JPS6341041A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
- Publication number
- JPS6341041A JPS6341041A JP61185715A JP18571586A JPS6341041A JP S6341041 A JPS6341041 A JP S6341041A JP 61185715 A JP61185715 A JP 61185715A JP 18571586 A JP18571586 A JP 18571586A JP S6341041 A JPS6341041 A JP S6341041A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode pad
- chip
- output
- input
- high frequency
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P74/00—Testing or measuring during manufacture or treatment of wafers, substrates or devices
- H10P74/27—Structural arrangements therefor
- H10P74/273—Interconnections for measuring or testing, e.g. probe pads
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R31/00—Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
- G01R31/28—Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
- G01R31/2851—Testing of integrated circuits [IC]
- G01R31/2884—Testing of integrated circuits [IC] using dedicated test connectors, test elements or test circuits on the IC under test
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W44/00—Electrical arrangements for controlling or matching impedance
- H10W44/20—Electrical arrangements for controlling or matching impedance at high-frequency [HF] or radio frequency [RF]
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
- Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明(よ、例えば数十M Hz以上の高周波帯で動
作する半導体装置に関するものである。
作する半導体装置に関するものである。
第3図(a)は従来の高周波帯ICチップの一例を示す
平面図、第3図(b)は第3図(a)の■1−■、線に
おける断面図である。これらの図において、1はICチ
ップ、2aは入力用電極パッド、2bは出力用電極パッ
ド、3は裏面接地金属、4は裏面に至るバイアホールで
ある。そして、第3図(b)に示すように、ICチップ
1の入力用電極パッド2aおよび出力用電極パッド2b
は、マイクロスI・リップラインとなっている。
平面図、第3図(b)は第3図(a)の■1−■、線に
おける断面図である。これらの図において、1はICチ
ップ、2aは入力用電極パッド、2bは出力用電極パッ
ド、3は裏面接地金属、4は裏面に至るバイアホールで
ある。そして、第3図(b)に示すように、ICチップ
1の入力用電極パッド2aおよび出力用電極パッド2b
は、マイクロスI・リップラインとなっている。
次に、このICチップ1の高周波特性の測定方法につい
て説明する。
て説明する。
第4図は測定用の治具を用いてICチップ1の高周波特
性の測定を行っている状態を示す平面図である。この図
において、5は測定用の治具、6はチップキャリアであ
る。
性の測定を行っている状態を示す平面図である。この図
において、5は測定用の治具、6はチップキャリアであ
る。
第4図に示すように、従来はICチップ1を個別に分割
し、チップキャリア6等に組立後、測定用の治具5を使
用して高周波特性の測定を行っていた。
し、チップキャリア6等に組立後、測定用の治具5を使
用して高周波特性の測定を行っていた。
上記のような従来のICチップでは、■Cチ、ンプ1を
個別に分割し、チップキャリア6等に組立後、測定用の
治具5を使用して高周波特性の測定を行っているため、
1gのICチップの測定に数時間の準備を必要とすると
いう問題点があった。
個別に分割し、チップキャリア6等に組立後、測定用の
治具5を使用して高周波特性の測定を行っているため、
1gのICチップの測定に数時間の準備を必要とすると
いう問題点があった。
また、測定用の治具5に起因する寄生容量や共振のため
、測定精度が低いという問題点もあった。
、測定精度が低いという問題点もあった。
この発明は、かかる問題点を解決するためになされたも
ので、高周波特性を短時間に高い精度で測定することが
可能な半導体装置を得ることを目的とする。
ので、高周波特性を短時間に高い精度で測定することが
可能な半導体装置を得ることを目的とする。
この発明に係る半導体装置は、入力用電極パッドおよび
出力用電極パッドのそれぞれを一定の間隔で挾むように
、半導体基板上に高周波特性試験を行った後に切除され
る接地用電極パッドを形成したものである。
出力用電極パッドのそれぞれを一定の間隔で挾むように
、半導体基板上に高周波特性試験を行った後に切除され
る接地用電極パッドを形成したものである。
この発明においては、高周波帯ウェハ・プローバのブロ
ービングニードルを用いて高周波特性が測定される。
ービングニードルを用いて高周波特性が測定される。
第1図(a)は乙の発明の半導体装置の一実施例を示す
平面図、第1図(b)は第1図(a)の1.−■b線に
おけろ断面図である。これらの図において、第3図(a
)、(b)と同一符号は同一部分を示し、2cは接地用
電極パッドで、入力用電極パッド2a、出力用電極パッ
ド2bのそれぞれを挾んで両側に形成され、バイアホー
ル4を介して裏面接地金属3に接続されている。
平面図、第1図(b)は第1図(a)の1.−■b線に
おけろ断面図である。これらの図において、第3図(a
)、(b)と同一符号は同一部分を示し、2cは接地用
電極パッドで、入力用電極パッド2a、出力用電極パッ
