JP3147908B2 - 感熱性組成物および該組成物を使用したリソグラフィックプリンティングフォームの作製方法 - Google Patents
感熱性組成物および該組成物を使用したリソグラフィックプリンティングフォームの作製方法Info
- Publication number
- JP3147908B2 JP3147908B2 JP53785097A JP53785097A JP3147908B2 JP 3147908 B2 JP3147908 B2 JP 3147908B2 JP 53785097 A JP53785097 A JP 53785097A JP 53785097 A JP53785097 A JP 53785097A JP 3147908 B2 JP3147908 B2 JP 3147908B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- composition
- lithographic printing
- electromagnetic radiation
- foam precursor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 125
- 238000007639 printing Methods 0.000 title claims description 72
- 239000006260 foam Substances 0.000 title claims description 50
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 91
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 claims abstract description 18
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 claims abstract description 18
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 15
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical class N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims description 58
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 claims description 45
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 claims description 41
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 31
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 23
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 21
- -1 imidazoline compound Chemical class 0.000 claims description 18
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 18
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 15
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 15
- 239000000049 pigment Substances 0.000 claims description 13
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 12
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 9
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 8
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 8
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 claims description 7
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 claims description 6
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 claims description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims description 4
- JNELGWHKGNBSMD-UHFFFAOYSA-N xanthone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3OC2=C1 JNELGWHKGNBSMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N Maleimide Chemical compound O=C1NC(=O)C=C1 PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- DPKHZNPWBDQZCN-UHFFFAOYSA-N acridine orange free base Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC2=NC3=CC(N(C)C)=CC=C3C=C21 DPKHZNPWBDQZCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 claims description 3
- BOXSCYUXSBYGRD-UHFFFAOYSA-N cyclopenta-1,3-diene;iron(3+) Chemical compound [Fe+3].C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1 BOXSCYUXSBYGRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 3
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-O hydron;quinoline Chemical compound [NH+]1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims description 3
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 3
- POVRXYLNLVVNGW-UHFFFAOYSA-N 2,3-Diphenyl-1-indanone Chemical compound C12=CC=CC=C2C(=O)C(C=2C=CC=CC=2)=C1C1=CC=CC=C1 POVRXYLNLVVNGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- UXFWTIGUWHJKDD-UHFFFAOYSA-N 2-(4-bromobutyl)isoindole-1,3-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)N(CCCCBr)C(=O)C2=C1 UXFWTIGUWHJKDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- XLLXMBCBJGATSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenol Chemical compound OC=CC1=CC=CC=C1 XLLXMBCBJGATSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- YYVYAPXYZVYDHN-UHFFFAOYSA-N 9,10-phenanthroquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(=O)C3=CC=CC=C3C2=C1 YYVYAPXYZVYDHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ZONYXWQDUYMKFB-UHFFFAOYSA-N SJ000286395 Natural products O1C2=CC=CC=C2C(=O)CC1C1=CC=CC=C1 ZONYXWQDUYMKFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- GAMYVSCDDLXAQW-AOIWZFSPSA-N Thermopsosid Natural products O(C)c1c(O)ccc(C=2Oc3c(c(O)cc(O[C@H]4[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](CO)O4)c3)C(=O)C=2)c1 GAMYVSCDDLXAQW-AOIWZFSPSA-N 0.000 claims description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 claims description 2
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical compound OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- VDQQXEISLMTGAB-UHFFFAOYSA-N chloramine T Chemical compound [Na+].CC1=CC=C(S(=O)(=O)[N-]Cl)C=C1 VDQQXEISLMTGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229930003949 flavanone Natural products 0.000 claims description 2
- 150000002207 flavanone derivatives Chemical class 0.000 claims description 2
- 235000011981 flavanones Nutrition 0.000 claims description 2
- 229930003944 flavone Natural products 0.000 claims description 2
- 235000011949 flavones Nutrition 0.000 claims description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 2
- HOBCFUWDNJPFHB-UHFFFAOYSA-N indolizine Chemical compound C1=CC=CN2C=CC=C21 HOBCFUWDNJPFHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M merocyanine Chemical compound [Na+].O=C1N(CCCC)C(=O)N(CCCC)C(=O)C1=C\C=C\C=C/1N(CCCS([O-])(=O)=O)C2=CC=CC=C2O\1 DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M 0.000 claims description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 2
- JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N mono-hydroxyphenyl-ethylene Natural products OC1=CC=CC=C1C=C JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 claims description 2
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical group N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N pyrylium Chemical compound C1=CC=[O+]C=C1 WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000003852 triazoles Chemical class 0.000 claims description 2
- VHBFFQKBGNRLFZ-UHFFFAOYSA-N vitamin p Natural products O1C2=CC=CC=C2C(=O)C=C1C1=CC=CC=C1 VHBFFQKBGNRLFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- YYROPELSRYBVMQ-UHFFFAOYSA-N 4-toluenesulfonyl chloride Chemical compound CC1=CC=C(S(Cl)(=O)=O)C=C1 YYROPELSRYBVMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 claims 1
- DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N benzoquinolinylidene Natural products C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3N=C21 DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- VRZVPALEJCLXPR-UHFFFAOYSA-N ethyl 4-methylbenzenesulfonate Chemical compound CCOS(=O)(=O)C1=CC=C(C)C=C1 VRZVPALEJCLXPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 claims 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims 1
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 claims 1
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical class C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 abstract description 2
- 150000002462 imidazolines Chemical class 0.000 abstract description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical class C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 25
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 17
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 15
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 15
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 14
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 13
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 13
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 11
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000008569 process Effects 0.000 description 7
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 6
- 239000000047 product Substances 0.000 description 6
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 6
- 239000002585 base Substances 0.000 description 5
- 229920003987 resole Polymers 0.000 description 5
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 4
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 4
- 238000011161 development Methods 0.000 description 4
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 4
- VOZKAJLKRJDJLL-UHFFFAOYSA-N 2,4-diaminotoluene Chemical compound CC1=CC=C(N)C=C1N VOZKAJLKRJDJLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 3
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 3
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 3
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxystyrene Chemical compound OC1=CC=C(C=C)C=C1 FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 150000002391 heterocyclic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 2
- DZCAZXAJPZCSCU-UHFFFAOYSA-K sodium nitrilotriacetate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CN(CC([O-])=O)CC([O-])=O DZCAZXAJPZCSCU-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 2
- 230000007928 solubilization Effects 0.000 description 2
- 238000005063 solubilization Methods 0.000 description 2
- ZFFFXKCZHWHRET-UHFFFAOYSA-N tert-butyl n-(2-bromo-6-chloropyridin-3-yl)carbamate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)NC1=CC=C(Cl)N=C1Br ZFFFXKCZHWHRET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 2
- ULOCHOLAPFZTGB-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazol-3-ium;bromide Chemical compound [Br-].C1=CC=C2SC=[NH+]C2=C1 ULOCHOLAPFZTGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUIJCMJIYQWIMF-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole;hydroiodide Chemical compound [I-].C1=CC=C2SC=[NH+]C2=C1 WUIJCMJIYQWIMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 1,3-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC(N)=C1 WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UAJRSHJHFRVGMG-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-methoxybenzene Chemical compound COC1=CC=C(C=C)C=C1 UAJRSHJHFRVGMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAQSNXHKHKONNS-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-2-hydroxy-4-methyl-6-oxopyridine-3-carboxamide Chemical compound CCN1C(O)=C(C(N)=O)C(C)=CC1=O QAQSNXHKHKONNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEVSHJVOKFWBJY-UHFFFAOYSA-M 1-ethyl-2-methylquinolin-1-ium;iodide Chemical compound [I-].C1=CC=C2[N+](CC)=C(C)C=CC2=C1 OEVSHJVOKFWBJY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LCEBDKLPALDQPV-UHFFFAOYSA-L 1-ethyl-4-(1-ethylpyridin-1-ium-4-yl)pyridin-1-ium;dibromide Chemical compound [Br-].[Br-].C1=C[N+](CC)=CC=C1C1=CC=[N+](CC)C=C1 LCEBDKLPALDQPV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XDGZLJIBGBJNTI-UHFFFAOYSA-M 1-ethyl-4-[5-(1-ethylquinolin-1-ium-4-yl)penta-2,4-dienylidene]quinoline;iodide Chemical compound [I-].C12=CC=CC=C2N(CC)C=C\C1=C/C=C/C=C/C1=CC=[N+](CC)C2=CC=CC=C12 XDGZLJIBGBJNTI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KLIDCXVFHGNTTM-UHFFFAOYSA-N 2,6-dimethoxyphenol Chemical compound COC1=CC=CC(OC)=C1O KLIDCXVFHGNTTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XZXYQEHISUMZAT-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-hydroxy-5-methylphenyl)methyl]-4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C(CC=2C(=CC=C(C)C=2)O)=C1 XZXYQEHISUMZAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGTDLPBPQKAPMN-KTKRTIGZSA-N 2-[2-[(z)-heptadec-8-enyl]-4,5-dihydroimidazol-1-yl]ethanol Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC1=NCCN1CCO WGTDLPBPQKAPMN-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- KEZYHIPQRGTUDU-UHFFFAOYSA-N 2-[dithiocarboxy(methyl)amino]acetic acid Chemical compound SC(=S)N(C)CC(O)=O KEZYHIPQRGTUDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTWMBHJPUJJJME-UHFFFAOYSA-N 3,4-dimethylpyrrole-2,5-dione Chemical compound CC1=C(C)C(=O)NC1=O ZTWMBHJPUJJJME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SHXWCVYOXRDMCX-UHFFFAOYSA-N 3,4-methylenedioxymethamphetamine Chemical compound CNC(C)CC1=CC=C2OCOC2=C1 SHXWCVYOXRDMCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 3-(2-phenylethenyl)furan-2,5-dione Chemical compound O=C1OC(=O)C(C=CC=2C=CC=CC=2)=C1 PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMUQOOLSNNTSOV-UHFFFAOYSA-M 4-[3-chloro-5-(1-ethylquinolin-1-ium-4-yl)penta-2,4-dienylidene]-1-ethylquinoline bromide Chemical compound CCN1C=CC(=CC=C(C=CC2=CC=[N+](C3=CC=CC=C23)CC)Cl)C4=CC=CC=C41.[Br-] UMUQOOLSNNTSOV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WTQZSMDDRMKJRI-UHFFFAOYSA-N 4-diazoniophenolate Chemical compound [O-]C1=CC=C([N+]#N)C=C1 WTQZSMDDRMKJRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPTKLSBRRJFNHJ-UHFFFAOYSA-N 4-phenyldiazenylbenzene-1,3-diol Chemical compound OC1=CC(O)=CC=C1N=NC1=CC=CC=C1 BPTKLSBRRJFNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NSPMIYGKQJPBQR-UHFFFAOYSA-N 4H-1,2,4-triazole Chemical compound C=1N=CNN=1 NSPMIYGKQJPBQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 235000007119 Ananas comosus Nutrition 0.000 description 1
