JPS6258241A - 感光性組成物 - Google Patents
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 53
- -1 s- triazine compound Chemical class 0.000 claims abstract description 58
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 11
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 16
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 claims description 6
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 46
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 abstract description 43
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 abstract description 11
- 238000006303 photolysis reaction Methods 0.000 abstract description 8
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 abstract description 4
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 abstract description 4
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 230000015843 photosynthesis, light reaction Effects 0.000 abstract description 3
- 125000006615 aromatic heterocyclic group Chemical group 0.000 abstract 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 35
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 28
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 20
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 14
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 13
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 13
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 12
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 9
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 9
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 8
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 7
- 238000011161 development Methods 0.000 description 7
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 7
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 7
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 7
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- 150000008049 diazo compounds Chemical class 0.000 description 6
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 6
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 6
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 5
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 5
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C=C INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 4
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FLKPEMZONWLCSK-UHFFFAOYSA-N diethyl phthalate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC FLKPEMZONWLCSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 229920006158 high molecular weight polymer Polymers 0.000 description 4
- OKJPEAGHQZHRQV-UHFFFAOYSA-N iodoform Chemical compound IC(I)I OKJPEAGHQZHRQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 4
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 4
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 4
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 4
- HJUGFYREWKUQJT-UHFFFAOYSA-N tetrabromomethane Chemical compound BrC(Br)(Br)Br HJUGFYREWKUQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 3
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 3
- IVRMZWNICZWHMI-UHFFFAOYSA-N azide group Chemical group [N-]=[N+]=[N-] IVRMZWNICZWHMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical class C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 3
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 3
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 3
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 3
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 3
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,7,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C=CC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N 0.000 description 2
- QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M (4z)-1-(3-methylbutyl)-4-[[1-(3-methylbutyl)quinolin-1-ium-4-yl]methylidene]quinoline;iodide Chemical compound [I-].C12=CC=CC=C2N(CCC(C)C)C=CC1=CC1=CC=[N+](CCC(C)C)C2=CC=CC=C12 QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- AIGNCQCMONAWOL-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoselenazole Chemical compound C1=CC=C2[se]C=NC2=C1 AIGNCQCMONAWOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2OC=NC2=C1 BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RUFPHBVGCFYCNW-UHFFFAOYSA-N 1-naphthylamine Chemical compound C1=CC=C2C(N)=CC=CC2=C1 RUFPHBVGCFYCNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DVZCOQQFPCMIPO-UHFFFAOYSA-N 2-Methoxyxanthone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(OC)=CC=C3OC2=C1 DVZCOQQFPCMIPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)C=C HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CWBAMDVCIHSKNW-UHFFFAOYSA-N 2-iminonaphthalene-1,4-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(=N)CC(=O)C2=C1 CWBAMDVCIHSKNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 2-naphthol Chemical compound C1=CC=CC2=CC(O)=CC=C21 JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JVUBQICKOVCBNM-UHFFFAOYSA-N 4-(2-phenylethynyl)benzonitrile Chemical group C1=CC(C#N)=CC=C1C#CC1=CC=CC=C1 JVUBQICKOVCBNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRFVTYWOQMYALW-UHFFFAOYSA-N 9H-xanthine Chemical compound O=C1NC(=O)NC2=C1NC=N2 LRFVTYWOQMYALW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N Acetaldehyde Chemical compound CC=O IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UZTIYKPHLLHOJU-UHFFFAOYSA-N Br.Br.C1=CC(C#N)=CC=C1C=CC1=CC=CC=C1 Chemical compound Br.Br.C1=CC(C#N)=CC=C1C=CC1=CC=CC=C1 UZTIYKPHLLHOJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N D-glucitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIQCNGHVCWTJSM-UHFFFAOYSA-N Dimethyl phthalate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OC NIQCNGHVCWTJSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAZWDJGLIYNYMU-UHFFFAOYSA-N Leucocrystal Violet Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(C)C)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 OAZWDJGLIYNYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1 JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930192627 Naphthoquinone Natural products 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 2
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 2
- JPIYZTWMUGTEHX-UHFFFAOYSA-N auramine O free base Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=N)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 JPIYZTWMUGTEHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 2
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 2
- ZXJXZNDDNMQXFV-UHFFFAOYSA-M crystal violet Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1[C+](C=1C=CC(=CC=1)N(C)C)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 ZXJXZNDDNMQXFV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 2
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N dibutyl phthalate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N diphenylamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC1=CC=CC=C1 DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000852 hydrogen donor Substances 0.000 description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 2
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 2
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SHXOKQKTZJXHHR-UHFFFAOYSA-N n,n-diethyl-5-iminobenzo[a]phenoxazin-9-amine;hydrochloride Chemical compound [Cl-].C1=CC=C2C3=NC4=CC=C(N(CC)CC)C=C4OC3=CC(=[NH2+])C2=C1 SHXOKQKTZJXHHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 2
- 150000002791 naphthoquinones Chemical class 0.000 description 2
- LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1 LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 2
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 2
- RZXMPPFPUUCRFN-UHFFFAOYSA-N p-toluidine Chemical compound CC1=CC=C(N)C=C1 RZXMPPFPUUCRFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KJFMBFZCATUALV-UHFFFAOYSA-N phenolphthalein Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1(C=2C=CC(O)=CC=2)C2=CC=CC=C2C(=O)O1 KJFMBFZCATUALV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 2
- 239000000906 photoactive agent Substances 0.000 description 2
- 238000011907 photodimerization Methods 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 2
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N rhodamine B Chemical compound [Cl-].C=12C=CC(=[N+](CC)CC)C=C2OC2=CC(N(CC)CC)=CC=C2C=1C1=CC=CC=C1C(O)=O PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001488 sodium phosphate Substances 0.000 description 2
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003866 trichloromethyl group Chemical group ClC(Cl)(Cl)* 0.000 description 2
- XZZNDPSIHUTMOC-UHFFFAOYSA-N triphenyl phosphate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(OC=1C=CC=CC=1)(=O)OC1=CC=CC=C1 XZZNDPSIHUTMOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- JNELGWHKGNBSMD-UHFFFAOYSA-N xanthone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3OC2=C1 JNELGWHKGNBSMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LNAZSHAWQACDHT-XIYTZBAFSA-N (2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-dimethoxy-2-(methoxymethyl)-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-trimethoxy-6-(methoxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6r)-4,5,6-trimethoxy-2-(methoxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxane Chemical compound CO[C@@H]1[C@@H](OC)[C@H](OC)[C@@H](COC)O[C@H]1O[C@H]1[C@H](OC)[C@@H](OC)[C@H](O[C@H]2[C@@H]([C@@H](OC)[C@H](OC)O[C@@H]2COC)OC)O[C@@H]1COC LNAZSHAWQACDHT-XIYTZBAFSA-N 0.000 description 1
- OAKFFVBGTSPYEG-UHFFFAOYSA-N (4-prop-2-enoyloxycyclohexyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCC(OC(=O)C=C)CC1 OAKFFVBGTSPYEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VDYWHVQKENANGY-UHFFFAOYSA-N 1,3-Butyleneglycol dimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)CCOC(=O)C(C)=C VDYWHVQKENANGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FSAONUPVUVBQHL-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(4-azidophenyl)prop-2-en-1-one Chemical compound C1=CC(N=[N+]=[N-])=CC=C1C=CC(=O)C1=CC=C(N=[N+]=[N-])C=C1 FSAONUPVUVBQHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDCYWAQPCXBPJA-UHFFFAOYSA-N 1,3-dinitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC([N+]([O-])=O)=C1 WDCYWAQPCXBPJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QJZZHNDRXWSQMZ-UHFFFAOYSA-N 1,3-diphenyl-2,4-dihydrotriazine Chemical compound C1C=CN(C=2C=CC=CC=2)NN1C1=CC=CC=C1 QJZZHNDRXWSQMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODIRBFFBCSTPTO-UHFFFAOYSA-N 1,3-selenazole Chemical compound C1=C[se]C=N1 ODIRBFFBCSTPTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UOFGSWVZMUXXIY-UHFFFAOYSA-N 1,5-Diphenyl-3-thiocarbazone Chemical compound C=1C=CC=CC=1N=NC(=S)NNC1=CC=CC=C1 UOFGSWVZMUXXIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PEPPWTSJNYVLAU-UHFFFAOYSA-N 1,5-bis[4-(dimethylamino)phenyl]-2,4-diphenylpenta-1,4-dien-3-one Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C=C(C=1C=CC=CC=1)C(=O)C(C=1C=CC=CC=1)=CC1=CC=C(N(C)C)C=C1 PEPPWTSJNYVLAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTTBWXAPRWIJHV-UHFFFAOYSA-N 1-(4-azidophenyl)-3-(4-nitrophenyl)prop-2-en-1-one Chemical compound C1=CC([N+](=O)[O-])=CC=C1C=CC(=O)C1=CC=C(N=[N+]=[N-])C=C1 UTTBWXAPRWIJHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSHCHXDUHUNQGW-UHFFFAOYSA-N 1-(4-azidophenyl)-3-(furan-2-yl)prop-2-en-1-one Chemical compound C1=CC(N=[N+]=[N-])=CC=C1C(=O)C=CC1=CC=CO1 BSHCHXDUHUNQGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYKLIKUNWVSWSU-UHFFFAOYSA-N 1-(4-azidophenyl)-5-(4-methoxyphenyl)penta-1,4-dien-3-one Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C=CC(=O)C=CC1=CC=C(N=[N+]=[N-])C=C1 SYKLIKUNWVSWSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHCQLHOGNILZAE-UHFFFAOYSA-N 1-(4-diazonioiminocyclohexa-2,5-dien-1-ylidene)-3-[4-[3-(4-diazonioiminocyclohexa-2,5-dien-1-ylidene)-1-oxidoprop-1-enyl]phenoxy]propan-1-olate