CZ400897A3 - Tepelně citlivá směs a způsob vytvoření výchozí litografické tiskové desky pomocí této směsi - Google Patents
Tepelně citlivá směs a způsob vytvoření výchozí litografické tiskové desky pomocí této směsi Download PDFInfo
- Publication number
- CZ400897A3 CZ400897A3 CZ974008A CZ400897A CZ400897A3 CZ 400897 A3 CZ400897 A3 CZ 400897A3 CZ 974008 A CZ974008 A CZ 974008A CZ 400897 A CZ400897 A CZ 400897A CZ 400897 A3 CZ400897 A3 CZ 400897A3
- Authority
- CZ
- Czechia
- Prior art keywords
- compound
- composition
- solubility
- printing plate
- radiation
- Prior art date
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
- B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
- B41M5/36—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used using a polymeric layer, which may be particulate and which is deformed or structurally changed with modification of its' properties, e.g. of its' optical hydrophobic-hydrophilic, solubility or permeability properties
- B41M5/368—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used using a polymeric layer, which may be particulate and which is deformed or structurally changed with modification of its' properties, e.g. of its' optical hydrophobic-hydrophilic, solubility or permeability properties involving the creation of a soluble/insoluble or hydrophilic/hydrophobic permeability pattern; Peel development
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C1/00—Forme preparation
- B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
- B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C1/00—Forme preparation
- B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
- B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
- B41C1/1016—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials characterised by structural details, e.g. protective layers, backcoat layers or several imaging layers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/02—Positive working, i.e. the exposed (imaged) areas are removed
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/06—Developable by an alkaline solution
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/14—Multiple imaging layers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/22—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by organic non-macromolecular additives, e.g. dyes, UV-absorbers, plasticisers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/24—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. acrylics, vinyl polymers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/26—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions not involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
- B41C2210/262—Phenolic condensation polymers, e.g. novolacs, resols
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/145—Infrared
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/146—Laser beam
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/165—Thermal imaging composition
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Heat Sensitive Colour Forming Recording (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Developing Agents For Electrophotography (AREA)
- Liquid Developers In Electrophotography (AREA)
Description
Oblast techniky
Vynález se týká positivně činných. 1itografických výchozích tiskových desek, jejich užití a kompozicí pro vytváření obrazů, použitelných pro tyto desky.
Dosavadní stav techniky
Technika 1itografického tisku je založena na nesmísitelnosti vody a oleje, kdy olejový materiál nebo tiskařská barva je přednostně zachycena v místech kresby a voda nebo roztok vodní nádrže je přednostně zachycen v místech bez kresby. Je-li vhodně připravená plocha zvlhčena vodou a na ni je nanesena barva, pak pozadí, neboli plocha bez kresby, zachytí vodu a plocha kresby přijme barvu, ale vodu odpudí. Barva v místech kresby je pak přenesena na plochu materiálu, na níž má být obraz reprodukován, např. na papír, látku a pod. Obvykle je tiskařská barva přenesena na mezilehlý materiál, nazývaný potahem (blanket), který barvu přenese na povrch materiálu, na němž má být obraz vytvořen.
. Obvykle používaný typ litografické výchozí tiskové desky má na světlo citlivou polevu, nanesenou na hliníkovité podložce. Negativně působící litografické výchozí tiskové desky mají polevu citlivou na záření, která, je-li pod kresbou vystavena světlu, tvrdne v exponovaných místech. Při vyvolání jsou neexponovaná místa polevové kompozice odstraněna, kresba zůstává- Naopak „„ positivně působící litografické výchozí tiskové desky mají = kompozici opatřenou polevou, která po osvícení pod kresbou světlem příslušné vlnové délky, je v exponovaných oblastech více rozpustná ve vývojce než v neexponovaných místech. Tato světlem vyvolaná-rozdílná rozpustnost se nazývá fotorozpustitelností. U velkého počtu komerčně dostupných, positivně působících výchozích 1itografických tiskových desek, s polevou chinon diazidu spolu s fenolovou pryskyřicí. je obraz vytvářen fotorozpustitelnostíV obou případech je oblast kresby na vlastní tiskařské formě
barvo-pohlcující nebo oleofilní a část bez kresby nebo pozadí je vodo-pohlcující nebo hydrofilní.
K odlišení oblasti s kresbou od oblasti bez kresby dochází během expozice, kdy je za vakua, které zaručuje dobrý kontakt, k výchozí tiskové desce přiložen film. Výchozí tisková deska je pak vystavena expozici světelným zdrojem, vydávajícím částečně UV záření. V případě užití positivně pracující výchozí tiskové desky je oblast, která na výchozí tiskové desce odpovídá kresbě, neprůhledná, takže na výchozí tiskovou desku nedopadne žádné světlo, zatímco oblast filmu, která odpovídá místům bez kresby, je jasná a dovoluje dopad světla na polevu, která se tak stane rozpustnější a je odstraněna.
Nejnovější výzkumy na poli výchozích tiskových desek přinesly komposice citlivé na záření, které jsou vhodné pro tiskové desky připravované pomocí přímého ozáření laserem. Pro vytvoření obrazu na výchozí tiskové desce lze použít digitální zobrazovací informace, aniž by bylo třeba obrazového originálu, jako je fotografický positiv.
Příkladem positivně pracující, výchozí tiskové desky, kterou je možno zpracovat přímým ozářením laserem, je deska popsaná ve spise US 4,708,925, vydaném 24. listopadu 1987. Tento patent popisuje 1 itografickou výchozí tiskovou desku, kde zobrazovací vrstva obsahuje fenolovou pryskyřici a na ozáření citlivou onium sůl. Jak v tomto patentu popsáno, interakce mezi fenolovou pryskyřicí a onium solí vzniká alkalicky nerozpustná kompozice, jíž je alkalická rozpustnost vrácena fotolitickým rozkladem onium soli. Výchozí tisková deska může pracovat jako positivně nebo negativně působící deska, s využitím dalších technologických • kroků mezi expozicí a vyvoláním, které jsoupodrobně popsány v britském patentu č. 2,082,339. Výchozí tisková deska, popsaná ve spise US 4.709,925, je ze své podstaty citlivá na UV záření a lze ji navíc učinit citlivou na viditelné a infračervené záření.
Další příklad výchozí tiskové desky, na níž lze podlohu přenést laserem, a jíž lze použít jako přímo positivně pracujícího systému, je popsán ve spise US 5,372,907, vydaném
13.prosince 1994. a spise US 5.491,046, vydaném 13.února 1996.
·· ·· ····
Oba tyto patenty popisují zářením vyvolaný rozklad latentní
Bronstedovy kyseliny pro zvýšení rozpustnosti pryskyřicové matrice při expozici pod kresbou. Tak, jako u výchozí tiskové desky popsané v US 4.708,925, tyto systémy mohou být navíc užity
jako negativně pracující systém, a předvyvolání dále zpracováván, jsou vedlejší produkty rozkladu který je po osvícení pod kresbou U negativně účinkujícího procesu následně užity jako katalyzátory reakcí meziřetězcových vazeb použitých pryskyřic pro dosažení nerozpustnosti míst kresby před vyvoláním. Jak uvedeno ve spise US 4,708,925, jsou tyto výchozí tiskové desky ve své podstatě citlivé na UV záření díky použitým kyselinotvorným materiálům.
Všechny tyto výše popsané, dosud známé výchozí tiskové desky, které lze použít jako desky pro přímé positivní vytvoření kresby, postrádají jednu nebo více vlastností. Žádnou z popsaných výchozích tiskových desek nelze použít, aniž by byly patřičně vyhodnoceny světelné podmínky v pracovní oblasti. Aby bylo možno pracovat s výchozími tiskovými deskami po neomezenou dobu, je třeba dodržet určité podmínky bezpečného osvětlení, které nedovolí nežádoucí působení UV záření. Výchozí tiskové desky mohou být použity při působení bílého pracovního světla pouze po omezenou dobu, v závislosti na výstupním spektru zdroje tohoto světla- Pro zefektivnění příslušného procesu je žádoucí používat zařízení pracující s digitálním přenosem obrazu a výchozí tiskové desky v prostředí neomezovaném typem zdroje bílého světlaCitlivost na UV záření by byla nevýhodou. Navíc práce za bílého světla by znamenala zlepšení pracovního prostředí v místech, kde probíhají veškeré operace před vlastním tiskem a kde je dosud třeba dodržovat omezující podmínky bezpečného osvětlení.
Dále, oba systémy výchozí tiskové desky obsahují komponenty mající vlastnosti, způsobující obtíže při optimalizaci vlastností desek vzhledem k optimálním účinkům v širokém pásmu požadovaných parametrů 1itografických desek, včetně rozpustnosti vývojky, a pohltivosti, rozplývavosti a přilnavosti barvy.
Systém popsaný v US 4,708925 nedovoluje přítomnost funkčních skupin, vázajících fenolovou pryskyřici v přítomnosti onium soli, ať jako modifikaci alkalicky rozpustné pryskyřice nebo jako přídavných komponentů, neboť by snížily rozpustnost při expozici• ·
Zásadním požadavkem kompozice. popsané v US 5,491.046, je přítomnost jak resolové, tak novolakové pryskyřice, dovolující použití sytému v negativně pracujícím režimu. To je výhodný režim pro tento systém. jak dokládají příklady negativně působícího systému v patentu popsané a první komerční produkt odvozený od této technologie, výrobky firmy Kodak. Optimalizace pro podmínky negativního působení omezují optimalizaci pro pozitivně pracující režim, který takové požadavky nemá. Celá řada za tepla se rozpouštějících kompozicí, které lze použít jako termografické záznamové materiály je popsána ve spise GB 1,245,924, vydaném 15.09.1971. U těchto materiálů může být rozpustnost kterékoliv oblasti vrstvy, na níž lze vytvořit obraz, pro dané rozpustidlo zvýšena zahřátím vrstvy nepřímým vystavením krátkodobému působení vysoce intenzivního viditelného světla a/nebo infračerveného záření. vysílaného nebo odráženého z oblasti pozadí grafického originálu, který je v kontaktu ze záznamovým materiálem. Popsané systémy jsou proměnné a mohou být provozovány pomocí různých mechanizmů a mohou používat různé vývojkové materiály, od vody po chlornatá organická rozpouštědla. K řadě popsaných kompozicí, která je možno vyvolávat ve vodném přípravku, patří ty, které obsahují fenolové pryskyřice typu novolaku. Podle uvedeného patentu, filmy, opatřené polevou obsahující takové pryskyřice, budou při zahřátí vykazovat zvýšenou rozpustnost. Kompozice mohou obsahovat teplo absorbující sloučeniny, jako je uhelná čerň nebo Milori modrá (C.I. pigmentová modř 27). Tyto materiály dobarvují kresby pro použití jako záznamové médium.
Úroveň rozdílu v rozpustitelnosti je u kompozice, popsané v GB 1,145,924, ve srovnání s komerčními positivně pracujícími kompozicemi 11tografických výchozích tiskových desek, nicméně velmi nízká. Standardní litografické výchozí tiskové desky jsou schopny skvěle snášet silné vývojkové roztoky, rozdíly při uživatelském zpracování a mohou být optimalizovány pro použití silných vývojkových roztoků a velké počty vytištěných vyobrazení. Pro velmi nízkou expoziční pružnost vývojky, jíž vykazuje kompozice podle spisu GB 1,245,924 nejsou vhodné jako komerčně použitelné, litografické výchozí tiskové desky.
Účelem tohoto vynálezu je řešení tepelně citlivé kompozice, vhodné pro tepelně citlivé, positivně pracující, výchozí tiskové desky, určené pro tepelný způsob vytváření obrazu, nevykazující nevýhody současných řešení, výše popsaných.
Podstata vynálezu
Výše uvedeného účelu je dosaženo a danou problematiku řeší oleofilní, tepelně citlivá kompozice v provedení podle vynálezu, jehož podstata spočívá v tom, že tato kompozice obsahuje ve vodní vývojce rozpustnou polymerní substanci, v dalším označovanou jako aktivní polymer“, a rozpustnost této polymerní substance ve vodné vývojce snižující sloučeninu, která je v dalším označována jako vratně znerozpustňující sloučenina. která působí tak, že rozpustnost kompozice ve vodném roztoku vývojky se zahrátím zvyšuje, zatímco rozpustnost této kompozice ve vodné vývojce není zvýšena v důsledku ozáření UV paprsky.
Rovněž podle tohoto vynálezu je řešena positivně pracující litografická výchozí tisková deska, která má polevu obsahující předmětný aktivní polymer a předmětnou vratně znerozpustňující sloučeninu, nanesenými na podložce s hydrofilním povrchem, kde rozpustnost kompozice ve vodné vývojce zahřátím vzrůstá, ale při ozáření UV zářením neroste.
Pro zvýšení citlivosti tepelně citlivé kompozice podle předmětného vynálezu je použito pomocné složky, a to záření absorbující sloučeniny, jež je schopná absorbovat záření a měnit je na teplo. Tato pomocná složka je v dalším označována jako záření pohlcující sloučenina.
' Dalším význakem předmětného vynálezu je 1 itograf ická výchozí tisková deska, kde poleva je vhodně upravená tak, že absorbuje záření a mění toto záření na teplo.
Dle předmětného vynálezu je upřednostněno provedení tepelně pracující, litografické výchozí tiskové desky, která na podložce s hydrofilním povrchem má oleofilní, tepelně citlivou kompozici, obsahující aktivní polymer, vratně znerozpustňující sloučeninu a záření absorbující sloučeninu, kde rozpustnost kompozice ve vodné vývojce zahřátím vzrůstá, ale neroste ozářením UV paprsky.
Podle předmětného vynálezu je dále upřednostněno provedení tepelně pracující předmětná poleva ο1eof i 1η ί. tepe1ně litografické výchozí tiskové desky, kde obsahuje pomocnou vrstvu, nanesenou pod citlivou kompozicí, kterážto přídavná vrstva obsahuje záření absorbující sloučeninu.
Podle předmětného vynálezu je dále upřednostněno provedení tepelně pracující litografické výchozí tiskové desky, která na podložce s hydrofilním povrchem má oleofilní, tepelně citlivou kompozici, obsahující aktivní polymer, vratně znerozpustnující sloučeninu, která je rovněž záření absorbující sloučeninou, kde rozpustnost kompozice ve vodné vývojce zahřátím vzrůstá, ale při ozáření UV paprsky neroste.
Pokud se zde v popise hovoří o tom, že rozpustnost kompozice ve vodné vývojce zahřátím vzrůstá, rozumí se tím, že vzrůstá podstatně, tj. natolik, že tento nárůst je možno využít v technice 1 itografického tisku. Pokud se zde v popise hovoří o tom, že rozpustnost kompozice ve vodní vývojce neroste ozářením UV paprsky, rozumí se tím, že neroste podstatně, tedy natolik, že aby bylo nezbytné používat bezpečné osvětlení. Bezvýznamný nárůst rozpustnosti při ozáření UV paprsky je tak možno v rámci tohoto vynálezu tolerovat.
Jako tisková deska je upřednostňována litografická deska, o níž bude pojednáno dále.
U všech výhodných provedení předmětného vynálezu, výsledkem tepelného přenosu kresby a následného zpracování je positivně pracující litografická tisková deska. Rozpustnost nanesené kompozice ve vodné vývojce je vzhledem k rozpustnosti samotného aktivního polymeru hodně snížena. Následným ozářením vhodným zářením se zahřátá místa kompozice stávají v roztoku vývojky lépe rozpustnými. Při expozici pod kresbou se tak rozpustnost neexponované a exponované kompozice mění rozdílně- V exponovaných místech je kompozice rozpuštěna a odkrývá podkladní kydrofilní povrch desky.
Na desky s povlakem podle vynálezu lze kresbu tepelným způsobem přenést nepřímo, vystavením krátkodobému, vysoce intenzivnímu ozáření, vysílanému nebo odráženému z oblastí pozadí grafického originálu, jenž je v dotyku se záznamovým materiálem.
Podle dalšího přínosu vynálezu může být obraz na desky tepelně přenesen s výhodou pomocí zahřátého tělesa. Např. může být deska, ať ze zadní strany, nebo ještě lépe ze strany tepelně citlivé kompozice, v dotyku s tepelným záznamovým hrotem.
Podle vynálezu může být dále deska s výhodou exponována přímo pomocí laseru a tak na polevě kresba tepelně vytvořena. Nejlépe laserem, vydávajícím záření o vlnové délce nad 600 nm.
Vynález není nijak omezen teoretickým výkladem principů na nichž pracuje. Považuje se za skutečnost, že aktivní polymer a vratně znerozpustňující sloučenina vytvářejí tepelně křehký komplex. Tento komplex je vytvářen vratně a může být rozložen pomocí působení tepla a tak obnovena rozpustnost kompozice ve vodné vývojce. Předpokládá se, že polymerní substance, vhodné pro použití u tohoto vynálezu, po rozložení obsahují funkční skupiny s volnými elektronovými vazbami (skupiny bohaté na elektrony), <a dále, že vhodné sloučeniny, redukující rozpustnost polymerních substancí ve vodné vývojce, jsou chudé na elektrony. Není třeba rozkladu složek kompozice, alespoň u dosud testovaných příkladů k jakémukoliv podstatnému rozkladu nedošlo.
Příklady funkčních skupin předmětných aktivních polymerů, vhodných pro vynález zahrnují hydroxy, karboxylové kyseliny, amino, amido a malei^mido funkční skupiny. Vhodný je široký rozsah polymerních materiálů, zahrnující fenolové pryskyřice, kopolymery 4-hydroxystyrenu, např. s 3-methy1-4-hydroxystyrenem, kopolymery (meth)akrylové kyseliny, např. se styrenem, kopolymery male 3 idů, např. se styrenem, hydroxy nebo karboxy celulózy, kopolymery anhydridu kyseliny malepvé, např. se styrenem
- Výhodným - řešením je použití feno 1 ové pryskyř ice ve f unkci aktivního polymeru. Zvláště vhodnými fenolovými pryskyřicemi pro řešení podle tohoto vynálezu jsou kondenzační produkty reakce mezi fenolem, C-alkyl substituovanými fenoly (jako jsou kresoly a p-tert-butyl-fenol), difenoly (jako bisfenol-A) a aldehydy (jako formaldehyd). V závislosti na způsobu průběhu kondenzace, je možno vytvořit celou řadu fenolových materiálů odlišné struktury a vlastností. Zvláště výhodné jsou novolakové pryskyřice, resolové pryskyřice a směsi novolakových a resolových pryskyřic.
Příklady vhodných novolakových pryskyřic
mají obecně následující strukturu
Jako vratně znerozpustnujíci sloučeniny lze užít velký počet sloučenin, redukujících vodorozpustnost vhodných polymerních substancí.
Vhodnými, vratně znerozpustnujících sloučeninani, jsou dusíkaté sloučeniny, kde alespoň jeden atom dusíku je kvartérizován, začleněn do heterocyklického kruhu nebo kvartérizován a začleněn do heterocyklického kruhu.
Příklady vhodně sloučeniny š obsahem kvarterního dusíku jsou triaryl metanové barviva, jako je Crystal Violet (označovaná též jako Cl basic violet 3) a Ethyl violet a tetraalkyl amoniové sloučeniny jako je Cetrimid.
Ještě výhodnější, vratně znerozpustnující sloučeninou je dusík obsahující heterocyklická sloučenina.
Příkladem vhodné dusík obsahující heterocyklické sloučeniny jsou chinolin a triazoly, jako 1.2,4-triazol.
Ještě dále výhodnější vratně znerozpustnující sloučeninou je kvartérizovaná heterocyklická sloučenina.
Příklady vhodné kvartérizované heterocyklické sloučeniny jsou imidiazolinové sloučeniny, jako jsou sloučeniny vyráběné firmou Mona Industries pod označením Monazolin C, Monazolin 0, Monazolin CY a Monazolin T, dále chinolinové sloučeniny, jako je l-ethyl-2-methyl chinolinium jodid a 1-ethyl-4-methyl chinolinium jodid, a dále benzotiazo1ové sloučeniny, jako benzotiazol jodid a dále pyridiniové sloučeniny, jako jsou cetyl pyridinium bromid, etyl viologen dibromid a fluoropyridinium tetrafluorobořát.
Vhodnou chinolinovou nebo benzotiazolovou sloučeninou jsou kationická kyaninová barviva, jako je Dye A, Quinoldine Blue a
3-ethy1-2[3-<3-ethy1-2(3H)-benyothiazolydin)-2-methy1-1-propeny 1 ] benzothiazo1 ium jodid.
Barvivo označené jako Dye A má tento vzorec
Další vhodnou skupinou vratně znerozpustňujících sloučenin jsou sloučeniny obsahující karbonylove funkční skupiny.
K vhodný sloučeninám obsahjícím karbonylove funkční skupiny patří alfa-naftoflavon, beta-naftoflavon. 2,3-difenyl-l-inden, flavon. flavanon. xanthon. benzofenon, N-(4-bromobutyl)phtalimid a fenantrenechinon.
Vratně znerozpustňující sloučeninou může být sloučenina, jež má obecný vzorec
Qi-S(O)n-O2 kde Qi představuje volitelně substituovaný fenyl nebo alkylovou skupinu. n je celé číslo z rady 0,1,2. a Qz představuje halogenový atom či alkoxylovou skupinu. S výhodou Qi představuje Ci4 alkylofenolovou skupinu, např. tolylovou skupinu, či skupinu Ci4 alkylovou. Index n má s výhodou hodnotu 1, nejlépe pak 2. S výhodou 02 představuje atom chloru či C14 alkoxylovou skupinu, zejména pak etoxylovou skupinu.
Jinou vhodnou vratně znerozpustňující sloučeninou je akridinové zásadité ornažové barvivo (CI solvent orange 15).
Další vhodnou vratně znerozpustňující sloučeninou jsou feroceniové sloučeniny, jako je ferocenium hexafluorfosfát.
Kromě aktivních polymerů. jež reagují se sloučeninou vratně znerozpustňující způsobem zde popsaným, může kompozice obsahovat polymerní substanci, která takto nereaguje. V takové kompozici, kde je směs polymerních substancí, může být aktivní polymer obsažen v menším váhovém množství, než zaujímá pomocná(é) polymerní látka. Vhodný obsah aktivního polymeru je nejméně 10 %, výhodný je alespoň 25 %, ještě výhodnější je alespoň 50 % hmot. Nicméně nejvýhodnější je obsah aktivního polymeru do výše, která vylučuje jakoukoliv polymerní substanci, která uvedeným způsobem nereaguje.
Majoritní podíl kompozice polymerními substancemi, včetně pomocnou polymerní substancí.
je tvořen jednou nebo více aktivního polymeru a, pokud je, která minoritní podíl kompozice tvořen nereaguje. S výhodou je vratně znerozpustnující sloučeninou.
tzde definovaný, dosahuje
Majoritní podíl kompozice, s výhodou alespoň 50 %, s výhodou alespoň 65 %, nejlépe hodnoty alespoň % celkové hmotnosti kompozice.
Minoritní podíl kompozice, zde definovaný, dosahuje s výhodou méně než 50 s výhodou do 20 nejlépe hodnoty do celkové hmotnosti kompozice.
Podíl vratně znerozpustnující sloučeniny v kompozici činí alespoň 1 s výhodou alespoň 2 do 15 % celkové hmotnosti kompozice.
lépe podíl vratně znerozpustnující sloučeniny se s výhodou do 5 %, ještě Celkově lze říci, že výhodný pohybuje v rozmezí až 15 % celkové hmotnosti kompozice.
Může existovat více než jedna polymerní substance reagující s předmětnou kompozicí. Uváděné hmotnostní podíly takové či takových substancí se vztahují k jejich celkovému obsahu. Obdobně substance, která takto může existovat více, než jedna polymerní nereaguje. Uváděné podíly takové či vztahují k jejich celkovému obsahu. Může takových substance se být obdobně i více, než jedna vratně znerozpustnující sloučenina- Uváděné podíly takové látky či látek se vztahují k jejich celkovému obsahu.
Složení vodného roztoku vývojky závisí na povaze polymerní látky. Běžnými složkami vodného roztoku litografické vývojky jsou surfactanty, chelátová činidla jako soli etylendiamin tetraoctové kyseliny, organická rozpouštědla jako benzylalkohol a zásadité
Je-li polymerní látkou fenolová pryskyřice, je vodnou vývojkou s výhodou zásaditá vývojka, obsahující anorganické nebo organ i cké metas i 1 i kátty.
Kompozice podle předmětného vynálezu je tepelně citlivá tak, že lokální ohřev kompozice, s výhodou vhodným zářením, způsobí zvýšenou rozpustnost exponovaných míst ve vodné vývojce11 ·· ····
Pro stanovení, zda sloučenina, obsahující aktivní polymer a vratně znerozpustňující sloučeninu a vhodná vodná vývojka jsou vhodné pro předmětný vynález, slouží šest jednoduchých testů, v dalším označené číslicemi 1 až 6.
TEST 1. Kompozice, obsahující aktivní polymer v nepřítomnosti vratně znerozpustňující sloučeniny, je nanesena na hydrofilní podložku a vysušena. Poté je na povrch naneseno barvivo. Je-li tak získána jednolitý barevný povlak, pak je kompozice oleofilní, je-li položena jako vrstva.
TEST 2. Hydrofilní podložka, pokrytá kompozicí s aktivním polymerem v nepřítomnosti vratně znerozpustňující sloučeniny, je za pokojové teploty podrobena působení vhodné vodné vývojky po vhodnou dobu, která může být určena pokusně, ale obvykle se pohybuje mezi 30 až 60 sekundami, pak opláchnuta, osušena a naneseno barvivo. Pokud barvivo na ploše neulpí, pak se kompozice ve vývojce rozpustila.
TEST 3. Kompozice. obsahující aktivní polymer a vratně znerozpustňující sloučeninu, je nanesena na hydrofilní podložku a vysušena. Poté je na povrch naneseno barvivo- Je-li tak získán jednolitý barevný povlak, pak je kompozice oleofilní, je-li položena jako vrstva.
TEST 4. Hydrofilní podložka, pokrytá kompozicí s aktivním polymerem a vratně znerozpustňující sloučeninou, je za pokojové teploty podrobena působení vhodné vodné vývojky po vhodnou dobu, jíž lze určit pokusně, ale obvykle se pohybuje mezi 30 až 60sekundami, pak = je opláchnuta, osušena a naneseno barvivo. Je-li tak získán jednolitý barevný povlak,, pak je kompozice v podstatě v roztoku vývojky nerozpustná.
TEST 5. Hydrofilní podložka, pokrytá kompozicí s aktivním polymerem a vratně znerozpustňující sloučeninou, je zahřáta v peci tak. že kompozice dosáhne za vhodnou dobu vhodné teploty. Pak na ni při pokojové teplotě, po přiměřenou dobu, působí vhodná vodná vývojka.
Povrch je pak vysušen a pokryt barvivém. Pokud barvivo na ploše neulpí. pak se zahřátá kompozice ve vývojce rozpustíla.
Teplota a doba závisejí na složkách kompozice a jejich poměru. Metodou zkoušek lze dospět ke stanovení vhodných podmínek. Pokud zkouškami nelze podmínky pro provedení testu stanovit, znamená to, že kompozice testu nevyhověla.
| Lze říci, | že při typickém složení, je kompozice, |
| obsahuj ící | aktivní polymer a vratně znerozpustňující |
| sloučeninu. | zahřívána v peci po dobu 5 až 20 sekund, |
| až dosáhne | teploty 50 až 120 °C. Pak je za pokojové |
teploty podrobena působení vhodné vodné vývojky po vhodnou, pokusně stanovenou dobu, která typicky činí od 30 do 120 sekund.
Výhodnějším postupem je zahřátí kompozice, obsahující aktivní polymer a vratně znerozpustňující sloučeninu, v peci na teplotu 50 až 120 °C, po dobu 10 až 15 sek. Pak je. za pokojové teploty, podrobena působení vhodné vodné vývojky po vhodnou, pokusně stanovenou dobu, která obvykle činí od 30 do 90 sekund.
TEST 6. Hydrofilní podložka, pokrytá kompozicí s aktivním polymerem a vratně znerozpustňující sloučeninou, je po vhodnou, pokusně stanovenou dobu, obvykle se rovnající 30 sekundám, vystavena působení UV záření. Pak je při pokojové teplotě, po přiměřenou dobu, jež obvykle činí 30 až sekund, podrobena působení vhodné vodné vývojky. Povrch je pak vysušen a pokryt barvivém. Pokud barvivo . na ploše ulpí, pak nedošlo k rozpuštění kompozice vlivem UV záření a kompozice je dostatečně odolná běžným pracovním, světelným podmínkám.
Pokud kompozice vyhoví všem šesti testům, je vhodná pro použití v rámci tohoto vynálezu.
Pro výhodné provedení předmětného vynálezu, lze jako záření absorbující sloučeninu použít celou řadu sloučenin nebo jejich komb i nac í.
·*·»
Ve výhodném provedení je jako záření absorbující sloučenina použita taková. která absorbuje infračervené záření. Nicméně, i jiné materiály, absorbující záření jiných vlnových délek, vyjma
UV záření, např. záření Ar-ion zdroje laserového záření o vlnové délce 488 nm. mohou být pro přeměnu záření na teplo použity.
Jako sloučeninu pohlcující záření je vhodné použít uhlíku, jako je uhelná čerň nebo grafit. Může jí být i komerčně dostupný pigment, jako Heliogen Green. dodávaný firmou BASF nebo Nigrosine Base NG1, dodávaný firmou Aldrich.
Způsob podle tohoto vynálezu je s výhodou prováděn tak, že podložka s polevou je pod kresbou přímo exponována laserem. Nejvýhodnější je použít laser, vydávající záření o vlnové délce nad 600 nm a jako záření absorbující sloučenina je vhodné barvivo pohlcující infračervené záření.
Infračervené záření pohlcující sloučeninou je s výhodou fa, jejíž absorbční spektrum leží okolo vlnové délky záření laseru.
pigment nebo barvivo, jako je fta1okyaninový pigment.
použitého v rámci předmětného způsobu. Vhodné je použít organický Může to být též barvivo či pigment ze tříd squarylium, merokyanin indolizin, pyrylium nebo metal ditiolin.
i
Příkladem takových sloučenin je
í
a barvivo Dye C, KF654b ΡΙΝΑ, dodávané firmou Riedel de Haen, UK, •·· ··· · • · • ·· • · ······· která má mít vzorec
Sloučenina, jež absorbuje záření, tvoří vhodně alespoň 1 s výhodou alespoň 2 %, s výhodou do 25 &, lépe do 15 % celkové hmotnosti kompozice. Výhodný hmotnostní podíl radiaci absorbující sloučeniny tak činí 2 až 15 % celkové hmotnosti kompozice. Může být též použito více než jedné sloučeniny, jež absorbuje záření. Údaje, týkající se podílu takové sloučeniny nebo sloučenin, se proto vztahují na jejich celkový obsahS výhodou lze též použít pomocnou vrstvu, která obsahuje záření absorbující sloučeninu. Takové vícevrstvé provedení nabízí cestu k vyšší citlivosti, nebot lze použít větší množství záření absorbující sloučeniny, bez vlivu na funkci obrazotvorné vrstvy. Zásadně platí, že jakýkoliv záření pohlcující materiál, který je v daném vlnovém rozmezí dostatečně účinný, může být vpraven do nebo vyroben jako jednolitá poleva. Barviva. kovy a pigmenty, včetně oxidů kovů, mohou být použity ve formě vrstev, nanesených srážením par. Způsoby nanášení a užití takových filmů je dobře známo, např. ze spisu EP 0,652,483. Přednost v předmětném vynálezu mají komponenty, které jsou ve formě jednolitého povlaku hydrofilní, nebo z nichž lze vytvořit hydrofilní plochu, např. použitím= hydrof i lni vrstvy. ... .... _—__ . = =, , „ __
Sloučeninami, které snižují rozpustnost polymerní substance ve vodné vývojce a jsou též záření absorbujícími sloučeninami, vhodnými pro tento vynález, jsou s výhodou kyaninová barviva, nejlépe chinolino kyaninová barviva, absorbující záření o vlnové délce nad 600 nm.
Příklady takovýchto sloučenin jsou ·
2-[3-chloro-5-(l-ethyl-2(lH)-quinolinylidene)-l,3-pentadienyl]-l-ethylquinolinium bromide
-Ethy 1-2-(5-( 1 -ethyl-2( 1 H)-quinoliny lidene)-1,3 -pentadienyl] quinolinium iodide
4-(3-chloro-5-(l -ethyl-4( 1 H)-quinolinylidene)-1,3-pentadienyI]-1 -ethylquinolinium iodide
Dye D, l-Ethyl-4-[5-(l-ethyl-4(lH)-quinolinylidene)-l,3-pentadienyl] quinolinium iodide
Vratně znerozpustnující sloučenina, která je současně záření pohlcující sloučeninou, tvoří alespoň 1 %, s výhodou alespoň 2 %, s výhodou do 25 %, lépe do 15 % celkové hmotnosti kompozice. Výhodný hmotnostní podíl záření absorbující sloučeniny tak činí 2 až 15 % Celkové hmotnosti kompozice.
Jako podložku lze s výhodou použít hliníkovou desku, která byla v litografii obvyklými způsoby podrobena elektrolytickému okysličování, úpravě povrchu a post-anodickému ošetření, aby bylo možno na její povrch nanést polevu komposice citlivé na záření, a povrch podložky tak mohl plnit svou funkci.
Dalším podkladovým materiálem použitelným pro předmětný vynález je podložka z plastu nebo upraveného papíru, jejichž užití je známé ve fotografickém průmyslu. Zvláště vhodným plastovým materiálem je polyetylén tereftalát, který byl opatřen spodní vrstvou filmu a jeho povrch se tak stal hyxrofilním. Také lze použít tzv. pryskyřicí potažený papír, ošetřený koronovým výbo j em.
Příkladem laserů, které lze použít pro předmětný vynález, je polovodičový laser, vysílající záření v rozmezí 600 až 1100 nm. Takovým typem je např. Nd YAG laser vydávající záření 1064 nm. Je však možno použít jakýkoliv laser s dostatečnou schopností vytvářet obraz, tj. laser vydávající záření, které kompozice absorbuje.
Kompozice podle vynálezu může obsahovat další přísady, jako stabilizační aditiva, inertní barviva, pomocná polymerní pojivá, která jsou součástí mnoha kompozicí 1itografických desek.
Je výhodné, když tepelně citlivé kompozice dle předmětného vynálezu neobsahují složky citlivé na UV záření. Komponenty, jež jsou sice citlivé na UV záření, ale nejsou aktivovány vzhledem k přítomnosti jiných komponentů, jako inertní barviva pohlcující UV záření, nebo nejhořejší, UV záření pohlcující vrstva, však nicméně mohou být přítomny.
Kterýkoliv význak nebo vlastnost předmětného vynálezu nebo zde popsaného proveden í, mflže být-komb i nován s kterýmko1 iv da1ším„ aspektem kteréhokoliv zde popsaného vynálezu nebo provedeníPříklad provedení
Následující příklady podrobněji popisují různé aspekty výše popsaného vynálezu.
V příkladech byla pro dále uvedené komerční produkty použita následná označení, výraz Resin označuje pryskyřici • · • · · · • 4
RESIN A RESIN B RESIN C RESIN D RESIN E RESIN F RESIN G RESIN H
LB6564 - feno1/kreso1-novolaková pryskyřice, prodávaná firmou Bakelite,
R17620 - fenol/formaldehyd-resolová pryskyřice, výrobek firmy B.P. Chemicals Ltd., UK
SMD995 - alkyl fenol/formaldehyd-resolová pryskyřice, uvedená na trh Schenectady Midland Ltd, UK.
Maruka Lyncur M(S-2) - pólyhydroxystyrenová pryskyřice prodávaná Maruzen Petrochemical Co.Ltd, JPRonacoat 300 - polymer na bázi dimethylmaleimidu prodávaný firmou Rohner, Ltd, CH.
Gantrez Anll9 - methy1vinylether-co-maleinový anhydrid kopolymer firmy Gaf Chemicals Co., UK
SMA 2625P - styren-maleinový poloester, prodávaný firmou Elf Atochem UK Ltd.
Celuloz-acetátový propionát (mol.váha 75000, o obsahu
2,5 % acetátu, 45 až 49 %, propionátu, prodávaný firmou Eastman Fine Chemicals, USA.
Metody zkoušky expozice =
Z polevou opatřeného substrátu. na němž měla být vytvořena kresba, byly nařezány kotouče o průměru 105 mm a umístěny na disku, který mohl rotovat stálou rychlostí 100 až 2500 ot/min. Vedle otáčejícího se disku byl umístěn postupně se pohybující stůl s laserovým zdrojem, nasměrovaným tak, že laserový paprsek dopadal kolmo na substrát, přičemž při pohybu stolu se paprsek pohyboval přímočaře, v radiálním směru rotujícího kotouče.
Použit byl laser vybavený v jednovidovém režimu pracujícím polovodičovým zdrojem o výkonu 200 mV, dávajícím záření o vlnové délce 830 nm. Laser byl zaostřen na rozlišení 10 mikronů. Napájen byl stabilizovaným zdrojem stejnosměrného proudu.
Exponovaný obraz měl tvar spirály, kde kresba ve středu spirály představovala nízkou snímací rychlost laseru a dlouhou expoziční dobu a vnější okraj spirály znamenal velkou snímací rychlost a krátkou dobu expozice. Velikost energie zobrazování vycházela z měření průměru místa, kde byla kresba vytvářena.
Minimální energie, kterou je možno při tomto způsobu expozice dodat je 150 mJ/cm2, při otáčkách 2500 ot/min.
Porovnávací příklady Cl až C5, příklady 1 až 9
Polevy u všech následujících příkladů byly připraveny jako roztoky v l-metoxypropan-2-olu, vyjma příkladů 4, 5, 8, kde byly připraveny jako roztoky v l-metoxypropan-2-ol/DMF 40 - 60 Cv:v), a příkladu 7, jako roztok v l-methoxypropan-2-ol/DMF 35 : 65 (v=v). Použitým substrátem byla 0,3 mm hliníková fólie, jejíž povrch byl elektrometodou upraven na zrnitý, elektrolyticky okyslišen a pak následně upraven vodným roztokem anorganického fosfátu. Polevové roztoky byly na substrát naneseny pomocí z drátu vinuté mřížky (vire-vound bar). Koncentrace roztoků byly zvoleny tak, že vznikl suchý film určeného složení a vytvořená vrstva měla po vysušení v peci, při 100 °C po dobu 3 minut, plošnou hmotnost 1,3 g/m2.
| Srovnávac í vzorek | |||||
| Cl | C2 | C3 | C4 | C5 | |
| složka | počet váhových dílů | ||||
| Resin A | 100 | 95.7 | 90 | 90 | 90 |
| Dye B | 4.25 | 4 | 4 | 4 | |
| Benzoic acid | 6 | ||||
| p-nitrophenol | 6 | ||||
| 3',3,5',5-tetrabromophenylphthaIein | 6 |
V další tabulce jsou uvedeny mj. následující látky Benzotiazolium A = 3-etyl-2-/3-etyl-2C3H)-benzotiazolidyn-2-metyl
-1-propeny1/benzotiazolium bromid.
Benzotiazolium B - 3-ety1-2-metyl benzotiazolium jodid.
•e · «· ······ • · · · · · • · · ······ • · · · · • · · «···*·· ·· ·
| Příklad | |||||||||
| 1 | 2 | 3 | 4 | 5 | 6 | 7 | 8 | 9 | |
| složka | počet váhových | dílů | |||||||
| Resin A | 86 | 90 | 90 | 90 | 90 | 90 | 90 | 90 | 90 |
| DyeB | 4 | 4 | 4 | 4 | 4 | 4 | 4 | 4 | 4 |
| Dye A | 10 | ||||||||
| l-ethyl-4-methyl quinolinium bromide | 6 | - | |||||||
| Monazoline C | 6 | ||||||||
| Benzothiazolium A | 6 | ||||||||
| Benzothiazolium B | 6 | ||||||||
| Cetyl pyridinium bromide | 6 | ||||||||
| Ethyl viologen dibromide | 6 | ||||||||
| Cetrimide | 6 | ||||||||
| Crystal Violet | 6 |
Desky byly zkoušeny na chování v procesu vyvolávání, ponořením na 30 sekund do vodného roztoku, níže definovaného :
Vývojka A : 14 % vodní roztok sodium matasilikát pentahydrát. Vývojka A : 7 % vodní roztok sodium matasilikát pentahydrát.
Následující tabulka ukazuje výsledky chování kompozic ve vývojce.
| Vývo j ka B | |
| srovnávací vzorky 1 až 5 | povlak úplně odstraněn |
| vzorky 1 až 9 | žádné patrné změny |
Kompozice uvedené jako srovnávací vzorky nevykazují odolnost proti účinkům vývojky. Kompozice, uvedené jako Příklady 1 až 9, dokreslují účinek snížené rozpustnosti polymeru ve vývojce pomocí • sloučenin popsaných v předmětném vynálezu.
Další vzorky desek byly opatřeny obrazem pomocí popsaného v-laseru o záření vlnové délky 830 nm. Exponované kotouče byly poté zpracovány ponořením na 30 sekund do vodného roztoku vývojky, jejíž složení je uvedeno výše. Pak byly stanoveny citlivosti desek, uvedené v následující tabulce.
«· · · ·
| Vývojka A | I«Uyvo jker«B··· | |
| Srovnávací vzorek | ||
| 1 | poleva odstraněna | |
| 2 | poleva odstraněna | |
| 3 | poleva odstraněna | |
| 4 | poleva odstraněna | |
| 5 | poleva odstraněna | |
| Příklad | ||
| 1 | <150 mJ/cm2 | |
| 2 | < 150 mJ/cm2 | |
| 3 | < 150 mJ/cm2 | |
| 4 | <150 mJ/cm2 | |
| 5 | <150 mJ/cm2 | |
| 6 | <150 mJ/cm2 | |
| 7 | <150 mJ/cm2 | |
| 8 | < 150 mJ/cm2 | |
| ..............9................ | <150 mJ/cnr | —...........- -......... |
Na tiskovou desku zhotovenou podle příkladu 1 byl též pomocí přenosového zařízení Trendsetter, vyráběného firmou Creo Products of Vancouver, CDN, přenesen obraz. Touto deskou bylo na litografickém tiskařském lisu zhotoveno nejméně 10 000 dobrých výtisků.
Příklad 10
Postupem uvedeným pro příklady 1 až 9, byl připraven roztok obsahující 8»15 g l-metoxypropan-2-oI, 2,40 g vodného roztoku pryskyřice RESIN A v l-metoxypropan-2-olu, 0,12 g barviva Dye A a 0,24 g 50 % (v/w) vodní disperze uhelné černě a nanesen na podIožku.
| složka | počet váhových dílů |
| RESIN A | 80 |
| DYE A | 10 |
| uhelná čerň | 10 |
Na výslednou desku byla laserem o výkonu 200 mV a záření o vlnové délce 830 nm a pomocí dříve popsaného zařízení přenesena kresba. Deska byla pak po 30 sekund podrobena působení vývojky B.
Hustota zobrazovací energie požadovaná pro získání vhodného obrazu byla < 150 mJ/m2.
Na tiskovou desku, zhotovenou podle příkladu 10, byl dále pomocí komerčního přenosového zařízení Trendsetter, vyráběného firmou Creo Products of Vancouver. CDN, přenesen obraz. S touto deskou bylo na 1 itografickém tiskařském lisu zhotoveno nejméně
000 dobrých výtisků.
Příklad 11
Výchozí tiskařská deska s kompozicí popsanou v předcházející tabulce byla zhotovena postupem uvedeným v příkladu 4
| složka | počet váhových dílů |
| RESIN A | 90 |
| DYE D | 10 |
— Na výslednou desku byla -laserem o výkonu 200 mV a záření o vlnové délce 830 nm a pomocí dříve popsaného zařízení přenesena kresba. Deska byla pak po 30 sekund podrobena působení vývojky B. Hustota zobrazovací energie požadovaná pro získání vhodného obrazu byla < 150 mJ/m2.
Na tiskovou desku, zhotovenou podle příkladu 11, byl též pomocí komerčního přenosového zařízení Trendsetter, vyráběného firmou Creo Products of Vancouver, CDN, přenesen obraz. S touto deskou bylo na 1 itografickém tiskařském lisu zhotoveno nejméně 10 000 dobrých výtisků.
Příklady 12 až 18
Výše popsaným postupem byly připraveny polevové hmoty jako roztoky v l-metoxypropan-2-olu s výjimkou příkladu 16, kde byly sloučeniny rozpuštěny v l-metoxypropan-2-ol/DMF 80=20 (v=v).
_ Tyto polevové hmoty byly naneseny na podložku tak, jak ^ popsáno v příkladech 1 až 9, čímž byly získány kompozice ve formě suchého filmu a složení uvedeného v následující tabulce.
• · • · · ·
| Příklad | |||||||
| 12 | 13 | 14 | 15 | 16 | 17 | 18 | |
| složka | počet váhových dílů | ||||||
| Crystal Violet | 6 | 6 | 6 | 6 | 6 | 6 | 6 |
| Dye C | 4 | 4 | 4 | 4 | 4 | 4 | 4 |
| Resin A | 45 | ||||||
| Resin B | 90 | ||||||
| Resin C | 45 | ||||||
| Resin D | 90 | ||||||
| Resin E | 90 | ||||||
| Resin F | 90 | ||||||
| Resin G | 90 | ||||||
| Resin H | 90 |
Na vzorky desek byly pak pomocí výše popsaného laserového zařízení, které dávalo záření o vlnové délce 830 nm, přeneseny kresby. Exponované kotouče byly poté po vhodnou dobu podrobeny působení vhodného vodného roztoku vývojky, jak je popsáno dříve a dále. Pak byly stanoveny citlivosti desek. Výsledky jsou uvedeny v následující tabulce.
| Vývojka i | Doba (sec) | Citlivost | |
| Příklad | |||
| 12 | B | 90 | 248 mJ/cm2 |
| 13 | A | 90 | 277 mJ/cm2 |
| 14 | C | 45 | 277 mJ/cm2 |
| 15 | D | 5 | 253 mJ/cm2 |
| 16 | E | 60 | 461 mJ/cnr |
| . 17 | D | 90 | 30Q mJ/cm2 |
| 18 | A | 120 | 700 mJ/cm2 |
Vývojka C - 15 % beta-na£tyletoxylát, 5 % benzylalkohol» 2 % trisodium soli nitrilo-trioctové kyseliny, 78 % vody.
Vývojka D · 3 % beta-naftyletoxylát. 1 % benzylalkohol, 2 & trisodium soli nitrilo-trioctové kyseliny, 94 % vody.
Vývojka E : 1,5 % beta-naftyletoxylát, 0,5 % benzylalkohol, 2 % trisodium soli nitrilo-trioctové kyseliny, 94 % vody.
Příklady 19 - 30
Výše popsaným postupem byly připraveny polevové hmoty jako roztoky v l-metoxypropan-2-olu, s výjimkou příkladu 26, kde byly sloučeniny rozpuštěny v l-metoxypropan-2-ol/DMF 50=50 (v=v).
Tyto polevové hmoty byly naneseny na podložku tak, jak popsáno v příkladech 1 až 9, čímž byly získány kompozice ve formě suchého filmu a složení uvedeného v následující tabulce.
| Příklad | ||||||||||||
| 19 | 20 | 21 | 22 | 23 | 24 | 25 | 26 27 | 28 | 29 | 30 | ||
| složka | počet váhových dílů | |||||||||||
| DyeB | 4 | 4 | 4 | 4 | 4 | 4 | 4 | 4 | ||||
| Dye C | 4 | 4 | 4 | 4 | ||||||||
| Resin A | 90 | 90 | 90 | 90 | 90 | 90 | 90 | 90 | 90 | 90 | 90 90 | |
| α-Naphtho řlavone | 6 | |||||||||||
| β-Naphthoflavone | 6 | |||||||||||
| Flavone | 6 | |||||||||||
| Xanthone | 6 | |||||||||||
| Flavanone | 6 | |||||||||||
| Benzophenone | 6 | |||||||||||
| 2,3-Diphenyl-lindeneone | 6 | |||||||||||
| N-(4-bromobutyl) phthaiimide | 6 | |||||||||||
| Phenanthrene quinone | 6 | |||||||||||
| Acridine Orange Base (Cl solvent orange 15) | 6 | |||||||||||
| p-Toluene sulfonyl chloride | 6 | |||||||||||
| Ethyl-p-toluene sulfonate | 6 |
Na vzorky desek byly pak pomocí výše popsaného laserového zařízení, které dávalo záření o vlnové délce 830 nm, přeneseny kresby. Exponované kotouče byly poté po vhodnou dobu podrobeny působení vhodného vodného roztoku vývojky. Pak byly stanoveny citlivosti desek. Výsledky jsou uvedeny v následující tabulce.
| Vývojka | Doba (sec) | Citlivost | |
| Příklad | |||
| 19 | A | 30 | <150 mJ/cm2 |
| 20 | A | 30 | <150 mJ/cm2 |
| 21 | A | 30 | 290 mJ/cm2 |
| 22 | A | 30 | <150 mJ/cm2 |
| 23 | A | 30 | <150 mJ/cm2 |
| 24 | B | 30 | 220 mJ/cm2 |
| 25 | B | 30 | < 150 mJ/cm2 |
| 26 | B | 15 | < 150 mJ/cm2 |
| 27 | B | 60 | 250 mJ/cm2 |
| 28 | A | 90 | 250 mJ/cm2 |
| 29 | B | 10 | 400 mJ/cm2 |
| 30 | B | 60 | 250 mJ/cm2 |
Příklad 31
Výše popsaným postupem byly připraveny polevové hmoty jako roztoky v l-metoxypropan-2-olu. Tyto polevové hmoty byly naneseny na podložku tak. jak popsáno v příkladech 1 až 9. čímž byly získány kompozice ve formě suchého filmu a složení uvedeného v následující tabulce.
| s1ožka | počet váhových dílů |
| RESIN A = | ’ 90 |
| DYE C | 4 |
| uhelná čerň | 6 |
Vzorky desek byly pak vystaveny teplu vyzařovanému páječkou typu Veller Soldering Iron EC 2100 M o teplotě 311 °C. Rychlost pohybu páječky nad povrchem desky je uvedena v následující tabulce. Exponované vzorky desek byly poté ponořením na 60 sekund podrobeny působení vývojky A.
Výsledky jsou uvedeny v následující tabulce .
| Rychlost pohybu páječky cm/sec | Místo pflsobení tepla | výsledek testu rozpust i te1nost i |
| 1 | poleva desky | poleva v místě ohřevu zcela odstraněna |
| 10 | poleva desky | poleva v místě ohřevu zcela odstraněna |
| 20 | poleva desky | poleva v místě ohřevu zcela odstraněna |
| 50 | poleva desky | poleva v místě ohřevu zcela odstraněna |
| 1 | opačná strana desky, přímo na A1-podložku | poleva v místě ohřevu zcela odstraněna |
| 1O | opačná strana desky, přímo na A1-podložku | poleva v místě ohřevu zcela odstraněna |
V popise je v mnoha případech uváděno UV záření- Pokud by nebylo jasné» co je míněno pojmem typická vlnová délka UV záření» rozumí se tímto pojmem záření o vlnovém rozsahu 190 až 400 nm.
Všechny význaky uvedené v tomto popise, včetně kteréhokoliv patentového nároku, anotace a obrázku, a/nebo všechny kroky kteréhokoliv popsaného postupu nebo způsobu, mohou být jakkoliv kombinovány, vyjma kombinací a/nebo kroků, kde alespoň některé z takových význakfl a/nebo kroků se vzájemně vylučují.
Kterýkoliv význak uvedený v tomto popise, vč. kteréhokoliv patentového nároku, anotace a obrázku, může být nahrazen alternativními význaky stejného nebo ekvivalentního či obdobného -účelu, pokud není výslovně uvedeno jinak. Pokud tak není výslovně uveden opak, každý popsaný význak je pouze jedním příkladem v. generické řady ekvivalentních nebo obdobných význaků.
Vynález není omezen na podrobnosti výše uvedených provedení. Vynález se vztahuje též na kterýkoliv nový význak nebo novou kombinaci význakfl uvedených v tomto popise, včetně kteréhokoliv patentového nároku, anotace a obrázku. nebo na kterýkoliv nový krok jakéhokoliv zde uvedeného postupu či metody nebo na novou kombinaci postupfl či metod zde popsaných.
Claims (31)
- PATENTOVÉ NÁROKY v ( t η- SWJCS ie oleokl·*!1- {tepelně citlivá k-empoz-i-ee*. obsahující 've vodné vývojce rozpustnou polymerní substanci a sloučeninu, snižující rozpustnost polymerní látky ve vodné vývojce, vyznačená tím, že rozpustnost polymerní substance ve vodném roztoku vývojky se zahřátím zvyšuje, přičemž se nezvyšuje dopadem UV záření.
- 2. Kompozice podle nároku 1, vyznačená tím, že ve vodné vývojce rozpustná polymerní substance obsahuje funkční skupinu nebo funkční skupiny ze skupin hydroxy, karboxy, amino, amid a maleinimid.
- 3. Kompozice podle nároku 1, vyznačená tím, že ve vodné vývojce rozpustnou polymerní substancí je látka zvolená ze skupiny polymer či kopolymer J|ydroxystyrenu. polymer či kopolymer kyseliny akrylové, polymer či kopolymer kyseliny metakrylové, polymer či kopolymer maleinimidu, polymer či kopolymer anhydridu kyseliny maleinové, hydroxyceluloza, karboxy celulóza, fenolová pryskyřice.
- 4. Kompozice podle nároku 1, vyznačená tím, že ve vodné vývojce rozpustnou polymerní látkou je fenolová pryskyřice.
5. Kompozice podle nároku 1, v y z n a č e n á tím, že vodným roztokem vývojky je vodný alkalický roztok. • 6. Kompozice podle nároku 1, v y z n a č e n á t í m. že sloučenina, snižující rozpustnost polymerní substance ve vodné vývojce, obsahuje alespoň jeden kvarterní atom dusíku. - 7. Kompozice podle nároku 1, vyznačená' tím, že sloučenina, snižující rozpustnost polymerní substance ve vodné vývojce, obsahuje alespoň jeden atom dusíku, patřící do řetězce heterocyklického.
- 8. Kompozice podle nároku 7, vyznačená tím, že sloučenina, snižující rozpustnost polymerní substance ve vodné vývojce, je zvolena z chinolinu a triazolu.
- 9. Kompozice podle nároku 1, vyznačená tím. že sloučenina, snižující rozpustnost polymerní substance ve vodné vývojce, obsahuje alespoň jeden kvarterní atom dusíku, patřící do heterocyklického řetězce.
- 10. Kompozice podle nároku 9, vyznačená tím, že sloučenina, snižující rozpustnost polymerní substance ve vodné
vývojce, je zvolena ze sloučenin benzotiazol a pyridinium. imidazolin. chinolin, 11. Kompozice podle nároku 10, vyznačená sloučeninou chinolinovou je kyaninové barvivo. tím. že 12. Kompozice podle nároku 10. v y z sloučeninou benzotiazolovou je kyaninové n a č e n á barvivo. tím, že 13. Kompozice podle nároku 1, v y z n a č e n á tím, že sloučeninou, snižující rozpustnost polymerní substance ve vodné vývojce, je triarylmetanová sloučenina. - 14- Kompozice podle nároku 1, vyznačená tím. že sloučenina, snižující rozpustnost polymerní substance ve vodné vývojce, obsahuje karbonylovou funkční skupinu.
- 15. Kompozice podle nároku 14, vyznačená tím. že sloučenina, “snižujícírozpustnost polymerní substance ve vodné vývojce, patří mezi sloučeniny flavanové-
- 16. Kompozice podle nároku 14, vyznačená tím. že sloučenina, snižující rozpustnost polymerní substance ve vodné vývojce, je zvolena z N-4C4-bromobutyl)ftalimid, flavanon, xanton, benzofenon, 2,3-difenyl-l-indeneon a fenantrenechinon.
- 17- Kompozice podle nároku 14, vyznačená tím, že ·· ···· sloučenina, snižující rozpustnost polymerní substance ve vodné vývojce, má obecný vzorecQl-SC0)n-Q2 kde Qi představuje volitelně substituovanou fenylovou nebo alkylovou skupinu, n je celé číslo z řady 0,1,2, a Q2 představuje halogenový atom či alkoxylovou skupinu.
- 18. Kompozice podle nároku 14, vyznačená tím, že sloučeninou, snižující rozpustnost polymerní substance ve vodné vývojce, je sloučenina ety1-p-toluen sulfonátu a p-toluensulfony1 chloridu.
- 19. Kompozice podle nároku 14, vyznačená tím, že sloučeninou, snižující rozpustnost polymerní substance ve vodné vývojce, je oranžové akridinové zásadité barvivo CCI solvent orange 15).
- 20. Kompozice podle nároku 14, vyznačená tím, že sloučeninou, snižující rozpustnost polymerní substance ve vodné vývojce, je sloučenina feroceniová.<L 4 porvat ·
- 21- Pos-ttl-vně, _p.nacu-j-í-G.í litografická Výchozí tisková deskaí?,ř^C<*^ opatřená polevou obsahující kompozici podle kteréhokoliv z předcházejících nároků, vyznačená tím, že poleva je nanesena na podložce s hydrofilním povrchem.
- 22. Litografická výchozí tisková deska podle nároku 21, vyznačená tím, že kompozice polevy je upravena pro _ =abs.orbc.i=záření =a^=jehO’přeměnu^na='teplor-*”^”“· ' ' ' - - - - =- - -
- 23. Litografická výchozí tisková deska podle nároku 22, vyznačená tím, že kompozice obsahuje záření absorbující sloučeninu, která je schopna absorbovat dopadající záření a měnit je na teplo.
- 24. Litografická výchozí tisková deska podle nároku 22, vyznačená tím, že poleva obsahuje pomocnou vrstvu, uspořádanou pod vrstvou kompozice podle bodu 1, přičemž pomocná vrstva obsahuje záření absorbující sloučeninu, která je schopna absorbovat dopadající záření a měnit je na teplo.
- 25. Litografická výchozí tisková deska podle nároku 22, vyznačená tím, že sloučenina, snižující rozpustnost polymerní látky ve vodné vývojce, je současně záření absorbující sloučeninou, která je schopna absorbovat dopadající záření e a měnit je na teplo.
- 26. Litografická výchozí tisková deska podle nároku 23 nebo 24,
vyznačená uhelná čerň. tím, že zářen í absorbující sloučeninou je 27. Li tograf i cká výchozí tisková deska podle nároku 23 nebo 24. vyznačená tím, že záření absorbující sloučeninou je pigment. 28. Li tograf i cká výchozí tisková deska podle nároku 27, vyznačená tím, že záření absorbující sloučeninou je organický ρ1gment. 29. Litografická výchozí tisková deska podle nároku 28. vyznačená tím, že i organickým pigmentem je ftalocyaninový pigment. - 30. Litografická výchozí tisková deska podle nároku 27» vyznačená tím, že záření absorbující sloučeninou je anoganický pigment. = _ _ _ _ .^=,=== == · ·· — - — = -·= ^'
- 31. Litografická výchozí tisková deska podle nároku 27, vyznačená tím, že pigmentem je Pruská modř, Heliogen zelená či Nigrosin.
- 32. Litografická výchozí tisková deska podle nároku 23 nebo 24. vyznačená tím, že záření absorbující sloučeninou je barvivo zvolené z jedné z následujících tříd, squarylium, merocyanin, indolizin, pyrylium nebo metal ditiolin.
33. Litografická výchozí tisková deska podle nároku 24, v y značená tím. že pomocnou vrstvou je tenká vrstva barviva nebo pigmentu. 34. Litograf ická výchozí tisková deska podle nároku 24. v y značená tím. že pomocnou vrstvou je tenká vrstva ♦ kovu nebo oxidu kovu. - 35- Litografická výchozí tisková deska podle nároku 25, vyznačená tím, že sloučeninou, která snižuje rozpustnost polymerní látky ve vodné vývojce a současně absorbuje záření. je kyaninové barvivo s obsahem chinolinu Cquinolinium moiety).
- 36. Litografická výchozí tisková deska podle jednoho z nároků 27,32 nebo 35, vyznačená tím, že záření absorbující sloučeninou je látka pohlcující záření o vlnové délce nad 600 nm.
- 37. Způsob výroby litografická tiskové desky, vyznačený t í m, že na výchozí tiskovou desku dle jednoho z nároků 21 až 36 se pomocí záření přenese obraz.
- 38. Způsob výroby podle nároku 37, vyznačený tím, že výchozí tisková deska se ozáří laserovým paprskem.s
- 39. Způsob výroby podle nároku 37, vyznačený tím,- že , ^výchozí ^tisková deska se “ozáří laserovým paprskem o vlnové * délce nad 600 nm.
- 40. Způsob výroby podle nároku 37» vyznačený tím, že výchozí tisková deska se ozáří tepelným zářením.
- 41. Způsob výroby podle nároku 37. vyznačený tím, že na výchozí tiskovou desku podle jednoho z nároků 21 až 36 se přenese obraz způsobem podle jednoho z nároků 37 až 40.
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GBGB9608394.4A GB9608394D0 (en) | 1996-04-23 | 1996-04-23 | Lithgraphic plates |
| GBGB9614693.1A GB9614693D0 (en) | 1996-07-12 | 1996-07-12 | Lithographic plates |
| PCT/GB1996/001973 WO1997007986A2 (en) | 1995-08-15 | 1996-08-13 | Water-less lithographic plates |
| GBGB9700884.1A GB9700884D0 (en) | 1997-01-17 | 1997-01-17 | Lithographic plates |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CZ400897A3 true CZ400897A3 (cs) | 1998-04-15 |
| CZ292739B6 CZ292739B6 (cs) | 2003-12-17 |
Family
ID=27268256
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CZ19974008A CZ292739B6 (cs) | 1996-04-23 | 1997-04-22 | Pozitivně pracující, oleofilní, tepelně citlivá kompozice, litografická výchozí tisková deska obsahující tuto kompozici a způsob výroby litografické výchozí tiskové desky |
Country Status (16)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US6280899B1 (cs) |
| EP (2) | EP0825927B1 (cs) |
| JP (1) | JP3147908B2 (cs) |
| CN (1) | CN1078132C (cs) |
| AT (2) | ATE220991T1 (cs) |
| AU (1) | AU707872B2 (cs) |
| BR (1) | BR9702181A (cs) |
| CA (1) | CA2225567C (cs) |
| CZ (1) | CZ292739B6 (cs) |
| DE (4) | DE69714225T2 (cs) |
| ES (2) | ES2114521T3 (cs) |
| IL (1) | IL122318A (cs) |
| NO (1) | NO976002L (cs) |
| PL (1) | PL324248A1 (cs) |
| RU (1) | RU2153986C2 (cs) |
| WO (1) | WO1997039894A1 (cs) |
Families Citing this family (227)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB9516723D0 (en) | 1995-08-15 | 1995-10-18 | Horsell Plc | Water-less lithographic plates |
| JP3814961B2 (ja) * | 1996-08-06 | 2006-08-30 | 三菱化学株式会社 | ポジ型感光性印刷版 |
| US5858626A (en) | 1996-09-30 | 1999-01-12 | Kodak Polychrome Graphics | Method of forming a positive image through infrared exposure utilizing diazonaphthoquinone imaging composition |
| GB9622657D0 (en) | 1996-10-31 | 1997-01-08 | Horsell Graphic Ind Ltd | Direct positive lithographic plate |
| US6060222A (en) * | 1996-11-19 | 2000-05-09 | Kodak Polcyhrome Graphics Llc | 1Postitve-working imaging composition and element and method of forming positive image with a laser |
| DE69833046T2 (de) † | 1997-03-11 | 2006-08-03 | Agfa-Gevaert | Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte |
| US6090532A (en) * | 1997-03-21 | 2000-07-18 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Positive-working infrared radiation sensitive composition and printing plate and imaging method |
| US6083662A (en) * | 1997-05-30 | 2000-07-04 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Methods of imaging and printing with a positive-working infrared radiation sensitive printing plate |
| EP0996869A1 (en) * | 1997-07-05 | 2000-05-03 | Kodak Polychrome Graphics LLC | Pattern-forming methods and radiation sensitive materials |
| GB9714526D0 (en) * | 1997-07-11 | 1997-09-17 | Horsell Graphic Ind Ltd | Pattern Formation |
| EP0897134B1 (en) * | 1997-08-13 | 2004-12-01 | Mitsubishi Chemical Corporation | Positive photosensitive composition, photosensitive lithographic printing plate and method for forming a positive image |
| JP2003533707A (ja) | 1997-08-14 | 2003-11-11 | コダック ポリクロム グラフィックス カンパニーリミテッド | マスク及び電子パーツの製造方法 |
| GB9722861D0 (en) * | 1997-10-29 | 1997-12-24 | Horsell Graphic Ind Ltd | Improvements in relation to the manufacture of lithographic printing forms |
| US6060217A (en) * | 1997-09-02 | 2000-05-09 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Thermal lithographic printing plates |
| EP0901902A3 (en) | 1997-09-12 | 1999-03-24 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Positive photosensitive composition for use with an infrared laser |
| EP0908306B3 (en) | 1997-10-08 | 2009-08-05 | Agfa-Gevaert | A method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive imaging element |
| EP0908305B2 (en) † | 1997-10-08 | 2006-07-19 | Agfa-Gevaert | A method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive imaging element |
| DE69829590T2 (de) | 1997-10-17 | 2006-02-09 | Fuji Photo Film Co., Ltd., Minami-Ashigara | Positiv arbeitendes photoempfindliches Aufzeichnungsmaterial für Infrarotlaser und positiv arbeitende Zusammensetzung für Infrarotlaser |
| DE69810242T2 (de) * | 1997-10-28 | 2003-10-30 | Mitsubishi Chemical Corp., Tokio/Tokyo | Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch, positiv arbeitende lichtempfindliche Flachdruckplatte und Verfahren zur Bebilderung der Druckplatte |
| GB9722862D0 (en) * | 1997-10-29 | 1997-12-24 | Horsell Graphic Ind Ltd | Pattern formation |
| EP0914942B1 (en) * | 1997-11-07 | 2005-05-25 | Toray Industries, Inc. | Directly imageable waterless planographic printing plate precursor and a method of producing planographic printing plates |
| JP3810538B2 (ja) | 1997-11-28 | 2006-08-16 | 富士写真フイルム株式会社 | ポジ型画像形成材料 |
| US6399279B1 (en) | 1998-01-16 | 2002-06-04 | Mitsubishi Chemical Corporation | Method for forming a positive image |
| US5922512A (en) * | 1998-01-29 | 1999-07-13 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Processless direct write printing plate having heat sensitive polymer and methods of imaging and printing |
| EP0934822B1 (en) | 1998-02-04 | 2005-05-04 | Mitsubishi Chemical Corporation | Positive photosensitive composition, positive photosensitive lithographic printing plate and method for forming a positive image |
| US6143471A (en) * | 1998-03-10 | 2000-11-07 | Mitsubishi Paper Mills Limited | Positive type photosensitive composition |
| GB2335283B (en) | 1998-03-13 | 2002-05-08 | Horsell Graphic Ind Ltd | Improvements in relation to pattern-forming methods |
| GB2335282B (en) | 1998-03-13 | 2002-05-08 | Horsell Graphic Ind Ltd | Improvements in relation to pattern-forming methods |
| US6444393B2 (en) * | 1998-03-26 | 2002-09-03 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Anionic infrared-ray absorbing agent, photosensitive composition and planographic printing plate precursor using same |
| US6447977B2 (en) * | 1998-04-15 | 2002-09-10 | Agfa-Gevaert | Heat mode sensitive imaging element for making positive working printing plates |
| IT1299220B1 (it) | 1998-05-12 | 2000-02-29 | Lastra Spa | Composizione sensibile sia a radiazioni ir che a radiazioni uv e lastra litografica |
| GB9811813D0 (en) * | 1998-06-03 | 1998-07-29 | Horsell Graphic Ind Ltd | Polymeric compounds |
| US6358669B1 (en) | 1998-06-23 | 2002-03-19 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Thermal digital lithographic printing plate |
| US6352811B1 (en) | 1998-06-23 | 2002-03-05 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Thermal digital lithographic printing plate |
| US6534238B1 (en) * | 1998-06-23 | 2003-03-18 | Kodak Polychrome Graphics, Llc | Thermal digital lithographic printing plate |
| DE19834745A1 (de) | 1998-08-01 | 2000-02-03 | Agfa Gevaert Ag | Strahlungsempfindliches Gemisch mit IR-absorbierenden, anionischen Cyaninfarbstoffen und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial |
| DE19834746A1 (de) | 1998-08-01 | 2000-02-03 | Agfa Gevaert Ag | Strahlungsempfindliches Gemisch mit IR-absorbierenden, betainischen oder betainisch-anionischen Cyaninfarbstoffen und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial |
| US6190831B1 (en) * | 1998-09-29 | 2001-02-20 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Processless direct write printing plate having heat sensitive positively-charged polymers and methods of imaging and printing |
| JP3635203B2 (ja) * | 1998-10-06 | 2005-04-06 | 富士写真フイルム株式会社 | 平版印刷版用原版 |
| GB2342459B (en) * | 1998-10-07 | 2003-01-15 | Horsell Graphic Ind Ltd | Improvements in relation to electronic parts |
| GB2342460A (en) * | 1998-10-07 | 2000-04-12 | Horsell Graphic Ind Ltd | Method of making an electronic part |
| BR9915407A (pt) | 1998-11-16 | 2001-07-24 | Mitsubishi Chem Corp | Placa de impressão litográfica fotossensìvel positiva sensìvel a raios infravermelhos proximos; método de produzila e método para formar uma imagem positiva |
| US6344306B1 (en) | 1999-03-16 | 2002-02-05 | Toray Industries, Inc. | Directly imageable waterless planographic printing plate precursor, and directly imageable waterless planographic printing plate |
| US6124425A (en) * | 1999-03-18 | 2000-09-26 | American Dye Source, Inc. | Thermally reactive near infrared absorption polymer coatings, method of preparing and methods of use |
| JP2000275828A (ja) * | 1999-03-25 | 2000-10-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版 |
| DE60037951T2 (de) | 1999-05-21 | 2009-02-05 | Fujifilm Corp. | Fotoempfindliche Zusammensetzung und Flachdruckplatte, die diese Zusammensetzung verwendet |
| EP1072405B1 (en) * | 1999-07-30 | 2003-06-04 | Lastra S.P.A. | Composition sensitive to IR radiation and to heat and lithographic plate coated therewith |
| ES2199119T3 (es) | 1999-07-30 | 2004-02-16 | Lastra S.P.A. | Composicion sensible a la radicacion ir y al calor y placa litografica recubierta con dicha composicion. |
| US6255033B1 (en) | 1999-07-30 | 2001-07-03 | Creo, Ltd. | Positive acting photoresist compositions and imageable element |
| EP1072404B1 (en) * | 1999-07-30 | 2003-05-21 | Lastra S.P.A. | Composition sensitive to IR radiation and to heat and lithographic plate coated with this composition |
| CA2314520A1 (en) | 1999-07-30 | 2001-01-30 | Domenico Tiefenthaler | Composition sensitive to ir radiation and to heat and lithographic plate coated therewith |
| US6706466B1 (en) | 1999-08-03 | 2004-03-16 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Articles having imagable coatings |
| US6251559B1 (en) | 1999-08-03 | 2001-06-26 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Heat treatment method for obtaining imagable coatings and imagable coatings |
| US6461794B1 (en) | 1999-08-11 | 2002-10-08 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Lithographic printing forms |
| US6550989B1 (en) | 1999-10-15 | 2003-04-22 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Apparatus and methods for development of resist patterns |
| ATE259301T1 (de) | 1999-10-19 | 2004-02-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | Fotoempfindliche zusammensetzung und flachdruckplatte, die diese zusammensetzung verwendet |
| US6232031B1 (en) | 1999-11-08 | 2001-05-15 | Ano-Coil Corporation | Positive-working, infrared-sensitive lithographic printing plate and method of imaging |
| US6391524B2 (en) * | 1999-11-19 | 2002-05-21 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Article having imagable coatings |
| US6300038B1 (en) | 1999-11-19 | 2001-10-09 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Articles having imagable coatings |
| US6294311B1 (en) * | 1999-12-22 | 2001-09-25 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Lithographic printing plate having high chemical resistance |
| US6558787B1 (en) | 1999-12-27 | 2003-05-06 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Relation to manufacture of masks and electronic parts |
| US6787291B2 (en) | 2000-04-06 | 2004-09-07 | Toray Industries, Inc. | Directly imageable planographic printing plate and production method thereof |
| JP2001305722A (ja) | 2000-04-18 | 2001-11-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版 |
| US6458511B1 (en) | 2000-06-07 | 2002-10-01 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Thermally imageable positive-working lithographic printing plate precursor and method for imaging |
| US6506533B1 (en) | 2000-06-07 | 2003-01-14 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Polymers and their use in imagable products and image-forming methods |
| KR100776467B1 (ko) | 2000-07-06 | 2007-11-16 | 캐보트 코포레이션 | 개질된 안료 생성물, 이의 분산액 및 이를 포함하는 조성물 |
| BR0112946A (pt) | 2000-08-04 | 2004-02-03 | Kodak Polychrome Graphics Co | Forma de impressão litográfica e método de prepapação e uso da mesma |
| US6649324B1 (en) * | 2000-08-14 | 2003-11-18 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Aqueous developer for lithographic printing plates |
| US6555291B1 (en) | 2000-08-14 | 2003-04-29 | Kodak Polychrome Graphics, Llc | Thermal digital lithographic printing plate |
| US6558872B1 (en) | 2000-09-09 | 2003-05-06 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Relation to the manufacture of masks and electronic parts |
| US6451502B1 (en) | 2000-10-10 | 2002-09-17 | Kodak Polychrome Graphics Llc | manufacture of electronic parts |
| US6864040B2 (en) | 2001-04-11 | 2005-03-08 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Thermal initiator system using leuco dyes and polyhalogene compounds |
| WO2002034517A1 (en) | 2000-10-26 | 2002-05-02 | Kodak Polychrome Graphics Company, Ltd. | Compositions comprising a pigment |
| US6596460B2 (en) | 2000-12-29 | 2003-07-22 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Polyvinyl acetals having azido groups and use thereof in radiation-sensitive compositions |
| US6548215B2 (en) | 2001-02-09 | 2003-04-15 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Method for the production of a printing plate using the dual-feed technology |
| US6613494B2 (en) | 2001-03-13 | 2003-09-02 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Imageable element having a protective overlayer |
| US7049046B2 (en) * | 2004-03-30 | 2006-05-23 | Eastman Kodak Company | Infrared absorbing compounds and their use in imageable elements |
| US6899994B2 (en) | 2001-04-04 | 2005-05-31 | Kodak Polychrome Graphics Llc | On-press developable IR sensitive printing plates using binder resins having polyethylene oxide segments |
| US7592128B2 (en) | 2001-04-04 | 2009-09-22 | Eastman Kodak Company | On-press developable negative-working imageable elements |
| US6777164B2 (en) | 2001-04-06 | 2004-08-17 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Lithographic printing forms |
| EP1256444B1 (en) | 2001-04-09 | 2004-06-30 | Agfa-Gevaert | Positive-working lithographic printing plate precursor |
| US6739260B2 (en) | 2001-05-17 | 2004-05-25 | Agfa-Gevaert | Method for the preparation of a negative working printing plate |
| DE60110214T2 (de) * | 2001-05-17 | 2006-03-09 | Agfa-Gevaert | Herstellungsverfahren zu einer negativ arbeitenden Druckplatte |
| BR0102218B1 (pt) | 2001-05-31 | 2012-10-16 | produto sensìvel à radiação, e processo de impressão ou revelação de imagem utilizando o referido produto. | |
| US6706454B2 (en) | 2001-07-05 | 2004-03-16 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Method for the production of a printing plate using particle growing acceleration by an additive polymer |
| JP3917422B2 (ja) | 2001-07-26 | 2007-05-23 | 富士フイルム株式会社 | 画像形成材料 |
| US7056639B2 (en) | 2001-08-21 | 2006-06-06 | Eastman Kodak Company | Imageable composition containing an infrared absorber with counter anion derived from a non-volatile acid |
| US6593055B2 (en) | 2001-09-05 | 2003-07-15 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Multi-layer thermally imageable element |
| US7294447B2 (en) | 2001-09-24 | 2007-11-13 | Agfa Graphics Nv | Positive-working lithographic printing plate precursor |
| EP1295717B1 (en) | 2001-09-24 | 2007-07-25 | Agfa Graphics N.V. | Heat-sensitive positive-working lithographic printing plate precursor |
| KR100406460B1 (ko) * | 2001-09-29 | 2003-11-19 | 한국과학기술연구원 | 커플링된 스티릴시아닌 색소 및 그의 제조 방법 |
| US6723490B2 (en) | 2001-11-15 | 2004-04-20 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Minimization of ablation in thermally imageable elements |
| US6699636B2 (en) | 2001-12-12 | 2004-03-02 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Imaging element comprising a thermally activated crosslinking agent |
| US6960423B2 (en) | 2001-12-26 | 2005-11-01 | Creo Inc. | Preparation of gravure and intaglio printing elements using direct thermally imageable media |
| US6723489B2 (en) | 2002-01-30 | 2004-04-20 | Kodak Polychrome Graphics Llp | Printing form precursors |
| US6830862B2 (en) | 2002-02-28 | 2004-12-14 | Kodak Polychrome Graphics, Llc | Multi-layer imageable element with a crosslinked top layer |
| US20050003296A1 (en) * | 2002-03-15 | 2005-01-06 | Memetea Livia T. | Development enhancement of radiation-sensitive elements |
| US6732653B2 (en) | 2002-04-26 | 2004-05-11 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Method to remove unwanted, unexposed, positive-working, radiation-sensitive layer |
| US6843176B2 (en) | 2002-04-26 | 2005-01-18 | Kodak Polychrome Graphics, Llc | Method to remove unwanted, unexposed, radiation-sensitive layer in a lithographic printing plate |
| EP1396338B1 (en) | 2002-09-04 | 2006-07-19 | Agfa-Gevaert | Heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
| US20040067435A1 (en) | 2002-09-17 | 2004-04-08 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image forming material |
| US6858359B2 (en) | 2002-10-04 | 2005-02-22 | Kodak Polychrome Graphics, Llp | Thermally sensitive, multilayer imageable element |
| CN100439120C (zh) | 2002-10-04 | 2008-12-03 | 爱克发印艺公司 | 制造平版印刷版前体的方法 |
| US7195859B2 (en) | 2002-10-04 | 2007-03-27 | Agfa-Gevaert | Method of making a lithographic printing plate precursor |
| WO2004030923A2 (en) | 2002-10-04 | 2004-04-15 | Agfa-Gevaert | Method of marking a lithographic printing plate precursor |
| US7455949B2 (en) | 2002-10-15 | 2008-11-25 | Agfa Graphics, N.V. | Polymer for heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
| US7198877B2 (en) | 2002-10-15 | 2007-04-03 | Agfa-Gevaert | Heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
| US7458320B2 (en) | 2002-10-15 | 2008-12-02 | Agfa Graphics, N.V. | Polymer for heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
| US6794107B2 (en) | 2002-10-28 | 2004-09-21 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Thermal generation of a mask for flexography |
| CN1332809C (zh) * | 2002-12-26 | 2007-08-22 | 富士胶片株式会社 | 平版印刷版前体 |
| DE60320204T2 (de) | 2002-12-27 | 2009-05-14 | Fujifilm Corp. | Wärmeempfindlicher lithographischer Druckplattenvorläufer |
| JP4163964B2 (ja) | 2003-01-07 | 2008-10-08 | 岡本化学工業株式会社 | 画像形成組成物およびそれを用いた感光性平版印刷版 |
| US7160667B2 (en) * | 2003-01-24 | 2007-01-09 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image forming material |
| US6790590B2 (en) | 2003-01-27 | 2004-09-14 | Kodak Polychrome Graphics, Llp | Infrared absorbing compounds and their use in imageable elements |
| US6953652B2 (en) | 2003-01-27 | 2005-10-11 | Agfa-Gevaert | Heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
| US7087359B2 (en) | 2003-01-27 | 2006-08-08 | Agfa-Gevaert | Heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
| US20060107858A1 (en) * | 2003-02-11 | 2006-05-25 | Marc Van Damme | Heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
| US7229744B2 (en) * | 2003-03-21 | 2007-06-12 | Eastman Kodak Company | Method for preparing lithographic printing plates |
| US6908726B2 (en) * | 2003-04-07 | 2005-06-21 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Thermally imageable elements imageable at several wavelengths |
| US20040214108A1 (en) * | 2003-04-25 | 2004-10-28 | Ray Kevin B. | Ionic liquids as dissolution inhibitors in imageable elements |
| JP4703104B2 (ja) * | 2003-06-06 | 2011-06-15 | 株式会社東芝 | 通信端末装置 |
| DE602004015778D1 (de) * | 2003-06-30 | 2008-09-25 | Think Labs Kk | Positive lichtempfindliche zusammensetzung |
| JP4657276B2 (ja) * | 2003-07-03 | 2011-03-23 | 株式会社シンク・ラボラトリー | ポジ型感光性組成物 |
| WO2005005146A1 (en) | 2003-07-08 | 2005-01-20 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Imageable element comprising sulfated polymers |
| US7371454B2 (en) * | 2003-12-15 | 2008-05-13 | Eastman Kodak Company | Imageable element comprising sulfated polymers |
| US6942957B2 (en) * | 2003-07-17 | 2005-09-13 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Ionic liquids as developability enhancing agents in multilayer imageable elements |
| US6992688B2 (en) * | 2004-01-28 | 2006-01-31 | Eastman Kodak Company | Method for developing multilayer imageable elements |
| US6844141B1 (en) | 2003-07-23 | 2005-01-18 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Method for developing multilayer imageable elements |
| JP2005047181A (ja) * | 2003-07-30 | 2005-02-24 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版の製版方法、平版印刷方法および平版印刷原版 |
| US7226724B2 (en) | 2003-11-10 | 2007-06-05 | Think Laboratory Co., Ltd. | Positive-type photosensitive composition |
| EP1718473B1 (en) | 2003-12-04 | 2008-08-06 | IBF - Indústria Brasileira de Filmes S/A | Positive working thermal imaging assembly and method for the manufacture thereof |
| EP1697144A1 (en) | 2003-12-18 | 2006-09-06 | Agfa-Gevaert N.V. | Positive-working lithographic printing plate precursor |
| US7297465B2 (en) | 2003-12-18 | 2007-11-20 | Agfa Graphics Nv | Heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
| US7205084B2 (en) | 2003-12-18 | 2007-04-17 | Agfa-Gevaert | Heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
| US7467587B2 (en) | 2004-04-21 | 2008-12-23 | Agfa Graphics, N.V. | Method for accurate exposure of small dots on a heat-sensitive positive-working lithographic printing plate material |
| US7348126B2 (en) | 2004-04-27 | 2008-03-25 | Agfa Graphics N.V. | Negative working, heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
| EP1750175B1 (en) * | 2004-05-27 | 2008-07-30 | Think Laboratory Co., Ltd. | Positive photosensitive composition |
| DE602004006099T2 (de) | 2004-06-11 | 2008-03-13 | Agfa Graphics N.V. | Negativ arbeitende wärmeempfindlicher lithographischer Druckplattenvorläufer |
| DE102004029501A1 (de) * | 2004-06-18 | 2006-01-12 | Kodak Polychrome Graphics Gmbh | Modifizierte Polymere und ihre Verwendung bei der Herstellung von Lithographie-Druckplattenvorläufern |
| US7279263B2 (en) * | 2004-06-24 | 2007-10-09 | Kodak Graphic Communications Canada Company | Dual-wavelength positive-working radiation-sensitive elements |
| US7354696B2 (en) | 2004-07-08 | 2008-04-08 | Agfa Graphics Nv | Method for making a lithographic printing plate |
| US7425405B2 (en) | 2004-07-08 | 2008-09-16 | Agfa Graphics, N.V. | Method for making a lithographic printing plate |
| US7195861B2 (en) | 2004-07-08 | 2007-03-27 | Agfa-Gevaert | Method for making a negative working, heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
| JP4152928B2 (ja) * | 2004-08-02 | 2008-09-17 | 株式会社シンク・ラボラトリー | ポジ型感光性組成物 |
| JP4242815B2 (ja) * | 2004-08-27 | 2009-03-25 | 株式会社シンク・ラボラトリー | ポジ型感光性組成物 |
| US7198883B2 (en) | 2004-09-24 | 2007-04-03 | Agfa-Gevaert | Processless lithographic printing plate |
| DE602004008285T2 (de) | 2004-09-24 | 2008-05-08 | Agfa Graphics N.V. | Verarbeitungsfreie Flachdruckplatte |
| JP2006154477A (ja) * | 2004-11-30 | 2006-06-15 | Think Laboratory Co Ltd | ポジ型感光性組成物 |
| JP4474296B2 (ja) | 2005-02-09 | 2010-06-02 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
| EP1705003B1 (en) | 2005-03-21 | 2007-10-24 | Agfa Graphics N.V. | Processless lithographic printing plates |
| JP2006293162A (ja) | 2005-04-13 | 2006-10-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版 |
| KR100693357B1 (ko) * | 2005-04-19 | 2007-03-12 | 가부시키가이샤 씽크. 라보라토리 | 포지티브형 감광성 조성물 |
| EP1885759B1 (en) | 2005-06-03 | 2013-01-23 | American Dye Source, Inc. | Thermally reactive near-infrared absorbing acetal copolymers, methods of preparation and methods of use |
| US7678533B2 (en) | 2005-06-30 | 2010-03-16 | Agfa Graphics, N.V. | Heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
| US20070292802A1 (en) * | 2005-07-12 | 2007-12-20 | Think Laboratiory Co., Ltd. | Positive Photosenstive Composition |
| US8313885B2 (en) | 2005-11-10 | 2012-11-20 | Agfa Graphics Nv | Lithographic printing plate precursor comprising bi-functional compounds |
| US7338745B2 (en) * | 2006-01-23 | 2008-03-04 | Eastman Kodak Company | Multilayer imageable element with improved chemical resistance |
| EP1991418A1 (en) | 2006-02-28 | 2008-11-19 | Agfa Graphics N.V. | Method for making a lithographic printing plate |
| DE602006004839D1 (de) | 2006-02-28 | 2009-03-05 | Agfa Graphics Nv | Positiv arbeitende Lithografiedruckformen |
| EP1834764B1 (en) | 2006-03-17 | 2009-05-27 | Agfa Graphics N.V. | Negative working, heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
| ES2335300T3 (es) | 2006-05-24 | 2010-03-24 | Agfa Graphics N.V. | Precursor de plancha de impresion litografica termosensible de accion negativa. |
| EP1859936B1 (en) | 2006-05-24 | 2009-11-11 | Agfa Graphics N.V. | Method for making a lithographic printing plate |
| GB2439734A (en) * | 2006-06-30 | 2008-01-09 | Peter Andrew Reath Bennett | Coating for a lithographic precursor and use thereof |
| JP5038434B2 (ja) * | 2006-11-28 | 2012-10-03 | イーストマン コダック カンパニー | 良好な耐溶剤性を有する多層画像形成性要素 |
| WO2008126722A1 (ja) * | 2007-04-05 | 2008-10-23 | Think Laboratory Co., Ltd. | ポジ型感光性組成物 |
| EP1985445B1 (en) | 2007-04-27 | 2011-07-20 | Agfa Graphics N.V. | A lithographic printing plate precursor |
| EP2002987B1 (en) | 2007-06-13 | 2014-04-23 | Agfa Graphics N.V. | A method for treating a lithographic printing plate |
| US7582407B2 (en) * | 2007-07-09 | 2009-09-01 | Eastman Kodak Company | Imageable elements with low pH developer solubility |
| ATE509764T1 (de) | 2007-08-14 | 2011-06-15 | Agfa Graphics Nv | Verfahren zur herstellung einer lithographiedruckform |
| WO2009030279A1 (en) | 2007-09-07 | 2009-03-12 | Agfa Graphics Nv | A heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
| US7989146B2 (en) | 2007-10-09 | 2011-08-02 | Eastman Kodak Company | Component fabrication using thermal resist materials |
| EP2062728B1 (en) | 2007-11-13 | 2011-08-31 | Agfa Graphics N.V. | Method for making a lithographic printing plate |
| ATE468981T1 (de) | 2007-11-30 | 2010-06-15 | Agfa Graphics Nv | Verfahren zur behandlung einer lithografiedruckplatte |
| JP2009132974A (ja) | 2007-11-30 | 2009-06-18 | Fujifilm Corp | 微細構造体 |
| EP2095948B1 (en) | 2008-02-28 | 2010-09-15 | Agfa Graphics N.V. | A method for making a lithographic printing plate |
| EP2098376B1 (en) | 2008-03-04 | 2013-09-18 | Agfa Graphics N.V. | A method for making a lithographic printing plate support |
| ATE514561T1 (de) | 2008-03-31 | 2011-07-15 | Agfa Graphics Nv | Verfahren zur behandlung einer lithografischen druckplatte |
| ATE552111T1 (de) | 2008-09-02 | 2012-04-15 | Agfa Graphics Nv | Wärmeempfindlicher, positiv arbeitender lithographiedruckformvorläufer |
| EP2194429A1 (en) | 2008-12-02 | 2010-06-09 | Eastman Kodak Company | Gumming compositions with nano-particles for improving scratch sensitivity in image and non-image areas of lithographic printing plates |
| EP2213690B1 (en) | 2009-01-30 | 2015-11-11 | Agfa Graphics N.V. | A new alkali soluble resin |
| US20100227269A1 (en) | 2009-03-04 | 2010-09-09 | Simpson Christopher D | Imageable elements with colorants |
| EP2263874B1 (en) | 2009-06-18 | 2012-04-18 | Agfa Graphics N.V. | A lithographic printing plate precursor |
| EP2284005B1 (en) | 2009-08-10 | 2012-05-02 | Eastman Kodak Company | Lithographic printing plate precursors with beta-hydroxy alkylamide crosslinkers |
| US8383319B2 (en) | 2009-08-25 | 2013-02-26 | Eastman Kodak Company | Lithographic printing plate precursors and stacks |
| EP2293144B1 (en) | 2009-09-04 | 2012-11-07 | Eastman Kodak Company | Method of drying lithographic printing plates after single-step-processing |
| US8298750B2 (en) | 2009-09-08 | 2012-10-30 | Eastman Kodak Company | Positive-working radiation-sensitive imageable elements |
| EP2316645B1 (en) | 2009-10-27 | 2012-05-02 | AGFA Graphics NV | Novel cyanine dyes and lithographic printing plate precursors comprising such dyes |
| US8936899B2 (en) | 2012-09-04 | 2015-01-20 | Eastman Kodak Company | Positive-working lithographic printing plate precursors and use |
| RU2487882C1 (ru) | 2009-10-29 | 2013-07-20 | Майлан Груп | Галлотанниновые соединения в композициях для покрытия литографических печатных форм |
| EP2329951B1 (en) | 2009-12-04 | 2012-06-20 | AGFA Graphics NV | A lithographic printing plate precursor |
| ES2395993T3 (es) | 2010-03-19 | 2013-02-18 | Agfa Graphics N.V. | Precursor de plancha de impresión litográfica |
| US20110236832A1 (en) * | 2010-03-26 | 2011-09-29 | Celin Savariar-Hauck | Lithographic processing solutions and methods of use |
| US8939080B2 (en) | 2010-11-18 | 2015-01-27 | Eastman Kodak Company | Methods of processing using silicate-free developer compositions |
| US20120129093A1 (en) | 2010-11-18 | 2012-05-24 | Moshe Levanon | Silicate-free developer compositions |
| EP2668039B1 (en) | 2011-01-25 | 2015-06-03 | AGFA Graphics NV | A lithographic printing plate precursor |
| ES2427137T3 (es) | 2011-02-18 | 2013-10-29 | Agfa Graphics N.V. | Precursor de plancha de impresión litográfica |
| US8632940B2 (en) | 2011-04-19 | 2014-01-21 | Eastman Kodak Company | Aluminum substrates and lithographic printing plate precursors |
| US8722308B2 (en) | 2011-08-31 | 2014-05-13 | Eastman Kodak Company | Aluminum substrates and lithographic printing plate precursors |
| US9156529B2 (en) | 2011-09-08 | 2015-10-13 | Agfa Graphics Nv | Method of making a lithographic printing plate |
| US9096759B2 (en) * | 2011-12-21 | 2015-08-04 | E I Du Pont De Nemours And Company | Printing form and process for preparing the printing form with curable composition having solvent-free epoxy resin |
| US20130255515A1 (en) | 2012-03-27 | 2013-10-03 | Celin Savariar-Hauck | Positive-working lithographic printing plate precursors |
| WO2014017640A1 (ja) | 2012-07-27 | 2014-01-30 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版用支持体およびその製造方法、並びに、平版印刷版原版 |
| US9562129B2 (en) | 2013-01-01 | 2017-02-07 | Agfa Graphics Nv | (Ethylene, vinyl acetal) copolymers and their use in lithographic printing plate precursors |
| EP2775351B1 (en) | 2013-03-07 | 2017-02-22 | Agfa Graphics NV | Apparatus and method for processing a lithographic printing plate |
| CN110543081A (zh) | 2013-06-18 | 2019-12-06 | 爱克发有限公司 | 制备具有图案化背层的平版印刷版前体的方法 |
| EP2871057B1 (en) | 2013-11-07 | 2016-09-14 | Agfa Graphics Nv | Negative working, heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
| EP2933278B1 (en) | 2014-04-17 | 2018-08-22 | Agfa Nv | (Ethylene, vinyl acetal) copolymers and their use in lithographic printing plate precursors |
| ES2617557T3 (es) | 2014-05-15 | 2017-06-19 | Agfa Graphics Nv | Copolímeros (de etileno, vinilacetal) y su uso en precursores de plancha de impresión litográfica |
| CN104035279B (zh) * | 2014-05-23 | 2017-07-18 | 浙江康尔达新材料股份有限公司 | 阳图红外敏感组合物及其可成像元件 |
| ES2660063T3 (es) | 2014-06-13 | 2018-03-20 | Agfa Nv | Copolímeros (de etileno, vinilacetal) y su uso en precursores de plancha de impresión litográfica |
| EP2963496B1 (en) | 2014-06-30 | 2017-04-05 | Agfa Graphics NV | A lithographic printing plate precursor including ( ethylene, vinyl acetal ) copolymers |
| ES2655798T3 (es) | 2014-12-08 | 2018-02-21 | Agfa Nv | Sistema para reducir los residuos de ablación |
| EP3130465B1 (en) | 2015-08-12 | 2020-05-13 | Agfa Nv | Heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
| US9588429B1 (en) | 2015-09-03 | 2017-03-07 | Eastman Kodak Company | Lithographic developer composition and method of use |
| EP3170662B1 (en) | 2015-11-20 | 2019-08-14 | Agfa Nv | A lithographic printing plate precursor |
| JP2019510272A (ja) | 2016-03-16 | 2019-04-11 | アグファ・ナームローゼ・フェンノートシャップAgfa Nv | 平版印刷版の処理方法 |
| EP3239184A1 (en) | 2016-04-25 | 2017-11-01 | Agfa Graphics NV | Thermoplastic polymer particles and a lithographic printing plate precursor |
| EP3441223B1 (en) | 2017-08-07 | 2024-02-21 | Eco3 Bv | A lithographic printing plate precursor |
| CN111051981B (zh) | 2017-08-25 | 2024-04-09 | 富士胶片株式会社 | 负型平版印刷版原版及平版印刷版的制版方法 |
| EP3474073B1 (en) | 2017-10-17 | 2022-12-07 | Agfa Offset Bv | A method for making a printing plate |
| EP3637188A1 (en) | 2018-10-08 | 2020-04-15 | Agfa Nv | An effervescent developer precursor for processing a lithographic printing plate precursor |
| EP3650938A1 (en) | 2018-11-09 | 2020-05-13 | Agfa Nv | A lithographic printing plate precursor |
| EP3715140A1 (en) | 2019-03-29 | 2020-09-30 | Agfa Nv | A method of printing |
| EP3778253A1 (en) | 2019-08-13 | 2021-02-17 | Agfa Nv | Method for processing a lithographic printing plate |
| EP3922462B1 (en) | 2020-06-08 | 2023-03-01 | Agfa Offset Bv | Lithographic photopolymer printing plate precursor with improved daylight stability |
| US20240100820A1 (en) | 2020-12-16 | 2024-03-28 | Agfa Offset Bv | Lithographic Printing Press Make-Ready Method |
| EP4382306A1 (en) | 2022-12-08 | 2024-06-12 | Eco3 Bv | Lithographic printing press make-ready method |
Family Cites Families (137)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL80628C (cs) | 1949-07-23 | |||
| US3046121A (en) | 1949-07-23 | 1962-07-24 | Azoplate Corp | Process for the manufacture of printing plates and light-sensitive material suttablefor use therein |
| US3046119A (en) | 1950-08-01 | 1962-07-24 | Azoplate Corp | Light sensitive material for printing and process for making printing plates |
| BE506677A (cs) | 1950-10-31 | |||
| NL78025C (cs) | 1951-02-02 | |||
| US2767092A (en) | 1951-12-06 | 1956-10-16 | Azoplate Corp | Light sensitive material for lithographic printing |
| GB742557A (en) | 1952-10-01 | 1955-12-30 | Kalle & Co Ag | Light-sensitive material for photomechanical reproduction and process for the production of images |
| GB772517A (en) | 1954-02-06 | 1957-04-17 | Kalle & Co Ag | Improvements in or relating to photo-mechanical reproduction |
| BE540225A (cs) | 1954-08-20 | |||
| US2907665A (en) | 1956-12-17 | 1959-10-06 | Cons Electrodynamics Corp | Vitreous enamel |
| NL129161C (cs) | 1959-01-14 | |||
| BE593836A (cs) | 1959-08-05 | |||
| US3105465A (en) | 1960-05-31 | 1963-10-01 | Oliver O Peters | Hot water heater |
| US3460964A (en) * | 1964-11-19 | 1969-08-12 | Eastman Kodak Co | Heat-sensitive recording element and composition |
| NL6608712A (cs) * | 1966-06-23 | 1966-11-25 | ||
| US3635709A (en) | 1966-12-15 | 1972-01-18 | Polychrome Corp | Light-sensitive lithographic plate |
| GB1170495A (en) | 1967-03-31 | 1969-11-12 | Agfa Gevaert Nv | Radiation-Sensitive Recording Material |
| GB1231789A (cs) * | 1967-09-05 | 1971-05-12 | ||
| GB1245924A (en) * | 1967-09-27 | 1971-09-15 | Agfa Gevaert | Improvements relating to thermo-recording |
| GB1260662A (en) * | 1968-03-27 | 1972-01-19 | Agfa Gevaert | Improvements relating to the sub-titling of processed photographic materials |
| US3837860A (en) | 1969-06-16 | 1974-09-24 | L Roos | PHOTOSENSITIVE MATERIALS COMPRISING POLYMERS HAVING RECURRING PENDENT o-QUINONE DIAZIDE GROUPS |
| US3647443A (en) | 1969-09-12 | 1972-03-07 | Eastman Kodak Co | Light-sensitive quinone diazide polymers and polymer compositions |
| JPS5024641B2 (cs) | 1972-10-17 | 1975-08-18 | ||
| US3891439A (en) | 1972-11-02 | 1975-06-24 | Polychrome Corp | Aqueous developing composition for lithographic diazo printing plates |
| JPS5536518B2 (cs) * | 1972-11-21 | 1980-09-20 | ||
| US3859099A (en) | 1972-12-22 | 1975-01-07 | Eastman Kodak Co | Positive plate incorporating diazoquinone |
| CA1085212A (en) | 1975-05-27 | 1980-09-09 | Ronald H. Engebrecht | Use of volatile carboxylic acids in improved photoresists containing quinone diazides |
| DE2529054C2 (de) | 1975-06-30 | 1982-04-29 | Ibm Deutschland Gmbh, 7000 Stuttgart | Verfahren zur Herstellung eines zur Vorlage negativen Resistbildes |
| DE2543820C2 (de) * | 1975-10-01 | 1984-10-31 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Verfahren zur Herstellung von Flachdruckformen mittels Laserstrahlen |
| DE2607207C2 (de) | 1976-02-23 | 1983-07-14 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Verfahren zur Herstellung von Flachdruckformen mit Laserstrahlen |
| US4486529A (en) | 1976-06-10 | 1984-12-04 | American Hoechst Corporation | Dialo printing plate made from laser |
| GB1603920A (en) | 1978-05-31 | 1981-12-02 | Vickers Ltd | Lithographic printing plates |
| JPS5560944A (en) | 1978-10-31 | 1980-05-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | Image forming method |
| US4308368A (en) | 1979-03-16 | 1981-12-29 | Daicel Chemical Industries Ltd. | Photosensitive compositions with reaction product of novolak co-condensate with o-quinone diazide |
| JPS561045A (en) | 1979-06-16 | 1981-01-08 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Photosensitive composition |
| JPS561044A (en) | 1979-06-16 | 1981-01-08 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Photosensitive composition |
| JPS569740A (en) | 1979-07-05 | 1981-01-31 | Fuji Photo Film Co Ltd | Image forming method |
| US4316952A (en) * | 1980-05-12 | 1982-02-23 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Energy sensitive element having crosslinkable polyester |
| GB2082339B (en) * | 1980-08-05 | 1985-06-12 | Horsell Graphic Ind Ltd | Lithographic printing plates and method for processing |
| US4529682A (en) | 1981-06-22 | 1985-07-16 | Philip A. Hunt Chemical Corporation | Positive photoresist composition with cresol-formaldehyde novolak resins |
| JPS58203433A (ja) | 1982-05-21 | 1983-11-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
| JPS58224351A (ja) | 1982-06-23 | 1983-12-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性印刷版 |
| US4609615A (en) | 1983-03-31 | 1986-09-02 | Oki Electric Industry Co., Ltd. | Process for forming pattern with negative resist using quinone diazide compound |
| DE3325023A1 (de) | 1983-07-11 | 1985-01-24 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Verfahren zur herstellung negativer kopien mittels eines materials auf basis von 1,2-chinondiaziden |
| US4708925A (en) * | 1984-12-11 | 1987-11-24 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photosolubilizable compositions containing novolac phenolic resin |
| US4693958A (en) | 1985-01-28 | 1987-09-15 | Lehigh University | Lithographic plates and production process therefor |
| DE3541534A1 (de) | 1985-11-25 | 1987-05-27 | Hoechst Ag | Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch |
| ZA872295B (cs) | 1986-03-13 | 1987-09-22 | ||
| US4684599A (en) | 1986-07-14 | 1987-08-04 | Eastman Kodak Company | Photoresist compositions containing quinone sensitizer |
| US4743528A (en) * | 1986-11-21 | 1988-05-10 | Eastman Kodak Company | Enhanced imaging composition containing an azinium activator |
| GB8700599D0 (en) * | 1987-01-12 | 1987-02-18 | Vickers Plc | Printing plate precursors |
| DE3716848A1 (de) | 1987-05-20 | 1988-12-01 | Hoechst Ag | Verfahren zur bebilderung lichtempfindlichen materials |
| EP0304313A3 (en) | 1987-08-21 | 1990-08-22 | Oki Electric Industry Company, Limited | Pattern forming material |
| US4973572A (en) * | 1987-12-21 | 1990-11-27 | Eastman Kodak Company | Infrared absorbing cyanine dyes for dye-donor element used in laser-induced thermal dye transfer |
| JPH01201654A (ja) | 1988-02-06 | 1989-08-14 | Nippon Oil Co Ltd | ポジ型フォトレジスト材料 |
| US4962147A (en) | 1988-05-26 | 1990-10-09 | Hoechst Celanese Corporation | Process for the suspension polymerization of 4-acetoxystyrene and hydrolysis to 4-hydroxystyrene polymers |
| DE3820001A1 (de) | 1988-06-11 | 1989-12-14 | Basf Ag | Optisches aufzeichnungsmedium |
| JPH0820734B2 (ja) * | 1988-08-11 | 1996-03-04 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物及びそれを用いた光重合性組成物 |
| US4877718A (en) | 1988-09-26 | 1989-10-31 | Rennsselaer Polytechnic Institute | Positive-working photosensitive polyimide operated by photo induced molecular weight changes |
| JP2547626B2 (ja) | 1988-10-07 | 1996-10-23 | 富士写真フイルム株式会社 | モノマーの製造方法 |
| EP0366590B2 (en) | 1988-10-28 | 2001-03-21 | International Business Machines Corporation | Highly sensitive positive photoresist compositions |
| JP2698789B2 (ja) * | 1988-11-11 | 1998-01-19 | 富士写真フイルム株式会社 | 熱転写受像材料 |
| DE68921146T2 (de) | 1988-11-11 | 1995-06-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | Lichtempfindliche Zusammensetzung. |
| JP2571115B2 (ja) | 1989-01-17 | 1997-01-16 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物の増感方法及び増感された感光性組成物 |
| JP2871710B2 (ja) | 1989-03-17 | 1999-03-17 | 株式会社きもと | 画像形成方法 |
| JPH02251962A (ja) | 1989-03-27 | 1990-10-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 微細パターン形成材料およびパターン形成方法 |
| JPH02299879A (ja) * | 1989-04-27 | 1990-12-12 | Ncr Corp | 感熱記録媒体 |
| US5200298A (en) | 1989-05-10 | 1993-04-06 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of forming images |
| EP0410606B1 (en) | 1989-07-12 | 1996-11-13 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Siloxane polymers and positive working light-sensitive compositions comprising the same |
| DE69032464T2 (de) | 1989-10-19 | 1998-11-12 | Fujitsu Ltd | Verfahren zur Herstellung von Photolackmustern |
| GB9004337D0 (en) | 1990-02-27 | 1990-04-25 | Minnesota Mining & Mfg | Preparation and use of dyes |
| DE4013575C2 (de) | 1990-04-27 | 1994-08-11 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung negativer Reliefkopien |
| US5279918A (en) | 1990-05-02 | 1994-01-18 | Mitsubishi Kasei Corporation | Photoresist composition comprising a quinone diazide sulfonate of a novolac resin |
| JP2729850B2 (ja) | 1990-05-15 | 1998-03-18 | 富士写真フイルム株式会社 | 画像形成層 |
| JP2639853B2 (ja) | 1990-05-18 | 1997-08-13 | 富士写真フイルム株式会社 | 新規キノンジアジド化合物及びそれを含有する感光性組成物 |
| JP2645384B2 (ja) | 1990-05-21 | 1997-08-25 | 日本ペイント株式会社 | ポジ型感光性樹脂組成物 |
| US5145763A (en) | 1990-06-29 | 1992-09-08 | Ocg Microelectronic Materials, Inc. | Positive photoresist composition |
| JP3244288B2 (ja) * | 1990-07-23 | 2002-01-07 | 昭和電工株式会社 | 近赤外光消色型記録材料 |
| US5085972A (en) | 1990-11-26 | 1992-02-04 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Alkoxyalkyl ester solubility inhibitors for phenolic resins |
| JPH04359906A (ja) | 1991-06-07 | 1992-12-14 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ポリ(パラ−t−ブトキシカルボニルオキシスチレン)及びその製造方法 |
| CA2066895A1 (en) | 1991-06-17 | 1992-12-18 | Thomas P. Klun | Aqueous developable imaging systems |
| US5258257A (en) | 1991-09-23 | 1993-11-02 | Shipley Company Inc. | Radiation sensitive compositions comprising polymer having acid labile groups |
| US5437952A (en) | 1992-03-06 | 1995-08-01 | Konica Corporation | Lithographic photosensitive printing plate comprising a photoconductor and a naphtho-quinone diazide sulfonic acid ester of a phenol resin |
| US5368977A (en) | 1992-03-23 | 1994-11-29 | Nippon Oil Co. Ltd. | Positive type photosensitive quinone diazide phenolic resin composition |
| US5372917A (en) | 1992-06-30 | 1994-12-13 | Kanzaki Paper Manufacturing Co., Ltd. | Recording material |
| US5268245A (en) | 1992-07-09 | 1993-12-07 | Polaroid Corporation | Process for forming a filter on a solid state imager |
| US5351617A (en) | 1992-07-20 | 1994-10-04 | Presstek, Inc. | Method for laser-discharge imaging a printing plate |
| CA2091286A1 (en) | 1992-07-20 | 1994-01-21 | Macdermid, Inc. | Direct imaging process for forming resist pattern on a surface, and use thereof in fabricating printed boards |
| US5286612A (en) | 1992-10-23 | 1994-02-15 | Polaroid Corporation | Process for generation of free superacid and for imaging, and imaging medium for use therein |
| DE69406687T2 (de) | 1993-01-25 | 1998-05-14 | At & T Corp | Ein Verfahren zum gesteuerten Entschützen von Polymeren und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung welches diese zum Teil entschützten Polymere für Photoresiste benutzt |
| US5340699A (en) * | 1993-05-19 | 1994-08-23 | Eastman Kodak Company | Radiation-sensitive composition containing a resole resin and a novolac resin and use thereof in lithographic printing plates |
| EP0631189B1 (en) * | 1993-06-24 | 1999-02-17 | Agfa-Gevaert N.V. | Improvement of the storage stability of a diazo-based imaging element for making a printing plate |
| DE4426820A1 (de) | 1993-07-29 | 1995-02-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | Bilderzeugungsmaterial und Bilderzeugungsverfahren |
| GB9322705D0 (en) * | 1993-11-04 | 1993-12-22 | Minnesota Mining & Mfg | Lithographic printing plates |
| EP0672954B1 (en) * | 1994-03-14 | 1999-09-15 | Kodak Polychrome Graphics LLC | Radiation-sensitive composition containing a resole resin, a novolac resin, an infrared absorber and a triazine and use thereof in lithographic printing plates |
| JP3317574B2 (ja) | 1994-03-15 | 2002-08-26 | 富士写真フイルム株式会社 | ネガ型画像記録材料 |
| JP3461377B2 (ja) | 1994-04-18 | 2003-10-27 | 富士写真フイルム株式会社 | 画像記録材料 |
| US5441850A (en) | 1994-04-25 | 1995-08-15 | Polaroid Corporation | Imaging medium and process for producing an image |
| EP0691575B1 (en) | 1994-07-04 | 2002-03-20 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Positive photosensitive composition |
| EP0720057A4 (en) | 1994-07-11 | 1997-01-22 | Konishiroku Photo Ind | INITIAL ELEMENT FOR LITHOGRAPHIC PLATE AND PROCESS FOR PREPARING SAID PLATE |
| US5466557A (en) * | 1994-08-29 | 1995-11-14 | Eastman Kodak Company | Radiation-sensitive composition containing a resole resin, a novolac resin, a latent bronsted acid, an infrared absorber and terephthalaldehyde and use thereof in lithographic printing plates |
| EP0706899A1 (en) | 1994-10-13 | 1996-04-17 | Agfa-Gevaert N.V. | Thermal imaging element |
| US5491046A (en) * | 1995-02-10 | 1996-02-13 | Eastman Kodak Company | Method of imaging a lithographic printing plate |
| US5658708A (en) | 1995-02-17 | 1997-08-19 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image recording material |
| JPH0962005A (ja) * | 1995-06-14 | 1997-03-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | ネガ型感光性組成物 |
| GB9516723D0 (en) * | 1995-08-15 | 1995-10-18 | Horsell Plc | Water-less lithographic plates |
| GB9516694D0 (en) | 1995-08-15 | 1995-10-18 | Horsell Plc | Water-less lithographic plates |
| US5641608A (en) | 1995-10-23 | 1997-06-24 | Macdermid, Incorporated | Direct imaging process for forming resist pattern on a surface and use thereof in fabricating printing plates |
| JPH09120157A (ja) * | 1995-10-25 | 1997-05-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | 湿し水不要感光性平版印刷版 |
| US6132935A (en) | 1995-12-19 | 2000-10-17 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Negative-working image recording material |
| US5814431A (en) * | 1996-01-10 | 1998-09-29 | Mitsubishi Chemical Corporation | Photosensitive composition and lithographic printing plate |
| JP3589365B2 (ja) | 1996-02-02 | 2004-11-17 | 富士写真フイルム株式会社 | ポジ画像形成組成物 |
| EP0803771A1 (en) | 1996-04-23 | 1997-10-29 | Agfa-Gevaert N.V. | A method for making a lithopgrapic printing plate wherein an imaging element is used that comprises a thermosensitive mask |
| EP0819980B1 (en) | 1996-07-19 | 2000-05-31 | Agfa-Gevaert N.V. | An IR radiation-sensitive imaging element and a method for producing lithographic plates therewith |
| JP3814961B2 (ja) | 1996-08-06 | 2006-08-30 | 三菱化学株式会社 | ポジ型感光性印刷版 |
| US5705309A (en) | 1996-09-24 | 1998-01-06 | Eastman Kodak Company | Photosensitive composition and element containing polyazide and an infrared absorber in a photocrosslinkable binder |
| US5759742A (en) | 1996-09-25 | 1998-06-02 | Eastman Kodak Company | Photosensitive element having integral thermally bleachable mask and method of use |
| US5705322A (en) | 1996-09-30 | 1998-01-06 | Eastman Kodak Company | Method of providing an image using a negative-working infrared photosensitive element |
| US5858626A (en) * | 1996-09-30 | 1999-01-12 | Kodak Polychrome Graphics | Method of forming a positive image through infrared exposure utilizing diazonaphthoquinone imaging composition |
| US5705308A (en) | 1996-09-30 | 1998-01-06 | Eastman Kodak Company | Infrared-sensitive, negative-working diazonaphthoquinone imaging composition and element |
| US6117610A (en) * | 1997-08-08 | 2000-09-12 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Infrared-sensitive diazonaphthoquinone imaging composition and element containing non-basic IR absorbing material and methods of use |
| EP0839647B2 (en) | 1996-10-29 | 2014-01-22 | Agfa Graphics N.V. | Method for making a lithographic printing plate with improved ink-uptake |
| US6060222A (en) * | 1996-11-19 | 2000-05-09 | Kodak Polcyhrome Graphics Llc | 1Postitve-working imaging composition and element and method of forming positive image with a laser |
| EP0855267B1 (en) | 1997-01-24 | 2002-04-17 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Planographic printing plate |
| DE69806986T2 (de) | 1997-03-11 | 2003-05-08 | Agfa-Gevaert, Mortsel | Verfahren zur Herstellung von positiv arbeitenden lithographischen Druckplatten |
| US6090532A (en) * | 1997-03-21 | 2000-07-18 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Positive-working infrared radiation sensitive composition and printing plate and imaging method |
| DE19712323A1 (de) | 1997-03-24 | 1998-10-01 | Agfa Gevaert Ag | Strahlungsempfindliches Gemisch und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial für Offsetdruckplatten |
| US6083662A (en) * | 1997-05-30 | 2000-07-04 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Methods of imaging and printing with a positive-working infrared radiation sensitive printing plate |
| JP3779444B2 (ja) | 1997-07-28 | 2006-05-31 | 富士写真フイルム株式会社 | 赤外線レーザ用ポジ型感光性組成物 |
| US6060217A (en) * | 1997-09-02 | 2000-05-09 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Thermal lithographic printing plates |
| EP0908306B3 (en) | 1997-10-08 | 2009-08-05 | Agfa-Gevaert | A method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive imaging element |
| US6060218A (en) * | 1997-10-08 | 2000-05-09 | Agfa-Gevaert, N.V. | Method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive image element |
| DE69810242T2 (de) * | 1997-10-28 | 2003-10-30 | Mitsubishi Chemical Corp., Tokio/Tokyo | Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch, positiv arbeitende lichtempfindliche Flachdruckplatte und Verfahren zur Bebilderung der Druckplatte |
| EP0934822B1 (en) * | 1998-02-04 | 2005-05-04 | Mitsubishi Chemical Corporation | Positive photosensitive composition, positive photosensitive lithographic printing plate and method for forming a positive image |
| US6251559B1 (en) * | 1999-08-03 | 2001-06-26 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Heat treatment method for obtaining imagable coatings and imagable coatings |
| US6300038B1 (en) * | 1999-11-19 | 2001-10-09 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Articles having imagable coatings |
| US6294311B1 (en) * | 1999-12-22 | 2001-09-25 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Lithographic printing plate having high chemical resistance |
-
1997
- 1997-04-22 ES ES97919526T patent/ES2114521T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1997-04-22 AT AT98203153T patent/ATE220991T1/de active
- 1997-04-22 CZ CZ19974008A patent/CZ292739B6/cs not_active IP Right Cessation
- 1997-04-22 AT AT97919526T patent/ATE183136T1/de not_active IP Right Cessation
- 1997-04-22 AU AU23966/97A patent/AU707872B2/en not_active Ceased
- 1997-04-22 WO PCT/GB1997/001117 patent/WO1997039894A1/en not_active Ceased
- 1997-04-22 PL PL97324248A patent/PL324248A1/xx unknown
- 1997-04-22 EP EP97919526A patent/EP0825927B1/en not_active Revoked
- 1997-04-22 DE DE69714225T patent/DE69714225T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1997-04-22 ES ES98203153T patent/ES2181120T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1997-04-22 DE DE29724584U patent/DE29724584U1/de not_active Expired - Lifetime
- 1997-04-22 EP EP98203153A patent/EP0887182B1/en not_active Revoked
- 1997-04-22 JP JP53785097A patent/JP3147908B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1997-04-22 CA CA002225567A patent/CA2225567C/en not_active Expired - Fee Related
- 1997-04-22 DE DE69700397T patent/DE69700397T2/de not_active Revoked
- 1997-04-22 CN CN97190751A patent/CN1078132C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1997-04-22 IL IL12231897A patent/IL122318A/xx not_active IP Right Cessation
- 1997-04-22 BR BR9702181-4A patent/BR9702181A/pt not_active IP Right Cessation
- 1997-04-22 RU RU98101117/12A patent/RU2153986C2/ru not_active IP Right Cessation
- 1997-04-22 DE DE0825927T patent/DE825927T1/de active Pending
- 1997-12-19 NO NO976002A patent/NO976002L/no not_active Application Discontinuation
-
2000
- 2000-01-18 US US09/483,990 patent/US6280899B1/en not_active Expired - Lifetime
-
2001
- 2001-05-18 US US09/860,943 patent/US6485890B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CZ400897A3 (cs) | Tepelně citlivá směs a způsob vytvoření výchozí litografické tiskové desky pomocí této směsi | |
| US6352811B1 (en) | Thermal digital lithographic printing plate | |
| EP0969966B1 (en) | Positive-working infrared radiation sensitive composition and printing plate and imaging method | |
| US5605780A (en) | Lithographic printing plate adapted to be imaged by ablation | |
| CN1954007B (zh) | 热反应性红外吸收聚合物及其在热敏平版印刷版中的用途 | |
| US5691114A (en) | Method of imaging of lithographic printing plates using laser ablation | |
| CN101370660B (zh) | 阳图制版可成像元件、形成图像的方法及方法形成的图像 | |
| JP2003536095A (ja) | ポリマーならびにその画像形成可能な製品および画像形成方法における使用 | |
| US6699636B2 (en) | Imaging element comprising a thermally activated crosslinking agent | |
| CN101395536A (zh) | 多层可成像元件的热处理 | |
| US6352814B1 (en) | Method of forming a desired pattern | |
| US6843176B2 (en) | Method to remove unwanted, unexposed, radiation-sensitive layer in a lithographic printing plate | |
| JPH10186649A (ja) | 赤外感光性画像形成組成物、要素及び方法 | |
| KR100277346B1 (ko) | 열-감지조성물 및 이를 이용하여석판인쇄인화형을표시하는 방법 | |
| KR100573050B1 (ko) | 써멀 디지털 방식의 이미지 형성용 조성물 | |
| US20080182206A1 (en) | Positive-working imageable elements | |
| JPH11254855A (ja) | 平版印刷版を与えるための感熱性非融蝕性で廃棄物のない画像形成要素 | |
| MX2007005556A (es) | Polìmeros que absorben en el infrarrojo tèrmicamente reactivos y su uso en una plancha de impresiòn litogràfica sensible al calor. |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PD00 | Pending as of 2000-06-30 in czech republic | ||
| MM4A | Patent lapsed due to non-payment of fee |
Effective date: 20050422 |