JPH0422401A - 弗素化炭化水素系共沸組成物および擬共沸組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、プリント基板、■Ｃ等の電子部品、精密機械
部品、ガラス基板、セラミック、フィルム等のフラック
ス洗浄や付着水除去、離型剤除去洗浄、油、グリース等
の洗浄等に用いられる新規な弗素化炭化水素系擬共沸組
成物及び擬共沸溶剤組成物に関するものである。

［従来の技術］ フラックス洗浄や付着水除去、離型剤除去洗浄、油、グ
リース等の洗浄には、不燃性、低毒性、安定性に優れる
等の特徴を有する１、１．２−トリクロロ−１，２，２
−トリフルオロエタン（以下Ｒ１１３という）とアセト
ンとの共沸混合溶剤組成物が広く使用されている。さら
に、Ｒ１１３は金属、プラスチック、エラストマー等の
基材を侵さず、各種の汚れを選択的に溶解する特徴を有
するため、金属、プラスチック、エラストマー等からな
る各種電子部品を実装したプリント基板のフラックス洗
浄等には最適であった。

［発明が解決しようとする課題］ 従来使用されていたＲ１１３は、種々の利点を有するに
もかかわらず、化学的に特に安定なため、対流圏内での
寿命が長く、拡散して成層圏に達し、ここで太陽光線に
より分解して発生する塩素ラジカルがオゾンと連鎖反応
を起こし、オゾン層を破壊するとのことから、その使用
規制が実施されることとなった。このため、従来のＲ】
１３に替わり、オゾン層を破壊しにくい代替溶剤の探索
が活発に行なわれている。

本発明は、従来のＲ１１３が有している優れた特性を満
足しながら代替溶剤として使用できる新規な弗素化塩素
化炭化水素系共沸及び擬共沸溶剤組成物を提供すること
を目的とするものである。

［課題を解決するための手段］ 本発明は前述の目的を達成すべくなされたものであり、
３，３−ジクロロ−１，１，１，２，２−ペンタフルオ
ロプロパン（Ｒ２２５ｃａ）及びアセトンからなる弗素
化炭化水素系擬共沸組成物及び擬共沸組成物を提供する
ものである。本発明の組成物は共沸組成を有し、特に洗
浄溶剤として従来のＲ１１３／アセトン共沸系と同程度
の洗浄力を有するため、ＲＩＩ３／アセトン共沸系代替
として極めて符用なものである。

更に、リサイクルしても組成の変動がないこと、又従来
のＲ１１３／アセトン共沸系と同じ使い方ができ、従来
技術の大幅な変更を要しないこと等の利点がある。

本発明の組成物としては、Ｒ２２５ｃａ　６０〜９９重
量％、及びアセトン１〜４０重量％からなる擬共沸組成
物であり、好ましくはＲ２２５ｃａ　７０〜９５重量％
及びアセトン５〜３０重量％からなる擬共沸組成物であ
り、さらに好ましくはＲ２２５ｃａ　７６重量％及びア
セトン２４重量％からなる共沸組成物である。

本発明の組成物には、安定性の向上、洗浄力の向上等各
種の用途に応じてその他の成分を更に添加混合すること
ができる。例えば、溶剤としての用途においては、ペン
タン、イソペンタン、ヘキサン、イソヘキサン、ヘプタ
ン、イソヘプタン、２，３−ジメチルブタン、シクロペ
ンタン等の炭化水素類、ニトロメタン、ニトロエタン、
ニトロプロパン等のニトロアルカン類、ジエヂルアミン
、トリエチルアミン、イソプロピルアミン、ブチルアミ
ン、イソブチルアミン等のアミン類、メタノール、エタ
ノール、ｎ−プロピルアルコール、ｉ−プロピルアルコ
ール、ｎ−ブチルアルコール、ｊ−ブチルアルコール、
Ｓ−ブチルアルコール、ｔ−ブチルアルコール等のアル
コール類、メチルセロソルブ、テトラヒドロフラン、■
、４−ジオキサン等のエーテル類、メチルエチルケトン
、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケ
トン類、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のエ
ステル類、ジクロロメタン、ｃｉｓ−１２−ジクロロエ
チレン、ｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレン、２−
ブロモプロパン等のハロゲン化炭化水素類、その他、１
，１．２−トリクロロ−１，２，２−）リフルオロエタ
ン、ｌ、１−ジクロロ−１〜フルオロエタン、１．ｌ。

