CZ400897A3 - Tepelně citlivá směs a způsob vytvoření výchozí litografické tiskové desky pomocí této směsi - Google Patents

Tepelně citlivá směs a způsob vytvoření výchozí litografické tiskové desky pomocí této směsi Download PDF

Info

Publication number
CZ400897A3
CZ400897A3 CZ974008A CZ400897A CZ400897A3 CZ 400897 A3 CZ400897 A3 CZ 400897A3 CZ 974008 A CZ974008 A CZ 974008A CZ 400897 A CZ400897 A CZ 400897A CZ 400897 A3 CZ400897 A3 CZ 400897A3
Authority
CZ
Czechia
Prior art keywords
compound
composition
solubility
printing plate
radiation
Prior art date
Application number
CZ974008A
Other languages
English (en)
Other versions
CZ292739B6 (cs
Inventor
Gareth Rhodri Parsons
David Stephen Riley
Richard David Hoare
Alan Stanley Victor Monk
Original Assignee
Horsell Graphic Industries Limited
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=27268256&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=CZ400897(A3) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Priority claimed from GBGB9608394.4A external-priority patent/GB9608394D0/en
Priority claimed from GBGB9614693.1A external-priority patent/GB9614693D0/en
Priority claimed from PCT/GB1996/001973 external-priority patent/WO1997007986A2/en
Priority claimed from GBGB9700884.1A external-priority patent/GB9700884D0/en
Application filed by Horsell Graphic Industries Limited filed Critical Horsell Graphic Industries Limited
Publication of CZ400897A3 publication Critical patent/CZ400897A3/cs
Publication of CZ292739B6 publication Critical patent/CZ292739B6/cs

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41MPRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/26Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
    • B41M5/36Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used using a polymeric layer, which may be particulate and which is deformed or structurally changed with modification of its' properties, e.g. of its' optical hydrophobic-hydrophilic, solubility or permeability properties
    • B41M5/368Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used using a polymeric layer, which may be particulate and which is deformed or structurally changed with modification of its' properties, e.g. of its' optical hydrophobic-hydrophilic, solubility or permeability properties involving the creation of a soluble/insoluble or hydrophilic/hydrophobic permeability pattern; Peel development
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00Forme preparation
    • B41C1/10Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1008Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00Forme preparation
    • B41C1/10Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1008Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
    • B41C1/1016Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials characterised by structural details, e.g. protective layers, backcoat layers or several imaging layers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/02Positive working, i.e. the exposed (imaged) areas are removed
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/06Developable by an alkaline solution
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/14Multiple imaging layers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/22Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by organic non-macromolecular additives, e.g. dyes, UV-absorbers, plasticisers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/24Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. acrylics, vinyl polymers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/26Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions not involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • B41C2210/262Phenolic condensation polymers, e.g. novolacs, resols
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/145Infrared
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/146Laser beam
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/165Thermal imaging composition

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
  • Heat Sensitive Colour Forming Recording (AREA)
  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
  • Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
  • Developing Agents For Electrophotography (AREA)
  • Liquid Developers In Electrophotography (AREA)

Description

Oblast techniky
Vynález se týká positivně činných. 1itografických výchozích tiskových desek, jejich užití a kompozicí pro vytváření obrazů, použitelných pro tyto desky.
Dosavadní stav techniky
Technika 1itografického tisku je založena na nesmísitelnosti vody a oleje, kdy olejový materiál nebo tiskařská barva je přednostně zachycena v místech kresby a voda nebo roztok vodní nádrže je přednostně zachycen v místech bez kresby. Je-li vhodně připravená plocha zvlhčena vodou a na ni je nanesena barva, pak pozadí, neboli plocha bez kresby, zachytí vodu a plocha kresby přijme barvu, ale vodu odpudí. Barva v místech kresby je pak přenesena na plochu materiálu, na níž má být obraz reprodukován, např. na papír, látku a pod. Obvykle je tiskařská barva přenesena na mezilehlý materiál, nazývaný potahem (blanket), který barvu přenese na povrch materiálu, na němž má být obraz vytvořen.
. Obvykle používaný typ litografické výchozí tiskové desky má na světlo citlivou polevu, nanesenou na hliníkovité podložce. Negativně působící litografické výchozí tiskové desky mají polevu citlivou na záření, která, je-li pod kresbou vystavena světlu, tvrdne v exponovaných místech. Při vyvolání jsou neexponovaná místa polevové kompozice odstraněna, kresba zůstává- Naopak „„ positivně působící litografické výchozí tiskové desky mají = kompozici opatřenou polevou, která po osvícení pod kresbou světlem příslušné vlnové délky, je v exponovaných oblastech více rozpustná ve vývojce než v neexponovaných místech. Tato světlem vyvolaná-rozdílná rozpustnost se nazývá fotorozpustitelností. U velkého počtu komerčně dostupných, positivně působících výchozích 1itografických tiskových desek, s polevou chinon diazidu spolu s fenolovou pryskyřicí. je obraz vytvářen fotorozpustitelnostíV obou případech je oblast kresby na vlastní tiskařské formě
barvo-pohlcující nebo oleofilní a část bez kresby nebo pozadí je vodo-pohlcující nebo hydrofilní.
K odlišení oblasti s kresbou od oblasti bez kresby dochází během expozice, kdy je za vakua, které zaručuje dobrý kontakt, k výchozí tiskové desce přiložen film. Výchozí tisková deska je pak vystavena expozici světelným zdrojem, vydávajícím částečně UV záření. V případě užití positivně pracující výchozí tiskové desky je oblast, která na výchozí tiskové desce odpovídá kresbě, neprůhledná, takže na výchozí tiskovou desku nedopadne žádné světlo, zatímco oblast filmu, která odpovídá místům bez kresby, je jasná a dovoluje dopad světla na polevu, která se tak stane rozpustnější a je odstraněna.
Nejnovější výzkumy na poli výchozích tiskových desek přinesly komposice citlivé na záření, které jsou vhodné pro tiskové desky připravované pomocí přímého ozáření laserem. Pro vytvoření obrazu na výchozí tiskové desce lze použít digitální zobrazovací informace, aniž by bylo třeba obrazového originálu, jako je fotografický positiv.
Příkladem positivně pracující, výchozí tiskové desky, kterou je možno zpracovat přímým ozářením laserem, je deska popsaná ve spise US 4,708,925, vydaném 24. listopadu 1987. Tento patent popisuje 1 itografickou výchozí tiskovou desku, kde zobrazovací vrstva obsahuje fenolovou pryskyřici a na ozáření citlivou onium sůl. Jak v tomto patentu popsáno, interakce mezi fenolovou pryskyřicí a onium solí vzniká alkalicky nerozpustná kompozice, jíž je alkalická rozpustnost vrácena fotolitickým rozkladem onium soli. Výchozí tisková deska může pracovat jako positivně nebo negativně působící deska, s využitím dalších technologických • kroků mezi expozicí a vyvoláním, které jsoupodrobně popsány v britském patentu č. 2,082,339. Výchozí tisková deska, popsaná ve spise US 4.709,925, je ze své podstaty citlivá na UV záření a lze ji navíc učinit citlivou na viditelné a infračervené záření.
Další příklad výchozí tiskové desky, na níž lze podlohu přenést laserem, a jíž lze použít jako přímo positivně pracujícího systému, je popsán ve spise US 5,372,907, vydaném
13.prosince 1994. a spise US 5.491,046, vydaném 13.února 1996.
·· ·· ····
Oba tyto patenty popisují zářením vyvolaný rozklad latentní
Bronstedovy kyseliny pro zvýšení rozpustnosti pryskyřicové matrice při expozici pod kresbou. Tak, jako u výchozí tiskové desky popsané v US 4.708,925, tyto systémy mohou být navíc užity
jako negativně pracující systém, a předvyvolání dále zpracováván, jsou vedlejší produkty rozkladu který je po osvícení pod kresbou U negativně účinkujícího procesu následně užity jako katalyzátory reakcí meziřetězcových vazeb použitých pryskyřic pro dosažení nerozpustnosti míst kresby před vyvoláním. Jak uvedeno ve spise US 4,708,925, jsou tyto výchozí tiskové desky ve své podstatě citlivé na UV záření díky použitým kyselinotvorným materiálům.
Všechny tyto výše popsané, dosud známé výchozí tiskové desky, které lze použít jako desky pro přímé positivní vytvoření kresby, postrádají jednu nebo více vlastností. Žádnou z popsaných výchozích tiskových desek nelze použít, aniž by byly patřičně vyhodnoceny světelné podmínky v pracovní oblasti. Aby bylo možno pracovat s výchozími tiskovými deskami po neomezenou dobu, je třeba dodržet určité podmínky bezpečného osvětlení, které nedovolí nežádoucí působení UV záření. Výchozí tiskové desky mohou být použity při působení bílého pracovního světla pouze po omezenou dobu, v závislosti na výstupním spektru zdroje tohoto světla- Pro zefektivnění příslušného procesu je žádoucí používat zařízení pracující s digitálním přenosem obrazu a výchozí tiskové desky v prostředí neomezovaném typem zdroje bílého světlaCitlivost na UV záření by byla nevýhodou. Navíc práce za bílého světla by znamenala zlepšení pracovního prostředí v místech, kde probíhají veškeré operace před vlastním tiskem a kde je dosud třeba dodržovat omezující podmínky bezpečného osvětlení.
Dále, oba systémy výchozí tiskové desky obsahují komponenty mající vlastnosti, způsobující obtíže při optimalizaci vlastností desek vzhledem k optimálním účinkům v širokém pásmu požadovaných parametrů 1itografických desek, včetně rozpustnosti vývojky, a pohltivosti, rozplývavosti a přilnavosti barvy.
Systém popsaný v US 4,708925 nedovoluje přítomnost funkčních skupin, vázajících fenolovou pryskyřici v přítomnosti onium soli, ať jako modifikaci alkalicky rozpustné pryskyřice nebo jako přídavných komponentů, neboť by snížily rozpustnost při expozici• ·
Zásadním požadavkem kompozice. popsané v US 5,491.046, je přítomnost jak resolové, tak novolakové pryskyřice, dovolující použití sytému v negativně pracujícím režimu. To je výhodný režim pro tento systém. jak dokládají příklady negativně působícího systému v patentu popsané a první komerční produkt odvozený od této technologie, výrobky firmy Kodak. Optimalizace pro podmínky negativního působení omezují optimalizaci pro pozitivně pracující režim, který takové požadavky nemá. Celá řada za tepla se rozpouštějících kompozicí, které lze použít jako termografické záznamové materiály je popsána ve spise GB 1,245,924, vydaném 15.09.1971. U těchto materiálů může být rozpustnost kterékoliv oblasti vrstvy, na níž lze vytvořit obraz, pro dané rozpustidlo zvýšena zahřátím vrstvy nepřímým vystavením krátkodobému působení vysoce intenzivního viditelného světla a/nebo infračerveného záření. vysílaného nebo odráženého z oblasti pozadí grafického originálu, který je v kontaktu ze záznamovým materiálem. Popsané systémy jsou proměnné a mohou být provozovány pomocí různých mechanizmů a mohou používat různé vývojkové materiály, od vody po chlornatá organická rozpouštědla. K řadě popsaných kompozicí, která je možno vyvolávat ve vodném přípravku, patří ty, které obsahují fenolové pryskyřice typu novolaku. Podle uvedeného patentu, filmy, opatřené polevou obsahující takové pryskyřice, budou při zahřátí vykazovat zvýšenou rozpustnost. Kompozice mohou obsahovat teplo absorbující sloučeniny, jako je uhelná čerň nebo Milori modrá (C.I. pigmentová modř 27). Tyto materiály dobarvují kresby pro použití jako záznamové médium.
Úroveň rozdílu v rozpustitelnosti je u kompozice, popsané v GB 1,145,924, ve srovnání s komerčními positivně pracujícími kompozicemi 11tografických výchozích tiskových desek, nicméně velmi nízká. Standardní litografické výchozí tiskové desky jsou schopny skvěle snášet silné vývojkové roztoky, rozdíly při uživatelském zpracování a mohou být optimalizovány pro použití silných vývojkových roztoků a velké počty vytištěných vyobrazení. Pro velmi nízkou expoziční pružnost vývojky, jíž vykazuje kompozice podle spisu GB 1,245,924 nejsou vhodné jako komerčně použitelné, litografické výchozí tiskové desky.
Účelem tohoto vynálezu je řešení tepelně citlivé kompozice, vhodné pro tepelně citlivé, positivně pracující, výchozí tiskové desky, určené pro tepelný způsob vytváření obrazu, nevykazující nevýhody současných řešení, výše popsaných.
Podstata vynálezu
Výše uvedeného účelu je dosaženo a danou problematiku řeší oleofilní, tepelně citlivá kompozice v provedení podle vynálezu, jehož podstata spočívá v tom, že tato kompozice obsahuje ve vodní vývojce rozpustnou polymerní substanci, v dalším označovanou jako aktivní polymer“, a rozpustnost této polymerní substance ve vodné vývojce snižující sloučeninu, která je v dalším označována jako vratně znerozpustňující sloučenina. která působí tak, že rozpustnost kompozice ve vodném roztoku vývojky se zahrátím zvyšuje, zatímco rozpustnost této kompozice ve vodné vývojce není zvýšena v důsledku ozáření UV paprsky.
Rovněž podle tohoto vynálezu je řešena positivně pracující litografická výchozí tisková deska, která má polevu obsahující předmětný aktivní polymer a předmětnou vratně znerozpustňující sloučeninu, nanesenými na podložce s hydrofilním povrchem, kde rozpustnost kompozice ve vodné vývojce zahřátím vzrůstá, ale při ozáření UV zářením neroste.
Pro zvýšení citlivosti tepelně citlivé kompozice podle předmětného vynálezu je použito pomocné složky, a to záření absorbující sloučeniny, jež je schopná absorbovat záření a měnit je na teplo. Tato pomocná složka je v dalším označována jako záření pohlcující sloučenina.
' Dalším význakem předmětného vynálezu je 1 itograf ická výchozí tisková deska, kde poleva je vhodně upravená tak, že absorbuje záření a mění toto záření na teplo.
Dle předmětného vynálezu je upřednostněno provedení tepelně pracující, litografické výchozí tiskové desky, která na podložce s hydrofilním povrchem má oleofilní, tepelně citlivou kompozici, obsahující aktivní polymer, vratně znerozpustňující sloučeninu a záření absorbující sloučeninu, kde rozpustnost kompozice ve vodné vývojce zahřátím vzrůstá, ale neroste ozářením UV paprsky.
Podle předmětného vynálezu je dále upřednostněno provedení tepelně pracující předmětná poleva ο1eof i 1η ί. tepe1ně litografické výchozí tiskové desky, kde obsahuje pomocnou vrstvu, nanesenou pod citlivou kompozicí, kterážto přídavná vrstva obsahuje záření absorbující sloučeninu.
Podle předmětného vynálezu je dále upřednostněno provedení tepelně pracující litografické výchozí tiskové desky, která na podložce s hydrofilním povrchem má oleofilní, tepelně citlivou kompozici, obsahující aktivní polymer, vratně znerozpustnující sloučeninu, která je rovněž záření absorbující sloučeninou, kde rozpustnost kompozice ve vodné vývojce zahřátím vzrůstá, ale při ozáření UV paprsky neroste.
Pokud se zde v popise hovoří o tom, že rozpustnost kompozice ve vodné vývojce zahřátím vzrůstá, rozumí se tím, že vzrůstá podstatně, tj. natolik, že tento nárůst je možno využít v technice 1 itografického tisku. Pokud se zde v popise hovoří o tom, že rozpustnost kompozice ve vodní vývojce neroste ozářením UV paprsky, rozumí se tím, že neroste podstatně, tedy natolik, že aby bylo nezbytné používat bezpečné osvětlení. Bezvýznamný nárůst rozpustnosti při ozáření UV paprsky je tak možno v rámci tohoto vynálezu tolerovat.
Jako tisková deska je upřednostňována litografická deska, o níž bude pojednáno dále.
U všech výhodných provedení předmětného vynálezu, výsledkem tepelného přenosu kresby a následného zpracování je positivně pracující litografická tisková deska. Rozpustnost nanesené kompozice ve vodné vývojce je vzhledem k rozpustnosti samotného aktivního polymeru hodně snížena. Následným ozářením vhodným zářením se zahřátá místa kompozice stávají v roztoku vývojky lépe rozpustnými. Při expozici pod kresbou se tak rozpustnost neexponované a exponované kompozice mění rozdílně- V exponovaných místech je kompozice rozpuštěna a odkrývá podkladní kydrofilní povrch desky.
Na desky s povlakem podle vynálezu lze kresbu tepelným způsobem přenést nepřímo, vystavením krátkodobému, vysoce intenzivnímu ozáření, vysílanému nebo odráženému z oblastí pozadí grafického originálu, jenž je v dotyku se záznamovým materiálem.
Podle dalšího přínosu vynálezu může být obraz na desky tepelně přenesen s výhodou pomocí zahřátého tělesa. Např. může být deska, ať ze zadní strany, nebo ještě lépe ze strany tepelně citlivé kompozice, v dotyku s tepelným záznamovým hrotem.
Podle vynálezu může být dále deska s výhodou exponována přímo pomocí laseru a tak na polevě kresba tepelně vytvořena. Nejlépe laserem, vydávajícím záření o vlnové délce nad 600 nm.
Vynález není nijak omezen teoretickým výkladem principů na nichž pracuje. Považuje se za skutečnost, že aktivní polymer a vratně znerozpustňující sloučenina vytvářejí tepelně křehký komplex. Tento komplex je vytvářen vratně a může být rozložen pomocí působení tepla a tak obnovena rozpustnost kompozice ve vodné vývojce. Předpokládá se, že polymerní substance, vhodné pro použití u tohoto vynálezu, po rozložení obsahují funkční skupiny s volnými elektronovými vazbami (skupiny bohaté na elektrony), <a dále, že vhodné sloučeniny, redukující rozpustnost polymerních substancí ve vodné vývojce, jsou chudé na elektrony. Není třeba rozkladu složek kompozice, alespoň u dosud testovaných příkladů k jakémukoliv podstatnému rozkladu nedošlo.
Příklady funkčních skupin předmětných aktivních polymerů, vhodných pro vynález zahrnují hydroxy, karboxylové kyseliny, amino, amido a malei^mido funkční skupiny. Vhodný je široký rozsah polymerních materiálů, zahrnující fenolové pryskyřice, kopolymery 4-hydroxystyrenu, např. s 3-methy1-4-hydroxystyrenem, kopolymery (meth)akrylové kyseliny, např. se styrenem, kopolymery male 3 idů, např. se styrenem, hydroxy nebo karboxy celulózy, kopolymery anhydridu kyseliny malepvé, např. se styrenem
- Výhodným - řešením je použití feno 1 ové pryskyř ice ve f unkci aktivního polymeru. Zvláště vhodnými fenolovými pryskyřicemi pro řešení podle tohoto vynálezu jsou kondenzační produkty reakce mezi fenolem, C-alkyl substituovanými fenoly (jako jsou kresoly a p-tert-butyl-fenol), difenoly (jako bisfenol-A) a aldehydy (jako formaldehyd). V závislosti na způsobu průběhu kondenzace, je možno vytvořit celou řadu fenolových materiálů odlišné struktury a vlastností. Zvláště výhodné jsou novolakové pryskyřice, resolové pryskyřice a směsi novolakových a resolových pryskyřic.
Příklady vhodných novolakových pryskyřic
mají obecně následující strukturu
Jako vratně znerozpustnujíci sloučeniny lze užít velký počet sloučenin, redukujících vodorozpustnost vhodných polymerních substancí.
Vhodnými, vratně znerozpustnujících sloučeninani, jsou dusíkaté sloučeniny, kde alespoň jeden atom dusíku je kvartérizován, začleněn do heterocyklického kruhu nebo kvartérizován a začleněn do heterocyklického kruhu.
Příklady vhodně sloučeniny š obsahem kvarterního dusíku jsou triaryl metanové barviva, jako je Crystal Violet (označovaná též jako Cl basic violet 3) a Ethyl violet a tetraalkyl amoniové sloučeniny jako je Cetrimid.
Ještě výhodnější, vratně znerozpustnující sloučeninou je dusík obsahující heterocyklická sloučenina.
Příkladem vhodné dusík obsahující heterocyklické sloučeniny jsou chinolin a triazoly, jako 1.2,4-triazol.
Ještě dále výhodnější vratně znerozpustnující sloučeninou je kvartérizovaná heterocyklická sloučenina.
Příklady vhodné kvartérizované heterocyklické sloučeniny jsou imidiazolinové sloučeniny, jako jsou sloučeniny vyráběné firmou Mona Industries pod označením Monazolin C, Monazolin 0, Monazolin CY a Monazolin T, dále chinolinové sloučeniny, jako je l-ethyl-2-methyl chinolinium jodid a 1-ethyl-4-methyl chinolinium jodid, a dále benzotiazo1ové sloučeniny, jako benzotiazol jodid a dále pyridiniové sloučeniny, jako jsou cetyl pyridinium bromid, etyl viologen dibromid a fluoropyridinium tetrafluorobořát.
Vhodnou chinolinovou nebo benzotiazolovou sloučeninou jsou kationická kyaninová barviva, jako je Dye A, Quinoldine Blue a
3-ethy1-2[3-<3-ethy1-2(3H)-benyothiazolydin)-2-methy1-1-propeny 1 ] benzothiazo1 ium jodid.
Barvivo označené jako Dye A má tento vzorec
Další vhodnou skupinou vratně znerozpustňujících sloučenin jsou sloučeniny obsahující karbonylove funkční skupiny.
K vhodný sloučeninám obsahjícím karbonylove funkční skupiny patří alfa-naftoflavon, beta-naftoflavon. 2,3-difenyl-l-inden, flavon. flavanon. xanthon. benzofenon, N-(4-bromobutyl)phtalimid a fenantrenechinon.
Vratně znerozpustňující sloučeninou může být sloučenina, jež má obecný vzorec
Qi-S(O)n-O2 kde Qi představuje volitelně substituovaný fenyl nebo alkylovou skupinu. n je celé číslo z rady 0,1,2. a Qz představuje halogenový atom či alkoxylovou skupinu. S výhodou Qi představuje Ci4 alkylofenolovou skupinu, např. tolylovou skupinu, či skupinu Ci4 alkylovou. Index n má s výhodou hodnotu 1, nejlépe pak 2. S výhodou 02 představuje atom chloru či C14 alkoxylovou skupinu, zejména pak etoxylovou skupinu.
Jinou vhodnou vratně znerozpustňující sloučeninou je akridinové zásadité ornažové barvivo (CI solvent orange 15).
Další vhodnou vratně znerozpustňující sloučeninou jsou feroceniové sloučeniny, jako je ferocenium hexafluorfosfát.
Kromě aktivních polymerů. jež reagují se sloučeninou vratně znerozpustňující způsobem zde popsaným, může kompozice obsahovat polymerní substanci, která takto nereaguje. V takové kompozici, kde je směs polymerních substancí, může být aktivní polymer obsažen v menším váhovém množství, než zaujímá pomocná(é) polymerní látka. Vhodný obsah aktivního polymeru je nejméně 10 %, výhodný je alespoň 25 %, ještě výhodnější je alespoň 50 % hmot. Nicméně nejvýhodnější je obsah aktivního polymeru do výše, která vylučuje jakoukoliv polymerní substanci, která uvedeným způsobem nereaguje.
Majoritní podíl kompozice polymerními substancemi, včetně pomocnou polymerní substancí.
je tvořen jednou nebo více aktivního polymeru a, pokud je, která minoritní podíl kompozice tvořen nereaguje. S výhodou je vratně znerozpustnující sloučeninou.
tzde definovaný, dosahuje
Majoritní podíl kompozice, s výhodou alespoň 50 %, s výhodou alespoň 65 %, nejlépe hodnoty alespoň % celkové hmotnosti kompozice.
Minoritní podíl kompozice, zde definovaný, dosahuje s výhodou méně než 50 s výhodou do 20 nejlépe hodnoty do celkové hmotnosti kompozice.
Podíl vratně znerozpustnující sloučeniny v kompozici činí alespoň 1 s výhodou alespoň 2 do 15 % celkové hmotnosti kompozice.
lépe podíl vratně znerozpustnující sloučeniny se s výhodou do 5 %, ještě Celkově lze říci, že výhodný pohybuje v rozmezí až 15 % celkové hmotnosti kompozice.
Může existovat více než jedna polymerní substance reagující s předmětnou kompozicí. Uváděné hmotnostní podíly takové či takových substancí se vztahují k jejich celkovému obsahu. Obdobně substance, která takto může existovat více, než jedna polymerní nereaguje. Uváděné podíly takové či vztahují k jejich celkovému obsahu. Může takových substance se být obdobně i více, než jedna vratně znerozpustnující sloučenina- Uváděné podíly takové látky či látek se vztahují k jejich celkovému obsahu.
Složení vodného roztoku vývojky závisí na povaze polymerní látky. Běžnými složkami vodného roztoku litografické vývojky jsou surfactanty, chelátová činidla jako soli etylendiamin tetraoctové kyseliny, organická rozpouštědla jako benzylalkohol a zásadité
Je-li polymerní látkou fenolová pryskyřice, je vodnou vývojkou s výhodou zásaditá vývojka, obsahující anorganické nebo organ i cké metas i 1 i kátty.
Kompozice podle předmětného vynálezu je tepelně citlivá tak, že lokální ohřev kompozice, s výhodou vhodným zářením, způsobí zvýšenou rozpustnost exponovaných míst ve vodné vývojce11 ·· ····
Pro stanovení, zda sloučenina, obsahující aktivní polymer a vratně znerozpustňující sloučeninu a vhodná vodná vývojka jsou vhodné pro předmětný vynález, slouží šest jednoduchých testů, v dalším označené číslicemi 1 až 6.
TEST 1. Kompozice, obsahující aktivní polymer v nepřítomnosti vratně znerozpustňující sloučeniny, je nanesena na hydrofilní podložku a vysušena. Poté je na povrch naneseno barvivo. Je-li tak získána jednolitý barevný povlak, pak je kompozice oleofilní, je-li položena jako vrstva.
TEST 2. Hydrofilní podložka, pokrytá kompozicí s aktivním polymerem v nepřítomnosti vratně znerozpustňující sloučeniny, je za pokojové teploty podrobena působení vhodné vodné vývojky po vhodnou dobu, která může být určena pokusně, ale obvykle se pohybuje mezi 30 až 60 sekundami, pak opláchnuta, osušena a naneseno barvivo. Pokud barvivo na ploše neulpí, pak se kompozice ve vývojce rozpustila.
TEST 3. Kompozice. obsahující aktivní polymer a vratně znerozpustňující sloučeninu, je nanesena na hydrofilní podložku a vysušena. Poté je na povrch naneseno barvivo- Je-li tak získán jednolitý barevný povlak, pak je kompozice oleofilní, je-li položena jako vrstva.
TEST 4. Hydrofilní podložka, pokrytá kompozicí s aktivním polymerem a vratně znerozpustňující sloučeninou, je za pokojové teploty podrobena působení vhodné vodné vývojky po vhodnou dobu, jíž lze určit pokusně, ale obvykle se pohybuje mezi 30 až 60sekundami, pak = je opláchnuta, osušena a naneseno barvivo. Je-li tak získán jednolitý barevný povlak,, pak je kompozice v podstatě v roztoku vývojky nerozpustná.
TEST 5. Hydrofilní podložka, pokrytá kompozicí s aktivním polymerem a vratně znerozpustňující sloučeninou, je zahřáta v peci tak. že kompozice dosáhne za vhodnou dobu vhodné teploty. Pak na ni při pokojové teplotě, po přiměřenou dobu, působí vhodná vodná vývojka.
Povrch je pak vysušen a pokryt barvivém. Pokud barvivo na ploše neulpí. pak se zahřátá kompozice ve vývojce rozpustíla.
Teplota a doba závisejí na složkách kompozice a jejich poměru. Metodou zkoušek lze dospět ke stanovení vhodných podmínek. Pokud zkouškami nelze podmínky pro provedení testu stanovit, znamená to, že kompozice testu nevyhověla.
Lze říci, že při typickém složení, je kompozice,
obsahuj ící aktivní polymer a vratně znerozpustňující
sloučeninu. zahřívána v peci po dobu 5 až 20 sekund,
až dosáhne teploty 50 až 120 °C. Pak je za pokojové
teploty podrobena působení vhodné vodné vývojky po vhodnou, pokusně stanovenou dobu, která typicky činí od 30 do 120 sekund.
Výhodnějším postupem je zahřátí kompozice, obsahující aktivní polymer a vratně znerozpustňující sloučeninu, v peci na teplotu 50 až 120 °C, po dobu 10 až 15 sek. Pak je. za pokojové teploty, podrobena působení vhodné vodné vývojky po vhodnou, pokusně stanovenou dobu, která obvykle činí od 30 do 90 sekund.
TEST 6. Hydrofilní podložka, pokrytá kompozicí s aktivním polymerem a vratně znerozpustňující sloučeninou, je po vhodnou, pokusně stanovenou dobu, obvykle se rovnající 30 sekundám, vystavena působení UV záření. Pak je při pokojové teplotě, po přiměřenou dobu, jež obvykle činí 30 až sekund, podrobena působení vhodné vodné vývojky. Povrch je pak vysušen a pokryt barvivém. Pokud barvivo . na ploše ulpí, pak nedošlo k rozpuštění kompozice vlivem UV záření a kompozice je dostatečně odolná běžným pracovním, světelným podmínkám.
Pokud kompozice vyhoví všem šesti testům, je vhodná pro použití v rámci tohoto vynálezu.
Pro výhodné provedení předmětného vynálezu, lze jako záření absorbující sloučeninu použít celou řadu sloučenin nebo jejich komb i nac í.
·*·»
Ve výhodném provedení je jako záření absorbující sloučenina použita taková. která absorbuje infračervené záření. Nicméně, i jiné materiály, absorbující záření jiných vlnových délek, vyjma
UV záření, např. záření Ar-ion zdroje laserového záření o vlnové délce 488 nm. mohou být pro přeměnu záření na teplo použity.
Jako sloučeninu pohlcující záření je vhodné použít uhlíku, jako je uhelná čerň nebo grafit. Může jí být i komerčně dostupný pigment, jako Heliogen Green. dodávaný firmou BASF nebo Nigrosine Base NG1, dodávaný firmou Aldrich.
Způsob podle tohoto vynálezu je s výhodou prováděn tak, že podložka s polevou je pod kresbou přímo exponována laserem. Nejvýhodnější je použít laser, vydávající záření o vlnové délce nad 600 nm a jako záření absorbující sloučenina je vhodné barvivo pohlcující infračervené záření.
Infračervené záření pohlcující sloučeninou je s výhodou fa, jejíž absorbční spektrum leží okolo vlnové délky záření laseru.
pigment nebo barvivo, jako je fta1okyaninový pigment.
použitého v rámci předmětného způsobu. Vhodné je použít organický Může to být též barvivo či pigment ze tříd squarylium, merokyanin indolizin, pyrylium nebo metal ditiolin.
i
Příkladem takových sloučenin je
í
a barvivo Dye C, KF654b ΡΙΝΑ, dodávané firmou Riedel de Haen, UK, •·· ··· · • · • ·· • · ······· která má mít vzorec
Sloučenina, jež absorbuje záření, tvoří vhodně alespoň 1 s výhodou alespoň 2 %, s výhodou do 25 &, lépe do 15 % celkové hmotnosti kompozice. Výhodný hmotnostní podíl radiaci absorbující sloučeniny tak činí 2 až 15 % celkové hmotnosti kompozice. Může být též použito více než jedné sloučeniny, jež absorbuje záření. Údaje, týkající se podílu takové sloučeniny nebo sloučenin, se proto vztahují na jejich celkový obsahS výhodou lze též použít pomocnou vrstvu, která obsahuje záření absorbující sloučeninu. Takové vícevrstvé provedení nabízí cestu k vyšší citlivosti, nebot lze použít větší množství záření absorbující sloučeniny, bez vlivu na funkci obrazotvorné vrstvy. Zásadně platí, že jakýkoliv záření pohlcující materiál, který je v daném vlnovém rozmezí dostatečně účinný, může být vpraven do nebo vyroben jako jednolitá poleva. Barviva. kovy a pigmenty, včetně oxidů kovů, mohou být použity ve formě vrstev, nanesených srážením par. Způsoby nanášení a užití takových filmů je dobře známo, např. ze spisu EP 0,652,483. Přednost v předmětném vynálezu mají komponenty, které jsou ve formě jednolitého povlaku hydrofilní, nebo z nichž lze vytvořit hydrofilní plochu, např. použitím= hydrof i lni vrstvy. ... .... _—__ . = =, , „ __
Sloučeninami, které snižují rozpustnost polymerní substance ve vodné vývojce a jsou též záření absorbujícími sloučeninami, vhodnými pro tento vynález, jsou s výhodou kyaninová barviva, nejlépe chinolino kyaninová barviva, absorbující záření o vlnové délce nad 600 nm.
Příklady takovýchto sloučenin jsou ·
2-[3-chloro-5-(l-ethyl-2(lH)-quinolinylidene)-l,3-pentadienyl]-l-ethylquinolinium bromide
-Ethy 1-2-(5-( 1 -ethyl-2( 1 H)-quinoliny lidene)-1,3 -pentadienyl] quinolinium iodide
4-(3-chloro-5-(l -ethyl-4( 1 H)-quinolinylidene)-1,3-pentadienyI]-1 -ethylquinolinium iodide
Dye D, l-Ethyl-4-[5-(l-ethyl-4(lH)-quinolinylidene)-l,3-pentadienyl] quinolinium iodide
Vratně znerozpustnující sloučenina, která je současně záření pohlcující sloučeninou, tvoří alespoň 1 %, s výhodou alespoň 2 %, s výhodou do 25 %, lépe do 15 % celkové hmotnosti kompozice. Výhodný hmotnostní podíl záření absorbující sloučeniny tak činí 2 až 15 % Celkové hmotnosti kompozice.
Jako podložku lze s výhodou použít hliníkovou desku, která byla v litografii obvyklými způsoby podrobena elektrolytickému okysličování, úpravě povrchu a post-anodickému ošetření, aby bylo možno na její povrch nanést polevu komposice citlivé na záření, a povrch podložky tak mohl plnit svou funkci.
Dalším podkladovým materiálem použitelným pro předmětný vynález je podložka z plastu nebo upraveného papíru, jejichž užití je známé ve fotografickém průmyslu. Zvláště vhodným plastovým materiálem je polyetylén tereftalát, který byl opatřen spodní vrstvou filmu a jeho povrch se tak stal hyxrofilním. Také lze použít tzv. pryskyřicí potažený papír, ošetřený koronovým výbo j em.
Příkladem laserů, které lze použít pro předmětný vynález, je polovodičový laser, vysílající záření v rozmezí 600 až 1100 nm. Takovým typem je např. Nd YAG laser vydávající záření 1064 nm. Je však možno použít jakýkoliv laser s dostatečnou schopností vytvářet obraz, tj. laser vydávající záření, které kompozice absorbuje.
Kompozice podle vynálezu může obsahovat další přísady, jako stabilizační aditiva, inertní barviva, pomocná polymerní pojivá, která jsou součástí mnoha kompozicí 1itografických desek.
Je výhodné, když tepelně citlivé kompozice dle předmětného vynálezu neobsahují složky citlivé na UV záření. Komponenty, jež jsou sice citlivé na UV záření, ale nejsou aktivovány vzhledem k přítomnosti jiných komponentů, jako inertní barviva pohlcující UV záření, nebo nejhořejší, UV záření pohlcující vrstva, však nicméně mohou být přítomny.
Kterýkoliv význak nebo vlastnost předmětného vynálezu nebo zde popsaného proveden í, mflže být-komb i nován s kterýmko1 iv da1ším„ aspektem kteréhokoliv zde popsaného vynálezu nebo provedeníPříklad provedení
Následující příklady podrobněji popisují různé aspekty výše popsaného vynálezu.
V příkladech byla pro dále uvedené komerční produkty použita následná označení, výraz Resin označuje pryskyřici • · • · · · • 4
RESIN A RESIN B RESIN C RESIN D RESIN E RESIN F RESIN G RESIN H
LB6564 - feno1/kreso1-novolaková pryskyřice, prodávaná firmou Bakelite,
R17620 - fenol/formaldehyd-resolová pryskyřice, výrobek firmy B.P. Chemicals Ltd., UK
SMD995 - alkyl fenol/formaldehyd-resolová pryskyřice, uvedená na trh Schenectady Midland Ltd, UK.
Maruka Lyncur M(S-2) - pólyhydroxystyrenová pryskyřice prodávaná Maruzen Petrochemical Co.Ltd, JPRonacoat 300 - polymer na bázi dimethylmaleimidu prodávaný firmou Rohner, Ltd, CH.
Gantrez Anll9 - methy1vinylether-co-maleinový anhydrid kopolymer firmy Gaf Chemicals Co., UK
SMA 2625P - styren-maleinový poloester, prodávaný firmou Elf Atochem UK Ltd.
Celuloz-acetátový propionát (mol.váha 75000, o obsahu
2,5 % acetátu, 45 až 49 %, propionátu, prodávaný firmou Eastman Fine Chemicals, USA.
Metody zkoušky expozice =
Z polevou opatřeného substrátu. na němž měla být vytvořena kresba, byly nařezány kotouče o průměru 105 mm a umístěny na disku, který mohl rotovat stálou rychlostí 100 až 2500 ot/min. Vedle otáčejícího se disku byl umístěn postupně se pohybující stůl s laserovým zdrojem, nasměrovaným tak, že laserový paprsek dopadal kolmo na substrát, přičemž při pohybu stolu se paprsek pohyboval přímočaře, v radiálním směru rotujícího kotouče.
Použit byl laser vybavený v jednovidovém režimu pracujícím polovodičovým zdrojem o výkonu 200 mV, dávajícím záření o vlnové délce 830 nm. Laser byl zaostřen na rozlišení 10 mikronů. Napájen byl stabilizovaným zdrojem stejnosměrného proudu.
Exponovaný obraz měl tvar spirály, kde kresba ve středu spirály představovala nízkou snímací rychlost laseru a dlouhou expoziční dobu a vnější okraj spirály znamenal velkou snímací rychlost a krátkou dobu expozice. Velikost energie zobrazování vycházela z měření průměru místa, kde byla kresba vytvářena.
Minimální energie, kterou je možno při tomto způsobu expozice dodat je 150 mJ/cm2, při otáčkách 2500 ot/min.
Porovnávací příklady Cl až C5, příklady 1 až 9
Polevy u všech následujících příkladů byly připraveny jako roztoky v l-metoxypropan-2-olu, vyjma příkladů 4, 5, 8, kde byly připraveny jako roztoky v l-metoxypropan-2-ol/DMF 40 - 60 Cv:v), a příkladu 7, jako roztok v l-methoxypropan-2-ol/DMF 35 : 65 (v=v). Použitým substrátem byla 0,3 mm hliníková fólie, jejíž povrch byl elektrometodou upraven na zrnitý, elektrolyticky okyslišen a pak následně upraven vodným roztokem anorganického fosfátu. Polevové roztoky byly na substrát naneseny pomocí z drátu vinuté mřížky (vire-vound bar). Koncentrace roztoků byly zvoleny tak, že vznikl suchý film určeného složení a vytvořená vrstva měla po vysušení v peci, při 100 °C po dobu 3 minut, plošnou hmotnost 1,3 g/m2.
Srovnávac í vzorek
Cl C2 C3 C4 C5
složka počet váhových dílů
Resin A 100 95.7 90 90 90
Dye B 4.25 4 4 4
Benzoic acid 6
p-nitrophenol 6
3',3,5',5-tetrabromophenylphthaIein 6
V další tabulce jsou uvedeny mj. následující látky Benzotiazolium A = 3-etyl-2-/3-etyl-2C3H)-benzotiazolidyn-2-metyl
-1-propeny1/benzotiazolium bromid.
Benzotiazolium B - 3-ety1-2-metyl benzotiazolium jodid.
•e · «· ······ • · · · · · • · · ······ • · · · · • · · «···*·· ·· ·
Příklad
1 2 3 4 5 6 7 8 9
složka počet váhových dílů
Resin A 86 90 90 90 90 90 90 90 90
DyeB 4 4 4 4 4 4 4 4 4
Dye A 10
l-ethyl-4-methyl quinolinium bromide 6 -
Monazoline C 6
Benzothiazolium A 6
Benzothiazolium B 6
Cetyl pyridinium bromide 6
Ethyl viologen dibromide 6
Cetrimide 6
Crystal Violet 6
Desky byly zkoušeny na chování v procesu vyvolávání, ponořením na 30 sekund do vodného roztoku, níže definovaného :
Vývojka A : 14 % vodní roztok sodium matasilikát pentahydrát. Vývojka A : 7 % vodní roztok sodium matasilikát pentahydrát.
Následující tabulka ukazuje výsledky chování kompozic ve vývojce.
Vývo j ka B
srovnávací vzorky 1 až 5 povlak úplně odstraněn
vzorky 1 až 9 žádné patrné změny
Kompozice uvedené jako srovnávací vzorky nevykazují odolnost proti účinkům vývojky. Kompozice, uvedené jako Příklady 1 až 9, dokreslují účinek snížené rozpustnosti polymeru ve vývojce pomocí • sloučenin popsaných v předmětném vynálezu.
Další vzorky desek byly opatřeny obrazem pomocí popsaného v-laseru o záření vlnové délky 830 nm. Exponované kotouče byly poté zpracovány ponořením na 30 sekund do vodného roztoku vývojky, jejíž složení je uvedeno výše. Pak byly stanoveny citlivosti desek, uvedené v následující tabulce.
«· · · ·
Vývojka A I«Uyvo jker«B···
Srovnávací vzorek
1 poleva odstraněna
2 poleva odstraněna
3 poleva odstraněna
4 poleva odstraněna
5 poleva odstraněna
Příklad
1 <150 mJ/cm2
2 < 150 mJ/cm2
3 < 150 mJ/cm2
4 <150 mJ/cm2
5 <150 mJ/cm2
6 <150 mJ/cm2
7 <150 mJ/cm2
8 < 150 mJ/cm2
..............9................ <150 mJ/cnr —...........- -.........
Na tiskovou desku zhotovenou podle příkladu 1 byl též pomocí přenosového zařízení Trendsetter, vyráběného firmou Creo Products of Vancouver, CDN, přenesen obraz. Touto deskou bylo na litografickém tiskařském lisu zhotoveno nejméně 10 000 dobrých výtisků.
Příklad 10
Postupem uvedeným pro příklady 1 až 9, byl připraven roztok obsahující 8»15 g l-metoxypropan-2-oI, 2,40 g vodného roztoku pryskyřice RESIN A v l-metoxypropan-2-olu, 0,12 g barviva Dye A a 0,24 g 50 % (v/w) vodní disperze uhelné černě a nanesen na podIožku.
složka počet váhových dílů
RESIN A 80
DYE A 10
uhelná čerň 10
Na výslednou desku byla laserem o výkonu 200 mV a záření o vlnové délce 830 nm a pomocí dříve popsaného zařízení přenesena kresba. Deska byla pak po 30 sekund podrobena působení vývojky B.
Hustota zobrazovací energie požadovaná pro získání vhodného obrazu byla < 150 mJ/m2.
Na tiskovou desku, zhotovenou podle příkladu 10, byl dále pomocí komerčního přenosového zařízení Trendsetter, vyráběného firmou Creo Products of Vancouver. CDN, přenesen obraz. S touto deskou bylo na 1 itografickém tiskařském lisu zhotoveno nejméně
000 dobrých výtisků.
Příklad 11
Výchozí tiskařská deska s kompozicí popsanou v předcházející tabulce byla zhotovena postupem uvedeným v příkladu 4
složka počet váhových dílů
RESIN A 90
DYE D 10
— Na výslednou desku byla -laserem o výkonu 200 mV a záření o vlnové délce 830 nm a pomocí dříve popsaného zařízení přenesena kresba. Deska byla pak po 30 sekund podrobena působení vývojky B. Hustota zobrazovací energie požadovaná pro získání vhodného obrazu byla < 150 mJ/m2.
Na tiskovou desku, zhotovenou podle příkladu 11, byl též pomocí komerčního přenosového zařízení Trendsetter, vyráběného firmou Creo Products of Vancouver, CDN, přenesen obraz. S touto deskou bylo na 1 itografickém tiskařském lisu zhotoveno nejméně 10 000 dobrých výtisků.
Příklady 12 až 18
Výše popsaným postupem byly připraveny polevové hmoty jako roztoky v l-metoxypropan-2-olu s výjimkou příkladu 16, kde byly sloučeniny rozpuštěny v l-metoxypropan-2-ol/DMF 80=20 (v=v).
_ Tyto polevové hmoty byly naneseny na podložku tak, jak ^ popsáno v příkladech 1 až 9, čímž byly získány kompozice ve formě suchého filmu a složení uvedeného v následující tabulce.
• · • · · ·
Příklad
12 13 14 15 16 17 18
složka počet váhových dílů
Crystal Violet 6 6 6 6 6 6 6
Dye C 4 4 4 4 4 4 4
Resin A 45
Resin B 90
Resin C 45
Resin D 90
Resin E 90
Resin F 90
Resin G 90
Resin H 90
Na vzorky desek byly pak pomocí výše popsaného laserového zařízení, které dávalo záření o vlnové délce 830 nm, přeneseny kresby. Exponované kotouče byly poté po vhodnou dobu podrobeny působení vhodného vodného roztoku vývojky, jak je popsáno dříve a dále. Pak byly stanoveny citlivosti desek. Výsledky jsou uvedeny v následující tabulce.
Vývojka i Doba (sec) Citlivost
Příklad
12 B 90 248 mJ/cm2
13 A 90 277 mJ/cm2
14 C 45 277 mJ/cm2
15 D 5 253 mJ/cm2
16 E 60 461 mJ/cnr
. 17 D 90 30Q mJ/cm2
18 A 120 700 mJ/cm2
Vývojka C - 15 % beta-na£tyletoxylát, 5 % benzylalkohol» 2 % trisodium soli nitrilo-trioctové kyseliny, 78 % vody.
Vývojka D · 3 % beta-naftyletoxylát. 1 % benzylalkohol, 2 & trisodium soli nitrilo-trioctové kyseliny, 94 % vody.
Vývojka E : 1,5 % beta-naftyletoxylát, 0,5 % benzylalkohol, 2 % trisodium soli nitrilo-trioctové kyseliny, 94 % vody.
Příklady 19 - 30
Výše popsaným postupem byly připraveny polevové hmoty jako roztoky v l-metoxypropan-2-olu, s výjimkou příkladu 26, kde byly sloučeniny rozpuštěny v l-metoxypropan-2-ol/DMF 50=50 (v=v).
Tyto polevové hmoty byly naneseny na podložku tak, jak popsáno v příkladech 1 až 9, čímž byly získány kompozice ve formě suchého filmu a složení uvedeného v následující tabulce.
Příklad
19 20 21 22 23 24 25 26 27 28 29 30
složka počet váhových dílů
DyeB 4 4 4 4 4 4 4 4
Dye C 4 4 4 4
Resin A 90 90 90 90 90 90 90 90 90 90 90 90
α-Naphtho řlavone 6
β-Naphthoflavone 6
Flavone 6
Xanthone 6
Flavanone 6
Benzophenone 6
2,3-Diphenyl-lindeneone 6
N-(4-bromobutyl) phthaiimide 6
Phenanthrene quinone 6
Acridine Orange Base (Cl solvent orange 15) 6
p-Toluene sulfonyl chloride 6
Ethyl-p-toluene sulfonate 6
Na vzorky desek byly pak pomocí výše popsaného laserového zařízení, které dávalo záření o vlnové délce 830 nm, přeneseny kresby. Exponované kotouče byly poté po vhodnou dobu podrobeny působení vhodného vodného roztoku vývojky. Pak byly stanoveny citlivosti desek. Výsledky jsou uvedeny v následující tabulce.
Vývojka Doba (sec) Citlivost
Příklad
19 A 30 <150 mJ/cm2
20 A 30 <150 mJ/cm2
21 A 30 290 mJ/cm2
22 A 30 <150 mJ/cm2
23 A 30 <150 mJ/cm2
24 B 30 220 mJ/cm2
25 B 30 < 150 mJ/cm2
26 B 15 < 150 mJ/cm2
27 B 60 250 mJ/cm2
28 A 90 250 mJ/cm2
29 B 10 400 mJ/cm2
30 B 60 250 mJ/cm2
Příklad 31
Výše popsaným postupem byly připraveny polevové hmoty jako roztoky v l-metoxypropan-2-olu. Tyto polevové hmoty byly naneseny na podložku tak. jak popsáno v příkladech 1 až 9. čímž byly získány kompozice ve formě suchého filmu a složení uvedeného v následující tabulce.
s1ožka počet váhových dílů
RESIN A = ’ 90
DYE C 4
uhelná čerň 6
Vzorky desek byly pak vystaveny teplu vyzařovanému páječkou typu Veller Soldering Iron EC 2100 M o teplotě 311 °C. Rychlost pohybu páječky nad povrchem desky je uvedena v následující tabulce. Exponované vzorky desek byly poté ponořením na 60 sekund podrobeny působení vývojky A.
Výsledky jsou uvedeny v následující tabulce .
Rychlost pohybu páječky cm/sec Místo pflsobení tepla výsledek testu rozpust i te1nost i
1 poleva desky poleva v místě ohřevu zcela odstraněna
10 poleva desky poleva v místě ohřevu zcela odstraněna
20 poleva desky poleva v místě ohřevu zcela odstraněna
50 poleva desky poleva v místě ohřevu zcela odstraněna
1 opačná strana desky, přímo na A1-podložku poleva v místě ohřevu zcela odstraněna
1O opačná strana desky, přímo na A1-podložku poleva v místě ohřevu zcela odstraněna
V popise je v mnoha případech uváděno UV záření- Pokud by nebylo jasné» co je míněno pojmem typická vlnová délka UV záření» rozumí se tímto pojmem záření o vlnovém rozsahu 190 až 400 nm.
Všechny význaky uvedené v tomto popise, včetně kteréhokoliv patentového nároku, anotace a obrázku, a/nebo všechny kroky kteréhokoliv popsaného postupu nebo způsobu, mohou být jakkoliv kombinovány, vyjma kombinací a/nebo kroků, kde alespoň některé z takových význakfl a/nebo kroků se vzájemně vylučují.
Kterýkoliv význak uvedený v tomto popise, vč. kteréhokoliv patentového nároku, anotace a obrázku, může být nahrazen alternativními význaky stejného nebo ekvivalentního či obdobného -účelu, pokud není výslovně uvedeno jinak. Pokud tak není výslovně uveden opak, každý popsaný význak je pouze jedním příkladem v. generické řady ekvivalentních nebo obdobných význaků.
Vynález není omezen na podrobnosti výše uvedených provedení. Vynález se vztahuje též na kterýkoliv nový význak nebo novou kombinaci význakfl uvedených v tomto popise, včetně kteréhokoliv patentového nároku, anotace a obrázku. nebo na kterýkoliv nový krok jakéhokoliv zde uvedeného postupu či metody nebo na novou kombinaci postupfl či metod zde popsaných.

Claims (31)

  1. PATENTOVÉ NÁROKY v ( t η- SWJCS ie oleokl·*!
    1- {tepelně citlivá k-empoz-i-ee*. obsahující 've vodné vývojce rozpustnou polymerní substanci a sloučeninu, snižující rozpustnost polymerní látky ve vodné vývojce, vyznačená tím, že rozpustnost polymerní substance ve vodném roztoku vývojky se zahřátím zvyšuje, přičemž se nezvyšuje dopadem UV záření.
  2. 2. Kompozice podle nároku 1, vyznačená tím, že ve vodné vývojce rozpustná polymerní substance obsahuje funkční skupinu nebo funkční skupiny ze skupin hydroxy, karboxy, amino, amid a maleinimid.
  3. 3. Kompozice podle nároku 1, vyznačená tím, že ve vodné vývojce rozpustnou polymerní substancí je látka zvolená ze skupiny polymer či kopolymer J|ydroxystyrenu. polymer či kopolymer kyseliny akrylové, polymer či kopolymer kyseliny metakrylové, polymer či kopolymer maleinimidu, polymer či kopolymer anhydridu kyseliny maleinové, hydroxyceluloza, karboxy celulóza, fenolová pryskyřice.
  4. 4. Kompozice podle nároku 1, vyznačená tím, že ve vodné vývojce rozpustnou polymerní látkou je fenolová pryskyřice.
    5. Kompozice podle nároku 1, v y z n a č e n á tím, že vodným roztokem vývojky je vodný alkalický roztok. 6. Kompozice podle nároku 1, v y z n a č e n á t í m. že
    sloučenina, snižující rozpustnost polymerní substance ve vodné vývojce, obsahuje alespoň jeden kvarterní atom dusíku.
  5. 7. Kompozice podle nároku 1, vyznačená' tím, že sloučenina, snižující rozpustnost polymerní substance ve vodné vývojce, obsahuje alespoň jeden atom dusíku, patřící do řetězce heterocyklického.
  6. 8. Kompozice podle nároku 7, vyznačená tím, že sloučenina, snižující rozpustnost polymerní substance ve vodné vývojce, je zvolena z chinolinu a triazolu.
  7. 9. Kompozice podle nároku 1, vyznačená tím. že sloučenina, snižující rozpustnost polymerní substance ve vodné vývojce, obsahuje alespoň jeden kvarterní atom dusíku, patřící do heterocyklického řetězce.
  8. 10. Kompozice podle nároku 9, vyznačená tím, že sloučenina, snižující rozpustnost polymerní substance ve vodné
    vývojce, je zvolena ze sloučenin benzotiazol a pyridinium. imidazolin. chinolin, 11. Kompozice podle nároku 10, vyznačená sloučeninou chinolinovou je kyaninové barvivo. tím. že 12. Kompozice podle nároku 10. v y z sloučeninou benzotiazolovou je kyaninové n a č e n á barvivo. tím, že 13. Kompozice podle nároku 1, v y z n a č e n á tím, že
    sloučeninou, snižující rozpustnost polymerní substance ve vodné vývojce, je triarylmetanová sloučenina.
  9. 14- Kompozice podle nároku 1, vyznačená tím. že sloučenina, snižující rozpustnost polymerní substance ve vodné vývojce, obsahuje karbonylovou funkční skupinu.
  10. 15. Kompozice podle nároku 14, vyznačená tím. že sloučenina, “snižujícírozpustnost polymerní substance ve vodné vývojce, patří mezi sloučeniny flavanové-
  11. 16. Kompozice podle nároku 14, vyznačená tím. že sloučenina, snižující rozpustnost polymerní substance ve vodné vývojce, je zvolena z N-4C4-bromobutyl)ftalimid, flavanon, xanton, benzofenon, 2,3-difenyl-l-indeneon a fenantrenechinon.
  12. 17- Kompozice podle nároku 14, vyznačená tím, že ·· ···· sloučenina, snižující rozpustnost polymerní substance ve vodné vývojce, má obecný vzorec
    Ql-SC0)n-Q2 kde Qi představuje volitelně substituovanou fenylovou nebo alkylovou skupinu, n je celé číslo z řady 0,1,2, a Q2 představuje halogenový atom či alkoxylovou skupinu.
  13. 18. Kompozice podle nároku 14, vyznačená tím, že sloučeninou, snižující rozpustnost polymerní substance ve vodné vývojce, je sloučenina ety1-p-toluen sulfonátu a p-toluensulfony1 chloridu.
  14. 19. Kompozice podle nároku 14, vyznačená tím, že sloučeninou, snižující rozpustnost polymerní substance ve vodné vývojce, je oranžové akridinové zásadité barvivo CCI solvent orange 15).
  15. 20. Kompozice podle nároku 14, vyznačená tím, že sloučeninou, snižující rozpustnost polymerní substance ve vodné vývojce, je sloučenina feroceniová.
    <L 4 porvat ·
  16. 21- Pos-ttl-vně, _p.nacu-j-í-G.í litografická Výchozí tisková deskaí?^C<*^ opatřená polevou obsahující kompozici podle kteréhokoliv z předcházejících nároků, vyznačená tím, že poleva je nanesena na podložce s hydrofilním povrchem.
  17. 22. Litografická výchozí tisková deska podle nároku 21, vyznačená tím, že kompozice polevy je upravena pro _ =abs.orbc.i=záření =a^=jehO’přeměnu^na='teplor-*”^”“· ' ' ' - - - - =- - -
  18. 23. Litografická výchozí tisková deska podle nároku 22, vyznačená tím, že kompozice obsahuje záření absorbující sloučeninu, která je schopna absorbovat dopadající záření a měnit je na teplo.
  19. 24. Litografická výchozí tisková deska podle nároku 22, vyznačená tím, že poleva obsahuje pomocnou vrstvu, uspořádanou pod vrstvou kompozice podle bodu 1, přičemž pomocná vrstva obsahuje záření absorbující sloučeninu, která je schopna absorbovat dopadající záření a měnit je na teplo.
  20. 25. Litografická výchozí tisková deska podle nároku 22, vyznačená tím, že sloučenina, snižující rozpustnost polymerní látky ve vodné vývojce, je současně záření absorbující sloučeninou, která je schopna absorbovat dopadající záření e a měnit je na teplo.
  21. 26. Litografická výchozí tisková deska podle nároku 23 nebo 24,
    vyznačená uhelná čerň. tím, že zářen í absorbující sloučeninou je 27. Li tograf i cká výchozí tisková deska podle nároku 23 nebo 24. vyznačená tím, že záření absorbující sloučeninou je pigment. 28. Li tograf i cká výchozí tisková deska podle nároku 27, vyznačená tím, že záření absorbující sloučeninou je organický ρ1gment. 29. Litografická výchozí tisková deska podle nároku 28. vyznačená tím, že i organickým pigmentem je ftalocyaninový pigment.
  22. 30. Litografická výchozí tisková deska podle nároku 27» vyznačená tím, že záření absorbující sloučeninou je anoganický pigment. = _ _ _ _ .^=,=== == · ·· — - — = -·= ^'
  23. 31. Litografická výchozí tisková deska podle nároku 27, vyznačená tím, že pigmentem je Pruská modř, Heliogen zelená či Nigrosin.
  24. 32. Litografická výchozí tisková deska podle nároku 23 nebo 24. vyznačená tím, že záření absorbující sloučeninou je barvivo zvolené z jedné z následujících tříd, squarylium, merocyanin, indolizin, pyrylium nebo metal ditiolin.
    33. Litografická výchozí tisková deska podle nároku 24, v y značená tím. že pomocnou vrstvou je tenká vrstva barviva nebo pigmentu. 34. Litograf ická výchozí tisková deska podle nároku 24. v y značená tím. že pomocnou vrstvou je tenká vrstva kovu nebo oxidu kovu.
  25. 35- Litografická výchozí tisková deska podle nároku 25, vyznačená tím, že sloučeninou, která snižuje rozpustnost polymerní látky ve vodné vývojce a současně absorbuje záření. je kyaninové barvivo s obsahem chinolinu Cquinolinium moiety).
  26. 36. Litografická výchozí tisková deska podle jednoho z nároků 27,32 nebo 35, vyznačená tím, že záření absorbující sloučeninou je látka pohlcující záření o vlnové délce nad 600 nm.
  27. 37. Způsob výroby litografická tiskové desky, vyznačený t í m, že na výchozí tiskovou desku dle jednoho z nároků 21 až 36 se pomocí záření přenese obraz.
  28. 38. Způsob výroby podle nároku 37, vyznačený tím, že výchozí tisková deska se ozáří laserovým paprskem.
    s
  29. 39. Způsob výroby podle nároku 37, vyznačený tím,
    - že , ^výchozí ^tisková deska se “ozáří laserovým paprskem o vlnové * délce nad 600 nm.
  30. 40. Způsob výroby podle nároku 37» vyznačený tím, že výchozí tisková deska se ozáří tepelným zářením.
  31. 41. Způsob výroby podle nároku 37. vyznačený tím, že na výchozí tiskovou desku podle jednoho z nároků 21 až 36 se přenese obraz způsobem podle jednoho z nároků 37 až 40.
CZ19974008A 1996-04-23 1997-04-22 Pozitivně pracující, oleofilní, tepelně citlivá kompozice, litografická výchozí tisková deska obsahující tuto kompozici a způsob výroby litografické výchozí tiskové desky CZ292739B6 (cs)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GBGB9608394.4A GB9608394D0 (en) 1996-04-23 1996-04-23 Lithgraphic plates
GBGB9614693.1A GB9614693D0 (en) 1996-07-12 1996-07-12 Lithographic plates
PCT/GB1996/001973 WO1997007986A2 (en) 1995-08-15 1996-08-13 Water-less lithographic plates
GBGB9700884.1A GB9700884D0 (en) 1997-01-17 1997-01-17 Lithographic plates

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CZ400897A3 true CZ400897A3 (cs) 1998-04-15
CZ292739B6 CZ292739B6 (cs) 2003-12-17

Family

ID=27268256

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CZ19974008A CZ292739B6 (cs) 1996-04-23 1997-04-22 Pozitivně pracující, oleofilní, tepelně citlivá kompozice, litografická výchozí tisková deska obsahující tuto kompozici a způsob výroby litografické výchozí tiskové desky

Country Status (16)

Country Link
US (2) US6280899B1 (cs)
EP (2) EP0825927B1 (cs)
JP (1) JP3147908B2 (cs)
CN (1) CN1078132C (cs)
AT (2) ATE220991T1 (cs)
AU (1) AU707872B2 (cs)
BR (1) BR9702181A (cs)
CA (1) CA2225567C (cs)
CZ (1) CZ292739B6 (cs)
DE (4) DE69714225T2 (cs)
ES (2) ES2114521T3 (cs)
IL (1) IL122318A (cs)
NO (1) NO976002L (cs)
PL (1) PL324248A1 (cs)
RU (1) RU2153986C2 (cs)
WO (1) WO1997039894A1 (cs)

Families Citing this family (227)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB9516723D0 (en) 1995-08-15 1995-10-18 Horsell Plc Water-less lithographic plates
JP3814961B2 (ja) * 1996-08-06 2006-08-30 三菱化学株式会社 ポジ型感光性印刷版
US5858626A (en) 1996-09-30 1999-01-12 Kodak Polychrome Graphics Method of forming a positive image through infrared exposure utilizing diazonaphthoquinone imaging composition
GB9622657D0 (en) 1996-10-31 1997-01-08 Horsell Graphic Ind Ltd Direct positive lithographic plate
US6060222A (en) * 1996-11-19 2000-05-09 Kodak Polcyhrome Graphics Llc 1Postitve-working imaging composition and element and method of forming positive image with a laser
DE69833046T2 (de) 1997-03-11 2006-08-03 Agfa-Gevaert Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte
US6090532A (en) * 1997-03-21 2000-07-18 Kodak Polychrome Graphics Llc Positive-working infrared radiation sensitive composition and printing plate and imaging method
US6083662A (en) * 1997-05-30 2000-07-04 Kodak Polychrome Graphics Llc Methods of imaging and printing with a positive-working infrared radiation sensitive printing plate
EP0996869A1 (en) * 1997-07-05 2000-05-03 Kodak Polychrome Graphics LLC Pattern-forming methods and radiation sensitive materials
GB9714526D0 (en) * 1997-07-11 1997-09-17 Horsell Graphic Ind Ltd Pattern Formation
EP0897134B1 (en) * 1997-08-13 2004-12-01 Mitsubishi Chemical Corporation Positive photosensitive composition, photosensitive lithographic printing plate and method for forming a positive image
JP2003533707A (ja) 1997-08-14 2003-11-11 コダック ポリクロム グラフィックス カンパニーリミテッド マスク及び電子パーツの製造方法
GB9722861D0 (en) * 1997-10-29 1997-12-24 Horsell Graphic Ind Ltd Improvements in relation to the manufacture of lithographic printing forms
US6060217A (en) * 1997-09-02 2000-05-09 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermal lithographic printing plates
EP0901902A3 (en) 1997-09-12 1999-03-24 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positive photosensitive composition for use with an infrared laser
EP0908306B3 (en) 1997-10-08 2009-08-05 Agfa-Gevaert A method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive imaging element
EP0908305B2 (en) 1997-10-08 2006-07-19 Agfa-Gevaert A method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive imaging element
DE69829590T2 (de) 1997-10-17 2006-02-09 Fuji Photo Film Co., Ltd., Minami-Ashigara Positiv arbeitendes photoempfindliches Aufzeichnungsmaterial für Infrarotlaser und positiv arbeitende Zusammensetzung für Infrarotlaser
DE69810242T2 (de) * 1997-10-28 2003-10-30 Mitsubishi Chemical Corp., Tokio/Tokyo Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch, positiv arbeitende lichtempfindliche Flachdruckplatte und Verfahren zur Bebilderung der Druckplatte
GB9722862D0 (en) * 1997-10-29 1997-12-24 Horsell Graphic Ind Ltd Pattern formation
EP0914942B1 (en) * 1997-11-07 2005-05-25 Toray Industries, Inc. Directly imageable waterless planographic printing plate precursor and a method of producing planographic printing plates
JP3810538B2 (ja) 1997-11-28 2006-08-16 富士写真フイルム株式会社 ポジ型画像形成材料
US6399279B1 (en) 1998-01-16 2002-06-04 Mitsubishi Chemical Corporation Method for forming a positive image
US5922512A (en) * 1998-01-29 1999-07-13 Kodak Polychrome Graphics Llc Processless direct write printing plate having heat sensitive polymer and methods of imaging and printing
EP0934822B1 (en) 1998-02-04 2005-05-04 Mitsubishi Chemical Corporation Positive photosensitive composition, positive photosensitive lithographic printing plate and method for forming a positive image
US6143471A (en) * 1998-03-10 2000-11-07 Mitsubishi Paper Mills Limited Positive type photosensitive composition
GB2335283B (en) 1998-03-13 2002-05-08 Horsell Graphic Ind Ltd Improvements in relation to pattern-forming methods
GB2335282B (en) 1998-03-13 2002-05-08 Horsell Graphic Ind Ltd Improvements in relation to pattern-forming methods
US6444393B2 (en) * 1998-03-26 2002-09-03 Fuji Photo Film Co., Ltd. Anionic infrared-ray absorbing agent, photosensitive composition and planographic printing plate precursor using same
US6447977B2 (en) * 1998-04-15 2002-09-10 Agfa-Gevaert Heat mode sensitive imaging element for making positive working printing plates
IT1299220B1 (it) 1998-05-12 2000-02-29 Lastra Spa Composizione sensibile sia a radiazioni ir che a radiazioni uv e lastra litografica
GB9811813D0 (en) * 1998-06-03 1998-07-29 Horsell Graphic Ind Ltd Polymeric compounds
US6358669B1 (en) 1998-06-23 2002-03-19 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermal digital lithographic printing plate
US6352811B1 (en) 1998-06-23 2002-03-05 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermal digital lithographic printing plate
US6534238B1 (en) * 1998-06-23 2003-03-18 Kodak Polychrome Graphics, Llc Thermal digital lithographic printing plate
DE19834745A1 (de) 1998-08-01 2000-02-03 Agfa Gevaert Ag Strahlungsempfindliches Gemisch mit IR-absorbierenden, anionischen Cyaninfarbstoffen und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
DE19834746A1 (de) 1998-08-01 2000-02-03 Agfa Gevaert Ag Strahlungsempfindliches Gemisch mit IR-absorbierenden, betainischen oder betainisch-anionischen Cyaninfarbstoffen und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
US6190831B1 (en) * 1998-09-29 2001-02-20 Kodak Polychrome Graphics Llc Processless direct write printing plate having heat sensitive positively-charged polymers and methods of imaging and printing
JP3635203B2 (ja) * 1998-10-06 2005-04-06 富士写真フイルム株式会社 平版印刷版用原版
GB2342459B (en) * 1998-10-07 2003-01-15 Horsell Graphic Ind Ltd Improvements in relation to electronic parts
GB2342460A (en) * 1998-10-07 2000-04-12 Horsell Graphic Ind Ltd Method of making an electronic part
BR9915407A (pt) 1998-11-16 2001-07-24 Mitsubishi Chem Corp Placa de impressão litográfica fotossensìvel positiva sensìvel a raios infravermelhos proximos; método de produzila e método para formar uma imagem positiva
US6344306B1 (en) 1999-03-16 2002-02-05 Toray Industries, Inc. Directly imageable waterless planographic printing plate precursor, and directly imageable waterless planographic printing plate
US6124425A (en) * 1999-03-18 2000-09-26 American Dye Source, Inc. Thermally reactive near infrared absorption polymer coatings, method of preparing and methods of use
JP2000275828A (ja) * 1999-03-25 2000-10-06 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版
DE60037951T2 (de) 1999-05-21 2009-02-05 Fujifilm Corp. Fotoempfindliche Zusammensetzung und Flachdruckplatte, die diese Zusammensetzung verwendet
EP1072405B1 (en) * 1999-07-30 2003-06-04 Lastra S.P.A. Composition sensitive to IR radiation and to heat and lithographic plate coated therewith
ES2199119T3 (es) 1999-07-30 2004-02-16 Lastra S.P.A. Composicion sensible a la radicacion ir y al calor y placa litografica recubierta con dicha composicion.
US6255033B1 (en) 1999-07-30 2001-07-03 Creo, Ltd. Positive acting photoresist compositions and imageable element
EP1072404B1 (en) * 1999-07-30 2003-05-21 Lastra S.P.A. Composition sensitive to IR radiation and to heat and lithographic plate coated with this composition
CA2314520A1 (en) 1999-07-30 2001-01-30 Domenico Tiefenthaler Composition sensitive to ir radiation and to heat and lithographic plate coated therewith
US6706466B1 (en) 1999-08-03 2004-03-16 Kodak Polychrome Graphics Llc Articles having imagable coatings
US6251559B1 (en) 1999-08-03 2001-06-26 Kodak Polychrome Graphics Llc Heat treatment method for obtaining imagable coatings and imagable coatings
US6461794B1 (en) 1999-08-11 2002-10-08 Kodak Polychrome Graphics Llc Lithographic printing forms
US6550989B1 (en) 1999-10-15 2003-04-22 Kodak Polychrome Graphics Llc Apparatus and methods for development of resist patterns
ATE259301T1 (de) 1999-10-19 2004-02-15 Fuji Photo Film Co Ltd Fotoempfindliche zusammensetzung und flachdruckplatte, die diese zusammensetzung verwendet
US6232031B1 (en) 1999-11-08 2001-05-15 Ano-Coil Corporation Positive-working, infrared-sensitive lithographic printing plate and method of imaging
US6391524B2 (en) * 1999-11-19 2002-05-21 Kodak Polychrome Graphics Llc Article having imagable coatings
US6300038B1 (en) 1999-11-19 2001-10-09 Kodak Polychrome Graphics Llc Articles having imagable coatings
US6294311B1 (en) * 1999-12-22 2001-09-25 Kodak Polychrome Graphics Llc Lithographic printing plate having high chemical resistance
US6558787B1 (en) 1999-12-27 2003-05-06 Kodak Polychrome Graphics Llc Relation to manufacture of masks and electronic parts
US6787291B2 (en) 2000-04-06 2004-09-07 Toray Industries, Inc. Directly imageable planographic printing plate and production method thereof
JP2001305722A (ja) 2000-04-18 2001-11-02 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
US6458511B1 (en) 2000-06-07 2002-10-01 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermally imageable positive-working lithographic printing plate precursor and method for imaging
US6506533B1 (en) 2000-06-07 2003-01-14 Kodak Polychrome Graphics Llc Polymers and their use in imagable products and image-forming methods
KR100776467B1 (ko) 2000-07-06 2007-11-16 캐보트 코포레이션 개질된 안료 생성물, 이의 분산액 및 이를 포함하는 조성물
BR0112946A (pt) 2000-08-04 2004-02-03 Kodak Polychrome Graphics Co Forma de impressão litográfica e método de prepapação e uso da mesma
US6649324B1 (en) * 2000-08-14 2003-11-18 Kodak Polychrome Graphics Llc Aqueous developer for lithographic printing plates
US6555291B1 (en) 2000-08-14 2003-04-29 Kodak Polychrome Graphics, Llc Thermal digital lithographic printing plate
US6558872B1 (en) 2000-09-09 2003-05-06 Kodak Polychrome Graphics Llc Relation to the manufacture of masks and electronic parts
US6451502B1 (en) 2000-10-10 2002-09-17 Kodak Polychrome Graphics Llc manufacture of electronic parts
US6864040B2 (en) 2001-04-11 2005-03-08 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermal initiator system using leuco dyes and polyhalogene compounds
WO2002034517A1 (en) 2000-10-26 2002-05-02 Kodak Polychrome Graphics Company, Ltd. Compositions comprising a pigment
US6596460B2 (en) 2000-12-29 2003-07-22 Kodak Polychrome Graphics Llc Polyvinyl acetals having azido groups and use thereof in radiation-sensitive compositions
US6548215B2 (en) 2001-02-09 2003-04-15 Kodak Polychrome Graphics Llc Method for the production of a printing plate using the dual-feed technology
US6613494B2 (en) 2001-03-13 2003-09-02 Kodak Polychrome Graphics Llc Imageable element having a protective overlayer
US7049046B2 (en) * 2004-03-30 2006-05-23 Eastman Kodak Company Infrared absorbing compounds and their use in imageable elements
US6899994B2 (en) 2001-04-04 2005-05-31 Kodak Polychrome Graphics Llc On-press developable IR sensitive printing plates using binder resins having polyethylene oxide segments
US7592128B2 (en) 2001-04-04 2009-09-22 Eastman Kodak Company On-press developable negative-working imageable elements
US6777164B2 (en) 2001-04-06 2004-08-17 Kodak Polychrome Graphics Llc Lithographic printing forms
EP1256444B1 (en) 2001-04-09 2004-06-30 Agfa-Gevaert Positive-working lithographic printing plate precursor
US6739260B2 (en) 2001-05-17 2004-05-25 Agfa-Gevaert Method for the preparation of a negative working printing plate
DE60110214T2 (de) * 2001-05-17 2006-03-09 Agfa-Gevaert Herstellungsverfahren zu einer negativ arbeitenden Druckplatte
BR0102218B1 (pt) 2001-05-31 2012-10-16 produto sensìvel à radiação, e processo de impressão ou revelação de imagem utilizando o referido produto.
US6706454B2 (en) 2001-07-05 2004-03-16 Kodak Polychrome Graphics Llc Method for the production of a printing plate using particle growing acceleration by an additive polymer
JP3917422B2 (ja) 2001-07-26 2007-05-23 富士フイルム株式会社 画像形成材料
US7056639B2 (en) 2001-08-21 2006-06-06 Eastman Kodak Company Imageable composition containing an infrared absorber with counter anion derived from a non-volatile acid
US6593055B2 (en) 2001-09-05 2003-07-15 Kodak Polychrome Graphics Llc Multi-layer thermally imageable element
US7294447B2 (en) 2001-09-24 2007-11-13 Agfa Graphics Nv Positive-working lithographic printing plate precursor
EP1295717B1 (en) 2001-09-24 2007-07-25 Agfa Graphics N.V. Heat-sensitive positive-working lithographic printing plate precursor
KR100406460B1 (ko) * 2001-09-29 2003-11-19 한국과학기술연구원 커플링된 스티릴시아닌 색소 및 그의 제조 방법
US6723490B2 (en) 2001-11-15 2004-04-20 Kodak Polychrome Graphics Llc Minimization of ablation in thermally imageable elements
US6699636B2 (en) 2001-12-12 2004-03-02 Kodak Polychrome Graphics Llc Imaging element comprising a thermally activated crosslinking agent
US6960423B2 (en) 2001-12-26 2005-11-01 Creo Inc. Preparation of gravure and intaglio printing elements using direct thermally imageable media
US6723489B2 (en) 2002-01-30 2004-04-20 Kodak Polychrome Graphics Llp Printing form precursors
US6830862B2 (en) 2002-02-28 2004-12-14 Kodak Polychrome Graphics, Llc Multi-layer imageable element with a crosslinked top layer
US20050003296A1 (en) * 2002-03-15 2005-01-06 Memetea Livia T. Development enhancement of radiation-sensitive elements
US6732653B2 (en) 2002-04-26 2004-05-11 Kodak Polychrome Graphics Llc Method to remove unwanted, unexposed, positive-working, radiation-sensitive layer
US6843176B2 (en) 2002-04-26 2005-01-18 Kodak Polychrome Graphics, Llc Method to remove unwanted, unexposed, radiation-sensitive layer in a lithographic printing plate
EP1396338B1 (en) 2002-09-04 2006-07-19 Agfa-Gevaert Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US20040067435A1 (en) 2002-09-17 2004-04-08 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image forming material
US6858359B2 (en) 2002-10-04 2005-02-22 Kodak Polychrome Graphics, Llp Thermally sensitive, multilayer imageable element
CN100439120C (zh) 2002-10-04 2008-12-03 爱克发印艺公司 制造平版印刷版前体的方法
US7195859B2 (en) 2002-10-04 2007-03-27 Agfa-Gevaert Method of making a lithographic printing plate precursor
WO2004030923A2 (en) 2002-10-04 2004-04-15 Agfa-Gevaert Method of marking a lithographic printing plate precursor
US7455949B2 (en) 2002-10-15 2008-11-25 Agfa Graphics, N.V. Polymer for heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US7198877B2 (en) 2002-10-15 2007-04-03 Agfa-Gevaert Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US7458320B2 (en) 2002-10-15 2008-12-02 Agfa Graphics, N.V. Polymer for heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US6794107B2 (en) 2002-10-28 2004-09-21 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermal generation of a mask for flexography
CN1332809C (zh) * 2002-12-26 2007-08-22 富士胶片株式会社 平版印刷版前体
DE60320204T2 (de) 2002-12-27 2009-05-14 Fujifilm Corp. Wärmeempfindlicher lithographischer Druckplattenvorläufer
JP4163964B2 (ja) 2003-01-07 2008-10-08 岡本化学工業株式会社 画像形成組成物およびそれを用いた感光性平版印刷版
US7160667B2 (en) * 2003-01-24 2007-01-09 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image forming material
US6790590B2 (en) 2003-01-27 2004-09-14 Kodak Polychrome Graphics, Llp Infrared absorbing compounds and their use in imageable elements
US6953652B2 (en) 2003-01-27 2005-10-11 Agfa-Gevaert Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US7087359B2 (en) 2003-01-27 2006-08-08 Agfa-Gevaert Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US20060107858A1 (en) * 2003-02-11 2006-05-25 Marc Van Damme Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US7229744B2 (en) * 2003-03-21 2007-06-12 Eastman Kodak Company Method for preparing lithographic printing plates
US6908726B2 (en) * 2003-04-07 2005-06-21 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermally imageable elements imageable at several wavelengths
US20040214108A1 (en) * 2003-04-25 2004-10-28 Ray Kevin B. Ionic liquids as dissolution inhibitors in imageable elements
JP4703104B2 (ja) * 2003-06-06 2011-06-15 株式会社東芝 通信端末装置
DE602004015778D1 (de) * 2003-06-30 2008-09-25 Think Labs Kk Positive lichtempfindliche zusammensetzung
JP4657276B2 (ja) * 2003-07-03 2011-03-23 株式会社シンク・ラボラトリー ポジ型感光性組成物
WO2005005146A1 (en) 2003-07-08 2005-01-20 Kodak Polychrome Graphics Llc Imageable element comprising sulfated polymers
US7371454B2 (en) * 2003-12-15 2008-05-13 Eastman Kodak Company Imageable element comprising sulfated polymers
US6942957B2 (en) * 2003-07-17 2005-09-13 Kodak Polychrome Graphics Llc Ionic liquids as developability enhancing agents in multilayer imageable elements
US6992688B2 (en) * 2004-01-28 2006-01-31 Eastman Kodak Company Method for developing multilayer imageable elements
US6844141B1 (en) 2003-07-23 2005-01-18 Kodak Polychrome Graphics Llc Method for developing multilayer imageable elements
JP2005047181A (ja) * 2003-07-30 2005-02-24 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版の製版方法、平版印刷方法および平版印刷原版
US7226724B2 (en) 2003-11-10 2007-06-05 Think Laboratory Co., Ltd. Positive-type photosensitive composition
EP1718473B1 (en) 2003-12-04 2008-08-06 IBF - Indústria Brasileira de Filmes S/A Positive working thermal imaging assembly and method for the manufacture thereof
EP1697144A1 (en) 2003-12-18 2006-09-06 Agfa-Gevaert N.V. Positive-working lithographic printing plate precursor
US7297465B2 (en) 2003-12-18 2007-11-20 Agfa Graphics Nv Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US7205084B2 (en) 2003-12-18 2007-04-17 Agfa-Gevaert Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US7467587B2 (en) 2004-04-21 2008-12-23 Agfa Graphics, N.V. Method for accurate exposure of small dots on a heat-sensitive positive-working lithographic printing plate material
US7348126B2 (en) 2004-04-27 2008-03-25 Agfa Graphics N.V. Negative working, heat-sensitive lithographic printing plate precursor
EP1750175B1 (en) * 2004-05-27 2008-07-30 Think Laboratory Co., Ltd. Positive photosensitive composition
DE602004006099T2 (de) 2004-06-11 2008-03-13 Agfa Graphics N.V. Negativ arbeitende wärmeempfindlicher lithographischer Druckplattenvorläufer
DE102004029501A1 (de) * 2004-06-18 2006-01-12 Kodak Polychrome Graphics Gmbh Modifizierte Polymere und ihre Verwendung bei der Herstellung von Lithographie-Druckplattenvorläufern
US7279263B2 (en) * 2004-06-24 2007-10-09 Kodak Graphic Communications Canada Company Dual-wavelength positive-working radiation-sensitive elements
US7354696B2 (en) 2004-07-08 2008-04-08 Agfa Graphics Nv Method for making a lithographic printing plate
US7425405B2 (en) 2004-07-08 2008-09-16 Agfa Graphics, N.V. Method for making a lithographic printing plate
US7195861B2 (en) 2004-07-08 2007-03-27 Agfa-Gevaert Method for making a negative working, heat-sensitive lithographic printing plate precursor
JP4152928B2 (ja) * 2004-08-02 2008-09-17 株式会社シンク・ラボラトリー ポジ型感光性組成物
JP4242815B2 (ja) * 2004-08-27 2009-03-25 株式会社シンク・ラボラトリー ポジ型感光性組成物
US7198883B2 (en) 2004-09-24 2007-04-03 Agfa-Gevaert Processless lithographic printing plate
DE602004008285T2 (de) 2004-09-24 2008-05-08 Agfa Graphics N.V. Verarbeitungsfreie Flachdruckplatte
JP2006154477A (ja) * 2004-11-30 2006-06-15 Think Laboratory Co Ltd ポジ型感光性組成物
JP4474296B2 (ja) 2005-02-09 2010-06-02 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
EP1705003B1 (en) 2005-03-21 2007-10-24 Agfa Graphics N.V. Processless lithographic printing plates
JP2006293162A (ja) 2005-04-13 2006-10-26 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
KR100693357B1 (ko) * 2005-04-19 2007-03-12 가부시키가이샤 씽크. 라보라토리 포지티브형 감광성 조성물
EP1885759B1 (en) 2005-06-03 2013-01-23 American Dye Source, Inc. Thermally reactive near-infrared absorbing acetal copolymers, methods of preparation and methods of use
US7678533B2 (en) 2005-06-30 2010-03-16 Agfa Graphics, N.V. Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US20070292802A1 (en) * 2005-07-12 2007-12-20 Think Laboratiory Co., Ltd. Positive Photosenstive Composition
US8313885B2 (en) 2005-11-10 2012-11-20 Agfa Graphics Nv Lithographic printing plate precursor comprising bi-functional compounds
US7338745B2 (en) * 2006-01-23 2008-03-04 Eastman Kodak Company Multilayer imageable element with improved chemical resistance
EP1991418A1 (en) 2006-02-28 2008-11-19 Agfa Graphics N.V. Method for making a lithographic printing plate
DE602006004839D1 (de) 2006-02-28 2009-03-05 Agfa Graphics Nv Positiv arbeitende Lithografiedruckformen
EP1834764B1 (en) 2006-03-17 2009-05-27 Agfa Graphics N.V. Negative working, heat-sensitive lithographic printing plate precursor
ES2335300T3 (es) 2006-05-24 2010-03-24 Agfa Graphics N.V. Precursor de plancha de impresion litografica termosensible de accion negativa.
EP1859936B1 (en) 2006-05-24 2009-11-11 Agfa Graphics N.V. Method for making a lithographic printing plate
GB2439734A (en) * 2006-06-30 2008-01-09 Peter Andrew Reath Bennett Coating for a lithographic precursor and use thereof
JP5038434B2 (ja) * 2006-11-28 2012-10-03 イーストマン コダック カンパニー 良好な耐溶剤性を有する多層画像形成性要素
WO2008126722A1 (ja) * 2007-04-05 2008-10-23 Think Laboratory Co., Ltd. ポジ型感光性組成物
EP1985445B1 (en) 2007-04-27 2011-07-20 Agfa Graphics N.V. A lithographic printing plate precursor
EP2002987B1 (en) 2007-06-13 2014-04-23 Agfa Graphics N.V. A method for treating a lithographic printing plate
US7582407B2 (en) * 2007-07-09 2009-09-01 Eastman Kodak Company Imageable elements with low pH developer solubility
ATE509764T1 (de) 2007-08-14 2011-06-15 Agfa Graphics Nv Verfahren zur herstellung einer lithographiedruckform
WO2009030279A1 (en) 2007-09-07 2009-03-12 Agfa Graphics Nv A heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US7989146B2 (en) 2007-10-09 2011-08-02 Eastman Kodak Company Component fabrication using thermal resist materials
EP2062728B1 (en) 2007-11-13 2011-08-31 Agfa Graphics N.V. Method for making a lithographic printing plate
ATE468981T1 (de) 2007-11-30 2010-06-15 Agfa Graphics Nv Verfahren zur behandlung einer lithografiedruckplatte
JP2009132974A (ja) 2007-11-30 2009-06-18 Fujifilm Corp 微細構造体
EP2095948B1 (en) 2008-02-28 2010-09-15 Agfa Graphics N.V. A method for making a lithographic printing plate
EP2098376B1 (en) 2008-03-04 2013-09-18 Agfa Graphics N.V. A method for making a lithographic printing plate support
ATE514561T1 (de) 2008-03-31 2011-07-15 Agfa Graphics Nv Verfahren zur behandlung einer lithografischen druckplatte
ATE552111T1 (de) 2008-09-02 2012-04-15 Agfa Graphics Nv Wärmeempfindlicher, positiv arbeitender lithographiedruckformvorläufer
EP2194429A1 (en) 2008-12-02 2010-06-09 Eastman Kodak Company Gumming compositions with nano-particles for improving scratch sensitivity in image and non-image areas of lithographic printing plates
EP2213690B1 (en) 2009-01-30 2015-11-11 Agfa Graphics N.V. A new alkali soluble resin
US20100227269A1 (en) 2009-03-04 2010-09-09 Simpson Christopher D Imageable elements with colorants
EP2263874B1 (en) 2009-06-18 2012-04-18 Agfa Graphics N.V. A lithographic printing plate precursor
EP2284005B1 (en) 2009-08-10 2012-05-02 Eastman Kodak Company Lithographic printing plate precursors with beta-hydroxy alkylamide crosslinkers
US8383319B2 (en) 2009-08-25 2013-02-26 Eastman Kodak Company Lithographic printing plate precursors and stacks
EP2293144B1 (en) 2009-09-04 2012-11-07 Eastman Kodak Company Method of drying lithographic printing plates after single-step-processing
US8298750B2 (en) 2009-09-08 2012-10-30 Eastman Kodak Company Positive-working radiation-sensitive imageable elements
EP2316645B1 (en) 2009-10-27 2012-05-02 AGFA Graphics NV Novel cyanine dyes and lithographic printing plate precursors comprising such dyes
US8936899B2 (en) 2012-09-04 2015-01-20 Eastman Kodak Company Positive-working lithographic printing plate precursors and use
RU2487882C1 (ru) 2009-10-29 2013-07-20 Майлан Груп Галлотанниновые соединения в композициях для покрытия литографических печатных форм
EP2329951B1 (en) 2009-12-04 2012-06-20 AGFA Graphics NV A lithographic printing plate precursor
ES2395993T3 (es) 2010-03-19 2013-02-18 Agfa Graphics N.V. Precursor de plancha de impresión litográfica
US20110236832A1 (en) * 2010-03-26 2011-09-29 Celin Savariar-Hauck Lithographic processing solutions and methods of use
US8939080B2 (en) 2010-11-18 2015-01-27 Eastman Kodak Company Methods of processing using silicate-free developer compositions
US20120129093A1 (en) 2010-11-18 2012-05-24 Moshe Levanon Silicate-free developer compositions
EP2668039B1 (en) 2011-01-25 2015-06-03 AGFA Graphics NV A lithographic printing plate precursor
ES2427137T3 (es) 2011-02-18 2013-10-29 Agfa Graphics N.V. Precursor de plancha de impresión litográfica
US8632940B2 (en) 2011-04-19 2014-01-21 Eastman Kodak Company Aluminum substrates and lithographic printing plate precursors
US8722308B2 (en) 2011-08-31 2014-05-13 Eastman Kodak Company Aluminum substrates and lithographic printing plate precursors
US9156529B2 (en) 2011-09-08 2015-10-13 Agfa Graphics Nv Method of making a lithographic printing plate
US9096759B2 (en) * 2011-12-21 2015-08-04 E I Du Pont De Nemours And Company Printing form and process for preparing the printing form with curable composition having solvent-free epoxy resin
US20130255515A1 (en) 2012-03-27 2013-10-03 Celin Savariar-Hauck Positive-working lithographic printing plate precursors
WO2014017640A1 (ja) 2012-07-27 2014-01-30 富士フイルム株式会社 平版印刷版用支持体およびその製造方法、並びに、平版印刷版原版
US9562129B2 (en) 2013-01-01 2017-02-07 Agfa Graphics Nv (Ethylene, vinyl acetal) copolymers and their use in lithographic printing plate precursors
EP2775351B1 (en) 2013-03-07 2017-02-22 Agfa Graphics NV Apparatus and method for processing a lithographic printing plate
CN110543081A (zh) 2013-06-18 2019-12-06 爱克发有限公司 制备具有图案化背层的平版印刷版前体的方法
EP2871057B1 (en) 2013-11-07 2016-09-14 Agfa Graphics Nv Negative working, heat-sensitive lithographic printing plate precursor
EP2933278B1 (en) 2014-04-17 2018-08-22 Agfa Nv (Ethylene, vinyl acetal) copolymers and their use in lithographic printing plate precursors
ES2617557T3 (es) 2014-05-15 2017-06-19 Agfa Graphics Nv Copolímeros (de etileno, vinilacetal) y su uso en precursores de plancha de impresión litográfica
CN104035279B (zh) * 2014-05-23 2017-07-18 浙江康尔达新材料股份有限公司 阳图红外敏感组合物及其可成像元件
ES2660063T3 (es) 2014-06-13 2018-03-20 Agfa Nv Copolímeros (de etileno, vinilacetal) y su uso en precursores de plancha de impresión litográfica
EP2963496B1 (en) 2014-06-30 2017-04-05 Agfa Graphics NV A lithographic printing plate precursor including ( ethylene, vinyl acetal ) copolymers
ES2655798T3 (es) 2014-12-08 2018-02-21 Agfa Nv Sistema para reducir los residuos de ablación
EP3130465B1 (en) 2015-08-12 2020-05-13 Agfa Nv Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US9588429B1 (en) 2015-09-03 2017-03-07 Eastman Kodak Company Lithographic developer composition and method of use
EP3170662B1 (en) 2015-11-20 2019-08-14 Agfa Nv A lithographic printing plate precursor
JP2019510272A (ja) 2016-03-16 2019-04-11 アグファ・ナームローゼ・フェンノートシャップAgfa Nv 平版印刷版の処理方法
EP3239184A1 (en) 2016-04-25 2017-11-01 Agfa Graphics NV Thermoplastic polymer particles and a lithographic printing plate precursor
EP3441223B1 (en) 2017-08-07 2024-02-21 Eco3 Bv A lithographic printing plate precursor
CN111051981B (zh) 2017-08-25 2024-04-09 富士胶片株式会社 负型平版印刷版原版及平版印刷版的制版方法
EP3474073B1 (en) 2017-10-17 2022-12-07 Agfa Offset Bv A method for making a printing plate
EP3637188A1 (en) 2018-10-08 2020-04-15 Agfa Nv An effervescent developer precursor for processing a lithographic printing plate precursor
EP3650938A1 (en) 2018-11-09 2020-05-13 Agfa Nv A lithographic printing plate precursor
EP3715140A1 (en) 2019-03-29 2020-09-30 Agfa Nv A method of printing
EP3778253A1 (en) 2019-08-13 2021-02-17 Agfa Nv Method for processing a lithographic printing plate
EP3922462B1 (en) 2020-06-08 2023-03-01 Agfa Offset Bv Lithographic photopolymer printing plate precursor with improved daylight stability
US20240100820A1 (en) 2020-12-16 2024-03-28 Agfa Offset Bv Lithographic Printing Press Make-Ready Method
EP4382306A1 (en) 2022-12-08 2024-06-12 Eco3 Bv Lithographic printing press make-ready method

Family Cites Families (137)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL80628C (cs) 1949-07-23
US3046121A (en) 1949-07-23 1962-07-24 Azoplate Corp Process for the manufacture of printing plates and light-sensitive material suttablefor use therein
US3046119A (en) 1950-08-01 1962-07-24 Azoplate Corp Light sensitive material for printing and process for making printing plates
BE506677A (cs) 1950-10-31
NL78025C (cs) 1951-02-02
US2767092A (en) 1951-12-06 1956-10-16 Azoplate Corp Light sensitive material for lithographic printing
GB742557A (en) 1952-10-01 1955-12-30 Kalle & Co Ag Light-sensitive material for photomechanical reproduction and process for the production of images
GB772517A (en) 1954-02-06 1957-04-17 Kalle & Co Ag Improvements in or relating to photo-mechanical reproduction
BE540225A (cs) 1954-08-20
US2907665A (en) 1956-12-17 1959-10-06 Cons Electrodynamics Corp Vitreous enamel
NL129161C (cs) 1959-01-14
BE593836A (cs) 1959-08-05
US3105465A (en) 1960-05-31 1963-10-01 Oliver O Peters Hot water heater
US3460964A (en) * 1964-11-19 1969-08-12 Eastman Kodak Co Heat-sensitive recording element and composition
NL6608712A (cs) * 1966-06-23 1966-11-25
US3635709A (en) 1966-12-15 1972-01-18 Polychrome Corp Light-sensitive lithographic plate
GB1170495A (en) 1967-03-31 1969-11-12 Agfa Gevaert Nv Radiation-Sensitive Recording Material
GB1231789A (cs) * 1967-09-05 1971-05-12
GB1245924A (en) * 1967-09-27 1971-09-15 Agfa Gevaert Improvements relating to thermo-recording
GB1260662A (en) * 1968-03-27 1972-01-19 Agfa Gevaert Improvements relating to the sub-titling of processed photographic materials
US3837860A (en) 1969-06-16 1974-09-24 L Roos PHOTOSENSITIVE MATERIALS COMPRISING POLYMERS HAVING RECURRING PENDENT o-QUINONE DIAZIDE GROUPS
US3647443A (en) 1969-09-12 1972-03-07 Eastman Kodak Co Light-sensitive quinone diazide polymers and polymer compositions
JPS5024641B2 (cs) 1972-10-17 1975-08-18
US3891439A (en) 1972-11-02 1975-06-24 Polychrome Corp Aqueous developing composition for lithographic diazo printing plates
JPS5536518B2 (cs) * 1972-11-21 1980-09-20
US3859099A (en) 1972-12-22 1975-01-07 Eastman Kodak Co Positive plate incorporating diazoquinone
CA1085212A (en) 1975-05-27 1980-09-09 Ronald H. Engebrecht Use of volatile carboxylic acids in improved photoresists containing quinone diazides
DE2529054C2 (de) 1975-06-30 1982-04-29 Ibm Deutschland Gmbh, 7000 Stuttgart Verfahren zur Herstellung eines zur Vorlage negativen Resistbildes
DE2543820C2 (de) * 1975-10-01 1984-10-31 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Verfahren zur Herstellung von Flachdruckformen mittels Laserstrahlen
DE2607207C2 (de) 1976-02-23 1983-07-14 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Verfahren zur Herstellung von Flachdruckformen mit Laserstrahlen
US4486529A (en) 1976-06-10 1984-12-04 American Hoechst Corporation Dialo printing plate made from laser
GB1603920A (en) 1978-05-31 1981-12-02 Vickers Ltd Lithographic printing plates
JPS5560944A (en) 1978-10-31 1980-05-08 Fuji Photo Film Co Ltd Image forming method
US4308368A (en) 1979-03-16 1981-12-29 Daicel Chemical Industries Ltd. Photosensitive compositions with reaction product of novolak co-condensate with o-quinone diazide
JPS561045A (en) 1979-06-16 1981-01-08 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Photosensitive composition
JPS561044A (en) 1979-06-16 1981-01-08 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Photosensitive composition
JPS569740A (en) 1979-07-05 1981-01-31 Fuji Photo Film Co Ltd Image forming method
US4316952A (en) * 1980-05-12 1982-02-23 Minnesota Mining And Manufacturing Company Energy sensitive element having crosslinkable polyester
GB2082339B (en) * 1980-08-05 1985-06-12 Horsell Graphic Ind Ltd Lithographic printing plates and method for processing
US4529682A (en) 1981-06-22 1985-07-16 Philip A. Hunt Chemical Corporation Positive photoresist composition with cresol-formaldehyde novolak resins
JPS58203433A (ja) 1982-05-21 1983-11-26 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPS58224351A (ja) 1982-06-23 1983-12-26 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性印刷版
US4609615A (en) 1983-03-31 1986-09-02 Oki Electric Industry Co., Ltd. Process for forming pattern with negative resist using quinone diazide compound
DE3325023A1 (de) 1983-07-11 1985-01-24 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Verfahren zur herstellung negativer kopien mittels eines materials auf basis von 1,2-chinondiaziden
US4708925A (en) * 1984-12-11 1987-11-24 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photosolubilizable compositions containing novolac phenolic resin
US4693958A (en) 1985-01-28 1987-09-15 Lehigh University Lithographic plates and production process therefor
DE3541534A1 (de) 1985-11-25 1987-05-27 Hoechst Ag Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch
ZA872295B (cs) 1986-03-13 1987-09-22
US4684599A (en) 1986-07-14 1987-08-04 Eastman Kodak Company Photoresist compositions containing quinone sensitizer
US4743528A (en) * 1986-11-21 1988-05-10 Eastman Kodak Company Enhanced imaging composition containing an azinium activator
GB8700599D0 (en) * 1987-01-12 1987-02-18 Vickers Plc Printing plate precursors
DE3716848A1 (de) 1987-05-20 1988-12-01 Hoechst Ag Verfahren zur bebilderung lichtempfindlichen materials
EP0304313A3 (en) 1987-08-21 1990-08-22 Oki Electric Industry Company, Limited Pattern forming material
US4973572A (en) * 1987-12-21 1990-11-27 Eastman Kodak Company Infrared absorbing cyanine dyes for dye-donor element used in laser-induced thermal dye transfer
JPH01201654A (ja) 1988-02-06 1989-08-14 Nippon Oil Co Ltd ポジ型フォトレジスト材料
US4962147A (en) 1988-05-26 1990-10-09 Hoechst Celanese Corporation Process for the suspension polymerization of 4-acetoxystyrene and hydrolysis to 4-hydroxystyrene polymers
DE3820001A1 (de) 1988-06-11 1989-12-14 Basf Ag Optisches aufzeichnungsmedium
JPH0820734B2 (ja) * 1988-08-11 1996-03-04 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物及びそれを用いた光重合性組成物
US4877718A (en) 1988-09-26 1989-10-31 Rennsselaer Polytechnic Institute Positive-working photosensitive polyimide operated by photo induced molecular weight changes
JP2547626B2 (ja) 1988-10-07 1996-10-23 富士写真フイルム株式会社 モノマーの製造方法
EP0366590B2 (en) 1988-10-28 2001-03-21 International Business Machines Corporation Highly sensitive positive photoresist compositions
JP2698789B2 (ja) * 1988-11-11 1998-01-19 富士写真フイルム株式会社 熱転写受像材料
DE68921146T2 (de) 1988-11-11 1995-06-14 Fuji Photo Film Co Ltd Lichtempfindliche Zusammensetzung.
JP2571115B2 (ja) 1989-01-17 1997-01-16 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物の増感方法及び増感された感光性組成物
JP2871710B2 (ja) 1989-03-17 1999-03-17 株式会社きもと 画像形成方法
JPH02251962A (ja) 1989-03-27 1990-10-09 Matsushita Electric Ind Co Ltd 微細パターン形成材料およびパターン形成方法
JPH02299879A (ja) * 1989-04-27 1990-12-12 Ncr Corp 感熱記録媒体
US5200298A (en) 1989-05-10 1993-04-06 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method of forming images
EP0410606B1 (en) 1989-07-12 1996-11-13 Fuji Photo Film Co., Ltd. Siloxane polymers and positive working light-sensitive compositions comprising the same
DE69032464T2 (de) 1989-10-19 1998-11-12 Fujitsu Ltd Verfahren zur Herstellung von Photolackmustern
GB9004337D0 (en) 1990-02-27 1990-04-25 Minnesota Mining & Mfg Preparation and use of dyes
DE4013575C2 (de) 1990-04-27 1994-08-11 Basf Ag Verfahren zur Herstellung negativer Reliefkopien
US5279918A (en) 1990-05-02 1994-01-18 Mitsubishi Kasei Corporation Photoresist composition comprising a quinone diazide sulfonate of a novolac resin
JP2729850B2 (ja) 1990-05-15 1998-03-18 富士写真フイルム株式会社 画像形成層
JP2639853B2 (ja) 1990-05-18 1997-08-13 富士写真フイルム株式会社 新規キノンジアジド化合物及びそれを含有する感光性組成物
JP2645384B2 (ja) 1990-05-21 1997-08-25 日本ペイント株式会社 ポジ型感光性樹脂組成物
US5145763A (en) 1990-06-29 1992-09-08 Ocg Microelectronic Materials, Inc. Positive photoresist composition
JP3244288B2 (ja) * 1990-07-23 2002-01-07 昭和電工株式会社 近赤外光消色型記録材料
US5085972A (en) 1990-11-26 1992-02-04 Minnesota Mining And Manufacturing Company Alkoxyalkyl ester solubility inhibitors for phenolic resins
JPH04359906A (ja) 1991-06-07 1992-12-14 Shin Etsu Chem Co Ltd ポリ(パラ−t−ブトキシカルボニルオキシスチレン)及びその製造方法
CA2066895A1 (en) 1991-06-17 1992-12-18 Thomas P. Klun Aqueous developable imaging systems
US5258257A (en) 1991-09-23 1993-11-02 Shipley Company Inc. Radiation sensitive compositions comprising polymer having acid labile groups
US5437952A (en) 1992-03-06 1995-08-01 Konica Corporation Lithographic photosensitive printing plate comprising a photoconductor and a naphtho-quinone diazide sulfonic acid ester of a phenol resin
US5368977A (en) 1992-03-23 1994-11-29 Nippon Oil Co. Ltd. Positive type photosensitive quinone diazide phenolic resin composition
US5372917A (en) 1992-06-30 1994-12-13 Kanzaki Paper Manufacturing Co., Ltd. Recording material
US5268245A (en) 1992-07-09 1993-12-07 Polaroid Corporation Process for forming a filter on a solid state imager
US5351617A (en) 1992-07-20 1994-10-04 Presstek, Inc. Method for laser-discharge imaging a printing plate
CA2091286A1 (en) 1992-07-20 1994-01-21 Macdermid, Inc. Direct imaging process for forming resist pattern on a surface, and use thereof in fabricating printed boards
US5286612A (en) 1992-10-23 1994-02-15 Polaroid Corporation Process for generation of free superacid and for imaging, and imaging medium for use therein
DE69406687T2 (de) 1993-01-25 1998-05-14 At & T Corp Ein Verfahren zum gesteuerten Entschützen von Polymeren und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung welches diese zum Teil entschützten Polymere für Photoresiste benutzt
US5340699A (en) * 1993-05-19 1994-08-23 Eastman Kodak Company Radiation-sensitive composition containing a resole resin and a novolac resin and use thereof in lithographic printing plates
EP0631189B1 (en) * 1993-06-24 1999-02-17 Agfa-Gevaert N.V. Improvement of the storage stability of a diazo-based imaging element for making a printing plate
DE4426820A1 (de) 1993-07-29 1995-02-02 Fuji Photo Film Co Ltd Bilderzeugungsmaterial und Bilderzeugungsverfahren
GB9322705D0 (en) * 1993-11-04 1993-12-22 Minnesota Mining & Mfg Lithographic printing plates
EP0672954B1 (en) * 1994-03-14 1999-09-15 Kodak Polychrome Graphics LLC Radiation-sensitive composition containing a resole resin, a novolac resin, an infrared absorber and a triazine and use thereof in lithographic printing plates
JP3317574B2 (ja) 1994-03-15 2002-08-26 富士写真フイルム株式会社 ネガ型画像記録材料
JP3461377B2 (ja) 1994-04-18 2003-10-27 富士写真フイルム株式会社 画像記録材料
US5441850A (en) 1994-04-25 1995-08-15 Polaroid Corporation Imaging medium and process for producing an image
EP0691575B1 (en) 1994-07-04 2002-03-20 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positive photosensitive composition
EP0720057A4 (en) 1994-07-11 1997-01-22 Konishiroku Photo Ind INITIAL ELEMENT FOR LITHOGRAPHIC PLATE AND PROCESS FOR PREPARING SAID PLATE
US5466557A (en) * 1994-08-29 1995-11-14 Eastman Kodak Company Radiation-sensitive composition containing a resole resin, a novolac resin, a latent bronsted acid, an infrared absorber and terephthalaldehyde and use thereof in lithographic printing plates
EP0706899A1 (en) 1994-10-13 1996-04-17 Agfa-Gevaert N.V. Thermal imaging element
US5491046A (en) * 1995-02-10 1996-02-13 Eastman Kodak Company Method of imaging a lithographic printing plate
US5658708A (en) 1995-02-17 1997-08-19 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image recording material
JPH0962005A (ja) * 1995-06-14 1997-03-07 Fuji Photo Film Co Ltd ネガ型感光性組成物
GB9516723D0 (en) * 1995-08-15 1995-10-18 Horsell Plc Water-less lithographic plates
GB9516694D0 (en) 1995-08-15 1995-10-18 Horsell Plc Water-less lithographic plates
US5641608A (en) 1995-10-23 1997-06-24 Macdermid, Incorporated Direct imaging process for forming resist pattern on a surface and use thereof in fabricating printing plates
JPH09120157A (ja) * 1995-10-25 1997-05-06 Fuji Photo Film Co Ltd 湿し水不要感光性平版印刷版
US6132935A (en) 1995-12-19 2000-10-17 Fuji Photo Film Co., Ltd. Negative-working image recording material
US5814431A (en) * 1996-01-10 1998-09-29 Mitsubishi Chemical Corporation Photosensitive composition and lithographic printing plate
JP3589365B2 (ja) 1996-02-02 2004-11-17 富士写真フイルム株式会社 ポジ画像形成組成物
EP0803771A1 (en) 1996-04-23 1997-10-29 Agfa-Gevaert N.V. A method for making a lithopgrapic printing plate wherein an imaging element is used that comprises a thermosensitive mask
EP0819980B1 (en) 1996-07-19 2000-05-31 Agfa-Gevaert N.V. An IR radiation-sensitive imaging element and a method for producing lithographic plates therewith
JP3814961B2 (ja) 1996-08-06 2006-08-30 三菱化学株式会社 ポジ型感光性印刷版
US5705309A (en) 1996-09-24 1998-01-06 Eastman Kodak Company Photosensitive composition and element containing polyazide and an infrared absorber in a photocrosslinkable binder
US5759742A (en) 1996-09-25 1998-06-02 Eastman Kodak Company Photosensitive element having integral thermally bleachable mask and method of use
US5705322A (en) 1996-09-30 1998-01-06 Eastman Kodak Company Method of providing an image using a negative-working infrared photosensitive element
US5858626A (en) * 1996-09-30 1999-01-12 Kodak Polychrome Graphics Method of forming a positive image through infrared exposure utilizing diazonaphthoquinone imaging composition
US5705308A (en) 1996-09-30 1998-01-06 Eastman Kodak Company Infrared-sensitive, negative-working diazonaphthoquinone imaging composition and element
US6117610A (en) * 1997-08-08 2000-09-12 Kodak Polychrome Graphics Llc Infrared-sensitive diazonaphthoquinone imaging composition and element containing non-basic IR absorbing material and methods of use
EP0839647B2 (en) 1996-10-29 2014-01-22 Agfa Graphics N.V. Method for making a lithographic printing plate with improved ink-uptake
US6060222A (en) * 1996-11-19 2000-05-09 Kodak Polcyhrome Graphics Llc 1Postitve-working imaging composition and element and method of forming positive image with a laser
EP0855267B1 (en) 1997-01-24 2002-04-17 Fuji Photo Film Co., Ltd. Planographic printing plate
DE69806986T2 (de) 1997-03-11 2003-05-08 Agfa-Gevaert, Mortsel Verfahren zur Herstellung von positiv arbeitenden lithographischen Druckplatten
US6090532A (en) * 1997-03-21 2000-07-18 Kodak Polychrome Graphics Llc Positive-working infrared radiation sensitive composition and printing plate and imaging method
DE19712323A1 (de) 1997-03-24 1998-10-01 Agfa Gevaert Ag Strahlungsempfindliches Gemisch und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial für Offsetdruckplatten
US6083662A (en) * 1997-05-30 2000-07-04 Kodak Polychrome Graphics Llc Methods of imaging and printing with a positive-working infrared radiation sensitive printing plate
JP3779444B2 (ja) 1997-07-28 2006-05-31 富士写真フイルム株式会社 赤外線レーザ用ポジ型感光性組成物
US6060217A (en) * 1997-09-02 2000-05-09 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermal lithographic printing plates
EP0908306B3 (en) 1997-10-08 2009-08-05 Agfa-Gevaert A method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive imaging element
US6060218A (en) * 1997-10-08 2000-05-09 Agfa-Gevaert, N.V. Method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive image element
DE69810242T2 (de) * 1997-10-28 2003-10-30 Mitsubishi Chemical Corp., Tokio/Tokyo Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch, positiv arbeitende lichtempfindliche Flachdruckplatte und Verfahren zur Bebilderung der Druckplatte
EP0934822B1 (en) * 1998-02-04 2005-05-04 Mitsubishi Chemical Corporation Positive photosensitive composition, positive photosensitive lithographic printing plate and method for forming a positive image
US6251559B1 (en) * 1999-08-03 2001-06-26 Kodak Polychrome Graphics Llc Heat treatment method for obtaining imagable coatings and imagable coatings
US6300038B1 (en) * 1999-11-19 2001-10-09 Kodak Polychrome Graphics Llc Articles having imagable coatings
US6294311B1 (en) * 1999-12-22 2001-09-25 Kodak Polychrome Graphics Llc Lithographic printing plate having high chemical resistance

Also Published As

Publication number Publication date
ES2181120T3 (es) 2003-02-16
NO976002D0 (no) 1997-12-19
DE69700397T2 (de) 2000-04-13
JP3147908B2 (ja) 2001-03-19
AU2396697A (en) 1997-11-12
ATE220991T1 (de) 2002-08-15
CA2225567C (en) 2003-01-21
BR9702181A (pt) 1999-12-28
CN1078132C (zh) 2002-01-23
ES2114521T1 (es) 1998-06-01
EP0887182B1 (en) 2002-07-24
DE69714225D1 (de) 2002-08-29
DE825927T1 (de) 1998-07-16
CN1196701A (zh) 1998-10-21
DE69714225T2 (de) 2003-03-27
JPH11506550A (ja) 1999-06-08
ATE183136T1 (de) 1999-08-15
WO1997039894A1 (en) 1997-10-30
CA2225567A1 (en) 1997-10-30
US6485890B2 (en) 2002-11-26
EP0825927B1 (en) 1999-08-11
PL324248A1 (en) 1998-05-11
RU2153986C2 (ru) 2000-08-10
NO976002L (no) 1998-02-17
EP0825927A1 (en) 1998-03-04
IL122318A (en) 2001-01-28
DE69700397D1 (de) 1999-09-16
IL122318A0 (en) 1998-04-05
AU707872B2 (en) 1999-07-22
US6280899B1 (en) 2001-08-28
DE29724584U1 (de) 2002-04-18
US20020045124A1 (en) 2002-04-18
EP0887182A1 (en) 1998-12-30
ES2114521T3 (es) 2000-01-16
CZ292739B6 (cs) 2003-12-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CZ400897A3 (cs) Tepelně citlivá směs a způsob vytvoření výchozí litografické tiskové desky pomocí této směsi
US6352811B1 (en) Thermal digital lithographic printing plate
EP0969966B1 (en) Positive-working infrared radiation sensitive composition and printing plate and imaging method
US5605780A (en) Lithographic printing plate adapted to be imaged by ablation
CN1954007B (zh) 热反应性红外吸收聚合物及其在热敏平版印刷版中的用途
US5691114A (en) Method of imaging of lithographic printing plates using laser ablation
CN101370660B (zh) 阳图制版可成像元件、形成图像的方法及方法形成的图像
JP2003536095A (ja) ポリマーならびにその画像形成可能な製品および画像形成方法における使用
US6699636B2 (en) Imaging element comprising a thermally activated crosslinking agent
CN101395536A (zh) 多层可成像元件的热处理
US6352814B1 (en) Method of forming a desired pattern
US6843176B2 (en) Method to remove unwanted, unexposed, radiation-sensitive layer in a lithographic printing plate
JPH10186649A (ja) 赤外感光性画像形成組成物、要素及び方法
KR100277346B1 (ko) 열-감지조성물 및 이를 이용하여석판인쇄인화형을표시하는 방법
KR100573050B1 (ko) 써멀 디지털 방식의 이미지 형성용 조성물
US20080182206A1 (en) Positive-working imageable elements
JPH11254855A (ja) 平版印刷版を与えるための感熱性非融蝕性で廃棄物のない画像形成要素
MX2007005556A (es) Polìmeros que absorben en el infrarrojo tèrmicamente reactivos y su uso en una plancha de impresiòn litogràfica sensible al calor.

Legal Events

Date Code Title Description
PD00 Pending as of 2000-06-30 in czech republic
MM4A Patent lapsed due to non-payment of fee

Effective date: 20050422