ド2bのそれぞれを挾んで両側に形成され、バイアホー
ル4を介して裏面接地金属3に接続されている。
また、第2図(a)は高周波帯のウニへ・プローバのブ
ロービングニードル先端部の斜視図である。
ロービングニードル先端部の斜視図である。
このブロービングニードル先端部はセラミック製のボデ
ィ7の裏面に、接地線路8a、9c、信号線路8bを持
つコプレナライン構造となっている。
ィ7の裏面に、接地線路8a、9c、信号線路8bを持
つコプレナライン構造となっている。
すなわち、この発明の半導体装置は、入力用電極パッド
2n、出力用電極パッド2bの両側にそれぞれ接地用電
極パッド2Cが構成されているため、ブロービングニー
ドル先端部との整合性が高い。
2n、出力用電極パッド2bの両側にそれぞれ接地用電
極パッド2Cが構成されているため、ブロービングニー
ドル先端部との整合性が高い。
したがって、第2図(b)に示すように、ブロービング
ニードル先端部をICチップ1の入力部および出力部に
密着させての高周波帯ウェハ・ブロービングが可能であ
る。この結果、ICチップ1を分割しキャリアに組み立
てる等の手間を必要としないため、測定に要する時間を
従来の約17100にできる。また、測定用の治具5に
起因する寄生容量や共振が発生しないため、従来の約1
0倍の精度で高周波特性を測定できる。
ニードル先端部をICチップ1の入力部および出力部に
密着させての高周波帯ウェハ・ブロービングが可能であ
る。この結果、ICチップ1を分割しキャリアに組み立
てる等の手間を必要としないため、測定に要する時間を
従来の約17100にできる。また、測定用の治具5に
起因する寄生容量や共振が発生しないため、従来の約1
0倍の精度で高周波特性を測定できる。
また、実際にこの発明の半導体装置を使用する際には、
第2図(C)に示すように切断し、従来のICチップと
同様な使用が可能である。
第2図(C)に示すように切断し、従来のICチップと
同様な使用が可能である。
この発明は以上説明したとおり、入力用電極パッドおよ
び出力用1掻パッドのそれぞれを一定の間隔で挾むよう
に、半導体基板上に高周波特性試験を行った後に切除さ
れる接地用電極パッドを形成シたので、高周波帯ウェハ
・プローバの使用が可能となり、高周波特性を短時間に
高い精度で測定することができるという効果がある。
び出力用1掻パッドのそれぞれを一定の間隔で挾むよう
に、半導体基板上に高周波特性試験を行った後に切除さ
れる接地用電極パッドを形成シたので、高周波帯ウェハ
・プローバの使用が可能となり、高周波特性を短時間に
高い精度で測定することができるという効果がある。
第1図はこの発明の半導体装置の一実施例を示す図、第
2図はこの発明における高周波特性試験を説明するため
の図、第3図は従来のICチップを示す図、第4図は従
来の高周波特性試験を説明するための図である。 図において、1はICチップ、2aは入力用電極パッド
、2bは出力用電極パッド、2cは接地用電極パッド、
3は裏面接地金属、4はバイアホール、5ば測定用の治
具、6はチップキャリア、7ばボディ、8a、8cは接
地線路、8bは信号線路である。 なお、各図中の同一符号は同一または相当部分を示す。 代理人 大 岩 増 雄 (外2名)第1図 11h 4 ノVイア才、−ル 第2図
2図はこの発明における高周波特性試験を説明するため
の図、第3図は従来のICチップを示す図、第4図は従
来の高周波特性試験を説明するための図である。 図において、1はICチップ、2aは入力用電極パッド
、2bは出力用電極パッド、2cは接地用電極パッド、
3は裏面接地金属、4はバイアホール、5ば測定用の治
具、6はチップキャリア、7ばボディ、8a、8cは接
地線路、8bは信号線路である。 なお、各図中の同一符号は同一または相当部分を示す。 代理人 大 岩 増 雄 (外2名)第1図 11h 4 ノVイア才、−ル 第2図
Claims (1)
- 半導体基板の一主面上に入力用電極パッドと出力用電極
パッドを有する半導体装置において、前記入力用電極パ
ッドおよび出力用電極パッドのそれぞれを一定の間隔で
挾むように、前記半導体基板上に高周波特性試験を行っ
た後に切除される接地用電極パッドを形成したことを特
徴とする半導体装置。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61185715A JPS6341041A (ja) | 1986-08-06 | 1986-08-06 | 半導体装置 |
| US07/081,709 US4926234A (en) | 1986-08-06 | 1987-08-03 | Semiconductor device operating in high frequency range |
| DE8787306951T DE3772490D1 (de) | 1986-08-06 | 1987-08-05 | Halbleiteranordnung sowie verfahren zum herstellen und testen derselben. |
| EP87306951A EP0257870B1 (en) | 1986-08-06 | 1987-08-05 | A semiconductor device, making and testing thereof |
| US07/426,926 US5051810A (en) | 1986-08-06 | 1989-10-26 | Semiconductor device operating in high frequency range |
| US07/513,642 US5010019A (en) | 1986-08-06 | 1990-04-24 | Method of making a semiconductor device operating in high frequency range |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61185715A JPS6341041A (ja) | 1986-08-06 | 1986-08-06 | 半導体装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6341041A true JPS6341041A (ja) | 1988-02-22 |
| JPH0528903B2 JPH0528903B2 (ja) | 1993-04-27 |
Family
ID=16175583
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61185715A Granted JPS6341041A (ja) | 1986-08-06 | 1986-08-06 | 半導体装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (3) | US4926234A (ja) |
