンはＲ２５／　
　＼Ｒ２７ （基Ｒはそれぞれ独立して、場合により置換したシクロ
ペンタジェニルもしくはインデニル基から選ばれ、また
はそれらは−緒になって炭素原子数２ないし１２のアル
キリデン基、環の中に炭素原子数５カいし７含有するシ
クロアルキリデン基、ｆｉ　−Ｓ　ｉ　（Ｒ”）２−も
しくは−８ｎ（Ｒ”）２−。

または場合により置換した次式 （Ｘ”はメチレン基、エチレン基、モジくは１゜３−プ
ロピレン基を表わす）で表わ百れる基音形成し、 Ｒは６員の芳香族炭素環またに′ｉ５−もしくは６員の
芳香族複素環を表わすが該Ｒｕ金属−炭素原子間結合に
対する２つのオルト位の少なくともひとつがフッ素原子
によって置換されているか、場合に工っては環が更に置
換されていてもよい、もしくは Ｒ’トｔ１．’カｚ−Ｑ”−Ｙ”−Ｑ’−ｔ−表ワＬ。

Ｑ’がそれぞれ２つの結合がＱ−Ｙ２結合に対してオル
ト位にある５−もしくは６員の芳香族炭素環もしくは芳
香族複素環を表わし、及びＱ′−Ｙ２結合に対してそれ
ぞれのメタ位がフッ素原子によって置換さ′ｒＬ１基Ｑ
は場合により更だ置換嘔れ、 Ｙ！はメチレン基、炭素原子数２ないし１２を有するア
ルキリデン基、環中で炭素原子数５ないし７′ｔ−有す
るシクロアルキリデン基、直接結合、基ＮＲ、酸素原子
もしくは硫黄原子、またり、ｇ−ｓｏ、−１ｉ　−ＣＯ
−、Ｍ　−Ｓ　ｉ　（Ｒｕｈ−に表わし。

几　は置換でれてもよいアルキニル基もしくはフェニル
アルキニル基、アジド基もしくはシアノ基、または−８
ｉ（Ｒ）２−もしくは−８ｎ（Ｒ）２−で表わされる基
、もしくは基Ｒと同じ意味を有し、並びに 几は炭素原子数１ないし１２のアルキル基。

炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、炭素原子
数６女いし１６のアリール基もしくは炭素原子数７ない
し１６のアルアルキルミｔ表わす）で表わ嘔しるチタノ
センである。

基孔２５は同一であるのが好ましい。Ｒ１”の為の好ま
しい置換基の例は、直鎖もしくは枝分れ鎖アルキル基、
アルコキシ基及び好ましくは炭素原子数が１８までのア
ルケニル基、とりわけ炭素原子数が１２までで、最も好
ましくは６までで１例としてはメチル基、エチル基、プ
ロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基％第三ブチル
基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基。

デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル
基、オクタデシル基、アルケニル基及び相当するアルコ
キシ基；シクロアルキル基及び好１しくは環に炭素原子
数５ないし８を含有スルシクロアルケニル基、ｆｆ１Ｌ
ｔはシクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプ
チル基。

メチルシクロペンチル基及びメチルシクロヘキシル基；
好ましくは炭素原子数６ないし１６のアリール基及び好
ましくは炭素原子数７ないし１６のアルアルキル基１例
えばフェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、ベンジル
基及びフェニルメチル基；ニトロ基、ハロゲン原子、好
ましくはフッ素原子、塩素原子及び臭素原子、そしてま
たアミン基、直鎖もしくは枝分れ鎖の炭素原子数１ない
し１２のアルキル基、好ましくけ炭素原子数１ないし６
、とりわけメチル基もしくはエチル基またはフェニル基
及び４原子化もできるアミンＯＭをもつベンジル基、特
に好ましくは炭素原子数１ないし１２０直鎖もしくは枝
分れ鎖アルアルキルハロゲン化物、好ましくはハロゲン
化メチル基もしくはハロゲン化エチル基；直鎖もしくは
枝分れ鎖アミノアルキル基。

好ましくはとりわけアルキルハロゲン化物で、４級化し
てもよい第三アミノアルキル基、及ヒアミノアルキル基
中のアルキレン基が直鎖もしくは枝分れ鎖であり炭素原
子数１ないし１２が好ましく、炭素原子数１ないし６が
最も好ましく、及びとりわけ好ましくはα−枝分子′Ｌ
ｇｌ炭素原子数１ないし１２のアルキル基である。

基孔は炭素原子数１ないし３の置換基全含有してもよい
がひとつの置換基を有するのが好ましい０両方の置換基
Ｒはジクロペンタジェニル０基もしくはメチルシフ・ペ
ンタジーニルＯ基が好ましい。

アルキリデン基Ｘ及びＹげ炭素原子数２ないし６である
のが好ましい。アルキリデン基及びシクロアルキリデン
基Ｘ１及びＹ２の例としてば。

エチリデン基、２．２−プロピリデン基、ブチＩＪ　ｆ
ン基、ヘキシリデン基、フェニルメチレン基、ジフェニ
ル−メチレン基、シクロペンチリデン基、及びシクロヘ
キシリデン基である。Ｘｌはメチリレン基が最も好まし
い。アルキル基としてＲけ、炭素原子数１ないし６であ
るのが好−ｆ　Ｌ　＜　１例えばメチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基もしくはヘキシル基である；シク
ロアルキル基としてＲ１−ｊノクロペンチルｉ４しくけ
シクロヘキシル基が好ましい；及びアリール基としては
フェニル基が好ましい：及びアルアルキル基としてはベ
ンジル基が好ましい。

Ｒ″は両方のオルト位がフッ素原子もしくは−ＣＦ、に
よって置換てれているのが好ましい。

芳香族炭素環及びフッ素原子置換環としてのＲ１−ｔイ
ンデン基、インダン基、フッ素原子、ナフタレン基及び
好ましくはフェニル基である、例えば４．６−シフルオ
ロインデンー５−イル基、５．７−ジフルオリドー６−
イル基、２゜４−ジフルオロフルオレン−３−イルｉ、
１゜３−ジフルオロナフト−２−イル基及び好ましくｆ
１２．６−シフルオロフエンー１−イル基である。

複素環式芳香族５員環としてＲ１”は１個のへテロ原子
を有し、及び６員環としては１もしくば２個のへテロ原
子ｔ−有するのが好ましい。２個のフッ素原子で置換さ
れているそのような環の例は、２．４−ジフルオロピロ
ル−３−イル基、２．４−ジフルオロフリー３〜イルＪ
、２．４−ジフルオロチオフェン−３−イルｉ、２．４
−ジフルオロピリド−３−イルＭ、５．５−ジフルオロ
ピリド−４−イル基及び４．６−シフルオロビリミドー
５−イル基である。

