WO2000061658A1 - Resine polyimide, composition de resine a resistance amelioree a l'humidite la comprenant, solution adhesive, colle en film adhesif en couches et leurs procedes de production - Google Patents

Resine polyimide, composition de resine a resistance amelioree a l'humidite la comprenant, solution adhesive, colle en film adhesif en couches et leurs procedes de production Download PDF

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Hiroyuki Furutani
Koichiro Tanaka
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Definitions

  • the present invention relates to a novel polyimide resin, a resin composition comprising the same, an adhesive solution, a film-like joining member, and an adhesive laminated film.
  • INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention is useful as a material such as a flexible printed circuit board, a tape for TAB (Tape Automated Bonding), a composite lead frame, and an adhesive having excellent heat resistance and adhesiveness used for a laminated material.
  • the present invention relates to a laminated film suitable for coating a superconducting wire. Background art
  • acrylic, phenolic, epoxy, and polyimide adhesives have been known as adhesives having good mechanical properties, heat resistance properties, and insulating properties in semiconductor packages and other mounting materials.
  • Polyimide is used to solve these problems. Since polyimide has excellent heat resistance among various organic polymers, it is widely used in the space and aviation fields, as well as in the electronic communication field, and is also used as an adhesive. However, polyimide adhesives with high heat resistance require high temperatures and high pressures of around 300 ° C to bond, and the bonding strength is not so high. In addition, conventional polyimide-based adhesives have a high water absorption rate and contain a large amount of residual volatiles (moisture-absorbed water and the solvent used when preparing the adhesive). When the frame was immersed in a solder bath, there was a problem that blisters and the like were easily generated.
  • Polyimides have very poor solubility in organic solvents, and can be dissolved in only a few types of solvents such as DMF, DMAC, and NMP (N-methylpyrrolidone). However, these high-boiling solvents cannot be completely removed even after the adhesive solution is applied onto the film and dried, and it has been clarified that the solvent remaining in the film causes foaming and the like.
  • An accelerator is a device that accelerates elementary particles such as protons and protons, electrons and electrons, collides and decomposes them, and examines particles generated therefrom. Due to the nature of the accelerator, a large amount of radiation is generated. Therefore, the insulating coating materials and adhesives used in superconducting magnets are required to have excellent radiation resistance.
  • a superconducting wire has been coated with a laminate of a polyimide film and a thermosetting resin mainly composed of epoxy resin.
  • the epoxy resin does not show sufficient radiation resistance, and it is expected that the amount of radiation generated will increase as the energy of the accelerator increases in the future.
  • polyimide can be cited as a heat-fusible layer having excellent radiation resistance, but a commonly used heat-fusible polyimide requires a high temperature for bonding, and a polyimide that can be bonded at a low temperature has heat resistance and bonding properties.
  • the problem is that the adhesiveness and the resin running out during pressing are inferior.
  • an object of the present invention is to provide a polyimide resin excellent in low water absorption, solder heat resistance, heat resistance and adhesiveness.
  • Another object of the present invention is to provide a resin composition using a polyimide resin, which can be adhesively cured at a relatively low temperature, is soluble in a solvent, and is excellent in heat resistance and adhesiveness.
  • the present invention provides an adhesive solution capable of easily removing a solvent from a film while maintaining heat resistance and adhesiveness, and a film-like laminated member obtained by using the adhesive solution.
  • the purpose is to do.
  • an object of the present invention is to develop an adhesive laminated film for coating a wire, which does not cause deterioration of the wire when coated with the wire and has excellent flexibility and adhesiveness. Disclosure of the invention
  • the pod resin of the present invention is the pod resin of the present invention.
  • X represents one (CH 2 ) k — or a divalent group containing an aromatic ring, and is an integer of 1 or more and 10 or less.
  • n represents an integer from 0 to 4, wherein n 1 ⁇ are the same or different
  • X represents one (CH 2 ) k — or a divalent group containing an aromatic ring, and k is an integer of 1 or more and 10 or less.
  • X represents one (CH 2 ) k — or a divalent group containing an aromatic ring, and k is an integer of 1 or more and 10 or less.
  • Aromatic diamine is a bonding group selected from the group consisting of groups represented by the following formulas, and P and Q each represent an integer of 1 to 5.
  • Aromatic diamine represented by the formula and Z or general formula (3)
  • One, one S—, -SO,- R 2 , R 3: and R 4 are an alkyl group, a fluorine-substituted alkyl group, an alkoxyl group, or a halogen group, the same or different.
  • X, y, z, and m, n represent an integer of 0 to 4, and (m + 1) A may be the same or different.
  • These polyimide resins have a glass transition temperature of 100 ° C. to 250 ° C. and a water absorption of 1.5% or less.
  • the resin composition of the present invention includes the polyimide resin of the present invention and a thermosetting resin.
  • the resin composition of the present invention may have a water absorption of 1.5% or less after curing.
  • the resin composition of the present invention may have a residual volatile content of 3% by weight or less after curing.
  • the polyimide resin may be a polyimide-oligomer having an amine terminal.
  • the cured resin of the present invention obtained by curing the above resin composition has a water absorption of 1.
  • the residual volatile matter may be 3% by weight or less.
  • the polyimide adhesive solution of the present invention comprises the polyimide resin and the epoxy resin. And a polyimide adhesive solution in which the curing agent is dissolved,
  • Residue and the organic solvent may contain a cyclic ether solvent.
  • the gist of the film-like joining member of the present invention is that a thermosetting resin is laminated on one or both sides of a base film containing the polyimide resin as a main component.
  • Another aspect of the film-like joining member of the present invention is that the above resin composition is laminated on one or both sides of a polyimide base film.
  • the film-like joining member of the present invention is obtained by dissolving the resin composition in an organic solvent, casting or applying the solution on a support, and peeling off the dried resin composition coating film from the support.
  • the obtained film-shaped resin composition layer is laminated on a polyimide base film.
  • the resin composition is obtained by dissolving the resin composition in an organic solvent, casting or applying the solution on at least one surface of a polyimide base film, and then drying.
  • the polyimide adhesive solution is cast or applied on a support, and the dried adhesive film is peeled off from the support.
  • it can be obtained by casting or coating the polyimide-based adhesive solution on at least one surface of a polyimide-based base film, and then drying.
  • the adhesive laminated film for wire coating of the present invention can use the above-mentioned film-like joining member.
  • FIG. 1 is a perspective explanatory view for explaining a method for coating a wire with an adhesive laminated film for coating a wire according to the present invention.
  • FIG. 2 is a perspective explanatory view for explaining another method for coating the wire with the adhesive laminated film for wire coating according to the present invention.
  • FIG. 3 is a perspective explanatory view for explaining another method for coating the wire with the adhesive laminated film for wire coating according to the present invention.
  • FIG. 4 is a perspective explanatory view for explaining another method of coating the wire of the adhesive laminated film for wire coating according to the present invention.
  • FIG. 4 (a) is a view showing a coating step
  • FIG. b) is a view showing a coated state after processing.
  • 5 (a) and 5 (b) are perspective explanatory views for explaining another method of coating the wire laminated with the wire laminated adhesive laminate film according to the present invention.
  • FIG. 6 is an explanatory cross-sectional view of the adhesive laminated film for wire coating according to the present invention shown in FIG. 5 after the wire is coated.
  • FIG. 7 is a perspective explanatory view illustrating an example of application of the wire coated with the adhesive laminated film for wire coating of the present invention shown in FIGS. 5-6 to acceleration.
  • the polyimide resin of the present invention comprises a tetracarboxylic dianhydride containing an ester dianhydride represented by the formula (1) (wherein, X represents a divalent group including an aromatic ring). , And / or a diamine of formula (2) and / or formula (3).
  • the ester dianhydride has the formula (1)
  • X represents one (CH 2 ) k — or a divalent group containing an aromatic ring, and k is an integer of 1 or more and 10 or less.
  • the polyimide resin using the ester dianhydride represented by the general formula (1) has excellent low heat absorption because of excellent low heat absorption.
  • Preferred examples of the ester dianhydride used in the present invention include 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propanedibenzoethanol 3,3 ′, 4,4′-tetracarboxylic dianhydride , P-Phenylene bis (trimellitic acid monoester anhydride), 3, 3 ', 4, 4'-Ethylene glycol benzoate tetracarboxylic dianhydride, 4, 4'-biphenylene bis (trimellitic acid monoester) Acid anhydride), 1,4-naphthalenebis (trimellitic acid monoester acid anhydride), 1,2-ethylenebis (trimellitic acid monoester acid anhydride), 1,3-trimethylenebis (trimellitic acid) Monoester anhydride), 1,4-tetramethylenebis (trimellitic acid monoester anhydride), 1,5-pent
  • the diamine used in the present invention is an aliphatic diamine or a compound represented by formula (2):
  • diamines are used alone or as a mixture of two or more.
  • Aliphatic diamines include 1,2-diaminoethane, 1,3-diaminopentane, 1,3-diaminopropane, 1,4-diaminobutane, 1,5-diaminopentane, 1,6-diaminohexane, 1, Examples include 7-diaminoheptane, 1,8-diaminooctane, 1,9-diaminononane, and 1,10-diaminodecane.
  • Examples of the aromatic diamine represented by the general formula (2) and / or the general formula (3) include o-phenylenediamine, m-phenylenediamine, p-phenylenediamine, 2,4-toluenediamine, 3,3 '-Diaminodiphenyl ether, 3,4' diaminodiphenyl ether, 4, 4 'diaminodiphenyl ether, 3, 3'-diaminodiphenylstanne, 3, 4 '-diaminodiphenylmethane, 4.
  • polyimide it is preferable to use an aromatic diamine rather than an aliphatic diamine as a diamine component from the viewpoint of heat resistance and the like.
  • the use of the aromatic diamines represented is preferred.
  • a plurality of Ys may be the same or two or more substituents.
  • hydrogen of each benzene ring can be appropriately substituted with various substituents within a range that can be considered by those skilled in the art.
  • the diamine used in the polyimide resin according to the present invention further includes, in addition to the diamine,
  • R 5 and R 6 are divalent aliphatic groups having 1 to 4 carbon atoms or divalent aromatic
  • R 7 , R 3 , R 9 , and R 1 Q are monovalent Is an aliphatic group having 1 to 4 carbon atoms or a monovalent aromatic group
  • n is an integer of 1 or more and 10 or less.
  • the ratio of each diamine is not particularly limited, but the ratio of siloxane diamine to all diamines is preferably 1 to 30 mol%.
  • the polyimide resin of the present invention containing siloxane diamine has increased solubility in low-boiling solvents and is easy to handle when used as an adhesive.
  • the ratio of the siloxane diamine is less than 1 mol%, the solubility of the obtained resin composition in a low boiling point solvent is poor, and when it is more than 30 mol%, the heat resistance of the obtained resin composition is poor.
  • ⁇ ⁇ ⁇ is a bonding group selected from the group consisting of groups represented by the following formulas, and p and Q represent integers of 1 to 5.
  • the diamines represented by the general formulas (4) and (6) can be used alone or in combination of two or more.
  • the polyimide resin according to the present invention has a general formula (1)
  • X represents one (CH 2 ) k — or a divalent group containing an aromatic ring, and k is an integer of 1 or more and 10 or less.
  • X represents one (CH 2 ) k — or a divalent group containing an aromatic ring, and k is an integer of 1 or more and 10 or less.
  • ESDA Tetracarboxylic acid containing 2-bis (4-hydroxyphenyl) propanedibenzoate —3,3 ', 4,4'-tetracarboxylic dianhydride (ESDA) It can also be obtained by an imidization reaction between dianhydride and diamine.
  • the polyimide resin of the present invention uses a tetracarboxylic dianhydride whose residual impurities contained in the tetracarboxylic dianhydride containing ESDA are 1% by weight or less of the whole tetracarboxylic dianhydride. obtain.
  • it is obtained by imidizing a tetracarboxylic dianhydride containing ESDA having a residual impurity of 1% by weight or less, more preferably 0.5% by weight or less, with diamine.
  • the residual impurities in the present invention are all substances other than tetracarboxylic dianhydride, and are mainly trimellitic anhydride or derivatives thereof.
  • the compound (1) is mainly trimellitic anhydride or derivatives thereof.
  • Residual impurities act as polymerization inhibitors during purification of the polyimide precursor polyamic acid. Therefore, when the content of residual impurities in tetracarboxylic dianhydride or ESDA exceeds 1%, the polymerization inhibitory action becomes large, and the degree of polymerization sufficient to form a polyimide film cannot be obtained, and the resulting film Are less self-supporting and vulnerable.
  • ESDA As a specific method, taking ESDA as an example, 100 parts by weight of crude ESDA, 100 parts by weight of a solvent belonging to the group (A), a solvent belonging to the group (B), or 100 parts by weight of an aliphatic acid anhydride And 100 to 100 parts by weight, and heat and dissolve to about 100 to 20 o :. Subsequently, ESDA crystals are precipitated by gradually cooling the system to room temperature. The crystals are separated by filtration by a known means and subsequently dried to obtain ESDA having a residual impurity of 1% by weight or less.
  • the solvent belonging to the group (A) and the solvent belonging to the group (B) are used alone. However, they may be used in combination. Further, when an aliphatic acid anhydride is used for recrystallization, it can be further treated with a solvent belonging to the group (A) and a solvent belonging to the group Z or (B).
  • Examples of the solvent belonging to the group (A) include hydrocarbon solvents which are inert to ESDA and have a solubility in ESDA at 25 ° C. of 3 g / 100 g or less.
  • Examples thereof include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, and isopropylbenzene, and aliphatic hydrocarbons such as heptane, hexane, octane, and cyclohexane.
  • Examples of the solvent belonging to the group (B) include solvents which are inert to ESDA and have a solubility in ESDA at 25 ° C of 5 g / 100 g or more.
  • diisopropyl ketone Ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isopropyl ketone, acetyl aceton, acetophenone, cyclohexanone, ethers such as diisopropyl ether, ethyl butyl ether, dichloro isopropyl ether, ethyl acetate, butyl acetate;
  • Esters such as cellosolve acetate, carbitol acetate, methyl acetate, methyl propionate, methyl butyrate, and methyl phthalate are exemplified.
  • Aliphatic anhydrides include, but are not limited to, acetic anhydride.
  • ESDA can be used in combination with other tetracarboxylic dianhydrides to the extent that they do not degrade the properties of the polyimide.
  • tetracarboxylic dianhydride that can be used in combination include, for example, pyromellitic dianhydride, benzophenone tetracarboxylic dianhydride, biphenyl tetracarboxylic dianhydride, diphenyl ether tetracarboxylic dianhydride, Naphthalene lentetracarboxylic acid dianhydride, diphenylsulfonetetracarbonic acid dianhydride and the like can be mentioned, and these may be used as a mixture of two or more kinds in combination with ESDA.
  • ESDA is contained in an amount of 5% by weight or more and 100% by weight or less, preferably 10% by weight or more and 100% by weight or less of the total tetracarboxylic dianhydride. More preferably, the ESDA is at least 30% by weight of the total tetracarboxylic dianhydride. % By weight or less.
  • the polyimide resin of the present invention can be obtained by dehydrating and cyclizing a polyamic acid polymer as a precursor thereof.
  • the polyamic acid polymer includes an ester dianhydride represented by the above formula (1) and the above formula (2) and / or formula (3), particularly, formula (4) and Z or formula (6).
  • one or more diamine components represented by the formula (4) are obtained by substantially equimolar polymerization.
  • the polymerization is usually performed in an organic polar solvent.
  • substantially equimolar means that the ratio of acid dianhydride to diamine is in the range of 0.98: 1 to 1.02: 1.
  • the above general formulas (2) and Z or the general formula (3), particularly the general formulas (4) and Z, are preferably used in an inert atmosphere such as argon or nitrogen.
  • Dissolving or diffusing one or more diamine components represented by the general formula (6) and an acid dianhydride selected from the ester dianhydrides represented by the general formula (1) in an organic polar solvent Then, polymerization is performed to obtain a solution of a polyamic acid polymer.
  • the term “dissolve” means not only the case where the solvent completely dissolves the solute, but also the state where the solute is uniformly dispersed or diffused in the solvent and substantially dissolved. Including the case.
  • an acid dianhydride may be first added to an organic polar solvent, and a diamine component may be added.
  • a part of the diamine component may be first added to the organic polar solvent as appropriate, then the acid dianhydride may be added, and the remaining diamine component may be added to form a solution of the polyamic acid polymer.
  • various addition methods known to those skilled in the art can be used.
  • an organic polar solvent is preferable.
  • the organic polar solvent include, for example, sulfoxide solvents such as dimethyl sulfoxide and diethyl sulfoxide, and formamide solvents such as N, N-dimethylformamide and N, N-getylformamide.
  • Acetate solvents such as N, N-dimethylacetamide, N, N-getylacetamide, pyrrolidone solvents such as N-methyl-12-pyrrolidone, phenol, 0-, m- or p-pheno, such as cresol, xylenol, halogenated funinol, catechol Alcohol solvents, hexamethylphosphoramide, carboxylactone and the like.
  • these organic polar solvents can be used in combination with xylene or an aromatic hydrocarbon such as toluene.
  • the polyamide acid polymer of the present invention can be obtained by subjecting the thus obtained polyamic acid polymer to dehydration and ring closure by, for example, a thermal or chemical method.
  • Examples of the imidation method include a thermal method of dehydrating a polyamic acid solution by heat treatment, and a chemical method of dehydration using a dehydrating agent, and any of them can be used.
  • the thermal dehydration ring closure method the solvent of the polyamic acid solution is evaporated.
  • a stoichiometric or more dehydrating agent and a catalyst are added to the above polyamic acid solution to evaporate the organic solvent.
  • the evaporation of the organic solvent is preferably performed at a temperature of 160 ° C. or lower for a time period of about 5 to 90 minutes.
  • the heating temperature for imidization is appropriately selected from the range of room temperature to about 250 ° C.
  • the imidization may be performed at room temperature. It is preferable to heat gradually.
  • the dehydrating agent that can be used when performing the chemical method include aliphatic acid anhydrides such as acetic anhydride, and aromatic acid anhydrides.
  • the catalyst include aliphatic tertiary amines such as triethylamine, aromatic tertiary amines such as dimethylaniline, and heterocyclic tertiary amines such as pyridine and isoquinoline.
  • a thermal method and a chemical method may be used in combination.
  • the polyimide resin of the present invention thus obtained has a low water absorption and a glass transition temperature at a relatively low temperature. Specifically, those having a glass transition temperature of 100 to 250 ° C., and having a water absorption of 1.5% or less and a dielectric constant of 3.2 or less, have processability, It is preferable because it has excellent durability and insulation properties.
  • the glass transition temperature is 100 ° C or lower, the heat resistance is poor.
  • the glass transition temperature is 250 ° C or higher, the processing temperature increases, which is not preferable from the viewpoint of workability. Since the glass transition temperature is 100 ° C to 250 ° C, it can be melted by laminating at a temperature close to the glass transition temperature within this temperature range. It is preferably used because the thermosetting resin can be easily cured. More preferably, the temperature is 100 to 200 ° C. In addition, if the water absorption is more than 1.5%, swelling may occur, which is not preferable.
  • the polyimide resin according to the present invention has a water absorption of 1.5% or less, and This is preferable because the performance of the film is not deteriorated due to the adsorption of water. More preferably, it is at most 1.3%, particularly preferably at most 1.0%. .
  • the polyimide resin according to the present invention is capable of coating the wire with a dielectric constant of 3.2 or less. This is preferable in that the dielectric loss when energizing is small. More preferably, it is 3.0 or less.
  • a silane coupling agent, a nonionic surfactant or the like may be appropriately added to the polyimide resin according to the present invention.
  • silane coupling agent to be used examples include vinyl trichlorosilane, vinyl triethoxy silane, and methacryloxypropyl trimethoxy silane, and the amount of the silane coupling agent is 0.01 to 5 wt. %.
  • Titanium-based coupling agents include, for example, isopropyl triisostearoyl titanate, isopropyl tridecylbenzenesulfonyl titanate, and the amount thereof is 0.01 to 5 with respect to the total amount of the polyimide resin. % By weight.
  • nonionic surfactants include fatty acid monoglycerin esters, aliphatic polyglycol esters, aliphatic alcohol amides, and the like.
  • the compounding amount is 0.01 to 5% by weight based on the total amount of the polyimide resin. is there.
  • the resin composition of the present invention uses the above polyimide resin as one of the constituent components. For this reason, when the resin composition of the present invention is cured, in a preferred embodiment, an excellent low content of 1.5% or less, more preferably 1.3% or less, and particularly preferably 1.0% or less. It is possible to express a water absorption rate. Further, when the resin composition of the present invention is cured, the excellent heat resistance and low water absorption characteristics of the polyimide resin can be imparted with good adhesion by using an epoxy resin.
  • the resin composition of the present invention is obtained by uniformly stirring and mixing the polyimide resin of the present invention obtained as described above and a thermosetting resin, for example, an epoxy resin and a curing agent and other components used as necessary. Is obtained by In the resin composition of the present invention, By using an epoxy resin for the resin, in addition to the properties of the polyimide resin used in the present invention, it is possible to impart even better adhesion.
  • thermosetting resin used here it is particularly preferable to use an epoxy resin in view of a balance of various properties that can use bismaleimide, bisarylnamidide, phenol resin, cyanate resin and the like.
  • epoxy resin any epoxy resin can be used in the present invention.
  • bisphenol epoxy resin halogenated bisphenol epoxy resin, phenol novolak epoxy resin, halogenated phenol nopolak epoxy resin, alkylphenol novolak epoxy resin, polyphenol epoxy resin, polyglycol epoxy resin
  • Polyoxy resin cycloaliphatic epoxy resin, cresol novolak epoxy resin, glycidylamine epoxy resin, urethane-modified epoxy resin, rubber-modified epoxy resin, epoxy-modified polysiloxane and the like
  • bisphenol epoxy resin halogenated bisphenol epoxy resin
  • phenol novolak epoxy resin halogenated phenol nopolak epoxy resin
  • alkylphenol novolak epoxy resin alkylphenol novolak epoxy resin
  • polyphenol epoxy resin polyglycol epoxy resin
  • Polyoxy resin cycloaliphatic epoxy resin
  • cresol novolak epoxy resin glycidylamine epoxy resin
  • urethane-modified epoxy resin rubber-modified epoxy resin
  • epoxy-modified polysiloxane and the like can be used.
  • bisphenol A-type resin such as Epicoat 82 8 (manufactured by Yuka Shell), orthocresol nopolak resin such as 180 S65 (manufactured by Yuka Shell), 157 S70 ( Bisphenol A novolak resin such as Yuka Shell Co., Ltd .; trishydroxyphenylmethane novolak resin such as 1032 H60 (manufactured by Yuka Shell Co.); naphthalene aralkyl novolak resin such as ESN 375; Nirolethane 1 0 3 1 S (Yuika Shell Co., Ltd.), YGD4 14 S (Toto Kasei), Trishydroxyphenyl methane E PPN 50 2H (Nippon Kayaku), Special bisphenol VG 3101 L (Mitsui ), Glycidylamine-type resins such as specialty naphthol NC 7000 (Nippon Kayaku), TETRAD-X, TETRAD-I-C (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.
  • thermosetting resin such as a phenol resin and a cyanate resin may be used in combination.
  • the epoxy equivalent is obtained by dividing the molecular weight of the epoxy resin by the number of epoxy groups.
  • the mixing ratio of the thermosetting resin, particularly the epoxy resin is preferably 1 to 50 parts by weight, and more preferably 5 to 30 parts by weight, based on 100 parts by weight of the polyimide resin. . If the amount is too small, the adhesive strength is low. If the amount is too large, flexibility, heat resistance, and
  • the resin composition of the present invention further includes, in addition to the above-mentioned thermosetting resins, generally, acid dianhydride-based, amine-based, imidazole-based, etc.
  • the used epoxy curing agent, accelerator and various force coupling agents may be used in combination.
  • the polyimide resin contained in the resin composition may be a polyimide oligomer having an amine terminal.
  • the polyimide-oligomer having an amine terminal can be obtained by dehydrating and cyclizing a polyamic acid-oligomer having an amine terminal which is a precursor thereof.
  • the polyamic acid / oligomer having an amine terminal includes an ester dianhydride represented by the above formula (1) and one or more diamines represented by the above formulas (4) and Z or the formula (6). It is obtained by polymerizing the components in a formulation that substantially results in an excess of the diamine component. Preferably, for example, it is obtained by polymerizing a diamine component in a proportion of 1.02 mol to 1.1 mol per 1 mol of ester dianhydride. The polymerization is usually performed in an organic polar solvent.
  • the polyamide-oligomer having an amine terminal can be obtained by dehydrating and ring-closing a polyamic acid-oligomer having an amine terminal which is a precursor thereof.
  • the polyamic acid / oligomer having a fluoramine terminal comprises an ester dianhydride represented by the above formula (1) and one or more diamine components represented by the above formula (4) or (6). It can be obtained by polymerization in a composition in which the diamine component is substantially excessive. Preferably, for example, it is obtained by polymerizing a diamine component in a proportion of 1.02 mol to 1.1 mol with respect to 1 mol of ester dianhydride. The polymerization is usually performed in an organic polar solvent.
  • one or more diamines represented by the formulas (4) and / or (6) and a compound represented by the formula (1) are preferably prepared in an inert atmosphere such as argon or nitrogen.
  • An acid dianhydride selected from the ester dianhydrides is dissolved or diffused in an organic polar solvent to carry out polymerization to obtain a solution of a polyamic acid oligomer.
  • the process of synthesizing the polyamide 'oligomer can be performed in the same manner as in the polyimide resin according to the present invention.
  • the number average molecular weight of the polyimide oligomer is preferably 2000 to 5000 0, more preferably 3,000 to 4,000, and still more preferably 5,000 to 3,000.
  • the number average polyimide 'oligomer having terminal amino groups When the molecular weight is 500,000 or less, the amount of the amino group serving as a reaction point with the epoxy resin is relatively appropriate with respect to the epoxy group, the crosslink density is appropriate, and there is no empty space and the structure is structurally safe. As a result, it is possible to prevent the invasion of solvents, etc., and to improve the retention of peel strength after pCT (Pressure Cooker Test), which is a reliability test for electronic materials. Can be.
  • pCT Pressure Cooker Test
  • the thus-obtained amide group of the polyimide-oligomer having an amine terminal and the epoxy group of the epoxy resin are cross-linked by a chemical reaction to form new chemical bonds at multiple points.
  • the polyimide oligomer has the same action and effect as the curing agent of the epoxy resin, so that the crosslink density increases and the water absorption decreases.
  • the polyimide / oligomer portion that has not reacted with the epoxy group has a glass transition temperature at a relatively low temperature, low water absorption and low-temperature bonding can be achieved as a whole.
  • the amine end of the polyimide oligomer has the characteristic that it can be chemically bonded to the epoxy resin.
  • the amine terminal of the polyimide 'oligomer may or may not be chemically bonded to the epoxy resin.
  • the effects of the present invention can be obtained if a chemical bond is formed between the amine terminal of the polyimide / oligomer and the epoxy resin before the adhesive resin composition finally cures. Therefore, the effects of the present invention can be obtained irrespective of whether or not a chemical bond between the amine terminal of the polyimide-oligomer and the epoxy resin is formed in the resin composition of the present invention before curing.
  • the polyimide or oligomer amide end is chemically bonded to the epoxy resin, which has multiple points of cross-linking, makes the structure dense, and reduces penetration of solvents. It has the advantage that.
  • the peel strength retention rate after PCT (Pressure Cooker Test) treatment which is a reliability test for electronics materials, is preferably 60% or more, more preferably Or more preferably 70% or more, and more preferably 80% or more.
  • the residual volatile content of the organic solvent contained after curing of the resin composition can be suppressed to 3% by weight or less.
  • the one or more solvents contained in the resin composition of the present invention are not particularly limited as long as they can dissolve the polyimide and the epoxy resin, but the residual volatile matter after curing is suppressed to 3% by weight or less. Limited to the types and amounts that can be performed. Further, a low boiling point solvent having a boiling point of 160 or less is preferable in view of economy and workability. In this specification, the term “low-boiling solvent” refers to a solvent having a boiling point of 160 ° C. or lower.
  • a solvent having a boiling point of 130 or lower is more preferable, and a solvent having a boiling point of 105 ° C or lower is more preferable.
  • a low boiling point solvent preferably, tetrahydrofuran (hereinafter abbreviated as THF; boiling point is 66), 1,4-dioxane (hereinafter abbreviated as dioxane, boiling point: 103 T :), 1,2 —Dimethoxyethane (monoglyme) (boiling point: 84 ° C). These may be used alone or in combination of two or more.
  • the residual volatile content in the cured product of the resin composition is 3% by weight or less, preferably 2% by weight or less, particularly preferably 1% by weight or less.
  • the residual volatile matter can be easily measured by, for example, a gas chromatography method.
  • a cured product for measuring residual volatile matter is prepared as follows. The adhesive was cast on a glass plate, dried at 100 ° C for 10 minutes, peeled off from the glass plate, fixed on an iron frame, and dried at 150 ° C for 20 minutes, and the thickness was 25. Get a sheet of xm. The obtained sheet is sandwiched between a polyimide film (Avical 50 AH, manufactured by Kanegabuchi Chemical Industry Co., Ltd.) and a copper foil having a thickness of 25 wm. Heat and pressurize for a minute to obtain a copper-clad flexible laminate.
  • the cured adhesive in the laminate is dissolved using a solvent different from the solvent present in the cured product to produce a sample with a fixed concentration (for example, 5% by weight), vaporized in a carrier gas, and
  • the weight of residual volatile matter can be measured with a detector such as the above.
  • a detector such as the above.
  • a single solvent was prepared for each candidate solvent for residual volatile matter, and solutions were prepared at various concentrations in a solvent different from the residual volatile matter. • Easily measured by vaporizing in the carrier gas in a chromatography column and creating a calibration curve to measure the weight of the remaining volatiles using a detector such as an FID.
  • the resin composition can be used as an adhesive, for example.
  • the adhesive strength is very good.
  • the peel strength retention after PCT (Pressure Cooker Test) treatment which is a reliability test of electronic materials, is preferably 60% or more, more preferably 70% or more, and further preferably A high retention of 80% or more can be achieved.
  • the water absorption of the resin composition of the present invention can be easily adjusted by those skilled in the art by appropriately adjusting the composition of the resin composition.
  • the cured product obtained by curing the composition of the present invention has a water absorption of 1.5% or less.
  • the cured resin for measuring the water absorption is prepared as follows.
  • the adhesive was cast on a glass plate, dried at 100 ° C for 10 minutes, peeled off from the glass plate, fixed on an iron frame, and dried at 150 ° C for 20 minutes to obtain a thickness of 25 Get a sheet.
  • the obtained sheet is sandwiched between a polyimide film (Avical 50 AH, manufactured by Kanegabuchi Chemical Industry Co., Ltd.) and a copper foil having a thickness of 25 m, and heated at a temperature of 200 ° C and a pressure of 3 MPa for 20 minutes. Press to obtain a copper-clad flexible laminate.
  • the water absorption of the cured adhesive in this laminate can be measured by any known method. For example, it can be calculated by measurement based on ASTM D570.
  • a resin solution containing a thermoplastic polyimide and a thermosetting resin can be made into a resin solution by adding the thermosetting resin to the thermoplastic polyimide solution as it is.
  • a resin solution can be prepared by adding a low-boiling solvent to a thermoplastic polyimide solution, further adding a thermosetting resin, and stirring and mixing.
  • a polyimide solution is poured into a poor solvent used in the polymerization of polyamide acid to precipitate a polyimide resin, remove unreacted monomers, purify, dry, and dry a solid polyimide. From the mid resin, the resin composition of the present invention can be appropriately obtained.