| EP (1) | EP0257870B1 (ja) |
| JP (1) | JPS6341041A (ja) |
| DE (1) | DE3772490D1 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5191478A (en) * | 1991-02-12 | 1993-03-02 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Zoom lens for video camera |
| JP2002334935A (ja) * | 2001-05-08 | 2002-11-22 | Mitsubishi Electric Corp | 高周波回路チップとこのチップを有する高周波回路装置並びにその製造方法 |
| JP2017054905A (ja) * | 2015-09-09 | 2017-03-16 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置 |
Families Citing this family (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6341041A (ja) * | 1986-08-06 | 1988-02-22 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置 |
| US5008727A (en) * | 1988-01-22 | 1991-04-16 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Standard cell having test pad for probing and semiconductor integrated circuit device containing the standard cells |
| US5315130A (en) * | 1990-03-30 | 1994-05-24 | Tactical Fabs, Inc. | Very high density wafer scale device architecture |
| US5252507A (en) * | 1990-03-30 | 1993-10-12 | Tactical Fabs, Inc. | Very high density wafer scale device architecture |
| JPH0434950A (ja) * | 1990-05-30 | 1992-02-05 | Nec Corp | 半導体集積回路装置 |
| JP3124085B2 (ja) * | 1991-12-02 | 2001-01-15 | 沖電気工業株式会社 | 半導体装置 |
| US5268636A (en) * | 1992-03-10 | 1993-12-07 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of Commerce | MMIC package and interconnect test fixture |
| US5286656A (en) * | 1992-11-02 | 1994-02-15 | National Semiconductor Corporation | Individualized prepackage AC performance testing of IC dies on a wafer using DC parametric test patterns |
| US5457399A (en) * | 1992-12-14 | 1995-10-10 | Hughes Aircraft Company | Microwave monolithic integrated circuit fabrication, test method and test probes |
| JPH07221223A (ja) * | 1994-02-03 | 1995-08-18 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置,及び混成集積回路装置 |
| US5650666A (en) * | 1995-11-22 | 1997-07-22 | Cypress Semiconductor Corp. | Method and apparatus for preventing cracks in semiconductor die |
| FR2790096B1 (fr) * | 1999-02-18 | 2001-04-13 | St Microelectronics Sa | Structure etalon elementaire a faibles pertes pour l'etalonnage d'une sonde de circuit integre |
| JP4536942B2 (ja) | 2001-02-09 | 2010-09-01 | 三菱電機株式会社 | 高周波用集積回路及びこれを用いた高周波回路装置 |
| JP2005331298A (ja) * | 2004-05-18 | 2005-12-02 | Mitsubishi Electric Corp | 高周波回路の特性測定方法及び校正用パターンならびに校正用治具 |
| JP4612431B2 (ja) * | 2005-02-24 | 2011-01-12 | 三菱電機株式会社 | 高周波半導体装置 |
| KR100819561B1 (ko) * | 2007-01-12 | 2008-04-08 | 삼성전자주식회사 | 반도체 장치 및 이 장치의 신호 종단 방법 |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3679941A (en) * | 1969-09-22 | 1972-07-25 | Gen Electric | Composite integrated circuits including semiconductor chips mounted on a common substrate with connections made through a dielectric encapsulator |
| US3691628A (en) * | 1969-10-31 | 1972-09-19 | Gen Electric | Method of fabricating composite integrated circuits |
| JPS5268376A (en) * | 1975-12-05 | 1977-06-07 | Nec Corp | Semiconductor device |
| JPS5698875A (en) * | 1980-01-07 | 1981-08-08 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Field effect transistor device |
| US4566184A (en) * | 1981-08-24 | 1986-01-28 | Rockwell International Corporation | Process for making a probe for high speed integrated circuits |
| JPS58157151A (ja) * | 1982-03-15 | 1983-09-19 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体集積回路装置 |
| EP0128986B1 (en) * | 1982-12-23 | 1991-02-27 | Sumitomo Electric Industries Limited | Monolithic microwave integrated circuit and method for selecting it |
| FR2565030B1 (fr) * | 1984-05-25 | 1986-08-22 | Thomson Csf | Structure de metallisations de reprise de contacts d'un dispositif semi-conducteur et dispositif dote d'une telle structure |
| JP2568495B2 (ja) * | 1985-10-21 | 1997-01-08 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置 |
| JPS6341041A (ja) * | 1986-08-06 | 1988-02-22 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置 |
-
1986
- 1986-08-06 JP JP61185715A patent/JPS6341041A/ja active Granted
-
1987
- 1987-08-03 US US07/081,709 patent/US4926234A/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-08-05 EP EP87306951A patent/EP0257870B1/en not_active Expired
- 1987-08-05 DE DE8787306951T patent/DE3772490D1/de not_active Expired - Lifetime
-
1989
- 1989-10-26 US US07/426,926 patent/US5051810A/en not_active Expired - Lifetime
-
1990
- 1990-04-24 US US07/513,642 patent/US5010019A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5191478A (en) * | 1991-02-12 | 1993-03-02 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Zoom lens for video camera |
| JP2002334935A (ja) * | 2001-05-08 | 2002-11-22 | Mitsubishi Electric Corp | 高周波回路チップとこのチップを有する高周波回路装置並びにその製造方法 |
| JP2017054905A (ja) * | 2015-09-09 | 2017-03-16 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0257870B1 (en) | 1991-08-28 |
| EP0257870A2 (en) | 1988-03-02 |
| US4926234A (en) | 1990-05-15 |
| JPH0528903B2 (ja) | 1993-04-27 |
| EP0257870A3 (en) | 1988-11-30 |
| DE3772490D1 (de) | 1991-10-02 |
| US5051810A (en) | 1991-09-24 |
| US5010019A (en) | 1991-04-23 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0528903B2 (ja) | ||
| JPH01165968A (ja) | ウエハプロービング装置 | |
| JPH01214038A (ja) | プローブカード | |
| JPH0434950A (ja) | 半導体集積回路装置 | |
| JPS6341042A (ja) | 高周波特性測定用の半導体基板 | |
| JPH06174746A (ja) | 耐温プローブカード | |
| JP2568495B2 (ja) | 半導体装置 | |
| JP7164653B2 (ja) | チップ実装構造及びチップ実装方法、並びにそれを用いたサンプリングオシロスコープ | |
| JP2956827B2 (ja) | 集積回路装置 | |
| JPH04288847A (ja) | 半導体試験装置 | |
| JP3132400B2 (ja) | Icテスタ用プローブカード | |
| JPH06101501B2 (ja) | 半導体装置の高周波特性測定用半導体基板 | |
| JPH02172250A (ja) | 半導体集積回路 | |
| JPS6311725Y2 (ja) | ||
| JPS62186543A (ja) | 半導体ウエ−ハの電気的特性測定用プロ−ブ針 | |
| JPH0690222B2 (ja) | 半導体ウエ−ハの電気的特性測定用プロ−ブ針 | |
| JPS6256864A (ja) | プロ−ビング装置 | |
| JPS62279650A (ja) | 半導体ウエ−ハの電気的特性測定用プロ−ブ針 | |
| JPS62177455A (ja) | 半導体ウエ−ハの電気的特性測定用プロ−ブ針 | |
| JPS6141232Y2 (ja) | ||
| JPH0121562Y2 (ja) | ||
| JPH04274338A (ja) | 半導体装置 | |
| JPH03196540A (ja) | マイクロ波ウエハプローブ | |
| JPH1082U (ja) | ピンカードデータ自動取得装置用パフォーマンスボード。 | |
| JPH0547874A (ja) | 半導体装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |