JPH01132693A - フラツクス洗浄剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明はＩＣ部品、精密機械部品等に付着したフラック
スを除去するために用いるフラックス洗浄剤に関するも
のである。

［従来の技術］ ＩＣ部品、精密機械部品等の組立て工程でフラックスが
使われるが、これらが付着したままでは、製品とはなら
ない場合が多い、従って、通常このような部品の仕上げ
工程では有機溶剤を用いて洗浄を行なっている。その有
機溶剤として次に掲げるような種々の利点から１．１．
２−トリクロロ−１，２，２−トリフルオロエタン（以
下Ｒ１１３という）が広く使われている。Ｒ１１３は不
燃性、非曝性で毒性が低く、安定性も優れている。しか
も、金属、プラスチック、エラストマー等の基材を侵さ
ず、各種の汚れを選択的に溶解する性質がある。一般に
フラックス洗浄をする場合の被洗物は金属、プラスチッ
ク、エラストマー等から成る複合部品が多く従ってこの
点からもＲ１１３が有利であった。

［発明の解決しようとする問題点］ 本発明は従来使用されていたＲ１１３が種々の利点を持
つにもかかわらず、成層圏のオゾンを破壊し、ひいては
皮膚ガンの発生をひき起す原因となる疑いがあることか
らそれに対応すべくＲ１１３と同様な種々の利点を有し
、同等の洗浄が行なえる新規のフラックス洗浄剤を提供
することを目的とするものである。

［問題点を解決するための手段］ 本発明は前述の目的を達成すべくなされたものであり、
１．ｌ−ジクロロ−１−フルオロエタンを有効成分とし
て含有するフラックス洗浄剤を提供するものである。

本発明のフラックス洗浄剤の有効成分であるｉ、ｔ−ジ
クロロ−１−フルオロエタン（以下Ｒ１４１ｂという）
は適度な溶解力がある等、従来のＲ１１３と同様な利点
を有する優れた溶剤である。

本発明のフラックス洗浄剤には、各種の目的に応じてそ
の他の各種成分を含有させることができる０例えば、溶
解力を高めるためには、炭化水素類、アルコール類、ケ
トン類又は塩素化炭化水素類等の有機溶剤から選ばれる
少なくとも１種を含有させることができる。これらの有
機溶剤のフラックス洗浄剤中の含有割合は、０〜５０重
量％、好ましくは１０〜４０重量％、さらに好ましくは
２０〜３０重量％である。　１．１−ジクロロ−１−フ
ルオロエタンと有機溶剤との混合物に共沸組成が存在す
る場合には、その共沸組成での使用が好ましい。

炭化水素類としては炭素数１〜１５の鎖状又は環状の飽
和又は不飽和炭化水素類が好ましく、ｎ−ペンタン、イ
ンペンタン、ｎ−ヘキサン、イソヘキサン、２−メチル
ペンタン、２，２−ジメチルブタン、２．３−ジメチル
ブタン、ｎ−へブタン、イソへブタン、３−メチルヘキ
サン、２，４−ジメチルペンタン、ｎ−オクタン、２−
メチルへブタン、３−メチルへブタン、４−メチルへブ
タン、２．２−ジメチルヘキサン、２，５−ジメチルへ
午サン、３．３−ジメチルヘキサン、２−メチル−３−
エチルペンタン、３−メチル−３−エチルペンタン、２
．３．３−）ジメチルペンタン、２，３．４−トリメチ
ルペンタン、２，２．３−）ジメチルペンタン、イソオ
クタン、ノナン、２，２．５−）ジメチルヘキサン、デ
カン、ドデンカン、１−ペンテン、２−ペンテン、１−
ヘキセン、１−オクテン、１−ノネン、１−テセン、シ
クロペンタン、メチルシクロペンタン、シクロヘキサン
、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ビシ
クロヘキサン、シクロヘキセン、α−ピネン、ジペンテ
ン、デカリン、テトラリン、アミジノ、アミルナフタレ
ン等から選ばれるものである。より好ましくは、ｎ−ペ
ンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−へブタン等である。