- 244000099147 Ananas comosus Species 0.000 description 1
- 229920001342 Bakelite® Polymers 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M Bicarbonate Chemical compound OC([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000007848 Bronsted acid Substances 0.000 description 1
- 229920008347 Cellulose acetate propionate Polymers 0.000 description 1
- LZZYPRNAOMGNLH-UHFFFAOYSA-M Cetrimonium bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C LZZYPRNAOMGNLH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 241000110847 Kochia Species 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920000147 Styrene maleic anhydride Polymers 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229940107816 ammonium iodide Drugs 0.000 description 1
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 1
- 239000004637 bakelite Substances 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229960002798 cetrimide Drugs 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- ZXJXZNDDNMQXFV-UHFFFAOYSA-M crystal violet Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1[C+](C=1C=CC(=CC=1)N(C)C)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 ZXJXZNDDNMQXFV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- JVICFMRAVNKDOE-UHFFFAOYSA-M ethyl violet Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(CC)CC)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 JVICFMRAVNKDOE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000012847 fine chemical Substances 0.000 description 1
- 150000002212 flavone derivatives Chemical class 0.000 description 1
- UPBDXRPQPOWRKR-UHFFFAOYSA-N furan-2,5-dione;methoxyethene Chemical compound COC=C.O=C1OC(=O)C=C1 UPBDXRPQPOWRKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 229910052816 inorganic phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 125000005439 maleimidyl group Chemical group C1(C=CC(N1*)=O)=O 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000008520 organization Effects 0.000 description 1
- 150000004686 pentahydrates Chemical class 0.000 description 1
- 238000006303 photolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 230000015843 photosynthesis, light reaction Effects 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920005596 polymer binder Polymers 0.000 description 1
- 239000002491 polymer binding agent Substances 0.000 description 1
- 235000013824 polyphenols Nutrition 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000009877 rendering Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 230000003381 solubilizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- 125000005207 tetraalkylammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000013519 translation Methods 0.000 description 1
- HRXKRNGNAMMEHJ-UHFFFAOYSA-K trisodium citrate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O HRXKRNGNAMMEHJ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
- B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
- B41M5/36—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used using a polymeric layer, which may be particulate and which is deformed or structurally changed with modification of its' properties, e.g. of its' optical hydrophobic-hydrophilic, solubility or permeability properties
- B41M5/368—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used using a polymeric layer, which may be particulate and which is deformed or structurally changed with modification of its' properties, e.g. of its' optical hydrophobic-hydrophilic, solubility or permeability properties involving the creation of a soluble/insoluble or hydrophilic/hydrophobic permeability pattern; Peel development
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C1/00—Forme preparation
- B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
- B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C1/00—Forme preparation
- B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
- B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
- B41C1/1016—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials characterised by structural details, e.g. protective layers, backcoat layers or several imaging layers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/02—Positive working, i.e. the exposed (imaged) areas are removed
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/06—Developable by an alkaline solution
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/14—Multiple imaging layers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/22—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by organic non-macromolecular additives, e.g. dyes, UV-absorbers, plasticisers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/24—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. acrylics, vinyl polymers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/26—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions not involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
- B41C2210/262—Phenolic condensation polymers, e.g. novolacs, resols
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/145—Infrared
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/146—Laser beam
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/165—Thermal imaging composition
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Heat Sensitive Colour Forming Recording (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Developing Agents For Electrophotography (AREA)
- Liquid Developers In Electrophotography (AREA)
Description
ンティングフォーム前駆物質、その使用方法およびそれ
を使用するためのイメージ形成可能な組成物に関する。
リソグラフィックプリンティング技術は油と水の不混和
性に基づいており、油性物質またはインクはイメージ領
域により選択的に保持され、水または噴水溶液は非イメ
ージ領域により選択的に保持される。適当に調製された
表面が水で加湿され、そしてインクが塗布されると、イ
メージ領域はインクを吸収し、水をはじき、背景、すな
わち非イメージ領域は水を保持する。そして、イメージ
領域のインクはイメージが再生される物質の表面、例え
ば紙、布等に移動する。通常、インクは、ブランケット
と呼ばれる中間物質に移動し、そのブランケットがイン
クをイメージが再生される物質表面に運ぶ。
グフォーム前駆物質はアルミニウム支持体に塗布された
光感光性コーティングを有する。ネガティブワーキング
リソグラフィックプリンティングフォーム前駆物質は光
にイメージ露光されると、露光された領域が硬化する電
磁線感光性コーティングを有している。現像時、コート
された組成物の非露光領域は除去され、イメージが残
る。他方、ポジティブワーキングリソグラフィックプリ
ンティングフォーム前駆物質はコートされた組成物を有
しているが、それは適当な波長の光でイメージ露光され
ると、現像時、非露光領域よりも露光領域の方がより溶
けやすくなる。この光により誘発された溶解性の差は光
可溶化(photosolubilisation)と呼ばれている。多く
の商業的に入手可能なポジティブワーキングプリンティ
ングフォーム前駆物質はフェノール性樹脂とともにキノ
ンジアジドで被覆されており、光可溶化によりイメージ
を再生する。いずれの場合も、プリンティングフォーム
それ自体上のイメージ領域はインク受容性すなわち親油
性(oleophilic)であり、非イメージ領域または背景は
水受容性すなわち親水性である。
じ、その工程ではフィルムが真空でプリンティングフォ
ーム前駆物質にかけられて接触を良好にする。次に、プ
リンティングフォーム前駆物質が紫外線を含む光源に露
光される。ポジティブプリンティングフォーム前駆物質
を使用する場合は、プリンティングフォーム前駆物質上
のイメージに対応しているフィルム領域は不透明であ
り、プリンティングフォーム前駆物質は全く光に当たら
ない。一方、非イメージ領域相当するフィルム領域は透
明であり、溶解性になり除去されるコーティング層まで
光が透過する。
分野は最近さらに発展し、直接にレーザーアドレス可能
なプリンティングフォーム前駆物質の調製に有用な電磁
線感応性組成物が提供されている。デジタルイメージン
グ形成は、写真透明体等のイメージングマスターを使用
する必要がなく、プリンティングフォーム前駆物質をイ
メージ形成するのに使用できる。
可能なプリンティングフォーム前駆物質の例が、1987年
11月24日発行のアメリカ合衆国特許4708925号に記載さ
れている。イメージング層がフェノール性樹脂および電
磁線感応性オニウム塩を含有するリソグラフィックプリ
ンティングフォーム前駆物質を記載している。該特許に
記載されているように、フェノール性樹脂とオニウム塩
が相互作用し、オニウム塩の光分解によりアルカリ溶解
性に戻るアルカリ不溶性組成物が作られる。プリンティ
ングフォーム前駆物質は、イギリス特許第2082339号に
詳述されているように、露光と現像との間にさらに加工
ステップを使用して、ポジティブワーキングプリンティ
ングフォーム前駆物質として、またはネガティブワーキ
ングプリンティング前駆物質として利用可能である。合
衆国特許第2708925号に記載されているプリンティング
フォーム前駆物質は本質的にUV照射に感光性が有り、さ
らに可視および赤外線照射に感光させることができる。
ーザーアドレス可能なプリンティングフォーム前駆物質
のさらなる例が1994年12月13日発行のアメリカ合衆国特
許第5372907号および1996年2月13日発行のアメリカ合
衆国特許第5491046号に記載されている。これらの2つ
の特許はイメージ露光により、潜在性のブレンステッド
酸を電磁線誘導分解し、樹脂マトリックスの溶解性を増
大させることを詳述している。アメリカ合衆国特許第47
08925号に記載されているプリンティングフォーム前駆
物質を使用して、これらのシステムは、イメージングや
前現像の後にさらに加工ステップを付けてネガティブワ
ーキングシステムとしてさらに利用できる。ネガティブ
ワーキングプロセスにおいては、分解副生成物は続いて
樹脂間の架橋反応を触媒するのに使用され、現像の前に
イメージ領域を不溶性にする。アメリカ合衆国特許第47
08925号におけるように、これらのプリンティングフォ
ーム前駆物質は使用されている酸発生剤により本質的に
UV照射感光性である。
ティング前駆物質として使用されている上記先行技術の
プリンティングフォーム前駆物質は一つ以上の望ましい
特徴に欠けている。記述されているプリンティングフォ
ーム前駆物質のいずれも、作業室の照明条件を正当に考
慮しなければ広範囲に扱えない。時間制限なくプリンテ
ィングフォーム前駆物質を取り扱うためには、望まれて
いないUV照射への露光を防ぐ特別に安全な照明条件が要
求される。白色光源の出力スペクトルに依存する白色光
作業条件の中でのみ限られた期間のみプリンティングフ
ォーム前駆物質を利用できる。ワークフローをストリー
ムライン化するために、制限のない白色光印刷室環境中
でデジタルイメージングハードウェアやプリンティング
フォーム前駆物質を利用することが望ましであろうし、
UV感光性はこれらの領域では不都合であろう。さらに白
色光操作は、目下、限定的な安全光条件下になければな
らない伝統的プレプレス領域における作業環境を改善す
るものとなろう。
は、プレート特性を最適化し、現像剤溶解性、インク受
容性、ランレングス、接着性をはじめ必要なリソグラフ
ィックプレート性能パラメーターの最高性能を提供する
のに困難性を引き起こす要素に制約を有する。
ステムにおいては、アルカリ溶解性樹脂変性としても、
組成物の追加成分としても、照射するとオニウム塩の存
在下にフェノール性樹脂を架橋するであろう官能基の存
在が許されない。というのは露光時の可溶化の効果が減
少するからである。
成物の本質的要求は、ネガティブワーキングモードにお
いてシステムが使用できるようにレゾール樹脂とノボラ
ック樹脂の両者が存在することである。これは、ネガテ
ィブワーキング特許実施例およびこの独占技術に由来す
る最初の商業化製品、コダックのパフォーマー(Perfor
mer)製品に示されているように、このシステムに好都
合なモードである。ネガティブワーキングポテンシャル
の最適化は、該要求をしないポジティブワーキングモー
ドのための最適化を制限する。
の熱溶解性組成物が1971年9月15日発行のイギリス特許
第1245924号に開示されており、所定溶媒中におけるイ
メージ形成可能な層の所定の領域の溶解性は、レコーデ
ィング材料に接触して位置しているグラフィックのオリ
ジナルの背景領域から透過または反射した強強度の可視
光および/または赤外照射に間接的に短時間さらすこと
により、層を加熱して増加させることができる。記述さ
れているシステムは種々雑多であり、たくさんの異なっ
たメカニズムで操作されており、水から塩素化有機溶媒
までわたる色々な現像物質を使用している。水性現像性
の開示組成物の範囲にはノボラック系フェノール樹脂を
含有する組成物が含まれる。該特許はかかる樹脂を含有
するコートされたフィルムが加熱により溶解性が増加す
ることが示唆されている。組成物は、カーボンブラッ
ク、あるいはミノリブルー(C.I.ピグメントブルー27)
等の熱吸収化合物を含有していてもよい。これらの材料
はレコーディング媒体としてそれらを使用するのでイメ
ージをさらに着色する。
ている組成物における溶解性の差の程度は、市販のポジ
ティブワーキングリソグラフィックプリンティングフォ
ーム前駆物質組成物に比べて非常に低い。標準的なリソ
グラフィックプリンティングフォーム前駆物質は、強力
な現像溶液に対する優れた許容度、顧客ユースのバリエ
ーションに対して良好な丈夫さを発揮することができ、
そして最適化して高い現像剤溶液使用法および高い数の
印刷くぼみを提供することができる。イギリス特許第12
45924号の組成物により示されている非常に粗末な現像
剤の寛容度のために、市販で手に入るリソグラフィック
プリンティングフォーム前駆物質は不適当である。
イメージング用の感熱性ポジティブワーキングプリンテ
ィングフォーム前駆物質としての応用に適した感熱性組
成物を見出した。
組成物を局部加熱することにより、さらされた領域の水
性現像剤の溶解性の増大が引き起こされるという点にお
いて感熱性である。
性ポリマー物質(以下、「活性ポリマー」という)を含
有する親油性感熱性組成物、およびポリマー物質の水性
現像剤溶解性を減少させる化合物(以下、「可逆不溶化
化合物(reversiblerinsolubiliser compound)」とい
う)が提供されるものであり、組成物の水性現像剤溶解
性は加熱により増大し、組成物の水性現像剤溶解性は入
射したUV電磁線により増大しないことに特徴づけられ
る。
よび可逆不溶化化合物を含有する組成物からなり、親水
性表面を有する支持体上にコートされたコーティング層
を有する、ポジティブワーキングリソグラフィックプリ
ンティングフォーム前駆物質(precursor)が提供され
るものであり、組成物の水性現像剤溶解性加熱により増
大し、組成物の水性現像剤溶解性は入射したUV電磁線に
より増大しないことに特徴づけられる。
加成分、すなち、入射した電磁線を吸収しそれを熱に変
換できる電磁線吸収化合物(以下、「電磁線吸収化合
物」という)を含有させることが有益である。
収し該電磁線を熱に転換するようにコーティング層が適
当に設けられている、リソグラフィックプリンティング
フォーム前駆物質である。
面を有する支持体上に、上記活性ポリマーおよび可逆不