Ｒ″′及びＲ”が−緒になって表わす式−Ｑｌ　−ｙ２
−Ｑ−で表わされる基としては後記式： （式中、 Ｅは一〇−５−Ｓ−もしぐば−ＮＨ−＝、Ｑ表わす。Ｙ
　１４メチレン基、エチリデン２Ｊｉ、２．２−プロピ
リデン基、直播結合もしくは−０−が好ましくハ。）で
衣わ芒ｔＬる基である。

ｉ　Ｂ１１及び基−Ｑｌ　−ｙ？　−Ｑｌ−中の基Ｑ１
は部分的に、もしくは完全に更に基によって置換するこ
とができる。好ましい基は例えば、直鎖もしくは枝分れ
鎖アルキル基、アルコキシ基、それぞれ炭素原子数１な
いし１８が好ましく、炭素原子数１ないしるが最も好ま
しく、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ペンチル基、ヘキシル基及びそれに対応するアルコ
キシ基であり、メチル基、メトキシ基、ヘキシルオキシ
基が好ましい；環中に、好ましくは炭素原子５ないし６
を有するシクロアルキル基、好ましくは炭素原子数６な
いし１６のアリール基及び好ましくは炭素原子数７ない
し１６のフルアルキル基１例えばシクロペンチル基、シ
クロヘキシル基、フェニル基もしくハベンジル基：ヒド
ロキシル基、カルボキシル基、シアノ基。

フッ素原子、塩素原子もしくは臭素原子のようなハロゲ
ン原子及びアミノ基、たとえば塩化メチル基、臭化メチ
ル基、もしくはヨウ化メチル基のようなアルキルハロゲ
ン化物と１２ｇ級化してもよい第三アミノ基が好ましく
１例としてはメチルアミムＬエチルアミムＬジメチルア
ミノ基、ジエチルアミＬＬ　ピロリジル基、ピペリジル
基、ピペラジル基１モルホリルｉ、Ｎ−メチルピペラジ
ル基である。；好ましくは炭素原子数１カいし１Ｂ、最
も好ましくはアルコキシ部分中九炭素原子教１ないし６
を有するアルコキシカルボニル基、アミノ基中にひとつ
もしくは２つの炭素原子数１ないし１２のアルキル基を
有するアミノカルボニル基、ｔｆｃは複素環アミンを含
有するアミノカルボニル基、例工ばピロリジン基、ピペ
リジン基、ピペラジン基。

Ｎ−メチルビペラジン基及びモルホリン基；アミノアル
キル着、好ましくは炭素原子数１ないし６のアルキル基
を有し、アルキルハロゲン化物と四級化してもよい第三
アミノアルキル基。

最も好ましくは炭素原子数１ないし６のアルキル基によ
って置換して４よい第三アミノアルキル基、例えばジメ
チルアミノメチル基及びヨウ化トリメチルアンモニウム
メチルである。

アルキニル基としてＲは例えば２−ブチニル基及び好ま
しくはプロパギル基である。

フェニルアルキニル基としてＲ”の為の置換基の例は、
フッ素原子、塩素原子、臭素原子のようなハロゲ／原子
）、炭素原子数１ないし６のアルキル基及び炭５！原子
数１ないし６のアルコキシ基、カルボキシルＭ、水酸基
及びシアノ基である。ＲＦｉ好ましく＃″ｆＲと同じ意
味を有する。

本発明の好ましい実施態様において、ｔ、Ｗ中のＲ１及
びＲは未置換もしくは置換２，６−ジフルオロ７エンー
１−イルもしくＨＥ、及びＲ１は一緒に次式： （式中。

Ｙは前記の意猿’ｔＮＬ、及び特に直接結合、基−ＣＨ
，−鳴しくけ基−０−を表わす）で表わされる２ｇ！ｒ
を形成する・ 式別で表わされるメタロセンの好ましい群は。

それぞｒＬＲが炭素原子数１ないし４のアルキル基、好
１しぐにメチル基によって置換されたπ−７クロペンタ
ジエニル基もしくはπ−シククペンタジエニル全表わし
、各几と几が次式：（式中。

Ｑｌ　、　ＱＳ及びＱ４はそれぞれ独立して水素原子。

７ツ素原子、塩素原子、臭素原子、第三アミノ基、好ま
しくはモルホリノ基、もしくはアルコキシ基、好ましく
はメトキシ基もしくはヘキシルオキシ基を表わし、並び
にＱは上記で定義した意味を表わす。）で表わされる基
である化合物からなるものである。アミノ基もしくけア
ルコキシ基は遊離価に対してバラ位に結合しているのが
好筐しい、好ましｎ　１！！１　Ｎは、それぞｎル”が
π−メチルシクロペンタジェニル４１．＜ｆ−！に一シ
クロベ／タジエニル基を表わし、千ね、ぞれＲ”及びＲ
″けＱｌ及びＱ４が水素原子、フッ素原子。

塩素原子もしくは臭素厖子金表わし、Ｑに水素原子、フ
ッ素原子本しくはアルコキシ基を表わす式（９）ａの基
を表わす弐Ａで表わきれるメタロセンからなる。好まし
くけ、Ｑ８及びＱ４はそれぞれ独立して水素原子、フッ
素原子を表わし、Ｑ３はフッ素原子もしくけヘキシルオ
キシ基を表わす。

式（９）で表わされる化合物、及びそれらの製法に、ヨ
ーロッパ特許出願第１２２２２３号もしくけ同＠１８６
６２６号明細書中に記述されている。

開始剤Ｄ）として使用される好ましいＷＩＶＡ族の有機
金属化合物は１次式： （式中。

几げ炭素原子ａ１ないし４のアルキル基または炭素原子
数２ないし４のアルケニル基もしくはアルキニル基金表
わし、及び Ｒ”は水素原子またはハロゲン原子もしくは炭素原子数
１々いし４のアルキル基でたはアルコキシ基を表わす。

）で表わ石れるオルガノスタナンである。

式Ｗで表わされる好ましい化合物は、Ｒが炭素原子数１
ないし４のアルキル基金表わし。

及びＲ”が水素原子もしくは炭素原子数１ないし４のア
ルキル基を表わす化合物である。

これらのオルガノスタナンは、不活性溶媒中でトリアル
キル錫ハライドとベンジルマグネシウムハライドとのグ
リニヤールカップリング反応によって製造され、続いて
ろ過し、水で洗浄して、生成物を蒸留する。

該オルガノスタナンと使用する好ましい光還元性染料は
メチレンブルー及びローズベンガルである。

成分（Ａ）及び成分（Ｃ）は、明らかに同じであってよ
いことがわかる。いかなる組成物中においても、成分（
Ａ）及び成分（Ｃ）は異なった波長で重合されることが
重要であるので、それらは常に互いに異なる。成分（Ａ
）のみが輻射線への第１回の暴露中に重合てれるという
条件で、ｔｃ分（Ａ）が重合するのが成分（Ｃ）よりも
長波長でか、または短波長であるかどうかは問題ではな
い。成分（Ａ）ないしくＤ）の選択がこの目的を達成す
る。