Chemical compound C1=CC(=N[N+]#N)C=CC1=C([O-])CCOC(C=C1)=CC=C1C([O-])=CC=C1C=CC(=N[N+]#N)C=C1 VHCQLHOGNILZAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FCVUYHQKKWKAGT-UHFFFAOYSA-N 1-(4-diazonioiminocyclohexa-2,5-dien-1-ylidene)-3-naphthalen-1-ylprop-2-en-1-olate Chemical compound C1=CC(N=[N+]=[N-])=CC=C1C(=O)C=CC1=CC=CC2=CC=CC=C12 FCVUYHQKKWKAGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CRGSUAQLKYRWDA-UHFFFAOYSA-N 1-[4-(dimethylamino)phenyl]-3-(4-methylphenyl)prop-2-en-1-one Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C=CC1=CC=C(C)C=C1 CRGSUAQLKYRWDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001637 1-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C(*)=C([H])C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 10H-phenothiazine Chemical compound C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3SC2=C1 WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFNKZQNIXUFLBC-UHFFFAOYSA-N 2',7'-dichlorofluorescein Chemical compound O1C(=O)C2=CC=CC=C2C21C1=CC(Cl)=C(O)C=C1OC1=C2C=C(Cl)C(O)=C1 VFNKZQNIXUFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHTZQYDVDPHTAM-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-tribromo-1-phenylethanone Chemical compound BrC(Br)(Br)C(=O)C1=CC=CC=C1 WHTZQYDVDPHTAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSZXXBTXZJGELH-UHFFFAOYSA-N 2,3,4-tri(propan-2-yl)naphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=CC2=C(C(C)C)C(C(C)C)=C(C(C)C)C(S(O)(=O)=O)=C21 RSZXXBTXZJGELH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEUMBMHMMCOFAG-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydrooxadiazole Chemical compound N1NC=CO1 VEUMBMHMMCOFAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWQNFXDYOCUEER-UHFFFAOYSA-N 2,3-ditert-butyl-4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C(C(C)(C)C)=C1C(C)(C)C QWQNFXDYOCUEER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VUPRMJQRIGJKER-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis[(4-azidophenyl)methylidene]cyclohexan-1-one Chemical compound C1=CC(N=[N+]=[N-])=CC=C1C=C(CC1)CC(=O)C1=CC1=CC=C(N=[N+]=[N-])C=C1 VUPRMJQRIGJKER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVYGCQXNNJPXSS-UHFFFAOYSA-N 2,5-dichloroaniline Chemical compound NC1=CC(Cl)=CC=C1Cl AVYGCQXNNJPXSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MLIWQXBKMZNZNF-UHFFFAOYSA-N 2,6-bis[(4-azidophenyl)methylidene]-4-methylcyclohexan-1-one Chemical compound O=C1C(=CC=2C=CC(=CC=2)N=[N+]=[N-])CC(C)CC1=CC1=CC=C(N=[N+]=[N-])C=C1 MLIWQXBKMZNZNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJGPMAHVCDFRBN-UHFFFAOYSA-N 2,6-dichloroanthracene-9,10-dione Chemical compound ClC1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC=C3C(=O)C2=C1 KJGPMAHVCDFRBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLPUXJIIRIWMSQ-QPJJXVBHSA-N 2-[(e)-3-phenylprop-2-enylidene]propanedioic acid Chemical compound OC(=O)C(C(O)=O)=C\C=C\C1=CC=CC=C1 BLPUXJIIRIWMSQ-QPJJXVBHSA-N 0.000 description 1
- APJRQJNSYFWQJD-GGWOSOGESA-N 2-[(e)-but-2-enoyl]oxyethyl (e)-but-2-enoate Chemical compound C\C=C\C(=O)OCCOC(=O)\C=C\C APJRQJNSYFWQJD-GGWOSOGESA-N 0.000 description 1
- APJRQJNSYFWQJD-GLIMQPGKSA-N 2-[(z)-but-2-enoyl]oxyethyl (z)-but-2-enoate Chemical compound C\C=C/C(=O)OCCOC(=O)\C=C/C APJRQJNSYFWQJD-GLIMQPGKSA-N 0.000 description 1
- HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBTDHCQNAQRHCE-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(2-hydroxyethoxy)cyclohexyl]oxyethanol Chemical compound OCCOC1CCC(OCCO)CC1 LBTDHCQNAQRHCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKBZDWDOSPZINT-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(diethylamino)anilino]-2-oxo-n-phenylethanimidoyl cyanide Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1NC(=O)C(C#N)=NC1=CC=CC=C1 DKBZDWDOSPZINT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BXHGPQHBFYHGLU-UHFFFAOYSA-N 2-azido-3-chlorocyclohexa-2,5-diene-1,4-dione Chemical compound ClC1=C(N=[N+]=[N-])C(=O)C=CC1=O BXHGPQHBFYHGLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTVAPTQIJMLNKJ-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-10h-anthracen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Br)=CC=C3CC2=C1 PTVAPTQIJMLNKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000143 2-carboxyethyl group Chemical group [H]OC(=O)C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- GNTARUIZNIWBCN-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-5-nitrobenzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC([N+]([O-])=O)=CC=C1Cl GNTARUIZNIWBCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBPGISZOPGTNMV-UHFFFAOYSA-N 2-chlorofluoren-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC=C3C2=C1 RBPGISZOPGTNMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004182 2-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(Cl)=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 2-ethylanthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC=C3C(=O)C2=C1 SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002941 2-furyl group Chemical group O1C([*])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004200 2-methoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004204 2-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C(OC([H])([H])[H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- XCSZUHHAYFILGO-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-4-nitrobenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC([N+]([O-])=O)=CC=C1S(O)(=O)=O XCSZUHHAYFILGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TURITJIWSQEMDB-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-[(2-methylprop-2-enoylamino)methyl]prop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCNC(=O)C(C)=C TURITJIWSQEMDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXXOMIPLRDTZCC-UHFFFAOYSA-N 2-methylfluoren-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C)=CC=C3C2=C1 KXXOMIPLRDTZCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWHSVIYYROIHDN-UHFFFAOYSA-N 2-methylxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C)=CC=C3OC2=C1 UWHSVIYYROIHDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001622 2-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C(*)C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- PZBLUWVMZMXIKZ-UHFFFAOYSA-N 2-o-(2-ethoxy-2-oxoethyl) 1-o-ethyl benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound CCOC(=O)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC PZBLUWVMZMXIKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFZKVQVQOMDJEG-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxypropyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C)COC(=O)C=C VFZKVQVQOMDJEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UYWWLYCGNNCLKE-UHFFFAOYSA-N 2-pyridin-4-yl-1h-benzimidazole Chemical group N=1C2=CC=CC=C2NC=1C1=CC=NC=C1 UYWWLYCGNNCLKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTPSFXZMJKMUJE-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butylanthracene-9,10-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)(C)C)=CC=C3C(=O)C2=C1 YTPSFXZMJKMUJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 2h-oxazine Chemical compound N1OC=CC=C1 BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AGIJRRREJXSQJR-UHFFFAOYSA-N 2h-thiazine Chemical compound N1SC=CC=C1 AGIJRRREJXSQJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDGHVRJYOAZFLV-UHFFFAOYSA-N 3-(4-azidophenyl)-1-thiophen-2-ylprop-2-en-1-one Chemical compound C1=CC(N=[N+]=[N-])=CC=C1C=CC(=O)C1=CC=CS1 UDGHVRJYOAZFLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WADSJYLPJPTMLN-UHFFFAOYSA-N 3-(cycloundecen-1-yl)-1,2-diazacycloundec-2-ene Chemical compound C1CCCCCCCCC=C1C1=NNCCCCCCCC1 WADSJYLPJPTMLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFCNOKDRWHSHNR-UHFFFAOYSA-N 3-[2-(2-carboxyethenyl)phenyl]prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=CC1=CC=CC=C1C=CC(O)=O ZFCNOKDRWHSHNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IQOJIHIRSVQTJJ-UHFFFAOYSA-N 3-chlorobenzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC(Cl)=C1 IQOJIHIRSVQTJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXDAXYDMZCYZNH-UHFFFAOYSA-N 3-methyl-2h-1,3-benzothiazole Chemical compound C1=CC=C2N(C)CSC2=C1 PXDAXYDMZCYZNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQMIAEWUVYWVNB-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoyloxybutyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C)CCOC(=O)C=C FQMIAEWUVYWVNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 3-tert-butylbenzene-1,2-diol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC(O)=C1O JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JNRLEMMIVRBKJE-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Methylenebis(N,N-dimethylaniline) Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1CC1=CC=C(N(C)C)C=C1 JNRLEMMIVRBKJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOJWAAUYNWGQAU-UHFFFAOYSA-N 4-(2-methylprop-2-enoyloxy)butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCOC(=O)C(C)=C XOJWAAUYNWGQAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQKLYSAGSGWIAV-UHFFFAOYSA-N 4-(benzylideneamino)aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1N=CC1=CC=CC=C1 WQKLYSAGSGWIAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXDJCCTWPBKUKL-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-aminophenyl)-(4-imino-3-methylcyclohexa-2,5-dien-1-ylidene)methyl]aniline;hydron;chloride Chemical compound Cl.C1=CC(=N)C(C)=CC1=C(C=1C=CC(N)=CC=1)C1=CC=C(N)C=C1 AXDJCCTWPBKUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQUHPLQCUQJSQW-VOTSOKGWSA-N 4-[(e)-2-phenylethenyl]benzonitrile Chemical compound C1=CC(C#N)=CC=C1\C=C\C1=CC=CC=C1 WQUHPLQCUQJSQW-VOTSOKGWSA-N 0.000 description 1
- KTZOPXAHXBBDBX-FCXRPNKRSA-N 4-[(e)-but-2-enoyl]oxybutyl (e)-but-2-enoate Chemical compound C\C=C\C(=O)OCCCCOC(=O)\C=C\C KTZOPXAHXBBDBX-FCXRPNKRSA-N 0.000 description 1
- MGUKYHHAGPFJMC-UHFFFAOYSA-N 4-[3-(4-hydroxy-2,5-dimethylphenyl)-1,1-dioxo-2,1$l^{6}-benzoxathiol-3-yl]-2,5-dimethylphenol Chemical compound C1=C(O)C(C)=CC(C2(C3=CC=CC=C3S(=O)(=O)O2)C=2C(=CC(O)=C(C)C=2)C)=C1C MGUKYHHAGPFJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WCKQPPQRFNHPRJ-UHFFFAOYSA-N 4-[[4-(dimethylamino)phenyl]diazenyl]benzoic acid Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1N=NC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 WCKQPPQRFNHPRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004800 4-bromophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1Br 0.000 description 1
- 125000004801 4-cyanophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(C#N)=C([H])C([H])=C1* 0.000 description 1
- 125000004860 4-ethylphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004203 4-hydroxyphenyl group Chemical group [H]OC1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000004861 4-isopropyl phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004172 4-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C([H])C([H])=C1* 0.000 description 1