アルコール類としては、炭素数１〜１７の鎖状又は環状
の飽和又は不飽和アルコール類が好ましく、メタノール
、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピル
アルコール、ｎ−ブチルアルコール、５ｅｃ−ブチルア
ルコール、イソブチルアルコール、ｔｅｒｔ−ブチルア
ルコール、ペンチルアルコール、　５ｅｃ−アミルアル
コール、ｌ−エチル−１−プロパツール、２−メチル−
１−ブタノール、インペンチルアルコール、ｔｅｒｔ−
ペンチルアルコール、３−メチル−２−ブタノール、ネ
オペンチルアルコール、１−ヘキサノール、２−メチル
−１−ペンタノール、４−メチル−２−ペンタノール、
２−エチル−１−ブタノール、１−ヘプタツール、２−
ヘプタツール、３−ヘプタツール、■−オクタツール、
２−オクタツール、２−エチル−１−ヘキサノール、１
−ノナノール、　３，５．５−トリメチル−１−ヘキサ
ノール、　１−７’カノ一ル、１−ウンデカノール、１
−ドデカノール、アリルアルコール、プロパルギルアル
コール、ベンジルアルコール、シクロヘキサノール、１
−メチルシクロヘキサノール、２−メチルシクロヘキサ
ノール、３−メチルシクロヘキサノール、４−メチルシ
クロヘキサノール、α−テルピネオール、アビニチノー
ル、２．６−シメチルー４−ヘプタツール、トリメチル
ノニルアルコール、テトラデシルアルコール、ヘプタデ
シルアルコール等から選ばれるものである。より好まし
くはメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール
等である。

炭素数１〜９の飽和又は不飽和炭化水素基）のいずれか
の一般式で示されるものが好ましく、アセトン、メチル
エチルケトン、２−ペンタノン、３−ペンタノン、２−
ヘキサノン、メチル−ｎ−ブチルケトン、メチルブチル
ケトン、２−ヘプタノン、４−ヘプタノン、ジイソブチ
ルケトン、アセトニルアセトン、メシチルオキシド、ホ
ロン、メチル−ｎ−アミルケトン、エチルブチルケトン
、メチルへキシルケトン、シクロヘキサノン、メチルシ
クロヘキサノン、イソホロン、２．４−ペンタンジオン
、ジアセトンアルコール、アセトフェノン、フェンチョ
ン等から選ばれるものである。より好ましくはアセトン
、メチルエチルケトン等である。

塩素化炭化水素類としては、炭素数１〜２の飽和又は不
飽和、塩素化炭化水素類が好ましく、塩化メチレン、四
塩化炭素、１．１−ジクロルエタン、　１．２−ジクロ
ロエタン、　１，１．１−トリクロルエタン、１，１．
２−トリクロルエタン、１，１，１．２−テトラクロル
エタン、１，１，２．２−テトラクロルエタン、ペンタ
クロルエタン、１，１−ジクロルエチレン、１，２−ジ
クロルエチレン、トリクロルエチレン、テトラクロルエ
チレン等から選ばれるものである。より好ましくは塩化
メチレン、！、１．ｌ−）ジクロルエタン、トリクロル
エチレン、テトラクロルエチレン等である。

本発明のフラックス洗浄剤には、各種の洗浄助剤や安定
剤あるいはオゾン破壊に対する影響の少ない水素含有塩
素化フッ素化炭化水素類をさらに添加混合してもよい、
洗浄方法としては、手拭き、浸漬、スプレー、揺動、超
音波洗浄、蒸気洗浄等通常の方法を採用することができ
る。

［実施例］ 実施例１〜５ 下記第１表に示すフラックス洗浄剤を用いてフラックス
の洗浄試験を行なった。

プリント基板（銅張積層板）全面にフラックス（タムラ
Ｆ−ＡＩ−４．■タムラ製作所製）を塗布し、２００℃
の電気炉で２分間焼成後フラックス洗浄剤に１分間浸漬
した。フラックスの除去の度合を第１表に示す。

第１表 （）内は混合比［重量％］ Ｏ：良好に除去できる　Δ：少量残存 Ｘ：かなり残存 ［発明の効果］ 本発明のフラックス洗浄剤は実施例から明らかなように
フラックスの洗浄効果の優れたものである。又、従来使
用されていたＲ１１３と同様に適度な溶解力を持つこと
から、金属、プラスチック及びエラストマー等から成る
複合部品に悪影響を与えることなく、フラックス洗浄す
ることができる。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）１，１，−ジクロロ−１−フルオロエタンを有効
   成分として含有するフラックス洗浄剤。
2. （２）フラックス洗浄剤中には、炭化水素類、アルコー
   ル類、ケトン類又は塩素化炭化水素類から選ばれる少な
   くとも１種が含まれている特許請求の範囲第１項記載の
   フラックス洗浄剤。