例えば、成分（Ａ）のカチオン重合にこる固化け、続く
成分ＣＣ’）の架橋よりも短波長で行々われるとき、上
記“オニウム“塩の一種が、開始剤（Ｄ）としてメタロ
センもしくけ長波長で活性化される他の化合物と共に開
始剤ＣＢ）のために適するであろう。好ましい組み合せ
ば１式罵で表わされるチタノセンと開始剤（Ｂ）として
のオニウム塩の使用または開始剤（Ｄ）として穴居で表
わされる有機スタナンと光還元性染料を合わせたものの
使用である。

更にエポキシ樹脂は、成分（Ａ）及び成分（Ｃ）の共方
に可能々化合物として与えらｊ、ることもわかるであろ
う。適当な開始剤（Ｂ）及び触媒（Ｄ）と共に適当々樹
脂が、ひとつはある波長で重合し、他方は異なる波長で
重合するように選択でれるなら、成分（Ａ）としてエポ
キシ樹脂を、そして成分（Ｃ）としてもエポキシ樹脂を
使用することが可能である。ひとつの好ましい組み合せ
汀、成分（Ａ）としての脂環式エポキシド；開始剤（Ｂ
）としてフェロセニウム塩、好ましくはＢ　Ｆ４”　　
もしくはＰＦ、−アニオンを有するもの；成分（Ｃ）と
してグリシジルエーテル；１びに成分（Ｄ）として“オ
ニウム“塩である。この場合にシいて、成分（Ａ）はあ
る波長で照射されることにより重合され、成分（Ｃ）Ｆ
ｌ更に短波長で照射されることにより重合きれる。

所望により、カチオン重合可能な成分（Ａ）及び輻射線
硬化性成分（Ｃ）　Ｆｌ、同じ分子の一部分。

すなわち二官能物質を形成してもよい。好ましい二官能
物質は、エチレン性不飽和モノカルボン酸、特江式Ｖで
表わδ几るエステル基とエポキシド基を含むものである
。そのような二官能物質は、グリシジルアクリレート、
グリシジルメタクリレート及びジーもしくけポリエポキ
シドの理論量より不足する量と不飽和モノカルボン酸の
反応によって製造される物質を包含する。

カチオン重合可能な成分（Ａ−）に対する輻射線硬化性
成分（Ｃ）の重合比は、使用Ｉｎる両方の成分の量が有
効である限り重要ではない、（Ａ）及び（Ｃ）が別の分
子に存在しているきけ、（Ａ）：（Ｃ）の重量比は一般
に１：α１−１０で、特にｊ：１−５の範囲内にある。

使用される重合開始剤（Ｂ）の量も、また化学線への第
１暴露の間に（Ａ）の重合を開始するのに十分な量であ
る限り臨界的ではない、（Ｂ）の典型的な量は（Ａ）１
００部につき（Ｂ）の重量部は１１ないし５０部、特に
α２ないし１０部の範囲内にある。

有機過酸化物もしくはヒドロペルオキシドのｆ［は、成
分（Ａ）の重量のｌ（Ｍ重量％ないし１５重愈チ内で変
更してもよく、一般に使用されるのけα１重量％ないし
１０重重量％量である。

本発明で使用すべき液体組成物は、更に公知の一般に光
重合性物質の技術で使用てれる添加剤を含有してもよい
、そのような添加剤の例は、顔料、染料、充填剤及び補
強剤、ガラス繊維。

炭素繊維及び他の繊維、難燃剤、静電防止剤、均染剤、
酸化防止剤、光安定剤及び表面活性剤である。

適当な化学線源は、炭素アーク、水銀蒸気アーク、紫外
光全放射する燐光螢光ランプ、アルゴン及びキセノング
ロウランプ、タングステンランプ及び写真用ラングを含
有する。第一照射は第二照射で使用でれる波長よりも長
い波長の輻射線を使用することＫよシ実施するというこ
とは重要である。このように単独で、照射の幅広いスペ
クトル源を使用してもよいので、短波長の照射ヲ嘔えぎ
る為にフィルターを用いることは有利であることがわか
る。もしそのような単一輻射線源を使うのなら、第−暴
ｊｌＦｉ短波長の照射が組成物に達することをさまたげ
るフィルターを使用して実施し、成分（Ｂ）のみが重合
−ｇｈる。第二暴露においては、輻射線のフィルターで
遮断されない全のスペクトルを使ってもよいので短波長
の照射により成分（Ｃ）の硬化が行われる。

第一の暴露は１重合開始剤（Ｂ）を活性化するために十
分な長さだけが必要である。通常２〜３分で十分である
。必要とすべき実際の時間は、簡単な実験により容易に
決定することができる。

活性化された開始剤（Ｂ）は、場合によって有機過酸化
物もしくはヒドロペルオキシドの存在下で成分（Ａ）　
？重合させる。いくつかの場合において、開始剤（Ｂ）
として式■で表わキレる化合物を使用したとき、重合を
助けるために、ある程度加熱を必要とする。組成物を成
分（Ａ）　ｔ−重合するために例えば８０℃ないし１２
０℃の温度で加熱してもよい、成分（Ａ）　？重合する
ために必要とされる時間よりも長く加熱する必要はなく
、２〜５分で十分である。実際に必要と石れる温度及び
時間は、簡単な実験により容易に決定することができる
。硬化は、第一回の暴露後、赤外線【暴露することによ
り実施してもよい。

前記のように組成物は、たとえばスチール。

アルミニウム、銅１紙、シリコンもしくけプラスチック
のような基質に液体として適用してもよい、塗布された
後、第一暴露を行い、個々の系に依存して、加熱工程を
開始する。その処理の結果１組成物の固化が起こる。そ
の後、塗布された基質は安定であＩＩ）、（Ｃ）の硬化
に影響する波長の化学線から遮断して長期間貯蔵しても
よい。望んだ時、塗布基質は、第１暴露で使用された波
長と異なった波長の化学線に画像を通して暴露を与える
。第２暴露を受けていない塗布部分はその後、適する溶
媒１例えばシクロヘキサン、２−エトキシエタノール、
ガンマブチロラキトン、トルエン、アセトン、及びそれ
らの混合物で通常洗浄することにより、−またけ配合剤
中の樹脂によっては炭酸ナトリウム希釈水溶液もしくは
水酸化ナトリウムのような水性溶媒で処理することによ
り、除去する。プラズマエツチングのような乾燥現像も
また使ってもよい。このように１本発明の方法は、公知
の技術全便ってプレート印刷及びプリント回路の製造に
使ってもよい。

以下の実施例で本発明を説明する。これらの実施例で用
いた樹脂を下記に示す。： ｅｔ＋ｍ１：　　こｆｔ＃：ｔ４−ブロモフェニルグリ
シジルエーテルを表わす。

樹脂２：　これは以下の方法により製造する。

ビスフェノールＡジグリシジルエーテル（２５０ｐ　）
を１２０℃まで加熱し、アクリル酸（９４９ＪＩ）　、
り＊ムｍトリスオクタノエート（α１６Ｉ；　リグロイ
ン中５チ溶液）及び２．６−ジー第三ブチル−４−メチ
ルフェノール（αＢ）の混合物を攪拌しながら滴下する
。混合物のエポキシド量が無視できるようになるまで、
５時間加熱を続ける。生成物、樹脂２ば２゜２−ビス（
４−（３−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポ
キシ）フェニル）プロパンである。