- 125000000590 4-methylphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- NJYDJNRTEZIUBS-UHFFFAOYSA-N 4-morpholin-4-ylbenzenediazonium Chemical compound C1=CC([N+]#N)=CC=C1N1CCOCC1 NJYDJNRTEZIUBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IICHURGZQPGTRD-UHFFFAOYSA-N 4-phenyldiazenylnaphthalen-1-amine Chemical compound C12=CC=CC=C2C(N)=CC=C1N=NC1=CC=CC=C1 IICHURGZQPGTRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHWGFJBTMHEZME-UHFFFAOYSA-N 4-prop-2-enoyloxybutyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCOC(=O)C=C JHWGFJBTMHEZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DUMYZVKQCMCQHJ-UHFFFAOYSA-N 5-chloro-1,3-benzoselenazole Chemical compound ClC1=CC=C2[se]C=NC2=C1 DUMYZVKQCMCQHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLKCHWCYYNKADS-UHFFFAOYSA-N 5-hydroxynaphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1S(O)(=O)=O YLKCHWCYYNKADS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UBIAVBGIRDRQLD-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1,3-benzoxazole Chemical compound CC1=CC=C2OC=NC2=C1 UBIAVBGIRDRQLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIFNXGHHDAXUGO-UHFFFAOYSA-N 5-phenyl-1,3-benzoxazole Chemical compound C=1C=C2OC=NC2=CC=1C1=CC=CC=C1 NIFNXGHHDAXUGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCPXWRQRBFJBPZ-UHFFFAOYSA-N 5-sulfosalicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(S(O)(=O)=O)=CC=C1O YCPXWRQRBFJBPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AIBQGOMAISTKSR-UHFFFAOYSA-N 6-chloro-1,3-benzothiazole Chemical compound ClC1=CC=C2N=CSC2=C1 AIBQGOMAISTKSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IVKILQAPNDCUNJ-UHFFFAOYSA-N 6-methyl-1,3-benzothiazole Chemical group CC1=CC=C2N=CSC2=C1 IVKILQAPNDCUNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HUKPVYBUJRAUAG-UHFFFAOYSA-N 7-benzo[a]phenalenone Chemical compound C1=CC(C(=O)C=2C3=CC=CC=2)=C2C3=CC=CC2=C1 HUKPVYBUJRAUAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWTDMFJYBAURQR-UHFFFAOYSA-N 80-82-0 Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O HWTDMFJYBAURQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920002126 Acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GOJCZVPJCKEBQV-UHFFFAOYSA-N Butyl phthalyl butylglycolate Chemical compound CCCCOC(=O)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC GOJCZVPJCKEBQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 1
- 239000004709 Chlorinated polyethylene Substances 0.000 description 1
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 206010012442 Dermatitis contact Diseases 0.000 description 1
- PYGXAGIECVVIOZ-UHFFFAOYSA-N Dibutyl decanedioate Chemical compound CCCCOC(=O)CCCCCCCCC(=O)OCCCC PYGXAGIECVVIOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOWAEIGWURALJQ-UHFFFAOYSA-N Dicyclohexyl phthalate Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)OC2CCCCC2)C=1C(=O)OC1CCCCC1 VOWAEIGWURALJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RDOFJDLLWVCMRU-UHFFFAOYSA-N Diisobutyl adipate Chemical compound CC(C)COC(=O)CCCCC(=O)OCC(C)C RDOFJDLLWVCMRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WWKGVZASJYXZKN-UHFFFAOYSA-N Methyl violet 2B Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C=CC(N)=CC=1)=C1C=CC(=[N+](C)C)C=C1 WWKGVZASJYXZKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTGQNNCQYDRXCH-UHFFFAOYSA-N N,N'-diphenyl-1,4-phenylenediamine Chemical compound C=1C=C(NC=2C=CC=CC=2)C=CC=1NC1=CC=CC=C1 UTGQNNCQYDRXCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZORFPDSXLZWJF-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethyl-1,4-phenylenediamine Chemical compound CN(C)C1=CC=C(N)C=C1 BZORFPDSXLZWJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WABRRZUVJBJZNS-UHFFFAOYSA-N N-[3-azido-4-(benzenesulfonamido)naphthalen-1-yl]benzenesulfonamide Chemical compound C=12C=CC=CC2=C(NS(=O)(=O)C=2C=CC=CC=2)C(N=[N+]=[N-])=CC=1NS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 WABRRZUVJBJZNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFBPFSWMIHJQDM-UHFFFAOYSA-N N-methyl-N-phenylamine Natural products CNC1=CC=CC=C1 AFBPFSWMIHJQDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRYAPECLTRYCTR-UHFFFAOYSA-N NC(=O)C=C.NC(=O)C=C.NC(=O)C=C.NCCNCCN Chemical compound NC(=O)C=C.NC(=O)C=C.NC(=O)C=C.NCCNCCN LRYAPECLTRYCTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930040373 Paraformaldehyde Natural products 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- 206010040844 Skin exfoliation Diseases 0.000 description 1
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N TOTP Chemical compound CC1=CC=CC=C1OP(=O)(OC=1C(=CC=CC=1)C)OC1=CC=CC=C1C YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDKDGDIWEUUXSH-UHFFFAOYSA-N Thymophthalein Chemical compound C1=C(O)C(C(C)C)=CC(C2(C3=CC=CC=C3C(=O)O2)C=2C(=CC(O)=C(C(C)C)C=2)C)=C1C LDKDGDIWEUUXSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DRUIESSIVFYOMK-UHFFFAOYSA-N Trichloroacetonitrile Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C#N DRUIESSIVFYOMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMEGJBVQLJJKKX-HOTMZDKISA-N [(2R,3S,4S,5R,6R)-5-acetyloxy-3,4,6-trihydroxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound CC(=O)OC[C@@H]1[C@H]([C@@H]([C@H]([C@@H](O1)O)OC(=O)C)O)O SMEGJBVQLJJKKX-HOTMZDKISA-N 0.000 description 1
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 1
- CBMCZKMIOZYAHS-NSCUHMNNSA-N [(e)-prop-1-enyl]boronic acid Chemical compound C\C=C\B(O)O CBMCZKMIOZYAHS-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- GQPVFBDWIUVLHG-UHFFFAOYSA-N [2,2-bis(hydroxymethyl)-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CO)(CO)COC(=O)C(C)=C GQPVFBDWIUVLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQHKDHVZYZUZMJ-UHFFFAOYSA-N [2,2-bis(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxypropyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(CO)COC(=O)C=C CQHKDHVZYZUZMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUDXBRVLWDGRBC-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)-2-(2-methylprop-2-enoyloxymethyl)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CO)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C JUDXBRVLWDGRBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LAKGQRZUKPZJDH-GGWOSOGESA-N [2-[[(e)-but-2-enoyl]oxymethyl]-3-hydroxy-2-(hydroxymethyl)propyl] (e)-but-2-enoate Chemical compound C\C=C\C(=O)OCC(CO)(CO)COC(=O)\C=C\C LAKGQRZUKPZJDH-GGWOSOGESA-N 0.000 description 1
- SWHLOXLFJPTYTL-UHFFFAOYSA-N [2-methyl-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)-2-(2-methylprop-2-enoyloxymethyl)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(C)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C SWHLOXLFJPTYTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSZUHSXXAOWGQY-UHFFFAOYSA-N [2-methyl-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HSZUHSXXAOWGQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IDLJKTNBZKSHIY-UHFFFAOYSA-N [4-(diethylamino)phenyl]-phenylmethanone Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 IDLJKTNBZKSHIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BEUGBYXJXMVRFO-UHFFFAOYSA-N [4-(dimethylamino)phenyl]-phenylmethanone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 BEUGBYXJXMVRFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940081735 acetylcellulose Drugs 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 1
- RGCKGOZRHPZPFP-UHFFFAOYSA-N alizarin Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=C(O)C(O)=CC=C3C(=O)C2=C1 RGCKGOZRHPZPFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001516 alkali metal iodide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- RHZUVFJBSILHOK-UHFFFAOYSA-N anthracen-1-ylmethanolate Chemical compound C1=CC=C2C=C3C(C[O-])=CC=CC3=CC2=C1 RHZUVFJBSILHOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003830 anthracite Substances 0.000 description 1
- 239000001000 anthraquinone dye Substances 0.000 description 1
- RJGDLRCDCYRQOQ-UHFFFAOYSA-N anthrone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3CC2=C1 RJGDLRCDCYRQOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001769 aryl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 239000000987 azo dye Substances 0.000 description 1
- HRBFQSUTUDRTSV-UHFFFAOYSA-N benzene-1,2,3-triol;propan-2-one Chemical compound CC(C)=O.OC1=CC=CC(O)=C1O HRBFQSUTUDRTSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMTXUWGBSGZXCJ-UHFFFAOYSA-N benzo[e][1,3]benzoselenazole Chemical compound C1=CC=C2C(N=C[se]3)=C3C=CC2=C1 AMTXUWGBSGZXCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMUIZUWOEIQJEH-UHFFFAOYSA-N benzo[e][1,3]benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2C(N=CO3)=C3C=CC2=C1 WMUIZUWOEIQJEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 125000003354 benzotriazolyl group Chemical group N1N=NC2=C1C=CC=C2* 0.000 description 1
- OCVSBJXTWPHUPQ-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate;2-methylprop-2-enoic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O.CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 OCVSBJXTWPHUPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- HSUIVCLOAAJSRE-UHFFFAOYSA-N bis(2-methoxyethyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound COCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCOC HSUIVCLOAAJSRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFMQKOWCDKKBIF-UHFFFAOYSA-N bis(3,5-difluorophenyl)phosphane Chemical compound FC1=CC(F)=CC(PC=2C=C(F)C=C(F)C=2)=C1 ZFMQKOWCDKKBIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007844 bleaching agent Substances 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000002057 carboxymethyl group Chemical group [H]OC(=O)C([H])([H])[*] 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 230000001684 chronic effect Effects 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- IQFVPQOLBLOTPF-HKXUKFGYSA-L congo red Chemical compound [Na+].[Na+].C1=CC=CC2=C(N)C(/N=N/C3=CC=C(C=C3)C3=CC=C(C=C3)/N=N/C3=C(C4=CC=CC=C4C(=C3)S([O-])(=O)=O)N)=CC(S([O-])(=O)=O)=C21 IQFVPQOLBLOTPF-HKXUKFGYSA-L 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 229940045803 cuprous chloride Drugs 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 1
- WMKGGPCROCCUDY-PHEQNACWSA-N dibenzylideneacetone Chemical compound C=1C=CC=CC=1\C=C\C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WMKGGPCROCCUDY-PHEQNACWSA-N 0.000 description 1
- JBSLOWBPDRZSMB-FPLPWBNLSA-N dibutyl (z)-but-2-enedioate Chemical compound CCCCOC(=O)\C=C/C(=O)OCCCC JBSLOWBPDRZSMB-FPLPWBNLSA-N 0.000 description 1
- GGSUCNLOZRCGPQ-UHFFFAOYSA-N diethylaniline Chemical compound CCN(CC)C1=CC=CC=C1 GGSUCNLOZRCGPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940031769 diisobutyl adipate Drugs 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- FBSAITBEAPNWJG-UHFFFAOYSA-N dimethyl phthalate Natural products CC(=O)OC1=CC=CC=C1OC(C)=O FBSAITBEAPNWJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001826 dimethylphthalate Drugs 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- CZZYITDELCSZES-UHFFFAOYSA-N diphenylmethane Chemical compound C=1C=CC=CC=1CC1=CC=CC=C1 CZZYITDELCSZES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N diphenylmethanediamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(N)(N)C1=CC=CC=C1 ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCZJVRCZIPDYHH-UHFFFAOYSA-N ditridecyl benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCCCCCCCC YCZJVRCZIPDYHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002265 electronic spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- YQGOJNYOYNNSMM-UHFFFAOYSA-N eosin Chemical compound [Na+].OC(=O)C1=CC=CC=C1C1=C2C=C(Br)C(=O)C(Br)=C2OC2=C(Br)C(O)=C(Br)C=C21 YQGOJNYOYNNSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IINNWAYUJNWZRM-UHFFFAOYSA-L erythrosin B Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1C1=C2C=C(I)C(=O)C(I)=C2OC2=C(I)C([O-])=C(I)C=C21 IINNWAYUJNWZRM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- HNPDNOZNULJJDL-UHFFFAOYSA-N ethyl n-ethenylcarbamate Chemical class CCOC(=O)NC=C HNPDNOZNULJJDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRQSVSBTUKVOMY-UHFFFAOYSA-N ethyl prop-2-enoate;methyl 2-methylprop-2-enoate;2-methylprop-2-enoic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O.CCOC(=O)C=C.COC(=O)C(C)=C WRQSVSBTUKVOMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVICFMRAVNKDOE-UHFFFAOYSA-M ethyl violet Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(CC)CC)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 JVICFMRAVNKDOE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- YLQWCDOCJODRMT-UHFFFAOYSA-N fluoren-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C2=C1 YLQWCDOCJODRMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 239000012458 free base Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-IHWYPQMZSA-N isocrotonic acid Chemical compound C\C=C/C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 1