  • Poor solvents have the property of dissolving the solvent satisfactorily but not of polyimide, and examples thereof include acetone, methanol, ethanol, isopropanol, benzene, methylcellosolve, and methylethylketone. However, it is not limited to this. Further, although not particularly limited, the solid thermoplastic polyimide resin purified as described above is dissolved in an organic solvent again together with the thermosetting resin when used, when the purified polyimide resin is used. Can also be obtained as The organic solvent used at this time is not particularly limited, and any organic solvent known to those skilled in the art can be used.
  • the resin composition of the present invention has good adhesion to a metal foil such as a copper foil or a polyimide film. Further, the resin composition of the present invention has good solubility in an organic solvent, and thus has excellent workability when used. In addition, it has good solubility in organic solvents and has properties such as bonding at low temperatures. That is, specifically, the water absorption after reaction curing has an excellent low water absorption of 1.5% or less, preferably 1.3% or less, and 1.0% or less.
  • a solution of a polyimide and an epoxy resin obtained by imidizing the polyamide acid polymer can be used in a state of being directly formed into a sheet.
  • it can be used as it is as a printed wiring board.
  • it has characteristics that it can be suitably used for electronic devices, particularly flexible printed circuit boards, TAB tapes, composite lead frames, laminated materials, and the like as bonding members.
  • the amine terminal of the composition of the present invention can be chemically bonded to the epoxy resin. And the structure becomes dense, and the penetration of solvent and the like is reduced.
  • PCT P ressure Co oker Test
  • the polyimide-based adhesive solution according to the present invention is obtained by dissolving the above-obtained thermoplastic polyimide resin of the present invention, the above-described epoxy resin, and a curing agent in an organic solvent. Since the polyimide-based adhesive solution of the present invention using an organic solvent containing a system solvent can dry and remove the solvent at a relatively low temperature, it exhibits strong adhesive strength in subsequent lamination.
  • cyclic ether solvent tetrahydrofuran (THF), 1,4-dioxane, or dioxolane can be preferably used.
  • THF tetrahydrofuran
  • 1,4-dioxane 1,4-dioxane
  • dioxolane dioxolane
  • the present invention preferably contains a cyclic ether solvent in an amount of 30% by weight or more, preferably 50% by weight or more. The effect is easy to manifest.
  • Organic polar solvents used in combination with cyclic ether solvents include sulfoxide solvents such as dimethyl sulfoxide and getyl sulfoxide; formamide solvents such as N, N-dimethylformamide and N, N-getylformamide; Acetamide solvents such as N-dimethylacetamide and N, N-getylacetamide.
  • thermoplastic polyimide resin used in the adhesive solution of the present invention at least 50 mol% of the acid dianhydride residues contained in the molecule have the general formula (1)
  • X represents one (CH 2 ) k — or a divalent group containing an aromatic ring, and k is an integer of 1 or more and 10 or less. It is a residue. Due to this structure, solubility in the above-mentioned organic solvent is good.
  • Preferred examples of the acid dianhydride represented by the general formula (1) include 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propanedibenzoate-1,3 ', 4,4'-tetracarboxylic acid Dianhydride, p-phenylenebis (trimellitic acid monoester anhydride), 4,4'-biphenylenebis (trimellitic acid monoester anhydride), 1,4 naphthalenebis (trimellitic acid monoester anhydride) ), 1,2-ethylenebis (trimellitic acid monoester anhydride), 1,3-trimethylenebis (trimellitic acid monoester anhydride), 1,4-tetramethylenebis (trimellitic acid monoester anhydride) Products), 1,5-pentamethylenebis (trimellitic acid monoester anhydride), 1,6-hexamethylenebis (trimellitic acid monoester anhydride), and the like. (7)
  • the diamine compounds represented, especially bis (aminophenoxyphenyl) sulfone, are preferred.
  • a plurality of Ys may be the same or different between each repeating unit, and hydrogen of each benzene ring may be appropriately substituted with various substituents within a range conceivable by those skilled in the art. Can be replaced. Examples thereof include hydrocarbon groups such as a methyl group and an ethyl group, and halogen groups such as Br and C1, but are not limited to these substituents.
  • the diamine compound represented by the general formula (4) the diamine compound represented by the general formula (6) having an amino group at the meta position has a solubility in a thermoplastic polyimide in an organic solvent using the diamine compound. It is preferable that an adhesive solution having excellent workability is obtained because of good properties.
  • the diamine compound represented by the general formula (4) may be used as a mixture of two or more kinds.
  • the polyamide resin obtained from the diamine compound and the ester dianhydride is soluble in an organic solvent containing the cyclic ether-based solvent, in which most conventional thermoplastic polyimides are insoluble or hardly soluble.
  • the polyamide resin and the epoxy resin described above are dissolved in an organic solvent containing the cyclic ether solvent.
  • the mixing ratio of the epoxy resin is preferably 1 to 50 parts by weight, more preferably 5 to 30 parts by weight, based on 100 parts by weight of the thermoplastic resin, polyimide. If the amount is too small, the adhesive strength is low. If the amount is too large, the flexibility, heat resistance, and radiation resistance are poor. Other curing agents, accelerators, or various coupling agents may be mixed.
  • the concentration of the adhesive solution is 5 to 50% by weight, preferably 10 to 40% by weight, particularly preferably 10 to 40% by weight, based on the solid content (thermoplastic polyimide + epoxy resin + curing agent) whose denominator is the solution weight. It is preferably 15 to 30% by weight.
  • the dissolution procedure and the like may be appropriately determined in consideration of workability and the like.
  • thermosetting The resin can be obtained by laminating one side or both sides of a base film containing the thermoplastic polyimide resin obtained above and drying by heating. Alternatively, it can be obtained by casting the thermosetting resin on a support, removing the solvent to form a sheet, and then bonding the sheet to a base film containing a thermoplastic polyimide resin.
  • the thickness of the thermosetting resin layer laminated on the polyimide film is preferably in the range of 0.5 to 5 m. Further, the range of 0.5 to 3 zm is preferable. If the thickness is less than 0.5 zm, the adhesive strength is not sufficient, and if it is more than 5 m, the mechanical strength is low and the film becomes brittle.
  • a resin composition obtained by uniformly stirring and mixing a thermoplastic polyimide resin, a thermosetting resin, and other components on a polyimide film is laminated on one or both surfaces.
  • a resin composition solution containing a thermoplastic polyimide and a thermosetting resin used in the present invention is obtained by obtaining a polyimide resin solution obtained by dissolving a thermoplastic polyimide resin in a solvent, and then preparing a thermosetting resin, And other components are added to form a resin composition solution, which can be applied to a polyimide film and dried.
  • the resin composition solution obtained as described above may be cast on a support, the solvent may be removed to form a sheet, and the sheet may be attached to a polyimide film.
  • the polyimide film for laminating the resin composition layer generally known avical, Kapton, Iupirex, or the like can be used, but is not limited thereto.
  • the thickness of the polyimide film can be appropriately selected in use. Further, the thickness of the resin composition layer containing the thermoplastic polyimide and the thermosetting resin to be laminated on the polyimide film can be appropriately selected according to the requirements at the time of use, but the thickness is 5 to 30 zm. Is preferred. If the thickness is too small, the adhesiveness may decrease. If the thickness is too large, drying and removal of the organic solvent become difficult and foaming may occur.
  • the bonding condition of the film-shaped joining member of the present invention may be any bonding condition that can sufficiently bond and cure.
  • the conditions are a heating temperature of 150 ° C. to 250 ° C., a pressure of 0.1 to 10 MPa, and a heating time of about 5 to 20 minutes.
  • the film-like joining member according to the present invention includes, for example, copper foil, aluminum foil '42 This metal foil can be used when bonding another film, printed circuit board, etc. by heating and pressing.
  • the type of the other film is not particularly limited, and examples thereof include a polyimide film and a polyester film.
  • the bonding conditions in this case are not particularly limited as long as the bonding conditions are necessary and sufficient for bonding and curing.
  • the heating temperature is 150 ° C. to 250 ° C.
  • the pressure is 0. It is preferable to perform heating and pressurization under the conditions of l to 10 MPa and a heating time of about 5 to 20 minutes, but it is not limited to these conditions.
  • the film-like joining member of the present invention is suitably used for flexible printed circuit boards, TAB tapes, composite lead frames, laminated materials, and the like.
  • the film-like joining member according to the present invention since the film-like joining member according to the present invention has excellent properties such as workability at low temperatures, flexibility, and radiation resistance, it can be used as an adhesive laminated film for coating a wire. Suitable for coating conductive wires.
  • the adhesive laminated film for covering a wire rod according to the present invention is formed by laminating a polyimide film and an adhesive layer containing a thermosetting resin and the thermoplastic polyimide resin obtained above.
  • the polyimide film for laminating the adhesive layer is not limited to the force that can use generally known avical, cubone, pentix, and the like.
  • the thickness of the polyimide film is 5 to 300 zm, preferably 10 to 125 m.
  • the thickness of the adhesive layer containing the thermoplastic polyimide and the thermosetting resin to be laminated on the polyimide film is 1 to 20 m, preferably 3 to 10 m.
  • a resin composition of the present invention comprising a thermoplastic polyimide resin and a thermosetting resin obtained as described above is used as a film. It can be obtained by laminating on a polyimide film and thermocompression bonding.
  • the adhesive laminated film for covering a wire rod of the present invention is prepared by laminating the thermoplastic polyimide resin and the thermosetting resin of the present invention formed into a film and a release paper and thermocompression bonding, and peeling off the release paper at the time of use. May be configured.
  • the resin composition of the present invention comprising a thermoplastic polyimide and a thermosetting resin
  • a solution in which the compound is dissolved in an organic solvent in particular, the adhesive solution of the present invention may be directly cast and applied to a polyimide film and then dried to obtain a desired adhesive laminated film for coating a wire.
  • the obtained adhesive laminated film for wire coating according to the present invention may be wound, for example, as it is, or a film such as polyethylene terephthalate, polypropylene, or polyethylene may be used as the adhesive laminated film for wire coating. It can be provided as a spacer on the adhesive layer side and wound up, appropriately formed into a predetermined width, and provided for coating a wire.
  • the coating of the wire with the adhesive laminated film for coating a wire is performed by appropriately selecting from the usual methods. For example, it is performed as follows. For example, as shown in FIG. 1, an adhesive laminated film 10 for covering a wire having a fixed width is spirally wound around the outer periphery of the wire 12 so that both ends of the laminated film 10 overlap with each other, and then heated to a predetermined temperature. By heating, the polyimide film 16 is adhered to the wire 12 via the adhesive layer 14. In addition, as shown in FIG. 2, both ends of the adhesive laminated film 10 for covering a wire can be wound so that they are in contact with each other and do not overlap. Further, as shown in FIG. 3, the width of the adhesive laminated film for wire coating 10 is formed to be slightly longer than the length of the outer periphery of the wire 12, and the adhesive laminated film for wire coating 10 is formed into a wire 12. And the ends may be glued or crimped.
  • FIG. 4 (a) after laminating the laminated film 10 around the outer periphery of the wire rod 12 so that the adhesive layer 14 is on the outside, another film having no adhesive property is further wound on the outside. 18 Wrap the ends of 8 slightly overlapping or with a gap between the ends. Then, the adhesive layer 14 is melted by heating and pressing, and the polyimide films 16 in the overlapping portion of the end portions of the laminated film 10 are adhered to each other, and also adhered to the film 18 wound around the outside. According to this method, the laminated film of the present invention is bonded to another film 18 to form a tube, as shown in FIG. 4 (b).
  • the outer periphery of the wire 12 can be covered in a state where it does not adhere to the wire.
  • excellent characteristics suitable for the wire such as flexibility, adhesiveness, workability and the like are recognized without causing deterioration of the wire, which is preferable.
  • New The film 18 may be the same as or different from the above-described polyimide 16 constituting the laminated film 10 of the present invention.
  • the adhesive laminated film for covering a wire rod of the present invention can be used particularly for an accelerator, as shown in FIGS.
  • a polyimide film 18 having a fixed width is wound around the outer periphery of the superconducting wire rod 12 for the accelerator so that the ends overlap.
  • the adhesive laminate film 10 for covering a wire having a constant width according to the present invention is disposed between the both end portions of the laminate film 10 with the adhesive layer 14 on the outside. To make a gap and wind it spirally.
  • FIG. 6 is a diagram showing the cross section.
  • the wire coated with the adhesive laminated film for wire coating can be used in an accelerator in a manner as shown in FIG.
  • an adhesive laminated film for covering a wire rod according to the present invention in which another polyimide film and an adhesive layer are laminated in advance, handling and workability are facilitated, and productivity is improved.
  • the adhesive film made of a thermoplastic polyimide and a thermosetting resin used as the adhesive layer in the present invention can be used as an insulating coating material itself, and can be used as a film-shaped thermoplastic polyimide and a thermosetting resin.
  • the resin made of resin and release paper may be overlapped and wound around a wire, thermocompression bonded, and then the release paper may be peeled off.
  • a film-like adhesive film composed of a thermoplastic resin and a thermosetting resin and another commercially available polyimide film such as, for example, Avical (manufactured by Kaneka Chemical Co., Ltd.) are used.
  • the wire may be wound around a wire and directly thermo-compressed to cover the wire.
  • the adhesive laminated film for wire coating of the present invention is excellent in workability at low temperatures, flexibility, and radiation resistance, and has little performance deterioration due to moisture absorption, and dielectric loss when the wire is coated and energized. With less adhesiveness. That is, the thermoplastic polyimide used as a component of the adhesive layer in the present invention has a clear glass transition temperature in the range of 100 ° C. to 250 ° C. depending on its composition, and its glass transition temperature By laminating at a temperature close to, the resin melts and can accelerate the curing of the thermosetting resin. Therefore, the laminated film of the present invention is wound around a wire, for example, with the adhesive layer inside, and then heated to a glass transition temperature of around 100 ° C.
  • the laminated film is bonded to the wire, so the wire is not significantly affected by heating and does not deteriorate, and the thermoplastic polyimide resin used for the adhesive layer is compared to the conventional polyimide. It exhibits a significantly lower water absorption rate, less performance degradation due to moisture absorption, and a small dielectric constant of 3.2 or less, so that when conducting electricity to the wire, there is little dielectric loss, that is, heating of the wire It has also been confirmed to show excellent properties in radiation resistance.
  • the water absorption was calculated by measurement based on ASTM D570.
  • a film-shaped composition sheet having a thickness of 25 im was heated at 150 ° C. for 3 hours to obtain a cured composition sheet.
  • the cured sheet is further dried at 150 ° C for 30 minutes, and the weight is defined as W1.
  • the intrinsic viscosity of the polyamic acid was measured with a Oswald viscometer at 30 ° C. The higher the intrinsic viscosity, the higher the degree of polymerization and the better the final polyimide mechanical properties. Specifically, several concentrations of different solutions were determined, the viscosity / concentration was plotted against the concentration, and the obtained straight line was extrapolated to zero concentration.
  • the endothermic onset temperature was measured at a heating rate of 1 O / min. This endothermic onset temperature was defined as the glass transition temperature. The lower the glass transition temperature, the better the workability.
  • the test was performed in accordance with JISK-1 5400.
  • the score is a maximum of 10 points, and the higher the score, the better the adhesion.
  • PCT Pressure Cooker Test
  • Carrier gas Helium
  • the weight of the resin composition as a W 3 the Zan ⁇ onset amount equivalent weight as determined by gas chromatography of the Act and W 4, the following formula:
  • Residual volatiles W 4 ⁇ W 3 X 100
  • the sample film is put into the thermal decomposition device and decomposed and vaporized.
  • ⁇ Remaining solvent amount was calculated from the weight ratio of the solvent decomposed as the sample and the calculated weight of the solvent.
  • the calibration curve is prepared by the following method.
  • the amount of solvent contained in the film can be determined by associating this calibration curve with the peak quencher obtained by pyrolyzing the film and measuring by GC-MS.
  • the measuring device and measuring conditions are as follows.
  • peel strength The peel strength when the laminated member and the copper foil were bonded was measured in the following procedure.
  • the film-like laminated member and an 18 / m electrolytic copper foil were overlapped and heated and pressed at a temperature of 200 ° C. and a pressure of 3 MPa for 20 minutes to obtain a copper-clad flexible laminate.
  • the peel strength of the obtained copper-clad flexible laminate was measured according to JIS C6481. However, the conductor width was measured at 3 mm.
  • the glass transition temperature was calculated from the dynamic viscoelasticity data using DMS 200 (JEOL) according to the DMA method.
  • DMF dimethylformamide
  • BAP P-M 3'-Bis (aminophenoxyphenyl) propane
  • ESDA 2,3-bis (4-hydroxyphenyl) propanedibenzoate-1,3 ', 4,4'-tetracarboxylic acid
  • ESDA 2,3-bis (4-hydroxyphenyl) propanedibenzoate-1,3 ', 4,4'-tetracarboxylic acid
  • ESDA 2,3-bis (4-hydroxyphenyl) propanedibenzoate-1,3 ', 4,4'-tetracarboxylic acid
  • the obtained sheet is sandwiched between a polyimide film (Avical 50AH, manufactured by Kanegabuchi Chemical Industry Co., Ltd.) and a copper foil having a thickness of 25 m, and heated and pressed at a temperature of 200 ° C and a pressure of 3 MPa for 20 minutes. , A copper-clad flexible laminate was obtained.
  • a polyimide film (Avical 50AH, manufactured by Kanegabuchi Chemical Industry Co., Ltd.)
  • a copper foil having a thickness of 25 m
  • Example 1 The varnish obtained in Example 1 was applied to a polyimide film (Avical 50AH, manufactured by Kanegafuchi Chemical Industry Co., Ltd.), and heated at 100 ° C. for 10 minutes and further at 150 ° C. for 20 minutes. After drying, an adhesive layer having a thickness of 25 m was formed. The single-sided polyimide film with the adhesive layer and the 25 copper foil were heated at a temperature of 200 ° C. and a pressure of 3 MPa for 20 minutes to obtain a copper-clad flexible laminate.
  • a polyimide film (Avical 50AH, manufactured by Kanegafuchi Chemical Industry Co., Ltd.)
  • Example 2 20 g of the polyimide powder obtained in Example 1, 5 g of daricidylamine-type epoxy resin; TETRAD-C (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) were dissolved in 83 g of DMF.
  • the obtained varnish was cast on a glass plate, dried at 100 ° C for 10 minutes, peeled off from the glass plate, fixed on an iron frame, and further dried at 150 ° C for 20 minutes to obtain a thickness of 2
  • a sheet of 5 m was obtained.
  • the obtained sheet was sandwiched between a polyimide film (Avical 50 AH, manufactured by Kanegabuchi Chemical Industry Co., Ltd.) and a copper foil having a thickness of 25, and heated and pressed at a temperature of 200 ° C. and a pressure of 3 MPa for 20 minutes.
  • a copper-clad flexible laminate was obtained.
  • a polyamic acid polymer solution was obtained in the same manner as in Example 1 except that the diamine component was changed to 4,4 ′-(1,3-phenylenebis (1-methylethylidene)) bisaniline (para type). Powder was obtained.
  • the polyimide powder obtained above was used in the same manner as in Example 1 to obtain a copper-clad flexible laminate.
  • a polyamic acid polymer solution was obtained in the same manner as in Example 1 except that the diamine component was 4,4'-bis (aminophenoxyphenyl) propane (para type), and a polyimide powder was obtained.
  • the polyimide powder obtained above was used in the same manner as in Example 1 to obtain a copper-clad flexible laminate.
  • Example 6 A polyamic acid polymer solution was obtained in the same manner as in Example 1 except that the diamine component was changed to 3, 3′-bis (aminophenoxyphenyl) sulfone (BAPS-M), and a polyimide powder was obtained.
  • BAPS-M 3′-bis (aminophenoxyphenyl) sulfone
  • the polyimide powder obtained above was used in the same manner as in Example 1 to obtain a copper-clad flexible laminate.
  • BAP P-M 3,3'-bis (aminophenoxyphenyl) propane
  • Example 2 20 g of the polyimide powder obtained in Example 1 was dissolved in 83 g of DMF. Got The varnish was cast on a glass plate, dried at 100 ° C for 10 minutes, peeled off from the glass plate, fixed on an iron frame, and dried at 150 ° C for 20 minutes, and the thickness was 25 m. Sheet was obtained. The obtained sheet was sandwiched between a polyimide film (Avical 50 AH, manufactured by Kanegabuchi Chemical Industry Co., Ltd.) and a copper foil of 25 // m, and heated and pressed at a temperature of 200 ° C and a pressure of 3 MPa for 20 minutes. A copper-clad flexible laminate was obtained.
  • a polyimide film (Avical 50 AH, manufactured by Kanegabuchi Chemical Industry Co., Ltd.)
  • a copper foil of 25 // m 25 // m
  • the obtained sheet is sandwiched between polyimide film (Avical 50 AH, manufactured by Kanegabuchi Chemical Industry Co., Ltd.) and copper foil of 25, and heated and pressurized at a temperature of 200 ° C. and a pressure of 3 MPa for 20 minutes.
  • a flexible laminate was obtained.
  • the peel strength and solder heat resistance of the flexible copper-clad laminates obtained in Examples 16 and Comparative Examples 13 and 14 were evaluated.
  • the water absorption of each adhesive sheet was also evaluated. The results are shown in Table 1.
  • DMF dimethylformamide
  • male type: BAP-P male type: BAP-P
  • ⁇ , ⁇ -bis (3-aminopropyl) polydimethylsiloxane (APPS) 0.01487 mol
  • ES DA 2,3-bis (4-hydroxyphenyl) propanedibenzoate 3,3 ', 4,4'-tetracarboxylic acid Dianhydride 0.148 7 mo 1 was gradually added while paying attention to the viscosity. When the viscosity reached 1000 pise, the addition of ESDA was stopped to obtain a polyamic acid polymer solution.
  • Example 7 The varnish obtained in Example 7 was applied on a polyimide film (Avical 50AH, manufactured by Kanegabuchi Chemical Industry Co., Ltd.), and was heated and dried at 10 Ot: for 10 minutes and further at 150 ° C. for 20 minutes. An adhesive layer having a thickness of 25 zm was formed.
  • the obtained single-sided polyimide film with an adhesive layer and a 25-m copper foil were heated at a temperature of 200 ° C. and a pressure of 3 MPa for 20 minutes to obtain a copper-clad flexible laminate.
  • Example 7 20 g of the polyimide powder obtained in Example 7 and 5 g of glycidylamine-type epoxy resin TETRAD-C (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) were dissolved in 83 g of THF to obtain pudding.
  • the obtained varnish was cast on a glass plate, dried at 100 ° C. for 10 minutes, peeled off from the glass plate, fixed on an iron frame, and further dried at 150 ° C. for 20 minutes to obtain a thickness.
  • a sheet of 25 m was obtained.
  • the obtained sheet was sandwiched between a polyimide film (Avical 50 AH, manufactured by Kanegabuchi Chemical Industry Co., Ltd.) and a copper foil of 25, and heated and pressed at a temperature of 200 ° C. and a pressure of 3 MPa for 20 minutes.
  • a copper-clad flexible laminate was obtained.
  • BTDA benzophenonetetracarboxylic dianhydride
  • the obtained sheet was sandwiched between a polyimide film (Avical 50AH, manufactured by Kanegabuchi Chemical Industry Co., Ltd.) and a copper foil of 25 / m, heated and pressed at a temperature of 200 ° C and a pressure of 3MFa for 20 minutes.
  • a copper-clad flexible laminate was obtained.
  • dimethylformamide (DMF) 280 g 3,3'-bis (aminophenoxyphenyl) propane (hereinafter referred to as BAP P-M) 0.148 7 mo Charge 1 and dissolve with stirring in a nitrogen atmosphere. Further, while cooling the solution with ice water and stirring while replacing the atmosphere in the flask with nitrogen, 0.14877 mol of pyromellitic dianhydride was gradually added while paying attention to the viscosity. When the viscosity reached 1000 p0 ise, the addition of pyromellitic dianhydride was stopped to obtain a polyamic acid polymer solution.
  • DMF dimethylformamide
  • BAP P-M 3,3'-bis (aminophenoxyphenyl) propane
  • Example 7 20 g of the polyimide powder obtained in Example 7 was dissolved in 83 g of THF to obtain a varnish.
  • the obtained varnish was cast on a glass plate, dried at 100 for 10 minutes, peeled off from the glass plate, fixed to an iron frame, dried at 150 ° C for 20 minutes, and dried to a thickness of 25 m. I got a sheet.
  • the obtained sheet is sandwiched between a polyimide film (Avical 50 AH, manufactured by Kanegabuchi Chemical Industry Co., Ltd.) and a copper foil of 25, and heated and pressed at a temperature of 200 and a pressure of 3 MPa for 20 minutes to form a copper-clad flexible laminate. Obtained.
  • the obtained sheet is sandwiched between a polyimide film (Avical 50AH, manufactured by Kanegabuchi Chemical Industry Co., Ltd.) and a copper foil of 25, and heated and pressed at a temperature of 200 ° C. and a pressure of 3 MPa for 20 minutes to form a copper-clad flexible laminate. I got a board.
  • ESDA crude tetracarboxylic dianhydride
  • This polyamide acid solution was applied on a PET film by casting, heated at 80 ° C for 30 minutes to peel off the PET film, and then removed at 150 ° C, 200 ° C and 250 ° C. After heating for 30 minutes each at, finally, heating was performed at 300 ° C. for 10 minutes to obtain 25 tough polyimide films.
  • the polyamide acid solution was cast on an aluminum plate (JIS H4000A1500P) and a soft soda glass plate with a doctor knife, and then placed in a fine oven at 80 ° 1 ⁇ 0 ° C> 200 ° C. After heating at C and 250 ° C for 30 minutes each, finally heating at 300 ° C for 10 minutes to obtain a polyimide coating of 20 to 25, and a cross-cut tape test was performed. However, both the coatings on the aluminum and glass plates scored 10 points.
  • a polyamic acid having an intrinsic viscosity of 1.1 was obtained in the same manner as in Example 10, except that the order of adding 0.3% by weight of SDA and DDE was reversed. Further, a polyimide film and a polyimide film were obtained in the same manner as in Example 10. This polyimide resin was confirmed by IR measurement to have an absorption due to imido groups at 178 cm- 1 . Further, the glass transition temperature of the polyimide film was 2 25 and the tensile strength was 15.2 kg / cm 2 . On the other hand, the cross-cut tape test of the polyimide film scored 10 points for both aluminum and glass plates.
  • Example 10 The same operation as in Example 10 was carried out except that diamine was replaced with 4,4'-diaminodiphenylmethane (DAM) 19.8 g (10 Ommo 1) in place of DDE, and an intrinsic viscosity of 1.0 was obtained. A polyamic acid solution was obtained. Further, a tough polyimide film and a polyimide film were obtained in the same manner as in Example 10. This polyimide resin was confirmed by IR measurement to have an absorption at 178 cm- 1 due to the imido group. Further, the glass transition temperature of the polyimide film was 220 ° C., and the tensile strength was 15.2 kg gZcm 2 . On the other hand, the cross-cut tape test of the polyimide film scored 10 points for both aluminum and glass plates.
  • DAM 4,4'-diaminodiphenylmethane
  • a polyamide having an intrinsic viscosity of 1.0 was obtained by performing the same operation as in Example 10 except that diamin was changed to 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane (BAPP) instead of DDE. An acid solution was obtained. Further, by the same method as in Example 10, A tough polyimide film and polyimide film were obtained. It was confirmed by IR measurement that this polyimide had an absorption due to an imido group at 178 cm- 1 . Further, the glass transition temperature of the polyimide film was 205 ° C., and the tensile strength was 14.5 kg / cm 2 . On the other hand, the cross-cut tape test of the polyimide film scored 10 points for both aluminum and glass plates.
  • Example 10 The same operation as in Example 10 was carried out except for using 50-5.7 g (residual E SDA pure content) of 1.0% by weight as an acid component, with a residual impurity content of 1.0% by weight.
  • a polyamic acid solution having a degree of 0.8 was obtained.
  • a tough polyimide film and a polyimide film were obtained in the same manner as in Example 10. This imide was confirmed to have an absorption by the imido group at 1780 cm- 1 by IR measurement. Furthermore, the glass transition temperature of the polyimide film was 2 15 and the tensile strength was 12.5 kg / cm 2 .
  • the cross-cut tape test of the polyimide film was 10 points for both aluminum and glass plates.
  • Example 10 The same operation as in Example 10 was carried out except that 57.7 g (10 Ommo 1 in pure ESDA) of E SDA having a content of 1.5% by weight of the compound (1) was used as the acid component. As a result, a polyamic acid solution having an intrinsic viscosity of 0.24 was obtained. Further, a polyimide film and a polyimide film were obtained in the same manner as in Example 10. This imide was confirmed by IR measurement to have absorption at 178 cm- 1 due to the imido group. The film was not self-supporting and was very brittle. Therefore, it was impossible to measure the tensile strength. The grid test was 2 points.
  • Example 10 The same operation as in Example 10 except that the compound (2) was used, and the content of the compound (2) was 1.55% by weight of £ 505.77 g (10 Ommo1 in pure ESDA). Was performed to obtain a polyamic acid solution having an intrinsic viscosity of 0.28. Further, a polyimide film and a polyimide film were obtained in the same manner as in Example 10. This imide was confirmed by IR measurement to have absorption at 178 cm- 1 due to the imido group. Film is self There was no support and it was very brittle. Therefore, it was impossible to measure the tensile strength. The grid test was 3 points.
  • DMF dimethylformamide
  • BAPP-M 3,3'-bis (aminophenoxyphenyl) propane
  • 0.148 7 mol was charged and dissolved by stirring under a nitrogen atmosphere. Further, the solution is stirred while cooling the solution with ice water under a nitrogen-substituted atmosphere in the flask, and the 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propanedibenzoate 3,3 ', 4,4'tetracarboxylic acid is stirred.
  • ESDA 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propanedibenzoate 3,3 ', 4,4'tetracarboxylic acid
  • Filamentous polyimide precipitated in methanol was dried at 100 ° C for 30 minutes, then powdered with a mixer, washed with methanol and washed with methanol, and dried at 100 for 2 hours to obtain a polyimide powder. .
  • Example 15 The varnish obtained in Example 15 was applied to polyimide film (Avical 50AH, Kanegafuchi Chemical Co., Ltd.) and dried by heating at 100 ° C. for 10 minutes and further at 150 ° C. for 20 minutes to form an adhesive layer having a thickness of 25.
  • the obtained single-sided polyimide film with an adhesive layer and a 25-m copper foil were heated at a temperature of 200 ° C. and a pressure of 3 MPa for 2 minutes to obtain a copper-clad flexible laminate.
  • Example 15 20 g of the polyimide powder obtained in Example 15 and 5 g of daricidylamine-type epoxy resin; TETRAD-C (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) were added to 83 g of a 1: 1 mixed solvent in a weight ratio of dioxane and THF. Dissolved.
  • the obtained varnish was cast on a glass plate, dried at 100 ° C. for 10 minutes, peeled off from the glass plate, fixed on an iron frame, further dried at 150 at 20 minutes, and dried. A sheet of zm was obtained.
  • the obtained sheet was sandwiched between a polyimide film (Avical 50AH, manufactured by Kanegabuchi Chemical Industry Co., Ltd.) and a copper foil having a thickness of 25 m, and heated and pressed at a temperature of 200 ° C and a pressure of 3 MPa for 20 minutes.
  • a copper-clad flexible laminate was obtained.
  • a polyamic acid polymer solution was prepared in the same manner as in Example 15 except that the diamine component was changed to 4,4 '-(1,3-phenylenebis (1-methylethylidene)) bisaniline (para type). To obtain a polyimide powder. A copper-clad flexible laminate was obtained from the polyimide powder obtained above in the same manner as in Example 15.
  • a polyamic acid polymer solution was obtained in the same manner as in Example 15, except that the diamine component was changed to 4,4′-bis (aminophenoxyphenyl) propane (para type). .