樹弓旨６：　これはトリメチロールプロパントリスアク
リレートを表わす。

樹脂４：　こればαピネンオキシドを表わす。

べ脂５：　これは３．４−エポキシシクロヘキシルメチ
ル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート
を表わす。

樹脂６：　これば、軟化点９９℃、４．２当量／ゆのエ
ポキシド含量を有するエポキシ化０−クレゾールノボラ
ックを表わす。

樹脂７：　こｒＬは以下の方法により製造する。

１．６当量／に９のエポキシド含量を有するエポｊＰ　
シ樹脂ｆ　ヘースとした２、２−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）プロパン（１００ＩＩ）及ヒ２゜６−ジー第
三ブチル−４−メチルフェノール（α１ｐ）＋溶解する
まで加熱して、攪拌しながら１３０℃まで加熱する。ア
クリル酸（１α７１１）、クロム１１）リスオクタノエ
ート（α１１；リグ２７９５％溶液）及び２．６−ジー
第三ブチル−４−メチルフェノール（ａ、２Ｆ）の混合
物を攪拌しながら３０分間で添加する。混合物のエポキ
シド含量が無視しうるようになるまで加熱は２時間続け
る。これにより樹脂７を得る。

樹脂８：　これはフェニルグリシジルエーテルを表わす
。

樹脂９：　こｆ′Ｌハペンタエリトリトールテトラアク
リレートを表わす。

！、脂１０　：　　こればジブロモクレシルグＩ）　シ
、）ルエーテルを表わす。

樹脂１１：、こｎＦｉＨ下の方法によｔ）Ｍ造する。

１．５−ビス（４−グリシジルオキシフェニル）ペンタ
−１，４−ジエン−３−オン（ｓａＩり、ドデカン酸（
２５，９）及びクロム■トリスオクタノエート（α２Ｆ
１　リグロイン中５％溶液）を溶解するまで１２０℃で
加熱する。攪拌’Ｉｈしめて、混合物のエポキシド含量
が１．６　ｓ　ｍｏｌＡ９−　”になるまで加熱を１２
０℃で２時間続ける。これをフェニルグリシジルエーテ
ル（７５ｇ）で希釈して、樹脂１１を得る。

樹脂１２：　　こｒＬｕ　Ｊ、Ｐｏｌｙｍ、　Ｓｃｉ、
Ｐｏ１５’ｒｒ、　Ｃｈｅｍ。

（１９８３）２１　１７８５で記述している製法に従い
製造さ九る。

４−ブロモフェノール（１７，３，９％α１モル）、粉
末水酸化ナトリウム（６ｇ、１１５モル）及びジメチル
スルホキシド（３０ａ／）の混合物を窒素ブランケット
下で３０分間２５℃に加熱し、続けて温度を７０℃で２
時間加熱する。２−クロロエチルビニルエーテル（１６
１１，α１５モル）全３０分かけて滴下し、その際、温
度が８０℃を越えないようにする０滴下が完了したら、
７０℃で更に４時間攪拌する。その後、こＡ’ｉ冷却し
て、水（１ａｏｍｌ）Ｋ″添加する。沈殿物を真空ろ過
によう収集して真空下４０℃で乾燥きせる。

以下の実施例中で、異なった輻射線源を使用する。： １）５００Ｗタングステンランプ：この光源は４５０ｎ
ｒｒ１以上の輻射線を発する。こ九により短波長の輻射
線は、フィルターにより除く。

■）５０００Ｗ金属ハライドランプ；この光源は主に３
４０−４５０部ｍの波長の輻射線を発する。

■）８０Ｗ／ＣｒＩＬ中圧水銀アークランプ：この光源
は主に２００−４００ｎ？ｎの波長の輻射線を発する。

実施例１：　樹脂１（４，５部）、樹脂５　（ＣＬ５ｇ
（ｉ）ｓ　’ｆｄ脂２　（５部）、　　（ｐｉ’　−２
Ａ−シｐ。

ペンタジェン−１−イル）−１：（１，２，３，４゜５
．６−ｐｉ）−（１−メチル−エチル）−べ／ゼン）　
−鉄（ｎ）へキサフルオロホスフェート（１２５部）、
ベンジル−ジメチルケタール（ａｌｓｆｉ）。

クメンヒドロペルオキシド（α３部）及ヒアセトン（１
５部）の混合物を溶液が得られるまで攪拌する。

その混合物を銅クラツド積層板に３６μｍの４石に塗布
する。その後塗被積層板に５００Ｗタングステン−ハロ
ゲンランプを用いて２ｏｃＩＩＫの距離から１０分間照
射する。その後、凝固被膜に、５ｏｏｏＷ金属ハライド
ランプを用いて７５αの距離で２分間透明画全介して照
射する。

プロピレンカーボネート（５部）、プチルジゴール（＝
ジエチレングリコールモツプチルエーテル）（３ｍ）及
びガンマプチロールアセトン（２部）の混合物中での現
像は、透明のネガ像全製造する。

実施例２：　樹脂５（５部）、樹脂３（５部）、（ｐｌ
−２，４−シクロペンタジェン−１−イル）（ｐｉ−ト
ランススチルベン）鉄ＩＩヘキサフルオロホスフェート
（１２５部）、１−ヒドロキシシクロへキシルフェニル
ケトン（α１部部）。

クメンヒドロペルオキシド（０１部）及びアセトン（（
１５部）の混合物を溶液が得られるまで攪拌する。

その混合物を銅クラツド積層板に３６μｍの厚さに塗布
る。その塗被積層板を、ｓｏｏｗタングステンハロゲン
ランプを用いて２０ｃ！ＩＬの距離からの１０分間照射
する。凝固塗膜にその後、ｓ　ｏ　ｏ　ｏｗ金属ハライ
ドランプを用いて７５ｃｎＬの距離から３分間透明画全
介して照射する。テトラヒドロフラン中での現像により
透明画のネガ像が生じる。

実施例３：　樹脂２（５部）、樹脂４（５部）％（ｐｌ
−２，４−シクロペンタジェン−１−イル）Ｃ（１，２
，３，ａ、５．６−ｐｉ）−（ｊ−メチル−エチル）−
ベンゼン）−？ｌｌヘキサフルオロホスフェート（１２
５部）、ベンジルジメチルケタ７／−ル（α１部部）、
クメンヒドロペルオキシド（Ｃ）、１５部）及びアセト
ン（１５部）の混合物を、溶液が得られるまで攪拌する
。

その混合物を、銅クラツド積層板に５６μｍの厚てで塗
布する。その後塗被積層板を２ａσの距離で８分間、５
ｏｏＷタングステン−ハロゲンランプで照射する。固化
した塗膜を透明画像全通して５０００Ｗ金属ハライドラ
ンプを用いて７５ｃＩｒＬの距離で５分間照射する。テ
トラヒドロフラン中で現像することにより、透明なネガ
像を生じる。