溶化化合物および電磁線吸収化合物を含有する親油性感
熱性組成物を有する、感熱性ポジティブワーキングリソ
グラフィックプリンティングフォーム前駆物質が提供さ
れものであり、組成物の水性現像剤溶解性が加熱により
増大し、組成物の水性現像剤溶解性が入射UV電磁線によ
り増大しないことに特徴づけられる。
ング層が親油性感熱性組成物の下に配置されている付加
層を有し、該追加層が電磁線吸収化合物を含有してい
る、感熱性ポジティブワーキングリソグラフィックプリ
ンティングフォーム前駆物質が提供される。
面を有する支持体上に、電磁線吸収化合物でもある上記
活性ポリマーおよび可逆不溶化化合物を含有する親油性
感熱性組成物を有する、感熱性ポジティブワーキングリ
ソグラフィックプリンティングフォーム前駆物質が提供
され、組成物の水性現像剤溶解性が加熱により増大し、
組成物の水性現像剤溶解性が入射UV電磁線により増大し
ないことに特徴づけられる。
熱により増大するというときは、それは実質的に増大す
る、すなわちリソグラフィックプリンティングプロセス
において有用な量で増大するということを意味してい
る。組成物の水性現像剤溶解性が入射UV電磁線により増
大しないというときは、実質的に増大しない、すなわち
UV安全照明条件が採用されなければならないということ
を意味するであろう量で増大しないということを意味し
ている。
クプレートであり、以下、それを引用する。
ィブワーキングリソグラフィックプリンティングプレー
トは熱モードイメージングおよび加工後に得られる。コ
ートされた組成物の水性現像剤溶解性は、活性ポリマー
だけの溶解性の点で、非常に減少する。続いて適当な電
磁線に暴露される、組成物の加熱された領域は現像溶液
中でより可溶性になる。それゆえ、イメージ暴露される
と、未暴露組成物と暴露組成物との溶解性の差に変化が
生じる。そして、暴露領域は、組成物が溶解し、下のプ
レートの親水性表面が現れる。
料に接しているグラフィックのオリジナルの背景領域か
ら透過または反射した強強度電磁線の短時間露光によ
り、間接的に熱イメージ形成されてもよい。
加熱体を使用してイメージ加熱されてもよい。例えば、
プレート、裏面、あるいは好ましくは感熱性組成物を熱
針により接触させてもよい。
ーザーを直接露光し、コーティングをイメージ加熱して
もよい。最も好ましくはレーザーは600nmを超えて放射
する。
本発明が限定されることを意図していないが、熱的に脆
弱な錯体は活性ポリマーと可逆不溶化化合物との間で形
成されると信じられている。この錯体は可逆的に形成さ
れていると信じられており、その錯体に熱をかけること
によって錯体を破壊し、組成物に対して水性現像剤溶解
性を復元するとができる。本発明の使用に適したポリマ
ー物質は錯体化が解除された(uncomplexed)時、電子
リッチな基を含有していおり、ポリマー物質の水性現像
剤溶解性を減少させる適当な化合物は電子プアーである
と考えられている。組成物内の成分の分解は要求されて
おらず、または今まで行ってきた試験例では実質的な分
解は全く起こっていないと考えられている。
ロキシ、カルボン酸、アミノ、アミドおよびマレイイミ
ド官能基が例示できる。広範囲のポリマー材料が本発明
の使用に適しており、そのよなものとしてフェノール樹
脂;4−ヒドロキシスチレンと、例えば3−メチル−4−
ヒドロキシスチレンまたは4−メトキシスチレンとの共
重合体;(メタ)アクリル酸と、例えばスチレンとの共
重合体;マレイイミドと、例えばスチレンとの共重合
体;ヒドロキシまたはカルボキシ官能基化セルロース;
無水マレイン酸と、例えばスチレンとの共重合体;無水
マレイン酸の部分加水分解ポリマー等が例示できる。
る。本発明において特に有用なフェノール樹脂は、フェ
ノール、C−アルキル置換フェノール(例えばクレゾー
ルおよびp−ter−ブチルフェノール等)、ジフェノー
ル(例えばビスフェノールA等)とアルデヒド(例えば
ホルムアルデヒド等)との縮合生成物である。縮合の調
製ルートにより、種々の構造および特性を有するフェノ
ール材料を形成できる。本発明において特に有用なもの
はノボラック樹脂、レゾール樹脂およびノボラック/レ
ゾール樹脂混合物である。適当なノボラック樹脂の例は
以下の一般構造式を有する。
化合物は、可逆不溶化化合物として使用できる。
なくとも1つの窒素原子がヘテロ環式環に含有されてお
り、4級化されていてもよく、またはヘテロ環式環に4
級化されて含有されているものである。
ルバオレット(C.I.ベーシックバイオレット3(CI bas
ic violet3))およびエチルバイオレット(Ethyl Viol
et)等のトリアリールメタン染料およびセトルイミド
(Cetrimide)等のテトラアルキルアンモニウム化合物
である。
環式化合物である。
よびトリアゾール、例えば1,2,4−トリアゾールであ
る。
テロ環式化合物である。
nazoline)C、モナゾリンO、モナゾリンOYおよびモナ
ゾリンT(それらすべてはモナ(Mona)社製)等のイミ
ダゾリン化合物、1−エチル−2−メチルキノリニウム
沃化物および1−エチル−4−メチルキノリニウム沃化
物等のキノリニウム化合物、3−エチル−2−メチルベ
ンゾチアゾリウム沃化物等のベンゾチアゾリウム化合
物、およびセチルピリジニウム臭化物、エチルバイオロ
ゲン(viologen)二臭化物、フルオロピリジニウムテト
ラフルオロボレート等のピリジニウム化合物である。
料A、キノルジンブルー(Quinoldine Blue)、および
3−エチル−2−[3−(3−エチル−2(3H)−ベン
ゾチアゾリルイデン)−2−メチル−1−プロペニル]
ベンゾチアゾリウム沃化物等のカチオン性シアニン染料
が有用である。
有化合物である。
ボン、β−ナフトフラボン、2,3−ジフェニル−1−イ
ンデンオン、フラボン、フラバノン、キサントン、ベン
ゾフェノン、N−(4−ブロモブチル)フタルイミドお
よびフェナントレンキノン等が挙げられる。
い。
アルキル基、nは0、1または2を表し、Q2はハロゲン
原子またはアルコキシ基を表す。
トリル基、またはC1-4アルキル基を表す。好ましくはn
は1、または特に2を表す。好ましくはQ2は塩素原子ま
たはC1-4アルコキシ基、特にエトキシ基を表す。
ース(acridine orangebase)(CIソルベントオレンジ1
5)である。
フルオロフォスフェート等のフェロセニウム化合物であ
る。
互作用する活性ポリマーに加えて、組成物はそのように
相互作用しないポリマー物質を含有していてもよい。こ
のようなポリマー物質のブレンドを有する組成物は、活
性ポリマーが、添加ポリマー物質よりも低量(重量)で
存在できるということに注意すべきである。ふさわしく
は活性ポリマーは、組成物中に存在するポリマー物質の
総重量にたいして、少なくとも10%、好ましくは少なく
とも25%、より好ましくは少なくとも50%の量で存在す
る。しかしながら、最も好ましくは、活性ポリマーはこ
のように相互作用しないポリマー物質を除外して存在す
ることである。
互作用しない添加ポリマー物質を含め、組成物の主要な
割合は、ポリマー物質で構成されているの好ましい。組
成物の小さい方の割合は可逆不溶化化合物で構成されて
いることが好ましい。
物総重量の、少なくとも50%が適当であり、好ましくは
少なくとも65%、もっとも好ましくは少なくと80%であ
る。
組成物総重量の、50%までが適当であり、好ましくは20
%まで、もっとも好ましくは15%までである。
%、好ましくは少なくとも2%、好ましくは25%まで、
より好ましくは15%までで構成されることが適当であ
る。
成物総重量の2−15%として表してもよい。
存在してもよい。係る物質の割合はそれらの総含量をい
うものでる。同様に、そのように相互作用しないポリマ
ー物質は1種より多く存在してもよい。係る物質の割合
はそれらの総含量をいうものである。同様に可逆可溶化
化合物は1種より多く存在してもよい。係る物質の割合
はそれらの総含量をいうものである。
水性リソグラフィック現像剤の共通の成分は界面活性
剤、エチレンジアミン四酢酸の塩等のキレート化剤、ベ
ンジルアルコール等の有機溶媒、無機メタシリケート等
のアルカリ性成分、有機メタシリケート、水酸化物また
は重炭酸塩である。
水性現像剤は、無機または有機メタシリケートを含有す
るアルカリ性現像剤である。
性ポリマーおよび可逆不溶化化合物を含有する組成物お
よび適当な水性現像剤が本発明の使用に適しているかど
うかを決定する。
含有する組成物を親水性支持体上にコートし乾燥する。
次に、その表面をインクで塗り上げる。均一なインクを
塗られたコーティングが得られ、層として置かれるとそ
の組成物は親油性である。
含有する組成物でコートされた親水性支持体を、適当な
水性現像剤中で、トライアンドエラーで決定されるが代
表的には30ないし60秒の間の適当な時間、室温で、適当
な水性現像剤中で加工し、次にリンスし乾燥しインクで
塗り上げる。もしインク表面が全く得られないと、その
組成物は現像剤に溶解している。
る組成物を親水性支持体上にコートし、乾燥しインクで
塗り上げる。均一なインクを塗られたコーティングが得
られ、層として置かれるとその組成物は親油性である。
る組成物でコートされた親水性支持体を、適当な水性現
像剤中で、トライアンドエラーで決定されるが代表的に
は30ないし60秒の間の適当な時間、室温で、適当な水性
現像剤中で加工し、次にリンスし乾燥しインクで塗り上
げる。
ると、その組成物は現像溶液に実質的に溶解しない。
る組成物をコートされた親水性支持体を、その組成物が
適当な時間で適当な温度に到達するようにオーブン中で
加熱する。次に、それを室温でほどよい時間、適当な水
性現像剤中で加工する。
面が全く得られないと、加熱された組成物は現像剤に溶
解している。
びそれらの比率に依存する。単純にトライアンドエラー
の実験を行い、適当な条件を決定してもよい。このよう
な実験がそのテストをパスさせるような条件を生じない
場合、結論は、組成物は本テストをパスしないというこ
とになるに違いない。
ーおよび可逆不溶化化合物を含有する組成物を、組成物
の温度が5ないし20秒で50ないし160℃の温度に達する
ようにオーブン中で加熱する。次に、それを適当な水性
現像剤中で、トライアンドエラーで決定されるが代表的
には30ないし120秒の間の適当な時間、室温で、適当な
水性現像剤中で加工する。
物を含有する組成物を、組成物の温度が10ないし15秒で
50ないし120℃の温度に達するようにオーブン中で加熱
する。次に、それを適当な水性現像剤中で、30ないし90
秒の間、室温で、適当な水性現像剤中で加工する。
る組成物でコートされた親水性支持体を、トライアンド
エラーで決定されるが代表的には30秒の間の適当な時
間、U.V.光に露光する。次にそれを適当な水性現像剤中
で、トライアンドエラーで決定されるが代表的には30な
いし60秒の間の適当な時間、室温で、適当な水性現像剤
中で加工される。次に、表面を乾燥しインクで塗り上げ
る。もし、コーティングがインクで塗り上げられると、
組成物のUV照射誘導可溶化は全く起こっておらず、それ
ゆえ、その組成物は普通の作業照明条件下に対しては適
当に耐性が有る。
ができれば、本発明の使用に適している。
本発明の好ましい実施態様において、電磁線吸収化合物
として利用できる。
を吸収する。しかしながら、他の波長の電磁線(UV波長
を除く)、例えばArイオンレーザー源からの488nm電磁
線を吸収する他の物質は、その電磁線を熱に変換するの
に使用できる。
ラファイト等のカーボンである。例えば、バスフ(BAS
F)社供給のヘリオゲングリーン(Heliogen Green)ま
たはエヌエッチラボラトリ社(NH Laboratories Inc.)
供給のニグロシンベースNG1またはアルドリッチ社(Ald
rich)供給のミロリブルー(Milori Blue)(C.I.ピグ
メントブルー)等の市場で入手できる顔料を使用するこ
とができる。
トをレーザーにより直接イメージ露光する。最も好まし
くはレーザーは600nmより長波長の電磁線を放ち、電磁
線吸収化合物は普通、赤外線吸収染料である。
が本発明の方法で使用されるレーザーの波長出力のとこ
ろで重要であるものである。普通、それはフタロシアニ
ン顔料等の有機顔料または染料であってよい。また、そ
れはスクワリリウム、メロシアニン、シアニン、インド
リジン、ピリリウム、または金属ジチオリン等の染料ま
たは顔料であってもよい。
デ ハエン ユーケー(Riedel de Haen UK)社(英
国、ミドルセックス)より供給され、下記構造式を有す
ると信じられている: 電磁線吸収化合物は、組成物総量の、少なくとも1
%、好ましくは少なくとも2%、好ましくは25%まで、
より好ましくは15%までからなることが適当である。磁
線吸収化合物の好ましい重量範囲は組成物総重量の2−
15%と表してもよい。同様に、電磁線吸収化合物は1種
より多く存在してもよい。その場合、係る化合物の総含
量が、そのような化合物の割合となる。
を含有する追加の層を使用できる。この多層構造は、イ
メージ形成層の機能に影響することなくより多量の吸収
剤を使用できるので、高感度への路を提供することがで
きる。原則として、希望の波長域において充分強力に吸
収する電磁線吸収材料でればどんなものでも均一コーテ
ィングに含有または組み込むことができる。染料、金属
および顔料(金属酸化物を含む)を、蒸着層の形態で使
用することができ、そのようなフィルムの形成および使
用の技術は当該技術分野、例えばEP0652483においてよ
く知られている。本発明において好ましい成分は、均一
コーティングとして親水性であるもの、または、処理し
て、例えば親水性の層を使用して、親水性の表面を提供
できるものである。
水性現像剤溶解性を減少させ、電磁線吸収化合物ともな
りうる化合物は、600nmより長波長で吸収するもので、
好ましくはシアニン染料、および最も好ましくはキノリ
ニウムシアニン染料である。
ノリニリデン)−1,3−ペンタジエニル]−1−エチル
キノリニウム臭化物 1−エチル−2−[5−(1−エチル−2(1H)−キ
ノリニリデン)−1,3−ペンタジエニル]キノリニウム
沃化物 4−[3−クロロ−5−(1−エチル−4(1H)−キ
ノリニリデン)−1,3−ペンタジエニル]−1−エチル
キノリニウム臭化物 染料D;1−エチル−4−[5−(1−エチル−4(1
H)−キノリニリデン)−1,3−ペンタジエニル]キノリ
ニウム沃化物 電磁線吸収化合物ともなる可逆不溶化化合物は、組成
物総量の、少なくとも1%、好ましくは少なくとも2
%、好ましくは25%まで、より好ましくは15%までから
なることが適当である。可逆不溶化化合物の好ましい重
量範囲は組成物総重量の2−15%と表してもよい。
感応組成物をコートできるものとして、またプリンティ
ングの背景として機能する支持材表面として、リソグラ
フィックの技術分野においてよく知られている通常の陽
極酸化、研削仕上げおよび後陽極酸化処理がなされてい
るアルミニウムプレートである。
ック材料ベースまたは写真産業で使用されているような
加工紙ベースである。特に有用なプラスチック材料ベー
スは下塗りされその表面が親水性にされているポリエチ
レンテレフタレートである。また、コロナ放電処理され
ている、いわゆる樹脂コートされた紙も使用できる。
100nmとの間で発する半導体ダイオードレーザーを含
む。係るものとして1064nmを発するNdYAGレーザーが挙
げられるが、(その電磁線が組成物に吸収される)充分
なイメージングパワーがあればいかなるレーザーでも使
用できる。
の多くに存在するように、安定添加剤、不活性着色剤、
別の不活性ポリマーバインダー等の他の成分を含有して
いてもよい。
有しない。しかしながら、他の成分の存在によりUV活性
化されないUV感応成分、例えば不活性UV吸収染料または
UV吸収最表面層が存在してもよい。
面のいずれの特徴もここに記載されているいかなる発明
または具体例の他のいかなる面のいかなる特徴と組み合
わせてもよい。
のとしてさらに役に立つ。
されているフェノール/クレゾールノボラック樹脂、 樹脂B:R17620−ビーピーケミカルズ社(B.P.Cemicals
Ltd.)により販売されているフェノール/ホルムアル
デヒドレゾール樹脂、 樹脂C:SMD995−英国、ウォルヴァハンプトンにあるシ
ュネクタデーミッドランド社(Schnectady Midland Lt
d.)社により販売されているアルキルフェノール/ホル
ムアルデヒドレゾール樹脂、 樹脂D:マルカ リンカー(Maruka Lyncur)M(S−
2)−日本、東京にある丸善石油化学社(Maruzen Petr
ochemical Co.Ltd)により販売されているポリ(ヒドロ
キシスチレン)樹脂、 樹脂E:ロナコート(Ronacoat)300−スイス、プラッ
テルン(Pratteln)にあるローナー(Rohner)社により
販売されているジメチルマレイイミドベースのポリマ
ー、 樹脂F:ガントレツ エーエヌ(Gantrez An)119−英
国、ギルドフォードにあるガフ ケミカルズ(Gaf Chem
icals)社により販売されているメチルビニルエーテル
−無水マレイン酸共重合体、 樹脂G:SMA2625P−英国、ニューベリーにあるエルフ
アトケム ユーケー(Elf Atochem UK)社より販売され
ているスチレン無水マレイン酸ハーフエステル、 樹脂H:セルロース アセテート プロピオネート(分
子量:75000、アセテート2.5%およびプロピオネート45
%ないし49%を含有)、アメリカ合衆国、ロチェスター
にあるイーストマン ファイン ケミカルズ社により販
売。
径の円にカットし、100ないし2500rpmの一定速度で回転
できるディスクの上に載置した。回転ディスクに隣接し
て、変換テーブルにレーザービーム源を保持させ、レー
ザービームをコートされた支持体に普通に当て、一方、
変換テーブルを回転ディスクに関して直線に放射状に動
かした。
シングルモード830nm波長200mWレーザーダイオードであ
った。
は、スローなレーザースキャニング速度と長い露光時間
を表しており、螺旋の外側エッジは速いスキャニング速
度と短い露光時間を表していた。イメージングエネルギ
ーはイメージが形成された直径の測定から引き出した。
は、2500rpmで150mJ/cm2である。
ン−2−オール溶液として調製された。ただし、実施例
4,5および8は1−メトキシプロパン−2−オール/DMF
40:60(v:v)溶液として調製し、実施例7は1−メトキ
シプロパン−2−オール/DMF35:65(v:v)溶液として調
製した。使用した支持体は電気研磨(electrograin)、
陽極酸化および無機フォスフェート水溶液で後処理した
アルミニウムの0.3mmシートであった。
ートした。溶液濃度は、3分間オーブン中100℃で乾燥
後、1.3g/m2のコーティング重量を有する所定の乾燥フ
ィルム組成物となるように選択した。
チル−2(3H)−ベンゾチアゾリリデン]−2−メチル
−1−プロペニル]ベンゾチアゾリウム臭化物である。
ゾチアゾリウム沃化物である。
秒水性現像溶液に浸漬させることにより現像性のテスト
を行った。
液。
液。
である。
いない。実施例1ないし9に記載の組成物は、本発明に
記載されている化合物の使用を通じてポリマー現像剤溶
解性を減少する効果を示している。
プレートサンプルをイメージ形成した。露光されたディ
スクは、上記した適当な水性現像剤溶液を使用して30秒
間水性現像剤溶液中に浸漬して、加工した。そしてプレ
ート感度を決定した。
ートを、市場で入手できるイメージセッタ(トレンドセ
ッタ(Trendsetter)、カナダ、バンクーバーにあるク
レオ プロダクツ(Creo Products)供給)上でイメー
ジ形成した。プレートはリソグラフィックプリンティン
グプレスで少なくとも10000枚の良好なプリントを印刷
した。
0%w/w1−メトキシプロパン−2−オール溶液2.40g、染
料A0.12gおよびカーボンブラック50%(w/w)分散水溶
液0.24gを含有する溶液を調製し、実施例1−9に記載
したようにコートした。
を使用して830nmの波長の200mWレーザーダイオードを使
用してイメージ形成した。次にプレートを30秒間現像剤
Bで現像した。適当なイメージを与えるのに要求される
イメージングエネルギー密度は≦150mJ/cm2であった。
ートを、市場で入手できるイメージセッタ(トレンドセ
ッタ(Trendsetter)、カナダ、バンクーバーにあるク
レオ プロダクツ(Creo Products)供給)上でイメー
ジ形成した。プレートはリソグラフィックプリンティン
グプレスで少なくとも10000枚の良好なプリントを印刷
した。
物質を実施例4に記載されているように調製した。
を使用して830nmの波長の200mWレーザーダイオードを使
用してイメージ形成した。次にプレートを30秒間現像剤
Bで現像した。適当なイメージを与えるのに要求される
イメージングエネルギー密度は≦150mJ/cm2であった。
ートを、市場で入手できるイメージセッタ(トレンドセ
ッタ(Trendsetter)、カナダ、バンクーバーにあるク
レオ プロダクツ(Creo Products)供給)上でイメー
ジ形成した。プレートはリソグラフィックプリンティン
グプレスで少なくとも10000枚の良好なプリントを印刷
した。
ール溶液として前記したように調製された。ただし、実
施例16は1−メトキシプロパン−2−オール/DMF 80/20
(v:v)溶液として調製した。
の表に記載したような乾燥フィルム組成物を提供した。
ーデバイスを使用してイメージ形成した。露光されたデ
ィスクを適当な時間、上記したように、そして下記する
ように、適当な水性現像剤に浸漬し加工した。次に、プ
レート感度を決定した。結果を以下の表にまとめた。
ジルアルコール、2%ニトリロ−三酢酸三ナトリウム
塩、78%水 現像剤D:3%β−ナフチルエトキシレート、1%ベン
ジルアルコール、2%ニトリロ−三酢酸三ナトリウム
塩、94%水 現像剤E:1.5%β−ナフチルエトキシレート、0.5%ベ
ンジルアルコール、1%ニトリロ−三酢酸三ナトリウム
塩、97%水 実施例19−30 コーティング配合物は1−メトキシプロパン−2−オ
ール溶液として前記したように調製された。ただし、実
施例26は1−メトキシプロパン−2−オール/DMF50:50
(v:v)溶液として調製した。
の表に記載したような乾燥フィルム組成物を提供した。
ーデバイスを使用してイメージ形成した。露光されたデ
ィスクを適当な時間、適当な水性現像剤に浸漬し加工し
た。次に、プレート感度を決定した。結果を以下の表に
まとめた。
ール溶液として前記したように調製された。配合物を実
施例1−9に記載したようにコートし、次の表に記載し
たような乾燥フィルム組成物を提供した。
ング アイロン イーシ(Weller Soldering Iron EC)
2100Mから出された熱をかけた。プレート表面上のその
ソルダーリング アイロンの動作速度を下記の表に記述
している。露光されたプレートサンプルを60秒間現像剤
Aに浸漬して加工した。結果を下記表にまとめている。
る。当業者であればUV光の代表的波長域を承知してい
る。しかし、疑義を避けるために、UVは代表的には190n
m−400nmの波長範囲を有している。
を含め)に記載されているすべての特徴、および/また
は記載されている方法またはプロセスの総てのステップ
は、少なくともいくつかのそのような特徴および/また
はステップが相互に排他的である組み合わせを除いて、
いかなる組み合わせにおいて組み合わせてもよい。
を含め)に記載されている各特徴は、そうでないと明言
されていなければ、同じ、等価または類似の目的に利用
できる他の特徴で置換してもよい。
発明は、本明細書(添付している請求の範囲、要約およ
び図面を含め)に記載されている特徴のいかなる新規な
もの、あるいはいかなる新規な組み合わせ、または記載
されている方法またはプロセスのステップのいかなるも
のあるいはいかなる新規な組み合わせにも及ぶものであ
る。
Claims (43)
- 【請求項1】水性現像剤可溶性ポリマー物質および可逆
不溶化化合物を含有する親油性、感熱性組成物であっ
て、該組成物の水性現像剤溶解性が加熱により増加し、
該組成物の水性現像剤溶解性が通常の作業照明条件下で
放射される190〜400nmの入射UV電磁線で増加しないこと
を特徴とする組成物。 - 【請求項2】水性現像剤可溶性ポリマー物質が官能基、
またはヒドロキシ、カルボン酸、アミノ、アミドおよび
マレイイミドから選択される基を含有する請求項1記載
の組成物。 - 【請求項3】水性現像剤可溶性ポリマー物質がヒドロキ
シスチレンのポリマーまたはコポリマー、アクリル酸の
ポリマーまたはコポリマー、メタクリル酸のポリマーま
たはコポリマー、マレイイミドのポリマーまたはコポリ
マー、無水マレイン酸のポリマーまたはコポリマー、ヒ
ドロキシセルロース、カルボキシセルロースおよびフェ
ノール樹脂から選択される請求項1記載の組成物。 - 【請求項4】水性現像剤可溶性ポリマー物質がフェノー
ル樹脂である請求項1記載の組成物。 - 【請求項5】水性現像剤溶液が水性アルカリ溶液である
請求項4記載の組成物。 - 【請求項6】可逆不溶化化合物が4級化されている少な
くとも1つの窒素原子を含有する化合物である請求項1
記載の組成物。 - 【請求項7】可逆不溶化化合物がヘテロ環式環に含まれ
ている少なくとも1つの窒素原子を含有する化合物であ
る請求項1記載の組成物。 - 【請求項8】可逆不溶化化合物がキノリンおよびトリア
ゾールから選択される請求項7記載の組成物。 - 【請求項9】可逆不溶化化合物がヘテロ環式環に含まれ
ている少なくとも1つの4級化されている窒素原子を含
有する化合物である請求項1記載の組成物。 - 【請求項10】可逆不溶化化合物がイミダゾリン化合
物、キノリニウム化合物、ベンゾチアゾリウム化合物お
よびピリジニウム化合物から選択される請求項9記載の
組成物。 - 【請求項11】キノリニウム化合物がシアニン染料であ
る請求項10記載の組成物。 - 【請求項12】ベンゾチアゾリウム化合物がシアニン染
料である請求項10記載の組成物。 - 【請求項13】可逆不溶化化合物がトリアリールメタン
である請求項1記載の組成物。 - 【請求項14】可逆不溶化化合物がカルボニル官能基を
含有する化合物である請求項1記載の組成物。 - 【請求項15】可逆不溶化化合物がフラボン化合物から
選択される請求項14記載の組成物。 - 【請求項16】可逆不溶化化合物がフラバノン、キサン
トン、ベンゾフェノン、N−(4−ブロモブチル)フタ
ルイミド、2,3−ジフェニル−1−インデンオンおよび
フェナントレンキノンから選択される請求項1記載の組
成物。 - 【請求項17】可逆不溶化化合物が、 一般式: Q1−S(O)n−Q2 (式中、Q1は置換されていてもよいフェニルまたはアル
キル基、nは0、1又は2を表し、Q2はハロゲン原子ま
たはアルコキシ基を表す)の化合物である請求項1記載
の組成物。 - 【請求項18】可逆不溶化化合物が、エチル−p−トル
エンスルホネートおよびp−トルエンスルホニルクロラ
イドから選択される請求項1記載の組成物。 - 【請求項19】可逆不溶化化合物が、アクリジンオレン
ジベース(CIソルベントオレンジ15)である請求項1記
載の組成物。 - 【請求項20】可逆不溶化化合物が、フェロセニウムで
ある請求項1記載の組成物。 - 【請求項21】親水性表面を有する支持体上にコートさ
れた請求項1ないし20のいずれかに記載の組成物を含有
するコーティングを有するポジティブワーキングリソグ
ラフィックプリンティングフォーム前駆物質。 - 【請求項22】該コーティングは、電磁線を優先的に吸
収し、該電磁線を熱に変換するように適当に配合されて
いる請求項21記載のリソグラフィックプリンティングフ
ォーム前駆物質。 - 【請求項23】該組成物が入射電磁線を吸収しそれを熱
に変換することのできる電磁線吸収化合物を含有する請
求項22記載のリソグラフィックプリンティングフォーム
前駆物質。 - 【請求項24】該コーティングが請求項1の組成物の下
に配置されている付加層を有しており、該付加層が入射
電磁線を吸収しそれを熱に変換することのできる電磁線
吸収化合物を含有している請求項22記載のリソグラフィ
ックプリンティングフォーム前駆物質。 - 【請求項25】請求項1記載の組成物の可逆不溶化化合
物が、入射電磁線を吸収しそれを熱に変換することので
きる電磁線吸収化合物でもある請求項22記載のリソグラ
フィックプリンティングフォーム前駆物質。 - 【請求項26】電磁線吸収化合物がカーボンブラックで
ある請求項23または請求項24記載のリソグラフィックプ
リンティングフォーム前駆物質。 - 【請求項27】電磁線吸収化合物が顔料である請求項23
または請求項24記載のリソグラフィックプリンティング
フォーム前駆物質。 - 【請求項28】顔料が有機顔料である請求項27記載のリ
ソグラフィックプリンティングフォーム前駆物質。 - 【請求項29】顔料がフタロシアニン顔料である請求項
28記載のリソグラフィックプリンティングフォーム前駆
物質。 - 【請求項30】顔料が無機顔料である請求項27記載のリ
ソグラフィックプリンティングフォーム前駆物質。 - 【請求項31】顔料がプルシアンブルー(Prussian Blu
e)、ヘリオゲングリーン(Heliogen Green)またはニ
グロシン(Nigrosne)から選択される請求項27記載のリ
ソグラフィックプリンティングフォーム前駆物質。 - 【請求項32】電磁線吸収化合物がスクワリリウム、メ
ロシアニン、シアニン、インドリジン、ピリリウム、ま
たは金属ジチオリンから選択される請求項23または請求
項24記載のリソグラフィックプリンティングフォーム前
駆物質。 - 【請求項33】該別に設けられた電磁線吸収層が染料ま
たは顔料の薄層である請求項24記載のリソグラフィック
プリンティングフォーム前駆物質。 - 【請求項34】該別に設けられた電磁線吸収層が金属ま
たは金属酸化物の薄層である請求項24記載のリソグラフ
ィックプリンティングフォーム前駆物質。 - 【請求項35】可逆不溶化化合物が、電磁線吸収化合物
でもある、キノリニウム成分を含有するシアニンである
請求項25記載のリソグラフィックプリンティングフォー
ム前駆物質。 - 【請求項36】電磁線吸収化合物が600nmより長波長で
吸収する請求項27、32又は35に記載のリソグラフィック
プリンティングフォーム前駆物質。 - 【請求項37】該コーティングが水性アルカリ現像剤に
実質的に不溶であり、該組成物の水性アルカリ現像剤溶
解性が加熱によって増大し、該組成物の水性アルカリ現
像剤溶解性が通常の作業照明条件下で放射される190〜4
00nmの入射UV電磁線で増加しない請求項21ないし36のい
ずれかに記載のリソグラフィックプリンティングフォー
ム前駆物質。 - 【請求項38】請求項21ないし請求項37のいずれかに記
載の前駆物質に直接イメージ照射することからなるリソ
グラフィックプリンティングフォームの製造方法。 - 【請求項39】電磁線がレーザーから発せされている請
求項38記載の方法。 - 【請求項40】レーザーが600nmより長波長の電磁線を
放つ請求項39記載の方法。 - 【請求項41】熱が加熱体から出される請求項38記載の
方法。 - 【請求項42】水性アルカリ現像剤を用いる請求項38な
いし41のいずれかに記載の方法。 - 【請求項43】請求項21ないし37のいずれかに記載のプ
リンティングフォーム前駆物質に請求項38ないし42のい
ずれかに記載の方法を適用して製造されたイメージ形成
されたプリンティングフォーム。
Applications Claiming Priority (9)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB9608394.4 | 1996-04-23 | ||
| GBGB9608394.4A GB9608394D0 (en) | 1996-04-23 | 1996-04-23 | Lithgraphic plates |
| GB9614693.1 | 1996-07-12 | ||
| GBGB9614693.1A GB9614693D0 (en) | 1996-07-12 | 1996-07-12 | Lithographic plates |
| PCT/GB1996/001973 WO1997007986A2 (en) | 1995-08-15 | 1996-08-13 | Water-less lithographic plates |
| GB96/01973 | 1997-01-17 | ||
| GB9700884.1 | 1997-01-17 | ||
| GBGB9700884.1A GB9700884D0 (en) | 1997-01-17 | 1997-01-17 | Lithographic plates |
| PCT/GB1997/001117 WO1997039894A1 (en) | 1996-04-23 | 1997-04-22 | Heat-sensitive composition and method of making a lithographic printing form with it |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11506550A JPH11506550A (ja) | 1999-06-08 |
| JP3147908B2 true JP3147908B2 (ja) | 2001-03-19 |
Family
ID=27268256
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP53785097A Expired - Fee Related JP3147908B2 (ja) | 1996-04-23 | 1997-04-22 | 感熱性組成物および該組成物を使用したリソグラフィックプリンティングフォームの作製方法 |
Country Status (16)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US6280899B1 (ja) |
| EP (2) | EP0825927B1 (ja) |
| JP (1) | JP3147908B2 (ja) |
| CN (1) | CN1078132C (ja) |
| AT (2) | ATE220991T1 (ja) |
| AU (1) | AU707872B2 (ja) |
| BR (1) | BR9702181A (ja) |
| CA (1) | CA2225567C (ja) |
| CZ (1) | CZ292739B6 (ja) |
| DE (4) | DE69714225T2 (ja) |
| ES (2) | ES2114521T3 (ja) |
| IL (1) | IL122318A (ja) |
| NO (1) | NO976002L (ja) |
| PL (1) | PL324248A1 (ja) |
| RU (1) | RU2153986C2 (ja) |
| WO (1) | WO1997039894A1 (ja) |
Families Citing this family (227)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB9516723D0 (en) | 1995-08-15 | 1995-10-18 | Horsell Plc | Water-less lithographic plates |
| JP3814961B2 (ja) * | 1996-08-06 | 2006-08-30 | 三菱化学株式会社 | ポジ型感光性印刷版 |
| US5858626A (en) | 1996-09-30 | 1999-01-12 | Kodak Polychrome Graphics | Method of forming a positive image through infrared exposure utilizing diazonaphthoquinone imaging composition |
| GB9622657D0 (en) | 1996-10-31 | 1997-01-08 | Horsell Graphic Ind Ltd | Direct positive lithographic plate |
| US6060222A (en) * | 1996-11-19 | 2000-05-09 | Kodak Polcyhrome Graphics Llc | 1Postitve-working imaging composition and element and method of forming positive image with a laser |
| DE69833046T2 (de) † | 1997-03-11 | 2006-08-03 | Agfa-Gevaert | Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte |
| US6090532A (en) * | 1997-03-21 | 2000-07-18 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Positive-working infrared radiation sensitive composition and printing plate and imaging method |
| US6083662A (en) * | 1997-05-30 | 2000-07-04 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Methods of imaging and printing with a positive-working infrared radiation sensitive printing plate |
| EP0996869A1 (en) * | 1997-07-05 | 2000-05-03 | Kodak Polychrome Graphics LLC | Pattern-forming methods and radiation sensitive materials |
| GB9714526D0 (en) * | 1997-07-11 | 1997-09-17 | Horsell Graphic Ind Ltd | Pattern Formation |
| EP0897134B1 (en) * | 1997-08-13 | 2004-12-01 | Mitsubishi Chemical Corporation | Positive photosensitive composition, photosensitive lithographic printing plate and method for forming a positive image |
| JP2003533707A (ja) | 1997-08-14 | 2003-11-11 | コダック ポリクロム グラフィックス カンパニーリミテッド | マスク及び電子パーツの製造方法 |
| GB9722861D0 (en) * | 1997-10-29 | 1997-12-24 | Horsell Graphic Ind Ltd | Improvements in relation to the manufacture of lithographic printing forms |
| US6060217A (en) * | 1997-09-02 | 2000-05-09 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Thermal lithographic printing plates |
| EP0901902A3 (en) | 1997-09-12 | 1999-03-24 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Positive photosensitive composition for use with an infrared laser |
| EP0908306B3 (en) | 1997-10-08 | 2009-08-05 | Agfa-Gevaert | A method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive imaging element |
| EP0908305B2 (en) † | 1997-10-08 | 2006-07-19 | Agfa-Gevaert | A method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive imaging element |
| DE69829590T2 (de) | 1997-10-17 | 2006-02-09 | Fuji Photo Film Co., Ltd., Minami-Ashigara | Positiv arbeitendes photoempfindliches Aufzeichnungsmaterial für Infrarotlaser und positiv arbeitende Zusammensetzung für Infrarotlaser |
| DE69810242T2 (de) * | 1997-10-28 | 2003-10-30 | Mitsubishi Chemical Corp., Tokio/Tokyo | Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch, positiv arbeitende lichtempfindliche Flachdruckplatte und Verfahren zur Bebilderung der Druckplatte |
| GB9722862D0 (en) * | 1997-10-29 | 1997-12-24 | Horsell Graphic Ind Ltd | Pattern formation |
| EP0914942B1 (en) * | 1997-11-07 | 2005-05-25 | Toray Industries, Inc. | Directly imageable waterless planographic printing plate precursor and a method of producing planographic printing plates |
| JP3810538B2 (ja) | 1997-11-28 | 2006-08-16 | 富士写真フイルム株式会社 | ポジ型画像形成材料 |
| US6399279B1 (en) | 1998-01-16 | 2002-06-04 | Mitsubishi Chemical Corporation | Method for forming a positive image |
| US5922512A (en) * | 1998-01-29 | 1999-07-13 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Processless direct write printing plate having heat sensitive polymer and methods of imaging and printing |
| EP0934822B1 (en) | 1998-02-04 | 2005-05-04 | Mitsubishi Chemical Corporation | Positive photosensitive composition, positive photosensitive lithographic printing plate and method for forming a positive image |
| US6143471A (en) * | 1998-03-10 | 2000-11-07 | Mitsubishi Paper Mills Limited | Positive type photosensitive composition |
| GB2335283B (en) | 1998-03-13 | 2002-05-08 | Horsell Graphic Ind Ltd | Improvements in relation to pattern-forming methods |
| GB2335282B (en) | 1998-03-13 | 2002-05-08 | Horsell Graphic Ind Ltd | Improvements in relation to pattern-forming methods |
| US6444393B2 (en) * | 1998-03-26 | 2002-09-03 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Anionic infrared-ray absorbing agent, photosensitive composition and planographic printing plate precursor using same |
| US6447977B2 (en) * | 1998-04-15 | 2002-09-10 | Agfa-Gevaert | Heat mode sensitive imaging element for making positive working printing plates |
| IT1299220B1 (it) | 1998-05-12 | 2000-02-29 | Lastra Spa | Composizione sensibile sia a radiazioni ir che a radiazioni uv e lastra litografica |
| GB9811813D0 (en) * | 1998-06-03 | 1998-07-29 | Horsell Graphic Ind Ltd | Polymeric compounds |
| US6358669B1 (en) | 1998-06-23 | 2002-03-19 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Thermal digital lithographic printing plate |
| US6352811B1 (en) | 1998-06-23 | 2002-03-05 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Thermal digital lithographic printing plate |
| US6534238B1 (en) * | 1998-06-23 | 2003-03-18 | Kodak Polychrome Graphics, Llc | Thermal digital lithographic printing plate |
| DE19834745A1 (de) | 1998-08-01 | 2000-02-03 | Agfa Gevaert Ag | Strahlungsempfindliches Gemisch mit IR-absorbierenden, anionischen Cyaninfarbstoffen und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial |
| DE19834746A1 (de) | 1998-08-01 | 2000-02-03 | Agfa Gevaert Ag | Strahlungsempfindliches Gemisch mit IR-absorbierenden, betainischen oder betainisch-anionischen Cyaninfarbstoffen und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial |
| US6190831B1 (en) * | 1998-09-29 | 2001-02-20 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Processless direct write printing plate having heat sensitive positively-charged polymers and methods of imaging and printing |
| JP3635203B2 (ja) * | 1998-10-06 | 2005-04-06 | 富士写真フイルム株式会社 | 平版印刷版用原版 |
| GB2342459B (en) * | 1998-10-07 | 2003-01-15 | Horsell Graphic Ind Ltd | Improvements in relation to electronic parts |
| GB2342460A (en) * | 1998-10-07 | 2000-04-12 | Horsell Graphic Ind Ltd | Method of making an electronic part |
| BR9915407A (pt) | 1998-11-16 | 2001-07-24 | Mitsubishi Chem Corp | Placa de impressão litográfica fotossensìvel positiva sensìvel a raios infravermelhos proximos; método de produzila e método para formar uma imagem positiva |
| US6344306B1 (en) | 1999-03-16 | 2002-02-05 | Toray Industries, Inc. | Directly imageable waterless planographic printing plate precursor, and directly imageable waterless planographic printing plate |
| US6124425A (en) * | 1999-03-18 | 2000-09-26 | American Dye Source, Inc. | Thermally reactive near infrared absorption polymer coatings, method of preparing and methods of use |
| JP2000275828A (ja) * | 1999-03-25 | 2000-10-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版 |
| DE60037951T2 (de) | 1999-05-21 | 2009-02-05 | Fujifilm Corp. | Fotoempfindliche Zusammensetzung und Flachdruckplatte, die diese Zusammensetzung verwendet |
| EP1072405B1 (en) * | 1999-07-30 | 2003-06-04 | Lastra S.P.A. | Composition sensitive to IR radiation and to heat and lithographic plate coated therewith |
| ES2199119T3 (es) | 1999-07-30 | 2004-02-16 | Lastra S.P.A. | Composicion sensible a la radicacion ir y al calor y placa litografica recubierta con dicha composicion. |
| US6255033B1 (en) | 1999-07-30 | 2001-07-03 | Creo, Ltd. | Positive acting photoresist compositions and imageable element |
| EP1072404B1 (en) * | 1999-07-30 | 2003-05-21 | Lastra S.P.A. | Composition sensitive to IR radiation and to heat and lithographic plate coated with this composition |
| CA2314520A1 (en) | 1999-07-30 | 2001-01-30 | Domenico Tiefenthaler | Composition sensitive to ir radiation and to heat and lithographic plate coated therewith |
| US6706466B1 (en) | 1999-08-03 | 2004-03-16 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Articles having imagable coatings |
| US6251559B1 (en) | 1999-08-03 | 2001-06-26 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Heat treatment method for obtaining imagable coatings and imagable coatings |
| US6461794B1 (en) | 1999-08-11 | 2002-10-08 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Lithographic printing forms |
| US6550989B1 (en) | 1999-10-15 | 2003-04-22 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Apparatus and methods for development of resist patterns |
| ATE259301T1 (de) | 1999-10-19 | 2004-02-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | Fotoempfindliche zusammensetzung und flachdruckplatte, die diese zusammensetzung verwendet |
| US6232031B1 (en) | 1999-11-08 | 2001-05-15 | Ano-Coil Corporation | Positive-working, infrared-sensitive lithographic printing plate and method of imaging |
| US6391524B2 (en) * | 1999-11-19 | 2002-05-21 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Article having imagable coatings |
| US6300038B1 (en) | 1999-11-19 | 2001-10-09 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Articles having imagable coatings |
| US6294311B1 (en) * | 1999-12-22 | 2001-09-25 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Lithographic printing plate having high chemical resistance |
| US6558787B1 (en) | 1999-12-27 | 2003-05-06 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Relation to manufacture of masks and electronic parts |
| US6787291B2 (en) | 2000-04-06 | 2004-09-07 | Toray Industries, Inc. | Directly imageable planographic printing plate and production method thereof |
| JP2001305722A (ja) | 2000-04-18 | 2001-11-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版 |
| US6458511B1 (en) | 2000-06-07 | 2002-10-01 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Thermally imageable positive-working lithographic printing plate precursor and method for imaging |
| US6506533B1 (en) | 2000-06-07 | 2003-01-14 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Polymers and their use in imagable products and image-forming methods |
| KR100776467B1 (ko) | 2000-07-06 | 2007-11-16 | 캐보트 코포레이션 | 개질된 안료 생성물, 이의 분산액 및 이를 포함하는 조성물 |
| BR0112946A (pt) | 2000-08-04 | 2004-02-03 | Kodak Polychrome Graphics Co | Forma de impressão litográfica e método de prepapação e uso da mesma |
| US6649324B1 (en) * | 2000-08-14 | 2003-11-18 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Aqueous developer for lithographic printing plates |
| US6555291B1 (en) | 2000-08-14 | 2003-04-29 | Kodak Polychrome Graphics, Llc | Thermal digital lithographic printing plate |
| US6558872B1 (en) | 2000-09-09 | 2003-05-06 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Relation to the manufacture of masks and electronic parts |
| US6451502B1 (en) | 2000-10-10 | 2002-09-17 | Kodak Polychrome Graphics Llc | manufacture of electronic parts |
| US6864040B2 (en) | 2001-04-11 | 2005-03-08 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Thermal initiator system using leuco dyes and polyhalogene compounds |
| WO2002034517A1 (en) | 2000-10-26 | 2002-05-02 | Kodak Polychrome Graphics Company, Ltd. | Compositions comprising a pigment |
| US6596460B2 (en) | 2000-12-29 | 2003-07-22 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Polyvinyl acetals having azido groups and use thereof in radiation-sensitive compositions |
| US6548215B2 (en) | 2001-02-09 | 2003-04-15 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Method for the production of a printing plate using the dual-feed technology |
| US6613494B2 (en) | 2001-03-13 | 2003-09-02 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Imageable element having a protective overlayer |
| US7049046B2 (en) * | 2004-03-30 | 2006-05-23 | Eastman Kodak Company | Infrared absorbing compounds and their use in imageable elements |
| US6899994B2 (en) | 2001-04-04 | 2005-05-31 | Kodak Polychrome Graphics Llc | On-press developable IR sensitive printing plates using binder resins having polyethylene oxide segments |
| US7592128B2 (en) | 2001-04-04 | 2009-09-22 | Eastman Kodak Company | On-press developable negative-working imageable elements |
| US6777164B2 (en) | 2001-04-06 | 2004-08-17 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Lithographic printing forms |
| EP1256444B1 (en) | 2001-04-09 | 2004-06-30 | Agfa-Gevaert | Positive-working lithographic printing plate precursor |
| US6739260B2 (en) | 2001-05-17 | 2004-05-25 | Agfa-Gevaert | Method for the preparation of a negative working printing plate |
| DE60110214T2 (de) * | 2001-05-17 | 2006-03-09 | Agfa-Gevaert | Herstellungsverfahren zu einer negativ arbeitenden Druckplatte |
| BR0102218B1 (pt) | 2001-05-31 | 2012-10-16 | produto sensìvel à radiação, e processo de impressão ou revelação de imagem utilizando o referido produto. | |
| US6706454B2 (en) | 2001-07-05 | 2004-03-16 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Method for the production of a printing plate using particle growing acceleration by an additive polymer |
| JP3917422B2 (ja) | 2001-07-26 | 2007-05-23 | 富士フイルム株式会社 | 画像形成材料 |
| US7056639B2 (en) | 2001-08-21 | 2006-06-06 | Eastman Kodak Company | Imageable composition containing an infrared absorber with counter anion derived from a non-volatile acid |
| US6593055B2 (en) | 2001-09-05 | 2003-07-15 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Multi-layer thermally imageable element |
| US7294447B2 (en) | 2001-09-24 | 2007-11-13 | Agfa Graphics Nv | Positive-working lithographic printing plate precursor |
| EP1295717B1 (en) | 2001-09-24 | 2007-07-25 | Agfa Graphics N.V. | Heat-sensitive positive-working lithographic printing plate precursor |
| KR100406460B1 (ko) * | 2001-09-29 | 2003-11-19 | 한국과학기술연구원 | 커플링된 스티릴시아닌 색소 및 그의 제조 방법 |
| US6723490B2 (en) | 2001-11-15 | 2004-04-20 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Minimization of ablation in thermally imageable elements |
| US6699636B2 (en) | 2001-12-12 | 2004-03-02 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Imaging element comprising a thermally activated crosslinking agent |
| US6960423B2 (en) | 2001-12-26 | 2005-11-01 | Creo Inc. | Preparation of gravure and intaglio printing elements using direct thermally imageable media |
| US6723489B2 (en) | 2002-01-30 | 2004-04-20 | Kodak Polychrome Graphics Llp | Printing form precursors |
| US6830862B2 (en) | 2002-02-28 | 2004-12-14 | Kodak Polychrome Graphics, Llc | Multi-layer imageable element with a crosslinked top layer |
| US20050003296A1 (en) * | 2002-03-15 | 2005-01-06 | Memetea Livia T. | Development enhancement of radiation-sensitive elements |
| US6732653B2 (en) | 2002-04-26 | 2004-05-11 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Method to remove unwanted, unexposed, positive-working, radiation-sensitive layer |
| US6843176B2 (en) | 2002-04-26 | 2005-01-18 | Kodak Polychrome Graphics, Llc | Method to remove unwanted, unexposed, radiation-sensitive layer in a lithographic printing plate |
| EP1396338B1 (en) | 2002-09-04 | 2006-07-19 | Agfa-Gevaert | Heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
| US20040067435A1 (en) | 2002-09-17 | 2004-04-08 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image forming material |
| US6858359B2 (en) | 2002-10-04 | 2005-02-22 | Kodak Polychrome Graphics, Llp | Thermally sensitive, multilayer imageable element |
| CN100439120C (zh) | 2002-10-04 | 2008-12-03 | 爱克发印艺公司 | 制造平版印刷版前体的方法 |
| US7195859B2 (en) | 2002-10-04 | 2007-03-27 | Agfa-Gevaert | Method of making a lithographic printing plate precursor |
| WO2004030923A2 (en) | 2002-10-04 | 2004-04-15 | Agfa-Gevaert | Method of marking a lithographic printing plate precursor |
| US7455949B2 (en) | 2002-10-15 | 2008-11-25 | Agfa Graphics, N.V. | Polymer for heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
| US7198877B2 (en) | 2002-10-15 | 2007-04-03 | Agfa-Gevaert | Heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
| US7458320B2 (en) | 2002-10-15 | 2008-12-02 | Agfa Graphics, N.V. | Polymer for heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
| US6794107B2 (en) | 2002-10-28 | 2004-09-21 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Thermal generation of a mask for flexography |
| CN1332809C (zh) * | 2002-12-26 | 2007-08-22 | 富士胶片株式会社 | 平版印刷版前体 |
| DE60320204T2 (de) | 2002-12-27 | 2009-05-14 | Fujifilm Corp. | Wärmeempfindlicher lithographischer Druckplattenvorläufer |
| JP4163964B2 (ja) | 2003-01-07 | 2008-10-08 | 岡本化学工業株式会社 | 画像形成組成物およびそれを用いた感光性平版印刷版 |
| US7160667B2 (en) * | 2003-01-24 | 2007-01-09 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image forming material |
| US6790590B2 (en) | 2003-01-27 | 2004-09-14 | Kodak Polychrome Graphics, Llp | Infrared absorbing compounds and their use in imageable elements |
| US6953652B2 (en) | 2003-01-27 | 2005-10-11 | Agfa-Gevaert | Heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
| US7087359B2 (en) | 2003-01-27 | 2006-08-08 | Agfa-Gevaert | Heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
| US20060107858A1 (en) * | 2003-02-11 | 2006-05-25 | Marc Van Damme | Heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
| US7229744B2 (en) * | 2003-03-21 | 2007-06-12 | Eastman Kodak Company | Method for preparing lithographic printing plates |
| US6908726B2 (en) * | 2003-04-07 | 2005-06-21 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Thermally imageable elements imageable at several wavelengths |
| US20040214108A1 (en) * | 2003-04-25 | 2004-10-28 | Ray Kevin B. | Ionic liquids as dissolution inhibitors in imageable elements |
| JP4703104B2 (ja) * | 2003-06-06 | 2011-06-15 | 株式会社東芝 | 通信端末装置 |
| DE602004015778D1 (de) * | 2003-06-30 | 2008-09-25 | Think Labs Kk | Positive lichtempfindliche zusammensetzung |
| JP4657276B2 (ja) * | 2003-07-03 | 2011-03-23 | 株式会社シンク・ラボラトリー | ポジ型感光性組成物 |
| WO2005005146A1 (en) | 2003-07-08 | 2005-01-20 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Imageable element comprising sulfated polymers |
| US7371454B2 (en) * | 2003-12-15 | 2008-05-13 | Eastman Kodak Company | Imageable element comprising sulfated polymers |
| US6942957B2 (en) * | 2003-07-17 | 2005-09-13 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Ionic liquids as developability enhancing agents in multilayer imageable elements |
| US6992688B2 (en) * | 2004-01-28 | 2006-01-31 | Eastman Kodak Company | Method for developing multilayer imageable elements |
| US6844141B1 (en) | 2003-07-23 | 2005-01-18 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Method for developing multilayer imageable elements |
| JP2005047181A (ja) * | 2003-07-30 | 2005-02-24 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版の製版方法、平版印刷方法および平版印刷原版 |
| US7226724B2 (en) | 2003-11-10 | 2007-06-05 | Think Laboratory Co., Ltd. | Positive-type photosensitive composition |
| EP1718473B1 (en) | 2003-12-04 | 2008-08-06 | IBF - Indústria Brasileira de Filmes S/A | Positive working thermal imaging assembly and method for the manufacture thereof |
| EP1697144A1 (en) | 2003-12-18 | 2006-09-06 | Agfa-Gevaert N.V. | Positive-working lithographic printing plate precursor |
| US7297465B2 (en) | 2003-12-18 | 2007-11-20 | Agfa Graphics Nv | Heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
| US7205084B2 (en) | 2003-12-18 | 2007-04-17 | Agfa-Gevaert | Heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
| US7467587B2 (en) | 2004-04-21 | 2008-12-23 | Agfa Graphics, N.V. | Method for accurate exposure of small dots on a heat-sensitive positive-working lithographic printing plate material |
| US7348126B2 (en) | 2004-04-27 | 2008-03-25 | Agfa Graphics N.V. | Negative working, heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
| EP1750175B1 (en) * | 2004-05-27 | 2008-07-30 | Think Laboratory Co., Ltd. | Positive photosensitive composition |
| DE602004006099T2 (de) | 2004-06-11 | 2008-03-13 | Agfa Graphics N.V. | Negativ arbeitende wärmeempfindlicher lithographischer Druckplattenvorläufer |
| DE102004029501A1 (de) * | 2004-06-18 | 2006-01-12 | Kodak Polychrome Graphics Gmbh | Modifizierte Polymere und ihre Verwendung bei der Herstellung von Lithographie-Druckplattenvorläufern |
| US7279263B2 (en) * | 2004-06-24 | 2007-10-09 | Kodak Graphic Communications Canada Company | Dual-wavelength positive-working radiation-sensitive elements |
| US7354696B2 (en) | 2004-07-08 | 2008-04-08 | Agfa Graphics Nv | Method for making a lithographic printing plate |
| US7425405B2 (en) | 2004-07-08 | 2008-09-16 | Agfa Graphics, N.V. | Method for making a lithographic printing plate |
| US7195861B2 (en) | 2004-07-08 | 2007-03-27 | Agfa-Gevaert | Method for making a negative working, heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
| JP4152928B2 (ja) * | 2004-08-02 | 2008-09-17 | 株式会社シンク・ラボラトリー | ポジ型感光性組成物 |
| JP4242815B2 (ja) * | 2004-08-27 | 2009-03-25 | 株式会社シンク・ラボラトリー | ポジ型感光性組成物 |
| US7198883B2 (en) | 2004-09-24 | 2007-04-03 | Agfa-Gevaert | Processless lithographic printing plate |
| DE602004008285T2 (de) | 2004-09-24 | 2008-05-08 | Agfa Graphics N.V. | Verarbeitungsfreie Flachdruckplatte |
| JP2006154477A (ja) * | 2004-11-30 | 2006-06-15 | Think Laboratory Co Ltd | ポジ型感光性組成物 |
| JP4474296B2 (ja) | 2005-02-09 | 2010-06-02 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
| EP1705003B1 (en) | 2005-03-21 | 2007-10-24 | Agfa Graphics N.V. | Processless lithographic printing plates |
| JP2006293162A (ja) | 2005-04-13 | 2006-10-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版 |
| KR100693357B1 (ko) * | 2005-04-19 | 2007-03-12 | 가부시키가이샤 씽크. 라보라토리 | 포지티브형 감광성 조성물 |
| EP1885759B1 (en) | 2005-06-03 | 2013-01-23 | American Dye Source, Inc. | Thermally reactive near-infrared absorbing acetal copolymers, methods of preparation and methods of use |
| US7678533B2 (en) | 2005-06-30 | 2010-03-16 | Agfa Graphics, N.V. | Heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
| US20070292802A1 (en) * | 2005-07-12 | 2007-12-20 | Think Laboratiory Co., Ltd. | Positive Photosenstive Composition |
| US8313885B2 (en) | 2005-11-10 | 2012-11-20 | Agfa Graphics Nv | Lithographic printing plate precursor comprising bi-functional compounds |
| US7338745B2 (en) * | 2006-01-23 | 2008-03-04 | Eastman Kodak Company | Multilayer imageable element with improved chemical resistance |
| EP1991418A1 (en) | 2006-02-28 | 2008-11-19 | Agfa Graphics N.V. | Method for making a lithographic printing plate |
| DE602006004839D1 (de) | 2006-02-28 | 2009-03-05 | Agfa Graphics Nv | Positiv arbeitende Lithografiedruckformen |
| EP1834764B1 (en) | 2006-03-17 | 2009-05-27 | Agfa Graphics N.V. | Negative working, heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
| ES2335300T3 (es) | 2006-05-24 | 2010-03-24 | Agfa Graphics N.V. | Precursor de plancha de impresion litografica termosensible de accion negativa. |
| EP1859936B1 (en) | 2006-05-24 | 2009-11-11 | Agfa Graphics N.V. | Method for making a lithographic printing plate |
| GB2439734A (en) * | 2006-06-30 | 2008-01-09 | Peter Andrew Reath Bennett | Coating for a lithographic precursor and use thereof |
| JP5038434B2 (ja) * | 2006-11-28 | 2012-10-03 | イーストマン コダック カンパニー | 良好な耐溶剤性を有する多層画像形成性要素 |
| WO2008126722A1 (ja) * | 2007-04-05 | 2008-10-23 | Think Laboratory Co., Ltd. | ポジ型感光性組成物 |
| EP1985445B1 (en) | 2007-04-27 | 2011-07-20 | Agfa Graphics N.V. | A lithographic printing plate precursor |
| EP2002987B1 (en) | 2007-06-13 | 2014-04-23 | Agfa Graphics N.V. | A method for treating a lithographic printing plate |
| US7582407B2 (en) * | 2007-07-09 | 2009-09-01 | Eastman Kodak Company | Imageable elements with low pH developer solubility |
| ATE509764T1 (de) | 2007-08-14 | 2011-06-15 | Agfa Graphics Nv | Verfahren zur herstellung einer lithographiedruckform |
| WO2009030279A1 (en) | 2007-09-07 | 2009-03-12 | Agfa Graphics Nv | A heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
| US7989146B2 (en) | 2007-10-09 | 2011-08-02 | Eastman Kodak Company | Component fabrication using thermal resist materials |
| EP2062728B1 (en) | 2007-11-13 | 2011-08-31 | Agfa Graphics N.V. | Method for making a lithographic printing plate |
| ATE468981T1 (de) | 2007-11-30 | 2010-06-15 | Agfa Graphics Nv | Verfahren zur behandlung einer lithografiedruckplatte |
| JP2009132974A (ja) | 2007-11-30 | 2009-06-18 | Fujifilm Corp | 微細構造体 |
| EP2095948B1 (en) | 2008-02-28 | 2010-09-15 | Agfa Graphics N.V. | A method for making a lithographic printing plate |
| EP2098376B1 (en) | 2008-03-04 | 2013-09-18 | Agfa Graphics N.V. | A method for making a lithographic printing plate support |
| ATE514561T1 (de) | 2008-03-31 | 2011-07-15 | Agfa Graphics Nv | Verfahren zur behandlung einer lithografischen druckplatte |
| ATE552111T1 (de) | 2008-09-02 | 2012-04-15 | Agfa Graphics Nv | Wärmeempfindlicher, positiv arbeitender lithographiedruckformvorläufer |
| EP2194429A1 (en) | 2008-12-02 | 2010-06-09 | Eastman Kodak Company | Gumming compositions with nano-particles for improving scratch sensitivity in image and non-image areas of lithographic printing plates |
| EP2213690B1 (en) | 2009-01-30 | 2015-11-11 | Agfa Graphics N.V. | A new alkali soluble resin |
| US20100227269A1 (en) | 2009-03-04 | 2010-09-09 | Simpson Christopher D | Imageable elements with colorants |
| EP2263874B1 (en) | 2009-06-18 | 2012-04-18 | Agfa Graphics N.V. | A lithographic printing plate precursor |
| EP2284005B1 (en) | 2009-08-10 | 2012-05-02 | Eastman Kodak Company | Lithographic printing plate precursors with beta-hydroxy alkylamide crosslinkers |
| US8383319B2 (en) | 2009-08-25 | 2013-02-26 | Eastman Kodak Company | Lithographic printing plate precursors and stacks |
| EP2293144B1 (en) | 2009-09-04 | 2012-11-07 | Eastman Kodak Company | Method of drying lithographic printing plates after single-step-processing |
| US8298750B2 (en) | 2009-09-08 | 2012-10-30 | Eastman Kodak Company | Positive-working radiation-sensitive imageable elements |
| EP2316645B1 (en) | 2009-10-27 | 2012-05-02 | AGFA Graphics NV | Novel cyanine dyes and lithographic printing plate precursors comprising such dyes |
| US8936899B2 (en) | 2012-09-04 | 2015-01-20 | Eastman Kodak Company | Positive-working lithographic printing plate precursors and use |
| RU2487882C1 (ru) | 2009-10-29 | 2013-07-20 | Майлан Груп | Галлотанниновые соединения в композициях для покрытия литографических печатных форм |
| EP2329951B1 (en) | 2009-12-04 | 2012-06-20 | AGFA Graphics NV | A lithographic printing plate precursor |
| ES2395993T3 (es) | 2010-03-19 | 2013-02-18 | Agfa Graphics N.V. | Precursor de plancha de impresión litográfica |
| US20110236832A1 (en) * | 2010-03-26 | 2011-09-29 | Celin Savariar-Hauck | Lithographic processing solutions and methods of use |
| US8939080B2 (en) | 2010-11-18 | 2015-01-27 | Eastman Kodak Company | Methods of processing using silicate-free developer compositions |
| US20120129093A1 (en) | 2010-11-18 | 2012-05-24 | Moshe Levanon | Silicate-free developer compositions |
| EP2668039B1 (en) | 2011-01-25 | 2015-06-03 | AGFA Graphics NV | A lithographic printing plate precursor |
| ES2427137T3 (es) | 2011-02-18 | 2013-10-29 | Agfa Graphics N.V. | Precursor de plancha de impresión litográfica |
| US8632940B2 (en) | 2011-04-19 | 2014-01-21 | Eastman Kodak Company | Aluminum substrates and lithographic printing plate precursors |
| US8722308B2 (en) | 2011-08-31 | 2014-05-13 | Eastman Kodak Company | Aluminum substrates and lithographic printing plate precursors |
| US9156529B2 (en) | 2011-09-08 | 2015-10-13 | Agfa Graphics Nv | Method of making a lithographic printing plate |
| US9096759B2 (en) * | 2011-12-21 | 2015-08-04 | E I Du Pont De Nemours And Company | Printing form and process for preparing the printing form with curable composition having solvent-free epoxy resin |
| US20130255515A1 (en) | 2012-03-27 | 2013-10-03 | Celin Savariar-Hauck | Positive-working lithographic printing plate precursors |
| WO2014017640A1 (ja) | 2012-07-27 | 2014-01-30 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版用支持体およびその製造方法、並びに、平版印刷版原版 |
| US9562129B2 (en) | 2013-01-01 | 2017-02-07 | Agfa Graphics Nv | (Ethylene, vinyl acetal) copolymers and their use in lithographic printing plate precursors |
| EP2775351B1 (en) | 2013-03-07 | 2017-02-22 | Agfa Graphics NV | Apparatus and method for processing a lithographic printing plate |
| CN110543081A (zh) | 2013-06-18 | 2019-12-06 | 爱克发有限公司 | 制备具有图案化背层的平版印刷版前体的方法 |
| EP2871057B1 (en) | 2013-11-07 | 2016-09-14 | Agfa Graphics Nv | Negative working, heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
| EP2933278B1 (en) | 2014-04-17 | 2018-08-22 | Agfa Nv | (Ethylene, vinyl acetal) copolymers and their use in lithographic printing plate precursors |
| ES2617557T3 (es) | 2014-05-15 | 2017-06-19 | Agfa Graphics Nv | Copolímeros (de etileno, vinilacetal) y su uso en precursores de plancha de impresión litográfica |
| CN104035279B (zh) * | 2014-05-23 | 2017-07-18 | 浙江康尔达新材料股份有限公司 | 阳图红外敏感组合物及其可成像元件 |
| ES2660063T3 (es) | 2014-06-13 | 2018-03-20 | Agfa Nv | Copolímeros (de etileno, vinilacetal) y su uso en precursores de plancha de impresión litográfica |
| EP2963496B1 (en) | 2014-06-30 | 2017-04-05 | Agfa Graphics NV | A lithographic printing plate precursor including ( ethylene, vinyl acetal ) copolymers |
| ES2655798T3 (es) | 2014-12-08 | 2018-02-21 | Agfa Nv | Sistema para reducir los residuos de ablación |
| EP3130465B1 (en) | 2015-08-12 | 2020-05-13 | Agfa Nv | Heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
| US9588429B1 (en) | 2015-09-03 | 2017-03-07 | Eastman Kodak Company | Lithographic developer composition and method of use |
| EP3170662B1 (en) | 2015-11-20 | 2019-08-14 | Agfa Nv | A lithographic printing plate precursor |
| JP2019510272A (ja) | 2016-03-16 | 2019-04-11 | アグファ・ナームローゼ・フェンノートシャップAgfa Nv | 平版印刷版の処理方法 |
| EP3239184A1 (en) | 2016-04-25 | 2017-11-01 | Agfa Graphics NV | Thermoplastic polymer particles and a lithographic printing plate precursor |
| EP3441223B1 (en) | 2017-08-07 | 2024-02-21 | Eco3 Bv | A lithographic printing plate precursor |
| CN111051981B (zh) | 2017-08-25 | 2024-04-09 | 富士胶片株式会社 | 负型平版印刷版原版及平版印刷版的制版方法 |
| EP3474073B1 (en) | 2017-10-17 | 2022-12-07 | Agfa Offset Bv | A method for making a printing plate |
| EP3637188A1 (en) | 2018-10-08 | 2020-04-15 | Agfa Nv | An effervescent developer precursor for processing a lithographic printing plate precursor |
| EP3650938A1 (en) | 2018-11-09 | 2020-05-13 | Agfa Nv | A lithographic printing plate precursor |
| EP3715140A1 (en) | 2019-03-29 | 2020-09-30 | Agfa Nv | A method of printing |
| EP3778253A1 (en) | 2019-08-13 | 2021-02-17 | Agfa Nv | Method for processing a lithographic printing plate |
| EP3922462B1 (en) | 2020-06-08 | 2023-03-01 | Agfa Offset Bv | Lithographic photopolymer printing plate precursor with improved daylight stability |
| US20240100820A1 (en) | 2020-12-16 | 2024-03-28 | Agfa Offset Bv | Lithographic Printing Press Make-Ready Method |
| EP4382306A1 (en) | 2022-12-08 | 2024-06-12 | Eco3 Bv | Lithographic printing press make-ready method |
Family Cites Families (137)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL80628C (ja) | 1949-07-23 | |||
| US3046121A (en) | 1949-07-23 | 1962-07-24 | Azoplate Corp | Process for the manufacture of printing plates and light-sensitive material suttablefor use therein |
| US3046119A (en) | 1950-08-01 | 1962-07-24 | Azoplate Corp | Light sensitive material for printing and process for making printing plates |
| BE506677A (ja) | 1950-10-31 | |||
| NL78025C (ja) | 1951-02-02 | |||
| US2767092A (en) | 1951-12-06 | 1956-10-16 | Azoplate Corp | Light sensitive material for lithographic printing |
| GB742557A (en) | 1952-10-01 | 1955-12-30 | Kalle & Co Ag | Light-sensitive material for photomechanical reproduction and process for the production of images |
| GB772517A (en) | 1954-02-06 | 1957-04-17 | Kalle & Co Ag | Improvements in or relating to photo-mechanical reproduction |
| BE540225A (ja) | 1954-08-20 | |||
| US2907665A (en) | 1956-12-17 | 1959-10-06 | Cons Electrodynamics Corp | Vitreous enamel |
| NL129161C (ja) | 1959-01-14 | |||
| BE593836A (ja) | 1959-08-05 | |||
| US3105465A (en) | 1960-05-31 | 1963-10-01 | Oliver O Peters | Hot water heater |
| US3460964A (en) * | 1964-11-19 | 1969-08-12 | Eastman Kodak Co | Heat-sensitive recording element and composition |
| NL6608712A (ja) * | 1966-06-23 | 1966-11-25 | ||
| US3635709A (en) | 1966-12-15 | 1972-01-18 | Polychrome Corp | Light-sensitive lithographic plate |
| GB1170495A (en) | 1967-03-31 | 1969-11-12 | Agfa Gevaert Nv | Radiation-Sensitive Recording Material |
| GB1231789A (ja) * | 1967-09-05 | 1971-05-12 | ||
| GB1245924A (en) * | 1967-09-27 | 1971-09-15 | Agfa Gevaert | Improvements relating to thermo-recording |
| GB1260662A (en) * | 1968-03-27 | 1972-01-19 | Agfa Gevaert | Improvements relating to the sub-titling of processed photographic materials |
| US3837860A (en) | 1969-06-16 | 1974-09-24 | L Roos | PHOTOSENSITIVE MATERIALS COMPRISING POLYMERS HAVING RECURRING PENDENT o-QUINONE DIAZIDE GROUPS |
| US3647443A (en) | 1969-09-12 | 1972-03-07 | Eastman Kodak Co | Light-sensitive quinone diazide polymers and polymer compositions |
| JPS5024641B2 (ja) | 1972-10-17 | 1975-08-18 | ||
| US3891439A (en) | 1972-11-02 | 1975-06-24 | Polychrome Corp | Aqueous developing composition for lithographic diazo printing plates |
| JPS5536518B2 (ja) * | 1972-11-21 | 1980-09-20 | ||
| US3859099A (en) | 1972-12-22 | 1975-01-07 | Eastman Kodak Co | Positive plate incorporating diazoquinone |
| CA1085212A (en) | 1975-05-27 | 1980-09-09 | Ronald H. Engebrecht | Use of volatile carboxylic acids in improved photoresists containing quinone diazides |
| DE2529054C2 (de) | 1975-06-30 | 1982-04-29 | Ibm Deutschland Gmbh, 7000 Stuttgart | Verfahren zur Herstellung eines zur Vorlage negativen Resistbildes |
| DE2543820C2 (de) * | 1975-10-01 | 1984-10-31 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Verfahren zur Herstellung von Flachdruckformen mittels Laserstrahlen |
| DE2607207C2 (de) | 1976-02-23 | 1983-07-14 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Verfahren zur Herstellung von Flachdruckformen mit Laserstrahlen |
| US4486529A (en) | 1976-06-10 | 1984-12-04 | American Hoechst Corporation | Dialo printing plate made from laser |
| GB1603920A (en) | 1978-05-31 | 1981-12-02 | Vickers Ltd | Lithographic printing plates |
| JPS5560944A (en) | 1978-10-31 | 1980-05-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | Image forming method |
| US4308368A (en) | 1979-03-16 | 1981-12-29 | Daicel Chemical Industries Ltd. | Photosensitive compositions with reaction product of novolak co-condensate with o-quinone diazide |
| JPS561045A (en) | 1979-06-16 | 1981-01-08 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Photosensitive composition |
| JPS561044A (en) | 1979-06-16 | 1981-01-08 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Photosensitive composition |
| JPS569740A (en) | 1979-07-05 | 1981-01-31 | Fuji Photo Film Co Ltd | Image forming method |
| US4316952A (en) * | 1980-05-12 | 1982-02-23 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Energy sensitive element having crosslinkable polyester |
| GB2082339B (en) * | 1980-08-05 | 1985-06-12 | Horsell Graphic Ind Ltd | Lithographic printing plates and method for processing |
| US4529682A (en) | 1981-06-22 | 1985-07-16 | Philip A. Hunt Chemical Corporation | Positive photoresist composition with cresol-formaldehyde novolak resins |
| JPS58203433A (ja) | 1982-05-21 | 1983-11-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
| JPS58224351A (ja) | 1982-06-23 | 1983-12-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性印刷版 |
| US4609615A (en) | 1983-03-31 | 1986-09-02 | Oki Electric Industry Co., Ltd. | Process for forming pattern with negative resist using quinone diazide compound |
| DE3325023A1 (de) | 1983-07-11 | 1985-01-24 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Verfahren zur herstellung negativer kopien mittels eines materials auf basis von 1,2-chinondiaziden |
| US4708925A (en) * | 1984-12-11 | 1987-11-24 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photosolubilizable compositions containing novolac phenolic resin |
| US4693958A (en) | 1985-01-28 | 1987-09-15 | Lehigh University | Lithographic plates and production process therefor |
| DE3541534A1 (de) | 1985-11-25 | 1987-05-27 | Hoechst Ag | Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch |
| ZA872295B (ja) | 1986-03-13 | 1987-09-22 | ||
| US4684599A (en) | 1986-07-14 | 1987-08-04 | Eastman Kodak Company | Photoresist compositions containing quinone sensitizer |
| US4743528A (en) * | 1986-11-21 | 1988-05-10 | Eastman Kodak Company | Enhanced imaging composition containing an azinium activator |
| GB8700599D0 (en) * | 1987-01-12 | 1987-02-18 | Vickers Plc | Printing plate precursors |
| DE3716848A1 (de) | 1987-05-20 | 1988-12-01 | Hoechst Ag | Verfahren zur bebilderung lichtempfindlichen materials |
| EP0304313A3 (en) | 1987-08-21 | 1990-08-22 | Oki Electric Industry Company, Limited | Pattern forming material |
| US4973572A (en) * | 1987-12-21 | 1990-11-27 | Eastman Kodak Company | Infrared absorbing cyanine dyes for dye-donor element used in laser-induced thermal dye transfer |
| JPH01201654A (ja) | 1988-02-06 | 1989-08-14 | Nippon Oil Co Ltd | ポジ型フォトレジスト材料 |
| US4962147A (en) | 1988-05-26 | 1990-10-09 | Hoechst Celanese Corporation | Process for the suspension polymerization of 4-acetoxystyrene and hydrolysis to 4-hydroxystyrene polymers |
| DE3820001A1 (de) | 1988-06-11 | 1989-12-14 | Basf Ag | Optisches aufzeichnungsmedium |
| JPH0820734B2 (ja) * | 1988-08-11 | 1996-03-04 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物及びそれを用いた光重合性組成物 |
| US4877718A (en) | 1988-09-26 | 1989-10-31 | Rennsselaer Polytechnic Institute | Positive-working photosensitive polyimide operated by photo induced molecular weight changes |
| JP2547626B2 (ja) | 1988-10-07 | 1996-10-23 | 富士写真フイルム株式会社 | モノマーの製造方法 |
| EP0366590B2 (en) | 1988-10-28 | 2001-03-21 | International Business Machines Corporation | Highly sensitive positive photoresist compositions |
| JP2698789B2 (ja) * | 1988-11-11 | 1998-01-19 | 富士写真フイルム株式会社 | 熱転写受像材料 |
| DE68921146T2 (de) | 1988-11-11 | 1995-06-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | Lichtempfindliche Zusammensetzung. |
| JP2571115B2 (ja) | 1989-01-17 | 1997-01-16 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物の増感方法及び増感された感光性組成物 |
| JP2871710B2 (ja) | 1989-03-17 | 1999-03-17 | 株式会社きもと | 画像形成方法 |
| JPH02251962A (ja) | 1989-03-27 | 1990-10-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 微細パターン形成材料およびパターン形成方法 |
| JPH02299879A (ja) * | 1989-04-27 | 1990-12-12 | Ncr Corp | 感熱記録媒体 |
| US5200298A (en) | 1989-05-10 | 1993-04-06 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of forming images |
| EP0410606B1 (en) | 1989-07-12 | 1996-11-13 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Siloxane polymers and positive working light-sensitive compositions comprising the same |
| DE69032464T2 (de) | 1989-10-19 | 1998-11-12 | Fujitsu Ltd | Verfahren zur Herstellung von Photolackmustern |
| GB9004337D0 (en) | 1990-02-27 | 1990-04-25 | Minnesota Mining & Mfg | Preparation and use of dyes |
| DE4013575C2 (de) | 1990-04-27 | 1994-08-11 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung negativer Reliefkopien |
| US5279918A (en) | 1990-05-02 | 1994-01-18 | Mitsubishi Kasei Corporation | Photoresist composition comprising a quinone diazide sulfonate of a novolac resin |
| JP2729850B2 (ja) | 1990-05-15 | 1998-03-18 | 富士写真フイルム株式会社 | 画像形成層 |
| JP2639853B2 (ja) | 1990-05-18 | 1997-08-13 | 富士写真フイルム株式会社 | 新規キノンジアジド化合物及びそれを含有する感光性組成物 |
| JP2645384B2 (ja) | 1990-05-21 | 1997-08-25 | 日本ペイント株式会社 | ポジ型感光性樹脂組成物 |
| US5145763A (en) | 1990-06-29 | 1992-09-08 | Ocg Microelectronic Materials, Inc. | Positive photoresist composition |
| JP3244288B2 (ja) * | 1990-07-23 | 2002-01-07 | 昭和電工株式会社 | 近赤外光消色型記録材料 |
| US5085972A (en) | 1990-11-26 | 1992-02-04 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Alkoxyalkyl ester solubility inhibitors for phenolic resins |
| JPH04359906A (ja) | 1991-06-07 | 1992-12-14 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ポリ(パラ−t−ブトキシカルボニルオキシスチレン)及びその製造方法 |
| CA2066895A1 (en) | 1991-06-17 | 1992-12-18 | Thomas P. Klun | Aqueous developable imaging systems |
| US5258257A (en) | 1991-09-23 | 1993-11-02 | Shipley Company Inc. | Radiation sensitive compositions comprising polymer having acid labile groups |
| US5437952A (en) | 1992-03-06 | 1995-08-01 | Konica Corporation | Lithographic photosensitive printing plate comprising a photoconductor and a naphtho-quinone diazide sulfonic acid ester of a phenol resin |
| US5368977A (en) | 1992-03-23 | 1994-11-29 | Nippon Oil Co. Ltd. | Positive type photosensitive quinone diazide phenolic resin composition |
| US5372917A (en) | 1992-06-30 | 1994-12-13 | Kanzaki Paper Manufacturing Co., Ltd. | Recording material |
| US5268245A (en) | 1992-07-09 | 1993-12-07 | Polaroid Corporation | Process for forming a filter on a solid state imager |
| US5351617A (en) | 1992-07-20 | 1994-10-04 | Presstek, Inc. | Method for laser-discharge imaging a printing plate |
| CA2091286A1 (en) | 1992-07-20 | 1994-01-21 | Macdermid, Inc. | Direct imaging process for forming resist pattern on a surface, and use thereof in fabricating printed boards |
| US5286612A (en) | 1992-10-23 | 1994-02-15 | Polaroid Corporation | Process for generation of free superacid and for imaging, and imaging medium for use therein |
| DE69406687T2 (de) | 1993-01-25 | 1998-05-14 | At & T Corp | Ein Verfahren zum gesteuerten Entschützen von Polymeren und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung welches diese zum Teil entschützten Polymere für Photoresiste benutzt |
| US5340699A (en) * | 1993-05-19 | 1994-08-23 | Eastman Kodak Company | Radiation-sensitive composition containing a resole resin and a novolac resin and use thereof in lithographic printing plates |
| EP0631189B1 (en) * | 1993-06-24 | 1999-02-17 | Agfa-Gevaert N.V. | Improvement of the storage stability of a diazo-based imaging element for making a printing plate |
| DE4426820A1 (de) | 1993-07-29 | 1995-02-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | Bilderzeugungsmaterial und Bilderzeugungsverfahren |
| GB9322705D0 (en) * | 1993-11-04 | 1993-12-22 | Minnesota Mining & Mfg | Lithographic printing plates |
| EP0672954B1 (en) * | 1994-03-14 | 1999-09-15 | Kodak Polychrome Graphics LLC | Radiation-sensitive composition containing a resole resin, a novolac resin, an infrared absorber and a triazine and use thereof in lithographic printing plates |
| JP3317574B2 (ja) | 1994-03-15 | 2002-08-26 | 富士写真フイルム株式会社 | ネガ型画像記録材料 |
| JP3461377B2 (ja) | 1994-04-18 | 2003-10-27 | 富士写真フイルム株式会社 | 画像記録材料 |
| US5441850A (en) | 1994-04-25 | 1995-08-15 | Polaroid Corporation | Imaging medium and process for producing an image |
| EP0691575B1 (en) | 1994-07-04 | 2002-03-20 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Positive photosensitive composition |
| EP0720057A4 (en) | 1994-07-11 | 1997-01-22 | Konishiroku Photo Ind | INITIAL ELEMENT FOR LITHOGRAPHIC PLATE AND PROCESS FOR PREPARING SAID PLATE |
| US5466557A (en) * | 1994-08-29 | 1995-11-14 | Eastman Kodak Company | Radiation-sensitive composition containing a resole resin, a novolac resin, a latent bronsted acid, an infrared absorber and terephthalaldehyde and use thereof in lithographic printing plates |
| EP0706899A1 (en) | 1994-10-13 | 1996-04-17 | Agfa-Gevaert N.V. | Thermal imaging element |
| US5491046A (en) * | 1995-02-10 | 1996-02-13 | Eastman Kodak Company | Method of imaging a lithographic printing plate |
| US5658708A (en) | 1995-02-17 | 1997-08-19 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image recording material |
| JPH0962005A (ja) * | 1995-06-14 | 1997-03-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | ネガ型感光性組成物 |
| GB9516723D0 (en) * | 1995-08-15 | 1995-10-18 | Horsell Plc | Water-less lithographic plates |
| GB9516694D0 (en) | 1995-08-15 | 1995-10-18 | Horsell Plc | Water-less lithographic plates |
| US5641608A (en) | 1995-10-23 | 1997-06-24 | Macdermid, Incorporated | Direct imaging process for forming resist pattern on a surface and use thereof in fabricating printing plates |
| JPH09120157A (ja) * | 1995-10-25 | 1997-05-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | 湿し水不要感光性平版印刷版 |
| US6132935A (en) | 1995-12-19 | 2000-10-17 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Negative-working image recording material |
| US5814431A (en) * | 1996-01-10 | 1998-09-29 | Mitsubishi Chemical Corporation | Photosensitive composition and lithographic printing plate |
| JP3589365B2 (ja) | 1996-02-02 | 2004-11-17 | 富士写真フイルム株式会社 | ポジ画像形成組成物 |
| EP0803771A1 (en) | 1996-04-23 | 1997-10-29 | Agfa-Gevaert N.V. | A method for making a lithopgrapic printing plate wherein an imaging element is used that comprises a thermosensitive mask |
| EP0819980B1 (en) | 1996-07-19 | 2000-05-31 | Agfa-Gevaert N.V. | An IR radiation-sensitive imaging element and a method for producing lithographic plates therewith |
| JP3814961B2 (ja) | 1996-08-06 | 2006-08-30 | 三菱化学株式会社 | ポジ型感光性印刷版 |
| US5705309A (en) | 1996-09-24 | 1998-01-06 | Eastman Kodak Company | Photosensitive composition and element containing polyazide and an infrared absorber in a photocrosslinkable binder |
| US5759742A (en) | 1996-09-25 | 1998-06-02 | Eastman Kodak Company | Photosensitive element having integral thermally bleachable mask and method of use |
| US5705322A (en) | 1996-09-30 | 1998-01-06 | Eastman Kodak Company | Method of providing an image using a negative-working infrared photosensitive element |
| US5858626A (en) * | 1996-09-30 | 1999-01-12 | Kodak Polychrome Graphics | Method of forming a positive image through infrared exposure utilizing diazonaphthoquinone imaging composition |
| US5705308A (en) | 1996-09-30 | 1998-01-06 | Eastman Kodak Company | Infrared-sensitive, negative-working diazonaphthoquinone imaging composition and element |
| US6117610A (en) * | 1997-08-08 | 2000-09-12 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Infrared-sensitive diazonaphthoquinone imaging composition and element containing non-basic IR absorbing material and methods of use |
| EP0839647B2 (en) | 1996-10-29 | 2014-01-22 | Agfa Graphics N.V. | Method for making a lithographic printing plate with improved ink-uptake |
| US6060222A (en) * | 1996-11-19 | 2000-05-09 | Kodak Polcyhrome Graphics Llc | 1Postitve-working imaging composition and element and method of forming positive image with a laser |
| EP0855267B1 (en) | 1997-01-24 | 2002-04-17 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Planographic printing plate |
| DE69806986T2 (de) | 1997-03-11 | 2003-05-08 | Agfa-Gevaert, Mortsel | Verfahren zur Herstellung von positiv arbeitenden lithographischen Druckplatten |
| US6090532A (en) * | 1997-03-21 | 2000-07-18 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Positive-working infrared radiation sensitive composition and printing plate and imaging method |
| DE19712323A1 (de) | 1997-03-24 | 1998-10-01 | Agfa Gevaert Ag | Strahlungsempfindliches Gemisch und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial für Offsetdruckplatten |
| US6083662A (en) * | 1997-05-30 | 2000-07-04 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Methods of imaging and printing with a positive-working infrared radiation sensitive printing plate |
| JP3779444B2 (ja) | 1997-07-28 | 2006-05-31 | 富士写真フイルム株式会社 | 赤外線レーザ用ポジ型感光性組成物 |
| US6060217A (en) * | 1997-09-02 | 2000-05-09 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Thermal lithographic printing plates |
| EP0908306B3 (en) | 1997-10-08 | 2009-08-05 | Agfa-Gevaert | A method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive imaging element |
| US6060218A (en) * | 1997-10-08 | 2000-05-09 | Agfa-Gevaert, N.V. | Method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive image element |
| DE69810242T2 (de) * | 1997-10-28 | 2003-10-30 | Mitsubishi Chemical Corp., Tokio/Tokyo | Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch, positiv arbeitende lichtempfindliche Flachdruckplatte und Verfahren zur Bebilderung der Druckplatte |
| EP0934822B1 (en) * | 1998-02-04 | 2005-05-04 | Mitsubishi Chemical Corporation | Positive photosensitive composition, positive photosensitive lithographic printing plate and method for forming a positive image |
| US6251559B1 (en) * | 1999-08-03 | 2001-06-26 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Heat treatment method for obtaining imagable coatings and imagable coatings |
| US6300038B1 (en) * | 1999-11-19 | 2001-10-09 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Articles having imagable coatings |
| US6294311B1 (en) * | 1999-12-22 | 2001-09-25 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Lithographic printing plate having high chemical resistance |
-
1997
- 1997-04-22 ES ES97919526T patent/ES2114521T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1997-04-22 AT AT98203153T patent/ATE220991T1/de active
- 1997-04-22 CZ CZ19974008A patent/CZ292739B6/cs not_active IP Right Cessation
- 1997-04-22 AT AT97919526T patent/ATE183136T1/de not_active IP Right Cessation
- 1997-04-22 AU AU23966/97A patent/AU707872B2/en not_active Ceased
- 1997-04-22 WO PCT/GB1997/001117 patent/WO1997039894A1/en not_active Ceased
- 1997-04-22 PL PL97324248A patent/PL324248A1/xx unknown
- 1997-04-22 EP EP97919526A patent/EP0825927B1/en not_active Revoked
- 1997-04-22 DE DE69714225T patent/DE69714225T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1997-04-22 ES ES98203153T patent/ES2181120T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1997-04-22 DE DE29724584U patent/DE29724584U1/de not_active Expired - Lifetime
- 1997-04-22 EP EP98203153A patent/EP0887182B1/en not_active Revoked
- 1997-04-22 JP JP53785097A patent/JP3147908B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1997-04-22 CA CA002225567A patent/CA2225567C/en not_active Expired - Fee Related
- 1997-04-22 DE DE69700397T patent/DE69700397T2/de not_active Revoked
- 1997-04-22 CN CN97190751A patent/CN1078132C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1997-04-22 IL IL12231897A patent/IL122318A/xx not_active IP Right Cessation
- 1997-04-22 BR BR9702181-4A patent/BR9702181A/pt not_active IP Right Cessation
- 1997-04-22 RU RU98101117/12A patent/RU2153986C2/ru not_active IP Right Cessation
- 1997-04-22 DE DE0825927T patent/DE825927T1/de active Pending
- 1997-12-19 NO NO976002A patent/NO976002L/no not_active Application Discontinuation
-
2000
- 2000-01-18 US US09/483,990 patent/US6280899B1/en not_active Expired - Lifetime
-
2001
- 2001-05-18 US US09/860,943 patent/US6485890B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3147908B2 (ja) | 感熱性組成物および該組成物を使用したリソグラフィックプリンティングフォームの作製方法 | |
| US6060217A (en) | Thermal lithographic printing plates | |
| JP3814961B2 (ja) | ポジ型感光性印刷版 | |
| CN1954007B (zh) | 热反应性红外吸收聚合物及其在热敏平版印刷版中的用途 | |
| EP0854388B1 (en) | Negative-type image recording materials | |
| US6830862B2 (en) | Multi-layer imageable element with a crosslinked top layer | |
| JP3731356B2 (ja) | ポジ型感光性組成物、感光性平版印刷版及びポジ画像の形成方法 | |
| EP0864419B1 (en) | Method for making positive working lithographic printing plates | |
| US6699636B2 (en) | Imaging element comprising a thermally activated crosslinking agent | |
| US20030148227A1 (en) | Water-developable negative-working ultraviolet and infrared imageable element | |
| US6352814B1 (en) | Method of forming a desired pattern | |
| JPH10282643A (ja) | ポジ型感光性平版印刷版 | |
| US20120189770A1 (en) | Preparing lithographic printing plates by ablation imaging | |
| JPH10186649A (ja) | 赤外感光性画像形成組成物、要素及び方法 | |
| KR100277346B1 (ko) | 열-감지조성물 및 이를 이용하여석판인쇄인화형을표시하는 방법 | |
| JPH11288089A (ja) | ポジ型感光性組成物、ポジ型感光性平版印刷版及びポジ画像形成方法 | |
| JP2002023364A (ja) | ポジ型感光性組成物及びポジ型感光性平版印刷版 | |
| JP3802259B2 (ja) | ポジ型感光性組成物及びポジ型感光性平版印刷版 | |
| JPH10282652A (ja) | ポジ型感光性平版印刷版 | |
| JP2002123002A (ja) | ポジ型感光性平版印刷版の製版方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090112 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090112 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100112 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110112 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110112 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120112 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130112 Year of fee payment: 12 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |