JP3147908B2 - 感熱性組成物および該組成物を使用したリソグラフィックプリンティングフォームの作製方法 - Google Patents

感熱性組成物および該組成物を使用したリソグラフィックプリンティングフォームの作製方法

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Description

【発明の詳細な説明】 本発明はポジティブワーキングリソグラフィックプリ
ンティングフォーム前駆物質、その使用方法およびそれ
を使用するためのイメージ形成可能な組成物に関する。
リソグラフィックプリンティング技術は油と水の不混和
性に基づいており、油性物質またはインクはイメージ領
域により選択的に保持され、水または噴水溶液は非イメ
ージ領域により選択的に保持される。適当に調製された
表面が水で加湿され、そしてインクが塗布されると、イ
メージ領域はインクを吸収し、水をはじき、背景、すな
わち非イメージ領域は水を保持する。そして、イメージ
領域のインクはイメージが再生される物質の表面、例え
ば紙、布等に移動する。通常、インクは、ブランケット
と呼ばれる中間物質に移動し、そのブランケットがイン
クをイメージが再生される物質表面に運ぶ。
一般に使用されているリソグラフィックプリンティン
グフォーム前駆物質はアルミニウム支持体に塗布された
光感光性コーティングを有する。ネガティブワーキング
リソグラフィックプリンティングフォーム前駆物質は光
にイメージ露光されると、露光された領域が硬化する電
磁線感光性コーティングを有している。現像時、コート
された組成物の非露光領域は除去され、イメージが残
る。他方、ポジティブワーキングリソグラフィックプリ
ンティングフォーム前駆物質はコートされた組成物を有
しているが、それは適当な波長の光でイメージ露光され
ると、現像時、非露光領域よりも露光領域の方がより溶
けやすくなる。この光により誘発された溶解性の差は光
可溶化(photosolubilisation)と呼ばれている。多く
の商業的に入手可能なポジティブワーキングプリンティ
ングフォーム前駆物質はフェノール性樹脂とともにキノ
ンジアジドで被覆されており、光可溶化によりイメージ
を再生する。いずれの場合も、プリンティングフォーム
それ自体上のイメージ領域はインク受容性すなわち親油
性(oleophilic)であり、非イメージ領域または背景は
水受容性すなわち親水性である。
イメージと非イメージ領域間の区別は露光工程で生
じ、その工程ではフィルムが真空でプリンティングフォ
ーム前駆物質にかけられて接触を良好にする。次に、プ
リンティングフォーム前駆物質が紫外線を含む光源に露
光される。ポジティブプリンティングフォーム前駆物質
を使用する場合は、プリンティングフォーム前駆物質上
のイメージに対応しているフィルム領域は不透明であ
り、プリンティングフォーム前駆物質は全く光に当たら
ない。一方、非イメージ領域相当するフィルム領域は透
明であり、溶解性になり除去されるコーティング層まで
光が透過する。
リソグラフィックプリンティングフォーム前駆物質の
分野は最近さらに発展し、直接にレーザーアドレス可能
なプリンティングフォーム前駆物質の調製に有用な電磁
線感応性組成物が提供されている。デジタルイメージン
グ形成は、写真透明体等のイメージングマスターを使用
する必要がなく、プリンティングフォーム前駆物質をイ
メージ形成するのに使用できる。
ポジティブワーキングであり直接にレーザーアドレス
可能なプリンティングフォーム前駆物質の例が、1987年
11月24日発行のアメリカ合衆国特許4708925号に記載さ
れている。イメージング層がフェノール性樹脂および電
磁線感応性オニウム塩を含有するリソグラフィックプリ
ンティングフォーム前駆物質を記載している。該特許に
記載されているように、フェノール性樹脂とオニウム塩
が相互作用し、オニウム塩の光分解によりアルカリ溶解
性に戻るアルカリ不溶性組成物が作られる。プリンティ
ングフォーム前駆物質は、イギリス特許第2082339号に
詳述されているように、露光と現像との間にさらに加工
ステップを使用して、ポジティブワーキングプリンティ
ングフォーム前駆物質として、またはネガティブワーキ
ングプリンティング前駆物質として利用可能である。合
衆国特許第2708925号に記載されているプリンティング
フォーム前駆物質は本質的にUV照射に感光性が有り、さ
らに可視および赤外線照射に感光させることができる。
直接ポジティブワーキングシステムとして利用できレ
ーザーアドレス可能なプリンティングフォーム前駆物質
のさらなる例が1994年12月13日発行のアメリカ合衆国特
許第5372907号および1996年2月13日発行のアメリカ合
衆国特許第5491046号に記載されている。これらの2つ
の特許はイメージ露光により、潜在性のブレンステッド
酸を電磁線誘導分解し、樹脂マトリックスの溶解性を増
大させることを詳述している。アメリカ合衆国特許第47
08925号に記載されているプリンティングフォーム前駆
物質を使用して、これらのシステムは、イメージングや
前現像の後にさらに加工ステップを付けてネガティブワ
ーキングシステムとしてさらに利用できる。ネガティブ
ワーキングプロセスにおいては、分解副生成物は続いて
樹脂間の架橋反応を触媒するのに使用され、現像の前に
イメージ領域を不溶性にする。アメリカ合衆国特許第47
08925号におけるように、これらのプリンティングフォ
ーム前駆物質は使用されている酸発生剤により本質的に
UV照射感光性である。
直接イメージ形成されるポジティブワーキングプリン
ティング前駆物質として使用されている上記先行技術の
プリンティングフォーム前駆物質は一つ以上の望ましい
特徴に欠けている。記述されているプリンティングフォ
ーム前駆物質のいずれも、作業室の照明条件を正当に考
慮しなければ広範囲に扱えない。時間制限なくプリンテ
ィングフォーム前駆物質を取り扱うためには、望まれて
いないUV照射への露光を防ぐ特別に安全な照明条件が要
求される。白色光源の出力スペクトルに依存する白色光
作業条件の中でのみ限られた期間のみプリンティングフ
ォーム前駆物質を利用できる。ワークフローをストリー
ムライン化するために、制限のない白色光印刷室環境中
でデジタルイメージングハードウェアやプリンティング
フォーム前駆物質を利用することが望ましであろうし、
UV感光性はこれらの領域では不都合であろう。さらに白
色光操作は、目下、限定的な安全光条件下になければな
らない伝統的プレプレス領域における作業環境を改善す
るものとなろう。
さらに両プリンティングフォーム前駆物質システム
は、プレート特性を最適化し、現像剤溶解性、インク受
容性、ランレングス、接着性をはじめ必要なリソグラフ
ィックプレート性能パラメーターの最高性能を提供する
のに困難性を引き起こす要素に制約を有する。
アメリカ合衆国特許第4708925号に記述されているシ
ステムにおいては、アルカリ溶解性樹脂変性としても、
組成物の追加成分としても、照射するとオニウム塩の存
在下にフェノール性樹脂を架橋するであろう官能基の存
在が許されない。というのは露光時の可溶化の効果が減
少するからである。
アメリカ合衆国特許第5491046号に記述されている組
成物の本質的要求は、ネガティブワーキングモードにお
いてシステムが使用できるようにレゾール樹脂とノボラ
ック樹脂の両者が存在することである。これは、ネガテ
ィブワーキング特許実施例およびこの独占技術に由来す
る最初の商業化製品、コダックのパフォーマー(Perfor
mer)製品に示されているように、このシステムに好都
合なモードである。ネガティブワーキングポテンシャル
の最適化は、該要求をしないポジティブワーキングモー
ドのための最適化を制限する。
サーモグラフレコーディング材料として有用な広範囲
の熱溶解性組成物が1971年9月15日発行のイギリス特許
第1245924号に開示されており、所定溶媒中におけるイ
メージ形成可能な層の所定の領域の溶解性は、レコーデ
ィング材料に接触して位置しているグラフィックのオリ
ジナルの背景領域から透過または反射した強強度の可視
光および/または赤外照射に間接的に短時間さらすこと
により、層を加熱して増加させることができる。記述さ
れているシステムは種々雑多であり、たくさんの異なっ
たメカニズムで操作されており、水から塩素化有機溶媒
までわたる色々な現像物質を使用している。水性現像性
の開示組成物の範囲にはノボラック系フェノール樹脂を
含有する組成物が含まれる。該特許はかかる樹脂を含有
するコートされたフィルムが加熱により溶解性が増加す
ることが示唆されている。組成物は、カーボンブラッ
ク、あるいはミノリブルー(C.I.ピグメントブルー27)
等の熱吸収化合物を含有していてもよい。これらの材料
はレコーディング媒体としてそれらを使用するのでイメ
ージをさらに着色する。
しかしながら、イギリス特許第1245924号に記述され
ている組成物における溶解性の差の程度は、市販のポジ
ティブワーキングリソグラフィックプリンティングフォ
ーム前駆物質組成物に比べて非常に低い。標準的なリソ
グラフィックプリンティングフォーム前駆物質は、強力
な現像溶液に対する優れた許容度、顧客ユースのバリエ
ーションに対して良好な丈夫さを発揮することができ、
そして最適化して高い現像剤溶液使用法および高い数の
印刷くぼみを提供することができる。イギリス特許第12
45924号の組成物により示されている非常に粗末な現像
剤の寛容度のために、市販で手に入るリソグラフィック
プリンティングフォーム前駆物質は不適当である。
我々は、上記した先行技術の欠点を示さない熱モード
イメージング用の感熱性ポジティブワーキングプリンテ
ィングフォーム前駆物質としての応用に適した感熱性組
成物を見出した。
本発明の組成物は、好ましくは適当な電磁線により、
組成物を局部加熱することにより、さらされた領域の水
性現像剤の溶解性の増大が引き起こされるという点にお
いて感熱性である。
それ故、本発明の一つの面によると、水性現像剤溶解
性ポリマー物質(以下、「活性ポリマー」という)を含
有する親油性感熱性組成物、およびポリマー物質の水性
現像剤溶解性を減少させる化合物(以下、「可逆不溶化
化合物(reversiblerinsolubiliser compound)」とい
う)が提供されるものであり、組成物の水性現像剤溶解
性は加熱により増大し、組成物の水性現像剤溶解性は入
射したUV電磁線により増大しないことに特徴づけられ
る。
本発明のさらに別の面によると、上記活性ポリマーお
よび可逆不溶化化合物を含有する組成物からなり、親水
性表面を有する支持体上にコートされたコーティング層
を有する、ポジティブワーキングリソグラフィックプリ
ンティングフォーム前駆物質(precursor)が提供され
るものであり、組成物の水性現像剤溶解性加熱により増
大し、組成物の水性現像剤溶解性は入射したUV電磁線に
より増大しないことに特徴づけられる。
本発明の感熱性組成物の感度を増大させるために、添
加成分、すなち、入射した電磁線を吸収しそれを熱に変
換できる電磁線吸収化合物(以下、「電磁線吸収化合
物」という)を含有させることが有益である。
それ故、本発明のさらなる面は、選択的に電磁線を吸
収し該電磁線を熱に転換するようにコーティング層が適
当に設けられている、リソグラフィックプリンティング
フォーム前駆物質である。
それ故、本発明の好ましい具体例によると、親水性表
面を有する支持体上に、上記活性ポリマーおよび可逆不
溶化化合物および電磁線吸収化合物を含有する親油性感
熱性組成物を有する、感熱性ポジティブワーキングリソ
グラフィックプリンティングフォーム前駆物質が提供さ
れものであり、組成物の水性現像剤溶解性が加熱により
増大し、組成物の水性現像剤溶解性が入射UV電磁線によ
り増大しないことに特徴づけられる。
本発明の更なる好ましい具体例においては、コーティ
ング層が親油性感熱性組成物の下に配置されている付加
層を有し、該追加層が電磁線吸収化合物を含有してい
る、感熱性ポジティブワーキングリソグラフィックプリ
ンティングフォーム前駆物質が提供される。
本発明のさらに好ましい具体例においては、親水性表
面を有する支持体上に、電磁線吸収化合物でもある上記
活性ポリマーおよび可逆不溶化化合物を含有する親油性
感熱性組成物を有する、感熱性ポジティブワーキングリ
ソグラフィックプリンティングフォーム前駆物質が提供
され、組成物の水性現像剤溶解性が加熱により増大し、
組成物の水性現像剤溶解性が入射UV電磁線により増大し
ないことに特徴づけられる。
本明細書においては、組成物の水性現像剤溶解性が加
熱により増大するというときは、それは実質的に増大す
る、すなわちリソグラフィックプリンティングプロセス
において有用な量で増大するということを意味してい
る。組成物の水性現像剤溶解性が入射UV電磁線により増
大しないというときは、実質的に増大しない、すなわち
UV安全照明条件が採用されなければならないということ
を意味するであろう量で増大しないということを意味し
ている。
プリンティングフォームは好ましくはリソグラフィッ