実施ｇＡＪ４：　　樹脂２（６５部）、樹脂４（五５部
）　＊　　（ｐｉ”−２、ａ−シクロペンタジェン−１
−イル）　（（１，２，３，４，５，６−ｐｉ　）−１
−メチル−エチル−ベンゼン）−鉄ＩＩヘキサフルオロ
アンチモネート（Ｃ）、２部）、２−メチル−１−（４
−７１チルチオ）フェニル−２−モルホリノ−プロパン
−１−オン（［１２部）、メチルジェタノールアミン（
１０５部）、クメンヒドロペルオキシド（１１２５部）
及びアセトン（１５部）の混合物全溶液が得られる壕で
攪拌する。

その混合物全銅クラツド積層板１１Ｃ５６μｍの厚きで
塗布する。その後、塗被積層板に５００Ｗのタングステ
ン−ハロゲンランプを用いて２〇−の距離から５分間照
射する。凝固被膜に５０００Ｗ金属ハライドランプを用
ｒて７５ｃｎＬの距離で５分閲透明画を介して照射する
。テトラヒドロフラン中で、こすりながら現像すると、
透明なネガ像を生じる。

実施例５：　樹脂５（五５部）、樹脂２（６，５部）、
ジフェオルヨードニウムへキサフルオロアルセネー）（
０，２部）、アクリジンオレンジ（０，０２部）　、ヘ
ンシルジメチルケタール（１２部）及びアセトン（１５
部）の混合物を溶液が得ら′ｒＬりまで攪拌する。

その混合物全銅クラツド積層板ＶＣ５６μｍの厚さで塗
布する。その後塗被積層板に５００Ｗのタングステンー
ハロゲンランプヲ用いて２０αの距離から３分間照射す
る。凝固被膜に５０００Ｗ金属ハロゲンランプを用いて
７５ｃ７ｎの距離で５分間透明画を界して照射する。テ
トラヒドロフラン中で、こすりながら現像すると透明な
ネガ像を生じる。

実施例６：　樹脂５（１，２５部）、樹脂２（７，５部
）、樹脂４　（１，２５部）、（ｐｉ−シクハヘキサジ
エニル）トリカルボニル鉄■ヘキサフルオロアルセネー
ト（１２部）、ベンジルジメチルケタール（ｃＬ２部）
及びアセトン（α５部）を溶液が得られるまで攪拌する
。

その混合物を銅クラツド積層板に３６μｍの厚さで塗布
する。その後塗被積層板に５００Ｗのタングステン−ハ
ロゲンランプを用いて２０ｃ！ｒＬの距離から２０分間
照射する。凝固被膜にｓｏｏｏｗ金属ハロゲンランプを
用いて７５ｃｒｒＬの距離で５分間透明画を界して照射
する。テトラヒドロフラン中で、こすジながら現像する
と透明なネガ像全生じる。

実施例７：　樹脂５　（１，２５部）、樹脂２（７，５
部）、樹脂４　（１２５部）、２．５−ジェトキシ−４
−（ｐ−）リルチオ）ベンゼンジアゾニウムテトラフル
オロボレー）　（（１２部）、ベンジルジメチルケター
ル（１２部）　、メルク（１部）及びアセトン（Ｃｌ３
部）を均一になるまで攪拌する。

その混合物全銅クラツド積層板に１２μｍの厚さで塗布
する。その後、塗被積層板に５００Ｗのタングステン−
ハロゲンランプを用いて２０αの距離から１５分間照射
する。凝固被膜に５０００Ｗ金属ハライドランプを用い
て７５（ｍの距離で５分間透明画を介して照射する。ア
セトン中で、現像すると、透明なネガ像を生じる。

実施例８：　樹脂５　（６，５部）、樹脂６（５部）。

（ｐｉ’−２，４−シクロペンタジェン−１−イル）（
（１，２，３，４，５，６−ｐｉ）−（１−メチル−エ
チル）−ベンゼン：＋　−鉄■ヘキサフルオロホスフェ
ート（（１３５部）、トリフェニルスルホニウムへキサ
フルオロアンチモネート（Ｃｌ２５部）及びプロピレン
カーボネート（（１２５部）の混合物を溶液が得られる
まで攪拌する。

その混合物金銅クラッド積層板に２４　μｍの厚？で塗
布する。その後％塗被積層板に５ＯＯＷのタングステン
−ハロゲンランプ金層いて実施例で記載したようにして
５分間照射する。凝固被膜にｓｏｏｏｗ金属ハライドラ
ンプを用いて７５ｃ！ＩＬの距離で３分間透明画を介し
て照射する。

トルエン中で、隠やかにこすりながら現像すると、透明
なネガ像全生じる。

実施例９：　樹脂１（４部）、樹脂２（６部）、ｐ−ク
ロロフェノキシ−ｐ−トリルフェノキシスルホキソニウ
ムへキサフルオロホスフェート（Ｃｌ３部）％　ビス（
ｐｉ−メチルシクロペンタジェニル）ビス（シグマヘキ
サンオキシテトラフルオロフェニル）チタニウム（ＩＶ
）（（Ｌ　１　ｍ　＞及Ｕプロピレンカーボネート（Ｉ
ｌｌＬ１部）の混合物を溶液が得られるまで攪拌する。

その混合物金銅クラッド積層板に２４μｍの浮式で塗布
する。その後、被膜層に８０　Ｗ／ａｎの中圧水銀アー
クランプを用いて２０ｃｒＩＬの距離から２０秒間照射
する。凝固被膜にｓ　ｏ　Ｏ［＋Ｗ金属ハライドランプ
を用いて７５ｃＷＬの距離で３分間透明画を介して照射
する。トルエン：アセトンの２　：　１Ｖ／Ｖ混合物中
で隠やかＫこすりながら現像すると透明なネガ像を生じ
る。

実施例１０：　　樹脂２（５部）、樹脂４（５部）。

ビス（ｐｉ−メチルシクロペンタジェニル）ビス（シグ
マへキサ／オキシテトラフルオロフェニル）チタニウム
（ＩＶ）（１１部）、トリフェニルスルホニウムへキサ
フルオロアンチモネート（（Ｌ２５部）及びプロピレン
カーボネート（１２５部）の混合物を溶液が得られるま
で攪拌する。

その混合物金銅クラッド積層板に２４　ｐｒｎの厚さで
塗布する。その後、被膜層に８０Ｗ／ｃＩＩＬ中圧水銀
アークランプを用いて２０Ｃ！ｒＬの距離から６０秒間
照射する。凝固被膜に５０　ａ　ｏＷ金属Ｉ・ライドラ
ンプを用いて７５ｃｎＬの距離で３分間透明画を介して
照射する。エタノール中で隠やかにこすりながら現像す
ると、透明なネガ像全生じる。

