JPH02202999A - 混合溶剤組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明はＩＣ部品、精密機械部品等に付着したフラック
スを除去するために用いるフラックス洗浄剤や付着水除
去剤等に用いられる混合溶剤組成物に関するものであ、
；。

【従来の技術］ ＩＣ部品、精密機械部品等の組立て工程でフラックスが
使われるが、これらが付着したままでは、製品とはなら
ない場合が多い。従って、通常このような部品の仕上げ
工程では有機溶剤を用いて洗浄を行なっている。その有
機溶剤として次に褐げるような種々の利点から１゜１．
２−トリクロロ−１，２，２−トリフルオロエタン（以
下Ｒ１１３という）が広く使われているつＲ１１３は不
燃性、卵重性で毒性が低（、安定性も優れている。しか
も、金属、プラスチック、エラストマー等の基材を侵さ
ず、各種の汚れを選択的に溶解する性質がある。一般に
フラックス洗浄をする場合の被洗物は金属、プラスチッ
ク、エラストマー等から成る複合部品が多（従ってこの
点からもＲ１１３が有利であった。

［発明が解決しようとする課題］ 本発明は従来使用されていたＲ１１３が種々の利点を持
つにもかかわらず、成層圏のオゾンを破壊し、ひいては
皮膚ガンの発生をひき起す原因となる疑いがあることか
らそれに対応すべ（Ｒ１１３と同様な種々の利点を有し
、同等の洗浄が行なえる新規の混合溶剤組成物を提供す
ることを目的とするものである。

［課題を解決するための手段］ 本発明は前述の目的を達成すべ（なされたものであり、
炭素数が３である特定の塩化弗化炭化水素とアルコール
類からなる混合溶剤組成物を提供するものである。

本発明の塩化弗化炭化水素としては ＣＣＱＦ、ＣＦｌｌＣＨＣＱ、　（Ｒ２２４ｃａ）　、
　ＣＣＱｍＦＣＦｉＣＨＣＩ２Ｆａ　（Ｒ２２４ｃｂ）
ＣＦａＣＦａＣＨＣ２ａ　（Ｒ２２５ｃａ）　、　ＣＣ
ＱＦａＣＦａＣＩ（ＣＱＦ　（Ｒ２２５ｃｂ）、ＣＣｆ
２Ｆ２ＣＦａＣＨ＊Ｃ２（Ｒ２３４ｃｃ）、ＣＨＦｔＣ
ＦｔＣ）ＩＣＱＦ（Ｒ２３５ｃａ）、ＣＨｓＣＦ２ＣＣ
ＱＪ　（Ｒ２４３ｃｃ）　、　Ｃ１（Ｆ＊ＣＦｉＣＨ＊
Ｃ１２、（Ｒ２４４ｃａ）、ＣＨ，ＣＱＣＦ２ＣＨｉＣ
Ｑ（Ｒ２５２ｃｂ）　、　ＣＨＣＱ＊ＣＦ＊ＣＨｓ、（
Ｒ２６２ｃａ）、ＣＨ，ＣＦ、ＣＨ，Ｃｆ２　（Ｒ２２
５ｃｃ）　、　ＣＦＩＰ、ＣＦ、ＣＣＩ２ｍＦ（Ｒ２３
４ｃｃ）、ＣＨＣＱＦＣＦ−ＣＨＣＱＦ　（Ｒ２３４ｃ
ａ）　、　ＣＨＦ＊ＣＦｘＣＨＣ（２ｓ（！　（Ｒ２３
４ｃｂ）、ＣＨ−ＦＣＦ２ＣＣｆ２−Ｆ　（Ｒ２３４ｃ
ｄ）　、　ＣＦ−ＣＦｓＣＨｘＣＩ２　（Ｒ２３Ｓｃｂ
）、ＣＣＱＦ、（：Ｆ、ＣＨｚＦ　（Ｒ２３５ｃｃ）　
、　ＣＨｉＣ２ＣＦ、ＣＨＣ：（２Ｆ　（Ｒ２４３ｃａ
）、ＣＨ，ＦＣＦａＣＨＣ（２ｉ（Ｒ２４３ｃｂ）、Ｃ
ＨＪＣＦ、（ＪＣ（ｉＦ（Ｒ２４４ｃｂ）、ＣＣＱＦ＊
ＣＦｓＣＨｓ（Ｒ２４４ｃｃ）、ＣＩ（、ＦＣＦ、ＣＨ
＊ＣＱ（Ｒ２５３ｃａ）。

及びＣ）１．ＣＦ２ＣＨＣＱＦ　（Ｒ２５３ｃｂ）等の
水素含有塩化弗化炭化水素から選ばれる１　ｆ！又は２
種以上の混合物が好ましい。

本発明の混合溶剤組成物には、各種の目的に応じてその
他の各種成分を含有させることができる０例えば、溶解
力を高めるためには、炭化水素類、ケトン類又は塩素化
炭化水素類等の有慢溶剤から選ばれる少な（とも１種を
含有させることができる。これらの有機溶剤の混合溶剤
組成物中の含有割合は、０〜５０重量％２好ましくは１
０〜４０重量％、さらに好ましくは２０〜３０重量％で
ある。本発明の混合溶剤組成物に共沸組成が存在する場
合には、その共沸組成での使用が好ましい。