クプレートであり、以下、それを引用する。
本発明のすべての好ましい具体例においては、ポジテ
ィブワーキングリソグラフィックプリンティングプレー
トは熱モードイメージングおよび加工後に得られる。コ
ートされた組成物の水性現像剤溶解性は、活性ポリマー
だけの溶解性の点で、非常に減少する。続いて適当な電
磁線に暴露される、組成物の加熱された領域は現像溶液
中でより可溶性になる。それゆえ、イメージ暴露される
と、未暴露組成物と暴露組成物との溶解性の差に変化が
生じる。そして、暴露領域は、組成物が溶解し、下のプ
レートの親水性表面が現れる。
本発明のコートされたプレートは、レコーディング材
料に接しているグラフィックのオリジナルの背景領域か
ら透過または反射した強強度電磁線の短時間露光によ
り、間接的に熱イメージ形成されてもよい。
本発明の別の面においては、好ましくはプレートは、
加熱体を使用してイメージ加熱されてもよい。例えば、
プレート、裏面、あるいは好ましくは感熱性組成物を熱
針により接触させてもよい。
本発明の別の面においては、好ましくはプレートをレ
ーザーを直接露光し、コーティングをイメージ加熱して
もよい。最も好ましくはレーザーは600nmを超えて放射
する。
本発明がどのように作用しているかの理論的な説明に
本発明が限定されることを意図していないが、熱的に脆
弱な錯体は活性ポリマーと可逆不溶化化合物との間で形
成されると信じられている。この錯体は可逆的に形成さ
れていると信じられており、その錯体に熱をかけること
によって錯体を破壊し、組成物に対して水性現像剤溶解
性を復元するとができる。本発明の使用に適したポリマ
ー物質は錯体化が解除された(uncomplexed)時、電子
リッチな基を含有していおり、ポリマー物質の水性現像
剤溶解性を減少させる適当な化合物は電子プアーである
と考えられている。組成物内の成分の分解は要求されて
おらず、または今まで行ってきた試験例では実質的な分
解は全く起こっていないと考えられている。
本発明に適した活性ポリマーの官能基としては、ヒド
ロキシ、カルボン酸、アミノ、アミドおよびマレイイミ
ド官能基が例示できる。広範囲のポリマー材料が本発明
の使用に適しており、そのよなものとしてフェノール樹
脂;4−ヒドロキシスチレンと、例えば3−メチル−4−
ヒドロキシスチレンまたは4−メトキシスチレンとの共
重合体;(メタ)アクリル酸と、例えばスチレンとの共
重合体;マレイイミドと、例えばスチレンとの共重合
体;ヒドロキシまたはカルボキシ官能基化セルロース;
無水マレイン酸と、例えばスチレンとの共重合体;無水
マレイン酸の部分加水分解ポリマー等が例示できる。
最も好ましくは、活性ポリマーはフェノール樹脂であ
る。本発明において特に有用なフェノール樹脂は、フェ
ノール、C−アルキル置換フェノール(例えばクレゾー
ルおよびp−ter−ブチルフェノール等)、ジフェノー
ル(例えばビスフェノールA等)とアルデヒド(例えば
ホルムアルデヒド等)との縮合生成物である。縮合の調
製ルートにより、種々の構造および特性を有するフェノ
ール材料を形成できる。本発明において特に有用なもの
はノボラック樹脂、レゾール樹脂およびノボラック/レ
ゾール樹脂混合物である。適当なノボラック樹脂の例は
以下の一般構造式を有する。
適当なポリマー物質の水性溶解性を減少させる多くの
化合物は、可逆不溶化化合物として使用できる。
有用な可逆不溶化化合物は窒素含有化合物であり、少
なくとも1つの窒素原子がヘテロ環式環に含有されてお
り、4級化されていてもよく、またはヘテロ環式環に4
級化されて含有されているものである。
有用な4級化窒素含有化合物の例としては、クリスタ
ルバオレット(C.I.ベーシックバイオレット3(CI bas
ic violet3))およびエチルバイオレット(Ethyl Viol
et)等のトリアリールメタン染料およびセトルイミド
(Cetrimide)等のテトラアルキルアンモニウム化合物
である。
より好ましくは、可逆不溶化化合物は窒素含有ヘテロ
環式化合物である。
適当な窒素含有ヘテロ環式化合物の例はキノリン、お
よびトリアゾール、例えば1,2,4−トリアゾールであ
る。
最も好ましくは、可逆不溶化化合物は4級化されたヘ
テロ環式化合物である。
適当な4級化複素環式化合物の例は、モナゾリン(Mo
nazoline)C、モナゾリンO、モナゾリンOYおよびモナ
ゾリンT(それらすべてはモナ(Mona)社製)等のイミ
ダゾリン化合物、1−エチル−2−メチルキノリニウム
沃化物および1−エチル−4−メチルキノリニウム沃化
物等のキノリニウム化合物、3−エチル−2−メチルベ
ンゾチアゾリウム沃化物等のベンゾチアゾリウム化合
物、およびセチルピリジニウム臭化物、エチルバイオロ
ゲン(viologen)二臭化物、フルオロピリジニウムテト
ラフルオロボレート等のピリジニウム化合物である。
キノリニウムまたはベンゾチアゾリウム化合物は、染
料A、キノルジンブルー(Quinoldine Blue)、および
3−エチル−2−[3−(3−エチル−2(3H)−ベン
ゾチアゾリルイデン)−2−メチル−1−プロペニル]
ベンゾチアゾリウム沃化物等のカチオン性シアニン染料
が有用である。
染料A さらに有用な可逆不溶化化合物はカルボニル官能基含
有化合物である。
適当なカルボニル含有化合物の例は、α−ナフトフラ
ボン、β−ナフトフラボン、2,3−ジフェニル−1−イ
ンデンオン、フラボン、フラバノン、キサントン、ベン
ゾフェノン、N−(4−ブロモブチル)フタルイミドお
よびフェナントレンキノン等が挙げられる。
可逆不溶化化合物は下記一般式の化合物であってよ
い。
Q1−S(O)−Q2 上記式中、Q1は置換されていてもよいフェニルまたは
アルキル基、nは0、1または2を表し、Q2はハロゲン
原子またはアルコキシ基を表す。
好ましくはQ1はC1-4アルキル基、フェニル基、例えば
トリル基、またはC1-4アルキル基を表す。好ましくはn
は1、または特に2を表す。好ましくはQ2は塩素原子ま
たはC1-4アルコキシ基、特にエトキシ基を表す。
別の有用な可逆不溶化化合物はアクリジンオレンジベ
ース(acridine orangebase)(CIソルベントオレンジ1
5)である。
他の有用な可逆不溶化化合物はフェロセニウムヘキサ
フルオロフォスフェート等のフェロセニウム化合物であ
る。
本明細書で定義しているように可逆不溶化化合物と相
互作用する活性ポリマーに加えて、組成物はそのように
相互作用しないポリマー物質を含有していてもよい。こ
のようなポリマー物質のブレンドを有する組成物は、活
性ポリマーが、添加ポリマー物質よりも低量(重量)で
存在できるということに注意すべきである。ふさわしく
は活性ポリマーは、組成物中に存在するポリマー物質の
総重量にたいして、少なくとも10%、好ましくは少なく
とも25%、より好ましくは少なくとも50%の量で存在す
る。しかしながら、最も好ましくは、活性ポリマーはこ
のように相互作用しないポリマー物質を除外して存在す
ることである。
活性ポリマーおよび、存在させる時は、そのように相
互作用しない添加ポリマー物質を含め、組成物の主要な
割合は、ポリマー物質で構成されているの好ましい。組
成物の小さい方の割合は可逆不溶化化合物で構成されて
いることが好ましい。
本明細書で定義されているような主要な割合は、組成
物総重量の、少なくとも50%が適当であり、好ましくは
少なくとも65%、もっとも好ましくは少なくと80%であ
る。
本明細書で定義されているような少ない方の割合は、
組成物総重量の、50%までが適当であり、好ましくは20
%まで、もっとも好ましくは15%までである。
可逆不溶化化合物は、組成物総重量の、少なくとも1
%、好ましくは少なくとも2%、好ましくは25%まで、
より好ましくは15%までで構成されることが適当であ
る。
そのため、可逆不溶化化合物の好ましい重量範囲は組
成物総重量の2−15%として表してもよい。
該化合物と相互作用するポリマー物質は1種より多く
存在してもよい。係る物質の割合はそれらの総含量をい
うものでる。同様に、そのように相互作用しないポリマ
ー物質は1種より多く存在してもよい。係る物質の割合
はそれらの総含量をいうものである。同様に可逆可溶化
化合物は1種より多く存在してもよい。係る物質の割合
はそれらの総含量をいうものである。
水性現像剤組成物はポリマー物質の性質に依存する。
水性リソグラフィック現像剤の共通の成分は界面活性
剤、エチレンジアミン四酢酸の塩等のキレート化剤、ベ
ンジルアルコール等の有機溶媒、無機メタシリケート等
のアルカリ性成分、有機メタシリケート、水酸化物また
は重炭酸塩である。
好ましくは、ポリマー物質がフェノール樹脂の場合、
水性現像剤は、無機または有機メタシリケートを含有す
るアルカリ性現像剤である。
6つの簡単なテスト、テスト1ないし6を実施し、活
性ポリマーおよび可逆不溶化化合物を含有する組成物お
よび適当な水性現像剤が本発明の使用に適しているかど
うかを決定する。
テスト1.可逆不溶化化合物の存在しない活性ポリマーを
含有する組成物を親水性支持体上にコートし乾燥する。
次に、その表面をインクで塗り上げる。均一なインクを
塗られたコーティングが得られ、層として置かれるとそ
の組成物は親油性である。
テスト2.可逆不溶化化合物の存在しない活性ポリマーを
含有する組成物でコートされた親水性支持体を、適当な
水性現像剤中で、トライアンドエラーで決定されるが代
表的には30ないし60秒の間の適当な時間、室温で、適当
な水性現像剤中で加工し、次にリンスし乾燥しインクで
塗り上げる。もしインク表面が全く得られないと、その
組成物は現像剤に溶解している。
テスト3.活性ポリマーおよび可逆不溶化化合物を含有す
る組成物を親水性支持体上にコートし、乾燥しインクで
塗り上げる。均一なインクを塗られたコーティングが得
られ、層として置かれるとその組成物は親油性である。
テスト4.活性ポリマーおよび可逆不溶化化合物を含有す
る組成物でコートされた親水性支持体を、適当な水性現
像剤中で、トライアンドエラーで決定されるが代表的に
は30ないし60秒の間の適当な時間、室温で、適当な水性
現像剤中で加工し、次にリンスし乾燥しインクで塗り上
げる。
もし、均一にインキで塗られたコーティングが得られ
ると、その組成物は現像溶液に実質的に溶解しない。
テスト5.活性ポリマーおよび可逆不溶化化合物を含有す
る組成物をコートされた親水性支持体を、その組成物が
適当な時間で適当な温度に到達するようにオーブン中で
加熱する。次に、それを室温でほどよい時間、適当な水
性現像剤中で加工する。
次に、表面を乾燥し、インクで塗り上げる。インク表
面が全く得られないと、加熱された組成物は現像剤に溶
解している。
温度と時間はその組成物のために選択された成分およ
びそれらの比率に依存する。単純にトライアンドエラー
の実験を行い、適当な条件を決定してもよい。このよう
な実験がそのテストをパスさせるような条件を生じない
場合、結論は、組成物は本テストをパスしないというこ
とになるに違いない。
好ましくは、代表的な組成物に対しては、活性ポリマ
ーおよび可逆不溶化化合物を含有する組成物を、組成物
の温度が5ないし20秒で50ないし160℃の温度に達する
ようにオーブン中で加熱する。次に、それを適当な水性
現像剤中で、トライアンドエラーで決定されるが代表的
には30ないし120秒の間の適当な時間、室温で、適当な
水性現像剤中で加工する。
最も好ましくは、活性ポリマーおよび可逆不溶化化合
物を含有する組成物を、組成物の温度が10ないし15秒で
50ないし120℃の温度に達するようにオーブン中で加熱
する。次に、それを適当な水性現像剤中で、30ないし90
秒の間、室温で、適当な水性現像剤中で加工する。
テスト6.活性ポリマーおよび可逆不溶化化合物を含有す
る組成物でコートされた親水性支持体を、トライアンド
エラーで決定されるが代表的には30秒の間の適当な時
間、U.V.光に露光する。次にそれを適当な水性現像剤中
で、トライアンドエラーで決定されるが代表的には30な
いし60秒の間の適当な時間、室温で、適当な水性現像剤
中で加工される。次に、表面を乾燥しインクで塗り上げ
る。もし、コーティングがインクで塗り上げられると、
組成物のUV照射誘導可溶化は全く起こっておらず、それ
ゆえ、その組成物は普通の作業照明条件下に対しては適
当に耐性が有る。
もし、組成物がすべての6つのテストをパスすること
ができれば、本発明の使用に適している。
非常に多くの化合物、またはそれらの組み合わせは、
本発明の好ましい実施態様において、電磁線吸収化合物
として利用できる。
好ましい態様においては、電磁線吸収化合物は赤外線
を吸収する。しかしながら、他の波長の電磁線(UV波長
を除く)、例えばArイオンレーザー源からの488nm電磁
線を吸収する他の物質は、その電磁線を熱に変換するの
に使用できる。
電磁線吸収化合物は通常はカーボンブラックまたはグ
ラファイト等のカーボンである。例えば、バスフ(BAS
F)社供給のヘリオゲングリーン(Heliogen Green)ま
たはエヌエッチラボラトリ社(NH Laboratories Inc.)