実施例１１：　　樹脂１（５部）、樹脂７（５部）、（
ｐｉ’−２，４−シクロペンタジェン−１−イル）　（
（１，２，５，４，５，６−ｐｉ　）−（１−メチル−
エチル）−ベンゼン）−鉄ｎヘキサフルオロホスフェー
ト（１５部）、ベンジルジメチルケタール（α５部）及
びアセトン（１部）を溶液が得られるまで攪拌する。

その混合物を銅クラツド積層板に１２μｍの４嘔で塗布
する。その後、被膜層に４５ＱｎｍＬＪ下の照射を遮る
ためのフィルター全備工た５００Ｗのタングステン−ハ
ロゲンランプを使用して２０αの距離で１０分間照射し
、そして９０℃で５分間加熱すると非粘着性のフィルム
全得る。

凝固被膜に波長範囲が３４０−４５０　ｎｍ以内の輻射
線全製造する５０００Ｗ金属ハライドランプ全用いて７
５工の距離で２分間透明画を介して照射する。プロピレ
ンカーボネート中で現像すると透明なネガ像を生じる。

実施例１２：　　樹脂１（２部）、樹脂５（４部）。

樹脂２（４部）、（ｐｌ５−２．４−シクロペンタジェ
ン−１−イル）　Ｃ（１，２，ｓ、４．ｓ、６−ｐｉ）
−（１−メチルエチル）−ベンゼン〕鉄■ヘキサフルオ
ロホスフェート（１１１６部）、ヘンシルジメチルケタ
ール（０，４部）及びアセトン（α５部）を溶液が得ら
れるまで々拌する。

その混合物金銅クラクド積暦板に１２μｍの４場で塗布
し、核被膜を５００Ｗタングステン−ハロゲンランプを
使用して２０ｃＩｒＬの距離で３分間照射し続けて９０
℃で３分間加熱することによ！１１凝固させる。凝固被
膜に５０００Ｗ金属ハライドランプを使用して７５備の
距離で２分間透明画を介して照射する。１，１．１−ト
リクロロエタン中で現像すること圧よｐ透明なネガを生
じる。

実施例１３：　　樹脂５（５部）、樹脂２（２部）。

樹脂３（１０部）、（ｐｉ’−２，ａ−シクロペンタジ
ェン−１−イル）　（：　（１，２，３，４，５，６−
ｐｉ）（１−メチルエチル）−ベンゼンツー鉄ｌｌヘキ
サフルオロホスフェート（Ｃｌ５部）、ベンジルジメチ
ルケタール（Ｃｌ３部）オラゾールレッドＧ（１０４部
）及びアセトン（Ｃｌ３部）の混合物全溶液が得ら？Ｌ
るまで攪拌する。

その混合物を銅クラツド積層板に３６μｍの厚でで塗布
し、該被膜を５００Ｗタングステン−ハロゲンランプ全
使用して２０ｃｒＩＬの距離で３０秒間照射し、続けて
９０℃で５分間加熱することにより凝固させる。凝固被
膜に５０００Ｗ金属ハライドランプを使用して７５αの
距離で３０秒間透明両全介して照射する。プロピレンカ
ーブネート中で現像することにより透明なネガを生じる
。

実施例１４：　　樹脂２（７部）、樹脂８（３部）、（
ｐｉ−２，４−シクロペンタジェン−１−イル）（（１
，２，３，４，ｓ、６−　ｐｉ　）−（１−メチルエチ
ル）−ベンゼンクー鉄■ヘキサフルオロホスフェート（
αＳＳ＞　、ベンジルジメチルケタール（０３部）及び
アセトン（１部）の混合物を溶液が得られるまで攪拌す
る。

その混合物を銅クラツド積層板に１２μｍの厚でで塗布
し、該被膜を５００Ｗタングステン−ランプを用いて２
０ｃ！！Ｌの距離で３００秒間照射し、続けて９０℃で
５分間加熱することにより凝固させる。その後凝固被膜
は、ｓｏｏｏｗ金属ハライドランプを使用して７５αの
距離で１２０秒間透明画を介して照射する。トルエンと
テトラヒドロフランの８：２■■の混合物中で現像して
透明なネガ像を生じる。

実施例１５：　　樹脂５（）部）、樹脂４（１部）、樹
脂９（１部）、（ｐｌ　−２，４−シクロペンタジェン
−１−イル）（（１，２，３，４，５，６−ｐｉ）−（
１−メチルエチル）−ベンゼン〕〜鉄■ヘキサフルオロ
ホスフェ−）（ｃＬｌｍ）、ベンジルジメチルケタール
（１１部）、アントラセン（Ｃｌ０５部）及びアセトン
（Ｃｌ３部）を均質々混合物が得られるまで攪拌する。

その混合物全銅クラツド積層板に１２μｍの厚てで塗布
し、被膜２ｓ　ｏ　ｏｗタングステン−ハロゲンランプ
を使用して、２０ＣｒｒＬの距離で５分間照射し、続け
て９０℃で５分間加熱することにより凝固式せる。その
後、凝固被膜は、ｓ　ｏ　ｏ　ｏＷ金屑ハライドランプ
全使用して７５ｃ１ｎの距離で２分間透明画を通して照
射する。エタノールとアセトン６　：　４　Ｖ／Ｖの混
合物中で現像して透明なネガ像を生じる。

実施例１６：　　樹脂５（５部）、樹脂２（５部）、（
ＰＩ−２，４−シクロペンタジェン−１−イル）　（（
１，２，３，４，５，６−ｐｉ）−（１−メチルエチル
）−ベンゼン）−鉄ＩＩヘキサフルオロホスフェート（
１５部）、２−メチル−１−（メチルチオ）フェニル−
２−モルポリノブロバ７−　ｔ　−オｙ　（Ｃ）、５Ｎ
　）及びアセトン（１部）の混合物を溶液が得られるま
で攪拌する。

その混合物を銅クラツド積層板に１２μｍの原爆で塗布
し、該被膜を５００Ｗタングステン−ハロゲンランプ全
使用して２０ｃ７！Ｌの距離で３分間照射し、続けて９
０°Ｃで５分間加熱することにより凝固させる。凝固被
膜に５０００Ｗ金属ハライドランプを使用して７５αの
距離で２分間透明画を介して照射する。１，１．ｊ−）
リクロロエタン及びアセトンの混合物中で現像すること
により透明なネガ音生じる。

実施例１７：　　樹脂２（６部）、樹脂１０（４部）。

（ｐｌ−２，４−シクロペンタジェン−１−イル）（（
１，２，３，４，ｓ、６−ｐｔ）−（１−メチルエチル
）−ベンゼンシー鉄■ヘキサフルオロホスフェート（（
Ｌ５部）、ベンジルジメチルケタール（（１，５部）及
びアセトン（１部）の混合物を溶液が得られるまで攪拌
する。