  • the polyimide powder obtained above was used in the same manner as in Example 15 to obtain a copper-clad flexible laminate.
  • a polyamic acid polymer solution was obtained in the same manner as in Example 15 except that the diamine component was changed to 3,3′-bis (aminofuninoxyphenyl) sulfone (BAPS—M). A powder was obtained. The polyimide powder obtained above was used in the same manner as in Example 15 to obtain a copper-clad flexible laminate. (Example 21)
  • Example 1 was different from Example 1 except that the polyimide powder obtained in Example 15, bisphenol A-based epoxy resin (Epicoat 828), and 2-ethyl-4-methylimidazole as a curing accelerator were dissolved in DMF. In the same manner as in 5, a copper-clad flexible laminate was obtained.
  • the obtained sheet is sandwiched between polyimide film (Avical 50AH, manufactured by Kanegabuchi Chemical Industry Co., Ltd.) and a copper foil of 25 m, and heated and pressurized at a temperature of 200 ° C and a pressure of 3 MPa for 20 minutes to form a copper-clad flexible sheet.
  • a laminate was obtained.
  • the polyimide powder obtained in Comparative Example 10 was mixed with dioxane and THF at a weight ratio of 1: 1.
  • a copper-clad flexible laminate was obtained in the same manner as in Comparative Example 10, except that it was dissolved in the mixed solvent.
  • Example 15 20 g of the polyimide powder obtained in Example 15 was dissolved in 83 g of DMF. The obtained varnish was cast on a glass plate, dried at 100 ° C for 10 minutes, peeled off from the glass plate, fixed on an iron frame, dried at 150 ° C for 20 minutes, and dried to a thickness of 25 zm. I got a sheet. The resulting sheet is sandwiched between a polyimide film (Avical 50AH, manufactured by Kaneka Chemical Co., Ltd.) and a 25 m copper foil, and heated and pressed at a temperature of 200 ° C and a pressure of 3 MPa for 20 minutes to form a copper-clad flexible laminate. I got
  • a copper-clad flexible resin was prepared in the same manner as in Comparative Example 12, except that the polyimide powder obtained in Example 15 was dissolved in a 1: 1 mixed solvent of dioxane and THF in a weight ratio of Comparative Example 12. A laminate was obtained.
  • Comparative Example 14 except that Platabond M1276, Epikote 828, and diaminodiphenylsulfone were dissolved in a 1: 1 mixed solvent in a weight ratio of dioxane and THF, a copper was produced in the same manner as in Comparative Example 5. A flexible flexible laminate was obtained.
  • DMF dimethylformamide
  • BAPP-M 3,3'-bis (aminophenoxyphenyl) propane
  • ESDA 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propanedibenzoate 3,3 ′, 4,4′-tetracarboxylic dianhydride
  • the obtained sheet is sandwiched between a polyimide film (Avical 50AH, manufactured by Kaneka Corporation) and a copper foil having a thickness of 25 xm, and is heated and pressed at a temperature of 200 ° C and a pressure of 3 MPa for 20 minutes to form a copper sheet.
  • a flexible flexible laminate was obtained.
  • Example 22 The varnish obtained in Example 22 was applied to a polyimide film (Avical 50AH, manufactured by Kanegabuchi Chemical Industry Co., Ltd.) and dried by heating at 100 ° C. for 10 minutes and further at 150 ° C. for 20 minutes. Thus, an adhesive layer having a thickness of 25 m was formed. Single-sided poly with adhesive layer obtained
  • the obtained sheet was sandwiched between a polyimide film (Avical 50 AH, manufactured by Kaneka Chemical Co., Ltd.) and a copper foil having a thickness of 25, and heated and pressed at a temperature of 20 O and a pressure of 3 MPa for 20 minutes.
  • a copper-clad flexible laminate was obtained.
  • a polyamic acid / oligomer solution was prepared in the same manner as in Example 22 except that the diamine component was changed to 4,4 '-(1,3-phenylenebis (1-methylethylidene)) bisaniline (para-form). To give a polyimide 'oligomer powder (molecular weight 40000).
  • a copper-clad flexible laminate was obtained in the same manner as in Example 22 using the obtained polyimide / oligomer powder.
  • a polyamic acid / oligomer solution was obtained in the same manner as in Example 22 except that the diamine component was changed to 4,4′-bis (aminophenoxyphenyl) propane (para-type). 0000).
  • the polyimide ′ oligomer powder obtained above was used in the same manner as in Example 22 to obtain a copper-clad flexible laminate.
  • a polyamic acid-oligomer solution was obtained in the same manner as in Example 22 except that the diamine component was changed to 3,3′-bis (aminophenoxyphenyl) sulfone (BAPS—M). An oligomer powder (molecular weight: 1000) was obtained.
  • the polyimide-oligomer powder obtained above was treated in the same manner as in Example 22 with copper-clad foil. A flexible laminate was obtained.
  • a polyamic acid 'oligomer solution 50 g of DMF, 35 g of 3-picoline, 35 g of 3-picoline, g, and the mixture was stirred for 1 hour, and further stirred for 1 hour at 100 ° C. to give an imidation, and then the solution was dripped little by little into methanol stirred at a high speed.
  • the polyimide 'oligomer was dried at 100 for 30 minutes, then powdered with a mixer, washed with methanol by Soxhlet, and dried at 100 for 2 hours to obtain a polyimide powder (molecular weight 30,000).
  • the obtained sheet is sandwiched between a polyimide film (Avical 50AH, manufactured by Kanegabuchi Chemical Industry Co., Ltd.) and a copper foil of 25, and heated and pressurized at a temperature of 200 ° C and a pressure of 3 MPa for 20 minutes to obtain copper-clad flexible.
  • a laminate was obtained.
  • Example 22 20 g of the polyimide 'oligomer powder obtained in Example 22 was dissolved in 83 g of DMF.
  • the obtained varnish was cast on a glass plate, dried at 100 ° C for 10 minutes, peeled off from the glass plate, fixed to an iron frame, dried at 150 ° C for 20 minutes, and dried to a thickness of 25%. I got a sheet.
  • the obtained sheet is sandwiched between polyimide film (Avical 50AH, Kaneka Chemical Industry Co., Ltd.) and 25 copper foils, at a temperature of 200 ° C and a pressure of 3 MPa. Heating and pressing were performed for 20 minutes to obtain a copper-clad flexible laminate.
  • Example 22 An equimolar amount of ESDA 0.148 7 mol 1 was gradually added to BAP P-MO. 1487 mol while paying attention to the viscosity to obtain a polyimide polymer powder (molecular weight 100000).
  • a copper-clad flexible laminate was obtained in the same manner as in Example 22, except for the differences.
  • Example 22 1.3 1.1 1.2 0.9 92 82 ⁇ 0.4
  • Example 23 1.3 1.1 1.2 0.9 92 82 ⁇ 0.3
  • Example 24 1.5
  • Example 25 1.4
  • 1.2 1.3
  • Example 26 1.3 1.1 1.2 1.0 92 91 O 0.6
  • Example 27 1.3 1.1 1.2 1.0 92 91 ⁇ 0.8
  • Comparative example 16 1.1 0.9 0.2 0.1 18 11 1.8
  • Comparative example 17 0.3 0.2 0.0 0.0 0 0 ⁇ 0.4
  • Comparative example 18 1.3 0.2 0.2 0.0 15 0 o 0.4
  • Comparative example 19 1.0 0.8 0.5 0.4 50 50 ⁇ 0.5
  • DMF dimethylformamide
  • BAPS-M 3,3'-bis (aminophenoxyphenyl) sulfone
  • ESDA 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propanedibenzoate 3,3 ', 4,4'-tetracarboxylic dianhydride
  • DMF dimeterformamide
  • DMA c dimethylacetamide
  • Example 28 The polyimide adhesive solution obtained in Example 8 was cast on a polyimide film (Avical 25 AH, manufactured by Kanegafuchi Chemical Industry Co., Ltd.) having a thickness of 25 m, and dried at 100 ° C. for 10 minutes. Then, Example 28a was dried at 180 ° C, Example 28b was at 200 ° C, and Example 28c was dried at 220T: for 10 minutes to obtain a 30 m-thick film-like joining member. Obtained.
  • a polyimide film Al 25 AH, manufactured by Kanegafuchi Chemical Industry Co., Ltd.
  • Example 29 Except that the polyimide-based adhesive solution obtained in Example 29 was used, the film-like joining members of Examples 29a, 29b, and 29c were formed in the same procedure as in Examples 28a to 28c. Obtained.
  • Examples 30a, 30b, 30c (Comparative Examples 20a, 20b, 20c, 21a, 2lb, 21c, 22a, 22b, 22c)
  • Table 5 shows the results of evaluating the characteristics of the film-shaped laminated members of Example 28-30 and Comparative Example 20-22.
  • BAPS-M 3,3'-Bis (aminophenoxyphenyl) sulfone
  • DMF dimethylformamide
  • ES DA 2,3-bis (4-hydroxyphenyl) propanedibenzoate-1,3 ', 4,4'-tetracarboxylic acid Di-anhydride
  • ES DA 2,3-bis (4-hydroxyphenyl) propanedibenzoate-1,3 ', 4,4'-tetracarboxylic acid Di-anhydride
  • the film-like joining member obtained as described above is sandwiched between a polyimide film (Avical 25AH, manufactured by Kanegabuchi Chemical Industry Co., Ltd.) and a 25-m-thick copper foil, at a temperature of 200 and a pressure of 3 MPa. For 20 minutes to obtain a copper-clad flexible laminate. The peel strength and solder heat resistance of the obtained copper-clad flexible laminate were measured. Table 6 shows the measurement results. Table 6
  • Example 33 1.0 0.8 ⁇ 0.5
  • Polyimide powder was obtained in the same manner as in Example 31 except that the diamine component was changed to 4,4′-bis (aminophenoxyphenyl) propane.
  • the glass transition temperature of the obtained polyimide was 190 ° C.
  • a film-like joining member was obtained in the same manner as in Example 31.
  • the water absorption was measured.
  • a flexible copper-clad laminate using this was obtained.
  • the peel strength and solder heat resistance of the obtained copper-clad flexible laminate were measured. Table 6 shows the measurement results.
  • a polyimide powder was obtained in the same manner as in Example 31 except that the diamine component was changed to 4,4′-one [1,4-phenylenebis (1-methylethylidene)].
  • the glass transition temperature of the obtained polyimide was 210 ° C.
  • a film-like joining member was obtained in the same manner as in Example 31.
  • the water absorption was measured.
  • a flexible copper-clad laminate using this was obtained.
  • the peel strength and solder heat resistance of the obtained copper-clad flexible laminate were measured. Table 6 shows the measurement results.
  • thermosetting resin component was changed to TETRAD-C (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company).
  • TETRAD-C manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company
  • Example 31 In the same manner as in Example 31, 20 g of the polyimide powder was dissolved in 83 g of DMF. The obtained varnish was cast on a glass plate, dried at 100 ° C for 10 minutes, peeled off from the glass plate, fixed on an iron frame, and dried at 150 ° C for 30 minutes to obtain a thickness of 2 Got 5 im sheets. The obtained sheet is sandwiched between a polyimide film (Avical 50 AH, manufactured by Kanegafuchi Chemical Co., Ltd.) and a copper foil of 25 m, and heated at a temperature of 200 ° C. and a pressure of 3 MHz for 20 minutes. Then, a copper-clad flexible laminate was obtained.
  • a polyimide film Alignal 50 AH, manufactured by Kanegafuchi Chemical Co., Ltd.
  • the obtained film-like joining member was sandwiched between polyimide film (Avical 50AH, manufactured by Kaneka Chemical Co., Ltd.) and a 25-thick copper foil, and heated at a temperature of 200 ° C and a pressure of 3 MPa for 20 minutes. Then, a copper-clad flexible laminate was obtained.
  • a polyimide powder was obtained in the same manner as in Example 31 except that ESDA was changed to benzophenonetetracarboxylic dianhydride (BTDA). 2 g of the obtained polyimide powder was dissolved in 83 g of DMF. The obtained varnish was cast on a glass plate, dried at 100 ° C for 10 minutes, peeled off from the glass plate, fixed on an iron frame, and dried at 150 ° C for 20 minutes to obtain a thickness 2 5 sheets were obtained. After drying, Epicoat 1032 H60 (manufactured by Yuka Shell Co., Ltd.) was applied to the surface of the obtained sheet so as to have a thickness of 3 m, and dried at 130 for 10 minutes to obtain a film-like joining member. The water absorption was measured.
  • BTDA benzophenonetetracarboxylic dianhydride
  • the obtained film-like joining member is sandwiched between a polyimide film (Avical 50 AH, manufactured by Kaneka Chemical Co., Ltd.) and a copper foil of 25 m thickness, at a temperature of 200 t: and a pressure of 3 MPa for 20 minutes. Heat and pressure were applied to obtain a copper-clad flexible laminate.
  • a polyimide film Alignment 50 AH, manufactured by Kaneka Chemical Co., Ltd.
  • Comparative Example 26 The peel strength and solder heat resistance of the flexible copper-clad laminate obtained in 6-28 were measured. Table 6 shows the results of the above measurements.
  • BAPS-M 3,3'-bis (aminophenoxyphenyl) sulfone
  • 0.148 7 mo 1 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propanedibenzoethanol 3,34,4'-tetracarboxylic dianhydride
  • the obtained film-like joining member is sandwiched between a polyimide film (Avical 50 AH, manufactured by Kanegabuchi Chemical Industry Co., Ltd.) and a copper foil of 25 m thickness, at a temperature of 200 ° C. and a pressure of 3 MPa for 20 minutes. Heat and pressure were applied to obtain a copper-clad flexible laminate. The peel strength and solder heat resistance of the obtained copper-clad flexible laminate were measured. Table 7 shows the results of each measurement.
  • a polyimide powder was obtained in the same manner as in Example 35 except that the diamine component was changed to 4,4'-bis (aminophenoxyphenyl) propane.
  • the glass transition temperature of the obtained polyimide was 190 ° C.
  • the water absorption was 0.5.
  • a film-like joining member was obtained from this polyimide powder in the same manner as in Example 35.
  • a copper-clad flexible laminate was obtained in the same manner as in Example 35.
  • the peel strength and solder heat resistance of the obtained copper-clad flexible laminate were measured. Table 7 shows the results of each measurement.
  • a polyimide powder was obtained in the same manner as in Example 35 except that the diamine component was changed to 4,4 ′-[1,4-phenylenebis (1-methylethylidene)].
  • the glass transition temperature of the obtained polyimide was 210, and the water absorption was 0.5.
  • a film-like joining member was obtained from this polyimide powder in the same manner as in Example 35.
  • a copper-clad flexible laminate was obtained in the same manner as in Example 35. The peel strength and solder heat resistance of the obtained copper-clad flexible laminate were measured. Table 7 shows the measurement results.
  • a polyimide powder was obtained in the same manner as in Example 35, except that ESDA was benzophenonetetracarboxylic dianhydride. 20 g of the obtained polyimide powder, 5 g of Epikote 103 2 H60 (manufactured by Yuka Shell Co., Ltd.), and 0.5 g of 4,4 ′ diaminodiphenyl sulfone were dissolved in 83 g of DMF. . Polyimi obtained varnish Cast film (Avical 25 AH, manufactured by Kanegabuchi Chemical Industry Co., Ltd.), dried at 100 for 10 minutes, and then dried at 150 ° C for 10 minutes to obtain a 30 m thick film Shaped joining members were obtained.
  • the obtained film-like joining member is sandwiched between a polyimide film (Avical 50 AH, manufactured by Kanegabuchi Chemical Industry Co., Ltd.) and a copper foil of 25 m, and heated and pressed at a temperature of 200 ° C and a pressure of 3 MHa for 20 minutes.
  • a copper-clad flexible laminate was obtained.
  • Example 35 20 g of the polyimide powder obtained in Example 35 was dissolved in 83 g of DMF.
  • the obtained varnish was cast on polyimide film (Avical 25 AH, manufactured by Kanegabuchi Chemical Industry Co., Ltd.), dried at 10 °: 10 minutes, and further dried at 150 ° C. for 10 minutes.
  • a film-shaped joining member having a thickness of 30 xm was obtained.
  • the obtained film-like joining member is sandwiched between a polyimide film (Avical 50 AH, manufactured by Kanegabuchi Chemical Industry Co., Ltd.) and a copper foil of 25 / m, and heated at a temperature of 200 ° C and a pressure of 3 MHz for 20 minutes. Pressure was applied to obtain a copper-clad flexible laminate.
  • Platabond Ml 276 (copolymerized nylon, manufactured by Nippon Rilsan Co., Ltd.), 5 g of Epoxy 1032 H60, 3 g of 4,4 ′ diaminodiphenylsulfone and 83 g of DMF was dissolved.
  • the resulting varnish was cast on a 25-m-thick polyimide film (Avical 25AH, manufactured by Kaneka Corporation), dried at 100 ° C for 10 minutes, and further dried at 150 at 10 minutes. After drying, a film-like joining member having a thickness of 30 m was obtained.
  • the obtained film-like joining member is sandwiched between a polyimide film (Avical 50 AH, manufactured by Kanegabuchi Chemical Industry Co., Ltd.) and a copper foil of 25 m thickness, and heated at a temperature of 200 ° C and a pressure of 3 MPa for 20 minutes. Pressure was applied to obtain a copper-clad flexible laminate.
  • a polyimide film (Avical 50 AH, manufactured by Kanegabuchi Chemical Industry Co., Ltd.)
  • the obtained sheet was laminated with polyimide film (Avical 50 AH, manufactured by Kaneka Chemical Industry Co., Ltd.) and release paper in order, and was laminated at a temperature of 150 T: at a speed of 2.2 cmZmin.
  • An intended adhesive laminated film for covering a wire was obtained.
  • thermoplastic polyimide The glass transition temperature of the obtained thermoplastic polyimide was 140. The water absorption was 0.9%. The dielectric constant was 2.95.
  • the bond strength of the resulting wire coating adhesive laminated film and wire copper foil is disposed peel off the release paper of the laminated film, 1 80 ° C, 30 kg Bruno cm 2, After 10 minutes of pressure bonding, the peel strength was measured and found to be 1. lkgf / cm.
  • a radiation resistance test was performed on the obtained adhesive laminated film for covering a wire, no discoloration or change in performance of the film occurred. Table 8 shows these results. The radiation resistance test was performed using a 2MeV electron beam. 5 MG y irradiation-Table 8
  • a polyamic acid was obtained in the same manner as in Example 39, except that the diamine component was changed to 4,4'-bis (aminophenoxyphenyl) propane.
  • the polyamic acid was cast on the polyimide film (Avical (registered trademark), manufactured by Kanegabuchi Chemical Industry Co., Ltd.) used in Example 39, and heated at 80 ° C. for 25 minutes. Later, 1 50, 2 50,
  • Heating was performed at 270 ° C. and 300 ° C. for 5 minutes each to imidize, and an adhesive laminated film for wire coating was obtained.
  • the glass transition temperature of the polyimide resin layer was 190 ° C
  • the water absorption was 0.8%
  • the dielectric constant was 2.90. there were.
  • a polyamic acid was obtained in the same manner as in Example 39, except that the diamine component was changed to 4,4 ′-[1,4-phenylenebis (1-methylethylidene)] bisaniline. Then, the polyamide acid was cast and applied onto the polyimide film (Avical (registered trademark), manufactured by Kaneka Kagaku Kogyo Co., Ltd.) used in Example 39. The polyamide acid was applied at 80 ° C. for 25 minutes. After heating, the mixture was heated at 150 ° C., 250 ° C., 270 ° C., and 300 ° C. for 5 minutes to imidize, thereby obtaining an adhesive laminated film for coating a wire.
  • the polyimide film Avical (registered trademark), manufactured by Kaneka Kagaku Kogyo Co., Ltd.
  • the properties of the obtained film were measured in the same manner as in Example 39.
  • the glass transition temperature of the polyimide resin layer was 210: the water absorption rate was 0.8%, and the dielectric constant was 2.
  • Example 8 was eight.
  • the peel strength of the obtained adhesive laminated film for covering a wire was measured in the same manner as in Example 39, and it was 1.1 kgf / cm.
  • a radiation resistance test was performed in the same manner as in Example 39, and no discoloration or change in performance of the film was found. Table 8 shows the results.
  • thermosetting resin An adhesive laminated film for covering a wire made of a thermoplastic polyimide and a thermosetting resin was obtained in the same manner as in Example 39 except that the thermosetting component was T ETRAD-C (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company). .
  • the glass transition temperature of the polyimide resin layer was 140 ° C
  • the water absorption was 0.9%
  • the dielectric constant was 2.
  • Polyamic acid was obtained from pimellitic dianhydride and ODA (oxydianline) in substantially the same manner as in the example. Then, the polyamic acid was cast and applied onto the polyimide film (Avical (registered trademark), manufactured by Kanegafuchi Chemical Industry Co., Ltd.) used in Example 39, and heated at 80 for 25 minutes. , 150 ° C., 250 ° C., 270 ° C., and 300 ° C. for 5 minutes each to form an imid, thereby obtaining an adhesive laminated film for wire coating.
  • the polyimide film Avical (registered trademark), manufactured by Kanegafuchi Chemical Industry Co., Ltd.
  • the polyimide resin of the present invention has a novel structure, and has excellent adhesiveness and low water absorption in addition to the heat resistance, mechanical strength, and electrical properties of polyimide.
  • the resin composition of the present invention can be bonded at a relatively low temperature, for example, at a temperature of about 250 ° C. Unlike conventional heat-resistant adhesives, it does not require high temperatures for bonding, exhibits high adhesive strength to polyimide films, and maintains high adhesive strength up to high temperatures. Further, a low water absorption of 1.5% or less can be achieved.
  • the peel strength after the PCT treatment is high, so that it has solder heat resistance that does not cause swelling when immersed in a solder bath.
  • the polyimide resin an amine-terminated polyimide oligomer, it has multiple points of cross-linking by bonding with the epoxy resin and makes the structure more dense, thereby suppressing the invasion of solvents and reducing the use of materials for electronics.
  • the retention of peel strength after PCT treatment, which is a reliability test, can be kept high.
  • the adhesive solution of the present invention uses the polyimide resin of the present invention and a specific solvent.
  • the solvent can be dried and removed at a relatively low temperature, so that the subsequent lamination exhibits a strong adhesive force.
  • the polyimide resin, the resin composition, and the adhesive solution of the present invention have an advantage that they are extremely useful industrially as electronics materials requiring high reliability and heat resistance.
  • the adhesive laminated film for coating a wire rod according to the present invention includes polyimide having excellent heat resistance, free-radiation resistance, electrical properties, chemical resistance, low-temperature properties, and the like, and a glass transition temperature of 100. Up to 250 ° C, and a thermoplastic resin with a water absorption of 1.5% or less and a dielectric constant of 3.2 or less, and a thermosetting resin that exhibits excellent adhesion at low temperatures And the layers are laminated. Therefore, it has excellent workability, flexibility and adhesion at low temperatures, has little deterioration in performance due to moisture absorption, has low dielectric loss when energized by coating wire, and has excellent radiation resistance. It has excellent characteristics.
  • the adhesive laminate film for covering a wire according to the present invention is coated on the wire, the wire can be adhered by heating within a temperature range that hardly deteriorates the properties of the wire, and the wire is coated with the adhesive laminate film for covering a wire.
  • the wire material is a superconducting wire material
  • the film can be coated without impairing the superconducting properties.

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Description

明 細 書 ポリイミ ド樹脂およびそれを用いた耐湿性が改良された樹脂組成物、接着剤溶液、 フィルム状接合部材、 接着性積層フィルムならびにそれらの製造方法 技術分野
本発明は、 新規なポリイミ ド樹脂、 それからなる樹脂組成物、 接着剤溶液、 フ イルム状接合部材、 接着性積層フィルムに関する。 本発明は、 フレキシブル印刷 回路基板、 T AB (T a p e Au t oma t e d B o n d i n g)用テープ、 複合リードフレーム、 積層材料等に用いられる耐熱性および接着性に優れた接着 剤等の材料として有用であり、 さらには、 超伝導用線材の被覆に適する積層フィ ルムに関する。 背景技術
近年、 電子機器の高機能化、 高性能化、 小型化が進んでおり、 それらに伴って 用いられる電子部品に対する小型化、 軽量化が求められてきている。 そのため半 導体素子パッケージ方法やそれらを実装する配線材料または配線部品も、 より高 密度、 高機能、 かつ、 高性能なものが求められるようになつてきた。 特に、 半導 体パッケージ、 C〇L (チップ .オン ' リード) パッケージおよび LOC (リー ド ·オン 'チップ) パッケージ、 MCM (Mu l t i Ch i p Mo d u l e ) 等の高密度実装材料や多層 F P C等のプリント配線板材料、 さらには航空宇宙 材料として好適に用いることのできる、 良好な接着性を示す材料が求められてい る。
従来、 半導体パッケージやその他実装材料において、 良好な機械的特性や耐熱 特性、 絶縁特性を示す接着剤として、 アクリル系、 フエノール系、 エポキシ系、 ポリイミド系等の接着剤が知られている。
ところが、 接着性に優れているフエノール系およびエポキシ系の接着剤は、 柔 軟性に劣る。 柔軟性に優れているァクリル系の接着剤は耐熱性が低いという問題 が生じていた。
これらを解決するために、 ポリイミ ドが用いられている。 ポリイミ ドは、 種々 の有機ポリマーの中でも耐熱性に優れているため、 宇宙、 航空分野から電子通信 分野まで幅広く用いられ、 接着剤としても用いられている。 しかし耐熱性の高い ポリイミ ド系接着剤は、 接着するために 3 0 0 °C前後の高温と高圧力を要し、 接 着力もそれほど高いとはいえない。 また、 従来のポリイミ ド系接着剤は吸水率が 高く、 また、 残揮発分 (吸湿した水および接着剤作製時に使用した溶媒) を多く 含むため、 例えば、 このポリイミ ド系接着剤を使用したリードフレームを半田浴 に浸漬する際、 膨れ等を生じやすいといった問題を有していた。
また、 ポリイミ ドは有機溶媒に対する溶解性が非常に悪いため、 D M F、 D M A c,NMP(N—メチルピロリ ドン)等のごく数種類の溶媒にしか溶解出来ない。 し かも、 これら高沸点溶媒は接着剤溶液をフィルム上に塗布乾燥させた後も完全に は除去できず、 フィルム中に残留した溶媒は、 発泡等の原因となることが明らか となっている。
ところで、 近年の素粒子物理学の進展に伴い、 さらなる高エネルギーを発生さ せる加速器の建設が進んでいる。 この高エネルギーを発生させるためには大電流 を通電し、 強磁場を発生させることのできるマグネットが必要であり、 最近はそ のマグネッ卜の線材として超伝導線材を使用した超伝導マグネッ 卜が使用される ケースが増えている。 この超伝導線材の材料として銅を主成分とする酸化物が使 用されることが多いが、 この超伝導線材に絶縁被覆材を被覆させる際に熱硬化型 の接着剤を使用すると、熱を加えることにより超伝導線材の酸化の割合が変化し、 マグネッ卜の特性が悪化するということが生じる。したがって、かかる用途には、 低温で硬化、 接着する接着剤の使用が不可欠である。
また、 加速器は陽子と陽子、 電子と電子等の素粒子を加速し、 衝突崩壊させ、 そこから発生する粒子を調べる装置であるが、 その性質上大量の放射線が発生す る。 従って、 超伝導マグネッ トに使用される絶縁被覆材ゃ接着剤には優れた耐放 射線性が必要とされている。
このような超伝導マグネッ卜に使用する用途において、 中でも極低温で用いら れる超伝導用線材の被覆には、 これまでポリイミ ドフィルムにエポキシ樹脂を主 剤とした熱硬化性樹脂を積層したものが用いられていた。
しかし、 この場合、 エポキシ樹脂は十分な耐放射線性を示さず、 しかも、 将来、 加速器のエネルギーが増大するにつれて発生する放射線量も増大することが予想 されるため、 ますます耐放射線性が求められる傾向にある。 さらに、 耐放射線性 に優れる熱融着層としてポリイミ ドが挙げられるが、 通常用いられている熱融着 性ポリイミドは接着に高温を要し、 低温で接着可能なポリイミ ドは、 耐熱性、 接 着性及びプレス時の樹脂はみ出し等に劣ることが問題となっている。 上記の課題 を解決するためには、 低温で接着し、 かつ耐放射線性に優れる接着剤が求められ ていた。
従って、 本発明は、 低吸水率、 半田耐熱性、 かつ耐熱性、 接着性に優れたポリ イミ ド樹脂を提供することを目的とする。
また、 本発明は、 比較的低温で接着硬化でき、 溶媒に可溶で耐熱性および接着 性に優れている、 ポリイミ ド樹脂を用いた樹脂組成物を提供することを目的とす る。
また、 本発明は、 耐熱性と接着性を保ちつつ、 容易にフィルム中から溶媒を除 去することが可能な接着剤溶液、 およびその接着剤溶液を用いて得られるフィル 厶状積層部材を提供することを目的とする。
さらに、 本発明は、 線材の被覆に際し、 線材の劣化を引き起こさず、 柔軟性 - 接着性等に優れた線材被覆用接着性積層フィルムを開発することを目的としてい る。 発明の開示
本発明のポ ド榭脂は、
式 ( 1 )
Figure imgf000006_0001
(式中、 Xは一 (CH2) k—、 または芳香環を含む二価の基を示し、 は、 1以 上 1 0以下の整数である。 ) で表されるエステル酸二無水物を含むテトラカルボ ン酸ニ無水物と,
式 (2)
Figure imgf000006_0002
Hク N
(式中、 は、 アルキル基、 フッ素置換アルキル基、 アルコキシル基、 または ハロゲン基を表わし、 nは、 0〜4までの整数を示し、 ここで、 n個の 1^は、 同一または異なっている) で表わされる芳香族ジァミン、 及び Zまたは、 一般式( 3)
Figure imgf000006_0003
(式中、 Αは, 単結合、 一〇一, 一 (CH。) n— CO C ( = 0) 〇
-NHC Ο-, — C (CHJ C (C F J 。一, 一 S— s o で表わされる基からなる群より選択されるいずれかの結合基であり、 R2, R および R4はアルキル基、 フッ素置換アルキル基、 アルコキシル基、 またはハロ ゲン基を表わし、 同一または異なった基であり、 x、 y、 z、 および m, nは 0 〜4の整数を表わし、 (m+ 1) 個の Aは同一または異なっていてもよい。 ) で 表わされる芳香族ジァミンを含むジァミンとを反応させて得られる。
あるいは、 式 ( 1 )
Figure imgf000007_0001
(式中、 Xは一 (CH2) k—、 または芳香環を含む二価の基を示し、 kは、 1以 上 1 0以下の整数である。 ) で表されるエステル酸二無水物を含むテトラカルボ ン酸ニ無水物と,
一般式(4)
Η2Νχ Ύ- 十 ΝΗ2
Ρ
(式中、 Υは, 単結合、 一 C〇—, — S〇2— , —〇一, — S—, ― (C H2) q 一, -NHC 0-, — C (CH3) 2— . 一 C (C F3) 2—, 一 C (=〇) 〇一, で表わされる基からなる群より選択されるいずれかの結合基であり、 P、 Qは 1 〜5の整数を表わす。 ) で表わされる芳香族ジァミンとを反応させて得られる。 また、 式 (1)
Figure imgf000008_0001
(式中、 Xは一 (CH2) k—、 または芳香環を含む二価の基を示し、 kは、 1以 上 1 0以下の整数である。 ) で表されるエステル酸二無水物を含むテトラカルボ ン酸ニ無水物と,
一般式(4)
Figure imgf000008_0002
(式中、 Υは, 単結合、 一CO— , —S02— , — O—, — S— , ― (CH2) q 一, -NHCO-, - C (CH3) 2—, - C (C F 3) 2—, - C (=0) 〇一, で表わされる基からなる群より選択されるいずれかの結合基であり、 P、 Qは 1 〜 5の整数を表わす。 ) で表わされる芳香族ジァミンと、 さらに、
式 (5)
Figure imgf000008_0003
(式中、 1 5ぉょび1¾6は、 二価の炭素数 1乃至 4の脂肪族基または二価の芳香族 であり、 R7, Rs, R9, および R1 Qは、 一価の炭素数 1乃至 4の脂肪族基また は一価の芳香族であり、 nは、 1以上 1 0以下の整数である。 ) で表わされるシ ロキサンジァミンとを反応させて得られ得る。
また、 本発明のポリイミド樹脂の他の要旨としては、 式 (7)
Figure imgf000009_0001
で表される、 2, 2— (4—ヒドロキシフエニル) プロパンジベンゾエート— 3 3 '4, 4 ' ーテトラカルボン酸二無水物を含むテトラカルボン酸二無水物と、 式 (2)
Figure imgf000009_0002
Hゥ N
(式中、 は、 アルキル基、 フッ素置換アルキル基、 アルコキシル基、 または ハロゲン基を表わし、 nは、 0〜4までの整数を示し、 ここで、 n個の は、 同一または異なっている) で表わされる芳香族ジァミン、 及び Zまたは、 一般式( 3)
Figure imgf000009_0003
(式中、 Aは, 単結合、 —〇一, 一 (CH2) n—, —CO-, 一 C ( = 0) 0 ―, -NHCO-, — C (CH ) つ一, 一 C (C F3) つ一, 一 S—, -SO,- で表わされる基からなる群より選択されるいずれかの結合基であり、 R 2 , R 3 : および R 4はアルキル基、 フッ素置換アルキル基、 アルコキシル基、 またはハロ ゲン基を表わし、 同一または異なった基であり、 x、 y、 z、 および m, nは 0 〜4の整数を表わし、 (m + 1 ) 個の Aは同一または異なっていてもよい。 ) で 表わされる芳香族ジアミンを含むジァミンとを反応させて得られる。
ここで、 一般式 (7 )
Figure imgf000010_0001
で表わされる 2, 2— ( 4 —ヒドロキシフエニル)プロパンジベンゾェ一トー 3, 3 ' 4, 4 ' ーテトラカルボン酸二無水物を含むテトラカルボン酸二無水物を残 留不純物が 1重量%以下に調整される。
これらのポリイミド樹脂は、 ガラス転移温度 1 0 0 °C〜 2 5 0 °C、 吸水率 1 . 5 %以下を併せ有する。
また、 本発明の樹脂組成物は、 本発明のポリイミ ド樹脂と、 熱硬化性樹脂を含 んで構成される。
本発明の樹脂組成物は、 硬化後の吸水率が 1 . 5 %以下であり得る。
また、 本発明の樹脂組成物は、 硬化後の残揮発分が 3重量%以下であり得る。 さらには、 前記ポリイミ ド樹脂が、 ァミン末端を有するポリイミ ド ·オリゴマ 一である樹脂組成物であり得る。
上記の樹脂組成物を硬化させて得られる本発明の樹脂硬化物は、 吸水率が 1 .
5 %以下であり得る。
また、 残揮発分が 3重量%以下であり得る。
また、 本発明のポリイミ ド接着剤溶液は、 上記ポリイミ ド樹脂、 エポキシ樹脂 および硬化剤が溶解するポリイミド系接着剤溶液であって、
ポリイミ ド樹脂に含まれる酸二無水物残基の 5 0モル%以上が、 一般式 ( 1 )
Figure imgf000011_0001
(式中、 Xは一 (C H 2 ) κ—、 または芳香環を含む二価の基を示し、 kは、 1以 上 1 0以下の整数である。 ) で表されるエステル酸二無水物残基であり、 該有機溶媒が、 環状エーテル系溶媒を含有し得る。
本発明のフィルム状接合部材の要旨は、 上記のポリイミ ド樹脂を主成分とする ベースフィルムの片面または両面に、 熱硬化性樹脂を積層してなる。
また、 本発明のフィルム状接合部材の他の要旨は、 ポリイミド系ベースフィル ムの片面または両面に、 上記樹脂組成物を積層してなる。
また、 本発明のフィルム状接合部材は、 上記樹脂組成物を有機溶媒に溶解し、 支持体上に流延または塗布し、 乾燥後の樹脂組成物の塗膜を支持体より引き剥が して得られるフィルム状樹脂組成物層をポリイミ ド系べ一スフイルムに積層して 得られる。
あるいは、 上記樹脂組成物を有機溶媒に溶解し、 ポリイミ ド系ベースフィルム の少なくとも片面に流延または塗布し、 その後乾燥して得られる。
さらには、 上記ポリイミ ド系接着剤溶液を、 支持体上に流延または塗布し、 乾 燥後の接着剤塗膜を支持体より引き剥がして得られる。 あるいは、 上記ポリイミ ド系接着剤溶液を、 ポリイミ ド系ベースフィルムの少なくとも片面に流延または 塗布し、 その後乾燥して得られる。
また、 本発明の線材被覆用接着性積層フィルムは、 上記フィルム状接合部材を 用い得る。 図面の簡単な説明
第 1図は、 本発明にかかる線材被覆用接着性積層フィルムの線材への被覆方法 を説明するための斜視説明図である。
第 2図は、 本発明にかかる線材被覆用接着性積層フィルムの線材への他の被覆 方法を説明するための斜視説明図である。
第 3図は、 本発明にかかる線材被覆用接着性積層フィルムの線材への他の被覆 方法を説明するための斜視説明図である。
第 4図は、 本発明にかかる線材被覆用接着性積層フィルムの線材の他の被覆方 法を説明するための斜視説明図であり、同図( a )は被覆工程を示す図、同図(b ) は加工後の被覆された状態を示す図である。
第 5図 (a ), ( b ) は、 本発明にかかる線材被覆用接着性積層フィルムの線材 への他の被覆方法を説明するための斜視説明図である。
第 6図は、 図 5に示した本発明にかかる線材被覆用接着性積層フィルムの線材 への被覆後の断面説明図である。
第 7図は、 図 5— 6に示した本発明の線材被覆用接着性積層フィルムを被覆し た線材の加速への適用例を説明するための斜視説明図である。 発明を実施するための最良の形態
本発明のポリイミ ド樹脂は、 式 (1 ) (式中、 Xは芳香環を合む二価の基を示 す。 ) で表されるエステル酸二無水物を含むテトラカルボン酸二無水物と、 式 ( 2 ) 及び/または式 (3 ) のジァミンとから合成される。 エステル酸二無水物は、 式 ( 1 )
Figure imgf000013_0001
で表される。 なお、 式中、 Xは一 (CH2) k—、 または芳香環を含む二価の基 を示し、 kは、 1以上 1 0以下の整数である。
一般式 ( 1 ) で表わされるエステル酸二無水物を用いたポリイミ ド樹脂は、 優 れた低吸収率を有するため、 半田耐熱性に優れた特性を有する。 本発明に用いら れるエステル酸二無水物の好ましい例としては、 2, 2—ビス (4—ヒドロキシ フエニル) プロパンジベンゾェ一トー 3 , 3 ', 4, 4 ' —テトラカルボン酸二無 水物、 p—フエ二レンビス (トリメリット酸モノエステル酸無水物)、 3, 3 ', 4, 4' —エチレングリコールベンゾエートテトラカルボン酸二無水物、 4, 4' ービフエ二レンビス (トリメリット酸モノエステル酸無水物)、 1, 4一ナフタレ ンビス (トリメリット酸モノエステル酸無水物)、 1, 2—エチレンビス (トリメ リット酸モノエステル酸無水物)、 1, 3—トリメチレンビス (トリメリット酸モ ノエステル酸無水物)、 1, 4ーテトラメチレンビス (トリメリット酸モノエステ ル酸無水物)、 1, 5—ペンタメチレンビス (トリメリッ ト酸モノエステル酸無水 物)、 1, 6—へキサメチレンビス (トリメリット酸モノエステル酸無水物) が挙 げられる。 これらのうちの 1種または 2種以上を組み合わせて用い得る。
また、 本発明に用いるジァミンは、 脂肪族ジァミン、 または、 式 (2)
Figure imgf000013_0002
Hゥ N
(式中、 は、 アルキル基、 フッ素置換アルキル基、 アルコキシル基、 または ハロゲン基を表わし、 nは、 0〜4までの整数を示し、 ここで、 n個の は、 同一または異なっている) で表わされる芳香族ジァミン、 及び/または、 一般式( 3)
Figure imgf000014_0001
(式中、 Aは, 単結合、 〇- (CH J n ■CO-, - C ( =〇) 0 一, -NHC Ο-, C (CH,) ,一, 一 C (C F ,) つ一: S 一 s〇2— で表わされる基からなる群より選択されるいずれかの結合基であり、 R2, R3, および R4はアルキル基、 フッ素置換アルキル基、 アルコキシル基、 またはハロ ゲン基を表わし、 同一または異なった基であり、 x、 y、 z、 および m, nは 0 〜4の整数を表わし、 (m+ 1) 個の Aは同一または異なっていてもよい。 ) で 表わされる芳香族ジァミンを含むジァミンとを反応させて得られる。
これらジァミンは、 単独または 2種以上混合して使用される。
脂肪族ジァミンとしては、 1, 2—ジアミノエタン、 1, 3—ジァミノペン夕 ン、 1, 3—ジァミノプロパン、 1 , 4ージアミノブタン、 1, 5—ジアミノぺ ンタン、 1, 6—ジァミノへキサン、 1 , 7—ジァミノヘプタン、 1, 8—ジァ ミノオクタン、 1 , 9—ジアミノノナン、 1 , 1 0—ジァミノデカン等が例示さ れる。
一般式 (2) 及び/又は一般式 (3) で表される芳香族ジァミンとしては、 o 一フエ二レンジァミン、 m—フエ二レンジァミン、 p—フエ二レンジァミン、 2, 4一トルエンジァミン、 3, 3 ' —ジアミノジフエニルエーテル、 3, 4 ' ージ アミノジフエニルエーテル、 4, 4 ' ージアミノジフエニルエーテル、 3, 3' — ジアミノジフエニルスタン、 3, 4 ' —ジアミノジフエニルメタン、 4. 4 ' ― ジアミノジフエニルスタン、 3, 3 ' —ジァミノべンゾフエノン、 4, 4 ' —ジ ァミノべンゾフエノン、 3, 3 ' —ジアミノジフエニルスルフイ ド、 4, 4 ' ― ジアミノジフエニルスルフイ ド、 1 , 3—ビス ( 3—アミノフエノキシ) ベンゼ ン、 1, 4—ビス (3—アミノフエノキシ) ベンゼン、 1, 4一ビス (4—アミ ノフエノキシ) ベンゼン、 2, 2—ビス (4一 (3—アミノフエノキシ) フエ二 ル) プロパン、 2, 2—ビス (4— (4—アミノフエノキシ) フエニル) プロパ ン、 4, 4 ' 一ビス (p—アミノフエノキシ) ジフエニルスルフォン、 3, 4 ' - ビス (p—アミノフエノキシ) ジフエニルスルフォン、 3, 3 ' 一ビス (p—ァ ミノフエノキシ) ジフエニルスルフォン、 4, 4 ' —ビス (4—アミノフエノキ シ) ビフエニル等の芳香族ジァミンが例示される。
本発明にかかるポリイミ ドは、 ジァミン成分として、 耐熱性等の点からは脂肪 族ジァミンより芳香族ジァミンを用いる方が好ましい。
また、 一般式 (4)、
H2 r Υ- 卡 ΝΗ2
(式中、 Υは, 単結合、 一 CO—, 一 S〇2—, —〇一, 一 S—, 一 (CH2) q 一, -NHCO-, — C (CH3) 2—, 一 C (C F 3) 2一, - C (=〇) O— , で表わされる基からなる群より選択されるいずれかの結合基であり、 p、 qは 1 〜 5の整数を表わす。 )で表わされる芳香族ジァミンを用いること力 好ましい。 一般式 (4) で表わされるジァミンにおいて、 複数個の Yは、 同一または 2種 以上の置換基であり得る。 また、 各ベンゼン環の水素は、 当業者の考え得る範囲 内で、 種々の置換基で適宜置換され得る。 例えば、 メチル基、 ェチル基、 B r, C 1等のハロゲン基をあげることができる力 これらの置換基に限定されない。 また、 本発明にかかるポリイミ ド樹脂に用いられるジァミンは、 さらに、 上記 ジアミンの他に、 さらに、
式 ( 5 )
Figure imgf000016_0001
(式中、 R5および R6は、 二価の炭素数 1乃至 4の脂肪族基または二価の芳香族 であり、 R7, R3, R9, および R1 Qは、 一価の炭素数 1乃至 4の脂肪族基また は一価の芳香族であり、 nは、 1以上 1 0以下の整数である。 ) で表わされるシ ロキサンジアミンとを反応させて得られる。
具体的には、 α, ω—ビス (3—ァミノプロピル) ポリジメチルシロキサン、 ω, ω' —ビス (2—アミノエチル) ポリジメチルシロキサン、 ω, ω' —ビス (3—ァミノプロピル) ポリジメチルシロキサン、 ω, ω' —ビス (4ーァミノ フエニル) ポリジメチルシロキサン、 ω, ω' —ビス (4—ァミノ一 3—メチル フエニル) ポリジメチルシロキサン、 ω, ω' —ビス (3—ァミノプロピル) ポ リジフエニルシロキサン等が挙げられるが、 これに限定されない。
シロキサンジァミンを用いるジァミンに混合する場合それぞれのジアミンの割 合は特に限定されないが、 全ジァミンに対するシロキサンジァミンの割合が、 1 〜 30モル%であることが好ましい。 シロキサンジアミンを含む本発明のポリイ ミ ド樹脂は、 低沸点溶媒に対する溶解性が上がり、 接着剤として用いる際に取扱 いが容易である。 シロキサンジァミンの割合が 1モル%未満の場合、 得られる樹 脂組成物の低沸点溶媒に対する溶解性が劣り、 30モル%より多いと得られる樹 脂組成物の耐熱性が劣る。
さらに、 特には、 一般式 (4) で表わされるジァミンが、
一般式 (6)
Figure imgf000017_0001
(式中、 Yは, 単結合、 一 CO—, — S〇 2—, 一〇一, — S— , ― (CH2) q 一, -NHC 0-, — C (CH3) 2—, 一 C ( C F 3) 2— , - C ( = 0) 〇一, で表わされる基からなる群より選択されるいずれかの結合基であり、 p、 Qは 1 〜 5の整数を表わす。 ) で表わされるメタ位にアミノ基が結合していることによ り、 生成されるポリイミ ド樹脂の有機溶媒に対する溶解性が向上し、 接着剤等と して用いる際に優れた有用性を示す。
上記一般式 (4) および一般式 (6) で表わされるジァミンは、 1種または 2 種以上混合して用い得る。
本発明にかかるポリイミ ド樹脂は、 一般式 ( 1 )
Figure imgf000017_0002
(式中、 Xは、 一 (CH2) k—、 または芳香環を含む二価の基を示し、 kは、 1 以上 1 0以下の整数である。 ) で表されるエステル酸二無水物を構成成分として 用いるが、 特に、 一般式 (7)
Figure imgf000018_0001
で表わされる 2. 2—ビス (4ーヒドロキシフエニル) プロパンジベンゾェ一ト — 3, 3 ', 4, 4 ' —テトラカルボン酸二無水物 (以下、 E SDAという) を含 むテトラカルボン酸二無水物とジァミンとをィミ ド化反応させて得ることもでき る。
また、 本発明のポリイミ ド樹脂は、 E S D Aを含むテトラカルボン酸二無水物 中に含まれる残留不純物が、 全テトラカルボン酸二無水物全体の 1重量%以下で あるテトラカルボン酸二無水物を用い得る。 好ましくは、 残留不純物が 1重量% 以下、 より好ましくは 0. 5重量%以下の E S D Aを含むテトラカルボン酸二無 水物とジァミンとをイミ ド化反応させて得られる。
本発明でいう残留不純物とは、 テトラカルボン酸二無水物以外のすべての物質 であり、主には無水トリメリット酸またはその誘導体である。例えば、化合物( 1 )
Figure imgf000018_0002
または化合物 (2)
Figure imgf000019_0001
が含まれる。 残留不純物はポリイミ ド前駆体であるポリアミ ド酸の精製時に重合 阻害物質として作用する。 そのため、 テ卜ラカルボン酸二無水物又は E S D A中 の残留不純物含有量が 1 %を越える場合は重合阻害作用が大きくなり、 ポリイミ ドフィルムを形成するに十分な重合度が得られず、 得られるフィルムは自己支持 性が少なく脆弱である。
本発明で使用されるテトラカルボン酸二無水物または以下の一般式 (7)
Figure imgf000019_0002
で表される E S D Aに含まれる残留不純物含量を 1 %以下とする方法としては、 残留不純物を含有するテトラカルボン酸二無水物または E SD Aを混合溶剤を用 いて再結晶する方法 (特開平 2 - 2400 74号) が挙げられる。
具体的方法として、 E S D Aを例にとって説明すれば、 E S DAの粗物 1 00 重量部と、 (A) 群に属する溶媒、 (B) 群に属する溶媒、 もしくは脂肪族酸無水 物 1 00重量部〜 1 0 0 0重量部とを混合し、 1 0 0〜2 0 o :程度に加熱溶解 させる。 続いて、 系を室温にまで徐々に冷却することにより E S DA結晶を析出 させる。 この結晶を公知の手段で濾別し、 続いて乾燥することにより残留不純物 1重量%以下の E S D Aを得る。
ここで、 (A) 群に属する溶媒と (B) 群に属する溶媒はそれぞれ単独でも用い られ得るが、 混合して用いてもよい。 また、 再結晶に脂肪族酸無水物を用いた場 合は、 さらに (A) 群に属する溶媒および Zまたは (B) 群に属する溶媒で続け て処理することも可能である。
(A) 群に属する溶媒としては、 E SDAに不活性で、 2 5°Cにおける E SD Aに対する溶解度が 3 g/ 1 0 0 g以下の炭化水素系溶媒が挙げられ、 具体的に は、 ベンゼン、 トルエン、 キシレン、 ェチルベンゼン、 イソプロピルベンゼン等 の芳香族炭化水素、 ヘプタン、 へキサン、 オクタン、 シクロへキサン等の脂肪族 炭化水素が例示される。
(B) 群に属する溶媒としては、 E SDAに不活性で、 2 5°Cにおける E SD Aに対する溶解度が 5 g/ 1 0 0 g以上の溶媒が挙げられ、 具体的には、 ジイソ プロピルケトン、 メチルェチルケトン、 メチルイソプロピルケトン、 ァセチルァ セトン、 ァセトフエノン、 シクロへキサノン等のケ卜ン類、 ジイソプロピルェ一 テル、 ェチルブチルエーテル、 ジクロロイソプロピルェ一テル等のエーテル類、 酢酸ェチル、 酢酸プチル、 セロソルブアセテート、 カルビトールアセテート、 ァ セト酢酸メチル、 プロピオン酸メチル、 酪酸メチル、 フタル酸メチル等のエステ ル類が例示される。
脂肪族酸無水物としては、 無水物酢酸が挙げられるがこれに限定されない。
(A) 群に属する溶媒と、 (B) 群に属する溶媒の混合比は (A) : (B) = 1 : 9〜9 : 1の範囲で選択される。
ポリイミ ドの特性を低下させない程度に、 E S D Aと他のテトラカルボン酸二 無水物を併用することもできる。併用できるテトラカルボン酸二無水物としては、 例えばピロメリット酸二無水物、 ベンゾフエノンテトラカルボン酸二無水物、 ビ フエニルテトラカルボン酸二無水物、 ジフエニルエーテルテトラカルボン酸二無 水物、 ナフ夕レンテ卜ラカルボン酸二無水物、 ジフエニルスルフォンテトラカル ボン酸二無水物等が挙げられ、 これらを E S D Aと併せて 2種類以上混合して用 いてもかまわない。 E SDAは、 全テ卜ラカルボン酸二無水物の 5重量%以上 1 0 0重量%以下、 好ましくは、 1 0重量%以上 1 00重量%以下含まれる。 より 好ましくは、 E SDAは、 全テトラカルボン酸二無水物の 30重量%以上 1 0 0 重量%以下含まれ得る。
本発明のポリイミド樹脂は、 その前駆体であるポリアミ ド酸重合体を脱水閉環 して得られる。 ポリアミ ド酸重合体は、 上記式 ( 1 ) で表されるエステル酸二無 水物および上記式 (2 ) および/または式 (3 ) 、 特には、 式 (4 ) 及び Zまた は式 (6 ) 、 あるいは式 (4 ) で表される 1種以上のジァミン成分を実質的に等 モル重合して得られる。 重合は、 通常、 有機極性溶媒中で行われる。 ここで、 実 質的等モルとは、 酸二無水物とジァミンとの割合が、 0 . 9 8 : 1〜 1 . 0 2 : 1の範囲であることをいう。
ポリイミド樹脂を合成するためには、 好ましくは、 アルゴン、 窒素などの不活 性雰囲気中において、 上記一般式 (2 ) および Zまたは一般式 (3 ) 、 特には、 一般式(4 )及び Zまたは一般式(6 )で表わされる 1種以上のジァミン成分と、 一般式 (1 ) で表されるエステル酸二無水物より選択される酸二無水物とを有機 極性溶媒中に溶解または拡散させて、 重合を行い、 ポリアミ ド酸重合体の溶液を 得る。 なお、 本明細書中で 「溶解」 とは、 溶媒が溶質を完全に溶解する場合の他 に、 溶質が溶媒中に均一に分散または拡散されて実質的に溶解しているのと同様 の状態になる場合を含む。
上記ポリアミ ド酸重合体を重合する際の各モノマーの添加順序としては、 酸二 無水物を有機極性溶媒中に先に加えておき、 ジァミン成分を添加してもよい。 ま た、 ジァミン成分の一部を有機極性溶媒中に先に適宜加え、 次に酸二無水物を加 え、 さらに残りのジァミン成分を加えて、 ポリアミ ド酸重合体の溶液としてもよ い。 その他、 当業者に公知の種々の添加方法を用いうる。
ポリアミ ド酸重合体を合成する際に用いられ得る溶媒は、 有機極性溶媒が好ま しい。 有機極性溶媒の具体的な例としては、 例えば、 ジメチルスルホキシド、 ジ ェチルスルホキシドなどのスルホキシド系溶媒、 N , N—ジメチルホルムアミ ド、 N , N—ジェチルホルムアミ ド等のホルムアミ ド系溶媒、 N, N—ジメチルァセ 卜アミ ド、 N, N—ジェチルァセトアミ ド等のァセ卜アミ ド系溶媒、 N—メチル 一 2—ピロリ ドンなどのピロリ ドン系溶媒、 フエノール、 0—、 m―、 または p —クレゾ一ル、 キシレノール、 ハロゲン化フニノール、 カテコールなどのフエノ ール系溶媒、 あるいはへキサメチルホスホルアミ ド、 ァ—プチロラクトンなどを 挙げることができる。 さらに必要に応じて、 これらの有機極性溶媒とキシレンあ るいはトルエンなどの芳香族炭化水素とを組み合わせて用いることもできる。 このようにして得られたポリアミ ド酸重合体を、 例えば熱的または化学的方法 により脱水閉環すれば、 本発明のポリイミ ド榭脂が得られる。 イミ ド化の方法と しては、 例えば、 ポリアミ ド酸溶液を熱処理して脱水する熱的方法、 および脱水 剤を用いて脱水する化学的方法などがあり、 それらのいずれも用いられ得る。 熱的に脱水閉環する方法では、 上記ポリアミ ド酸溶液の溶媒を蒸発させる。 ま た化学的に脱水閉環する方法では、 上記ポリアミ ド酸溶液に化学量論以上の脱水 剤と触媒を加え有機溶媒を蒸発させる。 有機溶媒の蒸発は、 1 6 0 °C以下の温度 で約 5分から 9 0分の時間の範囲内で行うのが好ましい。 また、 イミ ド化のため の加熱温度は、 常温〜約 2 5 0 °Cの範囲から適宜選択される。 常温のままでイミ ド化を行ってもよい。 徐々に加熱することが好ましい。 化学的方法を行う場合に 用いられ得る脱水剤としては、 例えば、 無水酢酸等の脂肪族酸無水物、 および芳 香族酸無水物が挙げられる。 また、 触媒としては、 トリェチルァミンなどの脂肪 族第 3級ァミン類、 ジメチルァニリン等の芳香族第 3級ァミン類、 ピリジン、 ィ ソキノリン等の複素環第 3級ァミン類などが挙げられる。
熱的方法および化学的方法を併用してもよい。
このようにして得られる本発明のポリイミ ド樹脂は、 低吸水性を有し、 またガ ラス転移温度を比較的低温において有する。 具体的には、 ガラス転移温度が 1 0 0で〜 2 5 0 °Cであり、 さらに 1 . 5 %以下の吸水率、 3 . 2以下の誘電率の特 性を有するものが、 加工性、 耐久性、 絶縁性に優れる点で、 好ましい。
ガラス転移温度が 1 0 0 °C以下の場合は、 耐熱性が劣るため、 また、 ガラス転 移温度が 2 5 0 °C以上の場合は、 加工温度が高くなり加工性の観点より好ましく ない。 ガラス転移温度が 1 0 0 °C〜 2 5 0 °Cであるために、 この温度範囲内でガ ラス転移温度に近い温度でラミネ一卜することにより溶融可能であり、 さらにこ の温度範囲において、 熱硬化性樹脂の硬化が進行しやすい点より、 好ましく用い られる。 さらに好ましくは、 1 0 0 〜 2 0 0 °Cである。 また、 吸水率が、 1. 5 %より大きい場合、 膨れが生じる場合があるため好ま しくないが、 本発明にかかるポリイミ ド樹脂は、 吸水率が 1. 5 %以下であるた めに、 水分の吸着によるフィルムの性能の劣化が少ない点より、 好ましい。 さら に好ましくは 1. 3 %以下、 特に好ましくは 1. 0 %以下である。。
さらに、誘電率力 3. 2を上回る場合、 絶縁性に劣る点より好ましくないが、 本発明にかかるポリイミ ド樹脂は、 誘電率が、 3. 2以下が可能であるため、 線 材に被覆して通電する際の誘電損失が少ない点で好ましい。 さらに好ましくは、 3. 0以下である。
更に接着性を向上させるために、 本発明にかかるポリイミ ド樹脂には、 シラン 力ップリング剤、 ノニオン系界面活性剤等を適宜添加してもよい。
用いられるシランカップリング剤としては、 ビニル卜リクロロシラン、 ビニル トリエトキシシラン、メタァクロキシプロピルトリメトキシシラン等が例示され、 その配合量は、 ポリイミド樹脂全量に対して、 0. 0 1〜5重量%である。
チタン系力ップリング剤としては、 ィソプロピル卜リイソステアロイルチタネ ート、 ィソプロビルトリデシルベンゼンスルフォニルチタネート等が例示され、 その配合量は、 ポリイミ ド樹脂全量に対して 0. 0 1 ~5重量%である。
ノニオン系界面活性剤としては、 脂肪酸モノグリセリンエステル、 脂肪族ポリ グリコールエステル, 脂肪族アル力ノールアミ ド等が例示され、 その配合量は、 ポリイミド樹脂全量に対して 0. 0 1〜5重量%である。
次に、 本発明の樹脂組成物は、 上記ポリイミ ド樹脂を構成成分の 1つとしてい る。 このため、 本発明の樹脂組成物を硬化させた場合、 好ましい実施態様におい ては、 1. 5 %以下、 より好ましくは 1. 3 %以下、 特に好ましくは 1. 0 %以 下という優れた低吸水率を発現することを可能とする。 また、 本発明の樹脂組成 物を硬化させた場合、 ポリイミ ド樹脂の優れた耐熱性、 低吸水率の特性に、 さら にエポキシ樹脂を用いることによる良好な接着性を付与することができる。
本発明の樹脂組成物は、 上記のようにして得られる本発明のポリイミ ド樹脂と 熱硬化性樹脂、 例えば、 エポキシ樹脂及び必要に応じて用いられる硬化剤その他 の成分を均一に攪拌混合することにより得られる。 本発明の樹脂組成物では、 特 にエポキシ樹脂を用いることにより、 本発明に用いられるポリイミ ド樹脂の特性 に加えて、 さらに良好な接着性を付与することができる。
ここで用いられる熱硬化性樹脂としては、 ビスマレイミド、 ビスァリルナジィ ミ ド、フエノール樹脂、シアナ一ト樹脂等を用いうる力^諸特性のバランスから、 特にエポキシ樹脂を用いることが望ましい。 エポキシ樹脂としては、 任意のェポ キシ樹脂が本発明に使用可能である。 例えば、 ビスフエノール系エポキシ樹脂、 ハロゲン化ビスフエノール系ェポキシ樹脂、 フエノールノボラック系ェポキシ樹 脂、 ハロゲン化フエノールノポラック系エポキシ樹脂、 アルキルフエノールノボ ラック系エポキシ樹脂、 ポリフエノール系エポキシ樹脂、 ポリグリコール系ェポ キシ樹脂、 環状脂肪族エポキシ樹脂、 クレゾ一ルノボラック系エポキシ樹脂、 グ リシジルァミン系エポキシ樹脂、 ウレタン変性エポキシ樹脂、 ゴム変性エポキシ 樹脂、 エポキシ変性ポリシロキサン等を用いることができる。 具体的には、 ェピ コート 82 8 (油化シェル社製) 等のビスフエノール A型樹脂、 1 80 S 6 5 ( 油化シェル社製) 等のオルソクレゾールノポラック樹脂、 1 57 S 70 (油化シ エル社製) 等のビスフエノール Aノボラック樹脂、 1 0 32 H60 (油化シェル 社製) 等のトリスヒドロキシフエニルメタンノボラック樹脂、 E SN 37 5等の ナフタレンァラルキルノボラック樹脂、 テトラフエ二ロールェタン 1 0 3 1 S ( 油化シェル社製)、 YGD4 14 S (東都化成)、 トリスヒドロキシフエニルメタ ン E PPN 50 2H (日本化薬)、 特殊ビスフエノール VG 3 1 0 1 L (三井化学 )、 特殊ナフトール NC 7000 (日本化薬)、 TETRAD— X, TETRAD 一 C (三菱瓦斯化学社製) 等のグリシジルァミン型樹脂などが挙げられ、 特にェ ポキシ基を 2以上含むものが、 反応性に優れる点で好ましい。 また、 エポキシ当 量が、 2 50以下のものは、 接着性を高める点で好ましい。 エポキシ樹脂とフエ ノール樹脂、 シアナ一卜樹脂等の熱硬化性樹脂との併用であってもよい。 なお、 エポキシ当量は、 エポキシ樹脂の分子量をエポキシ基の数で割ったものである。 熱硬化性樹脂、 特にはエポキシ樹脂の混合割合は、 熱可塑性樹脂であるポリィ ミ ド 1 0 0重量部に対して. 1〜 5 0重量部、 好ましくは 5〜3 0重量部加える のが望ましい。 少なすぎると接着強度が低く、 多すぎると柔軟性、 耐熱性、 さら
99 には耐放射線性に劣るものとなる。
本発明の樹脂組成物には、 上記熱硬化性樹脂の他、 さらに、 吸水性、 耐熱性、 接着性等の特性向上要求に応じて、 酸二無水物系、 アミン系、 イミダゾール系等 の一般に用いられるエポキシ硬化剤、 促進剤や種々の力ップリング剤を併用しう る。
本発明において、樹脂組成物の 1実施態様として、含有するポリイミ ド樹脂が、 ァミン末端を有するポリイミド ·オリゴマ一であり得る。
ァミン末端を有するポリイミ ド ·オリゴマーは、 その前駆体であるアミン末端 を有するポリアミ ド酸 ·オリゴマーを脱水閉環して得られる。 ァミン末端を有す るポリアミ ド酸 ·オリゴマーは、 上記式 (1 ) で表されるエステル酸二無水物お よび上記式 (4) 及び Zまたは式 (6) で表される 1種以上のジァミン成分を、 実質的にジァミン成分の過剰となる配合で重合して得られる。好ましくは例えば、 エステル酸二無水物 1 mo 1に対して、 ジァミン成分を 1. 02mo l〜l . 1 mo 1の配合で重合して得られる。 重合は、 通常、 有機極性溶媒中で行われる。 ァミン末端を有するポリイミ ド ·オリゴマ一は、 その前駆体であるアミン末端 を有するポリアミ ド酸 ·オリゴマーを脱水閉環して得られる。 ァミン末端を有す るポリアミド酸 ·オリゴマーは、 上記式 ( 1 ) で表されるエステル酸二無水物お よび上記式 (4) または式 (6) で表される 1種以上のジァミン成分を、 実質的 にジァミン成分の過剰となる配合で重合して得られる。 好ましくは例えば、 エス テル酸二無水物 1 mo 1 に対して、 ジァミン成分を 1. 02mo l〜 l . lmo 1の配合で重合して得られる。 重合は、 通常、 有機極性溶媒中で行われる。
ポリイミ ド ·オリゴマーを合成するためには、 好ましくは、 アルゴン、 窒素な どの不活性雰囲気中において、 式 (4) および/または式 (6) で表される 1種 以上のジァミンと、 式 ( 1 ) で表されるエステル酸二無水物より選択される酸二 無水物を有機極性溶媒中に溶解または拡散させて、 重合を行い、 ポリアミ ド酸 ' オリゴマーの溶液を得る。 ポリアミ ド 'オリゴマーの合成過程は、 上記本発明に かかるポリイミ ド樹脂と同様の方法で行い得る。
ボリイミ ド ·オリゴマーの数平均分子量は、 好ましくは、 2000〜 5000 0であり、 より好ましくは 3000〜 400 00であり、 さらに好ましくは、 5 0 00〜 30 0 00である。 ポリイミド ·オリゴマ一の数平均分子量 2000以 上であると、組成物を硬化して得られる硬化物が必要な機械的強度を保持し得る ( また、 アミノ基を末端に持つポリイミド 'オリゴマーの数平均分子量が 50 00 0以下である場合、 エポキシ樹脂との反応点となるアミノ基の量がエポキシ基に 対し相対的に適量であり、 架橋密度が適度であり、 空疎な部分がなく構造的に安 定する。 このため、 溶媒の侵入等を防止することができ、 エレクトロニクス用材 料の信頼性試験である p CT (P r e s s u r e C o o k e r Te s t ) 処 理後の引き剥し強度保持率を良好にすることができる。