供給のニグロシンベースNG1またはアルドリッチ社(Ald
rich)供給のミロリブルー(Milori Blue)(C.I.ピグ
メントブルー)等の市場で入手できる顔料を使用するこ
とができる。
発明の好ましい方法においては、コートされたプレー
トをレーザーにより直接イメージ露光する。最も好まし
くはレーザーは600nmより長波長の電磁線を放ち、電磁
線吸収化合物は普通、赤外線吸収染料である。
好ましくは赤外線吸収化合物は、その吸収スペクトル
が本発明の方法で使用されるレーザーの波長出力のとこ
ろで重要であるものである。普通、それはフタロシアニ
ン顔料等の有機顔料または染料であってよい。また、そ
れはスクワリリウム、メロシアニン、シアニン、インド
リジン、ピリリウム、または金属ジチオリン等の染料ま
たは顔料であってもよい。
このような化合物例としては: および染料B および染料C、KF654B PINA(ピナ)、それはリーデル
デ ハエン ユーケー(Riedel de Haen UK)社(英
国、ミドルセックス)より供給され、下記構造式を有す
ると信じられている: 電磁線吸収化合物は、組成物総量の、少なくとも1
%、好ましくは少なくとも2%、好ましくは25%まで、
より好ましくは15%までからなることが適当である。磁
線吸収化合物の好ましい重量範囲は組成物総重量の2−
15%と表してもよい。同様に、電磁線吸収化合物は1種
より多く存在してもよい。その場合、係る化合物の総含
量が、そのような化合物の割合となる。
好ましい具体例の一つにおいては、電磁線吸収化合物
を含有する追加の層を使用できる。この多層構造は、イ
メージ形成層の機能に影響することなくより多量の吸収
剤を使用できるので、高感度への路を提供することがで
きる。原則として、希望の波長域において充分強力に吸
収する電磁線吸収材料でればどんなものでも均一コーテ
ィングに含有または組み込むことができる。染料、金属
および顔料(金属酸化物を含む)を、蒸着層の形態で使
用することができ、そのようなフィルムの形成および使
用の技術は当該技術分野、例えばEP0652483においてよ
く知られている。本発明において好ましい成分は、均一
コーティングとして親水性であるもの、または、処理し
て、例えば親水性の層を使用して、親水性の表面を提供
できるものである。
本発明の具体例の一つに適当であり、ポリマー物質の
水性現像剤溶解性を減少させ、電磁線吸収化合物ともな
りうる化合物は、600nmより長波長で吸収するもので、
好ましくはシアニン染料、および最も好ましくはキノリ
ニウムシアニン染料である。
かかる化合物例としては: 2−[3−クロロ−5−(1−エチル−2(1H)−キ
ノリニリデン)−1,3−ペンタジエニル]−1−エチル
キノリニウム臭化物 1−エチル−2−[5−(1−エチル−2(1H)−キ
ノリニリデン)−1,3−ペンタジエニル]キノリニウム
沃化物 4−[3−クロロ−5−(1−エチル−4(1H)−キ
ノリニリデン)−1,3−ペンタジエニル]−1−エチル
キノリニウム臭化物 染料D;1−エチル−4−[5−(1−エチル−4(1
H)−キノリニリデン)−1,3−ペンタジエニル]キノリ
ニウム沃化物 電磁線吸収化合物ともなる可逆不溶化化合物は、組成
物総量の、少なくとも1%、好ましくは少なくとも2
%、好ましくは25%まで、より好ましくは15%までから
なることが適当である。可逆不溶化化合物の好ましい重
量範囲は組成物総重量の2−15%と表してもよい。
支持体として使用できるベースは好ましくは、電磁線
感応組成物をコートできるものとして、またプリンティ
ングの背景として機能する支持材表面として、リソグラ
フィックの技術分野においてよく知られている通常の陽
極酸化、研削仕上げおよび後陽極酸化処理がなされてい
るアルミニウムプレートである。
本発明の方法に使用できる別のベース材料はプラスチ
ック材料ベースまたは写真産業で使用されているような
加工紙ベースである。特に有用なプラスチック材料ベー
スは下塗りされその表面が親水性にされているポリエチ
レンテレフタレートである。また、コロナ放電処理され
ている、いわゆる樹脂コートされた紙も使用できる。
本発明の方法に使用できるレーザーの例は、600nmと1
100nmとの間で発する半導体ダイオードレーザーを含
む。係るものとして1064nmを発するNdYAGレーザーが挙
げられるが、(その電磁線が組成物に吸収される)充分
なイメージングパワーがあればいかなるレーザーでも使
用できる。
本発明の組成物は、リソグラフィックプレート組成物
の多くに存在するように、安定添加剤、不活性着色剤、
別の不活性ポリマーバインダー等の他の成分を含有して
いてもよい。
好ましくは本発明の感熱性組成物はUV感応化合物を含
有しない。しかしながら、他の成分の存在によりUV活性
化されないUV感応成分、例えば不活性UV吸収染料または
UV吸収最表面層が存在してもよい。
ここに記載されている本発明および具体例のいずれの
面のいずれの特徴もここに記載されているいかなる発明
または具体例の他のいかなる面のいかなる特徴と組み合
わせてもよい。
以下の実施例は、上記した本発明の種々の面を示すも
のとしてさらに役に立つ。
以下の製品は、次のものをいう: 樹脂A:LB6564−ベークライト(Bakelite)により販売
されているフェノール/クレゾールノボラック樹脂、 樹脂B:R17620−ビーピーケミカルズ社(B.P.Cemicals
Ltd.)により販売されているフェノール/ホルムアル
デヒドレゾール樹脂、 樹脂C:SMD995−英国、ウォルヴァハンプトンにあるシ
ュネクタデーミッドランド社(Schnectady Midland Lt
d.)社により販売されているアルキルフェノール/ホル
ムアルデヒドレゾール樹脂、 樹脂D:マルカ リンカー(Maruka Lyncur)M(S−
2)−日本、東京にある丸善石油化学社(Maruzen Petr
ochemical Co.Ltd)により販売されているポリ(ヒドロ
キシスチレン)樹脂、 樹脂E:ロナコート(Ronacoat)300−スイス、プラッ
テルン(Pratteln)にあるローナー(Rohner)社により
販売されているジメチルマレイイミドベースのポリマ
ー、 樹脂F:ガントレツ エーエヌ(Gantrez An)119−英
国、ギルドフォードにあるガフ ケミカルズ(Gaf Chem
icals)社により販売されているメチルビニルエーテル
−無水マレイン酸共重合体、 樹脂G:SMA2625P−英国、ニューベリーにあるエルフ
アトケム ユーケー(Elf Atochem UK)社より販売され
ているスチレン無水マレイン酸ハーフエステル、 樹脂H:セルロース アセテート プロピオネート(分
子量:75000、アセテート2.5%およびプロピオネート45
%ないし49%を含有)、アメリカ合衆国、ロチェスター
にあるイーストマン ファイン ケミカルズ社により販
売。
露光テスト方法 イメージ形成されるコートされた支持体を105mmの直
径の円にカットし、100ないし2500rpmの一定速度で回転
できるディスクの上に載置した。回転ディスクに隣接し
て、変換テーブルにレーザービーム源を保持させ、レー
ザービームをコートされた支持体に普通に当て、一方、
変換テーブルを回転ディスクに関して直線に放射状に動
かした。
使用したレーザーは10ミクロン解像に焦点を合わせた
シングルモード830nm波長200mWレーザーダイオードであ
った。
露光イメージは螺旋状であり、螺旋の中心における像
は、スローなレーザースキャニング速度と長い露光時間
を表しており、螺旋の外側エッジは速いスキャニング速
度と短い露光時間を表していた。イメージングエネルギ
ーはイメージが形成された直径の測定から引き出した。
本露光システムにより出されうる最小のエネルギー
は、2500rpmで150mJ/cm2である。
比較例C1ないしC5および実施例1ないし9 全実施例のコーティング配合物は1−メトキシプロパ
ン−2−オール溶液として調製された。ただし、実施例
4,5および8は1−メトキシプロパン−2−オール/DMF
40:60(v:v)溶液として調製し、実施例7は1−メトキ
シプロパン−2−オール/DMF35:65(v:v)溶液として調
製した。使用した支持体は電気研磨(electrograin)、
陽極酸化および無機フォスフェート水溶液で後処理した
アルミニウムの0.3mmシートであった。
コーティング溶液を軸巻きバーの手段で支持体上にコ
ートした。溶液濃度は、3分間オーブン中100℃で乾燥
後、1.3g/m2のコーティング重量を有する所定の乾燥フ
ィルム組成物となるように選択した。
ベンゾチアゾリウムAは、3−エチル−2−[3−エ
チル−2(3H)−ベンゾチアゾリリデン]−2−メチル
−1−プロペニル]ベンゾチアゾリウム臭化物である。
ベンゾチアゾリウムBは3−エチル−2−メチルベン
ゾチアゾリウム沃化物である。
プレートは下記の適当な水性現像溶液を使用して、30
秒水性現像溶液に浸漬させることにより現像性のテスト
を行った。
現像剤A:14%ナトリウムメタシリメート5水和物水溶
液。
現像剤B:7%ナトリウムメタシリケート5水和物水溶
液。
下記表は組成物の簡単な現像性テストの結果の一覧表
である。
比較例に記載の組成物は現像剤の攻撃に耐性を示して
いない。実施例1ないし9に記載の組成物は、本発明に
記載されている化合物の使用を通じてポリマー現像剤溶
解性を減少する効果を示している。
前記した830nmレーザーデバイスを使用して、さらに
プレートサンプルをイメージ形成した。露光されたディ
スクは、上記した適当な水性現像剤溶液を使用して30秒
間水性現像剤溶液中に浸漬して、加工した。そしてプレ
ート感度を決定した。
結果を下記表にまとめてある。
また、実施例1に従い製造されたプリンティングプレ
ートを、市場で入手できるイメージセッタ(トレンドセ
ッタ(Trendsetter)、カナダ、バンクーバーにあるク
レオ プロダクツ(Creo Products)供給)上でイメー
ジ形成した。プレートはリソグラフィックプリンティン
グプレスで少なくとも10000枚の良好なプリントを印刷
した。
実施例10 1−メトキシプロパン−2−オール8.15g、樹脂Aの4
0%w/w1−メトキシプロパン−2−オール溶液2.40g、染
料A0.12gおよびカーボンブラック50%(w/w)分散水溶
液0.24gを含有する溶液を調製し、実施例1−9に記載
したようにコートした。
得られたプレートを、前記したイメージングデバイス
を使用して830nmの波長の200mWレーザーダイオードを使
用してイメージ形成した。次にプレートを30秒間現像剤
Bで現像した。適当なイメージを与えるのに要求される
イメージングエネルギー密度は≦150mJ/cm2であった。
また、実施例10に従い製造されたプリンティングプレ
ートを、市場で入手できるイメージセッタ(トレンドセ
ッタ(Trendsetter)、カナダ、バンクーバーにあるク
レオ プロダクツ(Creo Products)供給)上でイメー
ジ形成した。プレートはリソグラフィックプリンティン
グプレスで少なくとも10000枚の良好なプリントを印刷
した。
実施例11 下記表に記載されている組成物を有するプレート前駆
物質を実施例4に記載されているように調製した。
得られたプレートを、前記したイメージングデバイス
を使用して830nmの波長の200mWレーザーダイオードを使
用してイメージ形成した。次にプレートを30秒間現像剤
Bで現像した。適当なイメージを与えるのに要求される
イメージングエネルギー密度は≦150mJ/cm2であった。
また、実施例11に従い製造されたプリンティングプレ
ートを、市場で入手できるイメージセッタ(トレンドセ
ッタ(Trendsetter)、カナダ、バンクーバーにあるク
レオ プロダクツ(Creo Products)供給)上でイメー
ジ形成した。プレートはリソグラフィックプリンティン
グプレスで少なくとも10000枚の良好なプリントを印刷
した。
実施例12−18 コーティング配合物は1−メトキシプロパン−2−オ
ール溶液として前記したように調製された。ただし、実
施例16は1−メトキシプロパン−2−オール/DMF 80/20
(v:v)溶液として調製した。
配合物を実施例1−9に記載したようにコートし、次
の表に記載したような乾燥フィルム組成物を提供した。
次にプレートサンプルを前記したように830nmレーザ
ーデバイスを使用してイメージ形成した。露光されたデ
ィスクを適当な時間、上記したように、そして下記する
ように、適当な水性現像剤に浸漬し加工した。次に、プ
レート感度を決定した。結果を以下の表にまとめた。
現像剤C:15%β−ナフチルエトキシレート、5%ベン
ジルアルコール、2%ニトリロ−三酢酸三ナトリウム
塩、78%水 現像剤D:3%β−ナフチルエトキシレート、1%ベン
ジルアルコール、2%ニトリロ−三酢酸三ナトリウム
塩、94%水 現像剤E:1.5%β−ナフチルエトキシレート、0.5%ベ
ンジルアルコール、1%ニトリロ−三酢酸三ナトリウム
塩、97%水 実施例19−30 コーティング配合物は1−メトキシプロパン−2−オ
ール溶液として前記したように調製された。ただし、実
施例26は1−メトキシプロパン−2−オール/DMF50:50
(v:v)溶液として調製した。
配合物を実施例1−9に記載したようにコートし、次
の表に記載したような乾燥フィルム組成物を提供した。
次にプレートサンプルを前記したように830nmレーザ
ーデバイスを使用してイメージ形成した。露光されたデ
ィスクを適当な時間、適当な水性現像剤に浸漬し加工し
た。次に、プレート感度を決定した。結果を以下の表に
まとめた。
実施例30 コーティング配合物は1−メトキシプロパン−2−オ
ール溶液として前記したように調製された。配合物を実
施例1−9に記載したようにコートし、次の表に記載し
たような乾燥フィルム組成物を提供した。
プレートサンプルに、311℃でウエラー ソルダーリ
ング アイロン イーシ(Weller Soldering Iron EC)
2100Mから出された熱をかけた。プレート表面上のその
ソルダーリング アイロンの動作速度を下記の表に記述
している。露光されたプレートサンプルを60秒間現像剤
Aに浸漬して加工した。結果を下記表にまとめている。
本明細書においては、色々な箇所でUV光に言及してい
る。当業者であればUV光の代表的波長域を承知してい
る。しかし、疑義を避けるために、UVは代表的には190n
m−400nmの波長範囲を有している。
本明細書(添付している請求の範囲、要約および図面
を含め)に記載されているすべての特徴、および/また
は記載されている方法またはプロセスの総てのステップ
は、少なくともいくつかのそのような特徴および/また
はステップが相互に排他的である組み合わせを除いて、
いかなる組み合わせにおいて組み合わせてもよい。
本明細書(添付している請求の範囲、要約および図面
を含め)に記載されている各特徴は、そうでないと明言
されていなければ、同じ、等価または類似の目的に利用
できる他の特徴で置換してもよい。
本発明は前述の具体例に限定されるものではない。本
発明は、本明細書(添付している請求の範囲、要約およ
び図面を含め)に記載されている特徴のいかなる新規な
もの、あるいはいかなる新規な組み合わせ、または記載
されている方法またはプロセスのステップのいかなるも
のあるいはいかなる新規な組み合わせにも及ぶものであ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI C08L 101/00 C08L 101/00 G03F 7/039 501 G03F 7/039 501 (31)優先権主張番号 PCT/GB96/01973 (32)優先日 平成8年8月13日(1996.8.13) (33)優先権主張国 世界知的所有権機関(WO) (31)優先権主張番号 9700884.1 (32)優先日 平成9年1月17日(1997.1.17) (33)優先権主張国 イギリス(GB) (72)発明者 ライリー,デイビッド・スティーブン イギリス、エルエス27・7ジェイジー、 リーズ、モーリー、ギルダーサム、リー ズデイル・ドライブ8、リードデイル8 番 (72)発明者 ホアー,リチャード・デイビッド イギリス、ダブリューエフ17・9ピーエ ックス、ウエスト・ヨークシャー、バッ トリー、バーストール、ゲルダード・ロ ード52番 (72)発明者 モンク,アラン・スタンリー・ビクター イギリス、ダブリューエイ5・3イーエ イ、チェシャー、ウォーリントン、グレ ート・サンキー、パーク・ロード73番 (56)参考文献 特開 昭58−148792(JP,A) 特開 昭61−36750(JP,A) 特開 平7−20629(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G03F 7/004 B41C 1/10 B41N 1/14 C08K 5/07 C08K 5/16 C08L 101/00 G03F 7/039

Claims (43)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】水性現像剤可溶性ポリマー物質および可逆
    不溶化化合物を含有する親油性、感熱性組成物であっ
    て、該組成物の水性現像剤溶解性が加熱により増加し、
    該組成物の水性現像剤溶解性が通常の作業照明条件下で
    放射される190〜400nmの入射UV電磁線で増加しないこと
    を特徴とする組成物。
  2. 【請求項2】水性現像剤可溶性ポリマー物質が官能基、
    またはヒドロキシ、カルボン酸、アミノ、アミドおよび
    マレイイミドから選択される基を含有する請求項1記載
    の組成物。
  3. 【請求項3】水性現像剤可溶性ポリマー物質がヒドロキ
    シスチレンのポリマーまたはコポリマー、アクリル酸の
    ポリマーまたはコポリマー、メタクリル酸のポリマーま
    たはコポリマー、マレイイミドのポリマーまたはコポリ
    マー、無水マレイン酸のポリマーまたはコポリマー、ヒ
    ドロキシセルロース、カルボキシセルロースおよびフェ
    ノール樹脂から選択される請求項1記載の組成物。
  4. 【請求項4】水性現像剤可溶性ポリマー物質がフェノー
    ル樹脂である請求項1記載の組成物。
  5. 【請求項5】水性現像剤溶液が水性アルカリ溶液である
    請求項4記載の組成物。
  6. 【請求項6】可逆不溶化化合物が4級化されている少な
    くとも1つの窒素原子を含有する化合物である請求項1
    記載の組成物。
  7. 【請求項7】可逆不溶化化合物がヘテロ環式環に含まれ
    ている少なくとも1つの窒素原子を含有する化合物であ
    る請求項1記載の組成物。
  8. 【請求項8】可逆不溶化化合物がキノリンおよびトリア
    ゾールから選択される請求項7記載の組成物。
  9. 【請求項9】可逆不溶化化合物がヘテロ環式環に含まれ
    ている少なくとも1つの4級化されている窒素原子を含
    有する化合物である請求項1記載の組成物。
  10. 【請求項10】可逆不溶化化合物がイミダゾリン化合
    物、キノリニウム化合物、ベンゾチアゾリウム化合物お
    よびピリジニウム化合物から選択される請求項9記載の
    組成物。
  11. 【請求項11】キノリニウム化合物がシアニン染料であ
    る請求項10記載の組成物。
  12. 【請求項12】ベンゾチアゾリウム化合物がシアニン染
    料である請求項10記載の組成物。
  13. 【請求項13】可逆不溶化化合物がトリアリールメタン
    である請求項1記載の組成物。
  14. 【請求項14】可逆不溶化化合物がカルボニル官能基を
    含有する化合物である請求項1記載の組成物。
  15. 【請求項15】可逆不溶化化合物がフラボン化合物から
    選択される請求項14記載の組成物。
  16. 【請求項16】可逆不溶化化合物がフラバノン、キサン
    トン、ベンゾフェノン、N−(4−ブロモブチル)フタ
    ルイミド、2,3−ジフェニル−1−インデンオンおよび
    フェナントレンキノンから選択される請求項1記載の組
    成物。
  17. 【請求項17】可逆不溶化化合物が、 一般式: Q1−S(O)−Q2 (式中、Q1は置換されていてもよいフェニルまたはアル
    キル基、nは0、1又は2を表し、Q2はハロゲン原子ま
    たはアルコキシ基を表す)の化合物である請求項1記載
    の組成物。
  18. 【請求項18】可逆不溶化化合物が、エチル−p−トル
    エンスルホネートおよびp−トルエンスルホニルクロラ
    イドから選択される請求項1記載の組成物。
  19. 【請求項19】可逆不溶化化合物が、アクリジンオレン
    ジベース(CIソルベントオレンジ15)である請求項1記
    載の組成物。
  20. 【請求項20】可逆不溶化化合物が、フェロセニウムで
    ある請求項1記載の組成物。
  21. 【請求項21】親水性表面を有する支持体上にコートさ
    れた請求項1ないし20のいずれかに記載の組成物を含有
    するコーティングを有するポジティブワーキングリソグ
    ラフィックプリンティングフォーム前駆物質。
  22. 【請求項22】該コーティングは、電磁線を優先的に吸
    収し、該電磁線を熱に変換するように適当に配合されて
    いる請求項21記載のリソグラフィックプリンティングフ
    ォーム前駆物質。
  23. 【請求項23】該組成物が入射電磁線を吸収しそれを熱
    に変換することのできる電磁線吸収化合物を含有する請
    求項22記載のリソグラフィックプリンティングフォーム
    前駆物質。
  24. 【請求項24】該コーティングが請求項1の組成物の下
    に配置されている付加層を有しており、該付加層が入射
    電磁線を吸収しそれを熱に変換することのできる電磁線
    吸収化合物を含有している請求項22記載のリソグラフィ
    ックプリンティングフォーム前駆物質。
  25. 【請求項25】請求項1記載の組成物の可逆不溶化化合
    物が、入射電磁線を吸収しそれを熱に変換することので
    きる電磁線吸収化合物でもある請求項22記載のリソグラ
    フィックプリンティングフォーム前駆物質。
  26. 【請求項26】電磁線吸収化合物がカーボンブラックで
    ある請求項23または請求項24記載のリソグラフィックプ
    リンティングフォーム前駆物質。
  27. 【請求項27】電磁線吸収化合物が顔料である請求項23
    または請求項24記載のリソグラフィックプリンティング
    フォーム前駆物質。
  28. 【請求項28】顔料が有機顔料である請求項27記載のリ
    ソグラフィックプリンティングフォーム前駆物質。
  29. 【請求項29】顔料がフタロシアニン顔料である請求項
    28記載のリソグラフィックプリンティングフォーム前駆
    物質。
  30. 【請求項30】顔料が無機顔料である請求項27記載のリ
    ソグラフィックプリンティングフォーム前駆物質。
  31. 【請求項31】顔料がプルシアンブルー(Prussian Blu
    e)、ヘリオゲングリーン(Heliogen Green)またはニ
    グロシン(Nigrosne)から選択される請求項27記載のリ
    ソグラフィックプリンティングフォーム前駆物質。
  32. 【請求項32】電磁線吸収化合物がスクワリリウム、メ
    ロシアニン、シアニン、インドリジン、ピリリウム、ま
    たは金属ジチオリンから選択される請求項23または請求
    項24記載のリソグラフィックプリンティングフォーム前
    駆物質。
  33. 【請求項33】該別に設けられた電磁線吸収層が染料ま
    たは顔料の薄層である請求項24記載のリソグラフィック
    プリンティングフォーム前駆物質。
  34. 【請求項34】該別に設けられた電磁線吸収層が金属ま
    たは金属酸化物の薄層である請求項24記載のリソグラフ
    ィックプリンティングフォーム前駆物質。
  35. 【請求項35】可逆不溶化化合物が、電磁線吸収化合物
    でもある、キノリニウム成分を含有するシアニンである
    請求項25記載のリソグラフィックプリンティングフォー
    ム前駆物質。
  36. 【請求項36】電磁線吸収化合物が600nmより長波長で
    吸収する請求項27、32又は35に記載のリソグラフィック
    プリンティングフォーム前駆物質。
  37. 【請求項37】該コーティングが水性アルカリ現像剤に
    実質的に不溶であり、該組成物の水性アルカリ現像剤溶
    解性が加熱によって増大し、該組成物の水性アルカリ現
    像剤溶解性が通常の作業照明条件下で放射される190〜4
    00nmの入射UV電磁線で増加しない請求項21ないし36のい
    ずれかに記載のリソグラフィックプリンティングフォー
    ム前駆物質。
  38. 【請求項38】請求項21ないし請求項37のいずれかに記
    載の前駆物質に直接イメージ照射することからなるリソ
    グラフィックプリンティングフォームの製造方法。
  39. 【請求項39】電磁線がレーザーから発せされている請
    求項38記載の方法。
  40. 【請求項40】レーザーが600nmより長波長の電磁線を
    放つ請求項39記載の方法。
  41. 【請求項41】熱が加熱体から出される請求項38記載の
    方法。
  42. 【請求項42】水性アルカリ現像剤を用いる請求項38な
    いし41のいずれかに記載の方法。
  43. 【請求項43】請求項21ないし37のいずれかに記載のプ
    リンティングフォーム前駆物質に請求項38ないし42のい
    ずれかに記載の方法を適用して製造されたイメージ形成
    されたプリンティングフォーム。
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Families Citing this family (227)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB9516723D0 (en) 1995-08-15 1995-10-18 Horsell Plc Water-less lithographic plates
JP3814961B2 (ja) * 1996-08-06 2006-08-30 三菱化学株式会社 ポジ型感光性印刷版
US5858626A (en) 1996-09-30 1999-01-12 Kodak Polychrome Graphics Method of forming a positive image through infrared exposure utilizing diazonaphthoquinone imaging composition
GB9622657D0 (en) 1996-10-31 1997-01-08 Horsell Graphic Ind Ltd Direct positive lithographic plate
US6060222A (en) * 1996-11-19 2000-05-09 Kodak Polcyhrome Graphics Llc 1Postitve-working imaging composition and element and method of forming positive image with a laser
DE69833046T2 (de) 1997-03-11 2006-08-03 Agfa-Gevaert Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte
US6090532A (en) * 1997-03-21 2000-07-18 Kodak Polychrome Graphics Llc Positive-working infrared radiation sensitive composition and printing plate and imaging method
US6083662A (en) * 1997-05-30 2000-07-04 Kodak Polychrome Graphics Llc Methods of imaging and printing with a positive-working infrared radiation sensitive printing plate
EP0996869A1 (en) * 1997-07-05 2000-05-03 Kodak Polychrome Graphics LLC Pattern-forming methods and radiation sensitive materials
GB9714526D0 (en) * 1997-07-11 1997-09-17 Horsell Graphic Ind Ltd Pattern Formation
EP0897134B1 (en) * 1997-08-13 2004-12-01 Mitsubishi Chemical Corporation Positive photosensitive composition, photosensitive lithographic printing plate and method for forming a positive image
JP2003533707A (ja) 1997-08-14 2003-11-11 コダック ポリクロム グラフィックス カンパニーリミテッド マスク及び電子パーツの製造方法
GB9722861D0 (en) * 1997-10-29 1997-12-24 Horsell Graphic Ind Ltd Improvements in relation to the manufacture of lithographic printing forms
US6060217A (en) * 1997-09-02 2000-05-09 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermal lithographic printing plates
EP0901902A3 (en) 1997-09-12 1999-03-24 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positive photosensitive composition for use with an infrared laser
EP0908306B3 (en) 1997-10-08 2009-08-05 Agfa-Gevaert A method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive imaging element
EP0908305B2 (en) 1997-10-08 2006-07-19 Agfa-Gevaert A method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive imaging element
DE69829590T2 (de) 1997-10-17 2006-02-09 Fuji Photo Film Co., Ltd., Minami-Ashigara Positiv arbeitendes photoempfindliches Aufzeichnungsmaterial für Infrarotlaser und positiv arbeitende Zusammensetzung für Infrarotlaser
DE69810242T2 (de) * 1997-10-28 2003-10-30 Mitsubishi Chemical Corp., Tokio/Tokyo Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch, positiv arbeitende lichtempfindliche Flachdruckplatte und Verfahren zur Bebilderung der Druckplatte
GB9722862D0 (en) * 1997-10-29 1997-12-24 Horsell Graphic Ind Ltd Pattern formation
EP0914942B1 (en) * 1997-11-07 2005-05-25 Toray Industries, Inc. Directly imageable waterless planographic printing plate precursor and a method of producing planographic printing plates
JP3810538B2 (ja) 1997-11-28 2006-08-16 富士写真フイルム株式会社 ポジ型画像形成材料
US6399279B1 (en) 1998-01-16 2002-06-04 Mitsubishi Chemical Corporation Method for forming a positive image
US5922512A (en) * 1998-01-29 1999-07-13 Kodak Polychrome Graphics Llc Processless direct write printing plate having heat sensitive polymer and methods of imaging and printing
EP0934822B1 (en) 1998-02-04 2005-05-04 Mitsubishi Chemical Corporation Positive photosensitive composition, positive photosensitive lithographic printing plate and method for forming a positive image
US6143471A (en) * 1998-03-10 2000-11-07 Mitsubishi Paper Mills Limited Positive type photosensitive composition
GB2335283B (en) 1998-03-13 2002-05-08 Horsell Graphic Ind Ltd Improvements in relation to pattern-forming methods