- 229940107698 malachite green Drugs 0.000 description 1
- FDZZZRQASAIRJF-UHFFFAOYSA-M malachite green Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)=C1C=CC(=[N+](C)C)C=C1 FDZZZRQASAIRJF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M merocyanine Chemical compound [Na+].O=C1N(CCCC)C(=O)N(CCCC)C(=O)C1=C\C=C\C=C/1N(CCCS([O-])(=O)=O)C2=CC=CC=C2O\1 DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- DWCZIOOZPIDHAB-UHFFFAOYSA-L methyl green Chemical compound [Cl-].[Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)[N+](C)(C)C)=C1C=CC(=[N+](C)C)C=C1 DWCZIOOZPIDHAB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- STZCRXQWRGQSJD-GEEYTBSJSA-M methyl orange Chemical compound [Na+].C1=CC(N(C)C)=CC=C1\N=N\C1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 STZCRXQWRGQSJD-GEEYTBSJSA-M 0.000 description 1
- 229940012189 methyl orange Drugs 0.000 description 1
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 1
- CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M methylene blue Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC2=[S+]C3=CC(N(C)C)=CC=C3N=C21 CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229960000907 methylthioninium chloride Drugs 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- VUAAUVMKUNKSNE-UHFFFAOYSA-N n,n'-diphenylethene-1,2-diamine Chemical group C=1C=CC=CC=1NC=CNC1=CC=CC=C1 VUAAUVMKUNKSNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N n,n'-methylenebisacrylamide Chemical compound C=CC(=O)NCNC(=O)C=C ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISGXOWLMGOPVPB-UHFFFAOYSA-N n,n-dibenzylaniline Chemical compound C=1C=CC=CC=1CN(C=1C=CC=CC=1)CC1=CC=CC=C1 ISGXOWLMGOPVPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQCFXPARMSSRRK-UHFFFAOYSA-N n-[6-(prop-2-enoylamino)hexyl]prop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NCCCCCCNC(=O)C=C YQCFXPARMSSRRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DYFFAVRFJWYYQO-UHFFFAOYSA-N n-methyl-n-phenylaniline Chemical compound C=1C=CC=CC=1N(C)C1=CC=CC=C1 DYFFAVRFJWYYQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 125000003261 o-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 150000002896 organic halogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000003854 p-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1Cl 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000636 p-nitrophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)[N+]([O-])=O 0.000 description 1
- 229920002866 paraformaldehyde Polymers 0.000 description 1
- 229950000688 phenothiazine Drugs 0.000 description 1
- 150000003014 phosphoric acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical class OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 159000000001 potassium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 150000003142 primary aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 1
- 150000004053 quinones Chemical class 0.000 description 1
- 238000007363 ring formation reaction Methods 0.000 description 1
- RAPZEAPATHNIPO-UHFFFAOYSA-N risperidone Chemical compound FC1=CC=C2C(C3CCN(CC3)CCC=3C(=O)N4CCCCC4=NC=3C)=NOC2=C1 RAPZEAPATHNIPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003336 secondary aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910000162 sodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011008 sodium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000008107 starch Substances 0.000 description 1
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 150000003459 sulfonic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 1
- CXVGEDCSTKKODG-UHFFFAOYSA-N sulisobenzone Chemical compound C1=C(S(O)(=O)=O)C(OC)=CC(O)=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 CXVGEDCSTKKODG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PUGUQINMNYINPK-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 4-(2-chloroacetyl)piperazine-1-carboxylate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)N1CCN(C(=O)CCl)CC1 PUGUQINMNYINPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 150000003557 thiazoles Chemical class 0.000 description 1
- CBDKQYKMCICBOF-UHFFFAOYSA-N thiazoline Chemical compound C1CN=CS1 CBDKQYKMCICBOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PRZSXZWFJHEZBJ-UHFFFAOYSA-N thymol blue Chemical compound C1=C(O)C(C(C)C)=CC(C2(C3=CC=CC=C3S(=O)(=O)O2)C=2C(=CC(O)=C(C(C)C)C=2)C)=C1C PRZSXZWFJHEZBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M trans-cinnamate Chemical class [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013638 trimer Substances 0.000 description 1
- ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N triphenylamine Chemical compound C1=CC=CC=C1N(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N triphenylmethane Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000406 trisodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019801 trisodium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 229940075420 xanthine Drugs 0.000 description 1
- 125000006839 xylylene group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- Y10S430/117—Free radical
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/114—Initiator containing
- Y10S430/12—Nitrogen compound containing
- Y10S430/121—Nitrogen in heterocyclic ring
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
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- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、新規な、光により遊離基を生成する化合物を
含有する感光性組成物に関するものである。更に詳しく
は、新規な感光性5−)TJアジン化合物を含有する感
光性組成物に関するものである。
含有する感光性組成物に関するものである。更に詳しく
は、新規な感光性5−)TJアジン化合物を含有する感
光性組成物に関するものである。
光に曝すことにより分解して遊離基を生成する化合物(
遊離基生成剤)はグラフイックアーツの分野でよく知ら
れている。それらは光重合性組成物中の光重合開始剤、
遊離基写真組成物中の光活性剤および光で生じる酸によ
り触媒される反応の光開始剤として広く用いられている
。そのような遊離基生成剤を用いて印刷、複製、複写お
よびその他の画像形成系で有用な種々の感光性材料が作
られる。
遊離基生成剤)はグラフイックアーツの分野でよく知ら
れている。それらは光重合性組成物中の光重合開始剤、
遊離基写真組成物中の光活性剤および光で生じる酸によ
り触媒される反応の光開始剤として広く用いられている
。そのような遊離基生成剤を用いて印刷、複製、複写お
よびその他の画像形成系で有用な種々の感光性材料が作
られる。
有機ハロゲン化合物は光分解して、塩素遊離基、臭素遊
離基のようなハロゲン遊離基を与える。これらのハロゲ
ン遊離基は良好な水素引抜き剤であリ、水素供与体が存
在すると酸を生じる。それらの光重合過程および遊離基
写真過程への応用についてはJ、コーサー著[ライト・
センシティブ・システムズJJ、ウィリー・アンド・サ
ンズにニーヨーク1965 ) CJ、Kosar著
r LightSensitive Systems
J J、 Wiley & 5ons (NewYo
rk1965)1180〜181頁および361〜37
0頁に記載されている。
離基のようなハロゲン遊離基を与える。これらのハロゲ
ン遊離基は良好な水素引抜き剤であリ、水素供与体が存
在すると酸を生じる。それらの光重合過程および遊離基
写真過程への応用についてはJ、コーサー著[ライト・
センシティブ・システムズJJ、ウィリー・アンド・サ
ンズにニーヨーク1965 ) CJ、Kosar著
r LightSensitive Systems
J J、 Wiley & 5ons (NewYo
rk1965)1180〜181頁および361〜37
0頁に記載されている。
この種の光の作用によりハロゲン遊離基を生じる化合物
としては、これまで四臭化炭素、ヨードホルム、トリブ
ロモアセトフェノンなどが代表的なものであり、広く用
いられてきた。しかしながらこれらの遊離基生成剤はか
なり限られた波長領域の光でしか分解しないという欠点
を有していた。
としては、これまで四臭化炭素、ヨードホルム、トリブ
ロモアセトフェノンなどが代表的なものであり、広く用
いられてきた。しかしながらこれらの遊離基生成剤はか
なり限られた波長領域の光でしか分解しないという欠点
を有していた。
つまりそれは通常用いられる光源の主波長より短波の紫
外領域に感度があった。それゆえこれらの化合物は光源
の発する近紫外から可視域の光を有効に利用する能力が
ないため、遊離基生成能が劣っていた。
外領域に感度があった。それゆえこれらの化合物は光源
の発する近紫外から可視域の光を有効に利用する能力が
ないため、遊離基生成能が劣っていた。
この欠点を改良するため、ある種の増感剤を混合するこ
とにより感光波長域を広げることが提案された。例えば
米国特許第3,106.466おヨヒ同第3,121.
633に記載のメロシアニン色素、スチリル塩基および
シアニン塩基のような増感剤である。確かにこれらの増
感剤の添加により四臭化炭素やヨードホルムの感光波長
域が可視光まで広がったが、未だ満足できるものではな
かった。というのは増感剤としては、遊離基生成剤又は
感光性組成物中の他の要素と相溶性の良いものを選ぶ必
要があるにも拘らず、相溶性が良好で、しかも高感度を
示すものの選択が困難であったからである。
とにより感光波長域を広げることが提案された。例えば
米国特許第3,106.466おヨヒ同第3,121.
633に記載のメロシアニン色素、スチリル塩基および
シアニン塩基のような増感剤である。確かにこれらの増
感剤の添加により四臭化炭素やヨードホルムの感光波長
域が可視光まで広がったが、未だ満足できるものではな
かった。というのは増感剤としては、遊離基生成剤又は
感光性組成物中の他の要素と相溶性の良いものを選ぶ必
要があるにも拘らず、相溶性が良好で、しかも高感度を
示すものの選択が困難であったからである。
この欠点を改良するため、感光波長域が近紫外から可視
光領域にあるハロゲン遊離基生成剤が提案された。例え
ば米国特許第3.954.475号、同第3.987.
037号および同第4.189.323号に記載のハロ
メチル−8−トリアジン化合物群がある。これらの化合
物群は近紫外から可視光領域に感光波長域があるものの
、照射された光が有効に用いられず光分解の感度は比較
的低い。
光領域にあるハロゲン遊離基生成剤が提案された。例え
ば米国特許第3.954.475号、同第3.987.
037号および同第4.189.323号に記載のハロ
メチル−8−トリアジン化合物群がある。これらの化合
物群は近紫外から可視光領域に感光波長域があるものの
、照射された光が有効に用いられず光分解の感度は比較
的低い。
感光波長域が近紫外から可視光領域にある遊離基生成剤
においても、まだ光分解の感度が低く感光性組成物の感
度に充分高くないことである。
においても、まだ光分解の感度が低く感光性組成物の感
度に充分高くないことである。
したがって本発明の目的は、光分解の感度が高い遊離基
生成剤を含み、感度が高い感光性組成物を提供すること
である。
生成剤を含み、感度が高い感光性組成物を提供すること
である。
本発明者らは種々研究の結果、上記問題点は新規な下記
一般式(I)で示される8−)’Jアジン化合物を含有
する感光性組成物によって解決されることを見出した。
一般式(I)で示される8−)’Jアジン化合物を含有
する感光性組成物によって解決されることを見出した。
この一般式(I)で示される化合物は、組成物中の他の
成分との相溶性も良好である。
成分との相溶性も良好である。
CH,−IIYII
CHドアYl。
ここで、AおよびBは無置換または置換された芳香族残
基または無置換または置換された複素芳香族残基を、Y
は塩素原子または臭素原子を、nは1〜3の整数を表わ
す。
基または無置換または置換された複素芳香族残基を、Y
は塩素原子または臭素原子を、nは1〜3の整数を表わ
す。
以下、本発明について更に詳細に説明する。
一般式(I)において、Aの芳香族残基または複素芳香
族残基としては、好ましくは単環あるいは2IIのもの
であり、例えばフェニル基、1−ナフチル基、2−ナフ
チル基、2−フリル基、2−チェニル基、2−オキサゾ
ール基、2−チアゾール基、2−イミダゾール基、2−
ピリジル基、2−ベンゾフリル基、2−ベンゾチェニル
基、2−ベンゾオキサゾール基、2−ベンゾチアゾール
基、2−ベンゾイミダゾール基、ベンゾトリアゾール基
、2−インドリル基、2−キノリル基などが挙げられる
。好ましくは単環のアリール基である。
族残基としては、好ましくは単環あるいは2IIのもの
であり、例えばフェニル基、1−ナフチル基、2−ナフ
チル基、2−フリル基、2−チェニル基、2−オキサゾ
ール基、2−チアゾール基、2−イミダゾール基、2−
ピリジル基、2−ベンゾフリル基、2−ベンゾチェニル
基、2−ベンゾオキサゾール基、2−ベンゾチアゾール
基、2−ベンゾイミダゾール基、ベンゾトリアゾール基
、2−インドリル基、2−キノリル基などが挙げられる
。好ましくは単環のアリール基である。
Bの芳香族残基または複素芳香族残基としては1.4−
フ二二しンi1.2−7エニレン基、1.3−フ二二し
ン基、1.4−ナフチレン基、1.5−ナフチレン基、
2.3−チェニル基、2.5−チェニル基などが挙げら
れる。好ましくは単環のアリーレン基である。
フ二二しンi1.2−7エニレン基、1.3−フ二二し
ン基、1.4−ナフチレン基、1.5−ナフチレン基、
2.3−チェニル基、2.5−チェニル基などが挙げら
れる。好ましくは単環のアリーレン基である。
AおよびBの置換芳香族残基または複素芳香族残基とし
ては上記のような芳香族残基または複素芳香族残基に、
例えばメチル基、エチル基などの炭素原子数1〜6個の
アルキル基、例えばメトキシ基、エトキシ基などの炭素
原子数1〜6個のアルコキシ基、例えば塩素原子などの
ハロゲン原子、ニトロ基、フェニル基、カルボキシ基、
ヒドロキシ基、シアノ基などが置換したものが含まれ、
Aとしては具体的には4−クロロフェニル基、2−クロ
ロフェニル基、4−ブロモフェニル基、4−ニトロフェ
ニル基、3−ニトロフェニル基、4−フェニルフェニル
基、4−メチルフェニル基、2−メチルフェニル基、4
−エチルフェニル基、4−イソプロビルフェニル基、4
−ブチルフェニル基、4−メトキシフェニル基、2−メ
トキシフェニル基、4−エトキシフェニル基、2−カル
ボキシフェニル基、4−シアノフェニル基、3.4−メ
チレンジオキシフェニル基、4−フェノキシフェニル基
、4−アセトキシフェニル基、4−ヒドロキシフェニル
基、2,4−ジヒドロキシフェニル基、4−メチル−1
−ナフチル基、4−クロロ−1−ナフチル基、5−ニト
ロ−1−ナフチル基、6−クロロ−2−ナフチル基、4
−ブロモ−2−ナフチル基、5−ニトロ−2−ナフチル
基、6−メチル−2−ベンゾフリル基、6−メチル−2
−ベンゾオキサゾール基、6−メチル−ベンゾチアゾー
ル基、6−クロロ−2−ベンゾチアゾール基などが挙げ
られる。これらのうち特に好ましいものは単環の置換芳
香族残基である。
ては上記のような芳香族残基または複素芳香族残基に、
例えばメチル基、エチル基などの炭素原子数1〜6個の
アルキル基、例えばメトキシ基、エトキシ基などの炭素
原子数1〜6個のアルコキシ基、例えば塩素原子などの
ハロゲン原子、ニトロ基、フェニル基、カルボキシ基、
ヒドロキシ基、シアノ基などが置換したものが含まれ、
Aとしては具体的には4−クロロフェニル基、2−クロ
ロフェニル基、4−ブロモフェニル基、4−ニトロフェ
ニル基、3−ニトロフェニル基、4−フェニルフェニル
基、4−メチルフェニル基、2−メチルフェニル基、4
−エチルフェニル基、4−イソプロビルフェニル基、4
−ブチルフェニル基、4−メトキシフェニル基、2−メ
トキシフェニル基、4−エトキシフェニル基、2−カル
ボキシフェニル基、4−シアノフェニル基、3.4−メ
チレンジオキシフェニル基、4−フェノキシフェニル基
、4−アセトキシフェニル基、4−ヒドロキシフェニル
基、2,4−ジヒドロキシフェニル基、4−メチル−1
−ナフチル基、4−クロロ−1−ナフチル基、5−ニト
ロ−1−ナフチル基、6−クロロ−2−ナフチル基、4
−ブロモ−2−ナフチル基、5−ニトロ−2−ナフチル
基、6−メチル−2−ベンゾフリル基、6−メチル−2
−ベンゾオキサゾール基、6−メチル−ベンゾチアゾー
ル基、6−クロロ−2−ベンゾチアゾール基などが挙げ
られる。これらのうち特に好ましいものは単環の置換芳
香族残基である。
本発明で用いられる前記一般式(I)で示される5−)
IJアジン化合物は、下記の方法により合成される。す
なわち、L、1.スミス(L、 1.Sm1th)
ら「オーガニック・シンセシス」(J、ウィリー・アン
ド・サンプ)コレクティブ・ボリューム3[rorga
nic 5yntheses J (J、Wiley
& 5ons )Collective Volume
3 ] 、350〜351頁に記載の方法、あるいは
、K、ヨシダ(K、Yoshida)ら著、ケミカル・
コミュニケーションズ(ChemicalCommun
ications) 、711 (1970)に記載の
方法にしたがい合成される一般式(n)で示される芳香
族ニトリル化合物とハロアセトニトリルを用い、K、ワ
カバヤシ(Wakabayashi)ら著、A−C=C
−B−CN (n)(ここで、AおよびBは
一般式(I)と同義)ブレティン・オブ・ザ・ケミカル
・ソサエティ・オブ・ジャパフ (Bulletin
of the ChemicalSociety of
Japan) 、42.2924〜2930(196
9)に記載の方法にしたがい環化させることにより合成
することができる。
IJアジン化合物は、下記の方法により合成される。す
なわち、L、1.スミス(L、 1.Sm1th)
ら「オーガニック・シンセシス」(J、ウィリー・アン
ド・サンプ)コレクティブ・ボリューム3[rorga
nic 5yntheses J (J、Wiley
& 5ons )Collective Volume
3 ] 、350〜351頁に記載の方法、あるいは
、K、ヨシダ(K、Yoshida)ら著、ケミカル・
コミュニケーションズ(ChemicalCommun
ications) 、711 (1970)に記載の
方法にしたがい合成される一般式(n)で示される芳香
族ニトリル化合物とハロアセトニトリルを用い、K、ワ
カバヤシ(Wakabayashi)ら著、A−C=C
−B−CN (n)(ここで、AおよびBは
一般式(I)と同義)ブレティン・オブ・ザ・ケミカル
・ソサエティ・オブ・ジャパフ (Bulletin
of the ChemicalSociety of
Japan) 、42.2924〜2930(196
9)に記載の方法にしたがい環化させることにより合成
することができる。
次に示す構造を有する化合物が本発明に用いられる遊離
基生成剤として特に有利である。
基生成剤として特に有利である。
N[LI CC
j! aCCj23 Na2 C
HJrNa3
C)ICJ!*Nα4 Nα5
CCA。
j! aCCj23 Na2 C
HJrNa3
C)ICJ!*Nα4 Nα5
CCA。
Nα6
CCIl。
CCIl。
N(17CCj!3
No、8
CC1゜
No、9
CL
No、10
CL
ゞ(Lll
CC1aNα12
CC□N″13 C
Cj! sNα15 CCf。
CC1aNα12
CC□N″13 C
Cj! sNα15 CCf。
No、16
NIIL17
CC1゜
CC19
Nα19
CCZ。
CCj!。
CCj!。
Nα23
CCA。
CCf。
島24
一般式(I)で示される遊離基生成剤は、光重合性組成
物中の光重合開始剤として用いる場合及び平版印刷版、
IC回路、フォトマスク製造のための感光性レジスト形
成性組成物に、露光により現像することなく可視像を与
える性能を与える場合に特に有用である。
物中の光重合開始剤として用いる場合及び平版印刷版、
IC回路、フォトマスク製造のための感光性レジスト形
成性組成物に、露光により現像することなく可視像を与
える性能を与える場合に特に有用である。
一般式(I)で示される遊離基生成剤を光重合性組成物
中に用いる場合、光重合性組成物は、エチレン性不飽和
結合を有する重合可能な化合物と光重合開始剤と、必要
とするならば結合剤と、さらに必要とするならば増感剤
とから構成され、特に感光性印刷版の感光層、フォトレ
ジスト等に有用である。
中に用いる場合、光重合性組成物は、エチレン性不飽和
結合を有する重合可能な化合物と光重合開始剤と、必要
とするならば結合剤と、さらに必要とするならば増感剤
とから構成され、特に感光性印刷版の感光層、フォトレ
ジスト等に有用である。
本発明の光重合性組成物におけるエチレン性不飽和結合
を有する重合可能な化合物とは、その化学構造中に少な
くとも1個のエチレン性不飽和結合を有する化合物であ
って、モノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量
体および他のオリゴマーそれらの混合物ならびにそれら
の共重合体などの化学的形態をもつものである。それら
の例としては不飽和カルボン酸ふよびその塩、脂肪族多
価アルコール化合物とのエステル、脂肪族多価アミン化
合物とのアミド等があげられる。
を有する重合可能な化合物とは、その化学構造中に少な
くとも1個のエチレン性不飽和結合を有する化合物であ
って、モノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量
体および他のオリゴマーそれらの混合物ならびにそれら
の共重合体などの化学的形態をもつものである。それら
の例としては不飽和カルボン酸ふよびその塩、脂肪族多
価アルコール化合物とのエステル、脂肪族多価アミン化
合物とのアミド等があげられる。
不飽和カルボン酸の具体例としては、アクリル酸、メタ
クリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、
マレイン酸などがある。
クリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、
マレイン酸などがある。
不飽和カルボン酸の塩としては、前述の酸のナトリウム
塩およびカリウム塩などがある。
塩およびカリウム塩などがある。
脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエ
ステルの具体例としてはアクリル酸エステルとして、エ
チレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコ
ールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリ
レート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プ
ロピレングリコールジアクリレート、トリメチロールプ
ロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリア
クリレート、1.4−シクロヘキサンジオールジアクリ
レート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペ
ンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリト
ールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラア
クリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、
ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエ
リスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリト
ールへキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレー
ト、ソルビトールテトラアクリレート、ソルゴトールペ
ンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、
ポリエステルアクリレートオリゴマー等がある。メタク
リル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジ
メタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレ
ート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ト
リメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリ
コールジアクリレート、1.3−ブタンジオールジメタ
クリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、
ペンタエリスリトールトリメタクリート、ジペンタエリ
スリトールジメタクリレート、ソルビトールトリメタク
リレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス−
[p−(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプロポ
キシ)フェニルクジメチルメタン、ビス−〔p−(アク
リルオキシエトキシ)フェニルクジメチルメタン等があ
る。イタコン酸エステルとしては、エチレングリコール
シイタコネート、プロピレングリコールシイタコネート
、1,3−ブタンジオールシイタコネー)、1.4−ブ
タンジオールシイタコネート、テトラメチレングリコー
ルシイタコネート、ペンタエリスリトールシイタコネー
ト、ソルビトールテトライタコネート等がある。クロト
ン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネ
ート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペン
タエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラ
クロトネート等がある。イック0)ン酸エステルとして
は、エチレングリコールジイソクロトネート、ペシタエ
リスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトラ
イソクロトネート等がある。マレイン酸エステルとして
は、エチレングリコールシマレート、トリエチレングリ
コールシマレート、ペンタエリスリトールシマレート、
ソルビトールテトラマレート等がある。
ステルの具体例としてはアクリル酸エステルとして、エ
チレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコ
ールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリ
レート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プ
ロピレングリコールジアクリレート、トリメチロールプ
ロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリア
クリレート、1.4−シクロヘキサンジオールジアクリ
レート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペ
ンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリト
ールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラア
クリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、
ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエ
リスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリト
ールへキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレー
ト、ソルビトールテトラアクリレート、ソルゴトールペ
ンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、
ポリエステルアクリレートオリゴマー等がある。メタク
リル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジ
メタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレ
ート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ト
リメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリ
コールジアクリレート、1.3−ブタンジオールジメタ
クリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、
ペンタエリスリトールトリメタクリート、ジペンタエリ
スリトールジメタクリレート、ソルビトールトリメタク
リレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス−
[p−(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプロポ
キシ)フェニルクジメチルメタン、ビス−〔p−(アク
リルオキシエトキシ)フェニルクジメチルメタン等があ
る。イタコン酸エステルとしては、エチレングリコール
シイタコネート、プロピレングリコールシイタコネート
、1,3−ブタンジオールシイタコネー)、1.4−ブ
タンジオールシイタコネート、テトラメチレングリコー
ルシイタコネート、ペンタエリスリトールシイタコネー
ト、ソルビトールテトライタコネート等がある。クロト
ン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネ
ート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペン
タエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラ
クロトネート等がある。イック0)ン酸エステルとして
は、エチレングリコールジイソクロトネート、ペシタエ
リスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトラ
イソクロトネート等がある。マレイン酸エステルとして
は、エチレングリコールシマレート、トリエチレングリ
コールシマレート、ペンタエリスリトールシマレート、
ソルビトールテトラマレート等がある。
さらに、前述のエステルの混合物もあげることができる
。
。
脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミド
の具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メ
チレンビス−メタクリルアミド、1.6−へキサメチレ
ンビス−アクリルアミド、1.6−へキサメチレンビス
−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアク
リルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレ
ンビスメタクリルアミド等がある。
の具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メ
チレンビス−メタクリルアミド、1.6−へキサメチレ
ンビス−アクリルアミド、1.6−へキサメチレンビス
−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアク
リルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレ
ンビスメタクリルアミド等がある。
その他の例としては、特公昭48−41708号公報中
に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基
を有するポリイソシアネート化合物に、下記の一般式(
I[I)で示される水酸基を含有するビニルモノマーを
付加せしめた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含
有するビニルウレタン化合物等があげられる。
に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基
を有するポリイソシアネート化合物に、下記の一般式(
I[I)で示される水酸基を含有するビニルモノマーを
付加せしめた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含
有するビニルウレタン化合物等があげられる。
CH* =C(R)C口OCH,CH(R’ )DH
(III )(ただし、RおよびR′はHあるいはCH
,を示す)。 □ 一般式(■)で示される遊離基生成剤を光重合性組成物
中の光重合開始剤として用いる場合、該光重合性組成物
には必要に応じて結合剤を含有させることができる。
(III )(ただし、RおよびR′はHあるいはCH
,を示す)。 □ 一般式(■)で示される遊離基生成剤を光重合性組成物
中の光重合開始剤として用いる場合、該光重合性組成物
には必要に応じて結合剤を含有させることができる。
本発明の光重合性組成物における結合剤としては、重合
可能なエチレン性不飽和化合物および光重合開始剤に対
する相溶性が組成物の塗布液の調製、塗布および乾燥に
至る感光材料の製造工程の全てにおいて脱混合を起さな
い程度に良好であること、感光層あるいはレジスト層と
して例えば溶液現像にせよ剥離現像にせよ像露光後の現
像処理が可能であること、感光層あるいはレジスト層と
して強靭な皮膜を形成し得ることなどの特性を有するこ
とが要求されるが、通常線状有機高分子重合体より適宜
、選択される。結合剤の具体的な例としては、塩素化ポ
リエチレン、塩素化ポリプロピレン、ポリアクリル酸ア
ルキルエステル(アルキル基としては、メチル基、エチ
ル基、n−ブチル基、1so−ブチル基、n−ヘキシル
基、2−エチルヘキシル基など)、アクリル酸アルキル
エステル(アルキル基は同上)とアクリロニトリル、塩
化ビニル、塩化ビニリデン、スチレン、ブタジェンなど
のモノマーの少なくとも一種との共重合体、ポリ塩化ビ
ニル、塩化ビニルとアクリロニトリルとの共重合体、ポ
リ塩化ビニリデン、塩化ビニリデンとアクリロニトリル
との共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール
、ポリアクリロニトリル、アクリロニトリルとスチレン
との共重合体、アクリロニトリルとブタジェンおよびス
チレンとの共重合体、ポリメタアクリル酸アルキルエス
テル(アルキル基としては、メチル基、エチル基、n−
プロピル基、n−ブチル基、iso −ブチル基、n−
ヘキシル基、シクロヘキシル基、2−エチルヘキシル基
など)、メタアクリル酸アルキルエステル(アルキル基
は同上)とアクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリ
デン、スチレン、ブタジェンなどのモノマーの少なくと
も一種との共重合体、ポリスチレン、ポリ−α−メチル
スチレン、ポリアミド(6−ナイロン、6.6−ナイロ
ンなど)、メチルセルロース、エチルセルロース、アセ
チルセルロース、ポリビニルフォルマール、ポリビニル
ブチラールなどが挙げられる。
可能なエチレン性不飽和化合物および光重合開始剤に対
する相溶性が組成物の塗布液の調製、塗布および乾燥に
至る感光材料の製造工程の全てにおいて脱混合を起さな
い程度に良好であること、感光層あるいはレジスト層と
して例えば溶液現像にせよ剥離現像にせよ像露光後の現
像処理が可能であること、感光層あるいはレジスト層と
して強靭な皮膜を形成し得ることなどの特性を有するこ
とが要求されるが、通常線状有機高分子重合体より適宜
、選択される。結合剤の具体的な例としては、塩素化ポ
リエチレン、塩素化ポリプロピレン、ポリアクリル酸ア
ルキルエステル(アルキル基としては、メチル基、エチ
ル基、n−ブチル基、1so−ブチル基、n−ヘキシル
基、2−エチルヘキシル基など)、アクリル酸アルキル
エステル(アルキル基は同上)とアクリロニトリル、塩
化ビニル、塩化ビニリデン、スチレン、ブタジェンなど
のモノマーの少なくとも一種との共重合体、ポリ塩化ビ
ニル、塩化ビニルとアクリロニトリルとの共重合体、ポ
リ塩化ビニリデン、塩化ビニリデンとアクリロニトリル
との共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール
、ポリアクリロニトリル、アクリロニトリルとスチレン
との共重合体、アクリロニトリルとブタジェンおよびス
チレンとの共重合体、ポリメタアクリル酸アルキルエス
テル(アルキル基としては、メチル基、エチル基、n−
プロピル基、n−ブチル基、iso −ブチル基、n−
ヘキシル基、シクロヘキシル基、2−エチルヘキシル基
など)、メタアクリル酸アルキルエステル(アルキル基
は同上)とアクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリ
デン、スチレン、ブタジェンなどのモノマーの少なくと
も一種との共重合体、ポリスチレン、ポリ−α−メチル
スチレン、ポリアミド(6−ナイロン、6.6−ナイロ
ンなど)、メチルセルロース、エチルセルロース、アセ
チルセルロース、ポリビニルフォルマール、ポリビニル
ブチラールなどが挙げられる。
さらに、水あるいはアルカリ水可溶性有機高分子重合体
を用いると水あるいはアルカリ水現像が可能となる。こ
のような高分子重合体としては側鎖にカルボン酸を有す
る付加重合体、たとえばメタクリル酸共重合体(たとえ
ば、メタクリル酸メチルとメタクリル酸との共重合体、
メタクリル酸エチルとメタクリル酸との共重合体、メタ
クリル酸ブチルとメタクリル酸との共重合体、アクリル
酸エチルとメタクリル酸との共重合体、メタクリル酸と
スチレンおよびメタクリル酸との共重合体など)、アク
リル酸共重合体(アクリル酸エチルとアクリル酸との共
重合体、了クリル酸ブチルとアクリル酸との共重合体、
アクリル酸エチルとスチレンおよびアクリル酸との共重
合体など)、さらにはイタコン酸共重合体、クロトン酸
共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体などがあ
り、また同様に側鎖にカルボン酸を有する酸性セルロー
ス誘導体がある。
を用いると水あるいはアルカリ水現像が可能となる。こ
のような高分子重合体としては側鎖にカルボン酸を有す
る付加重合体、たとえばメタクリル酸共重合体(たとえ
ば、メタクリル酸メチルとメタクリル酸との共重合体、
メタクリル酸エチルとメタクリル酸との共重合体、メタ
クリル酸ブチルとメタクリル酸との共重合体、アクリル
酸エチルとメタクリル酸との共重合体、メタクリル酸と
スチレンおよびメタクリル酸との共重合体など)、アク
リル酸共重合体(アクリル酸エチルとアクリル酸との共
重合体、了クリル酸ブチルとアクリル酸との共重合体、
アクリル酸エチルとスチレンおよびアクリル酸との共重
合体など)、さらにはイタコン酸共重合体、クロトン酸
共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体などがあ
り、また同様に側鎖にカルボン酸を有する酸性セルロー
ス誘導体がある。
これらの高分子重合体は、単独で結合剤として用いても
よいが、二種以上の互いに相溶性が、塗布液の調製から
塗布、乾燥に至る製造工程中に脱混合を起さない程度に
良い高分子重合体を適当な比で混合して結合剤として用
いることができる。
よいが、二種以上の互いに相溶性が、塗布液の調製から
塗布、乾燥に至る製造工程中に脱混合を起さない程度に
良い高分子重合体を適当な比で混合して結合剤として用
いることができる。
結合剤として用いられる高分子重合体の分子量は、重合
体の種類により広範な値をとりうるが、一般には5千〜
200万、より好ましくは1万〜100万の範囲のもの
が好適である。
体の種類により広範な値をとりうるが、一般には5千〜
200万、より好ましくは1万〜100万の範囲のもの
が好適である。
本発明の光重合性組成物に、増感剤を更に含有させる場
合には、一般式(I)で表わされる遊離基生成剤すなわ
ち光重合開始剤との併用により光重合速度を増大させる
増感剤が選択される。このような増感剤の具体例として
は、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイ
ンエチルエーテル、9−フルオレノン、2−クロロ−9
−フルオレノン、2−メチル−9−フルオレノン、9−
アントロン、2−ブロモ−9−アントロン、2−エチル
−9−アントロン、9.10−アントラキノン、2−エ
チル−9,10−アントラキノン、2−t−ブチル−9
,10−アントラキノン、2.6−ジクロロ−9,10
−アントラキノン、キサントン、2−メチルキサントン
、2−メトキシキサントン、チオキサントン、ベンジル
、ジベンザルアセトン、p−(ジメチルアミノ)フェニ
ルスチリルケトン、p−(ジメチルアミノ)フェニルp
−メチルスチリルケトン、ベンゾフェノン、p−(ジメ
チルアミノ)ベンゾフェノン(またはミヒラーケトン)
、p−(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、ベンズアン
トロンなどをあげることができる。これらの化合物のう
ち、ミヒラーケトンを用いた場合が特に好ましい。
合には、一般式(I)で表わされる遊離基生成剤すなわ
ち光重合開始剤との併用により光重合速度を増大させる
増感剤が選択される。このような増感剤の具体例として
は、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイ
ンエチルエーテル、9−フルオレノン、2−クロロ−9
−フルオレノン、2−メチル−9−フルオレノン、9−
アントロン、2−ブロモ−9−アントロン、2−エチル
−9−アントロン、9.10−アントラキノン、2−エ
チル−9,10−アントラキノン、2−t−ブチル−9
,10−アントラキノン、2.6−ジクロロ−9,10
−アントラキノン、キサントン、2−メチルキサントン
、2−メトキシキサントン、チオキサントン、ベンジル
、ジベンザルアセトン、p−(ジメチルアミノ)フェニ
ルスチリルケトン、p−(ジメチルアミノ)フェニルp
−メチルスチリルケトン、ベンゾフェノン、p−(ジメ
チルアミノ)ベンゾフェノン(またはミヒラーケトン)
、p−(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、ベンズアン
トロンなどをあげることができる。これらの化合物のう
ち、ミヒラーケトンを用いた場合が特に好ましい。
さらに、本発明における好ましい増感剤としては、特公
昭51−48516号公報中に記載されている一般式(
TV)で表わされる化合物があげられる。
昭51−48516号公報中に記載されている一般式(
TV)で表わされる化合物があげられる。
1.・−゛′°・。
式中、R1はアルキル基(例えば、メチル基、エチル基
、プロピル基など)、または置換アルキル基(例えば、
2−ヒドロキシエチル基、2−メトキシエチル基、カル
ボキシメチル基、2−カルボキシエチル基など)を表わ
す。
、プロピル基など)、または置換アルキル基(例えば、
2−ヒドロキシエチル基、2−メトキシエチル基、カル
ボキシメチル基、2−カルボキシエチル基など)を表わ
す。
R2はアルキル基(例えば、メチル基、エチル基など)
、またはアリール基(例えば、フェニル基、p−ヒドロ
キシフェニル基、ナフチル基、チェニル基など)表わす
。
、またはアリール基(例えば、フェニル基、p−ヒドロ
キシフェニル基、ナフチル基、チェニル基など)表わす
。
Zは通常シアニン色素で用いられる窒素を含む複素環核
を形成するのに必要な非金属原子群、例えばベンゾチア
ゾール類(ベンゾチアゾール、5−クロロペンゾチアゾ
ール、6−クロロベンゾチアゾールなど)、ナフトチア
ゾール類(α−ナフトチアゾール、β−ナフトチアゾー
ルなど)、ベンゾセレナゾール類(ベンゾセレナゾール
、5−クロロベンゾセレナゾール、6−メドキシペンゾ
セレナゾールなど)、ナフトセレナゾール類(α−ナフ
トセレナゾール、β−ナフトセレナゾールなど)、ベン
ゾオキサゾール類(ベンゾオキサゾール、5−メチルベ
ンゾオキサゾール、5−フェニルベンゾオキサゾールな
ど)、ナフトオキサゾール類(α−ナフトオキサゾール
、β−ナフトオキサゾールなど)を表わす。
を形成するのに必要な非金属原子群、例えばベンゾチア
ゾール類(ベンゾチアゾール、5−クロロペンゾチアゾ
ール、6−クロロベンゾチアゾールなど)、ナフトチア
ゾール類(α−ナフトチアゾール、β−ナフトチアゾー
ルなど)、ベンゾセレナゾール類(ベンゾセレナゾール
、5−クロロベンゾセレナゾール、6−メドキシペンゾ
セレナゾールなど)、ナフトセレナゾール類(α−ナフ
トセレナゾール、β−ナフトセレナゾールなど)、ベン
ゾオキサゾール類(ベンゾオキサゾール、5−メチルベ
ンゾオキサゾール、5−フェニルベンゾオキサゾールな
ど)、ナフトオキサゾール類(α−ナフトオキサゾール
、β−ナフトオキサゾールなど)を表わす。
一般式(IV)で表わされる化合物の具体例とじては、
これらZ、R,およびR2を組合せた化学構造を有する
ものであり、多くのものが公知物質として存在する。し
たがって、これらの公知のものから適宜選択して使用す
ることができる。
これらZ、R,およびR2を組合せた化学構造を有する
ものであり、多くのものが公知物質として存在する。し
たがって、これらの公知のものから適宜選択して使用す
ることができる。
さらに、本発明における好ましい増感剤としては、米国
特許4,062.686号記載の増感剤、例tlf2−
[ビス(2−フロイル)メチレン]−3−メチルベンゾ
チアゾリン、2−(ビス(2−チノイル)メチレン〕−
3−メチルベンゾチアゾリン、2−[ビス(2−フロイ
ル)メチレンツー3−メチルナフト[1,2−dlチア
ゾリンなどが挙げられる。
特許4,062.686号記載の増感剤、例tlf2−
[ビス(2−フロイル)メチレン]−3−メチルベンゾ
チアゾリン、2−(ビス(2−チノイル)メチレン〕−
3−メチルベンゾチアゾリン、2−[ビス(2−フロイ
ル)メチレンツー3−メチルナフト[1,2−dlチア
ゾリンなどが挙げられる。
さらに、本発明の組成物の製造中あるいは保存中におい
てエチレン性不飽和結合を有する重合可能な化合物の不
要な熱重合を阻止するために熱重合防止剤を添加するこ
とが望ましい。適当な熱重合防止剤としてはヒドロキノ
ン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−ク
レゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベン
ゾキノン、塩化第一銅、フェノチアジン、フロラニール
、ナフチルアミン、β−ナフトール、ニトロベンゼン、
ジニトロベンゼンなどがある。
てエチレン性不飽和結合を有する重合可能な化合物の不
要な熱重合を阻止するために熱重合防止剤を添加するこ
とが望ましい。適当な熱重合防止剤としてはヒドロキノ
ン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−ク
レゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベン
ゾキノン、塩化第一銅、フェノチアジン、フロラニール
、ナフチルアミン、β−ナフトール、ニトロベンゼン、
ジニトロベンゼンなどがある。
また場合によっては着色を目的として染料もしくは顔料
、例えばメチレンブルー、クリスタルバイオレット、ロ
ーダミンB1フクシン、オーラミン、アゾ系染料、アン
トラキノン系染料、酸化チタン、カーボンブラック、酸
化鉄、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料などを加えて
もよい。
、例えばメチレンブルー、クリスタルバイオレット、ロ
ーダミンB1フクシン、オーラミン、アゾ系染料、アン
トラキノン系染料、酸化チタン、カーボンブラック、酸
化鉄、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料などを加えて
もよい。
さらに、本発明の光重合性組成物には必要に応じて可塑
剤を添加することができる。可塑剤の例としては、ジメ
チルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレ
ート、ジエチルフタレート、ジシクロへキシルフタレー
ト、ジトリデシルフタレートなどのフタル酸エステル類
、ジメチルグリコールフタレート、エチルフタリルエチ
ルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレートな
どのグリコールエステル類、トリクレジルホスフェ゛−
ト、トリフェニルホスフェートなどのリン酸エステル類
、ジイソブチルアジペート、ジオクチルアジペート、ジ
ブチルセバケート、ジブチルマレートなどの脂肪族二塩
基酸エステル類などがある。
剤を添加することができる。可塑剤の例としては、ジメ
チルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレ
ート、ジエチルフタレート、ジシクロへキシルフタレー
ト、ジトリデシルフタレートなどのフタル酸エステル類
、ジメチルグリコールフタレート、エチルフタリルエチ
ルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレートな
どのグリコールエステル類、トリクレジルホスフェ゛−
ト、トリフェニルホスフェートなどのリン酸エステル類
、ジイソブチルアジペート、ジオクチルアジペート、ジ
ブチルセバケート、ジブチルマレートなどの脂肪族二塩
基酸エステル類などがある。
本発明の光重合性組成物は前述の各種構成成分を溶媒中
に溶解せしめ、適当な支持体上に公知の方法により塗布
して用いられる。次に、この場合の各種構成成分の好ま
しい比率をエチレン性不飽和結合を有する重合可能な化
合物100重量部に対する重量部で表わす。
に溶解せしめ、適当な支持体上に公知の方法により塗布
して用いられる。次に、この場合の各種構成成分の好ま
しい比率をエチレン性不飽和結合を有する重合可能な化
合物100重量部に対する重量部で表わす。
シ ロ 00 +n 00
慢 −〇〜 へり
doロロロロ
一般式(I)で示される遊離基生成剤を感光性レジスト
形成性組成物に用いる場合、感光性レジスト組成物は露
光作業における黄色安全灯下で、露光のみによって可視
画像が得られるため、例えば、同時に多くの印刷版を露
光する過程で、たとえば仕事が中断された時など製版者
に与えられた版が露光されているかどうかを知ることが
可能となる。
形成性組成物に用いる場合、感光性レジスト組成物は露
光作業における黄色安全灯下で、露光のみによって可視
画像が得られるため、例えば、同時に多くの印刷版を露
光する過程で、たとえば仕事が中断された時など製版者
に与えられた版が露光されているかどうかを知ることが
可能となる。
同様に例えば、平版印刷版を作るときのいわゆる殖版焼
付は法のように一枚の大きな版に対して何度も露光を与
える場合、作業者はどの部分が露光法であるかを直ちに
確かめることができる。
付は法のように一枚の大きな版に対して何度も露光を与
える場合、作業者はどの部分が露光法であるかを直ちに
確かめることができる。
一般式(I)で示される遊離基生成剤が有利に使用でき
る、露光により直ちに可視画像を与える感光性レジスト
形成性組成物は必須成分として感光性レジスト形成性化
合物、遊離基生成剤、変色剤および任意に一つ又は複数
の可塑剤、結合剤、変色剤でない染料、顔料、かぶり防
止剤、感光性レジスト形成性化合物用増感剤等から通常
構成される。
る、露光により直ちに可視画像を与える感光性レジスト
形成性組成物は必須成分として感光性レジスト形成性化
合物、遊離基生成剤、変色剤および任意に一つ又は複数
の可塑剤、結合剤、変色剤でない染料、顔料、かぶり防
止剤、感光性レジスト形成性化合物用増感剤等から通常
構成される。
感光性レジスト形成性化合物は露光により、溶解性、粘
着性、基板との接着性、等の物理的性質の変化する化合
物であって、例えば感光性ジアゾ化合物、感光性アジド
化合物、エチレン性不飽和結合を有する化合物、光で生
じる酸により触媒される反応をする化合物を含む。
着性、基板との接着性、等の物理的性質の変化する化合
物であって、例えば感光性ジアゾ化合物、感光性アジド
化合物、エチレン性不飽和結合を有する化合物、光で生
じる酸により触媒される反応をする化合物を含む。
適当な感光性ジアゾ化合物としてはp−ジアゾジフェニ
ルアミンの塩、例えばフェノール塩、フルオロカプリン
酸塩、及びトリイソプロピルナフタレンスルホン酸、4
.4’−ビスフェニルジスルホン酸、5−ニトロオルト
−トルエンスルホン酸、5−スルホサリチル酸、2.5
−ジメチルベンゼンスルホン酸、2−二トロベンゼンス
ルホン酸、3−クロロベンゼンスルホン酸、3−ブロモ
ベンゼンスルホンII、2−クロロ−5−二トロベンゼ
ンスルホン酸、2−フルオロカプリルナフタレンスルホ
ン酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、2−メトキシ
−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイルベンゼンスルホン酸
及びパラトルエンスルホン酸などのスルホン酸の塩など
とホルムアルデヒドとの縮合物のように一分子中に二個
以上のジアゾ基を有する化合物が好ましい。その他好ま
しいジアゾ化合物としては上記の塩を含む2,5−ジメ
トキシ−4−p−)リルメルカブトベンゼンジアゾニウ
ムとホルムアルデヒドの縮合物、2,5−ジメトキシ−
4−モルホリノベンゼンジアゾニウムとホルムアルデヒ
ド又はアセトアルデヒドとの縮合物、などがある。
ルアミンの塩、例えばフェノール塩、フルオロカプリン
酸塩、及びトリイソプロピルナフタレンスルホン酸、4
.4’−ビスフェニルジスルホン酸、5−ニトロオルト
−トルエンスルホン酸、5−スルホサリチル酸、2.5
−ジメチルベンゼンスルホン酸、2−二トロベンゼンス
ルホン酸、3−クロロベンゼンスルホン酸、3−ブロモ
ベンゼンスルホンII、2−クロロ−5−二トロベンゼ
ンスルホン酸、2−フルオロカプリルナフタレンスルホ
ン酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、2−メトキシ
−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイルベンゼンスルホン酸
及びパラトルエンスルホン酸などのスルホン酸の塩など
とホルムアルデヒドとの縮合物のように一分子中に二個
以上のジアゾ基を有する化合物が好ましい。その他好ま
しいジアゾ化合物としては上記の塩を含む2,5−ジメ
トキシ−4−p−)リルメルカブトベンゼンジアゾニウ
ムとホルムアルデヒドの縮合物、2,5−ジメトキシ−
4−モルホリノベンゼンジアゾニウムとホルムアルデヒ
ド又はアセトアルデヒドとの縮合物、などがある。
さらに、他の有用なジアゾ化合物は、米国特許第2.6
49,373号明細書に記載されているような化合物を
含む。
49,373号明細書に記載されているような化合物を
含む。
これらは活性光照射によりジアゾ基が分解して不溶性と
なるものである。
なるものである。
一方、活性光照射によりアルカリ可溶性となる感光性ジ
アゾ化合物も使用できる。それは−分子中に少くとも一
つのO−キノンジアジド基を有する化合物であり、特に
0−キノンジアジドのスルホン酸エステル又はスルホン
酸アミドが好ましい。
アゾ化合物も使用できる。それは−分子中に少くとも一
つのO−キノンジアジド基を有する化合物であり、特に
0−キノンジアジドのスルホン酸エステル又はスルホン
酸アミドが好ましい。
このような化合物は、既に数多く知られている。
例えば米国特許第3046110号、同第304611
1号、同第3046115号、同第3046119号、
同第3’046120号、同第3 ’046121号、
同第3046122号、同第3130047号、同第3
130048号、同第3188210号、同第3184
310号、同第3130048号、同第3102809
号、同第3148983号、同第3454400号、同
第3859099号などの各明細書中に記載されている
ものを挙げることができる。
1号、同第3046115号、同第3046119号、
同第3’046120号、同第3 ’046121号、
同第3046122号、同第3130047号、同第3
130048号、同第3188210号、同第3184
310号、同第3130048号、同第3102809
号、同第3148983号、同第3454400号、同
第3859099号などの各明細書中に記載されている
ものを挙げることができる。
また適当な感光性アジド化合物としてはアジド基が直接
又はカルボニル基又はスルホニル基を介して芳香環に結
合している芳香族アジド化合物があげられる。これらは
光によりアジド基が分解して、ナイトレンを生じ、ナイ
トレンの種々の反応により不溶化するものである。好ま
しい芳香族アジド化合物としては、アジドフェニル、ア
ジドスチリルアジドベンザル、アジドベンゾイル及びア
ジドシンナモイルの如き基を1個又はそれ以上含む化合
物で、たとえば4.4′−ジアジドカルコン、4−アジ
ド−4’−(4−アジドベンゾイルエトキシ)カルコン
、N、N−ビス−p−アジド、ベンザル−p−フェニレ
ンジアミン、1.2.6−トリ(4′−アジドベンゾキ
シ)ヘキサン、2−アジド−3−クロロ−ベンゾキノン
、2.4−ジアジド−4′−エトキシアゾベンゼン、2
,6−ジ(4′−アジドベンザル)−4−メチルシクロ
ヘキサノン、4−4’−ジアジドベンゾフェノン、2,
5−ジアジド−3,6−シクロロペンゾキノン、2,5
−ビス(4−アジドスチリル)−1゜3.4−オキサジ
アゾール、2−(4−アジドシンナモイル)チオフェン
、2.5−ジ(4′−アジドベンザル)シクロヘキサノ
ン、4.4’−ジアジドフェニルメタン、1−(4−ア
ジドフェニル)−5−フリル−2−ペンタ−2,4−ジ
エン−1−オン、1−(4−アジドフェニル)−5−(
4−メトキシフェニル)−ペンタ−1,4−ジエン−3
−オン、1−(4−アジドフェニル)−3−(1−ナフ
チル)プロペン−1−オン、1−(4−アジドフェニル
)−3−(4−ジメチルアミノフェニル)−プロパン−
1−、をン、1− (4一アシトフエニルー5−フェニ
ルー1.4−ペンタジェン−3−オン、1−(4−アジ
ドフェニル)−3−(4−ニトロフェニル)−2−プロ
ペン−1−オン、1−(4−アジドフェニル)−3−(
2−フリル)−2−プロペン−1−オン、1゜2.6−
トリ(4′−アジドベンゾキシ)ヘキサン、2.6−ビ
ス(4−アジドベンジリジン−p−1−ブチル)シクロ
ヘキサノン、4.4’−ジアジドジペンザルアセトン、
4.4’−ジアジドスチルベン−2,2′−ジスルホン
酸、4′−アジドベンザルアセトフェノン−2−スルホ
ン酸、4.4′−ジアジドスチルベン−α−カルボン酸
、ジー(4−アジド−2′−ヒドロキシベンザル)アセ
トン−2−スルホン酸、4−アジドベンザルアセトフェ
ノン−2−スルホン酸、2−アジド−1,4−ジベンゼ
ンスルホニルアミノナフタレン、4.4′−ジアジド−
スチルベン−2,2′−ジスルホン酸アニリド等をあげ
ることが出来る。
又はカルボニル基又はスルホニル基を介して芳香環に結
合している芳香族アジド化合物があげられる。これらは
光によりアジド基が分解して、ナイトレンを生じ、ナイ
トレンの種々の反応により不溶化するものである。好ま
しい芳香族アジド化合物としては、アジドフェニル、ア
ジドスチリルアジドベンザル、アジドベンゾイル及びア
ジドシンナモイルの如き基を1個又はそれ以上含む化合
物で、たとえば4.4′−ジアジドカルコン、4−アジ
ド−4’−(4−アジドベンゾイルエトキシ)カルコン
、N、N−ビス−p−アジド、ベンザル−p−フェニレ
ンジアミン、1.2.6−トリ(4′−アジドベンゾキ
シ)ヘキサン、2−アジド−3−クロロ−ベンゾキノン
、2.4−ジアジド−4′−エトキシアゾベンゼン、2
,6−ジ(4′−アジドベンザル)−4−メチルシクロ
ヘキサノン、4−4’−ジアジドベンゾフェノン、2,
5−ジアジド−3,6−シクロロペンゾキノン、2,5
−ビス(4−アジドスチリル)−1゜3.4−オキサジ
アゾール、2−(4−アジドシンナモイル)チオフェン
、2.5−ジ(4′−アジドベンザル)シクロヘキサノ
ン、4.4’−ジアジドフェニルメタン、1−(4−ア
ジドフェニル)−5−フリル−2−ペンタ−2,4−ジ
エン−1−オン、1−(4−アジドフェニル)−5−(
4−メトキシフェニル)−ペンタ−1,4−ジエン−3
−オン、1−(4−アジドフェニル)−3−(1−ナフ
チル)プロペン−1−オン、1−(4−アジドフェニル
)−3−(4−ジメチルアミノフェニル)−プロパン−
1−、をン、1− (4一アシトフエニルー5−フェニ
ルー1.4−ペンタジェン−3−オン、1−(4−アジ
ドフェニル)−3−(4−ニトロフェニル)−2−プロ
ペン−1−オン、1−(4−アジドフェニル)−3−(
2−フリル)−2−プロペン−1−オン、1゜2.6−
トリ(4′−アジドベンゾキシ)ヘキサン、2.6−ビ
ス(4−アジドベンジリジン−p−1−ブチル)シクロ
ヘキサノン、4.4’−ジアジドジペンザルアセトン、
4.4’−ジアジドスチルベン−2,2′−ジスルホン
酸、4′−アジドベンザルアセトフェノン−2−スルホ
ン酸、4.4′−ジアジドスチルベン−α−カルボン酸
、ジー(4−アジド−2′−ヒドロキシベンザル)アセ
トン−2−スルホン酸、4−アジドベンザルアセトフェ
ノン−2−スルホン酸、2−アジド−1,4−ジベンゼ
ンスルホニルアミノナフタレン、4.4′−ジアジド−
スチルベン−2,2′−ジスルホン酸アニリド等をあげ
ることが出来る。
またこれらの低分子量芳香族アジド化合物以外にも特公
昭44−9047、同44−31837、同45−96
13、同45−24915、同45−25713号公報
に記載のアジド基含有ポリマーも適当である。
昭44−9047、同44−31837、同45−96
13、同45−24915、同45−25713号公報
に記載のアジド基含有ポリマーも適当である。
適当なエチレン性不飽和結合を有する化合物としては、
エチレン結合の光二量化反応で架橋しうるポリマーおよ
び、光重合開始剤の存在下、光重合して不活性ポリマー
を与える重合可能な化合物が含まれる。
エチレン結合の光二量化反応で架橋しうるポリマーおよ
び、光重合開始剤の存在下、光重合して不活性ポリマー
を与える重合可能な化合物が含まれる。
例えばエチレン性不飽和結合を有し光二量化により不溶
化するポリマーとしては、 −CH=CH−C−基を含むポリエステル類、ポへ リアミド類、ポリカーボネート類がある。このようなポ
リマーとしては例えば米国特許第3.030.208号
及び同第3.707.373号の各明細書に記載されて
いるようなポリマー主鎖に感光基を含む感光性ポリマー
、例えばp−フェニレンジアクリル酸とジオールから成
る感光性ポリエステル、米国特許第2.956.878
号及び同第3.173.787号の各明細書に記載され
ているような感光性ポリマー、例えばシンナミリデンマ
ロン酸等の2−プロペリデンマロン酸化合物と2官能性
グリコール類とから誘導される感光性ポリエステル、米
国特許第2,690,966号、同第2.752.37
2号、同第2.732.301号の各明細書に記載され
ているような感光性ポリマー、例えばポリビニルアルコ
ール、澱粉、セルロース及びその類似物のような水酸基
含有ポリマーのケイ皮酸エステル類等である。
化するポリマーとしては、 −CH=CH−C−基を含むポリエステル類、ポへ リアミド類、ポリカーボネート類がある。このようなポ
リマーとしては例えば米国特許第3.030.208号
及び同第3.707.373号の各明細書に記載されて
いるようなポリマー主鎖に感光基を含む感光性ポリマー
、例えばp−フェニレンジアクリル酸とジオールから成
る感光性ポリエステル、米国特許第2.956.878
号及び同第3.173.787号の各明細書に記載され
ているような感光性ポリマー、例えばシンナミリデンマ
ロン酸等の2−プロペリデンマロン酸化合物と2官能性
グリコール類とから誘導される感光性ポリエステル、米
国特許第2,690,966号、同第2.752.37
2号、同第2.732.301号の各明細書に記載され
ているような感光性ポリマー、例えばポリビニルアルコ
ール、澱粉、セルロース及びその類似物のような水酸基
含有ポリマーのケイ皮酸エステル類等である。
また、光重合として不活性ポリマーを与える重合可能な
化合物としては光重合性組成物の成分として示した例が
あげられる。
化合物としては光重合性組成物の成分として示した例が
あげられる。
露光のみにより可視像を得ることのできる感光性レジス
ト形成性組成物を製造するのに使用される変色剤として
は、遊離基生成剤の光分解生成物の作用により、本来無
色であるものから有色の状態に変るものと、本来固有の
色をもつものが変色し又は脱色するものとの2種類があ
る。
ト形成性組成物を製造するのに使用される変色剤として
は、遊離基生成剤の光分解生成物の作用により、本来無
色であるものから有色の状態に変るものと、本来固有の
色をもつものが変色し又は脱色するものとの2種類があ
る。
前者の形式に属する変色剤の代表的なものとしてはアリ
ールアミノ類を挙げることができる。この目的に適する
アリールアミンとしては、第一級、第二級芳香族アミン
のような単なるアリールアミンのほかにいわゆるロイコ
色素が含まれ、これらの例としては次のようなものがあ
る。
ールアミノ類を挙げることができる。この目的に適する
アリールアミンとしては、第一級、第二級芳香族アミン
のような単なるアリールアミンのほかにいわゆるロイコ
色素が含まれ、これらの例としては次のようなものがあ
る。
ジフェニルアミン、ジベンジルアニリン、トリフェニル
アミン、ジエチルアニリン、ジフェニル−p−フェニレ
ンジアミン、p−トルイジン、4゜4′−ビフェニルジ
アミン、0−クロロアニリン、0−ブロモアニリン、4
−クロロ−〇−フェニレンジアミン、0−ブロモ−N、
N−ジメチルアニリン、1.2.3−)リフェニルグア
ニジン、ナフチルアミン、ジアミノジフェニルメタン、
アニリン、2.5−ジクロロアニリン、N−メチルジフ
ェニルアミン、0−トルイジン、p、p’−テトラメチ
ルジアミノジフェニルメタン、N、N−ジメチル−p−
フェニレンジアミン、1.2−ジアニリノエチレン、p
、p’、p’−ヘキサメチルトリアミノトリフェニルメ
タン、p、p’−テトラメチルジアミノトリフェニルメ
タン、p、p’−テトラメチルジアミノジフェニルメチ
ルイミン、p、p’、p’−トリアミノ−O−メチルト
リフェニルメタン、I)、 p’、 p’−)リアミノ
トリフェニルカルビノール、p、p’−テトラメチルア
ミノジフェニル−4−アニリノナフチルメタン、p、、
1)’、p’−)リアミノトリフェニルメタン、p、p
’、p’−ヘキサプロピルトリアミノトリフェニルメタ
ン。
アミン、ジエチルアニリン、ジフェニル−p−フェニレ
ンジアミン、p−トルイジン、4゜4′−ビフェニルジ
アミン、0−クロロアニリン、0−ブロモアニリン、4
−クロロ−〇−フェニレンジアミン、0−ブロモ−N、
N−ジメチルアニリン、1.2.3−)リフェニルグア
ニジン、ナフチルアミン、ジアミノジフェニルメタン、
アニリン、2.5−ジクロロアニリン、N−メチルジフ
ェニルアミン、0−トルイジン、p、p’−テトラメチ
ルジアミノジフェニルメタン、N、N−ジメチル−p−
フェニレンジアミン、1.2−ジアニリノエチレン、p
、p’、p’−ヘキサメチルトリアミノトリフェニルメ
タン、p、p’−テトラメチルジアミノトリフェニルメ
タン、p、p’−テトラメチルジアミノジフェニルメチ
ルイミン、p、p’、p’−トリアミノ−O−メチルト
リフェニルメタン、I)、 p’、 p’−)リアミノ
トリフェニルカルビノール、p、p’−テトラメチルア
ミノジフェニル−4−アニリノナフチルメタン、p、、
1)’、p’−)リアミノトリフェニルメタン、p、p
’、p’−ヘキサプロピルトリアミノトリフェニルメタ
ン。
また本来固有の色を有し、遊離基生成剤の光分解生成物
によりこの色が変色し、又は脱色するような変色剤とし
ては、ジフェニルメタン、トリフェニルメタン系チアジ
ン、オキサジン系、キサンチン系、アンスラキノン系、
イミノナフトキノン系アゾメチン系等の各種色素が有効
に用いられる。
によりこの色が変色し、又は脱色するような変色剤とし
ては、ジフェニルメタン、トリフェニルメタン系チアジ
ン、オキサジン系、キサンチン系、アンスラキノン系、
イミノナフトキノン系アゾメチン系等の各種色素が有効
に用いられる。
これらの例としては次のようなものがある。ブリリアン
トグリーン、エオシン、エチルバイオレット、エリスロ
シンB1メチルグリーン、クリスタルバイオレット、ペ
イシックツクシン、フェノールフタレイン、1.3−ジ
フェニルトリアジン、アリザリンレッドS1チモールフ
タレイン、メチルバイオレット2B、キナルジンレッド
、ローズベンガル、メタニルイエロー、チモールスルホ
フタレイン、キシレノールブルー、メチルオレンジ、オ
レンジ■、ジフェニルチオカルバゾン、2.7−ジクロ
ロフルオレセイン、パラメチルレッド、コンゴーレッド
、ベンゾブルーリン4B、α−ナフチルレッド、ナイル
ブルー2B、ナイルブルーA1フエナセタリン、メチル
バイオレット、マラカイトグリーン、パラツクシン、オ
イルブルー#603〔オリエント化学工業■製〕、オイ
ルピンク#312(オリエント化学工業■製〕、オイル
レッド5Bmオリエント化学工業■製〕、オイルブルー
レツト#308[:オリエント化学工業■製〕、オイル
レッドOG〔オリエント化学工業■製〕、オイルレッド
RPCオリエント化学工業■製〕、オイルグリーン#5
02(オリエント化学工業■製〕、スピロンレッドBE
Hスペシャル〔保土谷化学工業■製〕、m−タレゾール
パープノペクレゾールレッド、ローダミンB10−ダミ
ン6G1フアーストアシツドバイオレツトR1スルホロ
ーダミンB1オーラミン、4−p−ジエチルアミノフェ
ニルイミノナフトキノン、2−カルボキシアニリノ−4
−p−ジエチルアミノフェニルイミノナフトキノン、2
−カルボステアリルアミノ−4−p−ジヒドロオキシエ
チル−アミノ−フェニルイミノナフトキノン、p−メト
キシベンゾイル−p′−ジエチルアミノ−0′−メチル
フェニルイミノアセトアニリド、シアノ−p−ジエチル
アミノフェニルイミノアセトアニリド、1−フェニル−
3−メーF−ルー4−p−ジエチルアミノフェニルイミ
ノ−5−ピラゾロン、1−β−ナフチル−4−p−ジエ
チルアミノフェニルイミノ−5−ピラゾロン。
トグリーン、エオシン、エチルバイオレット、エリスロ
シンB1メチルグリーン、クリスタルバイオレット、ペ
イシックツクシン、フェノールフタレイン、1.3−ジ
フェニルトリアジン、アリザリンレッドS1チモールフ
タレイン、メチルバイオレット2B、キナルジンレッド
、ローズベンガル、メタニルイエロー、チモールスルホ
フタレイン、キシレノールブルー、メチルオレンジ、オ
レンジ■、ジフェニルチオカルバゾン、2.7−ジクロ
ロフルオレセイン、パラメチルレッド、コンゴーレッド
、ベンゾブルーリン4B、α−ナフチルレッド、ナイル
ブルー2B、ナイルブルーA1フエナセタリン、メチル
バイオレット、マラカイトグリーン、パラツクシン、オ
イルブルー#603〔オリエント化学工業■製〕、オイ
ルピンク#312(オリエント化学工業■製〕、オイル
レッド5Bmオリエント化学工業■製〕、オイルブルー
レツト#308[:オリエント化学工業■製〕、オイル
レッドOG〔オリエント化学工業■製〕、オイルレッド
RPCオリエント化学工業■製〕、オイルグリーン#5
02(オリエント化学工業■製〕、スピロンレッドBE
Hスペシャル〔保土谷化学工業■製〕、m−タレゾール
パープノペクレゾールレッド、ローダミンB10−ダミ
ン6G1フアーストアシツドバイオレツトR1スルホロ
ーダミンB1オーラミン、4−p−ジエチルアミノフェ
ニルイミノナフトキノン、2−カルボキシアニリノ−4
−p−ジエチルアミノフェニルイミノナフトキノン、2
−カルボステアリルアミノ−4−p−ジヒドロオキシエ
チル−アミノ−フェニルイミノナフトキノン、p−メト
キシベンゾイル−p′−ジエチルアミノ−0′−メチル
フェニルイミノアセトアニリド、シアノ−p−ジエチル
アミノフェニルイミノアセトアニリド、1−フェニル−
3−メーF−ルー4−p−ジエチルアミノフェニルイミ
ノ−5−ピラゾロン、1−β−ナフチル−4−p−ジエ
チルアミノフェニルイミノ−5−ピラゾロン。
本発明の感光性組成物中で、遊離基生成剤すなわち光活
性剤は経時的に安定であるが、変色剤として用いられる
もののうちロイコトリフェニルメタン色素は一般に酸化
されやすい。そこでこれらの色素を用いるときはある種
の安定剤を含ませることが有効である。この目的の安定
剤としては米国特許3,042.575号明細書に記載
のアミン類、酸化亜鉛、フェノール類、同3.042.
516号明細書に記載のイオウ化合物、同3.042.
518号明細書に記載のアルカリ金属ヨウ化物、有機酸
、同3082086号明細書に記載の有機酸無水物、同
3377167号明細書に記載のアンチモン、ヒ素、ビ
スマス、リンのトリアリール化合物が有効である。
性剤は経時的に安定であるが、変色剤として用いられる
もののうちロイコトリフェニルメタン色素は一般に酸化
されやすい。そこでこれらの色素を用いるときはある種
の安定剤を含ませることが有効である。この目的の安定
剤としては米国特許3,042.575号明細書に記載
のアミン類、酸化亜鉛、フェノール類、同3.042.
516号明細書に記載のイオウ化合物、同3.042.
518号明細書に記載のアルカリ金属ヨウ化物、有機酸
、同3082086号明細書に記載の有機酸無水物、同
3377167号明細書に記載のアンチモン、ヒ素、ビ
スマス、リンのトリアリール化合物が有効である。
本発明の感光性組成物は前述の各種構成成分を溶媒中に
溶解せしめ、適当な支持体上に公知の方法により塗布し
て用いられる。次に、この場合の各種構成成分の好まし
い比率および特に好ましい比率を感光性レジスト形成性
化合物8100重量部に対する重量部で表わす。
溶解せしめ、適当な支持体上に公知の方法により塗布し
て用いられる。次に、この場合の各種構成成分の好まし
い比率および特に好ましい比率を感光性レジスト形成性
化合物8100重量部に対する重量部で表わす。
本発明の感光性組成物を塗布するときに用いられる溶媒
としては、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メ
チルエチルケトン、酢酸メチルセロソルブ、モノクロル
ベンゼン、トルエン、酢酸エチルなどがある。これらの
溶媒は単独又は混合して使用される。
としては、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メ
チルエチルケトン、酢酸メチルセロソルブ、モノクロル
ベンゼン、トルエン、酢酸エチルなどがある。これらの
溶媒は単独又は混合して使用される。
本発明の感光性組成物は感光性平版印刷版の感光層とし
て好適である。感光性平版印刷版を製造する場合、塗布
量は一般的に固形分として0.1〜10、0 g /
m”が適当であり、特に好ましくは0.5〜5.0g/
m’である。感光性平版印刷版に適した支持体としては
、親水化処理したアルミニウム板、たとえばシリケート
処理アルミニウム板、陽極酸化アルミニウム板、砂目立
てしたアルミニウム板、シリケート電着したアルミニウ
ム板があり、その他面鉛板、ステンレス板、クローム処
理銅板、親水化処理したプラスチックフィルムや紙を挙
げることができる。
て好適である。感光性平版印刷版を製造する場合、塗布
量は一般的に固形分として0.1〜10、0 g /
m”が適当であり、特に好ましくは0.5〜5.0g/
m’である。感光性平版印刷版に適した支持体としては
、親水化処理したアルミニウム板、たとえばシリケート
処理アルミニウム板、陽極酸化アルミニウム板、砂目立
てしたアルミニウム板、シリケート電着したアルミニウ
ム板があり、その他面鉛板、ステンレス板、クローム処
理銅板、親水化処理したプラスチックフィルムや紙を挙
げることができる。
また印刷用校正版、オーバーヘッドプロジェクタ−用フ
ィルム、第2原図用フィルムの製造に本発明の感光性組
成物を用いる場合、これらに適する支持体としてはポリ
エチレンテレフタレートフィルム、三酢酸セルローズフ
ィルム等の透明フィルムや、これらのプラスチックフィ
ルムの表面を化学的又は物質的にマット化したものを挙
げることができる。
ィルム、第2原図用フィルムの製造に本発明の感光性組
成物を用いる場合、これらに適する支持体としてはポリ
エチレンテレフタレートフィルム、三酢酸セルローズフ
ィルム等の透明フィルムや、これらのプラスチックフィ
ルムの表面を化学的又は物質的にマット化したものを挙
げることができる。
本発明の感光性組成物をフォトマスク用フィルムの製造
に使用する場合、好適な支持体としてはアルミニウム、
アルミニウム合金やクロムを蒸着させたポリエチレンテ
レフタレートフィルムや着色層を設けたポリエチレンテ
レフタレートフィルムを挙げることができる。
に使用する場合、好適な支持体としてはアルミニウム、
アルミニウム合金やクロムを蒸着させたポリエチレンテ
レフタレートフィルムや着色層を設けたポリエチレンテ
レフタレートフィルムを挙げることができる。
また本発明の組成物をフォトレジストとして使用する場
合には銅板又は銅メツキ板、ステンレス板、ガラス板等
の種々のものを支持体として用いることができる。
合には銅板又は銅メツキ板、ステンレス板、ガラス板等
の種々のものを支持体として用いることができる。
一般式(I)で示される遊離基生成剤が種々の感光性レ
ジスト形成性化合物を含む感光性レジスト形成性組成物
中で、光の作用を受けたときに分解して共存する変色剤
を効率よく即座に変色させることは驚くべきことである
。結果として露光部分と未露光部分に鮮明な境界が得ら
れ、コントラストに富んだ可視像として認識される。
ジスト形成性化合物を含む感光性レジスト形成性組成物
中で、光の作用を受けたときに分解して共存する変色剤
を効率よく即座に変色させることは驚くべきことである
。結果として露光部分と未露光部分に鮮明な境界が得ら
れ、コントラストに富んだ可視像として認識される。
また、一般式(I)で示される遊離基生成剤は感光性レ
ジスト形成性化合物の光分解をあまり阻害しないので感
光性レジスト形成性組成物の感光度(レジストの感光度
)をあまり低下させない。
ジスト形成性化合物の光分解をあまり阻害しないので感
光性レジスト形成性組成物の感光度(レジストの感光度
)をあまり低下させない。
また一般式(I)で示される遊離基生成剤は少量の添加
量で有効のため、感光性レジスト形成性組成物を画像露
光、現像役得られるレジスト画像の物理的緒特性を劣化
しない。たとえば本発明の感光性レジスト形成性組成物
を感光性平版印刷版の感光性層として用いたときに得ら
れる印刷版の現像性、感脂性、印刷汚れ、耐剛性などの
緒特性は遊離基生成剤未添加時と同等である。
量で有効のため、感光性レジスト形成性組成物を画像露
光、現像役得られるレジスト画像の物理的緒特性を劣化
しない。たとえば本発明の感光性レジスト形成性組成物
を感光性平版印刷版の感光性層として用いたときに得ら
れる印刷版の現像性、感脂性、印刷汚れ、耐剛性などの
緒特性は遊離基生成剤未添加時と同等である。
また、一般式(I)で示される遊離基生成剤は、は良好
な水素引抜き剤であり、水素供与体が存在すると酸を生
じる。したがって、酸により分解する化合物を共存させ
ることにより光分解性感光性組成物となる。酸により分
解する化合物の例は、米国特許第4.101.323号
、同4.247.611号、同4、248.957号、
同4.250.247号あるいは同4、311.782
号の各明細書に記載されている。
な水素引抜き剤であり、水素供与体が存在すると酸を生
じる。したがって、酸により分解する化合物を共存させ
ることにより光分解性感光性組成物となる。酸により分
解する化合物の例は、米国特許第4.101.323号
、同4.247.611号、同4、248.957号、
同4.250.247号あるいは同4、311.782
号の各明細書に記載されている。
以下、本発明に使用される遊離基生成剤の合成例と本発
明の実施例を記すが本発明はこれに限定されるものでは
ない。
明の実施例を記すが本発明はこれに限定されるものでは
ない。
合成例
2−(p−ジフェニルアセチレン)−4,6−ビス(ト
リクロロメチル−8−トリアジン(例示化合物No、
1 )の合成 公知の方法により合成された4−シアノスチルベン41
gをエーテル3001117!中で室温で攪拌しながら
臭素33.5 gを滴下して添加した。更に1時間攪拌
した後に濾別して、4−シアノスチルベンジブロマイド
55.5 gを得た。
リクロロメチル−8−トリアジン(例示化合物No、
1 )の合成 公知の方法により合成された4−シアノスチルベン41
gをエーテル3001117!中で室温で攪拌しながら
臭素33.5 gを滴下して添加した。更に1時間攪拌
した後に濾別して、4−シアノスチルベンジブロマイド
55.5 gを得た。
4−シアノスチルベンジブロマイド50.5 gをジメ
チルホルムアミド3QQmj!に溶解させ、室温にてジ
アザビシクロウンデセン45.6 gを加えた。後に反
応液を100℃まで加熱し2時間反応させた。反応液を
希塩酸水に投入し、生成する沈殿を濾集した。メタノー
ルより再結晶し、4−シアノ−ジフェニルアセチレン1
2.0 gを得た。
チルホルムアミド3QQmj!に溶解させ、室温にてジ
アザビシクロウンデセン45.6 gを加えた。後に反
応液を100℃まで加熱し2時間反応させた。反応液を
希塩酸水に投入し、生成する沈殿を濾集した。メタノー
ルより再結晶し、4−シアノ−ジフェニルアセチレン1
2.0 gを得た。
4−シアノ−ジフェニルアセチレン10gおよびトリク
ロロアセトニトリル28.8 gをクロロホルム50m
Aに溶解させ、この溶液を5℃に冷却しながら臭化アル
ミニウム1.3gを加え、さらに塩化水素ガスを1時間
反応系に導入した。塩化水素を吹き込んだ後、室温にて
8時間反応させた。
ロロアセトニトリル28.8 gをクロロホルム50m
Aに溶解させ、この溶液を5℃に冷却しながら臭化アル
ミニウム1.3gを加え、さらに塩化水素ガスを1時間
反応系に導入した。塩化水素を吹き込んだ後、室温にて
8時間反応させた。
減圧下にて溶媒を留去させた後、氷水300mAに投入
し、粗結晶を得た。トルエンにより再結晶し、2−(p
−ジフェニルアセチレン)−4,6−ビス(トリクロロ
メチル)−S−)リアジン3.4gを得た(融点200
.0〜201.0℃)。
し、粗結晶を得た。トルエンにより再結晶し、2−(p
−ジフェニルアセチレン)−4,6−ビス(トリクロロ
メチル)−S−)リアジン3.4gを得た(融点200
.0〜201.0℃)。
(電子スペクトル メタノール中 λmax 345
nm)実施例1 ナイロンブラシで砂目立て後シリケート処理したアルミ
ニウム板に回転塗布機を用いて下記感光液を塗布し、1
00℃、3分間乾燥し、感光層を形成させ感光板を作製
した。
nm)実施例1 ナイロンブラシで砂目立て後シリケート処理したアルミ
ニウム板に回転塗布機を用いて下記感光液を塗布し、1
00℃、3分間乾燥し、感光層を形成させ感光板を作製
した。
なお感光板は、本発明の一般式(I)で示される化合物
を用いたものと、比較のために公知の化合物を用いたも
のを調製した。化合物については第1表に示す。
を用いたものと、比較のために公知の化合物を用いたも
のを調製した。化合物については第1表に示す。
感光液
メククリル酸メチルーメタクリル酸
(モル比85/15)共重合体
(MEK中、30℃における極
限粘度0.166 ) 62 gペン
タエリスリトールテトラ アクリレート 38g遊離基生成
剤(第1表に記載) 2gトリフェニルフォス
フェート 10gエチルセロソルブ
65 Qmj!塩化メチレン
35 Q+ylII抛は真空焼枠装置を用いて、感光板
上にステップ・ウェッジ(濃度段差0.15゜濃度段数
0〜15段)を置き、メタルハライドランプ(0,5k
W)を照射し、露光後下記処方の現像液を用いて現像し
た。
タエリスリトールテトラ アクリレート 38g遊離基生成
剤(第1表に記載) 2gトリフェニルフォス
フェート 10gエチルセロソルブ
65 Qmj!塩化メチレン
35 Q+ylII抛は真空焼枠装置を用いて、感光板
上にステップ・ウェッジ(濃度段差0.15゜濃度段数
0〜15段)を置き、メタルハライドランプ(0,5k
W)を照射し、露光後下記処方の現像液を用いて現像し
た。
現像液
リン酸三ナトリウム 25gリン酸−ナ
トリウム 5gブチルセロソルブ
70g活性剤
2rnl水
1ml現像により得られた画像におけるス
テップ・ウェッジの同一段数での濃度が等しくなるよう
露光した場合の露光時間を第1表に示した。露光時間が
短いほど感度が高いことを意味する。
トリウム 5gブチルセロソルブ
70g活性剤
2rnl水
1ml現像により得られた画像におけるス
テップ・ウェッジの同一段数での濃度が等しくなるよう
露光した場合の露光時間を第1表に示した。露光時間が
短いほど感度が高いことを意味する。
第1表に示したように本発明による一般式(1)で示さ
れる化合物は、既存のトリクロロメチル基を有する5−
)1tアジン化合物(実験N003〜5の化合物)に比
較し、高い感度を示し、本発明の所期の効果が十分に認
められた。
れる化合物は、既存のトリクロロメチル基を有する5−
)1tアジン化合物(実験N003〜5の化合物)に比
較し、高い感度を示し、本発明の所期の効果が十分に認
められた。
実施例2
実施例1で得たアルミニウム板に次の感光液を塗布し、
感光性印刷版を得た。
感光性印刷版を得た。
ペンタエリスリトールテトラ
アクリレート 40g遊離基生
成剤No、4 2gメタクリル酸
ベンジル−メタ グリル酸(モル比73/27) 共重合体 60gメチルエチ
ルケトン 40 Qmj!メチルセロソ
ルブアセテ−) aoomlこの感光性印刷版
をジェット・プリンター(2kW超高圧水銀灯、オーク
製作新製)にて像露光した後、下記組成の現像液にて現
像すると未露光部が除去され鮮明な画像が得られた。
成剤No、4 2gメタクリル酸
ベンジル−メタ グリル酸(モル比73/27) 共重合体 60gメチルエチ
ルケトン 40 Qmj!メチルセロソ
ルブアセテ−) aoomlこの感光性印刷版
をジェット・プリンター(2kW超高圧水銀灯、オーク
製作新製)にて像露光した後、下記組成の現像液にて現
像すると未露光部が除去され鮮明な画像が得られた。
無水炭酸ナトリウム 10gブチルセ
ロソルブ 5g水
11また、未露光の
印刷版を強制経時試験(45℃75%R,8,5日間)
した後に露光、現像しても塗布直後の印刷版と全く同様
に鮮明な画像が得られた。
ロソルブ 5g水
11また、未露光の
印刷版を強制経時試験(45℃75%R,8,5日間)
した後に露光、現像しても塗布直後の印刷版と全く同様
に鮮明な画像が得られた。
実施例3
実施例1で得たアルミニウム板に次の感光液を塗布し、
感光性印刷版を得た。
感光性印刷版を得た。
トリメチロールプロパントリ
メタクリレ−) 0.30 gト
リエチレングリコールジア クリレー) 0.08 gメ
タクリル酸メチル−アクリ ル酸エチルーメタクリル酸 (モル比80/10/10) 共重合体 0.62 g遊離基
生成剤No、6 0.02gロイコク
リスタルバイオレット 0.008 gメチルエチル
ケトン 10gこの感光性平版印刷版
を画像露光したところ、コントラストに富んだ焼出し画
像が得られた。
リエチレングリコールジア クリレー) 0.08 gメ
タクリル酸メチル−アクリ ル酸エチルーメタクリル酸 (モル比80/10/10) 共重合体 0.62 g遊離基
生成剤No、6 0.02gロイコク
リスタルバイオレット 0.008 gメチルエチル
ケトン 10gこの感光性平版印刷版
を画像露光したところ、コントラストに富んだ焼出し画
像が得られた。
その後苛性ソーダ1.2g、イソプロピルアルコール3
QQmj!、水900m1よりなる現像液により未露光
部を除去することにより平版印刷版を得た。
QQmj!、水900m1よりなる現像液により未露光
部を除去することにより平版印刷版を得た。
実施例4
表面を砂目室てした厚さ0.15 mmのアルミニウム
板に次の感光液をホエラーで塗布し100℃にふいて2
分間乾燥を行ない感光性平版印刷版を作製した。
板に次の感光液をホエラーで塗布し100℃にふいて2
分間乾燥を行ない感光性平版印刷版を作製した。
ナフトキノン−(1,2)−
ジアジド(2)−5−スルホニ
ルクロリドとピロガロール
アセトン樹脂とのエステル
化物 0.75 gタレゾ
ールノボラック樹脂 2.1gテトラヒドロ
無水フタル酸 0.15gクリスタルバイオレ
ット 0.02 g遊離基生成剤(第2表に 記載のもの) 0.02gエチレ
ンジクロリド 18gメチルセロソル
ブ 12gこれらの感光性印刷版を
実施例2で用いたジェット・プリンターを使用して露光
し、露光部と未露光部の感光層の光学濃度をマクベス反
射濃度計を用いて測定した。
ールノボラック樹脂 2.1gテトラヒドロ
無水フタル酸 0.15gクリスタルバイオレ
ット 0.02 g遊離基生成剤(第2表に 記載のもの) 0.02gエチレ
ンジクロリド 18gメチルセロソル
ブ 12gこれらの感光性印刷版を
実施例2で用いたジェット・プリンターを使用して露光
し、露光部と未露光部の感光層の光学濃度をマクベス反
射濃度計を用いて測定した。
露光により得られた画像は露光部の濃度と未露光部のそ
れとの間の差(△D)が大きい程、鮮明にみえる。
れとの間の差(△D)が大きい程、鮮明にみえる。
さらにこれらの感光性平版印刷版を強制経時させた後、
上記測定を繰返した。強制経時の条件は温度45℃、湿
度75%、7日間であった。
上記測定を繰返した。強制経時の条件は温度45℃、湿
度75%、7日間であった。
これらの結果を第2表に示した。
第2表に示したように、一般式(I)で示される遊離基
生成剤を用いた感光性印刷版は△Dの値が大きく、鮮明
な画像を与えた。また、一般式(1)で示される遊離基
生成剤を用いた場合、2−(p−スチリルフェニル)−
4,6−ビス(トリクロロメチル)−S−)リアジンを
用いた場合(比較例)に比較しても高い△Dの値を示し
、一般式(I)で示される遊離基生成剤の高い感度が認
められた。
生成剤を用いた感光性印刷版は△Dの値が大きく、鮮明
な画像を与えた。また、一般式(1)で示される遊離基
生成剤を用いた場合、2−(p−スチリルフェニル)−
4,6−ビス(トリクロロメチル)−S−)リアジンを
用いた場合(比較例)に比較しても高い△Dの値を示し
、一般式(I)で示される遊離基生成剤の高い感度が認
められた。
さらに、露光後の印刷版をDP−1(商品名:富士写真
フィルム株式会社製、ポジ型PS版用現像液)の6倍希
釈液で25℃において60秒間現像し感度を測定したと
ころ、一般式(I)で示される遊離基生成剤を用いた場
合(第2表、実験N092)、これを用いない場合(第
2表、実験No、1 )と同じであった。これにより、
一般式(I)で示される遊離基生成剤は感光物のレジス
ト感度を低下させないことが示された。
フィルム株式会社製、ポジ型PS版用現像液)の6倍希
釈液で25℃において60秒間現像し感度を測定したと
ころ、一般式(I)で示される遊離基生成剤を用いた場
合(第2表、実験N092)、これを用いない場合(第
2表、実験No、1 )と同じであった。これにより、
一般式(I)で示される遊離基生成剤は感光物のレジス
ト感度を低下させないことが示された。
実施例5
実施例4で得たアルミニウム板に次の感光液を塗布し感
光性印刷版を得た。
光性印刷版を得た。
ナフトキノン−(1,2)−
ジアジド−(2)−5−スルホ
ニルクロリドとクレゾール
ノボラック樹脂のエステル
化反応生成物 0.75 gタレゾ
ールノボラック樹脂 2.10 gテトラヒド
ロ無水フタル酸 0.15 g遊離基生成剤N
o、21 0.01 gクリスタルバイ
オレット o、 o i gオイルブルー#
603 0.01g(オリエント化学工業
株式 %式% 乾燥後の塗布重量は2.2g/m’であった。この感光
性平版印刷版は画像露光することによって現像すること
なく鮮明な焼出し画像を得ることができた。露光された
部分が退色し、露光されなかった部分が元の濃度に保た
れたため、安全灯下でも画像の細部まで認識することが
できた。
ールノボラック樹脂 2.10 gテトラヒド
ロ無水フタル酸 0.15 g遊離基生成剤N
o、21 0.01 gクリスタルバイ
オレット o、 o i gオイルブルー#
603 0.01g(オリエント化学工業
株式 %式% 乾燥後の塗布重量は2.2g/m’であった。この感光
性平版印刷版は画像露光することによって現像すること
なく鮮明な焼出し画像を得ることができた。露光された
部分が退色し、露光されなかった部分が元の濃度に保た
れたため、安全灯下でも画像の細部まで認識することが
できた。
実施例6
実施例1で得たアルミニウム板に次の感光液を塗布し感
光性印刷版を得た。
光性印刷版を得た。
p−ジアゾジフェニルアミン
とパラホルムアルデヒドの
縮合物のp−トルエンスル
ホン酸塩 0.2 gポリビ
ニルホルマール 0.75 g遊離基生成
剤No、22 0.02 gN、N−
ジメチルアニリン 0.02 gメチルセロソ
ルブ 20gメタノール
5g乾燥塗布量は1.4g/rr1
′であった。この感光性平版印刷版を画像露光したとこ
ろ、露光された部分が紫色に発色し、露光されなかった
部分は元の黄色に保たれたため、安全灯下でも細部まで
認識できる焼出し画像が得゛られた。
ニルホルマール 0.75 g遊離基生成
剤No、22 0.02 gN、N−
ジメチルアニリン 0.02 gメチルセロソ
ルブ 20gメタノール
5g乾燥塗布量は1.4g/rr1
′であった。この感光性平版印刷版を画像露光したとこ
ろ、露光された部分が紫色に発色し、露光されなかった
部分は元の黄色に保たれたため、安全灯下でも細部まで
認識できる焼出し画像が得゛られた。
実施例7
実施例1で得たアルミニウム板に次の感光液を塗布し感
光性印刷版を得た。
光性印刷版を得た。
p−フェニレンジアクリル酸
エチルと等モルの1.4−
ビス(β−ヒドロキシエト
キシ)シクロヘキサンとの
縮合で合成されたポリニス
f′lt O,5g2
−ベンゾイルメチレン−3 一メチルーβ−ナフトチア プリン 0.03 g遊離基生成
剤No、11 0.008gロイコクリス
タルバイオレット 0.008 gモノクロルベンゼ
ン 9gエチレンジクロリド
6g乾燥後の塗布重量は1.3g/m”
であった。
−ベンゾイルメチレン−3 一メチルーβ−ナフトチア プリン 0.03 g遊離基生成
剤No、11 0.008gロイコクリス
タルバイオレット 0.008 gモノクロルベンゼ
ン 9gエチレンジクロリド
6g乾燥後の塗布重量は1.3g/m”
であった。
この感光性平版印刷版を画像露光したところ、露光され
た部分が紫色に発色し、露光されなかった部分は、元の
黄色に保たれたため安全灯下でも細部まで認識できる焼
出し画像が得られた。
た部分が紫色に発色し、露光されなかった部分は、元の
黄色に保たれたため安全灯下でも細部まで認識できる焼
出し画像が得られた。
[発明の効果〕
本発明の感光性組成物は、光分解の感度が高い遊離基生
成剤を含んでおり、感度が高く、感光性平版印刷版、印
刷用校正版、オーバーヘッドプロジェクタ−用フィルム
、第2原図面用フィルム、フォトマスク用フィルム、フ
ォトレジスト等の製造に有利に用いられる。また本発明
の感光性組成物を用いた感光性平版印刷版は、高温高湿
条件で長期間保存した後にも、コントラストに富む、鮮
明な焼出し画像を与える。
成剤を含んでおり、感度が高く、感光性平版印刷版、印
刷用校正版、オーバーヘッドプロジェクタ−用フィルム
、第2原図面用フィルム、フォトマスク用フィルム、フ
ォトレジスト等の製造に有利に用いられる。また本発明
の感光性組成物を用いた感光性平版印刷版は、高温高湿
条件で長期間保存した後にも、コントラストに富む、鮮
明な焼出し画像を与える。
昭和 年 月 日
1、事件の表示 昭和60年特許願第198868
号2、発明の名称 感光性組成物 3、補正をする者 事件との関係 出願人 名 称 (520)富士写真フィルム株式会社4、代
理人
号2、発明の名称 感光性組成物 3、補正をする者 事件との関係 出願人 名 称 (520)富士写真フィルム株式会社4、代
理人
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 下記一般式( I )で示される感光性s−トリアジン化
合物を含有する感光性組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) ここで、AおよびBは無置換または置換された芳香族残
基または無置換または置換された複素芳香族残基を、Y
は塩素原子または臭素原子を、nは1〜3の整数を表わ
す。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60198868A JPH0766185B2 (ja) | 1985-09-09 | 1985-09-09 | 感光性組成物 |
| US06/903,711 US4772534A (en) | 1985-09-09 | 1986-09-05 | Light sensitive composition containing a light sensitive s-triazine compound |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60198868A JPH0766185B2 (ja) | 1985-09-09 | 1985-09-09 | 感光性組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6258241A true JPS6258241A (ja) | 1987-03-13 |
| JPH0766185B2 JPH0766185B2 (ja) | 1995-07-19 |
Family
ID=16398258
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60198868A Expired - Fee Related JPH0766185B2 (ja) | 1985-09-09 | 1985-09-09 | 感光性組成物 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4772534A (ja) |
| JP (1) | JPH0766185B2 (ja) |
Cited By (150)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62115150A (ja) * | 1985-07-02 | 1987-05-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
| EP0726498A1 (en) | 1995-02-10 | 1996-08-14 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photopolymerizable composition |
| US5576441A (en) * | 1994-09-06 | 1996-11-19 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive bis(halomethyloxadiazole) compound and photosensitive transfer sheet using the same |
| EP0747768A2 (en) | 1995-06-05 | 1996-12-11 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Chemically amplified positive resist composition |
| EP0784233A1 (en) | 1996-01-10 | 1997-07-16 | Mitsubishi Chemical Corporation | Photosensitive composition and lithographic printing plate |
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| EP1619023A2 (en) | 2004-07-20 | 2006-01-25 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image forming material |
| EP1621341A2 (en) | 2004-07-30 | 2006-02-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
| EP1630618A2 (en) | 2004-08-24 | 2006-03-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Production method of lithographic printing plate, lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
| EP1630602A2 (en) | 2004-08-31 | 2006-03-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Polymerizable composition, hydrophilic film formed by curing said composition and planographic printing plate precursor |
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| EP1669195A1 (en) | 2004-12-13 | 2006-06-14 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing method |
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| EP1707352A1 (en) | 2005-03-31 | 2006-10-04 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of producing a planographic printing plate |
| EP1728838A1 (en) | 2005-05-31 | 2006-12-06 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Ink composition for ink jet-recording and method for preparing lithographic printing plate using the same |
| EP1754597A2 (en) | 2005-08-19 | 2007-02-21 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing process |
| EP1755002A2 (en) | 2005-08-18 | 2007-02-21 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Manufacturing method of lithographic printing plate and manufacturing apparatus of lithographic printing plate |
| EP1757635A1 (en) | 2005-08-23 | 2007-02-28 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Curable modified oxetane compound and ink composition comprising it |
| EP1762599A1 (en) | 2005-09-07 | 2007-03-14 | FUJIFILM Corporation | Ink composition, inkjet recording method, printed material, process for producing lithographic plate, and lithographic printing plate |
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| WO2007108367A1 (ja) | 2006-03-17 | 2007-09-27 | Fujifilm Corporation | 高分子化合物およびその製造方法、顔料分散剤、顔料分散組成物、光硬化性組成物、並びにカラーフィルタおよびその製造方法 |
| WO2007116565A1 (ja) | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Fujifilm Corporation | 光記録媒体の処理方法及び処理装置、並びに光記録再生装置 |
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Also Published As
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| US4772534A (en) | 1988-09-20 |
| JPH0766185B2 (ja) | 1995-07-19 |
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