２−トリクロロ−２，２−ジフルオロエタン、１，１−
ジクロロ−２，２，２−トリフルオロエタン、１．１−
ジクロロ−１，２，２，３，３−ペンタフルオロプロパ
ン、１．３−ジクロロ−１，］、、　２．２．３−ペン
タフルオロプロパン、１．２−ジクロロ−１，１，３，
３，３−ペンタフルオロプロパン、１．１〜ジクロロ−
２，３，３，３−テトラフルオロプロペン−１，ｔｒａ
ｎｓ−３−クロロ−１，１，１，。

２．４，４，５，５．５−ノナフルオロペンテン−２、
ｃｉｓ−３クロロ−１，１，、１，２，４，４，５，５
，５−ノナフルオロペンテン−２，１，１，１，２，２
，５，５，６，６６−ゾカフルオロヘキサン等のフロン
類等を適宜添加することができる。添加割合は、安定性
の向上には０．０１〜】０重量％、好ましくは０．１〜
５重量％、洗浄力の向上には１〜５０重量％、好ましく
は５〜３０重量％が適当である。

Ｒ２２５ｃａ及びアセトンからなる本発明の弗素化炭化
水素系擬共沸組成物及び擬共沸組成物は、従来のＲ１１
３／アセトン共沸系と同程度の溶解力を有するため、溶
剤等の各種用途に好適に使用でる。溶剤の具体的な用途
としては、フラックス、グリース、油、ワックス、イン
キ等の除去剤、塗料用溶剤、抽出剤、ガラス、セラミッ
クス、プラスチック、ゴム、金属製各種物品、特にＩＣ
部品、電気機器、精密機械、光学レンズ等の洗浄剤や水
切り剤等を挙げることができる。洗浄方法としては、手
拭き、浸漬、スプレー、揺動、超音波洗浄、蒸気洗浄等
を採用すればよい。

［実施例］ 以下に本発明の実施例を示す。

実施例工 下記の組成からなる溶剤組成物１０００ｇを蒸留フラス
コに入れ、理論段数２０段の精留塔を用い、大気圧下で
蒸留を行なった。

（組成）　　　　　　　　（重量％） Ｒ２２５ｃａ　　（沸点５１．１”Ｃ）　　　　　７０
アセトン（沸点５６．２℃）３０ その結果、５８．５℃において留分４３０ｇを得た。こ
のものをガスクロマトグラフで測定した結果、次の組成
であった。

（組成）　　　　　　　　（重量％） Ｒ２２５ｃａ　　　　　　　　　　　７６アセトン　　
　　　　　　　　２４ 実施例２ 実施例１の組成物（Ｒ２２５ｃａ／アセトン＝７６重量
％／２４重量％）を用いてフラックスの洗浄除去試験を
行なった。

ガラスエポキシ製のプリント基板（５０ｍｍｘ１．００
　ｍｍＸ　１．６ｖｎ厚）全面にフラックス（タムラＦ
−Ａｌ−４、タムラ制作所製）を塗布し、２６０℃の電
気炉で３０秒間焼成後、本発明の前記組成物に１分間浸
漬した。その結果、フラックスは良好に除去できること
が確認された。

実施例３ 実施例１の組成物（Ｒ２２５ｃａ／アセトン＝７６重量
％／２４重量％）を用いて付着水の除去試験を行なった
。　３０ｍｍＸ　１８ｎ＋ｎ＋Ｘ　５ｍｍ厚のガラス板
を純水に浸漬後、本発明の前記組成物中に２０秒浸漬し
て水切りを行ない、取り出したガラス板を無水メタノー
ル中に浸漬してその水分増加量から付着水の除去状況を
調べた。その結果、付着水は、Ｒ１１３／アセトン共沸
系（Ｒ１１３／アセトン・８７．５重量％／　１２．５
重量％）と同様、良好に除去できることが確認された。

実施例４ 実施例１の組成物（Ｒ２２５ｃａ／アセトン＝７６重量
％／２４重量％）を用いて機械油の洗浄試験を行なった
。　５ｔｌＳ−３０４のテストピース（２５ｍｍＸ　３
０ｍｍＸ２ｍｎ＋厚）を機械油（日本石油製ＣＱ　−３
０）中に浸漬した後、本発明の前記組成物に５分間浸漬
した。その結果、機械油は、ＲＩＩ３／アセトン共沸系
と同様、良好に除去できることが確認された。

実施例５ Ｒ２２５ｃａ／アセトン＝９５重量％１５重量％を用い
てフラックスの洗浄除去試験を行なった。

ガラスエポキシ製のプリント基板（５０ｍｍＸ１００　
ｍｍＸ　１．６ｍｍ厚）全面にフラックス（タムラＦ−
Ａ１４、タムラ制作所製）を塗布し、２６０℃の電気炉
で３０秒間焼成後、本発明の前記組成物に１分間浸漬し
た。その結果、フラックスは良好に除去できることが確
認された。

実施例６ Ｒ２２５ｃａ／アセトン６０重量％／４０重量％を用い
て付着水の除去試験を行なった。３０ｍｍＸ　１８ｍｍ
Ｘ　５ｍｍ厚のガラス板を純水に浸漬後、本発明の前記
組成物中に２０秒浸漬して水切りを行ない、取り出した
ガラス板を無水メタノール中に浸漬してその水分増加量
から付着水の除去状況を調べた。その結果、付着水は、
Ｒ１１３／アセトン共沸系と同様、良好に除去できるこ
とが確認された。

実施例７ 下記の組成からなる溶剤組成物１０００　ｇを蒸留フラ
スコに入れ、理論段数２０段の精留塔を用い、大気圧下
で蒸留を行なった。

（組成）　　　　　　　　（重量％） Ｒ２２５ｃａ　（沸点５１．１”Ｃ）　　　　　　９５
アセトン（沸点５６．２℃）　　　　　５その結果、４
時間後、８時間後、１２時間後において留分２００ｇを
各々得た。このものをガスクロマトグラフで測定した結
果、次の組成であった。

（組成）　　　　　　（重量％） ４時間後　Ｒ２２５ｃａ　　　　　９５．０アセトン　
　　　５．０ ８時間後　Ｒ２２５ｃａ　　　　　９５．１アセトン　
　　　４．９ １２時間後　Ｒ２２５ｃａ　　　　　９５．１アセトン
　　　　４．９ 実施例８ 下記の組成からなる溶剤組成物１０００ｇを蒸留フラス
コに入れ、理論段数２０段の精留塔を用い、大気圧下で
蒸留を行なった。

（組成）　　　　　　　　（重量％） Ｒ２２５ｃａ　　（沸点５１．１℃）６５アセトン（沸
点５６．２℃）３５ その結果、４時間後、８時間後、１２時間後において留
分２００ｇを各々得た。このものをガスクロマトグラフ
で測定した結果、次の組成であつた・ （組成）　　　　　　　　（重量％） ４時間後　Ｒ２２５ｃａ　　　　　６５．０アセトン　
　　　３５．０ ８時間後　Ｒ２２５ｃａ　　　　　６５．１アセトン　
　　　３４．９ １２時間後　Ｒ２２５ｃａ　　　　　６５．１アセトン
　　　　３４．９ ［発明の効果］ 本発明の弗素化炭化水素系組成物は、従来のＲ１１３／
アセトン共沸系が有している優れた特性を満足し、又、
共沸点が存在するため、リサイクル時に組成変動がない
、従来のＲ１１３／アセトン共沸系と同じ使い方でき、
従来技術の大幅な変更を要しない等の利点がある。

τＸＸ八 人 凸 罵 夫

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、３，３−ジクロロ−１，１，１，２，２−ペンタフ
   ルオロプロパン（Ｒ２２５ｃａ）及びアセトンからなる
   弗素化炭化水素系共沸組成物。 ２、３，３−ジクロロ−１，１，１，２，２−ペンタフ
   ルオロプロパン（Ｒ２２５ｃａ）７６重量％及びアセト
   ン２４重量％からなる請求項１に記載の組成物。 ３、３，３−ジクロロ−１，１，１，２，２−ペンタフ
   ルオロプロパン（Ｒ２２５ｃａ）及びアセトンからなる
   弗素化炭化水素系擬共沸組成物。 ４、３，３−ジクロロ−１，１，１，２，２−ペンタフ
   ルオロプロパン（Ｒ２２５ｃａ）６０〜９９重量％及び
   アセトン１〜４０重量％からなる請求項３に記載の組成
   物。