GB2335282B (en) 1998-03-13 2002-05-08 Horsell Graphic Ind Ltd Improvements in relation to pattern-forming methods
US6444393B2 (en) * 1998-03-26 2002-09-03 Fuji Photo Film Co., Ltd. Anionic infrared-ray absorbing agent, photosensitive composition and planographic printing plate precursor using same
US6447977B2 (en) * 1998-04-15 2002-09-10 Agfa-Gevaert Heat mode sensitive imaging element for making positive working printing plates
IT1299220B1 (it) 1998-05-12 2000-02-29 Lastra Spa Composizione sensibile sia a radiazioni ir che a radiazioni uv e lastra litografica
GB9811813D0 (en) * 1998-06-03 1998-07-29 Horsell Graphic Ind Ltd Polymeric compounds
US6358669B1 (en) 1998-06-23 2002-03-19 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermal digital lithographic printing plate
US6352811B1 (en) 1998-06-23 2002-03-05 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermal digital lithographic printing plate
US6534238B1 (en) * 1998-06-23 2003-03-18 Kodak Polychrome Graphics, Llc Thermal digital lithographic printing plate
DE19834745A1 (de) 1998-08-01 2000-02-03 Agfa Gevaert Ag Strahlungsempfindliches Gemisch mit IR-absorbierenden, anionischen Cyaninfarbstoffen und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
DE19834746A1 (de) 1998-08-01 2000-02-03 Agfa Gevaert Ag Strahlungsempfindliches Gemisch mit IR-absorbierenden, betainischen oder betainisch-anionischen Cyaninfarbstoffen und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
US6190831B1 (en) * 1998-09-29 2001-02-20 Kodak Polychrome Graphics Llc Processless direct write printing plate having heat sensitive positively-charged polymers and methods of imaging and printing
JP3635203B2 (ja) * 1998-10-06 2005-04-06 富士写真フイルム株式会社 平版印刷版用原版
GB2342459B (en) * 1998-10-07 2003-01-15 Horsell Graphic Ind Ltd Improvements in relation to electronic parts
GB2342460A (en) * 1998-10-07 2000-04-12 Horsell Graphic Ind Ltd Method of making an electronic part
BR9915407A (pt) 1998-11-16 2001-07-24 Mitsubishi Chem Corp Placa de impressão litográfica fotossensìvel positiva sensìvel a raios infravermelhos proximos; método de produzila e método para formar uma imagem positiva
US6344306B1 (en) 1999-03-16 2002-02-05 Toray Industries, Inc. Directly imageable waterless planographic printing plate precursor, and directly imageable waterless planographic printing plate
US6124425A (en) * 1999-03-18 2000-09-26 American Dye Source, Inc. Thermally reactive near infrared absorption polymer coatings, method of preparing and methods of use
JP2000275828A (ja) * 1999-03-25 2000-10-06 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版
DE60037951T2 (de) 1999-05-21 2009-02-05 Fujifilm Corp. Fotoempfindliche Zusammensetzung und Flachdruckplatte, die diese Zusammensetzung verwendet
EP1072405B1 (en) * 1999-07-30 2003-06-04 Lastra S.P.A. Composition sensitive to IR radiation and to heat and lithographic plate coated therewith
ES2199119T3 (es) 1999-07-30 2004-02-16 Lastra S.P.A. Composicion sensible a la radicacion ir y al calor y placa litografica recubierta con dicha composicion.
US6255033B1 (en) 1999-07-30 2001-07-03 Creo, Ltd. Positive acting photoresist compositions and imageable element
EP1072404B1 (en) * 1999-07-30 2003-05-21 Lastra S.P.A. Composition sensitive to IR radiation and to heat and lithographic plate coated with this composition
CA2314520A1 (en) 1999-07-30 2001-01-30 Domenico Tiefenthaler Composition sensitive to ir radiation and to heat and lithographic plate coated therewith
US6706466B1 (en) 1999-08-03 2004-03-16 Kodak Polychrome Graphics Llc Articles having imagable coatings
US6251559B1 (en) 1999-08-03 2001-06-26 Kodak Polychrome Graphics Llc Heat treatment method for obtaining imagable coatings and imagable coatings
US6461794B1 (en) 1999-08-11 2002-10-08 Kodak Polychrome Graphics Llc Lithographic printing forms
US6550989B1 (en) 1999-10-15 2003-04-22 Kodak Polychrome Graphics Llc Apparatus and methods for development of resist patterns
ATE259301T1 (de) 1999-10-19 2004-02-15 Fuji Photo Film Co Ltd Fotoempfindliche zusammensetzung und flachdruckplatte, die diese zusammensetzung verwendet
US6232031B1 (en) 1999-11-08 2001-05-15 Ano-Coil Corporation Positive-working, infrared-sensitive lithographic printing plate and method of imaging
US6391524B2 (en) * 1999-11-19 2002-05-21 Kodak Polychrome Graphics Llc Article having imagable coatings
US6300038B1 (en) 1999-11-19 2001-10-09 Kodak Polychrome Graphics Llc Articles having imagable coatings
US6294311B1 (en) * 1999-12-22 2001-09-25 Kodak Polychrome Graphics Llc Lithographic printing plate having high chemical resistance
US6558787B1 (en) 1999-12-27 2003-05-06 Kodak Polychrome Graphics Llc Relation to manufacture of masks and electronic parts
US6787291B2 (en) 2000-04-06 2004-09-07 Toray Industries, Inc. Directly imageable planographic printing plate and production method thereof
JP2001305722A (ja) 2000-04-18 2001-11-02 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
US6458511B1 (en) 2000-06-07 2002-10-01 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermally imageable positive-working lithographic printing plate precursor and method for imaging
US6506533B1 (en) 2000-06-07 2003-01-14 Kodak Polychrome Graphics Llc Polymers and their use in imagable products and image-forming methods
KR100776467B1 (ko) 2000-07-06 2007-11-16 캐보트 코포레이션 개질된 안료 생성물, 이의 분산액 및 이를 포함하는 조성물
BR0112946A (pt) 2000-08-04 2004-02-03 Kodak Polychrome Graphics Co Forma de impressão litográfica e método de prepapação e uso da mesma
US6649324B1 (en) * 2000-08-14 2003-11-18 Kodak Polychrome Graphics Llc Aqueous developer for lithographic printing plates
US6555291B1 (en) 2000-08-14 2003-04-29 Kodak Polychrome Graphics, Llc Thermal digital lithographic printing plate
US6558872B1 (en) 2000-09-09 2003-05-06 Kodak Polychrome Graphics Llc Relation to the manufacture of masks and electronic parts
US6451502B1 (en) 2000-10-10 2002-09-17 Kodak Polychrome Graphics Llc manufacture of electronic parts
US6864040B2 (en) 2001-04-11 2005-03-08 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermal initiator system using leuco dyes and polyhalogene compounds
WO2002034517A1 (en) 2000-10-26 2002-05-02 Kodak Polychrome Graphics Company, Ltd. Compositions comprising a pigment
US6596460B2 (en) 2000-12-29 2003-07-22 Kodak Polychrome Graphics Llc Polyvinyl acetals having azido groups and use thereof in radiation-sensitive compositions
US6548215B2 (en) 2001-02-09 2003-04-15 Kodak Polychrome Graphics Llc Method for the production of a printing plate using the dual-feed technology
US6613494B2 (en) 2001-03-13 2003-09-02 Kodak Polychrome Graphics Llc Imageable element having a protective overlayer
US7049046B2 (en) * 2004-03-30 2006-05-23 Eastman Kodak Company Infrared absorbing compounds and their use in imageable elements
US6899994B2 (en) 2001-04-04 2005-05-31 Kodak Polychrome Graphics Llc On-press developable IR sensitive printing plates using binder resins having polyethylene oxide segments
US7592128B2 (en) 2001-04-04 2009-09-22 Eastman Kodak Company On-press developable negative-working imageable elements
US6777164B2 (en) 2001-04-06 2004-08-17 Kodak Polychrome Graphics Llc Lithographic printing forms
EP1256444B1 (en) 2001-04-09 2004-06-30 Agfa-Gevaert Positive-working lithographic printing plate precursor
US6739260B2 (en) 2001-05-17 2004-05-25 Agfa-Gevaert Method for the preparation of a negative working printing plate
DE60110214T2 (de) * 2001-05-17 2006-03-09 Agfa-Gevaert Herstellungsverfahren zu einer negativ arbeitenden Druckplatte
BR0102218B1 (pt) 2001-05-31 2012-10-16 produto sensìvel à radiação, e processo de impressão ou revelação de imagem utilizando o referido produto.
US6706454B2 (en) 2001-07-05 2004-03-16 Kodak Polychrome Graphics Llc Method for the production of a printing plate using particle growing acceleration by an additive polymer
JP3917422B2 (ja) 2001-07-26 2007-05-23 富士フイルム株式会社 画像形成材料
US7056639B2 (en) 2001-08-21 2006-06-06 Eastman Kodak Company Imageable composition containing an infrared absorber with counter anion derived from a non-volatile acid
US6593055B2 (en) 2001-09-05 2003-07-15 Kodak Polychrome Graphics Llc Multi-layer thermally imageable element
US7294447B2 (en) 2001-09-24 2007-11-13 Agfa Graphics Nv Positive-working lithographic printing plate precursor
EP1295717B1 (en) 2001-09-24 2007-07-25 Agfa Graphics N.V. Heat-sensitive positive-working lithographic printing plate precursor
KR100406460B1 (ko) * 2001-09-29 2003-11-19 한국과학기술연구원 커플링된 스티릴시아닌 색소 및 그의 제조 방법
US6723490B2 (en) 2001-11-15 2004-04-20 Kodak Polychrome Graphics Llc Minimization of ablation in thermally imageable elements
US6699636B2 (en) 2001-12-12 2004-03-02 Kodak Polychrome Graphics Llc Imaging element comprising a thermally activated crosslinking agent
US6960423B2 (en) 2001-12-26 2005-11-01 Creo Inc. Preparation of gravure and intaglio printing elements using direct thermally imageable media
US6723489B2 (en) 2002-01-30 2004-04-20 Kodak Polychrome Graphics Llp Printing form precursors
US6830862B2 (en) 2002-02-28 2004-12-14 Kodak Polychrome Graphics, Llc Multi-layer imageable element with a crosslinked top layer
US20050003296A1 (en) * 2002-03-15 2005-01-06 Memetea Livia T. Development enhancement of radiation-sensitive elements
US6732653B2 (en) 2002-04-26 2004-05-11 Kodak Polychrome Graphics Llc Method to remove unwanted, unexposed, positive-working, radiation-sensitive layer
US6843176B2 (en) 2002-04-26 2005-01-18 Kodak Polychrome Graphics, Llc Method to remove unwanted, unexposed, radiation-sensitive layer in a lithographic printing plate
EP1396338B1 (en) 2002-09-04 2006-07-19 Agfa-Gevaert Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US20040067435A1 (en) 2002-09-17 2004-04-08 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image forming material
US6858359B2 (en) 2002-10-04 2005-02-22 Kodak Polychrome Graphics, Llp Thermally sensitive, multilayer imageable element
CN100439120C (zh) 2002-10-04 2008-12-03 爱克发印艺公司 制造平版印刷版前体的方法
US7195859B2 (en) 2002-10-04 2007-03-27 Agfa-Gevaert Method of making a lithographic printing plate precursor
WO2004030923A2 (en) 2002-10-04 2004-04-15 Agfa-Gevaert Method of marking a lithographic printing plate precursor
US7455949B2 (en) 2002-10-15 2008-11-25 Agfa Graphics, N.V. Polymer for heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US7198877B2 (en) 2002-10-15 2007-04-03 Agfa-Gevaert Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US7458320B2 (en) 2002-10-15 2008-12-02 Agfa Graphics, N.V. Polymer for heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US6794107B2 (en) 2002-10-28 2004-09-21 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermal generation of a mask for flexography
CN1332809C (zh) * 2002-12-26 2007-08-22 富士胶片株式会社 平版印刷版前体
DE60320204T2 (de) 2002-12-27 2009-05-14 Fujifilm Corp. Wärmeempfindlicher lithographischer Druckplattenvorläufer
JP4163964B2 (ja) 2003-01-07 2008-10-08 岡本化学工業株式会社 画像形成組成物およびそれを用いた感光性平版印刷版
US7160667B2 (en) * 2003-01-24 2007-01-09 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image forming material
US6790590B2 (en) 2003-01-27 2004-09-14 Kodak Polychrome Graphics, Llp Infrared absorbing compounds and their use in imageable elements
US6953652B2 (en) 2003-01-27 2005-10-11 Agfa-Gevaert Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US7087359B2 (en) 2003-01-27 2006-08-08 Agfa-Gevaert Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US20060107858A1 (en) * 2003-02-11 2006-05-25 Marc Van Damme Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US7229744B2 (en) * 2003-03-21 2007-06-12 Eastman Kodak Company Method for preparing lithographic printing plates
US6908726B2 (en) * 2003-04-07 2005-06-21 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermally imageable elements imageable at several wavelengths
US20040214108A1 (en) * 2003-04-25 2004-10-28 Ray Kevin B. Ionic liquids as dissolution inhibitors in imageable elements
JP4703104B2 (ja) * 2003-06-06 2011-06-15 株式会社東芝 通信端末装置
DE602004015778D1 (de) * 2003-06-30 2008-09-25 Think Labs Kk Positive lichtempfindliche zusammensetzung
JP4657276B2 (ja) * 2003-07-03 2011-03-23 株式会社シンク・ラボラトリー ポジ型感光性組成物
WO2005005146A1 (en) 2003-07-08 2005-01-20 Kodak Polychrome Graphics Llc Imageable element comprising sulfated polymers
US7371454B2 (en) * 2003-12-15 2008-05-13 Eastman Kodak Company Imageable element comprising sulfated polymers
US6942957B2 (en) * 2003-07-17 2005-09-13 Kodak Polychrome Graphics Llc Ionic liquids as developability enhancing agents in multilayer imageable elements
US6992688B2 (en) * 2004-01-28 2006-01-31 Eastman Kodak Company Method for developing multilayer imageable elements
US6844141B1 (en) 2003-07-23 2005-01-18 Kodak Polychrome Graphics Llc Method for developing multilayer imageable elements
JP2005047181A (ja) * 2003-07-30 2005-02-24 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版の製版方法、平版印刷方法および平版印刷原版
US7226724B2 (en) 2003-11-10 2007-06-05 Think Laboratory Co., Ltd. Positive-type photosensitive composition
EP1718473B1 (en) 2003-12-04 2008-08-06 IBF - Indústria Brasileira de Filmes S/A Positive working thermal imaging assembly and method for the manufacture thereof
EP1697144A1 (en) 2003-12-18 2006-09-06 Agfa-Gevaert N.V. Positive-working lithographic printing plate precursor
US7297465B2 (en) 2003-12-18 2007-11-20 Agfa Graphics Nv Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US7205084B2 (en) 2003-12-18 2007-04-17 Agfa-Gevaert Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US7467587B2 (en) 2004-04-21 2008-12-23 Agfa Graphics, N.V. Method for accurate exposure of small dots on a heat-sensitive positive-working lithographic printing plate material
US7348126B2 (en) 2004-04-27 2008-03-25 Agfa Graphics N.V. Negative working, heat-sensitive lithographic printing plate precursor
EP1750175B1 (en) * 2004-05-27 2008-07-30 Think Laboratory Co., Ltd. Positive photosensitive composition
DE602004006099T2 (de) 2004-06-11 2008-03-13 Agfa Graphics N.V. Negativ arbeitende wärmeempfindlicher lithographischer Druckplattenvorläufer
DE102004029501A1 (de) * 2004-06-18 2006-01-12 Kodak Polychrome Graphics Gmbh Modifizierte Polymere und ihre Verwendung bei der Herstellung von Lithographie-Druckplattenvorläufern
US7279263B2 (en) * 2004-06-24 2007-10-09 Kodak Graphic Communications Canada Company Dual-wavelength positive-working radiation-sensitive elements
US7354696B2 (en) 2004-07-08 2008-04-08 Agfa Graphics Nv Method for making a lithographic printing plate
US7425405B2 (en) 2004-07-08 2008-09-16 Agfa Graphics, N.V. Method for making a lithographic printing plate
US7195861B2 (en) 2004-07-08 2007-03-27 Agfa-Gevaert Method for making a negative working, heat-sensitive lithographic printing plate precursor
JP4152928B2 (ja) * 2004-08-02 2008-09-17 株式会社シンク・ラボラトリー ポジ型感光性組成物
JP4242815B2 (ja) * 2004-08-27 2009-03-25 株式会社シンク・ラボラトリー ポジ型感光性組成物
US7198883B2 (en) 2004-09-24 2007-04-03 Agfa-Gevaert Processless lithographic printing plate
DE602004008285T2 (de) 2004-09-24 2008-05-08 Agfa Graphics N.V. Verarbeitungsfreie Flachdruckplatte
JP2006154477A (ja) * 2004-11-30 2006-06-15 Think Laboratory Co Ltd ポジ型感光性組成物
JP4474296B2 (ja) 2005-02-09 2010-06-02 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
EP1705003B1 (en) 2005-03-21 2007-10-24 Agfa Graphics N.V. Processless lithographic printing plates
JP2006293162A (ja) 2005-04-13 2006-10-26 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
KR100693357B1 (ko) * 2005-04-19 2007-03-12 가부시키가이샤 씽크. 라보라토리 포지티브형 감광성 조성물
EP1885759B1 (en) 2005-06-03 2013-01-23 American Dye Source, Inc. Thermally reactive near-infrared absorbing acetal copolymers, methods of preparation and methods of use
US7678533B2 (en) 2005-06-30 2010-03-16 Agfa Graphics, N.V. Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US20070292802A1 (en) * 2005-07-12 2007-12-20 Think Laboratiory Co., Ltd. Positive Photosenstive Composition
US8313885B2 (en) 2005-11-10 2012-11-20 Agfa Graphics Nv Lithographic printing plate precursor comprising bi-functional compounds
US7338745B2 (en) * 2006-01-23 2008-03-04 Eastman Kodak Company Multilayer imageable element with improved chemical resistance
EP1991418A1 (en) 2006-02-28 2008-11-19 Agfa Graphics N.V. Method for making a lithographic printing plate
DE602006004839D1 (de) 2006-02-28 2009-03-05 Agfa Graphics Nv Positiv arbeitende Lithografiedruckformen
EP1834764B1 (en) 2006-03-17 2009-05-27 Agfa Graphics N.V. Negative working, heat-sensitive lithographic printing plate precursor
ES2335300T3 (es) 2006-05-24 2010-03-24 Agfa Graphics N.V. Precursor de plancha de impresion litografica termosensible de accion negativa.