このようにして得られたァミン末端を有するポリイミ ド ·オリゴマ一のァミノ 基とエポキシ樹脂のエポキシ基とは、 化学反応して架橋し、 新たな化学結合を多 点で生成する。 このため、 ポリイミ ド ·オリゴマーがエポキシ樹脂の硬化剤と同 様の作用効果を奏するので、 架橋密度が増し、 吸水性が低くなる。 また、 ェポキ シ基と反応していないポリイミド ·オリゴマー部分がガラス転移温度を比較的低 温において有するため、 全体として、 低吸水性および低温接着を可能とする。 ポ リイミド ·オリゴマーのァミン末端は、 エポキシ樹脂と化学的に結合し得るとい う特徴を有する。 本発明の樹脂組成物においては、 ポリイミ ド 'オリゴマーのァ ミン末端は、 エポキシ榭脂と化学的に結合していてもよく、 また結合していなく てもよい。 最終的に接着剤用樹脂組成物が硬化するまでにポリイミド ·オリゴマ 一のアミン末端と、 エポキシ樹脂との化学的な結合が形成すれば、 本発明の効果 が得られる。 従って、 硬化前の本発明の樹脂組成物中において、 当該ポリイミド -オリゴマーのァミン末端と、 エポキシ樹脂との化学的な結合が形成しているか 否かに拘わらず、 本発明の効果は得られる。
例えば、 フレキシブル銅張積層板として使用すると、 ポリイミ ド ,オリゴマー のァミン末端とエポキシ樹脂とが化学的に結合して、 多点で架橋点を有し構造が 緻密となり、 溶媒の侵入等が少なくなるという利点を有する。 例えば、 エレクト ロニクス用材料の信頼性試験である P C T (P r e s s u r e C o o k e r T e s t) 処理後の引き剥し強度保持率が、 好ましくは 60 %以上、 より好まし くは 7 0 %以上、 さらに好ましくは 8 0 %以上、 という高い保持率を発現するこ とが可能になる。
本発明にかかる樹脂組成物の他の好ましい実施態様としては、 樹脂組成物の硬 化後に含まれる有機溶媒の残揮発分を 3重量%以下に抑え得る。 本発明の樹脂組 成物に含まれる 1種または 2種以上の溶媒は、 ポリイミ ドおよびエポキシ樹脂を 溶解するものであれば特に限定されないが、 硬化後の残揮発分を 3重量%以下に 抑制し得る種類および量に限定される。 また、 経済性および作業性の点を考えて 沸点が 1 6 0 以下の低沸点溶媒が好ましい。 なお、 本明細書中では、 「低沸点 溶媒」 とは、 1 6 0 °C以下の沸点を有する溶媒をいう。 1 3 0 以下の沸点を有 する溶媒がより好ましく、 さらに好ましくは、 1 0 5 °C以下の沸点を有する溶媒 である。 このような低沸点溶媒としては、好適には、テトラヒドロフラン(以下、 T H Fと略す。 沸点 6 6で) 、 1 , 4一ジォキサン (以下、 ジォキサンと略す。 沸点 1 0 3 T:) 、 1 , 2—ジメトキシェタン (モノグライム) (沸点 8 4 °C ) が 例示される。 これらは、 1種で使用しても良いし、 2種以上組み合わせて用いる こともできる。
樹脂組成物を硬化させた硬化物中の残揮発分を 3重量%以下、 好ましくは 2重 量%以下、 特に好ましくは 1重量%以下とする。
残揮発分は、例えば、ガス ·クロマトグラフィー法等により簡便に測定し得る。 残揮発分を測定するための硬化物は、 以下のように作製する。 接着剤をガラス板 上に流延し、 1 0 0 °Cで 1 0分間乾燥後、 ガラス板より引き剥し、 鉄枠に固定し さらに 1 5 0 °Cで 2 0分乾燥し、 厚み 2 5 x mのシートを得る。 得られたシ一ト をポリイミ ドフィルム (アビカル 5 0 A H、 鐘淵化学工業社製) と厚さ 2 5 w m の銅箔とで挟み込み、 温度 2 0 0 °C、 圧力 3 M P aで 2 0分加熱加圧し、 銅張フ レキシブル積層板を得る。 この積層板中の接着剤硬化物を、 硬化物中に存在する 溶媒とは異なる溶媒を用いて溶解し、 一定濃度 (例えば 5重量%) の試料を作製 し、 キャリアガス中で気化させ、 F I D等の検出器等で残揮発分の重量を測定す ることができる。 この際、 あらかじめ、 残揮発分候補の溶媒をそれぞれ単品で、 残揮発分と異なる溶媒に種々濃度で溶解した溶液を作製し、 それぞれの溶液をガ ス · クロマトグラフィー用カラム中のキヤリァガス中で気化させ、 F I D等の検 出器等で残揮発分の重量を測定するための検量線作成を行えば、 容易に測定がで きる。
樹脂組成物を硬化させた硬化物中の残揮発分を 3重量%以下、 好ましくは 2重 量%以下、 特に好ましくは 1重量%以下と低減させることにより、 樹脂組成物を 接着剤として、 例えば、 フレキシブル銅張積層板として使用すると、 接着力が非 常に良好になる。例えば、エレクトロニクス用材料の信頼性試験である P C T ( P r e s s u r e C o o k e r T e s t ) 処理後の引き剥し強度保持率が、 好 ましくは 6 0 %以上、より好ましくは 7 0 %以上、さらに好ましくは 8 0 %以上、 という高い保持率を発現することが可能になる。
本発明の榭脂組成物の吸水率は、樹脂組成物の配合を適宜調整することにより、 当業者が容易に調整することができる。 好ましい実施態様において、 本発明の組 成物を硬化して得られる硬化物の吸水率が 1 . 5 %以下とされる。
なお、 吸水率を測定するための樹脂硬化物は、 以下のように作製する。 接着剤 をガラス板上に流延し、 1 0 0 °Cで 1 0分間乾燥後、 ガラス板より引き剥し、 鉄 枠に固定しさらに 1 5 0 °Cで 2 0分乾燥し、 厚み 2 5 のシートを得る。 得ら れたシートをポリイミドフィルム (アビカル 5 0 A H、 鐘淵化学工業社製) と厚 さ 2 5 mの銅箔とで挟み込み、 温度 2 0 0 °C、 圧力 3 M P aで 2 0分加熱加圧 し、 銅張フレキシブル積層板を得る。 この積層板中の接着剤硬化物の吸水率は、 公知の任意の方法で測定され得る。 例えば、 A S T M D 5 7 0に基づいた測定 により算出できる。
本発明にかかる樹脂組成物は、 その製造方法および、 各成分の混合の時期につ いては限定されない。 具体的に述べると、 熱可塑性ポリイミドと熱硬化性樹脂を 含む樹脂溶液は、 熱可塑性ポリイミ ド溶液にそのまま熱硬化性樹脂を添加し、 樹 脂溶液とし得る。 あるいは、 熱可塑性ポリイミ ド溶液に低沸点溶媒を添加し、 更 に熱硬化性樹脂を加えて、 撹拌混合して樹脂溶液を調整し得る。 この他に、 ポリ アミ ド酸の重合の際に用いる貧溶媒中に、 ポリイミド溶液を投入して、 ポリイミ ド樹脂を析出させて未反応モノマーを取り除いて精製し、 乾燥させ固形のポリイ ミ ド樹脂としてから、適宜、本発明の樹脂組成物とすることもできる。貧溶媒は、 溶媒を良好に溶解するがポリイミ ドは溶解しにくい性質を有し、 例示すると、 ァ セトン、 メタノール、 エタノール、 イソプロパノール、 ベンゼン、 メチルセロソ ルブ、 メチルェチルケトン等が例として挙げられるが、 これに限定されない。 また、 特に限定されないが、 上記のように精製した固形状の熱可塑性ポリイミ ド樹脂を、 使用に際し、 この精製ポリイミ ド樹脂を上記熱硬化性樹脂と共に再び 有機溶媒に溶解し、 濾過精製ワニスの状態として得ることもできる。 この時使用 される有機溶媒は、 特に限定されず、 当業者に公知のいずれの有機溶媒でも使用 できる。
従来のポリイミド系接着剤では、 銅箔等の金属およびポリイミ ド等の樹脂フィ ルムに対して接着性が十分でなく、 またエポキシ樹脂との混合は、 その難溶性よ り困難であつたのに対し、 本発明の樹脂組成物は、 銅箔等の金属箔ゃポリイミ ド フィルムとの接着性が良好である。 また本発明の樹脂組成物は、 有機溶媒に対す る溶解性が良好であるので、 使用に際し加工性に優れる。 また、 有機溶媒に対す る溶解性が良好であり、 さらに低温で接着し得る等の特性を有する。 すなわち、 具体的には、 反応硬化後の吸水率が、 1 . 5 %以下、 好ましくは、 1 . 3 %以下、 1 . 0 %以下という優れた低吸水率を有し、 また半田耐熱性に優れ、かつ耐熱性、 接着性共に優れており、 接着剤として用いる際に、 約 2 5 0 °C以下の温度で接着 可能である。 従って、 使用に際して加工性に優れる。 例えば、 前記ポリアミ ド酸 重合体をイミド化して得られたポリイミ ドおよびエポキシ樹脂の溶液を、 直接シ ート状に形成した状態として用いることができる。 例えば、 そのままプリント配 線基板等としても用い得る。 また、 接合部材等として、 電子機器、 特にフレキシ ブル印刷回路基板、 T A B用テープ、 複合リードフレーム、 積層材料等に好適に 用いられ得る特性を有する。
さらに本発明の組成物は、 ポリイミ ドとして、 ァミン末端を有するポリイミ ド -オリゴマーを用いた場合は、 そのアミン末端がエポキシ樹脂と化学的に結合し 得るため樹脂組成物中の多点で架橋点を有し構造が緻密となり、 溶媒の侵入等が 少なくなる。 その結果、 エレクトロニクス用材料の信頼性試験である P C T ( P r e s s u r e Co o k e r T e s t) 処理後の引き剥し強度保持率が、 好 ましくは 60 %以上、より好ましくは 70 %以上、さらに好ましくは 80 %以上、 という高い保持率を発現することが可能となる。 また半田耐熱性に優れ、 かつ耐 熱性、接着性ともに優れており、接着剤として使用する際に比較的低温、例えば、 約 2 50 °C以下の温度で接着可能な組成物が提供される。
次に、 本発明にかかるポリイミ ド系接着剤溶液は、 有機溶媒に、 上記得られた 本発明の熱可塑性ポリイミ ド樹脂、 上述のエポキシ樹脂および硬化剤を溶解させ て得られるが、 特に環状エーテル系溶媒を含有する有機溶媒を使用した本発明の ポリイミ ド系接着剤溶液は、 比較的低温で溶媒を乾燥除去できるため、 その後の 積層では強力な接着力を発現する。
環状エーテル系溶媒としては、 テトラヒドロフラン (THF)、 1, 4—ジォキ サン、 ジォキソランが好ましく用いられ得る。 また、 複数の溶媒を混合した混合 有機溶媒を用いる場合には、 極性有機溶媒と組み合わせた方が好ましいが、 環状 エーテル系溶媒を 30重量%以上、 好ましくは 50重量%以上含有するほうが本 発明の効果が発現しやすい。 なお環状エーテル系溶媒と組み合わせる有機極性溶 媒としては、 ジメチルスルホキシド、 ジェチルスルホキシド等のスルホキシド系 溶媒、 N, N—ジメチルホルムアミド、 N, N—ジェチルホルムアミド等のホル ムアミ ド系溶媒、 N, N—ジメチルァセトアミ ド、 N, N—ジェチルァセトアミ ド等のァセ卜アミ ド系溶媒が挙げられる。
本発明の接着剤溶液に用いられる熱可塑性ポリイミ ド樹脂は分子中に含まれる 酸二無水物残基の 50モル%以上が、 一般式 (1)
Figure imgf000030_0001
(式中、 Xは一 (CH2) k—、 または芳香環を含む二価の基を示し、 kは、 1以 上 1 0以下の整数である。 ) で表されるエステル酸二無水物残基であることを特 徴としている。この構造を有するために、上記有機溶媒への溶解性が良好である。 一般式 ( 1) で表される酸二無水物の好ましい例としては、 2, 2—ビス (4 —ヒドロキシフエニル) プロパンジベンゾエー卜一 3, 3 ', 4, 4 ' —テトラ力 ルボン酸二無水物、 p—フエ二レンビス (トリメリット酸モノエステル無水物)、 4, 4 ' ービフエ二レンビス (トリメリット酸モノエステル無水物)、 1 , 4ーナ フタレンビス (トリメリット酸モノエステル無水物)、 1 , 2—エチレンビス (ト リメリット酸モノエステル無水物)、 1 , 3—卜リメチレンビス (トリメリット酸 モノエステル無水物)、 1, 4—テトラメチレンビス (トリメリット酸モノエステ ル無水物)、 1, 5—ペンタメチレンビス(トリメリット酸モノエステル無水物)、 1, 6—へキサメチレンビス (トリメリット酸モノエステル無水物) 等が挙げら れるが、 一般式 (7)
Figure imgf000031_0001
で表される 2, 2—ビス (4—ヒドロキシフエニル) プロパンジベンゾェ一ト- 3, 3 ', 4, 4 ' ーテトラカルボン酸二無水物は特に好ましい。
また、 上記の酸二無水物と反応させるジァミン成分としては、 上記ポリイミ ド 樹脂に用いられるジァミンであれば、 限定されないが、 特には、 一般式 (4) - 十 NH2
Figure imgf000031_0002
(式中、 Yは, 単結合、 一 C O—, 一 S〇2—, — 0—, — S—, ― ( C H 2 ) q 一, 一 N H C O -, 一 C ( C H 3 ) 2 - , 一 C ( C F 3 ) 2—, - C ( = 0 ) 〇一, で表わされる基からなる群より選択されるいずれかの結合基であり、 P、 Qは 1 ~ 5の整数を表わす。 ) で表されるジァミン化合物、 特にビス (ァミノフエノキ シフエニル) スルフォンが好ましい。
なお、 一般式 (4 ) において、 複数個の Yは各繰り返し単位間で同一であって も異なっていても良く、 各ベンゼン環の水素は当業者の考え得る範囲内で種々の 置換基で適宜置換され得る。例えば、メチル基、ェチル基等の炭化水素基や B r、 C 1等のハロゲン基を挙げることができるが、 これらの置換基に限定されない。 さらに、 一般式 (4 ) で表されるジァミン化合物中、 メタ位にアミノ基を有する 一般式 (6 ) で表わされるジァミン化合物は、 それを用いた熱可塑性ポリイミ ド の有機溶媒への溶解性が良好なため加工性に優れた接着剤溶液が得られて好まし レ なお、 一般式 (4 ) で表されるジァミン化合物は、 2種以上を混合して用い ても良い。
上記ジァミン化合物およびエステル酸二無水物より得られるポリアミ ド樹脂は、 従来の殆どの熱可塑性ポリイミ ドは不溶もしくは難溶であった上記環状エーテル 系溶媒を含有する有機溶媒に、 可溶である。
本発明のポリイミド系接着剤溶液は、 上記環状エーテル系溶媒を含有する有機 溶媒に上記ポリアミド樹脂、 および前述のエポキシ樹脂を溶解する。 エポキシ樹 脂の混合割合は、 熱可塑性樹脂であるボリイミ ド 1 0 0重量部に対して、 1〜5 0重量部、 好ましくは 5〜 3 0重量部加えるのが望ましい。 少なすぎると接着強 度が低く、 多すぎると柔軟性、 耐熱性、 さらには耐放射線性に劣るものとなる。 その他硬化剤、 促進剤、 あるいは種々のカップリング剤を混合し得る。 この接 着剤溶液の濃度は溶液重量を分母とする固形分 (熱可塑性ポリイミ ド +エポキシ 榭脂 +硬化剤) 量で 5〜5 0重量%、 好ましくは 1 0〜4 0重量%、 特に好まし くは 1 5〜3 0重量%である。 また、 溶解の手順等は作業性等を考慮し適宜決め ればよい。
次に、 本発明にかかるフィルム状接合部材の実施態様の 1例として、 熱硬化性 樹脂を、 上記得られた熱可塑性ポリイミ ド樹脂を含むベースフィルムの片面また は両面に積層し加熱乾燥して得ることができる。 あるいは、 上記熱硬化性樹脂を 支持体上にキャス卜し溶媒を取り除きシートとした後に、 熱可塑性ポリイミ ド樹 脂を含むベースフィルムに貼り合わせて得ることもできる。
また、 上記ポリイミ ドフィルムに積層する熱硬化性樹脂層の厚みは、 0 . 5〜 5 mの範囲が好ましい。 さらに、 0 . 5〜 3 z mの範囲が好ましい。 厚みは、 0 . 5 z m以下であると、 接着力が充分でなく、 また、 5 m以上であると、 機 械的強度が少なく、 フィルムが脆くなる。
本発明にかかるフィルム状接合部材の他の実施態様は、ポリイミ ドフィルムに、 熱可塑性ポリイミ ド樹脂及び熱硬化性樹脂及びその他の成分を均一に攪拌混合し た樹脂組成物を片面または両面に積層することにより得ることができる。 具体的 には、 本発明に用いられる熱可塑性ポリイミ ドと熱硬化性樹脂を含む樹脂組成物 溶液は、熱可塑性ポリイミ ド樹脂を溶媒に溶解したポリイミド樹脂溶液を得た後、 熱硬化性樹脂、 及びその他の成分を添加して樹脂組成物溶液とし、 ポリイミ ドフ イルムに塗布乾燥し得ることができる。 あるいは、 上記のようにして得た榭脂組 成物溶液を支持体上にキャス卜し、 溶媒を取り除きシートとした後、 ポリイミ ド フィルムに貼り合わせて得ることもできる。
榭脂組成物層を積層するポリィミ ドフィルムは、一般に知られているアビカル、 カプトン、 ユーピレックス等を用いることができるが、 これらに限定されない。 ポリイミ ドフィルムの厚みは使用に際し、 適宜選択され得る。 また、 上記ポリィ ミ ドフィルムに積層する熱可塑性ポリイミ ドと熱硬化性樹脂を含む樹脂組成物層 の厚みは使用に際する要求に応じて、 適宜選択され得るが、 5〜 3 0 z mの厚さ が好ましい。 厚みが薄すぎると接着性が低下することがあり、 厚すぎると有機溶 媒の乾燥除去が困難となり発泡が生じる場合があるからである。
本発明のフィルム状接合部材の接着条件としては、 十分に接着硬化し得る接着 条件であればよい。 1例を挙げると、 加熱温度 1 5 0 °C〜 2 5 0 °C、 圧力 0 . 1 〜 1 0 M P a、 加熱時間 5〜 2 0分程度の条件である。
本発明にかかるフィルム状接合部材は、 例えば、 銅箔 · アルミ箔 ' 4 2合金等 の金属箔ゃ別のフィルム、 印刷回路基板等を加熱加圧して接着する場合に用い得 る。 この別のフィルムの種類は特に限定されず、 例えばポリイミ ドフィルム及び ポリエステルフィルム等が挙げられる。 また、 この場合の接着条件としては、 接 着硬化するために必要十分である接着条件であれば特に限定されず、 具体的には 加熱温度 1 5 0°C〜2 50 °C、 圧力 0. l〜 1 0MP aで加熱時間 5〜 2 0分程 度の条件で加熱加圧することが好ましいが、 これらの条件に限定されない。 上記 のように、 本発明のフィルム状接合部材は、 フレキシブル印刷回路基板、 TAB 用テープ、 複合リードフレーム、 積層材料等に好適に用いられる。
また、 本発明にかかるフィルム状接合部材は、 低温での加工性、 柔軟性,耐放射 線性等の優れた特性を有することから、 線材被覆用接着性積層フィルムとして用 いることができ、 特に超伝導用線材等の被覆に適する。
本発明にかかる線材被覆用接着性積層フィルムは、 ポリイミ ドフィルムと、 熱 硬化性榭脂および上記得られた熱可塑性ポリイミ ド樹脂を含む接着層を積層して 構成される。
接着層を積層するポリイミ ドフィルムは、 一般に知られているアビカル、 カブ トン、 ュ一ピレックス等を用いることができる力 これらに限るものではない。 また、 ポリイミ ドフィルムの厚みは 5〜30 0 zm、 好ましくは 1 0〜1 2 5 mである。
上記ポリイミ ドフィルムに積層する熱可塑性ポリイミ ドと熱硬化性樹脂を含む 接着層の厚みは 1〜20 m、 好ましくは 3〜 1 0 である。
次に、 本発明の線材被覆用接着性積層フィルムを得る方法としては、 例えば、 上述のようにして得られた熱可塑性ポリイミ ド樹脂と熱硬化性樹脂からなる本発 明の樹脂組成物をフィルム状に形成したものを、 他のポリィミ ドフィルム上に積 層して熱圧着させることにより得ることができる。
なお、 本発明の線材被覆用接着性積層フィルムは、 フィルム状に形成された本 発明の熱可塑性ポリィミ ド樹脂及び熱硬化性樹脂及び剥離紙を重ねて熱圧着し、 使用時に剥離紙を剥がすように構成してもよい。
あるいは、 熱可塑性ポリイミ ド及び熱硬化性樹脂からなる本発明の榭脂組成物 を有機溶媒に溶解した溶液、特には、本発明の接着剤溶液を直接ポリイミ ドフィル ムに流延 ·塗布した後乾燥させ、 目的とする線材被覆用接着性積層フィルムを得 てもよい。
得られた本発明にかかる線材被覆用接着性積層フィルムは、 例えば、 その後そ のまま巻き取られ、 あるいはポリエチレンテレフタレ一卜、 ポリプロピレン、 ポ リエチレンなどのフィルムを、 線材被覆用接着性積層フィルムの接着層側にスぺ ーサ一として配設して巻き取られ、 適宜、 所定の幅に形成され、 線材の被覆に提 供され得る。
なお、 かかる線材被覆用接着性積層フィルムの線材への被覆は、 通常行われて いる方法から適宜選択して行われる。例を挙げると、以下のようにして行われる。 例えば図 1に示すように、 一定幅の線材被覆用接着性積層フィルム 1 0を線材 1 2の外周に積層フィルム 1 0の両端部が重なり合うようにスパイラル状に巻き付 けた後、 所定の温度に加熱し、 接着層 1 4を介しポリイミドフィルム 1 6を線材 1 2に接着させる。 また、 図 2に示すように、 線材被覆用接着性積層フィルム 1 0の両端部が接して、重なり合わないように巻き付けることも可能である。更に、 図 3に示すように、 線材被覆用接着性積層フィルム 1 0の幅を線材 1 2の外周の 長さよりも若干長く形成しておき、 線材被覆用接着性積層フィルム 1 0を線材 1 2に沿って巻き付けて、 端部を接着または圧着してもよい。
あるいは、 図 4 ( a ) に示すように、 積層フィルム 1 0を、 線材 1 2の外周に 接着層 1 4が外側になるように巻き付けた後、 更にその外側に接着性を有しない 他のフィルム 1 8の端部を少し重複して、 または端部間に間隙を設けて巻き付け る。 そして、 これを加熱加圧して接着層 1 4を融解させ、 積層フィルム 1 0の端 部の重複部分のポリイミ ドフィルム 1 6同士を接着するとともに、 外側に巻き付 けられたフィルム 1 8と接着層 1 4とを接着させてもよレ かかる方法によると、 図 4 ( b ) に示すように、 本願の積層フィルムが他のフィルム 1 8に接着してチ ユーブ状に形成され、 線材 1 2に密着しない状態で線材 1 2の外周を被覆するこ とができる。 かかる構成を採用すると、 線材の被覆に際し、 線材の劣化を引き起 こさず、 柔軟性、 接着性、 加工性等の線材に適する優れた特性が認められ、 好ま しい。 なお、 フィルム 1 8は、 本発明の積層フィルム 1 0を構成する上述のポリ イミド 1 6と同一のものであっても異なるものであってもよい。
また、 本発明の線材被覆用接着性積層フィルムは、 図 5〜 7に示すように、 特 に加速器に用いられ得る。 例えば、 図 5 ( a ) のように、 加速器用超伝導線材 1 2の外周に一定幅のポリイミ ドフィルム 1 8を端部が重なりあうように巻きつけ る。 その上に、 図 5 ( b ) に示すように、 一定幅の本発明にかかる線材被覆用接 着性積層フィルム 1 0を接着層 1 4を外側にしてこの積層フィルム 1 0の両端部 の間に隙間を設け、 スパイラル状に巻き付ける。 図 6は、 その断面を示した図で ある。 その後、 複数の被覆した線材を、 所定の温度に加熱し、 接着層 1 4を介し 超伝導線材同士を接着させる。 この線材被覆用接着性積層フィルムを被覆した線 材は、 図 7に示すような態様で加速器に用いられ得る。
本発明にかかる線材被覆用接着性積層フィルムのように、 予め他のポリィミド フィルムと接着層が積層されてなるものを用いることにより、 取り扱いや作業性 が容易となり、 生産性が向上する。
また、 本発明において接着層として用いられる熱可塑性ポリイミ ド及び熱硬化 性樹脂からなる接着フィルムは、 それ自体を絶縁被覆材として用いることも可能 であり、 フィルム状の熱可塑ポリイミ ド及び熱硬化性樹脂からなる樹脂と剥離紙 とを二重に重ねて線材に巻き付け、 熱圧着した後、 剥離紙を剥がすようにして用 いてもよい。
さらに、 熱可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂で構成されるフィルム状とした接着フ イルムと、 例えばアビカル (鐘淵化学工業株式会社製) のような市販の他のポリ ィミ ドフィルムとを二重に重ねたものを線材に巻き付けて直接熱圧着して被覆し てもよい。
本発明の線材被覆用接着性積層フィルムは、 低温での加工性、 柔軟性、 耐放射 線性に優れ、 かつ水分の吸着による性能の劣化が少なく、 線材に被覆して通電す る際の誘電損失が少なく、 さらに接着性に優れたものである。 すなわち、 本発明 において接着層の成分として用いられる熱可塑性ポリイミ ドはその組成により 1 0 0 °C〜 2 5 0 °Cの範囲内で明確なガラス転移温度を有し、 そのガラス転移温度 に近い温度においてラミネートすることにより、 溶融し、 熱硬化性樹脂の硬化を 促進し得る。 従って、 本発明の積層フィルムを接着層を内側にして例えば線材等 に巻き付けた後、 ガラス転移温度すなわち 1 0 0 ° (:〜 2 5 0 °C近辺に加熱するこ とにより、 線材被覆用接着性積層フィルムは線材と接合する。 このため、 線材は 加熱による影響をあまり受けることなく、 劣化することもない。 また、 接着層に 用いられる熱可塑性ポリイミ ド樹脂は、 従来のポリイミ ドに比較して、 大幅に低 吸水率を示し、 水分の吸着による性能の劣化が少ない。 さらに、 誘電率が 3 . 2 以下と小さいため、 線材に通電する際、 誘電損失が少なく、 つまりは線材の加熱 を抑制することができる。 また、 耐放射線性において優れた特性を示すことも確 認されている。
これらの特性は、 超伝導線材等の被覆に適し、 加速器用超伝導マグネットに使 用する用途に特に好ましく用いられるが、 その他用途は特に限定されない。
以上、 本発明にかかるポリイミ ド樹脂、 およびこれを用いた樹脂組成物、 フィ ルム状接合部材、線材被覆用接着性積層フィルムの実施の形態を種々説明したが、 本発明はこれらの形態のみに限定されるものではなく、 本発明のフィルム状接合 部材は、 本発明はその趣旨を逸脱しない範囲内で、 当業者の知識に基づき種々な る改良、 修正、 変形を加えた態様で実施得るものである。 実施例
以下、 実施例により本発明を具体的に説明するが、 これら実施例は、 本発明を 説明するものであり、 限定するためのものではない。
-吸水率は、 A S T M D 5 7 0に基づいた測定により算出した。 フィルム状 の組成物、 厚み 2 5 i mの組成物のシートを、 1 5 0でで 3時間加熱して硬化さ せた組成物シートを得た。 このような硬化後のシートをさらに、 1 5 0 °C, 3 0分 間乾燥させたものの重量を W 1 とし、 2 4時間蒸留水(2 0 °C、 6 0 % R H環境下) 浸漬後、 表面を拭き取ったものの重量を W2 とし、 下記式により算出した。
吸水率( %) = (W2 - W 1 ) 二 W 1 X 1 0 0 •誘電率は、 J I S C 648 1に準拠し、 Qメータ法 (1 kHz)で評価し、 算出した。
• ピール強度は、 J I S C 648 1に準拠し、 常態; 20°C、 高温時; 1 5 0でについて、 以下の条件で測定した。 すなわち、 得られた F C C Lの銅パ夕一 ン幅が 3 mmとなるようにサンプルを切り出し、 引張試験器 (島津製作所 (株) 製" S— 1 00— C") により、 ピールテストスピード 50 mmXm i nで 90度 剥離の引張試験を行った。 n = 5の平均値による測定値である。
•実施例 1 0— 14及び比較例 8— 9中における物性の測定方法は次の通りで ある。
(a) 固有粘度
ポリアミ ド酸の固有粘度をォスワルド型粘度計で 30士 1でにて測定した。 固 有粘度が高いほど重合度が高く、 最終ポリイミドとしての機械特性等に優れる。 具体的には、 異なる溶液の濃度をいくつか求めて粘度/濃度を濃度に対してプロ ットし、 得られた直線を濃度ゼロに補外して求めた。
(b) ガラス転移温度
示差走査熱量計 (DS C 220, セイコー電子工業社製) を使用し、 昇温速度 1 O /m i n. の条件にて、 吸熱開始温度を測定した。 この吸熱開始温度をガ ラス転移温度とした。 ガラス転移温度が低いほど、 加工性に優れる。
(c) 碁盤目テープ試験
J I S K一 5400に準拠して実施した。 点数は 1 0点満点で、 点数が高い ほど密着性に優れる。
(d) 引張強度
J I S K- 7 1 72に準拠して実施した。数値が高いほど機械的強度に優れる。 •実施例 1 5— 27および比較例 10— 1 9の P C T処理物性測定は、 以下の ように行つた。
エレクトロニクス用材料の信頼性試験である PCT (P r e s s u r e Co o k e r Te s t ) 処理の条件は、 12 1°C、 湿度 1 00 %、 48時間、 とし た。 P CT処理後の引き剥がし強度の保持率は、 P CT処理前の引き剥がし強度を とし、 P CT処理後の引き剥がし強度を F2とし、 下記式:
PCT処理後の引き剥がし強度の保持率 (%) =F,÷F,X 1 00
により算出した。
-実施例 1 5— 2 1および比較例 1 0— 1 5における、 残揮発分は、 ガス · ク 口マトグラフィ一法により測定した。 測定条件は、 次の通りである。
(測定条件)
装置: ヒューレットパッカード (HP社) Chem Station
キャリアガス :ヘリウム
カラム : HP社 HP-ffax Bonded Polyethylene Glycol
キヤリァ流量: 45ffil/min
検出器: F I D
樹脂組成物の重量を W3とし、 ガス ·クロマトグラフィ一法により測定した残揮 発分相当重量を W4とし、 下記式:
残揮発分 (重量%) =W4÷W3X 1 00
により算出した。
-実施例 2 8— 30および比較例 2 0— 22のフィルム状積層部材の特性評価 は、 以下のように行った。
1. 残溶媒量 以下の手順で測定を行った。
①サンプルフィルムを熱分解装置に投入、 分解気化。
②分解されて発生したガスを GC-MSのカラムに送り込み測定開始。
③得られたピークエリアを検量線のピークエリアと比較し、 溶媒量を算出。
④サンプルとして分解したフィルムの重量と、 算出された溶媒の重量比から、 残 溶媒量を算出。
なお検量線の作成は以下の方法による。
①検出対象となる溶媒を GC-MSにインジェクションし、 ピークエリアを求める。
②溶媒のインジェクション量をいくつか変えて同様の測定を行い、 ピークエリァ を求める。 ③得られた結果を、 X軸:溶媒量、 y軸:ピークエリァのグラフにプロッ卜する。
④プロットを基に検量線を得る。
この検量線に、 フィルムを熱分解して GC-MSで測定して得られたピークエリァ を対応させれば、 フィルムに含まれる溶媒量が明らかになる。
なお測定装置と測定条件は以下の通りである。
熱分解装置: 日本分析工業 JHP-3
GC: ヒューレットパッカ一ド Hp5890-II
MS: ヒューレットパッカ一ド Hp5871A
-分解条件: 358 t: X 5秒
• カラム : DB-5キヤビラリカラム
•温度プロファイル : 35°C ( 5分) →昇温 ( 1 0°CZ分) → 1 50°C ( 1. 5 分)
•注入ロノ検出器: 250°CZ 280°C
-オーブン Zニードル温度: 200で Z 200°C
-スプリット比: 1/30
•サンプル量: 0. 5mg
2. 引剥強度 以下の手順で積層部材と銅箔を接着したときの引剥強度の測定 を つた。
フィルム状積層部材と 1 8 /mの電解銅箔とを重ね合わせ、 温度 200 °C、 圧 力 3MP aで 20分間加熱加圧し、 銅張フレキシブル積層板を得た。 得られた銅 張りフレキシブル積層板の引き剥し強度を、 J I S C 648 1に従って測定し た。 但し導体幅は 3 mmで測定した。
•実施例 35— 42、 比較例 29— 33中のガラス転移温度測定は、 以下のよ うに行った。
ガラス転移温度は、 DMA法に従って、 DMS 200 (日本電子工業) を用い、 動的粘弾性データよりガラス転移点を算出した。
(実施例 1 )
容量 500 m 1のガラス製フラスコに, ジメチルホルムアミ ド (以下、 DMF という。) 2 8 0 gに 3、 3 ' —ビス (ァミノフエノキシフエニル) プロパン (メ 夕型:以下、 BAP P—Mという。) 0. 1 48 7 mo 1 を仕込み窒素雰囲気下で 撹拌溶解する。 さらにフラスコ内を窒素置換雰囲気下、 溶液を氷水で冷却しつつ 撹拌し、 2, 2—ビス (4ーヒドロキシフエニル) プロパンジベンゾエー卜一 3, 3 ', 4, 4 ' —テトラカルボン酸二無水物 (以下、 E SDAという。) 0. 1 4 8 7 m 0 1 を粘度に注目しながら徐々に添加した。 粘度が 1 50 0 poise に達し たところで E S D Aの添加をやめポリアミ ド酸重合体溶液を得た。
容量 5 0 0 m 1のガラス製フラスコに, ジメチルホルムアミ ド (以下、 DMF という。) 2 8 0 gに 3、 3 ' 一ビス (ァミノフエノキシフエニル) プロパン (メ タ型:以下、 BAP P— Mという。) 0. 1 48 7mo 〖を仕込み窒素雰囲気下で 撹拌溶解する。 さらにフラスコ内を窒素置換雰囲気下、 溶液を氷水で冷却しつつ 撹拌し、 2 , 2—ビス (4ーヒドロキシフエニル) プロパンジベンゾェ一トー 3, 3 ', 4, 4 ' ーテトラカルボン酸二無水物 (以下、 E SDAという。) 0. 14 8 7mo 1を粘度に注目しながら徐々に添加した。 粘度が 1 500 p 0 i s eに 達したところで E S D Aの添加をやめポリアミ ド酸重合体溶液を得た。
このポリアミ ド酸溶液に、 DMF 1 50、 β—ピコリン 35 g、 無水酢酸 6 0 gを加え 1時間攪拌した後、さらに 1 00°C下で 1時間攪拌し、ィミ ド化させた。 その後、 高速で攪拌したメタノール中にこの溶液を少しずつ垂らした。 メタノ一 ル中に析出した糸状のポリイミ ドを 1 0 0°Cで 30分乾燥後、ミキサーで粉碎し、 メタノールでソックスレー洗浄を行い、 1 0 0°Cで 2時間乾燥させ、 ポリイミ ド 粉末を得た。
上記で得たポリイミ ド粉末を 2 0 g、 ビスフエノール A系のエポキシ樹脂; ェ ピコート 82 8 (油化シェル社製) を 5 g、 硬化促進剤として 2—ェチルー 4— メチルイミダゾール 0. 0 1 5 gを 8 3 gの DM Fに溶解した。 得られたワニス をガラス板上に流延し、 1 0 0°Cで 1 0分間乾燥後、 ガラス板より引き剥し、 鉄 枠に固定しさらに 1 5 0°Cで 2 0分乾燥し、 厚み 2 5 zmのシー卜を得た。 得ら れたシートをポリイミ ドフィルム (アビカル 5 0AH、 鐘淵化学工業社製) と厚 さ 2 5 mの銅箔で挟み込み、温度 2 0 0 °C、圧力 3 MP aで 20分加熱加圧し、 銅張フレキシブル積層板を得た。
(実施例 2 )
実施例 1で得たワニスをポリイミドフィルム (アビカル 5 0AH、 鐘淵化学ェ 業株式会社製) に塗布して、 1 0 0°Cで 1 0分、 さらに 1 5 0°Cで 2 0分加熱乾 燥させ厚み 2 5 mの接着剤層を形成した。 得られた接着剤層付き片面ポリイミ ドフィルムと 2 5 銅箔を温度 2 00 °C、 圧力 3 MP aで 2 0分間加熱し、 銅 張フレキシブル積層板を得た。
(実施例 3 )
実施例 1で得たポリイミ ド粉末 20 g、 ダリシジルアミン型エポキシ樹脂; T ETRAD-C (三菱瓦斯化学株式会社製) 5 gを 8 3 gの DMFに溶解した。 得られたワニスをガラス板上に流延し、 1 0 0°Cで 1 0分間乾燥後、 ガラス板よ り引き剥し、 鉄枠に固定しさらに 1 50°Cで 20分乾燥し、 厚み 2 5 mのシ一 卜を得た。 得られたシー卜をポリイミ ドフィルム (アビカル 50 AH、 鐘淵化学 工業株式会社製) と厚さ 2 5 の銅箔で挟み込み、 温度 2 00 °C、 圧力 3 MP aで 20分加熱加圧し、 銅張フレキシブル積層板を得た。
(実施例 4 )
ジアミン成分を 4、 4 ' 一 ( 1, 3—フエ二レンビス ( 1—メチルェチリデン)) ビスァニリン (パラ型) とする以外は、 実施例 1と同様にして、 ポリアミ ド酸重 合体溶液を得、 ポリイミ ド粉末を得た。
上記で得たポリイミ ド粉末を、 実施例 1と同様にして、 銅張フレキシブル積層 板を得た。
(実施例 5 )
ジァミン成分を 4、 4 ' —ビス (ァミノフエノキシフエニル) プロパン (パラ 型) とする以外は、 実施例 1と同様にして、 ポリアミ ド酸重合体溶液を得、 ポリ ィミド粉末を得た。
上記で得たポリイミ ド粉末を、 実施例 1と同様にして、 銅張フレキシブル積層 板を得た。
(実施例 6 ) ジァミン成分を 3、 3 ' —ビス (ァミノフエノキシフエニル) スルフォン (B AP S— M) とする以外は、 実施例 1と同様にして、 ポリアミ ド酸重合体溶液を 得、 ポリイミド粉末を得た。
上記で得たポリイミ ド粉末を、 実施例 1と同様にして、 銅張フレキシブル積層 板を得た。
(比較例 1)
容量 500 m 1のガラス製フラスコにジメチルホルムアミ ド (DMF) 2 8 0 gに 3、 3 ' —ビス (ァミノフエノキシフエニル) プロパン (以下、 BAP P- Mという) 0. 148 7mo I を仕込み窒素雰囲気下で撹拌溶解する。 さらに溶 液を氷水で冷やしつつ、 かつフラスコ内の雰囲気を窒素置換しながら撹拌しなが らベンゾフエノンテトラカルボン酸二無水物 (以下、 BTDAという) 0. 1 4 8 7 mo 1を粘度に注目しながら徐々に添加した。 粘度が 1 50 0 p 0 i s eに 達したところで BTDAの添加をやめポリアミド酸重合体溶液を得た。
このポリアミド酸溶液に DM F 1 50 g, 3—ピコリン 3 5 g、 無水酢酸 60 gを加え 1時間撹拌した後、さらに 1 0 0°C下で 1時間撹拌し、イミ ド化させた。 その後、 高速で撹拌したメタノール中にこの溶液を少しずつ垂らした。 メタノー ル中に析出した糸状のポリィミドを 1 0 0°Cで 30分乾燥後、ミキサーで粉砕し、 メタノールでソックスレー洗浄を行い、 1 0 0°Cで 2時間乾燥させ、 ポリイミ ド 粉末を得た。
上記で得たポリイミ ド粉末を 2 0 g、 ェピコート 82 8 (油化シェル社製) を 5 g、 2—ェチル— 4一メチルイミダゾ一ル 0. 0 1 5 gを 8 3 gの DMFに溶 解した。 得られたワニスをガラス板上に流延し、 1 0 0°Cで 1 0分間乾燥後、 ガ ラス板より引き剥し、 鉄枠に固定しさらに 1 50でで 2 0分乾燥し、 厚み 2 5 mのシートを得た。 得られたシートをポリイミ ドフィルム (アビカル 50 AH、 鐘淵化学工業社製) と 2 5 mの銅箔で挟み込み、 温度 20 0°C、 圧力 3 MP a で 2 0分加熱加圧し、 銅張フレキシブル積層板を得た。
(比較例 2)
実施例 1で得たポリイミ ド粉末 2 0 gを 8 3 gの DM Fに溶解した。 得られた ワニスをガラス板上に流延し、 1 0 0°Cで 1 0分間乾燥後、 ガラス板より引き剥 し、鉄枠に固定しさらに 1 50°Cで 2 0分乾燥し、厚み 2 5 mのシートを得た。 得られたシートをポリイミ ドフィルム (アビカル 50 AH、 鐘淵化学工業社製) と 2 5 //mの銅箔で挟み込み、温度 2 0 0 °C、圧力 3MP aで 2 0分加熱加圧し、 銅張フレキシブル積層板を得た。
(比較例 3)
ブラ夕ボンド M 1 2 7 6 (共重合ナイロン、 日本リルサン社製) を 1 0 g、 ェ ピコート 82 8 (油化シェル社製) を 2 0 g、 ジアミノジフエ二ルサルフォン 1 gを 8 3 gの DM Fに溶解した。得られたワニスをガラス板上に流延し、 1 0 0^ で 1 0分間乾燥後、 ガラス板より引き剥し、 鉄枠に固定しさらに 1 5 0°Cで 2 0 分乾燥し、 厚み 2 5 mのシートを得た。 得られたシートをポリイミ ドフィルム (アビカル 50 AH、 鐘淵化学工業社製) と 2 5 の銅箔で挟み込み、 温度 2 0 0°C、 圧力 3 MP aで 2 0分加熱加圧し、 銅張フレキシブル積層板を得た。 以上の各実施例 1一 6及び比較例 1一 3で得られたフレキシブル銅張積層板に ついて引き剥し強度、 半田耐熱性を評価した。 また、 各接着シートの吸水率も併 せて評価した。 その結果を表 1に示す。
表 1
Figure imgf000045_0001
(実施例 7 )
容量 5 00 m 1のガラス製フラスコに, ジメチルホルムアミ ド (以下、 DMF という。) 28 0 gに 3、 3 ' 一ビス (ァミノフエノキシフエニル) プロパン (メ 夕型:以下、 BAP P— Mという。) 0. 1 3 38モルおよび α, ω—ビス (3— ァミノプロピル) ポリジメチルシロキサン (AP P S) 0. 0 148 7モルを仕 込み窆素雰囲気下で撹拌溶解する。 さらに、 溶液を氷水で冷却しつつ、 かつフラ スコ内の雰囲気を窒素置換しながら、 2, 2—ビス (4ーヒドロキシフエニル) プロパンジベンゾェ一トー 3, 3 ', 4 , 4 ' ーテトラカルボン酸二無水物(以下、 E S DAという。) 0. 1 48 7 mo 1 を粘度に注目しながら徐々に添加しだ。 粘 度が 1 0 00 p o i s eに達したところで E S D Aの添加をやめポリアミ ド酸重 合体溶液を得た。
このポリアミ ド酸溶液に D M F 1 5 0 g、 3—ピコリン 3 5 g、 無水酢酸 6 0 gを加え 1時間撹拌した後、さらに 1 0 0で下で 1時間撹拌し、イミ ド化させた。 その後、 高速で撹拌したメタノール中にこの溶液を少しずつ垂らした。 メタノー ル中に析出した糸状のポリイミ ドを 1 00°Cで 30分乾燥後、ミキサーで粉枠し、 メタノールでソックスレー洗浄を行い、 1 0 0°Cで 2時間乾燥させ、 ポリイミ ド 粉末を得た。
このようにして得られたポリイミ ド粉末を 2 0 g、 ビスフエノール A系ポキシ 樹脂であるェピコ一ト 8 2 8 (油化シェル社製) を 5 g、 2—ェチル—4—メチ ルイミダゾール 0. 0 1 5 gを 8 3 gのテトラヒドロフラン (以下、 THFとい う) に溶解して混合し、 ワニスを得た。 得られたワニスをガラス板上に流延し、 1 00°Cで 1 0分間乾燥後、ガラス板より引き剥し、鉄枠に固定しさらに 1 50 で 20分乾燥し、 厚み 2 5 mのシートを得た。 得られたシートをポリイミ ドフ イルム (アビカル 50AH、 鐘淵化学工業社製) と 2 5 zmの銅箔で挟み込み、 温度 200°C、 圧力 3MP aで 2 0分加熱加圧し、 銅張フレキシブル積層板を得 た。
(実施例 8 )
実施例 7で得たワニスを、 ポリイミ ドフィルム (アビカル 50AH、 鐘淵化学 工業社製) 上に塗布して、 1 0 Ot:で 1 0分、 さらに 1 50°Cで 2 0分加熱乾燥 させ厚み 2 5 zmの接着剤層を形成した。 得られた接着剤層付き片面ポリイミ ド フィルムと 2 5 m銅箔を温度 200 °C、 圧力 3MP aで 2 0分間加熱し、 銅張 フレキシブル積層板を得た。
(実施例 9 )
実施例 7で得たポリイミ ド粉末 20 gおよびグリシジルァミン型エポキシ樹脂 の TETRAD— C (三菱瓦斯化学社製) 5 gを 8 3 gの TH Fに溶解してヮニ スを得た。 得られたワニスをガラス板上に流延し、 1 0 0°Cで 1 0分間乾燥後、 ガラス板より引き剥し、 鉄枠に固定しさらに 1 5 0°Cで 2 0分乾燥し、 厚み 2 5 mのシートを得た。得られたシ一トをポリイミ ドフィルム(アビカル 5 0 AH、 鐘淵化学工業社製) と 2 5 の銅箔で挟み込み、 温度 2 0 0 °C、 圧力 3 MP a で 20分加熱加圧し、 銅張フレキシブル積層板を得た。 (比較例 4)
容量 50 0 m 1のガラス製フラスコにジメチルホルムアミ ド (DMF) 2 8 0 gに BAP P— MO. 1 48 7 mo 1 を仕込み、 窒素雰囲気下で撹拌溶解した。 さらに溶液を氷水で冷やしつつ、 かつフラスコ内の雰囲気を窒素置換しながら撹 拌し、 ベンゾフエノンテトラカルボン酸二無水物 (以下、 BTDAという) 0. 1 48 7mo 1 を粘度に注目しながら徐々に添加した。 粘度が 1 000 p o i s eに達したところで BTDAの添加をやめポリアミ ド酸重合体溶液を得た。
このポリアミ ド酸溶液に DM F 1 50 g , jS—ピコリン 3 5 g、 無水酢酸 6 0 gを加え 1時間撹拌した後、さらに 1 00°C下で 1時間撹拌し、イミ ド化させた。 その後、 高速で撹拌したメタノール中にこの溶液を少しずつ垂らした。 メタノー ル中に析出した糸状のポリイミ ドを 1 00でで 3 0分乾燥後、ミキサーで粉砕し、 メタノールでソックスレー洗浄を行い、 1 0 0でで 2時間乾燥させ、 ポリイミド 粉末を得た。
このようにして得られたポリイミド粉末を 2 0 g、 ェピコート 82 8 (油化シ エル社製) を 5 g、 2—ェチルー 4一メチルイミダゾ一ル 0 · 0 1 58を 8 38 の THFに溶解してワニスを得た。 得られたワニスをガラス板上に流延し、 1 0 0°Cで 1 0分間乾燥後、 ガラス板より引き剥し、 鉄枠に固定しさらに 1 5 0^で 2 0分乾燥し、 厚み 2 5 mのシートを得た。 得られたシートをポリイミ ドフィ ルム (アビカル 5 0AH、 鐘淵化学工業社製) と 2 5 / mの銅箔で挟み込み、 温 度 2 0 0 °C、圧力 3MF aで 2 0分加熱加圧し、銅張フレキシブル積層板を得た。 (比較例 5 )
容量 50 Om 1のガラス製フラスコにジメチルホルムアミ ド (DMF) 2 8 0 gに 3、 3 ' 一ビス (ァミノフエノキシフエニル) プロパン (以下、 BAP P— Mという) 0. 1 48 7 mo 1 を仕込み窒素雰囲気下で撹拌溶解する。 さらに溶 液を氷水で冷やしつつ、 かつフラスコ内の雰囲気を窒素置換しながら攪拌しなが らに, ピロメリット酸二無水物 0. 1 48 7 mo 1 を粘度に注目しながら徐々に 添加した。 粘度が 1 00 0 p 0 i s eに達したところでピロメリット酸二無水物 の添加をやめポリアミ ド酸重合体溶液を得た。 このポリアミ ド酸溶液に DM F 1 5 0 g、 3—ピコリン 3 5 g、 無水酢酸 6 0 gを加え 1時間撹拌した後、さらに 1 0 0°C下で 1時間撹拌し、イミ ド化させた。 その後、 高速で撹拌したメタノール中にこの溶液を少しずつ垂らした。 メタノー ル中に析出した糸状のポリイミ ドを 1 0 0°Cで 30分乾燥後、ミキサーで粉砕し、 メタノールでソックスレー洗浄を行い、 1 0 0°Cで 2時間乾燥させ、 ポリイミ ド 粉末を得た。
上記で得たポリイミ ド粉末 2 0 gを THF 8 3 gに溶解させようと試みたとこ ろ、 沈澱してしまい溶解させることができなかった。
(比較例 6 )
実施例 7で得たポリイミ ド粉末 2 0 gを 8 3 gの THFに溶解してワニスを得 た。 得られたワニスをガラス板上に流延し、 1 00でで 1 0分間乾燥後、 ガラス 板より引き剥し、 鉄枠に固定しさらに 1 50°Cで 20分乾燥し、 厚み 2 5 mの シートを得た。 得られたシートをポリイミ ドフィルム (アビカル 50 AH、 鐘淵 化学工業社製) と 25 の銅箔で挟み込み、 温度 2 00で、 圧力 3MP aで 2 0分加熱加圧し、 銅張フレキシブル積層板を得た。
(比較例 7 )
プラタボンド M 12 7 6 (共重合ナイロン、 日本リルサン社製) を 1 0 g、 ェ ピコート 828 (油化シェル社製) を 2 0 g、 ジアミノジフエ二ルサルフォンを 1 gを 8 3 gの DM Fに溶解してワニスを得た。 得られたワニスをガラス板上に 流延し、 1 0 0°Cで 1 0分間乾燥後、 ガラス板より引き剥し、 鉄枠に固定しさら に 1 50°Cで 2 0分乾燥し、 厚み 2 5 mのシートを得た。 得られたシートをポ リイミ ドフィルム (アビカル 50AH、 鐘淵化学工業社製) と 2 5 の銅箔で 挟み込み、 温度 2 00 °C、 圧力 3MP aで 2 0分加熱加圧し、 銅張フレキシブル 積層板を得た。
以上の各実施例 7一 9及び比較例 4一 7で得られたフレキシブル銅張積層板に ついて引き剥し強度、 半田耐熱性を評価した。 また、 各接着シートの吸水率も併 せて評価した。 その結果を表 2に示す。 表 2
Figure imgf000049_0001
(実施例 1 0 )
還流管を備えた容量 5 0 0 m lのガラス製フラスコに無水酢酸 30 0 g、 テト ラカルボン酸二無水物(E SDA)の粗物 50 gを加え、窒素雰囲気下、 1 2 Ot: で約 1時間加熱攪拌した後、 温度を下げ、 再結晶させた E S DAを濾別し、 1 2 0°C、 24時間真空乾燥させ、 不純物 1 %以下の E S D Aを得た。
温度計、 撹拌機及び塩化カルシウム管を備えた 500 m lの四つ口フラスコに 2 0. 0 g ( 1 00 mm o 1 ) の 4, 4 ' ージアミノジフエニルエーテル (DD E) 及びジメチルホルムアミ ド (DMF) 244 gをとり、 撹拌した。 ジァミン 溶解後、 2 5 にて、 残留不純物含量 0. 3重量%の 2, 2—ビス (4ーヒドロ キシフエニル) プロパンジベンゾエー卜一 3, 3 ' , 4, 4' —テトラカルボン 酸二無水物 (E SDA) を 5 7. 7 g (E S DA純分で 1 0 0 mmo 1 ) 投入し、 3時間撹拌反応し、ポリアミ ド酸溶液を得た。このポリアミ ド酸の固有粘度は 1. 1であった。
このポリアミ ド酸溶液を P E Tフィルム上に流延塗布し、 8 0°Cで 3 0分間加 熱して P ETフィルムを剥がした後、 1 50°C、 2 0 0 °C及び 2 5 0 °Cで各 3 0 分間加熱後、 最終的に 3 0 0 °Cで 1 0分間加熱して 2 5 の強靱なポリイミ ド フィルムを得た。 I R測定にて 1 7 8 0 c m_ 1:こイミ ド基による吸収を有するこ とを確認した。 更に、 ポリイミ ドフィルムのガラス転移温度は 2 2 5 °Cであり、 引張強度は 1 5. 3 k g7cm2であった。
また、 このポリアミ ド酸溶液をアルミ板( J I S H400 0 A 1 0 5 0 P ) 及び軟質ソーダガラス板上にドクターナイフでキャストし、 ファインオーブン中 8 0° 1 δ 0 °C > 2 0 0 °C及び 2 50 °Cで各 3 0分加熱後、 最終的に 3 0 0 °C で 1 0分間加熱を行い 2 0〜 2 5 のポリィミ ド被膜を得て、 碁盤目テープ試 験を行ったところ、 アルミ、 ガラス板上の被膜とも 1 0点であった。
(実施例 1 1 )
残留不純物含量 0. 3重量%の£ S D Aと DDEの添加順序を逆にした以外は 実施例 1 0と同様の操作により、 固有粘度 1. 1のポリアミ ド酸を得た。 更に実 施例 1 0と同様の方法によりポリィミ ドフィルム及びポリィミ ド皮膜を得た。 こ のポリイミ ド樹脂は、 I R測定にて 1 7 8 0 cm— 1 にイミ ド基による吸収を有す ることを確認した。 更に、 ポリイミ ドフィルムのガラス転移温度は 2 2 5でであ り、 引張強度は 1 5. 2 k g/ cm2であった。 一方、 ポリイミ ド皮膜の碁盤目 テープ試験はアルミ、 ガラス板ともに 1 0点であった。
(実施例 12 )
ジァミンを DDEのかわりに 4, 4 ' —ジアミノジフエニルメタン (DAM) 1 9. 8 g ( 1 0 Ommo 1 ) とした他は実施例 1 0と同様の操作を行い、 固有 粘度 1. 0のポリアミ ド酸溶液を得た。 更に、 実施例 1 0と同様の方法により、 強靱なポリイミ ドフィルム及びポリイミ ド皮膜を得た。 このポリイミ ド樹脂は I R測定にて 1 7 8 0 cm—1にイミ ド基による吸収を有することを確認した。更に、 ポリイミ ドフィルムのガラス転移温度は 2 2 0 °Cであり、 引張強度は 1 5. 2 k gZcm2であった。 一方、 ポリイミ ド皮膜の碁盤目テープ試験はアルミ、 ガラ ス板ともに 1 0点であった。
(実施例 1 3)
ジァミンを D D Eのかわりに 2, 2—ビス [4一 (4一アミノフエノキシ) フ ェニル] プロパン (BAP P) とした他は実施例 1 0と同様の操作を行い、 固有 粘度 1. 0のポリアミ ド酸溶液を得た。 更に、 実施例 1 0と同様の方法により、 強靱なポリイミ ドフィルム及びポリイミ ド皮膜を得た。 このポリイミ ドは I R測 定にて 1 7 8 0 cm— 1にイミ ド基による吸収を有することを確認した。 更に、 ポ リイミ ドフィルムのガラス転移温度は 2 0 5°Cであり、 引張強度は 1 4. 5 k g / cm2であった。 一方、 ポリイミ ド皮膜の碁盤目テープ試験はアルミ、 ガラス 板ともに 1 0点であった。
(実施例 14)
酸成分として残留不純物含有量 1. 0重量%の5 0- 5 7. 7 g (E SDA 純分で l O Ommo l ) を使用した他は実施例 1 0と同様の操作を行い、 固有粘 度 0. 8のポリアミ ド酸溶液を得た。 更に、 実施例 1 0と同様の方法により、 強 靱なポリイミ ドフィルム及びポリイミ ド皮膜を得た。 本イミ ドは I R測定にて 1 7 80 cm— 1にイミ ド基による吸収を有することを確認した。 更に、 ポリイミ ド フィルムのガラス転移温度は 2 1 5 であり、 引張強度は 1 2. 5 k g/cm2 であった。 一方、 ポリイミド皮膜の碁盤目テープ試験はアルミ、 ガラス板ともに 1 0点であった。
(比較例 8 )
酸成分として化合物 (1 ) 含有量 1. 5重量%の E SDA 57. 7 g (E SD A純分で 1 0 Omm o 1 )を使用したとした他は実施例 1 0と同様の操作を行い、 固有粘度 0. 24のポリアミ ド酸溶液を得た。 更に、 実施例 1 0と同様の方法に より、 ポリイミ ドフィルム及びポリイミ ド皮膜を得た。 本イミドは I R測定にて 1 78 0 cm— 1にイミ ド基による吸収を有することを確認した。 フィルムは自己 支持性がなく、 非常に脆いものであった。 従って、 引張強度の測定は不能であつ た。 碁盤目試験は 2点であった。
(比較例 9)
酸成分として化合物 (2 ) 含有量 1. 5重量%の£ 50 5 7. 7 g (E SD A純分で 1 0 Omm o 1 )を使用したとした他は実施例 1 0と同様の操作を行い、 固有粘度 0. 2 8のポリアミ ド酸溶液を得た。 更に、 実施例 1 0と同様の方法に より、 ポリイミ ドフィルム及びポリイミ ド皮膜を得た。 本イミドは I R測定にて 1 7 8 0 cm—1にイミ ド基による吸収を有することを確認した。 フィルムは自己 支持性がなく、 非常に脆いものであった。 従って、 引張強度の測定は不能であつ た。 碁盤目試験は、 3点であった。
(実施例 1 5)
容量 5 00 m 1のガラス製フラスコに、 ジメチルホルムアミド (以下、 DMF という。 ) 2 8 0 gに 3, 3 ' —ビス (ァミノフエノキシフエニル) プロパン ( メタ型:以下、 BAPP— Mという。 ) 0. 148 7mo lを仕込み、 窒素雰囲 気下で撹拌溶解した。 さらにフラスコ内を窒素置換雰囲気下、 溶液を氷水で冷却 しつつ撹拌し、 2, 2—ビス (4—ヒドロキシフエニル) プロパンジベンゾェ一 トー 3, 3 ' , 4, 4 ' ーテ卜ラカルボン酸二無水物 (以下、 E SDAという。
) 0. 1 487 mo 1を粘度に注目しながら徐々に添加した。 粘度が 1 50 0 p o i s eに達したところで E S DAの添加をやめポリアミ ド酸重合体溶液を得た。 このポリアミ ド酸溶液に、 DMF 1 50 g、 3—ピコリン 35 g、 無水酢酸 6 0 gを加え 1時間撹拌した後、 さらに 1 0 0°C下で 1時間撹拌し、 イミ ド化させ た。 その後、 高速で撹拌したメタノール中にこの溶液を少しずつ垂らした。 メタ ノール中に析出した糸状のポリイミドを 1 0 0°Cで 30分乾燥後、 ミキサーで粉 枠し、 メタノールでソックスレ一洗浄を行い、 1 00でで 2時間乾燥させ、 ポリ ィミド粉末を得た。
上記で得たポリイミド粉末を 20 g、 ビスフエノール A系のエポキシ樹脂 (ェ ピコ一卜 8 28 :油化シェル社製) を 5 g、 および硬化促進剤として 2—ェチル 一 4ーメチルイミダゾール 0. 0 1 5 gをジォキサンと THFの重量比で 1 : 1 の混合溶媒 8 3 gに溶解した。 得られたワニスをガラス板上に流延し、 1 0 0°C で 1 0分間乾燥後、 ガラス板より引き剥し、 鉄枠に固定しさらに 1 50°Cで 2 0 分乾燥し、 厚み 2 5 /zmのシートを得た。 得られたシートをポリイミ ドフィルム
(アビカル 50 AH、 鐘淵化学工業社製) と厚さ 2 5 mの銅箔とで挟み込み、 温度 2 0 0°C、 圧力 3MP aで 20分加熱加圧し、 銅張フレキシブル積層板を得 た。
(実施例 1 6 )
実施例 1 5で得たワニスをポリイミ ドフィルム (アビカル 50AH、 鐘淵化学 工業株式会社製) に塗布して、 1 00°Cで 1 0分、 さらに 1 5 0°Cで 20分加熱 乾燥させて厚み 2 5 の接着剤層を形成した。 得られた接着剤層付き片面ポリ イミ ドフィルムと 2 5 m銅箔を温度 2 0 0 °C、圧力 3MP aで 2 ◦分間加熱し、 銅張フレキシブル積層板を得た。
(実施例 1 7)
