JPH0489439A - ジクロロペンタフルオロプロパン系共沸組成物 - Google Patents

ジクロロペンタフルオロプロパン系共沸組成物

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JPH0489439A
JPH0489439A JP2201306A JP20130690A JPH0489439A JP H0489439 A JPH0489439 A JP H0489439A JP 2201306 A JP2201306 A JP 2201306A JP 20130690 A JP20130690 A JP 20130690A JP H0489439 A JPH0489439 A JP H0489439A
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Tateo Kitamura
健郎 北村
Yoko Usami
宇佐見 陽子
Kazuo Oishi
大石 和男
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、プリント基板、IC等の電子部品、精密機械
部品、ガラス基板、セラミック、フィルム等のフラック
ス洗浄や離型剤除去洗浄、油、グリース等の洗浄等に用
いられる新規なジクロロペンタフルオロプロパン系共沸
組成物及び共沸様組成物に関するものである。
[従来の技術] フラックス洗浄や離型剤除去洗浄、油、グリース等の洗
浄には、不燃性、低毒性、安定性に優れる等の特徴を有
する1、13、2−トリクロロ−1,2,2−)リフル
オロプロパン(以下R113という)とジクロロメタン
との共沸混合溶剤組成物が使用されている。さらに、R
113は金属、プラスチック、エラストマー等の基材を
侵さず、各種の汚れを選択的に溶解する特徴を有するた
め、金属、プラスチック、エラストマー等からなる各種
電子部品を実装したプリント基板のフラックス洗浄等に
は最適であった。
[発明が解決しようとする課題] 従来使用されていたR113は、種々の利点を有するに
もかかわらず、化学的に特に安定なため、対流圏内での
寿命が長(、拡散して成層圏に達し、ここで太陽光線に
より分解して発生する塩素ラジカルがオゾンと連鎖反応
を起こし、オゾン層を破壊するとのことから、その使用
規制が実施されることとなった。このため、従来のR1
13に替わり、オゾン層を破壊しに(い代替溶剤の探索
が活発に行なわれている。
本発明は、従来のR113が有している優れた特性を満
足しながら代替溶剤として使用できる新規な共沸及び共
沸様組成物を提供することを目的とするものである。
[課題を解決するための手段] 本発明は前述の目的を達成すべくなされたものであり、
3.3−ジクロロ−1,1,1,2,2−ペンタフルオ
ロプロパン(R225cal又は13、3−ジクロロ−
1,1,2,2,3−ペンタフルオロプロパン(R22
5cb)とジクロロメタンからなる共沸組成物及び共沸
様組成物を提供するものである。本発明の組成物は共沸
組成を有しており、特に洗浄溶剤として従来のR113
/ジクロロメタン共沸系と同程度の洗浄力を有するため
、R113/ジクロロメタン共沸系代替として極めて有
用なものである。
更に、リサイクルしても組成の変動がないこと、又従来
のR113/ジクロロメタン共沸系と同じ使い方ができ
、従来技術の大幅な変更を要しないこと等の利点がある
本発明のジクロロペンタフルオロプロパン系組成物にお
いて、R225caとジクロロメタンからなる組成物の
場合の組成は8225ca 15〜60重量%、及びジ
クロロメタン40〜85重量%であり、好ましくはR2
25ca 20〜50重量%ジクロロメタン50〜80
重量%であり、さらに好ましくはR225ca 38重
量%及びジクロロメタン62重量%からなる共沸組成物
である。又、R225cbとジクロロメタンからなる組
成物の場合の組成はR225cb 10〜55重量%、
及びジクロロメタン45〜90重量%であり、好ましく
ばR225cb 15〜40重量%ジクロロメタン60
〜85重量%であり、さらに好ましくばR225cb 
28重量%びジクロロメタン72重量%からなる共沸組
成物である。
本発明の組成物には、用途に応じてその他の成分を更に
添加混合することができる。例えば、溶剤としての用途
においては、ペンタン、インペンタン、ヘキサン、イソ
ヘキサン、ネオヘキサン、ヘプタン、イソへブタン、2
3、3−ジメチルブタン、シクロペンタン等の炭化水素
類、ニトロメタン、ニトロエタン、ニトロプロパン等の
ニトロアルカン類、ジエチルアミン、トリエチルアミン
、イソプロピルアミン、ブチルアミン、イソブチルアミ
ン等のアミン類、メタノール、エタノール、n−プロピ
ルアルコール、i−プロピルアルコール、n−ブタノー
ル、j−ブタノール、S−ブタノール、t−ブタノール
等のアルコール類、メチルセロソルブ、テトラヒドロフ
ラン、1,4−ジオキサン等のエーテル類、アセトン、
メチルエチルケトン、メチルブチルケトン等のケトン類
、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のエステル
類、trans−1、2−ジクロロエチレン、cis−
1,2−ノクロロエチレン、2−ブロモプロパン等のハ
ロゲン化炭化水素類、その他、1,13、2−トリクロ
ロ−1,2,2−1−リフルオロエタン、13、1−ジ
クロロ−1−フルオロエタン、1,13、2−)シクロ
ロー2,2−ジフルオロエタン、13、1−ジクロロ−
2,2,2−トリフルオロエタン、13、1−ジクロロ
−1,2,2,3,3ペンタフルオロプロパン、13、
2−ジクロロ 弓。
1、3.3.3−ペンタフルオロプロパン、1,1−ジ
クロロ−2,3,3,3−テトラフルオロプロペン−1
、trans−3−クロロ−1,1,1,2,4,4,
5,5,5−ノナフルオロペンテン−2、cis−3−
クロロ −1,1,1,2゜4.4.5,5.5−ノナ
フルオロペンテン−2,1,11,2,2,5,5,6
,6,6−ゾカフルオロヘキサン等のフッ素化炭化水素
類等を適宜添加することができる。
R225ca又はR225cbとジクロロメタンからな
る本発明の共沸及び共沸様組成物は、従来のR113と
同様、各種洗浄溶剤等の用途に使用でき、R113/ジ
クロロメタン共沸系の代替として用いた場合、好適であ
る。溶剤の他、フェノールフオームやウレタンフオーム
等のプラスチックフオーム用発泡剤、プロペラント等と
しても使用し得る。溶剤の具体的な用途としては、フラ
ックス、グリース、油、ワックス、インキ等の除去剤、
塗料用溶剤、抽出剤、ガラス、セラミックス、プラスチ
ック、ゴム、金属製各種物品、特にIC部品、電気機器
、精密機械、光学レンズ等の洗浄剤や水切り剤等を挙げ
ることができる。洗浄方法としては、手拭き、浸漬、ス
プレー、揺動、超音波洗浄、蒸気洗浄等を採用すればよ
い。
[実施例] 以下に本発明の実施例を示す。
実施例 l 下記の組成からなる溶剤組成物1000gを蒸留フラス
コに入れ、理論段数20段の精留塔を用い、大気圧下で
蒸留を行なった。
(組成)        (重置%) R225ca (沸点513、1”C)       
 50ジクロロメタン(沸点39.8℃)50その結果
、37.6℃において留分520gを得た。このものを
ガスクロマトグラフで測定した結果、次の組成であった
(組成)         (重量%)R225ca 
           3gジクロロメタン     
  62 実施例 2 実施例 1の組成物(R225ca/ジクロロメタン=
38重量%/62重量%)を用いてフラックスの洗浄試
験を行なった。
プリント基板全面にフラックス(タムラ製作所製9Aラ
−AL−4)を塗布し、250℃の電気炉で2分間焼成
後、本発明の前記組成物に1分間浸漬した。その結果、
フラックスは良好に除去できることが確認された。
実施例 3 実施例1の組成物(R225ca/ジクロロメタン=3
8重量%/62重量%)についてタグ式測定法(JIS
−に2265 )に従って測定したところ引火点がなく
不燃であることが確認された。
実施例 4 下記の組成からなる溶剤組成物1000gを蒸留フラス
コに入れ、理論段数20段の精留塔を用い、大気圧下で
蒸留を行なった。
(組成)         (重量%)R225ca 
(沸点513、1℃)50ジクロロメタン(沸点39.
8℃)50その結果、4時間後、8時間後、12時間後
において留分150gを各々得た。このものをガスクロ
マトグラフで測定した結果、次の組成であった。
(組成)         (重量%)4時間後 R2
25ca        50.0ジクロロメタン  
 50.0 8時間後 R225ca        49.9ジク
ロロメタン   50.1 12時間後 R225ca        49.9ジ
クロロメタン   50.1 実施例 5 実施例 4の組成物(R225ca/ジクロロメタン=
50重量%150重量%)を用いてフラックスの洗浄試
験を行なった。
プリント基板全面にフラックス(タムラ製作所製915
−AL−4)を塗布し、250℃の電気炉で2分間焼成
後、本発明の前記組成物に1分間浸漬した。その結果、
フラックスは良好に除去できることが確認された。
実施例 6 下記の組成からなる溶剤組成物1000gを蒸留フラス
コに入れ、理論段数20段の精留塔を用い、大気圧下で
蒸留を行なった。
(組成)          (重量%)R225cb
 (沸点56.1”C”)        40ジクロ
ロメタン(沸点39.8℃)60その結果、38.6℃
において留分330gを得た。このものをガスクロマト
グラフで測定した結果、次の組成であった。
(組成)          (重量%)R225cb
           28ジクロロメタン     
  72 実施例 7 実施例 6の組成物(R225cb/ジクロロメタン=
28重量%/72重量%)を用いてフラックスの洗浄試
験を行なった。 プリント基板全面にフラックス(タム
ラ製作所製タムラ−AL−4)を塗布し、200℃の電
気炉で2分間焼成後、本発明の前記組成物に1分間浸漬
した。その結果、フラックスは良好に除去できることが
確認された。
実施例 8 実施例 6の組成物(R225cb/ジクロロメタン=
28重量%/72重量%)についてタグ式測定法 (JIS−に2265 )に従って測定したところ引火
点がなく不燃であることが確認された。
実施例 9 下記の組成からなる溶剤組成物1000gを蒸留フラス
コに入れ、理論段数20段の精留塔を用い、大気圧下で
蒸留を行なった。
(組成)          (重量%)R225cb
 (沸点56.1’c )       40ジクロロ
メタン(沸点39,8℃)60その結果、4時間後、8
時間後、12時間後において留分150gを各々得た。
このものをガスクロマトグラフで測定した結果、次の組
成であった。
(組成) 4時間後 R225cb ジクロロメタ 8時間後 R225cb ジクロロメタン 12時間後 R225cb ジクロロメタン (重量%) 39.9 ン      60.1 39.8 60.2 39.8 60.2 実施例 lO 実施例 9の組成物(R225cb/ジクロロメタン=
40重量%/60重量%)を用いてフラックスの洗浄試
験を行なった。
プリント基板全面にフラックス(タムラ製作所製りAラ
−AL−4)を塗布し、250℃の電気炉で2分間焼成
後、本発明の前記組成物に1分間浸漬した。その結果、
フラックスは良好に除去できることが確認された。
[発明の効果] 本発明のジクロロペンタフルオロプロパン系組成物は、
不燃性で従来のフロン類が有している優れた特性と同等
以上の特性を有する。又、共沸点が存在するため、リサ
イクル時に組成変動がなく、従来のR113/ジクロロ
メタン共沸系と同じ使い方でき、従来技術の大幅な変更
を必要とせず、そのまま適用できる等の利点がある。特
に、フラックスや油等の溶解除去性に優れるためR11
3/ジクロロメタン共沸系に替わる洗浄溶剤として好適
である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 3、3−ジクロロ−1、1、1、2、2−ペンタフ
    ルオロプロパン38重量%及びジクロロメタン62重量
    %からなるジクロロペンタフルオロプロパン系共沸組成
    物。 2 3、3−ジクロロ−1、1、1、2、2−ペンタフ
    ルオロプロパン15〜60重量%及びジクロロメタン4
    0〜85重量%からなるジクロロペンタフルオロプロパ
    ン系共沸様組成物。 3 1、3−ジクロロ−1、1、2、2、3−ペンタフ
    ルオロプロパン28重量%及びジクロロメタン72重量
    %からなるジクロロペンタフルオロプロパン系共沸組成
    物。 4 1、3−ジクロロ−1、1、2、2、3−ペンタフ
    ルオロプロパン10〜55重量%及びジクロロメタン4
    5〜90重量%からなるジクロロペンタフルオロプロパ
    ン系共沸様組成物。
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