EP1859936B1 (en) 2006-05-24 2009-11-11 Agfa Graphics N.V. Method for making a lithographic printing plate
GB2439734A (en) * 2006-06-30 2008-01-09 Peter Andrew Reath Bennett Coating for a lithographic precursor and use thereof
JP5038434B2 (ja) * 2006-11-28 2012-10-03 イーストマン コダック カンパニー 良好な耐溶剤性を有する多層画像形成性要素
WO2008126722A1 (ja) * 2007-04-05 2008-10-23 Think Laboratory Co., Ltd. ポジ型感光性組成物
EP1985445B1 (en) 2007-04-27 2011-07-20 Agfa Graphics N.V. A lithographic printing plate precursor
EP2002987B1 (en) 2007-06-13 2014-04-23 Agfa Graphics N.V. A method for treating a lithographic printing plate
US7582407B2 (en) * 2007-07-09 2009-09-01 Eastman Kodak Company Imageable elements with low pH developer solubility
ATE509764T1 (de) 2007-08-14 2011-06-15 Agfa Graphics Nv Verfahren zur herstellung einer lithographiedruckform
WO2009030279A1 (en) 2007-09-07 2009-03-12 Agfa Graphics Nv A heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US7989146B2 (en) 2007-10-09 2011-08-02 Eastman Kodak Company Component fabrication using thermal resist materials
EP2062728B1 (en) 2007-11-13 2011-08-31 Agfa Graphics N.V. Method for making a lithographic printing plate
ATE468981T1 (de) 2007-11-30 2010-06-15 Agfa Graphics Nv Verfahren zur behandlung einer lithografiedruckplatte
JP2009132974A (ja) 2007-11-30 2009-06-18 Fujifilm Corp 微細構造体
EP2095948B1 (en) 2008-02-28 2010-09-15 Agfa Graphics N.V. A method for making a lithographic printing plate
EP2098376B1 (en) 2008-03-04 2013-09-18 Agfa Graphics N.V. A method for making a lithographic printing plate support
ATE514561T1 (de) 2008-03-31 2011-07-15 Agfa Graphics Nv Verfahren zur behandlung einer lithografischen druckplatte
ATE552111T1 (de) 2008-09-02 2012-04-15 Agfa Graphics Nv Wärmeempfindlicher, positiv arbeitender lithographiedruckformvorläufer
EP2194429A1 (en) 2008-12-02 2010-06-09 Eastman Kodak Company Gumming compositions with nano-particles for improving scratch sensitivity in image and non-image areas of lithographic printing plates
EP2213690B1 (en) 2009-01-30 2015-11-11 Agfa Graphics N.V. A new alkali soluble resin
US20100227269A1 (en) 2009-03-04 2010-09-09 Simpson Christopher D Imageable elements with colorants
EP2263874B1 (en) 2009-06-18 2012-04-18 Agfa Graphics N.V. A lithographic printing plate precursor
EP2284005B1 (en) 2009-08-10 2012-05-02 Eastman Kodak Company Lithographic printing plate precursors with beta-hydroxy alkylamide crosslinkers
US8383319B2 (en) 2009-08-25 2013-02-26 Eastman Kodak Company Lithographic printing plate precursors and stacks
EP2293144B1 (en) 2009-09-04 2012-11-07 Eastman Kodak Company Method of drying lithographic printing plates after single-step-processing
US8298750B2 (en) 2009-09-08 2012-10-30 Eastman Kodak Company Positive-working radiation-sensitive imageable elements
EP2316645B1 (en) 2009-10-27 2012-05-02 AGFA Graphics NV Novel cyanine dyes and lithographic printing plate precursors comprising such dyes
US8936899B2 (en) 2012-09-04 2015-01-20 Eastman Kodak Company Positive-working lithographic printing plate precursors and use
RU2487882C1 (ru) 2009-10-29 2013-07-20 Майлан Груп Галлотанниновые соединения в композициях для покрытия литографических печатных форм
EP2329951B1 (en) 2009-12-04 2012-06-20 AGFA Graphics NV A lithographic printing plate precursor
ES2395993T3 (es) 2010-03-19 2013-02-18 Agfa Graphics N.V. Precursor de plancha de impresión litográfica
US20110236832A1 (en) * 2010-03-26 2011-09-29 Celin Savariar-Hauck Lithographic processing solutions and methods of use
US8939080B2 (en) 2010-11-18 2015-01-27 Eastman Kodak Company Methods of processing using silicate-free developer compositions
US20120129093A1 (en) 2010-11-18 2012-05-24 Moshe Levanon Silicate-free developer compositions
EP2668039B1 (en) 2011-01-25 2015-06-03 AGFA Graphics NV A lithographic printing plate precursor
ES2427137T3 (es) 2011-02-18 2013-10-29 Agfa Graphics N.V. Precursor de plancha de impresión litográfica
US8632940B2 (en) 2011-04-19 2014-01-21 Eastman Kodak Company Aluminum substrates and lithographic printing plate precursors
US8722308B2 (en) 2011-08-31 2014-05-13 Eastman Kodak Company Aluminum substrates and lithographic printing plate precursors
US9156529B2 (en) 2011-09-08 2015-10-13 Agfa Graphics Nv Method of making a lithographic printing plate
US9096759B2 (en) * 2011-12-21 2015-08-04 E I Du Pont De Nemours And Company Printing form and process for preparing the printing form with curable composition having solvent-free epoxy resin
US20130255515A1 (en) 2012-03-27 2013-10-03 Celin Savariar-Hauck Positive-working lithographic printing plate precursors
WO2014017640A1 (ja) 2012-07-27 2014-01-30 富士フイルム株式会社 平版印刷版用支持体およびその製造方法、並びに、平版印刷版原版
US9562129B2 (en) 2013-01-01 2017-02-07 Agfa Graphics Nv (Ethylene, vinyl acetal) copolymers and their use in lithographic printing plate precursors
EP2775351B1 (en) 2013-03-07 2017-02-22 Agfa Graphics NV Apparatus and method for processing a lithographic printing plate
CN110543081A (zh) 2013-06-18 2019-12-06 爱克发有限公司 制备具有图案化背层的平版印刷版前体的方法
EP2871057B1 (en) 2013-11-07 2016-09-14 Agfa Graphics Nv Negative working, heat-sensitive lithographic printing plate precursor
EP2933278B1 (en) 2014-04-17 2018-08-22 Agfa Nv (Ethylene, vinyl acetal) copolymers and their use in lithographic printing plate precursors
ES2617557T3 (es) 2014-05-15 2017-06-19 Agfa Graphics Nv Copolímeros (de etileno, vinilacetal) y su uso en precursores de plancha de impresión litográfica
CN104035279B (zh) * 2014-05-23 2017-07-18 浙江康尔达新材料股份有限公司 阳图红外敏感组合物及其可成像元件
ES2660063T3 (es) 2014-06-13 2018-03-20 Agfa Nv Copolímeros (de etileno, vinilacetal) y su uso en precursores de plancha de impresión litográfica
EP2963496B1 (en) 2014-06-30 2017-04-05 Agfa Graphics NV A lithographic printing plate precursor including ( ethylene, vinyl acetal ) copolymers
ES2655798T3 (es) 2014-12-08 2018-02-21 Agfa Nv Sistema para reducir los residuos de ablación
EP3130465B1 (en) 2015-08-12 2020-05-13 Agfa Nv Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US9588429B1 (en) 2015-09-03 2017-03-07 Eastman Kodak Company Lithographic developer composition and method of use
EP3170662B1 (en) 2015-11-20 2019-08-14 Agfa Nv A lithographic printing plate precursor
JP2019510272A (ja) 2016-03-16 2019-04-11 アグファ・ナームローゼ・フェンノートシャップAgfa Nv 平版印刷版の処理方法
EP3239184A1 (en) 2016-04-25 2017-11-01 Agfa Graphics NV Thermoplastic polymer particles and a lithographic printing plate precursor
EP3441223B1 (en) 2017-08-07 2024-02-21 Eco3 Bv A lithographic printing plate precursor
CN111051981B (zh) 2017-08-25 2024-04-09 富士胶片株式会社 负型平版印刷版原版及平版印刷版的制版方法
EP3474073B1 (en) 2017-10-17 2022-12-07 Agfa Offset Bv A method for making a printing plate
EP3637188A1 (en) 2018-10-08 2020-04-15 Agfa Nv An effervescent developer precursor for processing a lithographic printing plate precursor
EP3650938A1 (en) 2018-11-09 2020-05-13 Agfa Nv A lithographic printing plate precursor
EP3715140A1 (en) 2019-03-29 2020-09-30 Agfa Nv A method of printing
EP3778253A1 (en) 2019-08-13 2021-02-17 Agfa Nv Method for processing a lithographic printing plate
EP3922462B1 (en) 2020-06-08 2023-03-01 Agfa Offset Bv Lithographic photopolymer printing plate precursor with improved daylight stability
US20240100820A1 (en) 2020-12-16 2024-03-28 Agfa Offset Bv Lithographic Printing Press Make-Ready Method
EP4382306A1 (en) 2022-12-08 2024-06-12 Eco3 Bv Lithographic printing press make-ready method

Family Cites Families (137)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL80628C (ja) 1949-07-23
US3046121A (en) 1949-07-23 1962-07-24 Azoplate Corp Process for the manufacture of printing plates and light-sensitive material suttablefor use therein
US3046119A (en) 1950-08-01 1962-07-24 Azoplate Corp Light sensitive material for printing and process for making printing plates
BE506677A (ja) 1950-10-31
NL78025C (ja) 1951-02-02
US2767092A (en) 1951-12-06 1956-10-16 Azoplate Corp Light sensitive material for lithographic printing
GB742557A (en) 1952-10-01 1955-12-30 Kalle & Co Ag Light-sensitive material for photomechanical reproduction and process for the production of images
GB772517A (en) 1954-02-06 1957-04-17 Kalle & Co Ag Improvements in or relating to photo-mechanical reproduction
BE540225A (ja) 1954-08-20
US2907665A (en) 1956-12-17 1959-10-06 Cons Electrodynamics Corp Vitreous enamel
NL129161C (ja) 1959-01-14
BE593836A (ja) 1959-08-05
US3105465A (en) 1960-05-31 1963-10-01 Oliver O Peters Hot water heater
US3460964A (en) * 1964-11-19 1969-08-12 Eastman Kodak Co Heat-sensitive recording element and composition
NL6608712A (ja) * 1966-06-23 1966-11-25
US3635709A (en) 1966-12-15 1972-01-18 Polychrome Corp Light-sensitive lithographic plate
GB1170495A (en) 1967-03-31 1969-11-12 Agfa Gevaert Nv Radiation-Sensitive Recording Material
GB1231789A (ja) * 1967-09-05 1971-05-12
GB1245924A (en) * 1967-09-27 1971-09-15 Agfa Gevaert Improvements relating to thermo-recording
GB1260662A (en) * 1968-03-27 1972-01-19 Agfa Gevaert Improvements relating to the sub-titling of processed photographic materials
US3837860A (en) 1969-06-16 1974-09-24 L Roos PHOTOSENSITIVE MATERIALS COMPRISING POLYMERS HAVING RECURRING PENDENT o-QUINONE DIAZIDE GROUPS
US3647443A (en) 1969-09-12 1972-03-07 Eastman Kodak Co Light-sensitive quinone diazide polymers and polymer compositions
JPS5024641B2 (ja) 1972-10-17 1975-08-18
US3891439A (en) 1972-11-02 1975-06-24 Polychrome Corp Aqueous developing composition for lithographic diazo printing plates
JPS5536518B2 (ja) * 1972-11-21 1980-09-20
US3859099A (en) 1972-12-22 1975-01-07 Eastman Kodak Co Positive plate incorporating diazoquinone
CA1085212A (en) 1975-05-27 1980-09-09 Ronald H. Engebrecht Use of volatile carboxylic acids in improved photoresists containing quinone diazides
DE2529054C2 (de) 1975-06-30 1982-04-29 Ibm Deutschland Gmbh, 7000 Stuttgart Verfahren zur Herstellung eines zur Vorlage negativen Resistbildes
DE2543820C2 (de) * 1975-10-01 1984-10-31 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Verfahren zur Herstellung von Flachdruckformen mittels Laserstrahlen
DE2607207C2 (de) 1976-02-23 1983-07-14 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Verfahren zur Herstellung von Flachdruckformen mit Laserstrahlen
US4486529A (en) 1976-06-10 1984-12-04 American Hoechst Corporation Dialo printing plate made from laser
GB1603920A (en) 1978-05-31 1981-12-02 Vickers Ltd Lithographic printing plates
JPS5560944A (en) 1978-10-31 1980-05-08 Fuji Photo Film Co Ltd Image forming method
US4308368A (en) 1979-03-16 1981-12-29 Daicel Chemical Industries Ltd. Photosensitive compositions with reaction product of novolak co-condensate with o-quinone diazide
JPS561045A (en) 1979-06-16 1981-01-08 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Photosensitive composition
JPS561044A (en) 1979-06-16 1981-01-08 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Photosensitive composition
JPS569740A (en) 1979-07-05 1981-01-31 Fuji Photo Film Co Ltd Image forming method
US4316952A (en) * 1980-05-12 1982-02-23 Minnesota Mining And Manufacturing Company Energy sensitive element having crosslinkable polyester
GB2082339B (en) * 1980-08-05 1985-06-12 Horsell Graphic Ind Ltd Lithographic printing plates and method for processing
US4529682A (en) 1981-06-22 1985-07-16 Philip A. Hunt Chemical Corporation Positive photoresist composition with cresol-formaldehyde novolak resins
JPS58203433A (ja) 1982-05-21 1983-11-26 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPS58224351A (ja) 1982-06-23 1983-12-26 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性印刷版
US4609615A (en) 1983-03-31 1986-09-02 Oki Electric Industry Co., Ltd. Process for forming pattern with negative resist using quinone diazide compound
DE3325023A1 (de) 1983-07-11 1985-01-24 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Verfahren zur herstellung negativer kopien mittels eines materials auf basis von 1,2-chinondiaziden
US4708925A (en) * 1984-12-11 1987-11-24 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photosolubilizable compositions containing novolac phenolic resin
US4693958A (en) 1985-01-28 1987-09-15 Lehigh University Lithographic plates and production process therefor
DE3541534A1 (de) 1985-11-25 1987-05-27 Hoechst Ag Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch
ZA872295B (ja) 1986-03-13 1987-09-22
US4684599A (en) 1986-07-14 1987-08-04 Eastman Kodak Company Photoresist compositions containing quinone sensitizer
US4743528A (en) * 1986-11-21 1988-05-10 Eastman Kodak Company Enhanced imaging composition containing an azinium activator
GB8700599D0 (en) * 1987-01-12 1987-02-18 Vickers Plc Printing plate precursors
DE3716848A1 (de) 1987-05-20 1988-12-01 Hoechst Ag Verfahren zur bebilderung lichtempfindlichen materials
EP0304313A3 (en) 1987-08-21 1990-08-22 Oki Electric Industry Company, Limited Pattern forming material
US4973572A (en) * 1987-12-21 1990-11-27 Eastman Kodak Company Infrared absorbing cyanine dyes for dye-donor element used in laser-induced thermal dye transfer
JPH01201654A (ja) 1988-02-06 1989-08-14 Nippon Oil Co Ltd ポジ型フォトレジスト材料
US4962147A (en) 1988-05-26 1990-10-09 Hoechst Celanese Corporation Process for the suspension polymerization of 4-acetoxystyrene and hydrolysis to 4-hydroxystyrene polymers
DE3820001A1 (de) 1988-06-11 1989-12-14 Basf Ag Optisches aufzeichnungsmedium
JPH0820734B2 (ja) * 1988-08-11 1996-03-04 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物及びそれを用いた光重合性組成物
US4877718A (en) 1988-09-26 1989-10-31 Rennsselaer Polytechnic Institute Positive-working photosensitive polyimide operated by photo induced molecular weight changes
JP2547626B2 (ja) 1988-10-07 1996-10-23 富士写真フイルム株式会社 モノマーの製造方法
EP0366590B2 (en) 1988-10-28 2001-03-21 International Business Machines Corporation Highly sensitive positive photoresist compositions
JP2698789B2 (ja) * 1988-11-11 1998-01-19 富士写真フイルム株式会社 熱転写受像材料
DE68921146T2 (de) 1988-11-11 1995-06-14 Fuji Photo Film Co Ltd Lichtempfindliche Zusammensetzung.
