JPS63152380A - 新規なチオキナクリドンとイソチオキナクリドンならびにそれらの製造方法及び使用法 - Google Patents
新規なチオキナクリドンとイソチオキナクリドンならびにそれらの製造方法及び使用法Info
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- JPS63152380A JPS63152380A JP62282273A JP28227387A JPS63152380A JP S63152380 A JPS63152380 A JP S63152380A JP 62282273 A JP62282273 A JP 62282273A JP 28227387 A JP28227387 A JP 28227387A JP S63152380 A JPS63152380 A JP S63152380A
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- G03G5/0646—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings in the same ring system
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- C07D471/02—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, at least one ring being a six-membered ring with one nitrogen atom, not provided for by groups C07D451/00 - C07D463/00 in which the condensed system contains two hetero rings
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/36—Sulfur-, selenium-, or tellurium-containing compounds
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C09B48/00—Quinacridones
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- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
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- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規なチオキナクリドンとイソチオキナクリド
ン、それらの製造方法および光導電物質としての、また
、高分子有機材料の着色のためのそれらの使用に関する
。
ン、それらの製造方法および光導電物質としての、また
、高分子有機材料の着色のためのそれらの使用に関する
。
キナクリドン類は以前から文献に記載されておりそして
高分子有機材料の着色のために有用であることが公知と
なっている。これに対して、チオキナクリドン類はこれ
まで文献に記載れていない。
高分子有機材料の着色のために有用であることが公知と
なっている。これに対して、チオキナクリドン類はこれ
まで文献に記載れていない。
本発明は、したかって、下記式1.IIまたはII、I
IIの化合物を提供するものである。
IIの化合物を提供するものである。
(1) (II)(III)
式中、Rは−F、 −CI 、−Br、 C1−CHa
−アルキルまたはC,−C3−アルコキシを意味しモし
てnは0,1.2または3の数である。
−アルキルまたはC,−C3−アルコキシを意味しモし
てnは0,1.2または3の数である。
Hの意味するC+−C+a−アルキル基は直鎖状または
分枝状であり得、そして炭素数は好ましくは1乃至12
、より好ましくは1乃至6そして特に好ましくは1乃至
3個である。
分枝状であり得、そして炭素数は好ましくは1乃至12
、より好ましくは1乃至6そして特に好ましくは1乃至
3個である。
例示すれば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル
、ブチル、5ec−ブチル、tert−ブチル、ペンチ
ル、イソペンチル、tert−ペンチル、ネオペンチル
、ヘキシル、ネオヘキシル、オクチル、2−エチルヘキ
シル、デシル、ドデシルおよびステアリルである。
、ブチル、5ec−ブチル、tert−ブチル、ペンチ
ル、イソペンチル、tert−ペンチル、ネオペンチル
、ヘキシル、ネオヘキシル、オクチル、2−エチルヘキ
シル、デシル、ドデシルおよびステアリルである。
nは特に好ましくは0または1である。
Rとnが上記に定義した意味を有する式■およびIIの
化合物が特に重要である。
化合物が特に重要である。
特別に興味あるものはnが0または1であり、モしてR
が−F、 −CI 、−Br、 −GH3または−OC
H,を意味する式Iの化合物である。
が−F、 −CI 、−Br、 −GH3または−OC
H,を意味する式Iの化合物である。
式I、■、II、IIIの化合物は、たとえば、SをO
で置換した式I、■、II、IIIのいずれかに相当す
るキナクリドン、キナクリドンキノンまたはイソキナク
リドンをチオ化剤と一諸に加熱することにより製造でき
る。適当なチオ化剤の例は、三硫化口リン(P4S3)
、七硫化四リン(P4S7) 、十硫化四リン(P4S
+o)およびそのピリジン錯塩p4slOX 4(:5
H5N 、さらにジチアホスフェタン、特に2.4−ビ
ス−(4−メトキシフェニル)−1,3−ジチア−2,
4−ジホスフエタン−2,4−二硫化物[これはラウエ
ソン試薬(Lawesson’s reagent)と
して公知である]などである。最後に挙げたものおよび
十硫化四リンが好ましい。さらに、アリールチオノホス
フィンも適当である。これは、たとえば、テトラヘドロ
ン(Tetrahedron)、Vol、41. No
、22.5061−5087頁、特に5062頁(19
85)にエム・ピー・ケイヴア (M、P、Gava)
およびエム・アイ・レーヴインソン(M、1.Levi
nson)によって記載されている。
で置換した式I、■、II、IIIのいずれかに相当す
るキナクリドン、キナクリドンキノンまたはイソキナク
リドンをチオ化剤と一諸に加熱することにより製造でき
る。適当なチオ化剤の例は、三硫化口リン(P4S3)
、七硫化四リン(P4S7) 、十硫化四リン(P4S
+o)およびそのピリジン錯塩p4slOX 4(:5
H5N 、さらにジチアホスフェタン、特に2.4−ビ
ス−(4−メトキシフェニル)−1,3−ジチア−2,
4−ジホスフエタン−2,4−二硫化物[これはラウエ
ソン試薬(Lawesson’s reagent)と
して公知である]などである。最後に挙げたものおよび
十硫化四リンが好ましい。さらに、アリールチオノホス
フィンも適当である。これは、たとえば、テトラヘドロ
ン(Tetrahedron)、Vol、41. No
、22.5061−5087頁、特に5062頁(19
85)にエム・ピー・ケイヴア (M、P、Gava)
およびエム・アイ・レーヴインソン(M、1.Levi
nson)によって記載されている。
反応は不活性有機溶剤中、チオ化剤の過剰を使用して、
50乃至250 ”C1好ましくは80乃至160℃の
温度で実施される。適当な溶剤の例はっぎのもである:
芳香族炭化水素たとえばベンセン、トルエン、キシレン
またはテトラヒドロナフタレン、塩素化芳香族炭化水素
たとえばクロロベンゼンおよび。−ジクロロベンゼン、
エーテル類たとえばエチレングリコールジメチルエーテ
ルまたはジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメ
チルエーテルまたはジエチルエーテル、アニソール、ジ
オキサンまたはジフェニルエーテル、ニトリル類たとえ
ばアセトニトリルまたはベンゾニトリル、チオ化剤に対
して不活性なアミド類たとえばヘキサメチルリン酸アミ
ド、およびチオアミド類たとえばジメチルチオホルムア
ミド、ジメチルチオアセトアミドまたはテトラエチルス
ルファミド、あるいはこれら溶剤の混合物。
50乃至250 ”C1好ましくは80乃至160℃の
温度で実施される。適当な溶剤の例はっぎのもである:
芳香族炭化水素たとえばベンセン、トルエン、キシレン
またはテトラヒドロナフタレン、塩素化芳香族炭化水素
たとえばクロロベンゼンおよび。−ジクロロベンゼン、
エーテル類たとえばエチレングリコールジメチルエーテ
ルまたはジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメ
チルエーテルまたはジエチルエーテル、アニソール、ジ
オキサンまたはジフェニルエーテル、ニトリル類たとえ
ばアセトニトリルまたはベンゾニトリル、チオ化剤に対
して不活性なアミド類たとえばヘキサメチルリン酸アミ
ド、およびチオアミド類たとえばジメチルチオホルムア
ミド、ジメチルチオアセトアミドまたはテトラエチルス
ルファミド、あるいはこれら溶剤の混合物。
反応によって生成される式I、■、II、IIIの化金
物は一般に濾過によって単離される。その用途によって
は、化学的純度を上げるため(たとえば再結晶または昇
華による)および/または結晶形を変えるため(有機溶
剤中でのコンディショニングによる)、後処理が必要で
ある。この目的のために適当な溶剤は、たとえば、下記
のものである: ハロゲン、アルキルまたはニトロ基によって置換された
ベンゼンたとえばキシレン、クロロベンゼン、0−ジク
ロロベンゼンまたはニトロベンゼン;ピリジン塩基たと
えばピリジン、ピコリンまたはキノリン二ケトンたとえ
ばアセトン、メチルエチルケトンまたはシクロヘキサノ
ン;エーテルたとえばエチレングリコールモノメチルま
たはモノエチルエーテルまたはテトラヒドロフラン;ア
ミドたとえばジメチルホルムアミド、ジメチルアセトア
ミドまたはN−メチルピロリドン;アルコールたとえば
メタノールまたはエタノール:さらにはジメチルスルホ
キシド、スルホラン、アセトニトリル、ベンゾニトリル
、酢酸メチル、酢酸エチルなと。
物は一般に濾過によって単離される。その用途によって
は、化学的純度を上げるため(たとえば再結晶または昇
華による)および/または結晶形を変えるため(有機溶
剤中でのコンディショニングによる)、後処理が必要で
ある。この目的のために適当な溶剤は、たとえば、下記
のものである: ハロゲン、アルキルまたはニトロ基によって置換された
ベンゼンたとえばキシレン、クロロベンゼン、0−ジク
ロロベンゼンまたはニトロベンゼン;ピリジン塩基たと
えばピリジン、ピコリンまたはキノリン二ケトンたとえ
ばアセトン、メチルエチルケトンまたはシクロヘキサノ
ン;エーテルたとえばエチレングリコールモノメチルま
たはモノエチルエーテルまたはテトラヒドロフラン;ア
ミドたとえばジメチルホルムアミド、ジメチルアセトア
ミドまたはN−メチルピロリドン;アルコールたとえば
メタノールまたはエタノール:さらにはジメチルスルホ
キシド、スルホラン、アセトニトリル、ベンゾニトリル
、酢酸メチル、酢酸エチルなと。
この溶剤処理の後、式1.II、II、IIIの化合物
は、場合によっては、すでに所望の結晶形で存在してい
る。したがってこの場合には後述するような熱処理をさ
らに行なう必要はなくなる。
は、場合によっては、すでに所望の結晶形で存在してい
る。したがってこの場合には後述するような熱処理をさ
らに行なう必要はなくなる。
得られる式1.II、II、IIIの化合物の性質に応
じて、これら化合物は電子写真受光体用の光導電性物質
として、あるいは有機太陽電池として、あるいは顔料と
して使用できる。
じて、これら化合物は電子写真受光体用の光導電性物質
として、あるいは有機太陽電池として、あるいは顔料と
して使用できる。
式1.II、II、IIIの化合物、とりわけ式■の化
合物の特に興味ある用途は電子写真受光体内の光導電性
物質としての使用である。この種のの受光体は導電性ベ
ースと暗中では絶縁性を示し露光されると導電性となる
光導電体とからなる。その構造は単層または多層構造で
ありうる。単層の場合には、少なくとも1種の光導電性
物質が少なくとも1種のバインダー中に分散されるか、
または直接導電性ベース上に蒸着される。光導電体は好
ましくは少なくとも1つの電荷発生層と少なくとも1つ
の電荷移動層とか構成される。電荷発生層には1種また
はそれ以上の光導電性物質か含有される。
合物の特に興味ある用途は電子写真受光体内の光導電性
物質としての使用である。この種のの受光体は導電性ベ
ースと暗中では絶縁性を示し露光されると導電性となる
光導電体とからなる。その構造は単層または多層構造で
ありうる。単層の場合には、少なくとも1種の光導電性
物質が少なくとも1種のバインダー中に分散されるか、
または直接導電性ベース上に蒸着される。光導電体は好
ましくは少なくとも1つの電荷発生層と少なくとも1つ
の電荷移動層とか構成される。電荷発生層には1種また
はそれ以上の光導電性物質か含有される。
したがって、本発明はさらに、少なくとも1つの導電性
ベース、1つの光導電性層および1つの電荷移動層から
なり、その中の少なくとも1つの層に式I、II、II
、IIIの少なくとも1つの化合物が含有されている電
子写真受光体を提供するものである。
ベース、1つの光導電性層および1つの電荷移動層から
なり、その中の少なくとも1つの層に式I、II、II
、IIIの少なくとも1つの化合物が含有されている電
子写真受光体を提供するものである。
導電性ベースは未処理の、または、たとえば、粗面仕上
げ処理のような予備処理を受けた金属板またはフィルム
でありうる。たとえば、アルミニウム、亜鉛、マグネシ
ウム、銅またはこれら金属の合金でつくることができる
。アルミニウムの場合、予備処理は陽極処理のようなも
のでありうる。ベース材料としてはさらにアルミニウム
蒸着プラスチックフィルムや金属化面を有する重合体フ
ィルムも適当である。
げ処理のような予備処理を受けた金属板またはフィルム
でありうる。たとえば、アルミニウム、亜鉛、マグネシ
ウム、銅またはこれら金属の合金でつくることができる
。アルミニウムの場合、予備処理は陽極処理のようなも
のでありうる。ベース材料としてはさらにアルミニウム
蒸着プラスチックフィルムや金属化面を有する重合体フ
ィルムも適当である。
光導電体は少なくとも光導電性物質としての式1.II
、II、IIIのいずれか1つの化合物および電荷移動
物質たとえばヒドラゾンまたはピラゾリンを重合体結合
剤(バインダー)に溶解された形で含有する。このよう
な構造の光導電体には静電予備チャージと画像露光とに
よって荷電域と除電域との対応するパターン(潜像)が
形成できる。そしてその潜像は公知の顕像方法によって
可視像に変換することができる。
、II、IIIのいずれか1つの化合物および電荷移動
物質たとえばヒドラゾンまたはピラゾリンを重合体結合
剤(バインダー)に溶解された形で含有する。このよう
な構造の光導電体には静電予備チャージと画像露光とに
よって荷電域と除電域との対応するパターン(潜像)が
形成できる。そしてその潜像は公知の顕像方法によって
可視像に変換することができる。
露光は可視波長領域の光で可能である。しかしながら、
式I、II、II、IIIの化合物はつぎのような特別
の利点を有している。すなわち、本化合物は近赤外領域
の照射線を吸収しつると共に、この波長領域に光導電特
性をもつ。
式I、II、II、IIIの化合物はつぎのような特別
の利点を有している。すなわち、本化合物は近赤外領域
の照射線を吸収しつると共に、この波長領域に光導電特
性をもつ。
特に興味ある波長域はヒ化ガリウムレーザの作動領域で
ある700乃至900nmの波長域である。
ある700乃至900nmの波長域である。
式1.TI、II、IIIの化合物は高い暗抵抗を有す
る。これは非露光域の静電位を保存するのに役立つ。
る。これは非露光域の静電位を保存するのに役立つ。
光導電体が単層からなる場合は、その層は好ましくは有
機結合剤中に分散された微細粉末の形状で、そして所望
の場合には電荷移動物質と一緒に、式I、H1II、I
IIの化合物の1つまたはそれ以上を含有する。結合剤
は、好ましくは、成膜性、絶縁性かつ接着性のものであ
る。用途によっては結合剤は有機溶剤または水を含有し
てもよい有機溶剤混合物中に可溶性である。特に適当な
結合剤は重縮合生成物または重付加生成物を基剤とした
ものである。例示すればつぎのものである:ボリアミド
、ポリウレタン、ポリエステル、エポキシ樹脂、フェノ
キシ樹脂、ポリケトン、ポリカーボネート、ポリビニル
ケトン、ポリスチレン、ポリビニルカルバゾル、ポリア
クリルアミド、ポリメチルメタクリレート、ポリビニル
ブチラード、ポリビニルクロライド、およびスチレン/
マレイン酸無水物共重合体またはスチレン/メタクリル
酸/メタクリル酸エステル共重合体のごとき共重合体。
機結合剤中に分散された微細粉末の形状で、そして所望
の場合には電荷移動物質と一緒に、式I、H1II、I
IIの化合物の1つまたはそれ以上を含有する。結合剤
は、好ましくは、成膜性、絶縁性かつ接着性のものであ
る。用途によっては結合剤は有機溶剤または水を含有し
てもよい有機溶剤混合物中に可溶性である。特に適当な
結合剤は重縮合生成物または重付加生成物を基剤とした
ものである。例示すればつぎのものである:ボリアミド
、ポリウレタン、ポリエステル、エポキシ樹脂、フェノ
キシ樹脂、ポリケトン、ポリカーボネート、ポリビニル
ケトン、ポリスチレン、ポリビニルカルバゾル、ポリア
クリルアミド、ポリメチルメタクリレート、ポリビニル
ブチラード、ポリビニルクロライド、およびスチレン/
マレイン酸無水物共重合体またはスチレン/メタクリル
酸/メタクリル酸エステル共重合体のごとき共重合体。
光導電体が多層からなる場合、2層構造が特に好ましい
。この場合、導電性ベース部材に最初に光導電層が付与
されそして次ぎにその上に第2の、電荷移動層が付与さ
れる。この層の順序は逆にしてもよい。この2つの層の
うちのいずれか一方の層、好ましくは電荷発生層は式1
.■、II、IIIの少なくとも1つの化合物を含有す
る。この化合物は有機結合剤中に溶解または微分散させ
ることができる。導電性ベースへの付与は、たとえば、
結合剤/顔料混合物を有機溶剤に溶解または分散した溶
液または分散物を塗布しそして次ぎにその溶剤を蒸発さ
せることによって実施される。
。この場合、導電性ベース部材に最初に光導電層が付与
されそして次ぎにその上に第2の、電荷移動層が付与さ
れる。この層の順序は逆にしてもよい。この2つの層の
うちのいずれか一方の層、好ましくは電荷発生層は式1
.■、II、IIIの少なくとも1つの化合物を含有す
る。この化合物は有機結合剤中に溶解または微分散させ
ることができる。導電性ベースへの付与は、たとえば、
結合剤/顔料混合物を有機溶剤に溶解または分散した溶
液または分散物を塗布しそして次ぎにその溶剤を蒸発さ
せることによって実施される。
しかし、式I、II、II、IIIの化合物を導電性ベ
ースの上に蒸着する方法によって層を形成することもで
きる。
ースの上に蒸着する方法によって層を形成することもで
きる。
第2の層は1種またはそれ以上の電荷移動物質を、好ま
しくは、有機結合剤に溶解または分散された形で含有す
る。適当な電荷移動物質は各種の、好ましくは窒素を含
んでいる芳香族化合物、たとえば、ヒドラランまたは芳
T’J Mアミンであり、これはアルキリデン架橋メン
バーまたは基を含有していてもよい。
しくは、有機結合剤に溶解または分散された形で含有す
る。適当な電荷移動物質は各種の、好ましくは窒素を含
んでいる芳香族化合物、たとえば、ヒドラランまたは芳
T’J Mアミンであり、これはアルキリデン架橋メン
バーまたは基を含有していてもよい。
かかる物質の例は西独特許公開第3447685号明細
書の第57頁乃至第65頁に記載されている。
書の第57頁乃至第65頁に記載されている。
本発明による式1.II、II、IIIの化合物はレー
ザ記録のために必要な750nmの最小限度の吸収波長
を有してはいないが、しかしこの目的のための光導電性
物質として使用しうる。この使用が可能となったのはそ
の吸収域を電子写真にとって必要な程度まで長波長側へ
移動することを可能ならしめる方法が開発されたからで
ある。これは誠に驚くべきことである。なぜならば、キ
ナクリドンの同様な溶剤処理は一般に短波長側に吸収を
移動させることが知られていたからである。上記した長
波長域方向へのスペクトル移動は本発明によって得られ
る電子写真光導電体を溶剤蒸気に1乃至2時間曝すこと
によって都合よ〈実施される。使用される溶剤蒸気は、
たとえば、アセトン、テトラヒドロフラン、ジメチルホ
ルムアミド、メタノール、アセトニトリル、l−アセト
キシ−2−エトキシ−エタン、ジメチルスルホキシドま
たは酢酸エチルの蒸気である。
ザ記録のために必要な750nmの最小限度の吸収波長
を有してはいないが、しかしこの目的のための光導電性
物質として使用しうる。この使用が可能となったのはそ
の吸収域を電子写真にとって必要な程度まで長波長側へ
移動することを可能ならしめる方法が開発されたからで
ある。これは誠に驚くべきことである。なぜならば、キ
ナクリドンの同様な溶剤処理は一般に短波長側に吸収を
移動させることが知られていたからである。上記した長
波長域方向へのスペクトル移動は本発明によって得られ
る電子写真光導電体を溶剤蒸気に1乃至2時間曝すこと
によって都合よ〈実施される。使用される溶剤蒸気は、
たとえば、アセトン、テトラヒドロフラン、ジメチルホ
ルムアミド、メタノール、アセトニトリル、l−アセト
キシ−2−エトキシ−エタン、ジメチルスルホキシドま
たは酢酸エチルの蒸気である。
アップライド・フィジックス0レター
(Appl、Phys、Letters) 40 (3
)、 279頁(1982)所載のケー・アリシマ(K
、 AriAr15hi等の論文にはある種のフタロシ
アニンのための波長移動方法が記載されている。この方
法によって得られる移動は長波長側への移動であり、約
90nmまでの移動が達成される。この方法を本発明に
よる式I、II、II、IIIの新規化合物を含有する
物質に適用すると、約70nmまたはそれ以上の長波長
側への移動が得られる。この溶剤処理ににより約3乃至
100単位の光導電層の増加がもたらされる。
)、 279頁(1982)所載のケー・アリシマ(K
、 AriAr15hi等の論文にはある種のフタロシ
アニンのための波長移動方法が記載されている。この方
法によって得られる移動は長波長側への移動であり、約
90nmまでの移動が達成される。この方法を本発明に
よる式I、II、II、IIIの新規化合物を含有する
物質に適用すると、約70nmまたはそれ以上の長波長
側への移動が得られる。この溶剤処理ににより約3乃至
100単位の光導電層の増加がもたらされる。
同様なスペクトル移動ならびに暗抵抗および光電流につ
いての同様な変更値が式I。
いての同様な変更値が式I。
■、II、IIIの化合物の粉末に関しても得られる。
すなわち、この場合は、当該化合物を最初に粉砕し、そ
れから溶剤たとえば酢酸エチルで処理しそしてつぎに結
合剤を使用してベース部材に付与するのである。
れから溶剤たとえば酢酸エチルで処理しそしてつぎに結
合剤を使用してベース部材に付与するのである。
したがって、本発明は電子写真光導電体の製造方法も提
供するものであり、本発明の方法は導電性ベースに有機
溶剤を使用しまたは真空蒸着を使用して式I、II、I
I、IIIの化合物を付与し、これによって形成された
層を液状またはガス状の有機溶剤で処理しそして次ぎに
含窒芳香族化合物を含有する第2の層を造成する工程よ
りなる。適当な(電荷移動)含窒芳香族化合物は上記に
例示した種類のものである。
供するものであり、本発明の方法は導電性ベースに有機
溶剤を使用しまたは真空蒸着を使用して式I、II、I
I、IIIの化合物を付与し、これによって形成された
層を液状またはガス状の有機溶剤で処理しそして次ぎに
含窒芳香族化合物を含有する第2の層を造成する工程よ
りなる。適当な(電荷移動)含窒芳香族化合物は上記に
例示した種類のものである。
光導電層と電荷移動層は、これら層の物理的特性を改良
するために、レベリング剤、界面活性剤または可塑剤の
ごとき添加剤を含有することもできる。
するために、レベリング剤、界面活性剤または可塑剤の
ごとき添加剤を含有することもできる。
本発明による式I、II、II、IIIの化合物、特に
式■の化合物はさらに高分子有機材料を着色するための
顔料としても使用することができる。
式■の化合物はさらに高分子有機材料を着色するための
顔料としても使用することができる。
意図する用途に応じて、本発明の化合物はより隠蔽力の
ある(より不透明な)顔料形態またはより透明な顔料形
態に変換することができる。
ある(より不透明な)顔料形態またはより透明な顔料形
態に変換することができる。
より隠蔽力のある顔料形態が所望される場合には、これ
は一般に水または有機溶剤中において、必要ならば圧を
印加して、熱後処理する方法により都合よく実現される
。溶剤としては、たとえば、つぎのものが好ましい。
は一般に水または有機溶剤中において、必要ならば圧を
印加して、熱後処理する方法により都合よく実現される
。溶剤としては、たとえば、つぎのものが好ましい。
ハロゲン原子、アルキル基またはニトロ基によって置換
されたベンゼンたとえばキシレン、クロロベンゼン、0
−ジクロロベンゼンマタはニトロベンゼン:ビリジン塩
基たとえばピリジン、ピコリンまたはキノリン:ケトン
類たとえばシクロヘキサノン:アルコール類たとえばイ
ンプロパツール、ブタノールまたはペンタノール;エー
テル類たとえばエチレングリコール千ツメチルエーテル
またはモノエチルエーテル;アミド類たとえばジメチル
ホルムアミドまたはN−メチルピロリドン、さらにはジ
メチルスルホキシドまたはスルホラン、後処理は水のみ
の中でも、必要ならば圧を加えて、かつ有機溶剤および
/または界面活性剤の存在で実施することもできる。
されたベンゼンたとえばキシレン、クロロベンゼン、0
−ジクロロベンゼンマタはニトロベンゼン:ビリジン塩
基たとえばピリジン、ピコリンまたはキノリン:ケトン
類たとえばシクロヘキサノン:アルコール類たとえばイ
ンプロパツール、ブタノールまたはペンタノール;エー
テル類たとえばエチレングリコール千ツメチルエーテル
またはモノエチルエーテル;アミド類たとえばジメチル
ホルムアミドまたはN−メチルピロリドン、さらにはジ
メチルスルホキシドまたはスルホラン、後処理は水のみ
の中でも、必要ならば圧を加えて、かつ有機溶剤および
/または界面活性剤の存在で実施することもできる。
熱後処理のための溶剤の選択および温度の選択は処理を
受ける化合物の特定溶剤中での溶解度に大きく依存する
から、本発明による化合物のそれぞれについて前景って
最適後処理条件、たとえば、溶剤、濃度、温度などを決
定しておくのが望ましい。
受ける化合物の特定溶剤中での溶解度に大きく依存する
から、本発明による化合物のそれぞれについて前景って
最適後処理条件、たとえば、溶剤、濃度、温度などを決
定しておくのが望ましい。
本発明による化合物によって染色または着色されうる高
分子有機材料は、たとえば、つぎのような材料である:
セルロースエーテルおよびセルロースエステルたとえエ
チルセルロース、ニトロセルロース、酢酸セルロースま
たは酪酸セルロース:天然または合成の樹脂たとえば重
合体樹脂または縮合樹脂、たとえば、アミン樹脂、特に
尿素−ホルムアルデヒド樹脂およびメラミン−ホルムア
ルデヒド樹脂、アルキド樹脂、フェノール樹脂、ポリカ
ーボネート、ポリオレフィン、ポリスチレン、ポリ塩化
ビニル、ポリアミド、ポリウレタン、ポリエステル、さ
らにはゴム、カゼイン、シリコーン、シリコーン樹脂。
分子有機材料は、たとえば、つぎのような材料である:
セルロースエーテルおよびセルロースエステルたとえエ
チルセルロース、ニトロセルロース、酢酸セルロースま
たは酪酸セルロース:天然または合成の樹脂たとえば重
合体樹脂または縮合樹脂、たとえば、アミン樹脂、特に
尿素−ホルムアルデヒド樹脂およびメラミン−ホルムア
ルデヒド樹脂、アルキド樹脂、フェノール樹脂、ポリカ
ーボネート、ポリオレフィン、ポリスチレン、ポリ塩化
ビニル、ポリアミド、ポリウレタン、ポリエステル、さ
らにはゴム、カゼイン、シリコーン、シリコーン樹脂。
これらは単一体でも混合物でもよい。
上記に例示した高分子化合物は単体または可塑性混合物
、溶融物または紡糸液の形態、あるいはラッカー、塗料
、印刷インキの形態でありうる。用途によっては本発明
による化合物をトナーとして、あるいは、製剤の形で使
用するのが有利である。本発明による化合物の使用量は
着色されるべき高分子有機材料の重量を基準して、たと
えば、0.1乃至30重量%である。
、溶融物または紡糸液の形態、あるいはラッカー、塗料
、印刷インキの形態でありうる。用途によっては本発明
による化合物をトナーとして、あるいは、製剤の形で使
用するのが有利である。本発明による化合物の使用量は
着色されるべき高分子有機材料の重量を基準して、たと
えば、0.1乃至30重量%である。
高分子有機材料を本発明による化合物によって着色する
場合、これは、たとえば、本化合物を、所望の場合には
マスターバッチの形で、ロールミル、ミキサーまたは摩
砕器を使用して被処理材料と混合することによって実施
される。
場合、これは、たとえば、本化合物を、所望の場合には
マスターバッチの形で、ロールミル、ミキサーまたは摩
砕器を使用して被処理材料と混合することによって実施
される。
着色された材料はつぎにそれ自体公知の方法、たとえば
、カレンダーかけ、圧延、押出し成形、コーティング、
型成形または射出成形によって所望の最終形状に成形さ
れる。多くの場合、非剛性成形品を製造するため、ある
いは、成形品の脆弱性を低減するために、成形前にその
高分子有機材料にいわゆる可塑剤を配合するのが望まし
い。可塑剤としては、たとえば、リン酸エステル、フタ
ル酸エステル、セバシン酸エステルが考慮される。
、カレンダーかけ、圧延、押出し成形、コーティング、
型成形または射出成形によって所望の最終形状に成形さ
れる。多くの場合、非剛性成形品を製造するため、ある
いは、成形品の脆弱性を低減するために、成形前にその
高分子有機材料にいわゆる可塑剤を配合するのが望まし
い。可塑剤としては、たとえば、リン酸エステル、フタ
ル酸エステル、セバシン酸エステルが考慮される。
このような可塑剤は本発明の化合物を配合するする前ま
たは後で重合体に配合することができる。各種の色を得
るために本発明による化合物のほかにさらに充填剤およ
び/または他のカラー成分たとえば白顔料、有色顔料ま
たは黒顔料を任意の量で高分子有機材料に雄加すること
もできる。
たは後で重合体に配合することができる。各種の色を得
るために本発明による化合物のほかにさらに充填剤およ
び/または他のカラー成分たとえば白顔料、有色顔料ま
たは黒顔料を任意の量で高分子有機材料に雄加すること
もできる。
ラッカー、塗料、印刷インキなどの着色のためには、当
該高分子有機材料と本発明による化合物とを、場合によ
っては充填剤、他の顔料、乾燥剤、可塑剤などの添加物
を一緒に加えて、共通の有機溶剤または溶剤混合物の中
に微細に分散するかあるいは溶解する。この場合、まず
各成分を個々に分散または溶解するか、または複数部に
分けて分散または溶解し、しかるのちにすべての成分を
一緒に集めるようにしてもよい。
該高分子有機材料と本発明による化合物とを、場合によ
っては充填剤、他の顔料、乾燥剤、可塑剤などの添加物
を一緒に加えて、共通の有機溶剤または溶剤混合物の中
に微細に分散するかあるいは溶解する。この場合、まず
各成分を個々に分散または溶解するか、または複数部に
分けて分散または溶解し、しかるのちにすべての成分を
一緒に集めるようにしてもよい。
プラスチック、繊維、塗料または印刷インキ等に本発明
による化合物を配合して得られる着色物は高い彩度、良
好な分散性、良好な上塗り性、マイグレーション堅牢性
、熱堅牢性、#光堅牢性、耐候性を示し、そして光沢が
すぐれている。
による化合物を配合して得られる着色物は高い彩度、良
好な分散性、良好な上塗り性、マイグレーション堅牢性
、熱堅牢性、#光堅牢性、耐候性を示し、そして光沢が
すぐれている。
以下、本発明を実施例によって説明する。
実施例1
キノ [2,3−bコアクリジン−7,14−ジチオン
(=ジチオキナクリドン)の合成粗製未置換キナクリド
ン7.95gを〇−ジクロロベンゼン175m1に懸濁
し、そしてラウエソン試薬[−2,4−ビス−(4゛−
メトキシフェニル)−1,3−ジチア−2,4〜ジホス
フエタン−2,4−二硫化物112.4gを添加する。
(=ジチオキナクリドン)の合成粗製未置換キナクリド
ン7.95gを〇−ジクロロベンゼン175m1に懸濁
し、そしてラウエソン試薬[−2,4−ビス−(4゛−
メトキシフェニル)−1,3−ジチア−2,4〜ジホス
フエタン−2,4−二硫化物112.4gを添加する。
得られた懸濁物を窒素雰囲気下143℃まで加熱しそし
てこの温度に3時間保持する。そのあと、この反応混合
物をlOO″Cまで冷却し、生成した緑青色化合物を症
過分離し、温0−ジクロロベンゼン、冷メタノールおよ
びアセトンの順序で順次洗浄する。100℃で真空乾燥
して粗生成物8.93gが得られる。これを以下に記載
のごと〈ジメチルスルホキシド(=DMSO)中で再結
晶して精製する。
てこの温度に3時間保持する。そのあと、この反応混合
物をlOO″Cまで冷却し、生成した緑青色化合物を症
過分離し、温0−ジクロロベンゼン、冷メタノールおよ
びアセトンの順序で順次洗浄する。100℃で真空乾燥
して粗生成物8.93gが得られる。これを以下に記載
のごと〈ジメチルスルホキシド(=DMSO)中で再結
晶して精製する。
乾燥粗生成物5.0gをアルゴンでパージしながら純D
MSO150mlに懸濁し、そしてこの混合物を140
’Oまで加熱する。溶液となったら、この溶液を徐々
に約80’0まで冷却する。この間に生成物が結晶析出
しはじめる。80°Cに1時間保持した後、懸濁物をさ
らに70℃まで冷却しそしてこの温度に15時間保持す
る。結晶した生成物を70℃で濾過し、最初温メタノー
ルで、次ぎに冷アセトンで慎重に洗浄する。i o o
’cで乾燥して融点が300℃以上の粉末3.90g
を得る。この収量は理論値の80.9%に相当する。得
られた生成物は3oo℃以上の融点を持ち、下記構造式
に対応する。
MSO150mlに懸濁し、そしてこの混合物を140
’Oまで加熱する。溶液となったら、この溶液を徐々
に約80’0まで冷却する。この間に生成物が結晶析出
しはじめる。80°Cに1時間保持した後、懸濁物をさ
らに70℃まで冷却しそしてこの温度に15時間保持す
る。結晶した生成物を70℃で濾過し、最初温メタノー
ルで、次ぎに冷アセトンで慎重に洗浄する。i o o
’cで乾燥して融点が300℃以上の粉末3.90g
を得る。この収量は理論値の80.9%に相当する。得
られた生成物は3oo℃以上の融点を持ち、下記構造式
に対応する。
元素分析: 計算値 測定値
CB9.74% CB9.14XH3,51%
H3,82% N 8.13% N 7.8
2%3 18.62% S 18
.34%実施例2 γ−キナクリドン3.12g(0,01モル)を50+
elのへキサメチルリン酸アミドに懸濁しそしてラウエ
ソン試薬4.85gを添加する。得られた懸濁物を30
分間で130乃至140°Cまで加熱しそして攪拌しな
がらこの温度にさらに265分間保持する。80°Cま
で冷却した後、この懸濁物を水300m1に投入し、そ
の混合物を30分間攪拌する。
H3,82% N 8.13% N 7.8
2%3 18.62% S 18
.34%実施例2 γ−キナクリドン3.12g(0,01モル)を50+
elのへキサメチルリン酸アミドに懸濁しそしてラウエ
ソン試薬4.85gを添加する。得られた懸濁物を30
分間で130乃至140°Cまで加熱しそして攪拌しな
がらこの温度にさらに265分間保持する。80°Cま
で冷却した後、この懸濁物を水300m1に投入し、そ
の混合物を30分間攪拌する。
生じた沈殿を濾過分離し、水とメタノールで順次洗いそ
して80℃で乾燥する。これにより融点が300℃以上
の濃緑色生成物3.35gを得る(理論値の97.4%
)。
して80℃で乾燥する。これにより融点が300℃以上
の濃緑色生成物3.35gを得る(理論値の97.4%
)。
元素分析によるこの生成物の硫黄分は18.5%(計算
値18.6%)。
値18.6%)。
分析のため、上記の水に投入して得られた沈殿を室温で
冷ジメチルホルムアミドに懸濁し、生じた溶液を清澄濾
過し、得られた濾液をメタノールで稀釈する。これによ
って沈殿した生成物を濾過分離しそして80℃で乾燥す
る。この生成物は実施例1に示して構造式に一致する0
分析結果は以下の通り。
冷ジメチルホルムアミドに懸濁し、生じた溶液を清澄濾
過し、得られた濾液をメタノールで稀釈する。これによ
って沈殿した生成物を濾過分離しそして80℃で乾燥す
る。この生成物は実施例1に示して構造式に一致する0
分析結果は以下の通り。
元素分析: 計算値 測定値
CB9.74X CE18.50XH3,51
X H3,5(H N 8.13% N 8.20XS 1
8−82% 3 18.20!ジメチルホルム
アミド中可視領域の3波長における吸光係数(λwax
におけるε−値):ε−値: 13075 (於6
47nm)10172 (於594nm) 4344 (於552nm) X線回折図(角度20’): 8.8と24.9に2木の弧線: 12、?、 12,8.1?、?および27.1に4木
の中線;18.5.19,5.21.8および24.2
に4木の弱練。
X H3,5(H N 8.13% N 8.20XS 1
8−82% 3 18.20!ジメチルホルム
アミド中可視領域の3波長における吸光係数(λwax
におけるε−値):ε−値: 13075 (於6
47nm)10172 (於594nm) 4344 (於552nm) X線回折図(角度20’): 8.8と24.9に2木の弧線: 12、?、 12,8.1?、?および27.1に4木
の中線;18.5.19,5.21.8および24.2
に4木の弱練。
ラウエソン試薬の代りに十硫化四リンの相当量を使用し
て実施例2の反応を行い、実施例lに示された構造式に
一致する製品を得る。
て実施例2の反応を行い、実施例lに示された構造式に
一致する製品を得る。
実施例3
キナクリドン1.56g(0,005モル)を25m1
のジメチルチオホルムアミドに懸濁しそしてラウエンン
試薬2.43g(0,006モル)を添加する。この混
合物を45分間で145℃まで加熱しそして攪拌しなが
らこの温度にさらに4時間手保持する。60℃まで冷却
した後、この混合物を1501のメタノールに投入し、
生じた懸濁物を室温で攪拌する。固形分を濾過分離し、
無色となるまでメタノールで洗いそして80℃で乾燥す
る。これにより実施例1に示した構造式に一致する生成
物1.65gを得る(理論値の95.9%)0元素分析
によるこの生成物の硫黄分は17.5%(計算値18.
6%)である。
のジメチルチオホルムアミドに懸濁しそしてラウエンン
試薬2.43g(0,006モル)を添加する。この混
合物を45分間で145℃まで加熱しそして攪拌しなが
らこの温度にさらに4時間手保持する。60℃まで冷却
した後、この混合物を1501のメタノールに投入し、
生じた懸濁物を室温で攪拌する。固形分を濾過分離し、
無色となるまでメタノールで洗いそして80℃で乾燥す
る。これにより実施例1に示した構造式に一致する生成
物1.65gを得る(理論値の95.9%)0元素分析
によるこの生成物の硫黄分は17.5%(計算値18.
6%)である。
実施例4
キナクリドン1.56g (0,005モル)を501
のキシレンと5mlのへキサメチルリン酸アミドとの混
合物に懸濁しそしてラウエソン試薬2.43g(0,0
06モル)を添加する。この混合物を130乃至140
℃まで加熱しそしてこの温度でさらに攪拌する。50℃
まで冷却した後、この反応混合物を濾過して少量の未反
応物質を除去する。この濃液を200m1のメタノール
の投入し、そして沈殿した生成物を濾過分離し、メタノ
ールで洗いそして乾燥する。これにより実施例2で得ら
れた化合物と実質的に同じIRスペクトルを有するが、
X線回折図は異なる濃緑色の生成物1.42g(理論値
の82.6%)が得られた。
のキシレンと5mlのへキサメチルリン酸アミドとの混
合物に懸濁しそしてラウエソン試薬2.43g(0,0
06モル)を添加する。この混合物を130乃至140
℃まで加熱しそしてこの温度でさらに攪拌する。50℃
まで冷却した後、この反応混合物を濾過して少量の未反
応物質を除去する。この濃液を200m1のメタノール
の投入し、そして沈殿した生成物を濾過分離し、メタノ
ールで洗いそして乾燥する。これにより実施例2で得ら
れた化合物と実質的に同じIRスペクトルを有するが、
X線回折図は異なる濃緑色の生成物1.42g(理論値
の82.6%)が得られた。
X線回折図:
8.4.12.8 、28.0に3木の弧線;12.2
および27.5に2木の弧線;?、3,10.2,14
.5.1B、7,18.7.22,2.22.7および
24.8に8木の東線。
および27.5に2木の弧線;?、3,10.2,14
.5.1B、7,18.7.22,2.22.7および
24.8に8木の東線。
したがって、この生成物はジチオキナクリドンの別の結
晶変態である。
晶変態である。
実施例5
2.9−ジクロロキナクリドン3.18g(o 、 o
iモル)を100m1のへキサメチルリン酸アミドに
懸濁しそしてラウエソン試薬4.85g (0,012
モル)を添加する。
iモル)を100m1のへキサメチルリン酸アミドに
懸濁しそしてラウエソン試薬4.85g (0,012
モル)を添加する。
この混合物を20分間で140乃至145℃まで加熱し
そしてこの温度で4時間攪拌をつづける。60℃まで冷
却した後、この反応混合物を5001の水に投入する。
そしてこの温度で4時間攪拌をつづける。60℃まで冷
却した後、この反応混合物を5001の水に投入する。
生じた懸濁物を室温で30分間攪拌し、そして生成物を
濾過分離し、最初水で、次ぎにメタノールで洗う。これ
により粗生成物4.5gが得られるので、これを375
m1のジメチルホルムアミドから再結晶する。この処理
の結果、下記式に相当する精製生成物2.53gが得ら
れる。
濾過分離し、最初水で、次ぎにメタノールで洗う。これ
により粗生成物4.5gが得られるので、これを375
m1のジメチルホルムアミドから再結晶する。この処理
の結果、下記式に相当する精製生成物2.53gが得ら
れる。
硫黄についての元素分析%:
計算値 15.5%
測定値 14.3%
実施例6
4.11−ジクロロキナクリドン3,18g(0,01
モル)を100m1の0−ジクロロベンゼンに懸濁しそ
して窒素雰囲気下でラウエソン試薬4.85g (0,
012モル)を添加する。この反応混合物を145℃ま
で加熱しそしてこの温度で4時間攪拌をつづける。室温
まで冷却した後この懸濁物を2001のメタノールに投
入する。生じた生成物を濾過分離し、無色になるまでメ
タノールで洗いそして80℃で乾燥する。これにより生
成物4.12g (理論値の100%)を得る。元素分
析によるこの生成物の硫黄分は15.4%(計算値15
,5%)でありそして下記構造式を有する。
モル)を100m1の0−ジクロロベンゼンに懸濁しそ
して窒素雰囲気下でラウエソン試薬4.85g (0,
012モル)を添加する。この反応混合物を145℃ま
で加熱しそしてこの温度で4時間攪拌をつづける。室温
まで冷却した後この懸濁物を2001のメタノールに投
入する。生じた生成物を濾過分離し、無色になるまでメ
タノールで洗いそして80℃で乾燥する。これにより生
成物4.12g (理論値の100%)を得る。元素分
析によるこの生成物の硫黄分は15.4%(計算値15
,5%)でありそして下記構造式を有する。
実施例7
2.9−ジメチルキナクリドン3.4g(0,01モル
)を501111のへキサメチルリン酸アミドに懸濁し
そしてラウエソン試薬4.85g (0,012モル)
を添加する。
)を501111のへキサメチルリン酸アミドに懸濁し
そしてラウエソン試薬4.85g (0,012モル)
を添加する。
この反応混合物を12分間で135℃まで加熱しそして
この温度で5時間攪拌をつづける。60℃まで冷却した
後この混合物を200m1のメタノールに投入する。生
じた懸濁物を室温で15分間攪拌し、しかるのち生成物
を濾過分離し、メタノールで洗いそして80℃で乾燥す
る。これにより濃緑色生成物3.54g(理論値の95
.2%)を得る。元素分析によるこの生成物の硫黄分は
16.5%(計算値17.2%)でありそして下記構造
式を有する。
この温度で5時間攪拌をつづける。60℃まで冷却した
後この混合物を200m1のメタノールに投入する。生
じた懸濁物を室温で15分間攪拌し、しかるのち生成物
を濾過分離し、メタノールで洗いそして80℃で乾燥す
る。これにより濃緑色生成物3.54g(理論値の95
.2%)を得る。元素分析によるこの生成物の硫黄分は
16.5%(計算値17.2%)でありそして下記構造
式を有する。
実施例8
2.9−ジメトキシキナクリドン1.86g(0,00
5モル)を1001の0−ジクロロベンゼンに懸濁しそ
してラウエソン試薬2.43g (0,006モル)を
添加する。この混合物を窒素雰囲気下で138乃至14
2℃まで加熱しそしてこの温度で4時間攪拌をつづける
。
5モル)を1001の0−ジクロロベンゼンに懸濁しそ
してラウエソン試薬2.43g (0,006モル)を
添加する。この混合物を窒素雰囲気下で138乃至14
2℃まで加熱しそしてこの温度で4時間攪拌をつづける
。
室温まで冷却した後、この反応混合物を200m1のメ
タノールに投入する。生じた生成物を濾過分離し、無色
になるまでメタノールで洗いそして80℃で乾燥する。
タノールに投入する。生じた生成物を濾過分離し、無色
になるまでメタノールで洗いそして80℃で乾燥する。
これにより濃緑色生成物2.02g (理論値の100
%)が得られる。これをジメチルアセトアミドから再結
晶した後の生成物は元素分析により硫黄分15.3%(
計算値は15.8%)を含有し、その構造は下記式に一
致する。
%)が得られる。これをジメチルアセトアミドから再結
晶した後の生成物は元素分析により硫黄分15.3%(
計算値は15.8%)を含有し、その構造は下記式に一
致する。
実施例9
インキチクリドン1.56g、(0,005モル)を5
0m1のヘキサメチルリン酸アミドに懸濁しそしてラウ
エソン試薬2.43g(0,006モル)を添加する。
0m1のヘキサメチルリン酸アミドに懸濁しそしてラウ
エソン試薬2.43g(0,006モル)を添加する。
この混合物を140℃まで加熱しそしてこの温度で4時
間攪拌をつづける。室温まで冷却した後、この反応混合
物を200m1のメタノールに投入しそして30分間攪
拌する。生じた生成物をを濾過分離し、メタノールで洗
いそして乾燥する。これにより粗生成物1−81gが得
られる。
間攪拌をつづける。室温まで冷却した後、この反応混合
物を200m1のメタノールに投入しそして30分間攪
拌する。生じた生成物をを濾過分離し、メタノールで洗
いそして乾燥する。これにより粗生成物1−81gが得
られる。
精製のため、この粗生成物の0.5gを50乃至60℃
の温度で1ocalのジメチルアセトアミドに溶解する
。この溶液を清澄濾過し、その濾液にメタノール900
m1を添加する。沈殿した生成物を濾過分離しそして8
0℃で乾燥する。しかして深紅色の生成物0.35gを
得る。この生成物は元素分析により硫黄分18.8%(
計算値は18.6%)を含有し、その構造は下記式に一
致すこの生成物のジメチルホルムアミド溶液中の吸光係
数(入ma!におけるε−値)はつぎのとおりである: 10021 (於563nm)。
の温度で1ocalのジメチルアセトアミドに溶解する
。この溶液を清澄濾過し、その濾液にメタノール900
m1を添加する。沈殿した生成物を濾過分離しそして8
0℃で乾燥する。しかして深紅色の生成物0.35gを
得る。この生成物は元素分析により硫黄分18.8%(
計算値は18.6%)を含有し、その構造は下記式に一
致すこの生成物のジメチルホルムアミド溶液中の吸光係
数(入ma!におけるε−値)はつぎのとおりである: 10021 (於563nm)。
9914 (於541nm)。
実施例10
(キナクリドンキノンのチオ化)
キナクリドンキノン(粗製キナクリドンキノンを浣腸ア
セトン中で処理して得たもの)6.85gを0−ジクロ
ロベンゼン140m1とへキサメチルリン酸トリアミド
(=へキサメチルリン酸アミド)14mlとの混合物に
懸濁する。そしてラウエソン試薬19.8gを添加して
窒素雰囲気で140 ’Cまで加熱する。この温度で1
2時間攪拌する。60℃まで冷却しそして生じたオリー
ブグリーン色の生成物を濾過分離し、最初に温0−ジク
ロロベンゼン、次ぎに冷ジメチルホルムアミドそして最
後に水の順序で洗浄する。真空炉中90℃で乾燥してオ
リーブグリーン色生成物6.72g(理論値の82.7
%)を得る0元素分析によるこの生成物の硫黄分は26
.9%(計算値31.54%)であった。
セトン中で処理して得たもの)6.85gを0−ジクロ
ロベンゼン140m1とへキサメチルリン酸トリアミド
(=へキサメチルリン酸アミド)14mlとの混合物に
懸濁する。そしてラウエソン試薬19.8gを添加して
窒素雰囲気で140 ’Cまで加熱する。この温度で1
2時間攪拌する。60℃まで冷却しそして生じたオリー
ブグリーン色の生成物を濾過分離し、最初に温0−ジク
ロロベンゼン、次ぎに冷ジメチルホルムアミドそして最
後に水の順序で洗浄する。真空炉中90℃で乾燥してオ
リーブグリーン色生成物6.72g(理論値の82.7
%)を得る0元素分析によるこの生成物の硫黄分は26
.9%(計算値31.54%)であった。
この粗生成物をつぎの方法で再結晶する。
上記粗生成物の4.0gをN−メチルピロリドン(NM
P) 100wl中に窒素雰囲気下で懸濁する。生じた
混合物を120℃まで加熱しそしてこの温度で6時間攪
拌する。固体生成物をこの温度で濾過分離し、最初に冷
NMP、次ぎに冷メタノールそして最後に水の順序で洗
浄する。真空炉中90 ’cで乾燥して融点300℃以
上の生成物2.29gを得る。この生成物は分子量が4
06(質量スペクトル分析)でありそして下記構造式を
有する。
P) 100wl中に窒素雰囲気下で懸濁する。生じた
混合物を120℃まで加熱しそしてこの温度で6時間攪
拌する。固体生成物をこの温度で濾過分離し、最初に冷
NMP、次ぎに冷メタノールそして最後に水の順序で洗
浄する。真空炉中90 ’cで乾燥して融点300℃以
上の生成物2.29gを得る。この生成物は分子量が4
06(質量スペクトル分析)でありそして下記構造式を
有する。
実施例11
攪拌器、温度計および還流冷却器を具備した四首丸底フ
ラスコに、2,9−ジフルオロキナクリドン1.74g
(0,005モル)、ラウエソン試薬2.43g (
0,006モル)およびヘキサメチルリン酸アミ150
m1を装填する。この混合物を攪拌しながら15分間で
140乃至145℃まで加熱する。この加熱期間中に何
回かの色の変化が起こる。
ラスコに、2,9−ジフルオロキナクリドン1.74g
(0,005モル)、ラウエソン試薬2.43g (
0,006モル)およびヘキサメチルリン酸アミ150
m1を装填する。この混合物を攪拌しながら15分間で
140乃至145℃まで加熱する。この加熱期間中に何
回かの色の変化が起こる。
すなわち、85°C近辺では黄赤色灰地混合物が赤褐色
に変る。100°C近辺では桃色に、110’O近辺で
は紫色に、さらに約125℃では青紫色に変り、130
°C近辺では濃い青色に変りそして145℃近辺では濃
い緑色になる。140乃至145℃の温度に4.25時
間保持した後、この反応混合物を60°Cまで冷却しそ
して200m1の攪拌メタノール中に投入する。この懸
濁物を20分間攪拌したのち固体生成物をを濾過分離し
、無色になるまで徹底的にメタノールで洗う。濃緑色の
生成物を80℃で乾燥する。しかして、2.9−ジフル
オロジチオキナクリドン1.76g(収率92.6%)
が得られる。この生成物は硫黄分15.4%(計算値は
16.8%)を含有していた。
に変る。100°C近辺では桃色に、110’O近辺で
は紫色に、さらに約125℃では青紫色に変り、130
°C近辺では濃い青色に変りそして145℃近辺では濃
い緑色になる。140乃至145℃の温度に4.25時
間保持した後、この反応混合物を60°Cまで冷却しそ
して200m1の攪拌メタノール中に投入する。この懸
濁物を20分間攪拌したのち固体生成物をを濾過分離し
、無色になるまで徹底的にメタノールで洗う。濃緑色の
生成物を80℃で乾燥する。しかして、2.9−ジフル
オロジチオキナクリドン1.76g(収率92.6%)
が得られる。この生成物は硫黄分15.4%(計算値は
16.8%)を含有していた。
実施例12
実施例11に記載したものと同じ装置を使用してそのフ
ラスコに、4.11−シフ ルオロキナクリドン3.4
8g(0,01モル)、ラウエンン試薬4.86g (
0,012モル)および0−ジクロロベンゼン100m
1を装填する。この混合物を攪拌しながら30分間で1
40乃至145℃まで加熱する。この加熱期間中に、特
に100 ’C!到達後、ゆっくりと色がオレンジ色か
ら褐色に変る。1′40乃至145℃の温度に5時間保
持する。この期間に沈殿の色が暗色に、はとんど黒まで
変化する。この反応混合物を60℃まで冷却しそして2
00m1の攪拌メタノール中に投入する。この懸濁物を
1時間攪拌したのち固体生成物をを濾過分離し、無色に
なるまで徹底的にメタノールで洗う。灰黒色のこの生成
物を80℃で乾燥する。しかして、4、ii−ジフルオ
ロジチオキナクリドン3.74g(収率98.4%)が
得られる。この生成物は硫黄分15.8%(計算値は1
6.8%)を含有していた。
ラスコに、4.11−シフ ルオロキナクリドン3.4
8g(0,01モル)、ラウエンン試薬4.86g (
0,012モル)および0−ジクロロベンゼン100m
1を装填する。この混合物を攪拌しながら30分間で1
40乃至145℃まで加熱する。この加熱期間中に、特
に100 ’C!到達後、ゆっくりと色がオレンジ色か
ら褐色に変る。1′40乃至145℃の温度に5時間保
持する。この期間に沈殿の色が暗色に、はとんど黒まで
変化する。この反応混合物を60℃まで冷却しそして2
00m1の攪拌メタノール中に投入する。この懸濁物を
1時間攪拌したのち固体生成物をを濾過分離し、無色に
なるまで徹底的にメタノールで洗う。灰黒色のこの生成
物を80℃で乾燥する。しかして、4、ii−ジフルオ
ロジチオキナクリドン3.74g(収率98.4%)が
得られる。この生成物は硫黄分15.8%(計算値は1
6.8%)を含有していた。
実施例13
実施例1で得られた顔料0.5gを振動型ボールミル(
ミュールハイ入/ルールのシープテクニック(5ieb
technik)社のビブラトム(Vibrator)
型)内の50m1容量フラスコを使用して直径4乃至5
mmのガラスポール70gとメチルエチルケトン中ルサ
イ) (Lucite)41(デュポン社製のポリメチ
ルメタクリレート)の7.5%溶液15g中に16時間
かけて分散させた。ガラスポールを除去した後、この顔
料分散物をアルミニウムベース部材上にコーティングロ
ッドを使用して名目150 pLmの湿潤膜厚さで塗布
した。これを乾燥して厚さ約151Lmの、電子写真特
性(約151LJ/crrI′においてEl/2)を有
する層が得られた。
ミュールハイ入/ルールのシープテクニック(5ieb
technik)社のビブラトム(Vibrator)
型)内の50m1容量フラスコを使用して直径4乃至5
mmのガラスポール70gとメチルエチルケトン中ルサ
イ) (Lucite)41(デュポン社製のポリメチ
ルメタクリレート)の7.5%溶液15g中に16時間
かけて分散させた。ガラスポールを除去した後、この顔
料分散物をアルミニウムベース部材上にコーティングロ
ッドを使用して名目150 pLmの湿潤膜厚さで塗布
した。これを乾燥して厚さ約151Lmの、電子写真特
性(約151LJ/crrI′においてEl/2)を有
する層が得られた。
実施例14
実施例1で得られた顔料0.3gを、エチルセルロース
0.2gを含有している。エタノールとメチルエチルケ
トンとの混合物(容量比2:1)10g中に懸濁した。
0.2gを含有している。エタノールとメチルエチルケ
トンとの混合物(容量比2:1)10g中に懸濁した。
この懸濁物をガラスポールで5時間ミリングしそしてコ
ーチインクロッドを使用してアルミニウム板に塗布した
(=光導電層)。この層を3時間かけて50℃で乾燥し
た。層厚は6p−mであった。
ーチインクロッドを使用してアルミニウム板に塗布した
(=光導電層)。この層を3時間かけて50℃で乾燥し
た。層厚は6p−mであった。
つぎに式
のヒドラゾン0.6gとメチルエチルケトン11g中ル
サイト41がO−,9gの溶液との混合物からなる第2
の層を塗布し、50℃で15時間かけて乾燥した。この
層厚は1o乃至15ルmであった。
サイト41がO−,9gの溶液との混合物からなる第2
の層を塗布し、50℃で15時間かけて乾燥した。この
層厚は1o乃至15ルmであった。
得られた受光体は6ILJ/crn’の感度(E1/2
)を有し、そして電荷容量は430ボルトであった。
)を有し、そして電荷容量は430ボルトであった。
実施何重5
実施例1で得られた顔料をアルミニウム板−ス上に1.
3xlO−6バールの真空度、57秒の速度で蒸着した
。得られた層の厚さは2000乃至3000 であった
。このフィルムを室温で1時間アセトン蒸気に曝して処
理した0次ぎに実施例14の場合と同一の組成を有する
第2の層を付与した。このフィルムは770nmに吸収
を示す。このことは、70nmの吸収波長移動がなされ
たことを意味する(アセトン蒸気で予備処理されなかっ
た対照フィルムの吸収波長ニア00nm)。
3xlO−6バールの真空度、57秒の速度で蒸着した
。得られた層の厚さは2000乃至3000 であった
。このフィルムを室温で1時間アセトン蒸気に曝して処
理した0次ぎに実施例14の場合と同一の組成を有する
第2の層を付与した。このフィルムは770nmに吸収
を示す。このことは、70nmの吸収波長移動がなされ
たことを意味する(アセトン蒸気で予備処理されなかっ
た対照フィルムの吸収波長ニア00nm)。
実施例16
実施例1で得られた顔料を実施例13と同様に蒸着した
。得られた層を1時間ジメチルホルムアミド蒸気に曝し
て処理した。次ぎにその上に実施例14の場合と同一の
組成を有する第2の層を付与した。得られたフィルムは
770nmに吸収をもつ。
。得られた層を1時間ジメチルホルムアミド蒸気に曝し
て処理した。次ぎにその上に実施例14の場合と同一の
組成を有する第2の層を付与した。得られたフィルムは
770nmに吸収をもつ。
実施例17
実施例1で得られた顔料0.4gを直径1mmのガラス
ポール40gを使用してfoalの蒸留水中で2日間ミ
リングした。生じた生成物を濾過分離し、50’Oで2
4時間乾燥しそして酢酸エチルに1時間かけて懸濁した
。これをもう一度濾過して乾燥した。しかるのち、実施
例13と同様に単層フィルムを製造した。このフィルム
は770nmに吸収を有していた。
ポール40gを使用してfoalの蒸留水中で2日間ミ
リングした。生じた生成物を濾過分離し、50’Oで2
4時間乾燥しそして酢酸エチルに1時間かけて懸濁した
。これをもう一度濾過して乾燥した。しかるのち、実施
例13と同様に単層フィルムを製造した。このフィルム
は770nmに吸収を有していた。
実施例18
実施例1で得られ、実施例17と同様に予備処理された
顔料を使用して、実施例14に記載した方法で二層フィ
ルムを製造した。得られたフィルムは好ましい電子写真
特性を示した。
顔料を使用して、実施例14に記載した方法で二層フィ
ルムを製造した。得られたフィルムは好ましい電子写真
特性を示した。
実施例19
実施例10で得られた顔料0.5gをAMラッカー(キ
シレンとメチルグリコールとの溶剤混合物中にアルキド
樹脂とメラミン樹脂との混合物を配合したもの)中にガ
ラスポールを使用して15時間、実施例13に記載した
ように分散させた。ガラスポールを除去した後、この顔
料分散物をコーティングロフトで実施例13と同様にア
ルミニウム板に塗布した。
シレンとメチルグリコールとの溶剤混合物中にアルキド
樹脂とメラミン樹脂との混合物を配合したもの)中にガ
ラスポールを使用して15時間、実施例13に記載した
ように分散させた。ガラスポールを除去した後、この顔
料分散物をコーティングロフトで実施例13と同様にア
ルミニウム板に塗布した。
実施例14のものと同じ組成を有する第2の層を上側層
として付与した。この受光体は好ましい電子写真特性を
示した。
として付与した。この受光体は好ましい電子写真特性を
示した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、下記式 I 、IIまたはIII ▲数式、化学式、表等があります▼( I )、▲数式、
化学式、表等があります▼(II)、 ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (式中、Rは−F、−Cl、−Br、C_1−C_1_
8−アルキルまたはC_1−C_3−アルコキシを意味
しそしてnは0、1、2または3の数である)の化合物
。 2、Rとnが特許請求の範囲第1項に記載した意味を有
する特許請求の範囲第1項に記載の式 I またはIIの化
合物。 3、Rが−F、−Cl、−Br、−CH_3または−O
CH_3を意味しそしてnが0または1の数である特許
請求の範囲第1項に記載の式 I の化合物。 4、特許請求の範囲第1項に記載の式 I 、IIまたはII
Iの化合物の製造方法において、SをOで置換した式 I
、II、IIIのいずれかに相当するキナクリドン、キナク
リドンキノンまたはイソキナクリドンをチオ化剤と一諸
に加熱することを特徴とする方法。 5、チオ化剤として2,4−ビス−(4′−メトキシフ
ェニル)−1,3−ジチア−2,4−ジホスフェタン−
2,4−二硫化物または十硫化四リンを使用すること特
徴とする特許請求の範囲第4項に記載の方法。 6、チオ化反応を不活性有機溶剤中で実施すること特徴
とする特許請求の範囲第4項に記載の方法。 7、少なくとも1つの導電性ベース、1つの光導電層お
よび1つの電荷移動層とからなる電子写真受光体におい
て、それらの層の少なくとも1つが特許請求の範囲第1
項に記載の式 I 、II、IIIの少なくとも1つの化合物を
含有していることを特徴とする電子写真受光体。 8、光導電層が特許請求の範囲第1項に記載の少なくと
も1つの化合物を含有していることを特徴とする特許請
求の範囲第7項に記載の電子写真受光体。 9、電子写真受光体の製造方法において、導電性ベース
に有機結合剤を使用してまたは真空蒸着によって特許請
求の範囲第1項に記載の化合物を付与し、これによって
形成された層を液状またはガス状の有機溶剤で処理しそ
して次ぎに芳香族含窒化合物を含有する第2の層を造成
することを特徴とする方法。 10、特許請求の範囲第9項に記載の電子写真受光体の
製造方法において、溶剤としてアセトン、テトラヒドロ
フラン、ジメチルホルムアミド、メタノール、ジメチル
スルホキシド、酢酸エチル、アセトニトリルからなる群
から選択された溶剤を使用することを特徴とする方法。 11、特許請求の範囲第1項に記載の式 I の化合物を
含有している全体着色された高分子有機材料。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US92929986A | 1986-11-10 | 1986-11-10 | |
| US929,299 | 1986-11-10 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63152380A true JPS63152380A (ja) | 1988-06-24 |
| JP2618409B2 JP2618409B2 (ja) | 1997-06-11 |
Family
ID=25457628
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62282273A Expired - Lifetime JP2618409B2 (ja) | 1986-11-10 | 1987-11-10 | 新規なチオキナクリドンとイソチオキナクリドンならびにそれらの製造方法及び使用法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0267873B1 (ja) |
| JP (1) | JP2618409B2 (ja) |
| CA (1) | CA1323031C (ja) |
| DE (1) | DE3784218D1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02180884A (ja) * | 1988-12-29 | 1990-07-13 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 新規な化合物,およびそれを用いた顔料並びに電子写真感光体 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0546994A1 (de) * | 1991-12-10 | 1993-06-16 | Ciba-Geigy Ag | Verfahren zur optischen Informationsspeicherung |
| TW327210B (en) * | 1992-03-11 | 1998-02-21 | Ciba Sc Holding Ag | Process for recording information and material used therein |
| ATE203053T1 (de) * | 1994-09-12 | 2001-07-15 | Procter & Gamble | Portionsverpacktes waschmittel |
| GB9418495D0 (en) * | 1994-09-14 | 1994-11-02 | Ciba Geigy Ag | Mono-n-alkyl-quinacridone pigments |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3384565A (en) * | 1964-07-23 | 1968-05-21 | Xerox Corp | Process of photoelectrophoretic color imaging |
| BE763390A (fr) * | 1971-02-24 | 1971-08-24 | Xerox Corp | Nouvelle plaque xerographique contenant des pigments de quinacridones. |
| AU478532B2 (en) * | 1973-04-26 | 1974-10-31 | Hoechst A.G. | Electrophotographic recording material and processes for its manufacture |
-
1987
- 1987-11-04 DE DE8787810634T patent/DE3784218D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1987-11-04 EP EP87810634A patent/EP0267873B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1987-11-06 CA CA000551250A patent/CA1323031C/en not_active Expired - Fee Related
- 1987-11-10 JP JP62282273A patent/JP2618409B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02180884A (ja) * | 1988-12-29 | 1990-07-13 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 新規な化合物,およびそれを用いた顔料並びに電子写真感光体 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3784218D1 (de) | 1993-03-25 |
| EP0267873A3 (en) | 1990-09-05 |
| EP0267873A2 (de) | 1988-05-18 |
| EP0267873B1 (de) | 1993-02-17 |
| JP2618409B2 (ja) | 1997-06-11 |
| CA1323031C (en) | 1993-10-12 |
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