その混合物を銅クラツド積層板に３６μｍの４嘔で塗布
し、該被膜を５００Ｗタングステン−ハロゲンランプを
使用して２０ｃ！ＩＬの距離で１０分間照射し、続けて
１２０℃で５分間加熱することにより凝固させる。凝固
被膜にｓ　ｏ　ｏ　ｏＷ金属ハライドランプを使用して
７５（ｍの距離で２分間透明画を介して照射する。プロ
ピレンカーボネート（５部）、ブチルジゴール（５部）
及びガンマブチロラクトン（２部）の混合物中で現像す
ると透明なネガ像を生じる。

実施例１８二　樹脂１（５部）、＃Ｂ脂２（５部）。

（ｐＨ−２，４−シクロペンタジェニル）　（ｐｉ’−
トランススチルベン）鉄■ヘキサフルオロホスフェート
（Ｃ）、５部）％ベンジルジメチルケタール（（Ｌ５部
）及びアセトン（１部）の混合物全溶液が得られるまで
攪拌する。

その混合物を銅クラツド積層板に５６　ｐｍの厚さで塗
布する。塗被積層板を４５０部ｍ以下の輻射線を遮るた
めのフィルターを備えたｓ、ｏｏＷタングステン−ハロ
ゲンランプを使用して２゜薗の距離で１０分間照射し、
次いで１０分間加熱すると非粘着性のフィルムを得る。

その後。

３４０−４５０部ｍの波長内の輻射線全製造する５００
０Ｗ金属ハライドランプを用いて凝固被膜に７５ｃ！ｎ
の距離で２分間照射する。プロピレンカーボネート（５
部）、ブチルジゴール（３部）及びガンマブチロラクト
ン（２部）の混合物中で現像することにより透明なネガ
像？生じる。

実施例１９：　　樹脂ｊｊ（２，４部）、（ｐｉ５−２
゜４−シクロペンタジェニル−１−イル）（（１゜２．
３，４．ｓ、６−ｐｉ）−（１−メチルエチル）−ベン
ゼン：＋−鉄ｎヘキサフルオロホスフェート（０１２５
部）の混合物を均質になるまで混合する。

その混合物金銅クラッド積層板に３６　ｐｍの厚ぢで塗
布し、該被膜を５００Ｗタングステン−ハロゲンランプ
を使用して２０１１ｍの距離で１０分間照射し続けて１
２０℃で５分間加熱することによ！７凝固させる。凝固
被膜に５０００Ｗ金属ノ・ライドランプを使用して７５
ａの距離で５分間透明画全介して照射する。こｎ、全そ
の後９０℃で５分間加熱し１次いで１，１．ｊ−）＋７
クロロエタン中で現像すると、透明なネガ９を得る。

実施例２０：　　樹脂２（１５部）、樹脂１１（α５部
）、樹脂１２（２，０部）、（（ｐｉ５−２．４−シク
ロペンタジェン−１−イル）（１，２，３゜４．５．６
−ｐｉ　）−（１−メチルエチル）−ベンゼン）−鉄ｎ
ヘキサフルオロホスフェート（（１２５部）、ベンジル
ジメチルケタール（ｃＬ０８部）及びアセトン（０，２
５部）の混合物を溶液が得られるまで攪拌する。

その混合物金銅クラッド積層板に３６μｍの厚きで塗布
し、該被膜を５００Ｗタングステン−ハロゲンランプを
使用して２ｏｃ１１Ｌの距離で８分間照射し続けて１２
０℃で１０分間加熱することにより凝固させる。凝固被
膜にｓ　ｏ　ｏ　ｏｗ金属ハライドランプを使用して７
５傭の距離で２分間透明画を介して照射する。プロピレ
ンカーボネート（５部）、プチルジゴール（３部）及び
ガンマブチロラクトン（２部）の混合物中で現像するこ
とにより透明なネガ像音生じる。

特　許　出　願　人　　　チバーガイギーアクチェンゲ
ゼルシャフト

Claims (17)

【特許請求の範囲】
1. （１）（ｉ）（Ａ）カチオン重合可能な成分と、（Ｂ）
   （Ａ）のための輻射線活性化重合開始剤と、（Ｃ）（Ａ
   ）と異なる輻射線硬化性成分と、及び所望により （Ｄ）（Ｃ）の硬化のための輻射線活性化開始剤よりな
   る液体組成物の層を基体に塗布す ること、 （ｉｉ）該組成物を、開始剤（Ｂ）は活性化されるが成
   分（Ｃ）及び／または開始剤（Ｄ）は実質的に活性化さ
   れない波長を有する化学線に暴露し、必要であれば続け
   て（Ａ）を重合して、液体組成物の層を凝固させるが、
   光硬化性は残存 させるように加熱すること、 （ｉｉｉ）該凝固層を所定のパターンで、段階（ｉｉ）
   で使用した輻射線と異なる波長を有し、かつ 輻射線硬化性成分（Ｃ）及び／または開始剤（Ｄ）が活
   性化される波長を有する化学線に、暴 露面においては（Ｃ）が実質的に硬化されるように暴露
   すること、そして （ｉｖ）実質的に硬化されなかった凝固層の部分を除去
   することからなることを特徴とする 画像形成方法。
2. （２）液体組成物が重合開始剤（Ｂ）を活性化するため
   に使用される波長よりも更に短波長でのみ化学線に暴露
   することにより重合される一個もしくはそれ以上の物質
   と共に、カチオン重合される一個もしくはそれ以上の物
   質からなることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載
   の方法。
3. （３）液体組成物が同一分子中に二種の光重合機能を有
   している一個もしくはそれ以上の二官能物質からなり、
   そのうちの一方は重合開始剤（Ｂ）が活性化される波長
   と異なる波長で照射されることに限り活性化される機能
   であることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の方
   法。
4. （４）成分（Ａ）が１，２−エポキシド、ビニルエーテ
   ルもしくはそれらの混合物である特許請求の範囲第１項
   記載の方法。
5. （５）成分（Ａ）がアルコールもしくはフェノールのグ
   リシジルエーテル、脂環式エポキシド樹脂、グリシジル
   エステルもしくはフェノールのビニルオキシアルキルエ
   ーテルである特許請求の範囲第４項記載の方法。
6. （６）重合開始剤（Ｂ）が少なくとも一種の次式（ I
   ）：Ｒ＾■＾ａ＾ｎａｎ／ｑ〔ＬＱ＿ｍ〕＾■＾ｑ（
   I ）〔式中、 Ｌは２価ないし７価の金属もしくは非金 属を表わし、 Ｑはハロゲン原子を表わすか、もしくは Ｑのひとつはヒドロキシル基を表わしても よく、 ｑは１ないし３の整数を表わし、 ｍはＬ＋ｑの価数に相当する整数を表わ し、 ａは１もしくは２を表わし、 ｎは１ないし３の整数を表わし、並びに Ｒは、次式： （ｉ）Ａｒ−Ｉ＾＋−Ａｒ′ （式中、Ａｒ及びＡｒ′は置換もしくは未置換の芳香族
   基を表わす。）で表わされる基； 次式： （ｉｉ）〔Ｙ−Ｚ−（ＣＯ）＿ｘ〕＾＋ （式中、Ｙはアレーンもしくはジエニリウム基を表わし
   、Ｚはチタン、バナジウム、ク ロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、ニオブ
   、モリブデン、ルテニウム、ロ ジウム、パラジウム、銀、タンタル、タン グステン、レニウム、オスミウム、イリジ ウム、白金及び金から選択されるｄ−ブロ ックの遷移元素の原子を表わし、並びにＸ は、Ｚ原子が閉殻電子配置であるような正 の整数を表わす。）で表わされる基； （ｉｉｉ）芳香族ジアゾニウムイオン； （ｉｖ）〔（Ｒ＾１）（Ｒ＾２Ｍ）＿ａ〕＾＋＾ａ＾ｎ
   （式中、ａ及びｎは上記で定義した意味を表わし、Ｍは
   周期表の第IVｂないしVIIｂ族、 第VIII族もしくは第 I ｂ族からの１価ないし ３価の金属のカチオンを表わし、Ｒ＾１はπ−アレーン
   を表わし、並びにＲ＾２はπ−アレーンもしくはπ−ア
   レーンのアニオンを表わ す。）で表わされる基； （ｖ）芳香族スルホニウム；または （ｖｉ）芳香族スルホキソニウムイオン から選択されたイオンを表わす。〕で表わ される化合物であることを特徴とする特許 請求の範囲第１項記載の方法。
7. （７）重合開始剤（Ｂ）のカチオンＲ＾■＾ａ＾ｎが特
   許請求の範囲第６項で定義した式（ｉｖ）であることを
   特徴とする特許請求の範囲第６項記載の方法。
8. （８）該組成物が更に有機過酸化物もしくはヒドロペル
   オキシドまたはキノンを包含することを特徴とする特許
   請求の範囲第７項記載の方法。
9. （９）第一の照射後は、成分（Ａ）を重合するために続
   けて加熱することを特徴とする特許請求の範囲第７項記
   載の方法。
10. （１０）Ｍがクロム、コバルト、マンガン、タングステ
    ン、モリブデンもしくは鉄のカチオンを表わし、並びに
    イオン〔ＬＱ＿ｍ〕＾−＾ｑは、ＢＦ＿４＾−、ＰＦ＿
    ６＾−、ＡｓＦ＿６＾−、ＳｂＦ＿６＾−、ＳｂＦ＿５
    （ＯＨ）＾−、ＦｅＣｌ＿４＾−、ＳｎＣｌ＿６＾−、
    ＳｂＣｌ＿８＾−およびＢｉＣｌ＿６＾−から選択され
    ることを特徴とする特許請求の範囲第７項記載の方法。
11. （１１）硬化性成分（Ｃ）がアジド基、クマリン基、ス
    チルベン基、マレイミド基、ピリジノン基、カルコン基
    、プロペノン基、ペンタジエノン基、アントラセン基ま
    たはα，β−不飽和基と共役する芳香族性もしくはエチ
    レン性不飽和基を有するα，β−エチレン性不飽和エス
    テル基を少なくとも２個有する物質であるか、あるいは
    成分（Ａ）で定義したようなカチオン性の重合可能な成
    分であることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
    方法。
12. （１２）硬化性成分（Ｃ）が次式VII： ＣＨ＿２＝ＣＲ＾３−ＣＯＯ−（VII） （式中、 Ｒ＾３は水素原子、塩素原子、メチル基もしくはエチル
    基を表わす。）で表わされる基 を少なくとも２個含有するアクリルエステ ルであることを特徴とする特許請求の範囲 第１１項記載の方法。
13. （１３）成分（Ｃ）が１，２−エポキシドである特許請
    求の範囲第１１項記載の方法。
14. （１４）開始剤（Ｄ）がベンゾインエーテル、アシロイ
    ンエーテル、ハロゲン化アルキルもしくはアリール誘導
    体、芳香族カルボニル誘導体、メタロセン、光還元可能
    な染料と第IVＡ族の金属の有機金属化合物との混合物、
    キノンと、脂肪族α炭素原子に結合した水素原子を有す
    る脂肪族アミンとの混合物、所望によりアミンと混合し
    た脂肪族ジカルボニル化合物、３−ケトクマリン、アシ
    ル−ホスフィンオキシド、金属カルボニル、オニウム塩
    、または還元剤と光還元可能な染料との混合物からなる
    群から選択されることを特徴とする特許請求の範囲第１
    項記載の方法。
15. （１５）カチオン重合可能な成分（Ａ）に対する輻射線
    硬化性成分（Ｃ）の比は１：０．１−１０の範囲内にあ
    り、かつ重合可能な成分（Ａ）１００重量部当り０．１
    ないし５０重量部の開始剤（Ｂ）が存在することを特徴
    とする特許請求の範囲第１項記載の方法。
16. （１６）（Ａ）カチオン重合可能な成分、 （Ｂ）１つの波長での照射により活性化される輻射線活
    性化重合可能な開始剤（Ｂ）、 （Ｃ）（Ａ）と異なる輻射線硬化性成分及び所望により （Ｄ）（Ｃ）の硬化のための輻射線活性化開始剤；から
    なり、輻射線硬化性成分（Ｃ）及び存在する場合、開始
    剤（Ｄ）は、開始剤（Ｂ）を活性化する波長と異なる波
    長での照射により活性化されることを特徴とする、組成
    物であって、 （ｉ）該液体組成物の層を基体に塗布すること、（ｉｉ
    ）該組成物を、開始剤（Ｂ）は活性化されるが成分（Ｃ
    ）及び／または開始剤（Ｄ）は実質的に活性化されない
    波長を有する化学線に暴露し、必要であれば続けて（Ａ
    ）を重合して、液体組成物の層を凝固させるが、光硬化
    性は残存 させるように加熱すること、 （ｉｉｉ）該凝固層を所定のパターンで、段階（ｉｉ）
    で使用した輻射線と異なる波長を有し、かつ 輻射線硬化性成分（Ｃ）及び／または開始剤（Ｄ）が活
    性化される波長を有する化学線に、暴 露面においては（Ｃ）が実質的に硬化されるように暴露
    すること、そして （ｉｖ）実質的に硬化されなかった凝固層の面を除去す
    る画像形成方法で使用するために適 する組成物。
17. （１７）（Ａ）脂環式エポキシド、 （Ｂ）アニオンがＢＦ＿４＾−もしくはＰＦ＿６＾−で
    ある、［（Ｒ＾１）（Ｒ＾２Ｍ）ａ］＾＋＾ａ＾ｎ（式
    中、ａは１もしくは２を表わし、ｎは１ないし３の整数
    を表わし、Ｍは周期表の第 IVｂないしVIIｂ族、第VIII族もしくは第 I ｂ族からの
    １価ないし多価のカチオンを表わし、 Ｒ＾１はπ−アレーンを表わし、Ｒ＾２はπ−アレーン
    もしくはπ−アレーンのアニオンを表 わす。）で表わされるような塩、 （Ｃ）ブリシジルエーテル及び （Ｄ）オニウム塩 からなることを特徴とする特許請求の範囲第１６項記載
    の組成物。