JP2571115B2 (ja) 1989-01-17 1997-01-16 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物の増感方法及び増感された感光性組成物
JP2871710B2 (ja) 1989-03-17 1999-03-17 株式会社きもと 画像形成方法
JPH02251962A (ja) 1989-03-27 1990-10-09 Matsushita Electric Ind Co Ltd 微細パターン形成材料およびパターン形成方法
JPH02299879A (ja) * 1989-04-27 1990-12-12 Ncr Corp 感熱記録媒体
US5200298A (en) 1989-05-10 1993-04-06 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method of forming images
EP0410606B1 (en) 1989-07-12 1996-11-13 Fuji Photo Film Co., Ltd. Siloxane polymers and positive working light-sensitive compositions comprising the same
DE69032464T2 (de) 1989-10-19 1998-11-12 Fujitsu Ltd Verfahren zur Herstellung von Photolackmustern
GB9004337D0 (en) 1990-02-27 1990-04-25 Minnesota Mining & Mfg Preparation and use of dyes
DE4013575C2 (de) 1990-04-27 1994-08-11 Basf Ag Verfahren zur Herstellung negativer Reliefkopien
US5279918A (en) 1990-05-02 1994-01-18 Mitsubishi Kasei Corporation Photoresist composition comprising a quinone diazide sulfonate of a novolac resin
JP2729850B2 (ja) 1990-05-15 1998-03-18 富士写真フイルム株式会社 画像形成層
JP2639853B2 (ja) 1990-05-18 1997-08-13 富士写真フイルム株式会社 新規キノンジアジド化合物及びそれを含有する感光性組成物
JP2645384B2 (ja) 1990-05-21 1997-08-25 日本ペイント株式会社 ポジ型感光性樹脂組成物
US5145763A (en) 1990-06-29 1992-09-08 Ocg Microelectronic Materials, Inc. Positive photoresist composition
JP3244288B2 (ja) * 1990-07-23 2002-01-07 昭和電工株式会社 近赤外光消色型記録材料
US5085972A (en) 1990-11-26 1992-02-04 Minnesota Mining And Manufacturing Company Alkoxyalkyl ester solubility inhibitors for phenolic resins
JPH04359906A (ja) 1991-06-07 1992-12-14 Shin Etsu Chem Co Ltd ポリ(パラ−t−ブトキシカルボニルオキシスチレン)及びその製造方法
CA2066895A1 (en) 1991-06-17 1992-12-18 Thomas P. Klun Aqueous developable imaging systems
US5258257A (en) 1991-09-23 1993-11-02 Shipley Company Inc. Radiation sensitive compositions comprising polymer having acid labile groups
US5437952A (en) 1992-03-06 1995-08-01 Konica Corporation Lithographic photosensitive printing plate comprising a photoconductor and a naphtho-quinone diazide sulfonic acid ester of a phenol resin
US5368977A (en) 1992-03-23 1994-11-29 Nippon Oil Co. Ltd. Positive type photosensitive quinone diazide phenolic resin composition
US5372917A (en) 1992-06-30 1994-12-13 Kanzaki Paper Manufacturing Co., Ltd. Recording material
US5268245A (en) 1992-07-09 1993-12-07 Polaroid Corporation Process for forming a filter on a solid state imager
US5351617A (en) 1992-07-20 1994-10-04 Presstek, Inc. Method for laser-discharge imaging a printing plate
CA2091286A1 (en) 1992-07-20 1994-01-21 Macdermid, Inc. Direct imaging process for forming resist pattern on a surface, and use thereof in fabricating printed boards
US5286612A (en) 1992-10-23 1994-02-15 Polaroid Corporation Process for generation of free superacid and for imaging, and imaging medium for use therein
DE69406687T2 (de) 1993-01-25 1998-05-14 At & T Corp Ein Verfahren zum gesteuerten Entschützen von Polymeren und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung welches diese zum Teil entschützten Polymere für Photoresiste benutzt
US5340699A (en) * 1993-05-19 1994-08-23 Eastman Kodak Company Radiation-sensitive composition containing a resole resin and a novolac resin and use thereof in lithographic printing plates
EP0631189B1 (en) * 1993-06-24 1999-02-17 Agfa-Gevaert N.V. Improvement of the storage stability of a diazo-based imaging element for making a printing plate
DE4426820A1 (de) 1993-07-29 1995-02-02 Fuji Photo Film Co Ltd Bilderzeugungsmaterial und Bilderzeugungsverfahren
GB9322705D0 (en) * 1993-11-04 1993-12-22 Minnesota Mining & Mfg Lithographic printing plates
EP0672954B1 (en) * 1994-03-14 1999-09-15 Kodak Polychrome Graphics LLC Radiation-sensitive composition containing a resole resin, a novolac resin, an infrared absorber and a triazine and use thereof in lithographic printing plates
JP3317574B2 (ja) 1994-03-15 2002-08-26 富士写真フイルム株式会社 ネガ型画像記録材料
JP3461377B2 (ja) 1994-04-18 2003-10-27 富士写真フイルム株式会社 画像記録材料
US5441850A (en) 1994-04-25 1995-08-15 Polaroid Corporation Imaging medium and process for producing an image
EP0691575B1 (en) 1994-07-04 2002-03-20 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positive photosensitive composition
EP0720057A4 (en) 1994-07-11 1997-01-22 Konishiroku Photo Ind INITIAL ELEMENT FOR LITHOGRAPHIC PLATE AND PROCESS FOR PREPARING SAID PLATE
US5466557A (en) * 1994-08-29 1995-11-14 Eastman Kodak Company Radiation-sensitive composition containing a resole resin, a novolac resin, a latent bronsted acid, an infrared absorber and terephthalaldehyde and use thereof in lithographic printing plates
EP0706899A1 (en) 1994-10-13 1996-04-17 Agfa-Gevaert N.V. Thermal imaging element
US5491046A (en) * 1995-02-10 1996-02-13 Eastman Kodak Company Method of imaging a lithographic printing plate
US5658708A (en) 1995-02-17 1997-08-19 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image recording material
JPH0962005A (ja) * 1995-06-14 1997-03-07 Fuji Photo Film Co Ltd ネガ型感光性組成物
GB9516723D0 (en) * 1995-08-15 1995-10-18 Horsell Plc Water-less lithographic plates
GB9516694D0 (en) 1995-08-15 1995-10-18 Horsell Plc Water-less lithographic plates
US5641608A (en) 1995-10-23 1997-06-24 Macdermid, Incorporated Direct imaging process for forming resist pattern on a surface and use thereof in fabricating printing plates
JPH09120157A (ja) * 1995-10-25 1997-05-06 Fuji Photo Film Co Ltd 湿し水不要感光性平版印刷版
US6132935A (en) 1995-12-19 2000-10-17 Fuji Photo Film Co., Ltd. Negative-working image recording material
US5814431A (en) * 1996-01-10 1998-09-29 Mitsubishi Chemical Corporation Photosensitive composition and lithographic printing plate
JP3589365B2 (ja) 1996-02-02 2004-11-17 富士写真フイルム株式会社 ポジ画像形成組成物
EP0803771A1 (en) 1996-04-23 1997-10-29 Agfa-Gevaert N.V. A method for making a lithopgrapic printing plate wherein an imaging element is used that comprises a thermosensitive mask
EP0819980B1 (en) 1996-07-19 2000-05-31 Agfa-Gevaert N.V. An IR radiation-sensitive imaging element and a method for producing lithographic plates therewith
JP3814961B2 (ja) 1996-08-06 2006-08-30 三菱化学株式会社 ポジ型感光性印刷版
US5705309A (en) 1996-09-24 1998-01-06 Eastman Kodak Company Photosensitive composition and element containing polyazide and an infrared absorber in a photocrosslinkable binder
US5759742A (en) 1996-09-25 1998-06-02 Eastman Kodak Company Photosensitive element having integral thermally bleachable mask and method of use
US5705322A (en) 1996-09-30 1998-01-06 Eastman Kodak Company Method of providing an image using a negative-working infrared photosensitive element
US5858626A (en) * 1996-09-30 1999-01-12 Kodak Polychrome Graphics Method of forming a positive image through infrared exposure utilizing diazonaphthoquinone imaging composition
US5705308A (en) 1996-09-30 1998-01-06 Eastman Kodak Company Infrared-sensitive, negative-working diazonaphthoquinone imaging composition and element
US6117610A (en) * 1997-08-08 2000-09-12 Kodak Polychrome Graphics Llc Infrared-sensitive diazonaphthoquinone imaging composition and element containing non-basic IR absorbing material and methods of use
EP0839647B2 (en) 1996-10-29 2014-01-22 Agfa Graphics N.V. Method for making a lithographic printing plate with improved ink-uptake
US6060222A (en) * 1996-11-19 2000-05-09 Kodak Polcyhrome Graphics Llc 1Postitve-working imaging composition and element and method of forming positive image with a laser
EP0855267B1 (en) 1997-01-24 2002-04-17 Fuji Photo Film Co., Ltd. Planographic printing plate
DE69806986T2 (de) 1997-03-11 2003-05-08 Agfa-Gevaert, Mortsel Verfahren zur Herstellung von positiv arbeitenden lithographischen Druckplatten
US6090532A (en) * 1997-03-21 2000-07-18 Kodak Polychrome Graphics Llc Positive-working infrared radiation sensitive composition and printing plate and imaging method
DE19712323A1 (de) 1997-03-24 1998-10-01 Agfa Gevaert Ag Strahlungsempfindliches Gemisch und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial für Offsetdruckplatten
US6083662A (en) * 1997-05-30 2000-07-04 Kodak Polychrome Graphics Llc Methods of imaging and printing with a positive-working infrared radiation sensitive printing plate
JP3779444B2 (ja) 1997-07-28 2006-05-31 富士写真フイルム株式会社 赤外線レーザ用ポジ型感光性組成物
US6060217A (en) * 1997-09-02 2000-05-09 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermal lithographic printing plates
EP0908306B3 (en) 1997-10-08 2009-08-05 Agfa-Gevaert A method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive imaging element
US6060218A (en) * 1997-10-08 2000-05-09 Agfa-Gevaert, N.V. Method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive image element
DE69810242T2 (de) * 1997-10-28 2003-10-30 Mitsubishi Chemical Corp., Tokio/Tokyo Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch, positiv arbeitende lichtempfindliche Flachdruckplatte und Verfahren zur Bebilderung der Druckplatte
EP0934822B1 (en) * 1998-02-04 2005-05-04 Mitsubishi Chemical Corporation Positive photosensitive composition, positive photosensitive lithographic printing plate and method for forming a positive image
US6251559B1 (en) * 1999-08-03 2001-06-26 Kodak Polychrome Graphics Llc Heat treatment method for obtaining imagable coatings and imagable coatings
US6300038B1 (en) * 1999-11-19 2001-10-09 Kodak Polychrome Graphics Llc Articles having imagable coatings
US6294311B1 (en) * 1999-12-22 2001-09-25 Kodak Polychrome Graphics Llc Lithographic printing plate having high chemical resistance

Also Published As

Publication number Publication date
ES2181120T3 (es) 2003-02-16
NO976002D0 (no) 1997-12-19
DE69700397T2 (de) 2000-04-13
AU2396697A (en) 1997-11-12
ATE220991T1 (de) 2002-08-15
CA2225567C (en) 2003-01-21
BR9702181A (pt) 1999-12-28
CN1078132C (zh) 2002-01-23
ES2114521T1 (es) 1998-06-01
EP0887182B1 (en) 2002-07-24
DE69714225D1 (de) 2002-08-29
DE825927T1 (de) 1998-07-16
CN1196701A (zh) 1998-10-21
DE69714225T2 (de) 2003-03-27
JPH11506550A (ja) 1999-06-08
ATE183136T1 (de) 1999-08-15
WO1997039894A1 (en) 1997-10-30
CA2225567A1 (en) 1997-10-30
US6485890B2 (en) 2002-11-26
EP0825927B1 (en) 1999-08-11
PL324248A1 (en) 1998-05-11
RU2153986C2 (ru) 2000-08-10
NO976002L (no) 1998-02-17
EP0825927A1 (en) 1998-03-04
IL122318A (en) 2001-01-28
DE69700397D1 (de) 1999-09-16
IL122318A0 (en) 1998-04-05
AU707872B2 (en) 1999-07-22
US6280899B1 (en) 2001-08-28
DE29724584U1 (de) 2002-04-18
US20020045124A1 (en) 2002-04-18
CZ400897A3 (cs) 1998-04-15
EP0887182A1 (en) 1998-12-30
ES2114521T3 (es) 2000-01-16
CZ292739B6 (cs) 2003-12-17

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