JPH02229090A - 感光性平版印刷版 - Google Patents
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Landscapes
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は感光性成分として(,2−キノンジアジド化合
物を用いたポジ型及びネガ型として使用できる感光性平
版印刷版に関する。
物を用いたポジ型及びネガ型として使用できる感光性平
版印刷版に関する。
ポジ型感光性平版印刷版は、一般に親水性支持体上に紫
外線等の活性光線による露光により可溶化するインキ受
容性感光層を形成したものである。
外線等の活性光線による露光により可溶化するインキ受
容性感光層を形成したものである。
この感光層に画像露光を行い現像すると、画像部を残し
て非画像部が除去され、画像が形成される。
て非画像部が除去され、画像が形成される。
平版印刷においては、上記画像部が親油性で非画像部が
親水性であるという性質上の差が利用される。
親水性であるという性質上の差が利用される。
通常、ポジ型の感光性平版印刷版の感光層には、感光成
分として0−キノンジアジド化合物が含有されており、
特に上記0−キノンジアジド化合物の中でも感度及びコ
ストの点から1.2−ナフトキノン−2−ジアジド−5
−スルホン酸エステル化合物が有用なものとして一般に
用いられている。
分として0−キノンジアジド化合物が含有されており、
特に上記0−キノンジアジド化合物の中でも感度及びコ
ストの点から1.2−ナフトキノン−2−ジアジド−5
−スルホン酸エステル化合物が有用なものとして一般に
用いられている。
従来、このようなポジ型の感光性平版印刷版の現像処理
は通常アルカリ水溶液から成る現像液で行われるが、現
像液の現像能力は種々の条件で変動を受けやすく、例え
ば多量処理による疲労や空気酸化による劣化で現像能力
か低下し、処理しても印刷版の非画像部の感光層が完全
に溶解されなくなる場合がある。このため、感光性平版
印刷版は、上記のような処理能力が低下した現像液でも
、標準現像液で処理した場合と同様の現像性を示す幅広
い現像許容性を有することが望まれている。
は通常アルカリ水溶液から成る現像液で行われるが、現
像液の現像能力は種々の条件で変動を受けやすく、例え
ば多量処理による疲労や空気酸化による劣化で現像能力
か低下し、処理しても印刷版の非画像部の感光層が完全
に溶解されなくなる場合がある。このため、感光性平版
印刷版は、上記のような処理能力が低下した現像液でも
、標準現像液で処理した場合と同様の現像性を示す幅広
い現像許容性を有することが望まれている。
(以下、適正な現像結果が得られる現像能力低下の許容
範囲をアンダー現像性という。)又、このような感光性
平版印刷版は、網点画像の再現における小点の再現性が
充分でなく、改善が望まれている。
範囲をアンダー現像性という。)又、このような感光性
平版印刷版は、網点画像の再現における小点の再現性が
充分でなく、改善が望まれている。
一方、このような感光性平版印刷版を用いて画像露光の
後、熱処理してネガ製版したとき、支持体が波打ったり
して画像再現性が悪くなる問題がある。
後、熱処理してネガ製版したとき、支持体が波打ったり
して画像再現性が悪くなる問題がある。
従って、本発明の目的は、適正現像条件の幅(現像のラ
チチュード)が広く、かつ網点の小点の再現性が良く、
かつ画像露光の後、熱処理するネガ製版をしたとき、画
像再現性が良好な感光性平版印刷版を提供することであ
る。
チチュード)が広く、かつ網点の小点の再現性が良く、
かつ画像露光の後、熱処理するネガ製版をしたとき、画
像再現性が良好な感光性平版印刷版を提供することであ
る。
上記本発明の目的は、■、2−ナフトキノンジアジドー
4−スルホン酸エステル又はl、2−ナフトキノンジア
ジド‐4‐スルホン酸アミドを含有する感光性組成物を
支持体上に設けてなる感光性平版印刷版において、該支
持体が、鉄板の表面にめっきしたのち金属又は金属の酸
化物のゾルで表面処理した支持体であることを特徴とす
る感光性平版印刷版によって達成される。
4−スルホン酸エステル又はl、2−ナフトキノンジア
ジド‐4‐スルホン酸アミドを含有する感光性組成物を
支持体上に設けてなる感光性平版印刷版において、該支
持体が、鉄板の表面にめっきしたのち金属又は金属の酸
化物のゾルで表面処理した支持体であることを特徴とす
る感光性平版印刷版によって達成される。
以下、本発明について詳述する。
本発明の感光性平版印刷版の支持体に用いる鉄板の材料
は、純鉄の他、鉄と他の元素との合金を包含する。鉄と
合金をつくる他の元素としては炭素、マンガン、ニッケ
ル等が挙げられる。合金としては、具体的には炭素!(
炭素(0,04〜1.7%)と鉄の合金)、炭素鋼より
炭素含有率の高い鋳鉄、更に他の元素(例えばマンガン
、ニッケル、クロム、コバルト、タングステン、モリブ
デン)ヲ加えた特殊m(例えばマンガン鋼、ニッケル鋼
、クロム鋼、ニッケルークロム鋼)等が挙げられる。
は、純鉄の他、鉄と他の元素との合金を包含する。鉄と
合金をつくる他の元素としては炭素、マンガン、ニッケ
ル等が挙げられる。合金としては、具体的には炭素!(
炭素(0,04〜1.7%)と鉄の合金)、炭素鋼より
炭素含有率の高い鋳鉄、更に他の元素(例えばマンガン
、ニッケル、クロム、コバルト、タングステン、モリブ
デン)ヲ加えた特殊m(例えばマンガン鋼、ニッケル鋼
、クロム鋼、ニッケルークロム鋼)等が挙げられる。
上記炭素鋼としては、極軟鋼(炭素0.25%以下)、
軟m (0,25〜0.5%)、硬鋼(炭素口5〜1.
0%)、極硬鋼(炭素1.0%以上)が包含される。
軟m (0,25〜0.5%)、硬鋼(炭素口5〜1.
0%)、極硬鋼(炭素1.0%以上)が包含される。
好ましい鉄板として、厚み30〜250μmの冷間圧延
鋼箔又は鋼板が挙げられる。鋼板の厚みが250μmを
超えると、版材加工上扱い難く、又材料費の面からも不
経済である。又、鋼箔の厚み40μm未満は現状ではそ
の製造にコストがかかり過ぎて不経済である。なお、冷
延鋼板のうち100μm以下の厚みのものを一般的に鋼
箔と呼んでいるようであり、定かなる定義はない。
鋼箔又は鋼板が挙げられる。鋼板の厚みが250μmを
超えると、版材加工上扱い難く、又材料費の面からも不
経済である。又、鋼箔の厚み40μm未満は現状ではそ
の製造にコストがかかり過ぎて不経済である。なお、冷
延鋼板のうち100μm以下の厚みのものを一般的に鋼
箔と呼んでいるようであり、定かなる定義はない。
本発明において、鉄板の版面となる側の表面はめっきを
施す前に粗面化することが好ましい。粗面化の程度は、
金属又は金属酸化物で表面処理した後の表面の平均粗さ
Ra(JIS B 0601)が後に述べる範囲になる
程度であることが好ましい。
施す前に粗面化することが好ましい。粗面化の程度は、
金属又は金属酸化物で表面処理した後の表面の平均粗さ
Ra(JIS B 0601)が後に述べる範囲になる
程度であることが好ましい。
鉄板の表面を粗面化する手段としては、従来知られた種
々の方法が使用でき、例えば、機械的方法、化学的方法
、電解による方法が挙げられる。
々の方法が使用でき、例えば、機械的方法、化学的方法
、電解による方法が挙げられる。
機械的方法としては例えば、ポール研磨法、ブラシ研磨
法、液体ホーニングによる研磨法等が挙げられる。
法、液体ホーニングによる研磨法等が挙げられる。
化学的方法としては硫酸、リン酸、硝酸、塩酸、シュウ
酸、ピロリン酸、塩化第2鉄等を含む溶液でエツチング
する方法が挙げられる。電解による方法としては電解に
よるエツチングする方法及び電解によりめっきする方法
が挙げられる。電解によりめっきする好ましい方法とし
て、鉄めっきする方法が挙げられる。
酸、ピロリン酸、塩化第2鉄等を含む溶液でエツチング
する方法が挙げられる。電解による方法としては電解に
よるエツチングする方法及び電解によりめっきする方法
が挙げられる。電解によりめっきする好ましい方法とし
て、鉄めっきする方法が挙げられる。
本発明におけるめっき処理は、鉄材に対して防錆効果を
もつN i 、 Cr 、 Cu 、 Zn又はSnを
めっき金属として用いる。なお、めっき金属は、前記の
金属単体に限らず、これらの1種以上を含む合金、或い
はこれらの2種以上の複合めっきも含まれる。めっき厚
みは特に限定しないが、耐食性付与或いは表面粗度調整
の目的を達成すればよく、あとは経済性を配慮して決定
すればよい。
もつN i 、 Cr 、 Cu 、 Zn又はSnを
めっき金属として用いる。なお、めっき金属は、前記の
金属単体に限らず、これらの1種以上を含む合金、或い
はこれらの2種以上の複合めっきも含まれる。めっき厚
みは特に限定しないが、耐食性付与或いは表面粗度調整
の目的を達成すればよく、あとは経済性を配慮して決定
すればよい。
めっき後、必要に応じて化成処理を施すことができる。
化成処理は、クロム酸塩、重クロム酸塩、リン酸塩、モ
リブデン酸塩、ホウ酸塩、過ホウ酸塩などを含む溶液へ
の浸漬、或いは該溶液中での電解による化成処理法が含
まれる。
リブデン酸塩、ホウ酸塩、過ホウ酸塩などを含む溶液へ
の浸漬、或いは該溶液中での電解による化成処理法が含
まれる。
次に、本発明における金属又は金属酸化物のゾルによる
表面処理について説明する。
表面処理について説明する。
本発明に用いるゾルは、金属又は金属酸化物を分散媒と
するゾルで、該金属酸化物は水和物でもよく、分散質で
ある金属又は金属酸化物はゾル中でプラスに電荷を帯び
るものであればよい。
するゾルで、該金属酸化物は水和物でもよく、分散質で
ある金属又は金属酸化物はゾル中でプラスに電荷を帯び
るものであればよい。
分散質を形成する金属及び金属酸化物の金属は、A(2
,Ti、Zr、Cr、Ni、Zn、Sn、Mn、Cu、
Co、Fe、Pb及びCdが好ましく、より好ましいも
のはA(2,Cr、Zr、Ni及びZnであり、特に好
ましいのはAQ、Zr及びNiである。
,Ti、Zr、Cr、Ni、Zn、Sn、Mn、Cu、
Co、Fe、Pb及びCdが好ましく、より好ましいも
のはA(2,Cr、Zr、Ni及びZnであり、特に好
ましいのはAQ、Zr及びNiである。
本発明に用いるゾルにおいて、金属及び金属酸化物は2
種以上を混合(この混合は分散質粒子内でも分散質粒子
間でもよい)して用いることができる。
種以上を混合(この混合は分散質粒子内でも分散質粒子
間でもよい)して用いることができる。
金属又は金属酸化物からなる分散質の粒径は1〜500
nmの範囲が好ましく、500nmを超えるとアルミニ
ウム板へのゾルの付着が不均一となり、従って親木性も
不均一になり、またInm未満ではゾルの製造が難しく
、非常に高価どなり、経済性に欠ける。
nmの範囲が好ましく、500nmを超えるとアルミニ
ウム板へのゾルの付着が不均一となり、従って親木性も
不均一になり、またInm未満ではゾルの製造が難しく
、非常に高価どなり、経済性に欠ける。
本発明に係るゾルによる表面処理方法としては、金属及
び/又は金属酸化物を分散質として含むヒドロシルから
なる処理液中で陰極電解又は浸漬処理全行うのが好まし
い。該ヒドロシル中の金属及び金属酸化物の濃度は1〜
100g/12の範囲が好ましい。該濃度がIg/ff
未満であると親水性に効果がなく、100g/Qを越え
ると親水性に影響ないが、外観を著しく損なうと同時に
ドラッグアウトなどでいたずらにゾルを消費するので好
ましくない。
び/又は金属酸化物を分散質として含むヒドロシルから
なる処理液中で陰極電解又は浸漬処理全行うのが好まし
い。該ヒドロシル中の金属及び金属酸化物の濃度は1〜
100g/12の範囲が好ましい。該濃度がIg/ff
未満であると親水性に効果がなく、100g/Qを越え
ると親水性に影響ないが、外観を著しく損なうと同時に
ドラッグアウトなどでいたずらにゾルを消費するので好
ましくない。
陰極電解榮件としては、使用するゾルの種類によって異
なるが、電流密度は0.5〜IOA/dm”、処理温度
は5〜50°C1処理時間は1〜60秒の範囲が適当で
ある。
なるが、電流密度は0.5〜IOA/dm”、処理温度
は5〜50°C1処理時間は1〜60秒の範囲が適当で
ある。
金属又は金属酸化物の分散質はヒドロシル中でプラスの
電荷を有し、容易にアルミニウム板に吸着し易く、吸着
した後の結合も強固であるから、処理液中に浸漬するだ
けでも効果がある。又、浸漬後そのまま乾燥しても、或
いは水洗した後、乾燥しても良好な親水性を示し、親木
性は長く持続する。更に、ゾル中で分散質がプラスに帯
電しているので、アルミニウム板を陰極として電解すれ
ば、分散質である金属及び/又は金属酸化物が泳動吸着
して、金属及び/又は金属酸化物とアルミニウム板との
結合はより一層強固なものとなる。
電荷を有し、容易にアルミニウム板に吸着し易く、吸着
した後の結合も強固であるから、処理液中に浸漬するだ
けでも効果がある。又、浸漬後そのまま乾燥しても、或
いは水洗した後、乾燥しても良好な親水性を示し、親木
性は長く持続する。更に、ゾル中で分散質がプラスに帯
電しているので、アルミニウム板を陰極として電解すれ
ば、分散質である金属及び/又は金属酸化物が泳動吸着
して、金属及び/又は金属酸化物とアルミニウム板との
結合はより一層強固なものとなる。
又、ゾルの安定性のために処理液中にクロム酸、リン酸
、硫酸、塩酸などの無機酸、クエン酸、酢酸などの有機
酸、或いは界面活性剤を添加することができる。これら
の酸は水洗で容易に除去されるので、耐食性を低下させ
る原因とはならない。
、硫酸、塩酸などの無機酸、クエン酸、酢酸などの有機
酸、或いは界面活性剤を添加することができる。これら
の酸は水洗で容易に除去されるので、耐食性を低下させ
る原因とはならない。
このようにして得たアルミニウム板上の親水性皮膜はア
ルミニウム板と強固に結合しているので、経時によって
劣化することもない。又、処理液は中性ないし弱酸性で
あり、アルカリイオンを含まないことが好ましい。
ルミニウム板と強固に結合しているので、経時によって
劣化することもない。又、処理液は中性ないし弱酸性で
あり、アルカリイオンを含まないことが好ましい。
このような表面処理は、耐食性の改善と同時に版面に形
成される画像の密着性に対しても効果的に作用する。特
にめっきする方法では、電着核の適当な成長によって、
表面の二次粗面化にも役立っているので特に効果的であ
る。その場合は平滑なめっき条件よりも凹凸になるよう
な、めっき条件を選ぶ方が好ましく、そのめっき厚みは
鋼板の耐食性が保証されるところを下限とするように設
定するのが経済的である。Znのように安価な金属なら
ともか<CrやNiのように高価な金属はいたずらに厚
くする必要はない。
成される画像の密着性に対しても効果的に作用する。特
にめっきする方法では、電着核の適当な成長によって、
表面の二次粗面化にも役立っているので特に効果的であ
る。その場合は平滑なめっき条件よりも凹凸になるよう
な、めっき条件を選ぶ方が好ましく、そのめっき厚みは
鋼板の耐食性が保証されるところを下限とするように設
定するのが経済的である。Znのように安価な金属なら
ともか<CrやNiのように高価な金属はいたずらに厚
くする必要はない。
本発明の支持体において、表面処理された面は、親水性
を維持するためには、表面の平均粗さRa(JIS B
0601)が0.1−3 p mの範囲にあるのが好
ましく、0.1μm未満であれば表面が平滑に近くなる
ので親水性が十分でなく、又3μmを越えると粗すぎて
印刷での画像のにじみが多くなり良好な印刷物は得られ
ない。親水性に好ましい表面粗さを得る方法として、砂
目室てなどの機械的な方法、薬液により金属表面をエツ
チングする化学的な方法、電解により金属板面に厚くめ
っきするか、電解により金属板面をエツチングする電気
化学的な方法などがあるが、電気めっきを施す際に調整
するのが最も簡単な方法である。このような表面粗さは
、前述の表面処理を施した後に評価すればよい。
を維持するためには、表面の平均粗さRa(JIS B
0601)が0.1−3 p mの範囲にあるのが好
ましく、0.1μm未満であれば表面が平滑に近くなる
ので親水性が十分でなく、又3μmを越えると粗すぎて
印刷での画像のにじみが多くなり良好な印刷物は得られ
ない。親水性に好ましい表面粗さを得る方法として、砂
目室てなどの機械的な方法、薬液により金属表面をエツ
チングする化学的な方法、電解により金属板面に厚くめ
っきするか、電解により金属板面をエツチングする電気
化学的な方法などがあるが、電気めっきを施す際に調整
するのが最も簡単な方法である。このような表面粗さは
、前述の表面処理を施した後に評価すればよい。
本発明における1、2−ナフトキノン−2−ジアジド4
−スルホン酸エステル化合物及び1.2−ナフトキノソ
ー2−ジアジド‐4‐スルホン酸アミド化合物(以下、
これらを「本発明の化合物」と称す)としては公知の種
々の化合物が使用できるが、特に12−ナフト−2−ジ
アジド‐4‐スルホン酸と、フェノール類及びアルデヒ
ド又はケトンの重縮合樹脂とのエステル化合物が好まし
く用いられる。
−スルホン酸エステル化合物及び1.2−ナフトキノソ
ー2−ジアジド‐4‐スルホン酸アミド化合物(以下、
これらを「本発明の化合物」と称す)としては公知の種
々の化合物が使用できるが、特に12−ナフト−2−ジ
アジド‐4‐スルホン酸と、フェノール類及びアルデヒ
ド又はケトンの重縮合樹脂とのエステル化合物が好まし
く用いられる。
前記フェノール類としては、例えば、フェノール、0−
クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、3.5
−キシレノール、カルバクロール、チモール等の一価フ
エノール、カテコール、レゾルシン、ヒドロキノン等の
二価フェノール、ピロガロール、フロログルシン等の三
価フェノール等が挙げられる。前言己アルデヒドとして
はホルムアルデヒドベンズアルデヒド、アセトアルデヒ
ド、クロトンアルデヒド、フルフラール等が挙げられる
。これらのうち好ましいものはホルムアルデヒド及びベ
ンズアルデヒドである。又、前記ケトンとしてはアセト
ン、メチルエチルケトン等が挙げられる。
クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、3.5
−キシレノール、カルバクロール、チモール等の一価フ
エノール、カテコール、レゾルシン、ヒドロキノン等の
二価フェノール、ピロガロール、フロログルシン等の三
価フェノール等が挙げられる。前言己アルデヒドとして
はホルムアルデヒドベンズアルデヒド、アセトアルデヒ
ド、クロトンアルデヒド、フルフラール等が挙げられる
。これらのうち好ましいものはホルムアルデヒド及びベ
ンズアルデヒドである。又、前記ケトンとしてはアセト
ン、メチルエチルケトン等が挙げられる。
前記重縮合樹脂の具体的な例としては、フェノール・ホ
ルムアルデヒド樹脂、m−クレゾール・ホルムアルデヒ
ド樹脂、p−クレゾール・ホルムアルデヒド樹脂、m−
1p−混合クレゾール・ホルムアルデヒド樹脂、レゾル
シン・ベンズアルデヒド樹脂、ピロガロール・アセトン
樹脂等が挙げられる。
ルムアルデヒド樹脂、m−クレゾール・ホルムアルデヒ
ド樹脂、p−クレゾール・ホルムアルデヒド樹脂、m−
1p−混合クレゾール・ホルムアルデヒド樹脂、レゾル
シン・ベンズアルデヒド樹脂、ピロガロール・アセトン
樹脂等が挙げられる。
前記本発明の化合物のフェノール類のOH基に対する1
,2−ナフトキノン−2−ジアジド‐4‐スルホン酸の
縮合率(OH基1個に対する反応率)は、15〜80%
か好ましく、より好ましくは20〜60%である。
,2−ナフトキノン−2−ジアジド‐4‐スルホン酸の
縮合率(OH基1個に対する反応率)は、15〜80%
か好ましく、より好ましくは20〜60%である。
更に本発明の化合物としてはポリヒドロキシ化合物の1
,2−ナフトキノン−2−ジアジド‐4‐スルホン酸エ
ステル化合物か挙げられ、このような化合物としては、
例えば1.2−す7トキノン・ジアジド‐4‐スルホン
酸シクロヘキシルエステル、1− (1.2−ナフトキ
ノンジアジド‐4‐スルボニル) =3.5−ジメチル
ピラゾール、1,2‐ナフトキノンジアジド‐4‐スル
ホン酸−4”−ヒドロキシジフェニル−4″−7ソーβ
−ナフトールエステル、2’− (1,2−ナフトキノ
ンジアジ1〜′‐4‐スルホニルオキシ)−1−ヒドロ
キシ−アントラキノン、12−ナフトキノンジアジド‐
4‐スルホ7 酸−2.4− シヒドロキシベンゾフェ
ノンエスチル、l,2−ナフトキノンジアジド‐4‐ス
ルホン酸2、3.4−トリヒドロキシベンゾフェノンエ
ステル、1、2−ナフトキノンジアジド‐4‐スルホン
酸−2.3.4 ’。
,2−ナフトキノン−2−ジアジド‐4‐スルホン酸エ
ステル化合物か挙げられ、このような化合物としては、
例えば1.2−す7トキノン・ジアジド‐4‐スルホン
酸シクロヘキシルエステル、1− (1.2−ナフトキ
ノンジアジド‐4‐スルボニル) =3.5−ジメチル
ピラゾール、1,2‐ナフトキノンジアジド‐4‐スル
ホン酸−4”−ヒドロキシジフェニル−4″−7ソーβ
−ナフトールエステル、2’− (1,2−ナフトキノ
ンジアジ1〜′‐4‐スルホニルオキシ)−1−ヒドロ
キシ−アントラキノン、12−ナフトキノンジアジド‐
4‐スルホ7 酸−2.4− シヒドロキシベンゾフェ
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ルホン酸2、3.4−トリヒドロキシベンゾフェノンエ
ステル、1、2−ナフトキノンジアジド‐4‐スルホン
酸−2.3.4 ’。
4′−テトラヒドロキシベンゾフェノンエステル、12
−ナフトキノンジアジド−4′−スルホン酸クロリド2
モルと4,4′−ジヒドロキシ−1,1′−ジフェニル
スルホン1モルの縮合物、■,2ーナフトキノンジアジ
ドー4−スルホン酸クロリド1モルとプルプロカリン1
モルの縮合物等が挙げられる。
−ナフトキノンジアジド−4′−スルホン酸クロリド2
モルと4,4′−ジヒドロキシ−1,1′−ジフェニル
スルホン1モルの縮合物、■,2ーナフトキノンジアジ
ドー4−スルホン酸クロリド1モルとプルプロカリン1
モルの縮合物等が挙げられる。
又、更に下記に示すようなポリウレタン樹脂の1、2−
す71−キノン−2−ジアジド‐4‐スルホン酸エステ
ル化合物も使用しうる。
す71−キノン−2−ジアジド‐4‐スルホン酸エステ
ル化合物も使用しうる。
又、本発明の化合物としてはフェノール性水酸基を有す
るビニル重合体と1,2−ナフトキノン−2−ジアジド
‐4‐スルホン酸とのエステル化合物も使用することが
できる。このようなエステル化合物を形成するフェノー
ル性水酸基を有するビニル重合体としてフェノール性水
酸基を有する単位を分子構造中に有する重合体であり、
好ましくは、後述するアルカリ可溶性樹脂として用いら
れるフェノール性水酸基を有する構造単位を分子構造中
に有するビニル系重合体と同様のものが用いられる。
るビニル重合体と1,2−ナフトキノン−2−ジアジド
‐4‐スルホン酸とのエステル化合物も使用することが
できる。このようなエステル化合物を形成するフェノー
ル性水酸基を有するビニル重合体としてフェノール性水
酸基を有する単位を分子構造中に有する重合体であり、
好ましくは、後述するアルカリ可溶性樹脂として用いら
れるフェノール性水酸基を有する構造単位を分子構造中
に有するビニル系重合体と同様のものが用いられる。
本発明における1、2−ナフトキノン−2−ジアジド4
−スルホン酸アミド化合物としては、1,2−ナフトキ
ノン−2−ジアジド‐4‐スルホニルクロライドとアミ
ノ化合物との縮合物が好ましく用いられる。
−スルホン酸アミド化合物としては、1,2−ナフトキ
ノン−2−ジアジド‐4‐スルホニルクロライドとアミ
ノ化合物との縮合物が好ましく用いられる。
アミノ化合物としては、アニリン、0−アミノフェノー
ル、m−アミノフェノール、p−アミノフェノール、ク
ロロアニリン、ジクロロアニリン、l−リクロロアニリ
ン、ニトロアニリン、アミンニトロアニリン、ジニトロ
アニリン、ニトロクロロアニリン、シアノアニリン、ク
ロロンアノアニリン、フェノキシアニリン、メトキシア
ニリン、エトキシアニリン、カルバモイルアニリン、カ
ルボキシアニリン等の化合物か挙げられる。
ル、m−アミノフェノール、p−アミノフェノール、ク
ロロアニリン、ジクロロアニリン、l−リクロロアニリ
ン、ニトロアニリン、アミンニトロアニリン、ジニトロ
アニリン、ニトロクロロアニリン、シアノアニリン、ク
ロロンアノアニリン、フェノキシアニリン、メトキシア
ニリン、エトキシアニリン、カルバモイルアニリン、カ
ルボキシアニリン等の化合物か挙げられる。
本発明の化合物としては上記化合物を各々単独で用いて
もよいし、2種以上組合せて用いてもよい。
もよいし、2種以上組合せて用いてもよい。
本発明の感光性組成物中における本発明の化合物の占め
る割合は、5〜60重量%か好ましく、特に好ましくは
、10〜50重量%である。
る割合は、5〜60重量%か好ましく、特に好ましくは
、10〜50重量%である。
本発明の感光性組成物には酸無水物及び/又は有機酸を
含有させることができる。有機酸としては公知の種々の
有機酸がすべて用いられるが、pKa値が2以上である
何機酸が好ましく、更に好ましくはpKa値が30〜9
.0であり、特に好ましくは3.5〜8.0の有機酸が
用いられる。但し、これらのpKa値は25°Cにおけ
る値である。
含有させることができる。有機酸としては公知の種々の
有機酸がすべて用いられるが、pKa値が2以上である
何機酸が好ましく、更に好ましくはpKa値が30〜9
.0であり、特に好ましくは3.5〜8.0の有機酸が
用いられる。但し、これらのpKa値は25°Cにおけ
る値である。
このような有機酸としては、例えば化学便覧基礎編■(
丸首(株)1966年、第1054〜1058頁)に記
載されている有機酸で、前記pKa値を示し得る化合物
をすべて挙げることができる。
丸首(株)1966年、第1054〜1058頁)に記
載されている有機酸で、前記pKa値を示し得る化合物
をすべて挙げることができる。
上記有機酸の感光層中に占める割合は0.05〜10重
量%が適当であり、好ましくは0゜1〜5重量%である
。
量%が適当であり、好ましくは0゜1〜5重量%である
。
又、酸無水物としては公知の種々の酸無水物がすへて用
いられるが、好ましくは環状酸無水物であり、このよう
なものとして例えば無水フタル酸、テトラヒドロ無水フ
タル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、3,6−ニノドオ
キシーΔ4−テトラヒドロ無水フタル酸、テトラクロロ
無水フタル酸、無水グルタル酸、無水マレイン酸、クロ
ロ無水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水
コハク酸、ピロメリット酸等が挙げられる。これらの酸
無水物は感光層中に0.05〜10重量%、特に0.1
〜5重量%含有されることが好ましい。
いられるが、好ましくは環状酸無水物であり、このよう
なものとして例えば無水フタル酸、テトラヒドロ無水フ
タル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、3,6−ニノドオ
キシーΔ4−テトラヒドロ無水フタル酸、テトラクロロ
無水フタル酸、無水グルタル酸、無水マレイン酸、クロ
ロ無水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水
コハク酸、ピロメリット酸等が挙げられる。これらの酸
無水物は感光層中に0.05〜10重量%、特に0.1
〜5重量%含有されることが好ましい。
本発明の感光性組成物にはアルカリ可溶性樹脂として、
当分野において公知の種々の樹脂を用いることができる
が、特にノボラック樹脂及びフェノール性水酸基を有す
る構造単位を分子構造中に有するビニル系重合体が好ま
しい。
当分野において公知の種々の樹脂を用いることができる
が、特にノボラック樹脂及びフェノール性水酸基を有す
る構造単位を分子構造中に有するビニル系重合体が好ま
しい。
本発明に好ましく用いられるノボラック樹脂としては、
フェノール類とホルムアルデヒドを酸触媒の存在下で縮
合して得られる樹脂か挙げられ、該フェノール類として
は、例えばフェノール、0クレゾール、m−クレゾール
、p−クレゾール、3.5−キシレノール、2,4−キ
シレノール、2,5−キシレノ−ル、カルバクロール、
チモール、カテコール、レゾルシン、ヒドロキノン、ピ
ロガロール、70口グルシン等が挙げられる。
フェノール類とホルムアルデヒドを酸触媒の存在下で縮
合して得られる樹脂か挙げられ、該フェノール類として
は、例えばフェノール、0クレゾール、m−クレゾール
、p−クレゾール、3.5−キシレノール、2,4−キ
シレノール、2,5−キシレノ−ル、カルバクロール、
チモール、カテコール、レゾルシン、ヒドロキノン、ピ
ロガロール、70口グルシン等が挙げられる。
上記フェノール類化合物は単独で又は2種以上組合せて
ホルムアルデヒドと縮合し樹脂を得ることができる。こ
れらのうち好ましいノボラック樹脂は、フェノール、m
−クレゾール(又は。−クレゾール)及びp−クレゾー
ルから選ばれる少なくとも1種とホルムアルデヒドとを
共重縮合して得られる樹脂であり、例えば、フェノール
・ホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾール・ホルムアル
デヒド樹脂、0−クレゾール・ホルムアルデヒド樹脂、
フェノール・p−クレゾール・ホルムアルデヒド共重合
体樹脂、m−クレゾール・p−クレゾール・ホルムアル
デヒド共重縮合体樹脂、0−クレゾール・p−クレゾー
ル・ホルムアルデヒド共重縮合体樹脂、フェノール・m
−クレゾール・p−クレゾール・ホルムアルデヒド共重
縮合体樹脂、フェノール・0−クレシル・p−クレゾー
ル・ホルムアルデヒド共重縮合体樹脂が挙げられる。更
に上記のノボラック樹脂のうち、フェノール・m−クレ
ゾール・p−クレシル・ホルムアルデヒド樹脂が好まし
い。
ホルムアルデヒドと縮合し樹脂を得ることができる。こ
れらのうち好ましいノボラック樹脂は、フェノール、m
−クレゾール(又は。−クレゾール)及びp−クレゾー
ルから選ばれる少なくとも1種とホルムアルデヒドとを
共重縮合して得られる樹脂であり、例えば、フェノール
・ホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾール・ホルムアル
デヒド樹脂、0−クレゾール・ホルムアルデヒド樹脂、
フェノール・p−クレゾール・ホルムアルデヒド共重合
体樹脂、m−クレゾール・p−クレゾール・ホルムアル
デヒド共重縮合体樹脂、0−クレゾール・p−クレゾー
ル・ホルムアルデヒド共重縮合体樹脂、フェノール・m
−クレゾール・p−クレゾール・ホルムアルデヒド共重
縮合体樹脂、フェノール・0−クレシル・p−クレゾー
ル・ホルムアルデヒド共重縮合体樹脂が挙げられる。更
に上記のノボラック樹脂のうち、フェノール・m−クレ
ゾール・p−クレシル・ホルムアルデヒド樹脂が好まし
い。
本発明において、上記ノボラック樹脂は単独で用いても
よいし、又2種以上組合せて用いてもよい。
よいし、又2種以上組合せて用いてもよい。
上記ノボラック樹脂の分子量(ポリスチレン標準)とし
ては、重量平均分子量Mwが2.OX 103〜2、O
X 10’で、数平均分子量Mnが7.OX 102−
5.0X103の範囲内の値であることが好ましく、更
に、好ましくはMwが3.OX 103〜6.OX 1
03、Mnが7.7×102〜1.2X 103の範囲
内の値である。
ては、重量平均分子量Mwが2.OX 103〜2、O
X 10’で、数平均分子量Mnが7.OX 102−
5.0X103の範囲内の値であることが好ましく、更
に、好ましくはMwが3.OX 103〜6.OX 1
03、Mnが7.7×102〜1.2X 103の範囲
内の値である。
本発明におけるノボラック樹脂の分子量の測定は、GP
C(ゲルパーミェーションクロマトグラフィー法)によ
って行う。
C(ゲルパーミェーションクロマトグラフィー法)によ
って行う。
又、本発明に好ましく用いられるフェノール性水酸基を
有する構造単位を分子構造中に有するビニル系重合体と
しては、炭素−炭素二重結合が開裂して、重合してでき
た重合体であり下記一般式〔I〕〜(Vl)の少なくと
も1つの構造単位を含む重合体が好ましく用いられる。
有する構造単位を分子構造中に有するビニル系重合体と
しては、炭素−炭素二重結合が開裂して、重合してでき
た重合体であり下記一般式〔I〕〜(Vl)の少なくと
も1つの構造単位を含む重合体が好ましく用いられる。
一般式CI)
−t7cR,R2−CR,÷
0−CO−B−0)i
一般式〔■〕
−eCRIR2CR3+
C0NR,←A→−−OH
般式〔I[I)
−←CRIR2CR3+
Coo−(’ A−)BB−OH
一般式[■〕
一+CR、R2−CR3→−
−0H
一般式〔■〕
OH
式中、R1及びR2はそれぞれ水素原子、アルキル基、
又はカルボキシル基を表し、好ましくは水素原子である
。R3は水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基を表し
、好ましくは水素原子又はメチル基、エチル基等のアル
キル基である。R1は水素原子、アルキル基、アリール
基又はアラルキル基を表し、好ましくは水素原子である
。
又はカルボキシル基を表し、好ましくは水素原子である
。R3は水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基を表し
、好ましくは水素原子又はメチル基、エチル基等のアル
キル基である。R1は水素原子、アルキル基、アリール
基又はアラルキル基を表し、好ましくは水素原子である
。
Aは窒素原子又は酸素原子と芳香族炭素原子とを連結す
る置換基を有してもよいアルキレン基を表し、mは0〜
10の整数を表し、Bは置換基を有してもよいフェニレ
ン基又は置換基を有してもよいナフチレン基を表す。
る置換基を有してもよいアルキレン基を表し、mは0〜
10の整数を表し、Bは置換基を有してもよいフェニレ
ン基又は置換基を有してもよいナフチレン基を表す。
本発明においては、これらのうち一般式〔■〕で示され
る構造単位を少なくとも1つ含む共重合体が好ましい。
る構造単位を少なくとも1つ含む共重合体が好ましい。
前記ビニル系重合体としては共重合体型の構造を有して
いることが好ましく、この共重合体において、前記一般
式〔■〕〜(Vl)の各々で示される構造単位の少なく
とも1種と組合せて用いることができる単量体単位とし
ては、例えばエチレン、プロピレン、インブチレン、ブ
タジェン、イソプレン等のエチレン系不飽和オレフィン
類、例えばスチレン、α−メチルスチレン、p−メチル
スチレン、p−クロロスチレン等のスチレン類、例えば
アクリル酸、メタクリル酸等のアクリル酸類、例えばイ
タコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸等の不飽和脂肪
族ジカルボン酸類、例えばアクリル酸メチル、アクリル
酸エチル、アクリル酸n−ブチル、アクリル酸イソブチ
ル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸2−クロロエチル
、アクリル酸フェニル、α−クロロアクリル酸メチル、
メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、エタクリル
酸エチル等のα−メチレン脂肪族モノカルボン酸のエス
テル類、例えばアクリロニトリル、メタアクリロニトリ
ル等のニトリル類、例えばアクリルアミド等のアミド類
、例えばアクリルアニリド、p−クロロアクリルアニリ
ド、m−二トロアクリルアニリド、m−メトキシアクリ
ルアニリド等のアニリド類、例えハ酢酸ビニル、プロピ
オン酸ビニル、ベンジェ酸ビニル、酪酸ビニル等のビニ
ルエステル類、例えばメチルビニルエーテル、エチルヒ
ニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、β−クロロ
エチルビニルエーテル等のビニルエーテル類、塩化ビニ
ル、ビニリデンクロライド、ビニリデンシアナイト、例
えば1−メチル−1−メトキシエチレン、1.1−ジメ
トキシエチレン、■、2−ジメトキシエチレン、1.1
−ジメトキシカルボニルエチレン、1−メチル−1−二
トロエチレン等のエチレン誘導体類、例えばN−ビニル
ピロール、N−ビニルカルバゾール、N−ビニルインド
ール、N−ビニルピロリドン、N−ビニルピロリドン等
のN−ビニル化合物、等のビニル系単量体がある。これ
らのビニル系単量体は不飽和二重結合が開裂した構造で
高分子化合物中に存在する。
いることが好ましく、この共重合体において、前記一般
式〔■〕〜(Vl)の各々で示される構造単位の少なく
とも1種と組合せて用いることができる単量体単位とし
ては、例えばエチレン、プロピレン、インブチレン、ブ
タジェン、イソプレン等のエチレン系不飽和オレフィン
類、例えばスチレン、α−メチルスチレン、p−メチル
スチレン、p−クロロスチレン等のスチレン類、例えば
アクリル酸、メタクリル酸等のアクリル酸類、例えばイ
タコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸等の不飽和脂肪
族ジカルボン酸類、例えばアクリル酸メチル、アクリル
酸エチル、アクリル酸n−ブチル、アクリル酸イソブチ
ル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸2−クロロエチル
、アクリル酸フェニル、α−クロロアクリル酸メチル、
メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、エタクリル
酸エチル等のα−メチレン脂肪族モノカルボン酸のエス
テル類、例えばアクリロニトリル、メタアクリロニトリ
ル等のニトリル類、例えばアクリルアミド等のアミド類
、例えばアクリルアニリド、p−クロロアクリルアニリ
ド、m−二トロアクリルアニリド、m−メトキシアクリ
ルアニリド等のアニリド類、例えハ酢酸ビニル、プロピ
オン酸ビニル、ベンジェ酸ビニル、酪酸ビニル等のビニ
ルエステル類、例えばメチルビニルエーテル、エチルヒ
ニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、β−クロロ
エチルビニルエーテル等のビニルエーテル類、塩化ビニ
ル、ビニリデンクロライド、ビニリデンシアナイト、例
えば1−メチル−1−メトキシエチレン、1.1−ジメ
トキシエチレン、■、2−ジメトキシエチレン、1.1
−ジメトキシカルボニルエチレン、1−メチル−1−二
トロエチレン等のエチレン誘導体類、例えばN−ビニル
ピロール、N−ビニルカルバゾール、N−ビニルインド
ール、N−ビニルピロリドン、N−ビニルピロリドン等
のN−ビニル化合物、等のビニル系単量体がある。これ
らのビニル系単量体は不飽和二重結合が開裂した構造で
高分子化合物中に存在する。
上記の単量体のうち、一般式〔■〕〜〔■〕で示される
構造単位の少なくとも1種と組合せて用いるものとして
、(メタ)アクリル酸類、脂肪族モノカルボン酸のエス
テル類、ニトリル類が総合的に優れた性能を示し、好ま
しい。より好ましくは、メタクリル酸、メタクリル酸メ
チル、アクリロニトリル、アクリル酸エチル等である。
構造単位の少なくとも1種と組合せて用いるものとして
、(メタ)アクリル酸類、脂肪族モノカルボン酸のエス
テル類、ニトリル類が総合的に優れた性能を示し、好ま
しい。より好ましくは、メタクリル酸、メタクリル酸メ
チル、アクリロニトリル、アクリル酸エチル等である。
これらの単量体は前記ビニル系重合体中にブロック又は
ランダムのいずれの状態で結合していてもよい。
ランダムのいずれの状態で結合していてもよい。
前記ビニル系重合体中における、一般式CI)〜〔■〕
のそれぞれで示される構造単位の含有率は、5〜70モ
ル%か好ましく、特に、 10〜40モル%が好ましい
。
のそれぞれで示される構造単位の含有率は、5〜70モ
ル%か好ましく、特に、 10〜40モル%が好ましい
。
前記の重合体は1種のみで用いてもよいが、2種以上併
用して感光性組成物中に含んでいてもよい。
用して感光性組成物中に含んでいてもよい。
本発明の感光性組成物中における上記アルカリ可溶性樹
脂の占める割合は50〜95重量%が好ましく、更に好
ましくは60〜90重量%である。
脂の占める割合は50〜95重量%が好ましく、更に好
ましくは60〜90重量%である。
本発明の感光性組成物は、露光により酸もしくは遊離基
を生成する化合物と、これと相互作用することによりそ
の色調を変える変色剤から成るプリントアウト材料を含
有することができる。
を生成する化合物と、これと相互作用することによりそ
の色調を変える変色剤から成るプリントアウト材料を含
有することができる。
本発明の感光性組成物は更にアルキル置換フェノールと
ホルムアルデヒドとの縮合樹脂などのような感脂化剤を
含有することもできる。
ホルムアルデヒドとの縮合樹脂などのような感脂化剤を
含有することもできる。
本発明の感光性組成物は上記のような素材を組合せ、特
に本発明の化合物を含有することにより、本発明の目的
を達成し得るものであるが、このような各々の素材の他
、必要に応じて更に染料、顔料等の色素、増感剤、可塑
剤、界面活性剤などを添加することができる。
に本発明の化合物を含有することにより、本発明の目的
を達成し得るものであるが、このような各々の素材の他
、必要に応じて更に染料、顔料等の色素、増感剤、可塑
剤、界面活性剤などを添加することができる。
更に、これらの各成分を下記の溶媒に溶解させ、これを
適当な支持体の表面に塗布乾燥させることにより、感光
層を設けて、感光性平版印刷板を形成することができる
。
適当な支持体の表面に塗布乾燥させることにより、感光
層を設けて、感光性平版印刷板を形成することができる
。
本発明の感光性組成物の各成分を溶解する際に使用し得
る溶媒としては、メチルセロソルブ、メチルセロソルブ
アセテート、エチルセロソルブ、エチルセロソルブアセ
テート等のセロソルブ類、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルスルホキシド、ジオキサン、アセトン、シクロヘキ
サノン、トリクロロエチレン、メチルエチルケトン等が
挙げられる。これら溶媒は、単独或いは2種以上混合し
て使用することができる。
る溶媒としては、メチルセロソルブ、メチルセロソルブ
アセテート、エチルセロソルブ、エチルセロソルブアセ
テート等のセロソルブ類、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルスルホキシド、ジオキサン、アセトン、シクロヘキ
サノン、トリクロロエチレン、メチルエチルケトン等が
挙げられる。これら溶媒は、単独或いは2種以上混合し
て使用することができる。
本発明の感光性組成物を支持体表面に塗布する際に用い
る塗布方法としては、従来公知の方法、例えば、回転塗
布、ワイヤーバー塗布、デイツプ塗布、エアーナイフ塗
布、ロール塗布、ブレード塗布及びカーテン塗布等が可
能である。この際塗布量は用途により異なるが、例えば
固形分として0.5〜5.0g/m2が好ましい。
る塗布方法としては、従来公知の方法、例えば、回転塗
布、ワイヤーバー塗布、デイツプ塗布、エアーナイフ塗
布、ロール塗布、ブレード塗布及びカーテン塗布等が可
能である。この際塗布量は用途により異なるが、例えば
固形分として0.5〜5.0g/m2が好ましい。
本発明の感光性組成物を適用した感光性平版印刷版は、
通常の方法で現像処理することができる。
通常の方法で現像処理することができる。
例えば、透明陽画フィルムを通して超高圧水銀灯、メタ
ルハライドランプ、キセノンランプ、タングステンラン
プ等の光源により露光し、次いで種々のアルカリ現像液
にて現像する。この結果未露光部分のみが支持体表面に
残り、ポジーポジ型のレリーフ像が形成される。
ルハライドランプ、キセノンランプ、タングステンラン
プ等の光源により露光し、次いで種々のアルカリ現像液
にて現像する。この結果未露光部分のみが支持体表面に
残り、ポジーポジ型のレリーフ像が形成される。
上記アルカリ現像液としては、例えば水酸化ナトリウム
、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、メ
タケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム、第ニリン酸
ナトリウム、第三リン酸ナトリウム等のアルカリ金属塩
の水溶液が挙げられる。アルカリ金属塩の濃度は01〜
10重量%が好ましい。又、該現像液中に必要に応じア
ニオン性界面活性剤、両性界面活性剤やアルコール等の
有機溶媒を加えることができる。
、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、メ
タケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム、第ニリン酸
ナトリウム、第三リン酸ナトリウム等のアルカリ金属塩
の水溶液が挙げられる。アルカリ金属塩の濃度は01〜
10重量%が好ましい。又、該現像液中に必要に応じア
ニオン性界面活性剤、両性界面活性剤やアルコール等の
有機溶媒を加えることができる。
本発明の感光性平版印刷版をネガ製版として使用するに
は、画像露光の後、熱処理する公知の方法を適用すれば
よい。
は、画像露光の後、熱処理する公知の方法を適用すれば
よい。
以下に本発明を実施例により具体的に説明するが、本発
明はその要旨を超えない限りこれら実施例に限定される
ものではない。
明はその要旨を超えない限りこれら実施例に限定される
ものではない。
支持体の作製
支持体−1
厚み0.15mmの鋼板の平面をボーメ40′の塩化第
二鉄溶液でエツチングして、粗面化し、これに硫酸塩浴
を用い、温度50°C1電流密度5A/dm2の条件テ
、Znを4μmメツキした後、親水化処理として粒径1
100nのCrゾル20g/12. リン酸10gIQ
を含む溶液で、鋼板を陰極として2A/dm2の電流密
度で30秒電解を行い、水洗後乾燥して支持体−1を得
た。
二鉄溶液でエツチングして、粗面化し、これに硫酸塩浴
を用い、温度50°C1電流密度5A/dm2の条件テ
、Znを4μmメツキした後、親水化処理として粒径1
100nのCrゾル20g/12. リン酸10gIQ
を含む溶液で、鋼板を陰極として2A/dm2の電流密
度で30秒電解を行い、水洗後乾燥して支持体−1を得
た。
支持体−2
厚み0.09mmの圧延鋼箔表面に5μMのFeメツキ
を施して、表面粗さ(Ra)0.4μmとし、更にサー
ジェント浴を用いて、温度45°C1電流密度40A
/dm2の条件で、厚み0.1μmのCrメッギを行い
、親水化処理として粒径50nmのアルミナゾル(アル
ミナゾル−200、日産化学製) 30g/(2、クロ
ム酸5g/Qを含む水溶液中に浸漬し、乾燥して支持体
−2を得た。
を施して、表面粗さ(Ra)0.4μmとし、更にサー
ジェント浴を用いて、温度45°C1電流密度40A
/dm2の条件で、厚み0.1μmのCrメッギを行い
、親水化処理として粒径50nmのアルミナゾル(アル
ミナゾル−200、日産化学製) 30g/(2、クロ
ム酸5g/Qを含む水溶液中に浸漬し、乾燥して支持体
−2を得た。
支持体−3
厚み0.15mmの鋼板の平面をボーメ40′の塩化第
二鉄溶液でエツチングして粗面化し、これに硫酸塩浴を
用い、温度50℃、電流密度5A /dm”の条件で、
Znを4μmにメツキ処理した。
二鉄溶液でエツチングして粗面化し、これに硫酸塩浴を
用い、温度50℃、電流密度5A /dm”の条件で、
Znを4μmにメツキ処理した。
次いで親水化処理として粒径40nmの亜鉛ゾル30g
IQ、 ’)ン酸10g10.を含む水溶液中に浸漬し
乾燥し、支持体−3を得た。
IQ、 ’)ン酸10g10.を含む水溶液中に浸漬し
乾燥し、支持体−3を得た。
比較支持体−1
厚み0.24mmのアルミニウム板を脱脂処理後、L7
g/Qの塩酸浴中で浴温度25°Cにて、電流密度50
A /dm2で25秒間電解研磨処理を行った。
g/Qの塩酸浴中で浴温度25°Cにて、電流密度50
A /dm2で25秒間電解研磨処理を行った。
次に10gIQのNaOH水溶液で50°C113秒デ
スマツト処理を行った。
スマツト処理を行った。
更に40%硫酸水溶液、30°C4電流密度1.5A
/dm2で2分間陽極酸化処理を行い、次いで90°C
の水溶液で25秒間熱水処理を行った。続いて、親水化
処理として粒径1100nのCrゾル20gIQ、
リン酸Log/(2を含む溶液で、鋼板を陰極として2
A/dm2の電流密度で30秒電解を行い、水洗後乾燥
して比較支持体−1を得た。できあがった比較支持体−
1の表面粗さ(Ra)は0.5μmであった。
/dm2で2分間陽極酸化処理を行い、次いで90°C
の水溶液で25秒間熱水処理を行った。続いて、親水化
処理として粒径1100nのCrゾル20gIQ、
リン酸Log/(2を含む溶液で、鋼板を陰極として2
A/dm2の電流密度で30秒電解を行い、水洗後乾燥
して比較支持体−1を得た。できあがった比較支持体−
1の表面粗さ(Ra)は0.5μmであった。
感光液の作製
感光液−1
ピロガロール・アセトン樹脂と
0−ナフトキノンジアジド‐4‐
スルホニルクロライドとの縮合物・・・2.2重量部(
幹ポリマーの重量平均分子量(M w) −2500。
幹ポリマーの重量平均分子量(M w) −2500。
OH基の縮合率33モル%)
フェノール1m−クレゾール・p−クレゾール(重量比
3:4:3) ホルマリンノボラック樹脂 ・・・8 重量部p−
オクチルフェノール・ホルマリン ノボラック樹脂と0−ナフトキノンジ アジド−5−スルホニルクレゾールとの縮合物(OH基
の縮合率50モル%) ・・・0.1重量部2−トリク
ロロメチル−β−(2′−ベンゾフリル)ヒニルL3.
4−オキサシアソール ・・0.06重量部ビクトリア
プユアブルーBOH (保止ケ谷化学(株)製) ・・・008重量
部メチルセロソルブ ・・・10 重量
部エチルセロソルブ ・・・40 重量
部感光液−2 m−クレゾール・ホルマリンノボラック樹脂と0−ナフ
トキノンジアジド−4 スルホニルクロライドとの縮合物・・・25重量部(幹
ポリマーの重量平均分子量(M w) −20000H
基の縮合率25モル%) p−ヒドロキシフェニルメタクリルアミド・アクリロニ
トリル・エチルアクリレート・メタクリル酸(モル比2
0:20:58:2)コポリマー(M w= 30,0
00) −= 8 重量部p−オクチルフェ
ノール− ホルマリンノボラック樹脂 ・・・0.1重量部
2−トリクロロメチル−p−ブトキシ スチリル−1,3,4オキサジアゾール・・・0.08
重量部ヒクトリアプユアブルーBOFI (採土ケ谷化学(株)製 ・・・0,08重
量部メチルセロソルブ ・・・10 重
量部エチルセロソルブ ・・・40 重
量部前記支持体と上記感光液とを下記表1に示す組合せ
で感光性平版印刷版試料No、I −No、 4を作製
しlこ。
3:4:3) ホルマリンノボラック樹脂 ・・・8 重量部p−
オクチルフェノール・ホルマリン ノボラック樹脂と0−ナフトキノンジ アジド−5−スルホニルクレゾールとの縮合物(OH基
の縮合率50モル%) ・・・0.1重量部2−トリク
ロロメチル−β−(2′−ベンゾフリル)ヒニルL3.
4−オキサシアソール ・・0.06重量部ビクトリア
プユアブルーBOH (保止ケ谷化学(株)製) ・・・008重量
部メチルセロソルブ ・・・10 重量
部エチルセロソルブ ・・・40 重量
部感光液−2 m−クレゾール・ホルマリンノボラック樹脂と0−ナフ
トキノンジアジド−4 スルホニルクロライドとの縮合物・・・25重量部(幹
ポリマーの重量平均分子量(M w) −20000H
基の縮合率25モル%) p−ヒドロキシフェニルメタクリルアミド・アクリロニ
トリル・エチルアクリレート・メタクリル酸(モル比2
0:20:58:2)コポリマー(M w= 30,0
00) −= 8 重量部p−オクチルフェ
ノール− ホルマリンノボラック樹脂 ・・・0.1重量部
2−トリクロロメチル−p−ブトキシ スチリル−1,3,4オキサジアゾール・・・0.08
重量部ヒクトリアプユアブルーBOFI (採土ケ谷化学(株)製 ・・・0,08重
量部メチルセロソルブ ・・・10 重
量部エチルセロソルブ ・・・40 重
量部前記支持体と上記感光液とを下記表1に示す組合せ
で感光性平版印刷版試料No、I −No、 4を作製
しlこ。
これら感光性平版印刷版試料を以下に示す製版条件−1
(ポジ製版)、製版条件−2(ネガ製版)にて製版し、
平版印刷版No、l〜N004を作製した。
(ポジ製版)、製版条件−2(ネガ製版)にて製版し、
平版印刷版No、l〜N004を作製した。
次に該印刷版を次の印刷条件にて印刷し、印刷物の評価
を行った。結果を表2に示す。
を行った。結果を表2に示す。
製版条件−1
[手順] 露光−1−現像一印刷
露光条件−1
露光機・・・メタルハライドランプ″アイドルフィン2
000°’ 8.0mW/ m2(岩崎電気製)露光時
間・・・70秒 フィルム原稿・・・コダックステップタブレットNo、
2.ブルナー小点を含む網点 原稿現像条件 自 現像・・・コニカPS版自現機“PSQ−1315
”(コニカ(株)製) 現像液・・・コニカルs版現像液”5DR−1”の6倍
希釈液(コニカ(株)製) 現像温度・・10〜35°C 現像時間・・・20秒 印刷条件 印刷機・・・ハイデルGTO イ ン キ・・・集草ベストキュア”BFWRO″′(
集草色素(株)製) 紙 ・・・アート紙 湿 し水・・・5EU−1の50倍希釈液印刷スピード
・・・4000枚/時 製版条件−2 [手順1 露光−1−熱処理→露光−2=現像−印刷熱処理条件=
180℃ 1分 露光条件ニア0秒 露光−11現像、印刷は製版条件−1と同様。
000°’ 8.0mW/ m2(岩崎電気製)露光時
間・・・70秒 フィルム原稿・・・コダックステップタブレットNo、
2.ブルナー小点を含む網点 原稿現像条件 自 現像・・・コニカPS版自現機“PSQ−1315
”(コニカ(株)製) 現像液・・・コニカルs版現像液”5DR−1”の6倍
希釈液(コニカ(株)製) 現像温度・・10〜35°C 現像時間・・・20秒 印刷条件 印刷機・・・ハイデルGTO イ ン キ・・・集草ベストキュア”BFWRO″′(
集草色素(株)製) 紙 ・・・アート紙 湿 し水・・・5EU−1の50倍希釈液印刷スピード
・・・4000枚/時 製版条件−2 [手順1 露光−1−熱処理→露光−2=現像−印刷熱処理条件=
180℃ 1分 露光条件ニア0秒 露光−11現像、印刷は製版条件−1と同様。
又、比較例として従来公知のアルミ支持体(比較支持体
−1)を用いて作製した印刷版(比較印刷版−1)の評
価を同様に行い結果を表2に示した。
−1)を用いて作製した印刷版(比較印刷版−1)の評
価を同様に行い結果を表2に示した。
表 2
*1:版の平滑性が損なわれていた。
*2:◎網点形状の再現性が良好。
○網点形状再現性が◎と×の中間。
x網点形状の再現性が不良。
表2の結果から明らかなように、本発明の感光性平版印
刷版は、現像液の温度変化に対する変化が小さく(ラチ
チュードが広い)、小点再現性、解像力が良好であり、
及びネガ製版した時の印刷仕上り品質が良好である。
刷版は、現像液の温度変化に対する変化が小さく(ラチ
チュードが広い)、小点再現性、解像力が良好であり、
及びネガ製版した時の印刷仕上り品質が良好である。
本発明によれば、適正現像条件の幅が広く、網点の小点
の再現性及び解像力が良好で、かつ画像露光後、熱処理
するネガ製版したときの画質再現性が良好な、ポジ型及
びネガ型として使用できる感光性平版印刷版を得ること
ができる。
の再現性及び解像力が良好で、かつ画像露光後、熱処理
するネガ製版したときの画質再現性が良好な、ポジ型及
びネガ型として使用できる感光性平版印刷版を得ること
ができる。
Claims (1)
- 1、2‐ナフトキノンジアジド‐4‐スルホン酸エステ
ル又は1,2‐ナフトキノンジアジド‐4‐スルホン酸
アミドを含有する感光性組成物を支持体上に設けてなる
感光性平版印刷版において、該支持体が、鉄板の表面に
めっきしたのち金属又は金属の酸化物のゾルで表面処理
した支持体であることを特徴とする感光性平版印刷版。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5024689A JPH02229090A (ja) | 1989-03-01 | 1989-03-01 | 感光性平版印刷版 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5024689A JPH02229090A (ja) | 1989-03-01 | 1989-03-01 | 感光性平版印刷版 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02229090A true JPH02229090A (ja) | 1990-09-11 |
Family
ID=12853632
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5024689A Pending JPH02229090A (ja) | 1989-03-01 | 1989-03-01 | 感光性平版印刷版 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02229090A (ja) |
-
1989
- 1989-03-01 JP JP5024689A patent/JPH02229090A/ja active Pending
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