アルコール類としては、炭素数１〜１７の鎖状又は環状
の飽和又は不飽和アルコール類が好ましく、メタノール
、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピル
アルコール、ｎ−ブチルアルコール、５ｅｃ−ブチルア
ルコール、イソブチルアルコール、ｔｅｒｔ−ブチルア
ルコール、ペンチルアルコール、５ｅｃ−アミルアルコ
ール、１−エチル−１−プロパツール、２−メチル−１
−ブタノール、インペンチルアルコール、ｔｅｒｔ−ペ
ンチルアルコール、３−メチル−２−ブタノール、ネオ
ペンチルアルコール、１−ヘキサノール、２−メチル−
１−ペンタノール、４−メチル−２−ペンタノール、２
−エチル−１−ブタノール、ｌ−ヘプタツール、２−ヘ
プタツール、３−ヘプタツール、ｌ−オクタノール、２
−オクタツール、２−エチル−１−ヘキサノール、１−
ノナノール、３，５．５１−ツメチル−１−ヘキサノー
ル、１−デカノール、ｌ−ウンデカノール、ｌ−ドデカ
ノール、アリルアルコール、プロパルギルアルコール、
ベンジルアルコール、シクロヘキサノール、ｌ−メチル
シクロヘキサノール、２−メチルシクロヘキサノール、
３−メチルシクロヘキサノール、４−メチルシクロヘキ
サノール、α−テルピネオール、アビニチノール、２．
６−シメチルー４−ヘプタツール、トリメチルノニルア
ルコール、テトラデシルアルコール、ヘプタデシルアル
コール等から選ばれるものである。より好ましくはメタ
ノール、エタノール、イソプロピルアルコール等である
。

炭化水素類としては炭素数１−１５の鎖状又は環状の飽
和又は不飽和炭化水素類が好ましく、ｎ−ペンタン、イ
ソペンタン、ｎ−ヘキサン、イソヘキサン、２−メチル
ペンタン、２，２−ジメチルブタン、２．３−ジメチル
ブタン、ｎ−へブタン、イソへブタン、３−メチルヘキ
サン、２，４−ジメチルベンクン、ｎ−オクタン、２−
メチルへブタン、３−メチルへブタン、４−メチルへブ
タン、２．２−ジメチルヘキサン、２．５−ジメチルヘ
キサン、３．３−ジメチルヘキサン、２−メチル−３−
エチルペンタン、３−メチル−３−エチルペンタン、２
．３．３−トリメチルペンタン、２．３．４−　トリメ
チルペンタン、２．２．３−トリメチルペンタン、イソ
オクタン、ノナン、２，２．５−トリメチルヘキサン、
デカン、ドデンカン、ｌ−ペンテン、２−ペンテン、１
−ヘキセン、１−オクテン、ｌ−ノネン、１−デセン、
シクロペンタン、メチルシクロペンタン、シクロヘキサ
ン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ビ
シクロヘキサン、シクロヘキセン、α−ピネン、ジペン
テン、デカリン、テトラリン、アミジノ、アミルナフタ
レン等から選ばれるものである。より好ましくは、ｎ−
ペンタン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−へブタ
ン等である。

炭素数１〜９の飽和又は不飽和炭化水素基）のいずれか
の−数式で示されるものが好ましく、アセトン、メチル
エチルケトン、２−ペンタノン、３−ペンタノン、２−
ヘキサノン、メチル−ｎ−ブチルケ！・ン、メチルブチ
ルケトン、２−ヘプタノン、４−ヘプタノン、ジイソブ
チルケトン、アセトニルアセトン、メシチルオキシド、
ホロン、メチル−ｎ−アミルケトン、エチルブチルケト
ン、メチルへキシルケトン、シクロヘキサノン、メチル
シクロヘキサノン、イソホロン、２．４−ペンタンジオ
ン、ジアセトンアルコール、アセトフェノン、フエンチ
ョン等から選ばれるものである。より好ましくはアセト
ン、メチルエチルケトン等である。

塩素化炭化水素類としては、炭素数１〜２の飽和又は不
飽和、塩素化炭化水素類が好ましく、塩化メチレン、四
塩化炭素、１．■−ジクロルエタン、１，２−ジクロロ
エタン、１，１．１−トリクロルエタン、１，１．２−
トリクロルエタン、１，１，１．２−テトラクロルエタ
ン、１，１，２．２−テトラクロルエタン、ペンタクロ
ルエタン、１，１−ジクロルエチレン、１．２−ジクロ
ルエチレン、トリクロルエチレン、テトラクロルエチレ
ン等から選ばれるものである。より好ましくは塩化メチ
レン、１、１．１−　トリクロルエタン、トリクロルエ
チレン、テトラクロルエチレン等である。

本発明の混合溶剤組成物には、各種の洗浄助剤や安定剤
あるいはオゾン破壊に対する影響の少ない水素含有塩素
化フッ素化炭化水素類をさらに添加混合してもよい。洗
浄方法としては、手拭き、浸漬、スプレー、揺動、超音
波洗浄、蒸気洗浄等通常の方法を採用することができる
。

［実施例］ 実施例１〜２３ 下記第１表に示す混合溶剤組成物を用いてフラックスの
洗浄試験を行なった。

プリント基板（銅張積層板）全面にフラックス（スピー
デイフラックス、　ＡＧＦ−Ｊ−１、アサヒ化学研究所
製）を塗布し、２００℃の電気炉で２分間焼成後フラッ
クス洗浄剤に１分間浸漬した。フラックスの除去の度合
を第１表に示す。

第１表 Δ：蜀１１慢停 Ｘ；η）なリタ曵ｆ子 ［発明の効果］ 本発明の混合溶剤組成物は実施例から明らかなようにフ
ラックスの洗浄効果の優れたものである。又、従来使用
されていたＲ１１３と同様に適度な溶解力を持つことか
ら、金属、プラスチック及びエラストマー等から成る複
合部品に悪影響を与えることなく、フラックス洗浄する
ことができる。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）▲数式、化学式、表等があります▼、及び▲数式
   、化学式、表等があります▼、の群から選 ばれる少なくとも１種と、アルコール類からなる混合溶
   剤組成物。