実施例 1 5で得たポリイミ ド粉末 20 g、 ダリシジルァミン型エポキシ樹脂; TETRAD— C (三菱瓦斯化学株式会社製) 5 gをジォキサンと THFの重 量比で 1 : 1の混合溶媒 8 3 gに溶解した。 得られたワニスをガラス板上に流延 し、 1 00°Cで 1 0分間乾燥後、 ガラス板より引き剥し、 鉄枠に固定しさらに 1 5 0でで 20分乾燥し、 厚み 2 5 /zmのシートを得た。 得られたシートをポリイ ミ ドフィルム (アビカル 50AH, 鐘淵化学工業株式会社製) と厚さ 2 5 mの 銅箔とで挟み込み、 温度 200°C、 圧力 3MP aで 2 0分加熱加圧し、 銅張フレ キシブル積層板を得た。
(実施例 1 8 )
ジァミン成分を 4、 4 ' 一 (1, 3—フエ二レンビス ( 1ーメチルェチリデン ) ) ビスァニリン (パラ型) とした以外は、 実施例 1 5と同様にして、 ポリアミ ド酸重合体溶液を得、 ポリイミド粉末を得た。 上記で得たポリイミド粉末を、 実 施例 1 5と同様にして、 銅張フレキシブル積層板を得た。
(実施例 1 9 )
ジァミン成分を 4、 4 ' 一ビス (ァミノフエノキシフエニル) プロパン (パラ 型) とした以外は、 実施例 1 5と同様にして、 ポリアミ ド酸重合体溶液を得、 ポ リイミド粉末を得た。 上記で得たポリイミ ド粉末を、 実施例 1 5と同様にして、 銅張フレキシブル積層板を得た。
(実施例 20 )
ジァミン成分を 3, 3 ' —ビス (ァミノフニノキシフエニル) スルフォン (B AP S— M) とした以外は、 実施例 1 5と同様にして、 ポリアミ ド酸重合体溶液 を得、 ポリイミ ド粉末を得た。 上記で得たポリイミ ド粉末を、 実施例 1 5と同様 にして、 銅張フレキシブル積層板を得た。 (実施例 2 1 )
実施例 1 5において得られたポリイミド粉末、 ビスフエノール A系のエポキシ 樹脂 (ェピコート 828 ) 、 および硬化促進剤として 2—ェチルー 4—メチルイ ミダゾールを DM Fに溶解した点で異なる以外は、 実施例 1 5と同様の方法で、 銅張フレキシブル積層板を得た。
(比較例 1 0 )
容量 50 Om 1のガラス製フラスコに、 ジメチルホルムアミ ド (DMF) 2 8 O gに 3, 3 ' —ビス (ァミノフエノキシフエニル) プロパン (以下、 BAP P — Mという) 0. 148 7 mo 1を仕込み窒素雰囲気下で撹拌溶解した。 さらに 溶液を氷水で冷やしつつ、 かつフラスコ内の雰囲気を窒素置換しながら撹拌しな がらべンゾフエノンテトラカルボン酸二無水物 (以下、 BTDAという) 0. 1 4 8 7 mo 1を粘度に注目しながら徐々に添加した。 粘度が 1 5 00 p o i s e に達したところで BTDAの添加をやめて、 ポリアミ ド酸重合体溶液を得た。 このポリアミ ド酸溶液に DM F 1 50 g、 3—ピコリン 35 g、 無水酢酸 60 gを加え 1時間撹拌した後、さらに 1 0 0で下で 1時間撹拌し、イミド化させた。 その後、 高速で撹拌したメタノール中にこの溶液を少しずつ垂らした。 メタノー ル中に析出した糸状のポリイミ ドを 1 00でで 3 0分乾燥後、ミキサーで粉砕し、 メタノールでソックスレ一洗浄を行い、 1 ◦ 0°Cで 2時間乾燥させ、 ポリイミ ド 粉末を得た。
上記で得たポリイミド粉末を 2 0 g、 ェピコート 82 8 (油化シェル社製) を 5 g、 2—ェチルー 4ーメチルイミダゾール 0. 0 1 5 gを 8 3 gの DMFに溶 解した。 得られたワニスをガラス板上に流延し、 1 00°Cで 1 0分間乾燥後、 ガ ラス板より引き剥し、 鉄枠に固定しさらに 1 50°Cで 2 0分乾燥し、 厚み 2 5 mのシートを得た。 得られたシートをポリイミ ドフィルム (アビカル 50AH、 鐘淵化学工業社製) と 2 5 mの銅箔とで挟み込み、 温度 20 0 °C、 圧力 3 MP aで 20分加熱加圧し、 銅張フレキシブル積層板を得た。
(比較例 1 1 )
比較例 1 0で得たポリイミ ド粉末をジォキサンと THFの重量比で 1 : 1の混 合溶媒に溶解した点で異なる以外は、 比較例 10と同様の方法で、 銅張フレキシ ブル積層板を得た。
(比較例 12)
実施例 1 5で得たポリイミ ド粉末 20 gを 83 gの DMFに溶解した。 得られ たワニスをガラス板上に流延し、 1 00°Cで 1 0分間乾燥後、 ガラス板より引き 剥し、鉄枠に固定しさらに 1 50°Cで 20分乾燥し厚み 2 5 zmのシートを得た。 得られたシートをポリイミ ドフィルム (アビカル 50AH、 鐘淵化学工業社製) と 25 mの銅箔とで挟み込み、 温度 200°C、 圧力 3MP aで 20分加熱加圧 し、 銅張フレキシブル積層板を得た。
(比較例 13)
比較例 12において、 実施例 1 5で得たポリイミ ド粉末をジォキサンと THF の重量比で 1 : 1の混合溶媒に溶解した点で異なる以外は、 比較例 12と同様の 方法で、 銅張フレキシブル積層板を得た。
(比較例 14 )
プラタポンド M1276 (共重合ナイロン、 日本リルサン社製) を 1 0 g、 ェ ピコート 828 (油化シェル社製) を 20 g、 ジアミノジフエ二ルサルフォン 1 gを 83 gの DMFに溶解した。 得られたワニスをガラス板上に流延し、 100 °Cで 1 0分間乾燥後、 ガラス板より引き剥し、 鉄枠に固定しさらに 1 50でで 2 0分乾燥し、 厚み 25 rnのシートを得た。 得られたシートをポリイミ ドフィル ム (アビカル 50AH、 鐘淵化学工業社製) と 25 imの銅箔とで挟み込み、 温 度 200 °C、圧力 3MP aで 20分加熱加圧し、銅張フレキシブル積層板を得た。
(比較例 1 5 )
比較例 14において、 プラタボンド M1 276、 ェピコート 828、 およびジ アミノジフエ二ルサルフォンをジォキサンと THFの重量比で 1 : 1の混合溶媒 に溶解した点で異なる以外は、 比較例 5と同様の方法で、 銅張フレキシブル積層 板を得た。
以上の各実施例 1 5— 2 1および比較例 1 0— 1 5で得られた樹脂組成物につ いて吸水率、 残揮発分を、 フレキシブル銅張積層板について引き剥し強度、 半田 耐熱性を評価した- また、 各接着シートの吸水率も併せて評価した。 その結果を 表 3に示す。
【表 3】
Figure imgf000056_0001
(実施例 22)
容量 500 m 1のガラス製フラスコに、 ジメチルホルムアミ ド (以下、 DMF という。 ) 280 gに 3, 3 ' —ビス (ァミノフエノキシフエニル) プロパン ( メタ型:以下、 BAPP— Mという。 ) 0. 1487mo lを仕込み、 窒素雰囲 気下で撹拌溶解した。 さらにフラスコ内を窒素置換雰囲気下、 溶液を氷水で冷却 しつつ撹拌し、 2, 2—ビス (4ーヒドロキシフエニル) プロパンジベンゾエー トー 3, 3 ' , 4, 4 ' ーテトラカルボン酸二無水物 (以下、 E SDAという。
) 0. 141 6mo 1を粘度に注目しながら徐々に添加した。 粘度が 1 500 p o i s eに達したところで E S DAの添加をやめポリアミ ド酸 · オリゴマー溶液 を得た。
このポリアミ ド酸 'オリゴマー溶液に、 DMF 1 50 g、 3—ピコリン 3 5 g、 無水酢酸 60 gを加え 1時間撹拌した後、 さらに 1 00°C下で 1時間撹拌し、 ィ ミ ド化させた。 その後、 高速で撹拌したメタノール中にこの溶液を少しずつ垂ら した。 メタノール中に析出した糸状のポリイミドを 1 00でで 30分乾燥後、 ミ キサ一で粉碎し、 メタノールでソックスレー洗浄を行い、 1 00°Cで 2時間乾燥 させ、 ボリイミ ド ·オリゴマー粉末 (分子量 30000 ) を得た。
上記で得たポリイミド ·オリゴマー粉末を 20 g、 ビスフエノール A系のェポ キシ樹脂 (ェピコ一卜 8 2 8 :油化シェル社製) を 5 g、 および硬化促進剤とし て 2—ェチルー 4ーメチルイミダゾール 0. 0 1 5 gを 8 3 gの DM Fに溶解し た。 得られたワニスをガラス板上に流延し、 1 00°Cで 1 0分間乾燥後、 ガラス 板より引き剥し、 鉄枠に固定しさらに 1 50 で 20分乾燥し、 厚み 2 5 /mの シートを得た。 得られたシートをポリイミドフィルム (アビカル 50AH、 鐘淵 化学工業社製) と厚さ 2 5 xmの銅箔とで挟み込み、 温度 2 00 °C、 圧力 3 MP aで 2 0分加熱加圧し、 銅張フレキシブル積層板を得た。
(実施例 23)
実施例 22で得たワニスをポリイミ ドフィルム (アビカル 50AH、 鐘淵化学 工業株式会社製) に塗布して、 1 0 0°Cで 1 0分、 さらに 1 50°Cで 2 0分加熱 乾燥させて厚み 2 5 mの接着剤層を形成した。 得られた接着剤層付き片面ポリ
00 イミ ドフィルムと 2 5 m銅箔を温度 2 0 0で、圧力 3 MP aで 2◦分間加熱し. 銅張フレキシブル積層板を得た。
(実施例 24)
実施例 22で得たポリイミ ド 'オリゴマー粉末 2 0 g、 ダリシジルアミン型ェ ボキシ樹脂; TETRAD— C (三菱瓦斯化学株式会社製) 5 gを 8 3 gの D MFに溶解した。 得られたワニスをガラス板上に流延し、 1 00°Cで 1 0分間乾 燥後、 ガラス板より引き剥し、 鉄枠に固定しさらに 1 50°Cで 2 0分乾燥し、 厚 み 2 5 /mのシートを得た。 得られたシートをポリイミ ドフィルム (アビカル 5 0 AH、 鐘淵化学工業株式会社製) と厚さ 2 5 の銅箔とで挟み込み、 温度 2 0 O , 圧力 3 MP aで 20分加熱加圧し、 銅張フレキシブル積層板を得た。 (実施例 2 5 )
ジァミン成分を 4、 4 ' 一 (1, 3—フエ二レンビス ( 1ーメチルェチリデン ) ) ビスァニリン (パラ型) とした以外は、 実施例 22と同様にして、 ポリアミ ド酸 ·オリゴマ一溶液を得、 ポリイミド 'オリゴマー粉末 (分子量 40000) を得た。
上記で得たボリイミド ·オリゴマー粉末を、 実施例 22と同様にして、 銅張フ レキシブル積層板を得た。
(実施例 26 )
ジァミン成分を 4、 4 ' 一ビス (ァミノフエノキシフエニル) プロパン (パラ 型) とした以外は、 実施例 22と同様にして、 ポリアミ ド酸 ·オリゴマー溶液を 得、 ポリイミド 'オリゴマー粉末 (分子量 2 0000 ) を得た。
上記で得たポリイミ ド 'オリゴマー粉末を、 実施例 22と同様にして、 銅張フ レキシブル積層板を得た。
(実施例 2 7 )
ジァミン成分を 3, 3 ' —ビス (ァミノフエノキシフエニル) スルフォン (B AP S— M) とした以外は、 実施例 22と同様にして、 ポリアミ ド酸 'オリゴマ 一溶液を得、 ポリイミ ド ·オリゴマー粉末 (分子量 1 0 0 0 0 ) を得た。
上記で得たポリイミ ド ·オリゴマー粉末を、 実施例 2 2と同様にして、 銅張フ レキシブル積層板を得た。
(比較例 1 6)
容量 500m 1のガラス製フラスコに、 ジメチルホルムアミ ド (DMF) 2 8 O gに 3, 3 ' —ビス (ァミノフエノキシフエニル) プロパン (以下、 BAPP 一 Mという) 0. 148 7 mo lを仕込み、 窒素雰囲気下で撹拌溶解した。 さら に溶液を氷水で冷やしつつ、 かつフラスコ内の雰囲気を窒素置換しながら撹拌し ながらべンゾフエノンテトラカルボン酸二無水物 (以下、 BTDAという) 0. 1 4 1 6mo 1 を粘度に注目しながら徐々に添加した。 粘度が 1 50 0 p o i s eに達したところで BTDAの添加をやめポリアミ ド酸'オリゴマー溶液を得た ( このポリアミ ド酸 ·オリゴマ一溶液に DM F 1 50 g、 3—ピコリン 3 5 g、 無水酢酸 60 gを加え 1時間撹拌した後、 さらに 1 00 下で 1時間撹拌し、 ィ ミ ド化させた。 その後、 高速で撹拌したメタノール中にこの溶液を少しずつ垂ら した。 メタノール中に析出した糸状のポリイミド 'オリゴマーを 1 00でで 30 分乾燥後、 ミキサーで粉枠し、 メタノールでソックスレー洗浄を行い、 1 00 で 2時間乾燥させ、 ポリイミ ド粉末 (分子量 30000 ) を得た。
上記で得たポリイミ ド 'オリゴマー粉末を 20 g、 ェピコート 828 (油化シ エル社製) を 5 g、 2—ェチルー 4一メチルイミダゾ一ル 0. 0 1 5 ^を8 38 の DMFに溶解した。 得られたワニスをガラス板上に流延し、 1 00°Cで 1 0分 間乾燥後、ガラス板より引き剥し、鉄枠に固定しさらに 1 5 0でで 2 0分乾燥し、 厚み 2 5 mのシートを得た。 得られたシートをポリイミドフィルム (アビカル 5 0AH、 鐘淵化学工業社製) と 2 5 の銅箔とで挟み込み、 温度 2 00 °C、 圧力 3 MP aで 2 0分加熱加圧し、 銅張フレキシブル積層板を得た。
(比較例 1 7)
実施例 22で得たポリイミ ド 'オリゴマー粉末 2 0 gを 8 3 gの DM Fに溶解 した。 得られたワニスをガラス板上に流延し、 1 00°Cで 1 0分間乾燥後、 ガラ ス板より引き剥し、 鉄枠に固定しさらに 1 50°Cで 20分乾燥し厚み 2 5 の シートを得た。 得られたシートをポリイミ ドフィルム (アビカル 50AH、 鐘淵 化学工業社製) と 25 の銅箔とで挟み込み、 温度 200 °C、 圧力 3 MP aで 2 0分加熱加圧し、 銅張フレキシブル積層板を得た。
(比較例 1 8)
ブラ夕ボンド M l 2 76 (共重合ナイロン、 日本リルサン社製) を 1 0 g、 ェ ピコート 828 (油化シェル社製) を 2 0 g、 ジアミノジフエ二ルサルフォン 1 gを 8 3 gの DMFに溶解した。 得られたワニスをガラス板上に流延し、 1 0 0 でで 1 0分間乾燥後、 ガラス板より引き剥し、 鉄枠に固定しさらに 1 50°Cで 2 0分乾燥し、 厚み 2 5 mのシートを得た。 得られたシートをポリイミ ドフィル ム (アビカル 50AH、 鐘淵化学工業社製) と 2 5 imの銅箔とで挟み込み、 温 度 2 0 Ot:、圧力 3MP aで 2 0分加熱加圧し、銅張フレキシブル積層板を得た。 (比較例 1 9)
実施例 22において、 BAP P— MO. 148 7mo l に対して、 等モルの E S DA 0. 148 7 mo 1を粘度に注目しながら徐々に添加して、 ポリイミドボ リマー粉末 (分子量 1 00000 ) を得た点で異なる以外は、 実施例 22と同様 の方法で、 銅張フレキシブル積層板を得た。
以上の各実施例 22 - 2 7および比較例 1 6— 1 9で得られたフレキシブル銅 張積層板について引き剥し強度、 半田耐熱性を評価した。 また、 各接着シートの 吸水率も併せて評価した。 その結果を表 4に示す。
【表 4】
ピール強度(kgfZcm) ピール強度(kgfZcm) PCT処理後の 半田耐熱性 吸水率
(PCT処理前) (PCT処理後) ピール強度保持率(%)
20°C 150°C 20°C 150。C 20°C 150°C (%) 実施例 22 1.3 1.1 1.2 0.9 92 82 〇 0.4 実施例 23 1.3 1.1 1.2 0.9 92 82 〇 0.3 実施例 24 1.5 1.2 1.4 1.0 93 83 〇 0.6 実施例 25 1.4 1.2 1.3 1.0 93 83 〇 0.6O
実施例 26 1.3 1.1 1.2 1.0 92 91 O 0.6 実施例 27 1.3 1.1 1.2 1.0 92 91 〇 0.8 比較例 16 1.1 0.9 0.2 0.1 18 11 1.8 比較例 17 0.3 0.2 0.0 0.0 0 0 〇 0.4 比較例 18 1.3 0.2 0.2 0.0 15 0 o 0.4 比較例 19 1.0 0.8 0.5 0.4 50 50 〇 0.5
(実施例 28 )
容量 1 00 0 m lのガラス製フラスコにジメチルホルムアミド (以下、 DMF という) 2 6 3 gに 3, 3 ' —ビス (ァミノフエノキシフエニル) スルフォン (以 下、 BAP S— Mという) 0. 1 1 2mo 1 を加え、 窒素雰囲気下で攪拌しなが ら、 2, 2—ビス ( 4—ヒドロキシフエニル)プロパンジベンゾエートー 3 , 3 ', 4, 4 ' —テトラカルボン酸二無水物 (以下、 E SDAという) 0. 1 1 2mo 1 を徐々に添加した。 氷浴下で 30分間攪拌し、 粘度が 1 5 00 p 0 i s eに達 したところで攪拌をやめ、 ポリアミド酸溶液を得た。
このポリアミ ド酸溶液に DM F 1 1 3 g、 ]3—ピコリン 2 6 g、 無水酢酸 45 gを加え 30分間撹拌した後、 さらに 1 0 0°C下で 1時間撹拌し、 イミド化させ た。 その後、 高速で撹拌したメタノール中にこの溶液を少しづつ垂らした。 メタ ノール中に析出した糸状のポリイミ ドをミキサーで粉碎し、 メタノールでソック スレー洗浄を行い、 1 1 0でで 2時間乾燥させ、 ポリイミド粉末を得た。
上記で得たポリイミ ド粉末を 20 g、 ェピコ一ト 1 0 32 H 60 (油化シェル 社製) を 5 g、 4, 4 ' —ジアミノジフエニルスルフォン (硬化剤) 1. 5 gを 1 02 gの THFに添加し、 攪拌を行って溶解させ、 ポリイミド系接着剤溶液を 得た (固形分濃度: S C = 20 %)。
(実施例 2 9 )
有機溶媒として THFの代わりに 1 , 4—ジォキサンを使用した以外は実施例 2 8と同じ手順でポリイミ ド系接着剤溶液を得た (固形分濃度: S C = 2 0 %)。 (実施例 30 )
有機溶媒として THFの代わりにジォキソランを使用した以外は実施例 2 8と 同じ手順でポリイミド系接着剤溶液を得た (固形分濃度: S C = 20 %)。
(比較例 20 )
有機溶媒として TH Fの代わりにジメテルホルムアミ ド (DMF) を使用した 以外は実施例 2 8と同じ手順でポリイミ ド系接着剤溶液を得た (固形分濃度: S C= 2 0 %)。
(比較例 2 1) 有機溶媒として THFの代わりに N—メチルピロリ ドン (NMP) を使用した 以外は実施例 2 8と同じ手順でポリイミ ド系接着剤溶液を得た (固形分濃度: S C = 20 %)。
(比較例 22)
有機溶媒として THFの代わりにジメチルァセトアミ ド (DMA c ) を使用し た以外は実施例 28と同じ手順でポリイミ ド系接着剤溶液を得た (固形分濃度: S C = 20 %)。
(比較例 2 3)
有機溶媒として TH Fの代わりにメチルェチルケトン (MEK) を使用した以 外は実施例 2 8と同じ手順でポリイミ ド系接着剤溶液の調製を試みたが溶け残り が生じた。
(比較例 24)
有機溶媒として THFの代わりにメタノールを使用した以外は実施例 2 8と同 じ手順でポリイミド系接着剤溶液の調製を試みたが溶け残りが生じた。
(比較例 2 5 )
有機溶媒として THFの代わりにエタノールを使用した以外は実施例 2 8と同 じ手順でポリイミド系接着剤溶液の調製を試みたが溶け残りが生じた。
(実施例 28 a、 28 b、 2 8 c)
実施例 2 8で得たボリイミ ド系接着剤溶液を 2 5 m厚のポリイミ ドフィルム (アビカル 2 5 AH、 鐘淵化学工業社製) 上に流延し、 1 00°Cで 1 0分間乾燥 後、実施例 2 8 aは 1 8 0 °C、実施例 2 8 bは 2 00 °C、実施例 2 8 cは 2 20T: で 1 0分間乾燥し、 厚み 30 mのフィルム状接合部材を得た。
(実施例 2 9 a、 29 b、 2 9 c)
実施例 2 9で得たポリイミ ド系接着剤溶液を用いた以外は実施例 2 8 a〜2 8 cと同じ手順で実施例 2 9 a、 2 9 b, 2 9 cのフィルム状接合部材を得た。 (実施例 30 a、 30 b、 3 0 c) (比較例 2 0 a、 2 0 b、 2 0 c、 2 1 a、 2 l b、 2 1 c、 22 a、 22 b、 2 2 c ) 上記と同様の対応および条件にて、 実施例 3 0 a、 30 b、 30 c , 比較例 2 0 a、 2 0 b、 2 0 c、 2 1 a、 2 1 b、 2 1 c、 2 2 , 2 2 b、 2 2 cのフィルム状接合部材を得た。 なお、 溶け 残りの生じた比較 2 3、 比較例 2 4および比較例 2 5に対応するフィルム状接合 部材は作成しなかった。
実施例 2 8— 3 0および比較例 2 0 - 2 2のフィルム状積層部材の特性評価結 果を表 5に示す。
【表 5】
Figure imgf000064_0001
(実施例 3 1 )
容量 5 0 Om 1のガラス製フラスコにジメチルホルムアミ ド (DMF) 2 8 0 gに 3、 3 ' —ビス (ァミノフエノキシフエニル) スルフォン (以下、 BAP S — Mという) 0. 1 48 7 mo 1 を加え、 窒素雰囲気下で 1 3 0°Cで加熱しなが ら、 2 , 2—ビス ( 4ーヒドロキシフエニル)プロパンジベンゾエート一 3, 3 ', 4, 4 ' —テトラカルボン酸二無水物 (以下、 E S DAという) 0. 1 48 7m 0 1 を粘度に注目しながら徐々に添加した。粘度が 1 5 0 0 p 0 i s e に達した ところで E S D Aの添加をやめポリィミド溶液を得た。 このポリアミ ド酸溶液に DMF 1 5 0 g、 3—ピコリン 3 5 g、 無水酢酸 6 0 gを加え 1時間撹拌した後、 さらに 1 0 0°Cの温度雰囲気下で 1時間撹拌し、 ィ ミ ド化させた。 その後、 高速で撹拌したメタノール中にこの溶液を少しずつ滴下 した。 メタノール中に析出した糸状のポリイミ ドを 1 0 0°Cで 3 0分乾燥後、 ミ キサ一で粉碎し、 メタノールでソックスレー洗浄を行い、 1 0 0°Cで 2時間乾燥 させ、ポリイミ ド粉末を得た。得られたポリィミ ドのガラス転移温度は、 140 であった。
上記で得たポリイミ ド粉末を 2 0 gを 8 3 gの DMFに溶解した。 得られたヮ ニスをガラス板上に流延し、 1 0 0°Cで 1 0分間乾燥後、 ガラス板より引き剥が し、 鉄枠に固定しさらに 1 5 0°Cで 3 0分乾燥し、 厚み 2 5 厚のシートを得 た。 得られたシートの表面に乾燥後 3 mの厚みになるようにェピコ一ト 1 0 3 2 H 60 (油化シェル社製) を塗布し、 1 3 0°Cで 1 0分間乾燥させ、 フィルム 状接合部材を得た。 吸水率は 0. 6 %であった。 上記のようにして得られたフィ ルム状接合部材をポリイミドフィルム (アビカル 2 5AH, 鐘淵化学工業 (株) 製) と 2 5 m厚の銅箔で挟み込み、 温度 2 00で、 圧力 3 MP aで 20分加熱 加圧し、 銅張りフレキシブル積層板を得た。 得られた銅張りフレキシブル積層板 について、 引き剥し強度、 半田耐熱性を測定した。 各測定結果は、 表 6に示す。 表 6
ピール強度(kgfZcm)半田耐熱性 I 吸水率
20°C 150°C (%)
\
実施例 31 1.0 0.9 〇 ' 0.6
実施例 32 1.0 0.8 o ! 0.5
実施例 33 1.0 0.8 〇 0.5
実施例 34 1.1 0.7 〇 0.6
比較例 26 0.1 0.1 〇 ; 0.6
比較例 27 0.9 0.2I X 2.0
比較例 28 1.0 0.9I X 1.8 (実施例 32 )
ジァミン成分を, 4, 4 ' 一ビス (ァミノフエノキシフエニル) プロパンにす る以外は実施例 3 1と同様にして、 ポリイミ ド粉末を得た。 得られたポリイミ ド のガラス転移温度は、 1 90°Cであった。 実施例 3 1と同様にしてフィルム状接 合部材を得た。 また、 吸水率を測定した。 これを用いたフレキシブル銅張り積層 板を得た。 得られた銅張りフレキシブル積層板について、 引き剥し強度、 半田耐 熱性を測定した。 各測定結果は、 表 6に示す。
(実施例 33 )
ジァミン成分を, 4, 4 ' 一 [ 1 , 4—フエ二レンビス ( 1—メチルェチリデ ン)] にする以外は実施例 3 1と同様にして、 ポリイミ ド粉末を得た。 得られたポ リイミ ドのガラス転移温度は、 2 1 0°Cであった。 実施例 3 1と同様にしてフィ ルム状接合部材を得た。 また、 吸水率を測定した。 これを用いたフレキシブル銅 張り積層板を得た。得られた銅張りフレキシブル積層板について、引き剥し強度、 半田耐熱性を測定した。 各測定結果は、 表 6に示す。
(実施例 34 )
熱硬化性樹脂成分を TETRAD - C (三菱瓦斯化学社製) とする以外は実施 例 3 1と同様にして、 フィルム状接合部材を得た。 これを用いて、 実施例 3 1と 同様にしてフレキシブル銅張り積層板を得た。 得られた銅張りフレキシブル積層 板について、 引き剥し強度、半田耐熱性を測定した。各測定結果は、表 6に示す。 (比較例 26 )
実施例 3 1と同様にポリイミド粉末を 2 0 gを 8 3 gの DMFに溶解した。 得 られたワニスをガラス板上に流延し、 1 00°Cで 1 0分間乾燥、 ガラス板より引 き剥がし、 鉄枠に固定しさらに 1 5 0°Cで 3 0分乾燥し、 厚み 2 5 imのシート を得た。 得られたシートをポリイミ ドフィルム (アビカル 5 0 AH, 鐘淵化学ェ 業社製) と 2 5 mの銅箔で挟みこみ、 温度 2 0 0 °C、 圧力 3 MH aで 2 0分間 加熱加圧し、 銅張りフレキシブル積層板を得た。
(比較例 2 7 )
ブラ夕ボンド M l 2 7 6 (共重合ナイロン、 日本リルサン社製) を 20 g、 ェ ピコート 1 0 3 2 H60を 3 0 g、 ジアミノジフエニルスルフォン 3 gを 8 3 g の DMFに溶解した。 得られたワニスをガラス板上に流延し、 1 00°Cで 1 0分 間乾燥後、 ガラス板より引き剥がし、 鉄枠に固定し、 さらに 1 50°Cで 3 0分乾 燥し、 ポリイミ ドのシートを得た。 得られたシートについて吸水率を測定した。 得られたフィルム状接合部材をポリイミ ドフィルム (アビカル 50AH、 鐘淵化 学工業社製) と 2 5 厚の銅箔で、 挟み込み、 温度 2 00 °C、 圧力 3 MP aで 2 0分加熱加圧し、 銅張りフレキシブル積層板を得た。
(比較例 28 )
E S D Aをべンゾフエノンテトラカルボン酸二無水物 (BTDA) に変える他 は実施例 3 1と同様にポリイミ ド粉末を得た。 得られたポリイミ ド粉末を 2◦ g を 8 3 gの DMFに溶解した。 得られたワニスをガラス板上に流延し、 1 0 0°C で 1 0分間乾燥後、 ガラス板より引き剥がし、 鉄枠に固定しさらに 1 50°Cで 2 0分間乾燥し、 厚み 2 5 のシートを得た。 得られたシートの表面に乾燥後 3 mの厚みになるように、 ェピコート 1 032 H60 (油化シェル社製) を塗布 し、 1 30でで 1 0分間乾燥させフィルム状接合部材を得た。吸水率を測定した。 得られたフィルム状接合部材をポリイミ ドフィルム (アビカル 50 AH、 鐘淵化 学工業社製) と 2 5 m厚の銅箔で、 挟み込み、 温度 2 00 t:、 圧力 3 MP aで 2 0分加熱加圧し、 銅張りフレキシブル積層板を得た。
比較例 2 6— 2 8で得られたフレキシブル銅張積層板について、 ピール強度、 半田耐熱性を測定した。 上記測定の結果を表 6に示す。
(実施例 35 )
容量 5 0 0 m 1のガラス製フラスコにジメチルホルムアミド (DMF) 2 8 0 gに 3、 3 ' 一ビス (ァミノフエノキシフエニル) スルフォン (以下、 BAP S — Mという) 0. 148 7 mo 1 を加え、 窒素雰囲気下で 1 30°Cで加熱しなが ら、 2, 2—ビス(4—ヒドロキシフエニル)プロパンジベンゾェ一トー 3, 3 4, 4 ' ーテトラカルボン酸二無水物 (以下、 E SDAという) 0. 148 7 m o 1 を粘度に注目しながら徐々に添加した。 粘度が 1 5 00 p o i s eに達した ところで E S D Aの添加をやめポリィミ ド溶液を得た。 このポリアミ ド酸溶液に DM F 1 5 0 g、 ;3—ピコリン 3 5 g、 無水酢酸 6 0 gを加え 1時間撹拌した後、 さらに 1 0 0°Cの温度雰囲気下で 1時間撹拌し、 ィ ミ ド化させた。 その後、 高速で撹拌したメタノール中にこの溶液を少しずつ滴下 した。 メタノール中に析出した糸状のポリイミ ドを 1 0 0°Cで 3 0分乾燥後、 ミ キサ一で粉碎し、 メタノールでソックスレ一洗浄を行い、 1 0 0°Cで 2時間乾燥 させ、ポリイミ ド粉末を得た。得られたポリイミ ドのガラス転移温度は、 1 4 0°C であった。 吸水率は、 0. 6であった。
上記で得たポリィミ ド粉末を 2 0 g、 ェピコート 1 0 3 2 H 6 0 (油化シェル 社製) を 5 g、 4, 4 ' —ジアミノジフエニルスルフォン 3 gを 8 3 gの DMF に溶解した。 得られたワニスを 2 5 im厚のポリイミ ドフィルム (アビカル 2 5 AH, 鐘淵化学工業社製) 上に流延し、 1 0 0°Cで 1 0分間乾燥後、 さらに 1 5 0°Cで 1 0分乾燥し、 厚み 3 0 m厚のフィルム状接合部材を得た
得られたフィルム状接合部材をポリイミ ドフィルム (アビカル 5 0 AH、 鐘淵 化学工業社製) と 2 5 m厚の銅箔で挟み込み、 温度 2 0 0 °C、 圧力 3 MP aで 2 0分加熱加圧し、 銅張りフレキシブル積層板を得た。 得られた銅張りフレキシ ブル積層板について、 ピール強度、 半田耐熱性を測定した。 各測定結果は、 表 7 に示す。
表フ
Figure imgf000068_0001
(実施例 36)
ジァミン成分を、 4, 4 ' 一ビス (ァミノフエノキシフエニル) プロパンにす る以外は、 実施例 3 5と同様にして、 ポリイミ ド粉末を得た。 得られたポリイミ ドのガラス転移温度は、 1 9 0°Cであった。 吸水率は、 0. 5であった。 このポ リイミ ド粉末より、 実施例 3 5と同様にして、 フィルム状接合部材を得た。 さら に、 実施例 3 5と同様にして、 銅張りフレキシブル積層板を得た。 得られた銅張 りフレキシブル積層板について、 ピール強度、 半田耐熱性を測定した。 各測定結 果は、 表 7に示す。
(実施例 37 )
ジァミン成分を、 4, 4 ' 一 [ 1 , 4一フエ二レンビス ( 1—メチルェチリデ ン)] にする以外は、 実施例 3 5と同様にして、 ポリイミ ド粉末を得た。 得られた ポリイミ ドのガラス転移温度は、 2 1 0で、 吸水率は、 0. 5であった。 このポ リイミ ド粉末より、 実施例 3 5と同様にして、 フィルム状接合部材を得た。 さら に、 実施例 3 5と同様にして銅張りフレキシブル積層板を得た。 得られた銅張り フレキシブル積層板について、 ピール強度、 半田耐熱性を測定した。 各測定結果 は、 表 7に示す。
(実施例 38 )
接着剤を、 ポリイミ ド粉末 2 0 g、 グリシジルァミン型エポキシ榭脂; TE T RAD- C (三菱瓦斯化学社製) 5 g, 4, 4 ' —ジアミノジフエニルスルフォ ン 3 gを 83 gの DMFに溶解する以外は、 実施例 3 5と同様にして、 フィルム 状接合部材を得て、 さらに銅張りフレキシブル積層板を得た。 得られた銅張りフ レキシブル積層板について、 ピール強度、半田耐熱性を測定した。各測定結果は、 表 7に示す。
(比較例 29 )
E S D Aをべンゾフエノンテトラカルボン酸二無水物とする以外は、 実施例 3 5と同様にしてポリイミ ド粉末を得た。 得られたポリイミ ド粉末を 2 0 g、 ェピ コート 1 03 2 H6 0 (油化シェル社製) を 5 g、 4, 4 ' ージアミノジフエ二 ルスルフォン 0. 5 gを 8 3 gの DMFに溶解した。 得られたワニスをポリイミ ドフィルム (アビカル 2 5 AH, 鐘淵化学工業社製) 上に流延し、 1 00でで1 0分間乾燥後、 さらに 1 5 0°Cで 1 0分乾燥し、 厚み 3 0 mのフィルム状接合 部材を得た。 得られたフィルム状接合部材をポリイミ ドフィルム (アビカル 50 AH, 鐘淵化学工業社製) と 2 5 mの銅箔で挟みこみ、 温度 2 0 0 °C、 圧力 3 MHaで 20分間加熱加圧し、 銅張りフレキシブル積層板を得た。
(比較例 30 )
実施例 3 5で得られたポリイミ ド粉末を 2 0 gを 8 3 gの DM Fに溶解した。 得られたワニスをポリイミ ドフィルム (アビカル 2 5 AH, 鐘淵化学工業社製) 上に流延し、 1 0 Οΐ:で 1 0分間乾燥後、 さらに 1 5 0°Cで 1 0分乾燥し、 厚み 3 0 xmのフィルム状接合部材を得た。 得られたフィルム状接合部材をポリイミ ドフィルム (アビカル 5 0 AH, 鐘淵化学工業社製) と 2 5 / mの銅箔で挟みこ み、 温度 200 °C、 圧力 3 MH aで 20分間加熱加圧し、 銅張りフレキシブル積 層板を得た。
(比較例 3 1 )
プラタボンド M l 2 76 (共重合ナイロン、 日本リルサン社製) を 20 g、 ェ ピコ一ト 1 032 H 6 0を 5 g、 4, 4 ' ージアミノジフエニルスルフォン 3 g を 8 3 gの DM Fに溶解した。 得られたワニスを 2 5 m厚のポリィミドフィル ム (アビカル 2 5AH, 鐘淵化学工業社製) 上に流延し、 1 00°Cで 1 0分間乾 燥後、 さらに 1 50でで 1 0分乾燥し、 厚み 30 m厚のフィルム状接合部材を 得た。 得られたフィルム状接合部材をボリイミドフィルム (アビカル 50 AH、 鐘淵化学工業社製) と 2 5 m厚の銅箔で、 挟み込み、 温度 2 0 0 °C、 圧力 3M P aで 20分加熱加圧し、 銅張りフレキシブル積層板を得た。
比較例 2 9 - 3 1で得られたフレキシブル銅張積層板について、 ピール強度、 半田耐熱性を測定した。 これらの結果を表 7に示す。
(実施例 39 )
容量 50 Om 1のガラス製フラスコにジメチルホルムアミ ド (DMF) 2 8 0 g に 3、 3 ' —ビス (ァミノフエノキシフエニル) スルフォン (以下、 BAF S— Mという) 0. 1 48 7mo ] を加え、窒素雰囲気下で 1 3 0°Cで加熱しながら、 2 , 2—ビス(4ーヒドロキシフエニル)プロパンジベンゾエートー 3, 3 ', 4 , 4 ' —テトラカルボン酸二無水物 (以下、 E SDAという) 0. 1487mo l を粘度に注目しながら徐々に添加した。 粘度が 1 500 pcHse に達したところで E S D Aの添加をやめポリイミ ド溶液を得た。 なお、 粘度は、 B形粘度計 (東京 計器 (株) 製) により測定した。
このポリアミ ド酸溶液に DM F 1 50 g、 3—ピコリン 35 g、 無水酢酸 60 gを加え 1時間撹拌した後、さらに 1 00°C下で 1時間撹拌し、イミ ド化させた。 その後、 高速で撹拌したメタノール中にこの溶液を少しずつ滴下した。 メタノー ル中に析出した糸状のボリィミ ドを 100°Cで 30分乾燥後、ミキサーで粉碎し、 メタノールでソックスレー洗浄を行い、 1 00でで 2時間乾燥させ、 ポリイミ ド 粉末を得た。
上記で得たポリイミ ド粉末を 20 g、 ェピコート 1 032H60 (油化シェル 社製) を 5 g、 4, 4' ージアミノジフエニルスルフォン 3 gを 83 gの DMF に溶解した。 得られたワニスを P ETフィルム上に塗布し、 100°Cで 1 0分間 乾燥後、 PETフィルムを剥がし、 金属支持体に固定した。 そして 1 50 で 2 0分乾燥し、 本発明において接着層として用いる熱可塑性ポリイミ ド及び熱硬化 性樹脂からなるフィルムを得た。
得られたシートをポリイミ ドフィルム (アビカル 50 AH、鐘淵化学工業社製) と剥離紙とを順に積層配置し、 温度 1 50T:、 2. 2 cmZm i nの速度で、 ラ ミネ一トさせ、 目的とする線材被覆用接着性積層フィルムを得た。
得られた熱可塑性ポリイミ ドのガラス転移温度は、 140でであった。 また、 吸水率は、 0. 9%であった。 誘電率は、 2. 95であった。
更に、 得られた線材被覆用接着性積層フィルムと線材の接着強度の参考にする ために、 この積層フィルムの剥離紙を剥がして銅箔を配置し、 1 80°C、 30 k gノ cm2、 1 0分間圧着させ、 ピール強度を測定したところ、 1. l k g f / cmであった。 また、 得られた線材被覆用接着性積層フィルムについて、 耐放射 線性テストを行ったところ、 フィルムに変色や性能の変化は生じなかった。 これ らの結果を表 8に示す。 なお、 耐放射線性テストは、 2Me Vの電子線を用いて 5 MG y照射により行った- 表 8
Figure imgf000072_0001
(実施例 40)
ジァミン成分を、 4, 4 ' —ビス (ァミノフエノキシフエニル) プロパンにす る以外は、 実施例 39と同様にしてポリアミ ド酸を得た。 そして、 実施例 3 9で 用いたポリイミ ドフィルム (アビカル (登録商標), 鐘淵化学工業咜製) 上に、 こ のポリアミド酸を流延 '塗布し、 8 0°Cで 2 5分加熱した後、 1 50 、 2 50 、
2 7 0 °C、 3 0 0 Cで各 5分間加熱してイミ ド化させ、 線材被覆用接着性積層フ イルムを得た。
得られたフィルムについて実施例 3 9と同様にして各特性を測定したところ、 ポリイミ ド樹脂層のガラス転移温度は 1 90°C、吸水率は 0. 8 %、誘電率は 2. 9 0であった。 また、 得られた線材被覆用接着性積層フィルムについて、 実施例
3 9と同様にピール強度を測定したところ、 1. 1 k g f /cmであった。また、 実施例 3 9と同様に耐放射線性テストを行ったと二ろ、 フィルムに変色や性能の 変化は生じなかった。 これらの結果を表 8に示す。
(実施例 4 1 )
ジァミン成分を、 4, 4' - [ 1 , 4一フエ二レンビス ( 1ーメチルェチリデ ン)]ビスァニリンにする以外は、実施例 3 9と同様にして、ポリアミ ド酸を得た。 そして、 実施例 3 9で用いたポリイミ ドフィルム (アビカル (登録商標), 鐘淵化 学工業株式会社製) 上に、 このポリアミ ド酸を流延 ·塗布し、 8 0°Cで 2 5分加 熱した後、 1 5 0°C、 2 5 0 , 2 7 0 °C、 3 0 0 °Cで各 5分間加熱してイミ ド 化させ、 線材被覆用接着性積層フィルムを得た。
得られたフィルムについて実施例 3 9と同様にして各特性を測定したところ、 ポリイミ ド樹脂層のガラス転移温度は 2 1 0 :、吸水率は 0. 8 %、誘電率は 2.
8 8であった。 また、 得られた線材被覆用接着性積層フィルムについて、 実施例 3 9と同様にピール強度を測定したところ、 1. 1 k g f /c mであった。また、 実施例 3 9と同様に、 耐放射線性テストを行ったところ、 フィルムに変色や性能 の変化は生じなかった。 これらの結果を表 8に示す。
(実施例 4 2)
熱硬化成分を T ETRAD— C (三菱瓦斯化学社製) とする以外は、 実施例 3 9と同様にして、 熱可塑性ポリイミ ド及び熱硬化製樹脂からなる線材被覆用接着 性積層フィルムを得た。
得られたフィルムについて実施例 3 9と同様にして各特性を測定したところ、 ポリイミド榭脂層のガラス転移温度は 1 4 0°C、吸水率は 0. 9 %、誘電率は 2.
9 6であった。 また、 得られた線材被覆用接着性積層フィルムについて、 実施例 3 9と同様にピール強度を測定したところ、 1. 2 k g f /cmであった。また、 実施例 3 9と同様に、 耐放射線性テストを行ったところ、 フィルムに変色や性能 の変化は生じなかった。 これらの結果を表 8に示す。
(比較例 3 2 )
ピメリット酸二無水物と OD A (ォキシジァ二リン) から、 実質的に実施例と 同様にしてポリアミド酸を得た。 そして、 実施例 3 9で用いたポリイミ ドフィル ム (アビカル (登録商標), 鐘淵化学工業咜製) 上に、 このポリアミ ド酸を流延 - 塗布し、 8 0でで 2 5分加熱した後、 1 5 0 °C、 2 5 0 °C、 2 7 0 °C、 3 0 0 °C で各 5分間加熱してイミ ド化させ、 線材被覆用接着性積層フィルムを得た。
得られたフィルムについて実施例 3 9と同様にして各特性を測定したと二ろ、 ポリイミ ド榭脂層のガラス転移温度はなく、 吸水率は 2. 6 %、 誘電率は 3. 5 であった。 また、 得られた線材被覆用接着性積層フィルムのピール強度を測定し ようとしたところ、 1 8 0 °C 、 3 0 k g / c m 2 , 1 0分間という条件では接着 できず、 測定できなかった。 なお耐放射線テストによるフィルムの変色や性能の 変化は生じなかった。 これらの結果を表 8に示す。
(比較例 3 3 )
熱可塑性 (接着性) を有するポリイミ ドフィルムの代わりにェピコート 8 2 8 (商標名 :油化シェル社製) からなる接着剤を用いた以外は、 実施例 4 0と同様 にして線材被覆用接着性積層フィルムを得た。
得られたフィルムについて実施例 1と同様にして各特性を測定したところ、 接 着剤層のガラス転移温度は 1 7 8 °C、 吸水率は 2 . 0 %、 誘電率は 3 . 8であつ た。 また、 得られた線材被覆用接着性積層フィルムのピール強度は 0 . 3 k g Z c mであった。 なお、 耐放射線テストにより、 フィルムは黒変してしまった。 こ れらの結果を表 8に示す。 産業上の利用分野
本発明のポリイミド樹脂は、 新規な構造を有し、 ポリイミ ドの有する耐熱性、 機械的強度、 電気的特性に加え、 優れた接着性および低吸水性を併せ有する。 また、 本発明の樹脂組成物は、 接着剤として使用するときに比較的低温、 例え ば、 2 5 0 °C程度の温度で接着可能である。 従来の耐熱接着剤と異なり、 接着に 高温を要せず、 ポリイミ ドフィルムに対しても高い接着力を示し、 高温まで高い 接着力を保持する。 さらに 1 . 5 %以下という低吸水率が達成可能である。 また 残揮発分を 3重量%以下に制御することにより P C T処理後の引き剥がし強度保 持率が高いため、 半田浴に浸漬する際の膨れ等を生じない半田耐熱性を有する。 また、 ポリイミ ド樹脂をァミン末端のポリイミ ドオリゴマーとすることにより、 エポキシ樹脂との結合により多点で架橋点を有し構造を緻密とすることにより、 溶媒の侵入を抑制し、 エレクトロニクス用材料の信頼性試験である P C T処理後 の引き剥がし強度の保持率を高く維持することができる。
さらに、 本発明の接着剤溶液は、 本発明のポリイミ ド樹脂、 特定の溶媒を用いる ことにより、 比較的低温で溶媒を乾燥除去できるため、 その後の積層では強力な 接着力を発現する。
以上より、 本発明のポリイミ ド樹脂、 樹脂組成物、 接着剤溶液は、 高信頼性と 耐熱性を要求するエレク卜ロニクス用材料として工業的に極めて利用価値が高い という利点を有する。
また、 本発明にかかる線材被覆用接着性積層フィルムは、 優れた耐熱性 ·耐放 財線性 ·電気特性 ·耐薬品性 ·低温特性などを備えているポリイミ ドと、 ガラス 転移温度が 1 0 0 ~ 2 5 0 °Cであり、 更に 1 . 5 %以下の吸水率と 3 . 2以下の 誘電率とを併せ持つ熱可塑性樹脂及び低温で優れた接着性を発現する熱硬化性樹 脂からなる接着層とが積層されて構成されている。 そのため低温での加工性、 柔 軟性、 接着性に優れ、 かつ水分の吸着による性能の劣化が少なく、 線材に被覆し て通電する際に誘電損失が少なく、 更に耐放射線性にも優れる等、 総合的に優れ た特性を有するものとなる。 特に超伝導線材などの被覆に適するもので、 加速器 用超伝導マグネットに使用する用途に最適である。 すなわち、 本発明にかかる線 材被覆用接着性積層フィルムを線材に被覆するとき、 線材の特性をほとんど劣化 させない温度範囲内で加熱接着させることができ、 かかる線材被覆用接着性積層 フィルムによって被覆された線材の特性、 例えば線材が超伝導線材である場合に は、 その超電導特性を損なうことなく、 フィルムを被覆することができる。

Claims

請 求 の 範 囲
一般式 (1)
Figure imgf000076_0001
(式中、 Xは一 (CH2) k—、 または芳香環を含む二価の基を示し、 kは、 1以 上 1 0以下の整数である。 ) で表されるエステル酸二無水物を含むテトラカルボ ン酸ニ無水物と,
式 (2)
Figure imgf000076_0002
Hゥ N
(式中、 1^は、 アルキル基、 フッ素置換アルキル基、 アルコキシル基、 または ハロゲン基を表わし、 nは、 0〜4までの整数を示し、 ここで、 n個の は、 同一または異なっている) で表わされる芳香族ジァミン、 及び/または、 一般式( 3)
Figure imgf000076_0003
(式中、 Aは, 単結合、 —〇一, 一 (CH2) n—, —CO-, 一 C (=0) 〇 ―, -NHCO-, - C (CH3) 2—, 一 C (C F 3) 2— , — S—, 一 S〇2— で表わされる基からなる群より選択されるいずれかの結合基であり、 R2, R3, および R4はアルキル基、 フッ素置換アルキル基、 アルコキシル基、 またはハロ ゲン基を表わし、 同一または異なった基であり、 x、 y、 z、 および m, nは 0 〜4の整数を表わし、 (m+ 1 ) 個の Aは同一または異なっていてもよい。 ) で 表わされる芳香族ジァミンを含むジァミンとを反応させて得られるポリイミ ド樹 脂。
2. 式 ( 1 )
Figure imgf000077_0001
(式中、 Xは一 (CH2) k—、 または芳香環を含む二価の基を示し、 kは、 1以 上 1 0以下の整数である。 ) で表されるエステル酸二無水物を含むテトラカルボ ン酸ニ無水物と,
一般式(4)
Figure imgf000077_0002
(式中、 Yは, 単結合、 一C O— , S〇2 -, 一 0— , S— , ― ( C H 2 ) q -, -NHCO-, — C (CH J -, — C (C F 3) 。 , — C (=0) 0—, で表わされる基からなる群より選択されるいずれかの結合基であり、 P、 Qは 1 〜 5の整数を表わす。 ) で表わされる芳香族ジァミンとを反応させて得られる、 ポリイミド樹脂。
3. 式 ( 1 )
Figure imgf000078_0001
(式中、 Xは一 (CH2) k―、 または芳香環を含む二価の基を示し、 kは、 i以 上 1 0以下の整数である。 ) で表されるエステル酸二無水物を含むテトラカルボ ン酸ニ無水物と,
一般式(4)
Η2 χ Υ- +ΝΗゥ
Ρ
(式中、 Υは, 単結合、 一 CO— , — S〇2—, —〇一, — S―, 一 (CHJ q 一, -NHCO-, ― C (CH3) 2—, 一 C (C F 3) 2—, - C (=〇) 0—, で表わされる基からなる群より選択されるいずれかの結合基であり、 P、 Qは 1 〜 5の整数を表わす。 ) で表わされる芳香族ジァミンと、 さらに、
式 (5) Hゥ N
Figure imgf000079_0001
(式中、 R5および Rsは、 二価の炭素数 1乃至 4の脂肪族基または二価の芳香族 であり、 R7, Rs, R9, および R10は、 一価の炭素数 1乃至 4の脂肪族基また は一価の芳香族であり、 nは、 1以上 1 0以下の整数である。 ) で表わされるシ ロキサンジアミンとを反応させて得られる、 ポリイミ ド樹脂。
4. 前記一般式 (4) で表わされるジァミンが、 一般式 (6)
Figure imgf000079_0002
(式中、 Yは, 単結合、 一 C〇一, — S02— , -0— , — S―, ― (CH2) q 一, -NHC 0-, - C (CH3) 2-, — C (CF3) 2— , — C (=〇) O—, で表わされる基からなる群より選択されるいずれかの結合基であり、 P、 Qは 1 〜 5の整数を表わす。 ) で表わされる芳香族ジァミンである、 請求項 2または 3 のいずれかに記載のポリイミ ド樹脂。
5. 前記シロキサンジァミンが、 全ジァミンの 1〜 30モル%の割合を占め る、 ポリイミ ド樹脂である、 請求項 3記載のポリイミ ド樹脂。
6. 式 (7)
Figure imgf000080_0001
で表される、 2, 2— (4—ヒドロキシフエニル) プロパンジベンゾェ一トー 3 3 ' 4, 4 ' ーテトラカルボン酸二無水物を含むテトラカルボン酸二無水物と、 式 (2)
Figure imgf000080_0002
Hゥ N
(式中、 は、 アルキル基、 フッ素置換アルキル基、 アルコキシル基、 または ハロゲン基を表わし、 nは、 0〜4までの整数を示し、 ここで、 n個の は、 同一または異なっている) で表わされる芳香族ジァミン、 及び/または、 一般式( 3)
Figure imgf000080_0003
(式中、 Aは, 単結合、 —0—, — (CH2) n— , —C0-, 一 C ( =〇) 〇 一, -NHC0-, — C (CH3) 2 - C (C F3) 2—. 一 S—, 一 S〇2- で表わされる基からなる群より選択されるいずれかの結合基であり、 R 2, R3 および R4はアルキル基、 フッ素置換アルキル基、 アルコキシル基、 またはハロ ゲン基を表わし、 同一または異なった基であり、 x、 y、 z、 および m, nは 0 〜4の整数を表わし、 (m+ 1) 個の Aは同一または異なっていてもよい。 ) で 表わされる芳香族ジァミンを含むジァミンとを反応させて得られるポリイミド樹 脂。
7. —般式 (7)
Figure imgf000081_0001
で表わされる 2, 2—(4ーヒドロキシフエニル)プロパンジベンゾエートー 3, 3 '4, 4 ' —テトラカルボン酸二無水物を含むテトラカルボン酸二無水物を残 留不純物が 1重量%以下に調整し、 式 (2)
Figure imgf000081_0002
(式中、 1^は、 アルキル基、 フッ素置換アルキル基、 アルコキシル基、 または ハロゲン基を表わし、 nは、 0〜4までの整数を示し、 ここで、 n個の は、 同一または異なっている) で表わされる芳香族ジァミン、 及び Zまたは、 一般式( 3)
Figure imgf000081_0003
(式中、 Aは, 単結合、 一 0—, 一 (CH2) n -, —CO-, — C ( = 0) 〇 -, -NHCO-, — C (CH3) 2—, 一 C (C F3) 2―, — S—, 一 S〇2— で表わされる基からなる群より選択されるいずれかの結合基であり、 R2, R3: および R4はアルキル基、 フッ素置換アルキル基、 アルコキシル基、 またはハロ ゲン基を表わし、 同一または異なった基であり、 x、 y、 z、 および m, nは 0 〜4の整数を表わし、 (m+ l) 個の Aは同一または異なっていてもよい。 ) で 表わされる芳香族ジァミンを含むジァミンとを反応させて得られるポリイミ ド樹 脂。
8. 前記エステル酸二無水物一般式 (7)
Figure imgf000082_0001
で表わされる 2, 2—(4—ヒドロキシフエニル)プロパンジベンゾェ一トー 3, 3 '4, 4 ' ーテトラカルボン酸二無水物を残留不純物が 1重量%以下に調整し て得られる、 請求項 7記載のポリイミ ド樹脂。
9. ガラス転移温度 1 00°C〜 2 50 °C、 吸水率 1. 5%以下を併せ有する 請求項 1、 2、 3、 6または 7のいずれかに記載のポリイミ ド樹脂。
1 0. ガラス転移温度 1 00°C〜 2 50 °C、 吸水率 1. 5 %以下、 かつ誘電 率 3 , 2以下を併せ有する請求項 9に記載のポリィミ ド樹脂。
1 1. 請求項 1、 2, 3、 6または 7のいずれかに記載のポリイミ ド樹脂と、 熱硬化性樹脂を含む、 樹脂組成物。
1 2. 前記熱硬化性樹脂が、 エポキシ樹脂である、 請求項 1 1記載の樹脂組成 物。
1 3. 前記熱硬化性樹脂が、 エポキシ基を 2以上含む、 請求項 1 2記載の樹脂 組成物。
1 4. 前記エポキシ樹脂が、 エポキシ当量が、 2 50以下である、 請求項 1 2記 載の樹脂組成物。
1 5. 硬化後の吸水率が 1. 5 %以下である、 請求項 1 1記載の樹脂組成物。
1 6. 前記ポリイミ ド樹脂および前記エポキシ樹脂を含む樹脂組成物であって、 硬化後の残揮発分が 3重量%以下である、 請求項 1 2に記載の樹脂組成物。
1 7. 前記残揮発分の成分が、 前記ポリイミド樹脂および前記エポキシ樹脂を 溶解する 1種または 2種以上の低沸点溶媒である、 請求項 1 6に記載の樹脂組成 物。
1 8. 前記ポリイミド樹脂が、 ァミン末端を有するポリイミド ·オリゴマーで ある、 請求項 1 2記載の樹脂組成物。
1 9. 前記ポリイミド ·オリゴマーの数平均分子量が、 200 0〜 50000 である、 請求項 1 8記載の樹脂組成物。
2 0. 請求項 1 1記載の樹脂組成物を硬化させて得られ、 吸水率が 1. 5%以 下である、 樹脂硬化物。
2 1. 請求項 1 2記載の樹脂組成物を硬化させて得られ、 残揮発分が 3重量% 以下である、 樹脂硬化物。
2 2. 有機溶媒に、 請求項 1、 2 , 3, 6または 7のいずれかに記載のポリイ ミ ド樹脂、 エポキシ樹脂および硬化剤が溶解するポリイミ ド系接着剤溶液であつ て、
該ポリイミド樹脂に含まれる酸二無水物残基の 50モル%以上が、 一般式 (1)
Figure imgf000083_0001
(式中、 Xは一 (C H 2 ) k—、 または芳香環を含む二価の基を示し、 kは、 1以 上 1 0以下の整数である。 ) で表されるエステル酸二無水物残基であり、 該有機溶媒が、 環状エーテル系溶媒を含有する、
ポリイミド系接着剤溶液。
2 3 . 前記有機溶媒が、 3 0重量%以上の環状エーテル系溶媒を含有する、 請 求項 2 2記載のポリイミド系接着剤溶液。
2 4 . 請求項 1, 2, 3, 6、 または 7のいずれかに記載のポリイミ ド榭脂を主 成分とするベースフィルムの片面または両面に、 熱硬化性樹脂を積層してなる、 フィルム状接合部材。
2 5 . 前記熱硬化性樹脂が、 乾燥後の膜厚が 0 . 5〜 5 z mの厚さである、 請求 項 2 4記載のフィルム状接合部材。
2 6 . ポリイミ ド系べ一スフイルムの片面または両面に、 請求項 1 2に記載する 樹脂組成物を積層してなる、 フィルム状接合部材。
2 7 . 請求項 1 2に記載する樹脂組成物を有機溶媒に溶解し、 支持体上に流延ま たは塗布し、 乾燥後の樹脂組成物の塗膜を支持体より引き剥がして得られるフィ ルム状樹脂組成物層をポリイミ ド系ベースフィルムに積層して得られる、 フィル ム状接合部材。
2 8 . 請求項 1 2に記載する樹脂組成物を有機溶媒に溶解し、 ポリイミ ド系ベー スフイルムの少なくとも片面に流延または塗布し、 その後乾燥して得られるフィ ルム状樹脂組成物層を表面に有するフィルム状接合部材。
2 9 . 請求項 2 2に記載のポリイミ ド系接着剤溶液を、 支持体上に流延または 塗布し、 乾燥後の接着剤塗膜を支持体より引き剥がして得られるフィルム状接合 部材。
3 0 . 請求項 2 2に記載のポリイミ ド系接着剤溶液を、 ポリイミ ド系ベースフ イルムの少なくとも片面に流延または塗布し、 その後乾燥して得られるポリイミ ド系接着剤層を表面に有するフィルム状接合部材。
3 1 . 請求項 2 6記載するフィルム状接合部材を用いた、 線材被覆用接着性積層 フィルム。
32. 有機溶媒中において、 一般式 (1)
Figure imgf000085_0001
(式中、 Xは一 (CH2) k—、 または芳香環を含む二価の基を示し、 kは、 1以 上 10以下の整数である。)で表わされるエステル酸二無水物 lmo 1に対して、 一般式 (4)
Figure imgf000085_0002
および/または一般式 (6)
Figure imgf000085_0003
で表わされるジァミンを、 1. 02〜1. 1 mo 1の配合割合で反応させる、 ポ リイミド樹脂の製造方法。
33. 一般式 ( 7 )
Figure imgf000086_0001
で表わされる 2, 2—(4—ヒドロキシフエニル)プロパンジベンゾエートー 3, 3 '4, 4 ' ーテトラカルボン酸二無水物を含むテトラカルボン酸二無水物を残 留不純物を 1重量%以下に調整し、 式 (2)
Figure imgf000086_0002
Hゥ N
(式中、 は、 アルキル基、 フッ素置換アルキル基、 アルコキシル基、 または ハロゲン基を表わし、 nは、 0〜4までの整数を示し、 ここで、 n個の は、 同一または異なっている) で表わされる芳香族ジァミン、 及び/または、 一般式( 3)
Figure imgf000086_0003
(式中、 Aは, 単結合、 一〇一, 一 (CH2) n —CO-, — C ( =〇) 〇 ―, -NHCO-, - C ( C H 3 ) 2 -, 一 C (C F 3) 2—, — S -, 一 S02- で表わされる基からなる群より選択されるいずれかの結合基であり、 R2, R3 および R4はアルキル基、 フッ素置換アルキル基、 アルコキシル基、 またはハロ ゲン基を表わし、 同一または ¾なった基であり、 x、 y、 z , および m, nは 0 〜4の整数を表わし、 (m+ 1) 個の Aは同一または異なっていてもよい。 ) で 表わされる芳香族ジァミンを含むジァミンとを反応させる、 ポリイミド樹脂の製 造方法。
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