JPH0617417B2 - α−メチルスチレンの共重合体の製造方法 - Google Patents
α−メチルスチレンの共重合体の製造方法Info
- Publication number
- JPH0617417B2 JPH0617417B2 JP60166697A JP16669785A JPH0617417B2 JP H0617417 B2 JPH0617417 B2 JP H0617417B2 JP 60166697 A JP60166697 A JP 60166697A JP 16669785 A JP16669785 A JP 16669785A JP H0617417 B2 JPH0617417 B2 JP H0617417B2
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- JP
- Japan
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- methylstyrene
- copolymer
- producing
- divinylbenzene
- carboxylic acid
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Graft Or Block Polymers (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はα−メチルスチレンの共重合体の製造方法に関
する。詳しくはセラミックバインダーなどとして好適な
分解性と相溶性に優れたα−メチルスチレンの共重合体
の製造する方法に関する。
する。詳しくはセラミックバインダーなどとして好適な
分解性と相溶性に優れたα−メチルスチレンの共重合体
の製造する方法に関する。
α−メチルスチレンの重合体は極めて容易に分解して低
分子量の単量体等となり、容易に飛散することからセラ
ミックのバインダー、光記録材料などに利用することが
期待されている。しかしながら、α−メチルスチレンは
天井温度が低く、高分子量体を得るためには、低温アニ
オン重合を行う必要があるため、α−メチルスチレンを
主成分とする共重合体はほとんど知られていなかった。
分子量の単量体等となり、容易に飛散することからセラ
ミックのバインダー、光記録材料などに利用することが
期待されている。しかしながら、α−メチルスチレンは
天井温度が低く、高分子量体を得るためには、低温アニ
オン重合を行う必要があるため、α−メチルスチレンを
主成分とする共重合体はほとんど知られていなかった。
α−メチルスチレンの単独重合体は熱、光などによって
容易に分解し、単量体となる優れた重合体であるが、セ
ラミックのバイダンーや光記録材料として用いようとす
ると、アルミナ、シリカ、シリコンカーバイト、シリコ
ンナイトライド、ボロンカーバイト、ボロンナイトライ
ドなどのセラミック粉となじみが悪く、バイダーとして
不適であり、光記録材料としても基板に塗布して乾燥し
た後基板とのなじみが悪く、はがれるなどという問題が
あった。これに対しては、カルボン酸、カルボン酸アミ
ド、カルボン酸エステルなどの極性基を有する単量体と
共重合することが考えられるが、α−メチルスチレンは
上述のような重合特性を有するため他の極性基含有単量
体と共重合することが容易でなく、α−メチルスチレン
と極性基含有単量体を共重合した共重合体の開発が望ま
れていた。
容易に分解し、単量体となる優れた重合体であるが、セ
ラミックのバイダンーや光記録材料として用いようとす
ると、アルミナ、シリカ、シリコンカーバイト、シリコ
ンナイトライド、ボロンカーバイト、ボロンナイトライ
ドなどのセラミック粉となじみが悪く、バイダーとして
不適であり、光記録材料としても基板に塗布して乾燥し
た後基板とのなじみが悪く、はがれるなどという問題が
あった。これに対しては、カルボン酸、カルボン酸アミ
ド、カルボン酸エステルなどの極性基を有する単量体と
共重合することが考えられるが、α−メチルスチレンは
上述のような重合特性を有するため他の極性基含有単量
体と共重合することが容易でなく、α−メチルスチレン
と極性基含有単量体を共重合した共重合体の開発が望ま
れていた。
本発明者らは上記問題点を解決する方法について鋭意検
討し、本発明に到達した。
討し、本発明に到達した。
即ち、本発明は、α−メチルスチレンとジビニルベンゼ
ン及び/又はジイソプロペニルベンゼンとの不飽和基含
有共重合体と不飽和カルボン酸及び/又はその誘導体及
びラジカル重合開始剤を有機溶媒に溶解し、水の不存在
下に共重合することを特徴とするα−メチルスチレン共
重合体の製造方法である。
ン及び/又はジイソプロペニルベンゼンとの不飽和基含
有共重合体と不飽和カルボン酸及び/又はその誘導体及
びラジカル重合開始剤を有機溶媒に溶解し、水の不存在
下に共重合することを特徴とするα−メチルスチレン共
重合体の製造方法である。
本発明において用いる不飽和基含有共重合体はα−メチ
ルスチレンとジビニルベンゼン及び/又はジイソプロペ
ニルベンゼンの共重合体である。この際α−メチルスチ
レンの30重量%程度をスチレンやその誘導体を使用し
ていてもかまわない。但し、30重量%を越えると分解
性が不良となるので好ましくない。
ルスチレンとジビニルベンゼン及び/又はジイソプロペ
ニルベンゼンの共重合体である。この際α−メチルスチ
レンの30重量%程度をスチレンやその誘導体を使用し
ていてもかまわない。但し、30重量%を越えると分解
性が不良となるので好ましくない。
α−メチルスチレンとジビニルベンゼン及び/又はジイ
ソプロペニルベンゼンの共重合体はラジカル重合法或い
はアニオン重合法で製造することが可能であり、α−メ
チルスチレンとジビニルベンゼン及び/又はジイソプロ
ペニルベンゼンとの総和に対するジビニルベンゼン及び
/又はイソプロペニルベンゼンの割合は2〜30重量%で
あるのが、共重合体の製造時の問題が少く、また次の反
応のためにも好ましい。
ソプロペニルベンゼンの共重合体はラジカル重合法或い
はアニオン重合法で製造することが可能であり、α−メ
チルスチレンとジビニルベンゼン及び/又はジイソプロ
ペニルベンゼンとの総和に対するジビニルベンゼン及び
/又はイソプロペニルベンゼンの割合は2〜30重量%で
あるのが、共重合体の製造時の問題が少く、また次の反
応のためにも好ましい。
上記重合に際しては、過酸化物或いはアゾビスニトリル
などの公知のラジカル重合開始剤及び/又は、アルキル
リチウム、ナトリウムナフタレンなどの公知のアニオン
重合開始剤を用いることが可能であり、その重合条件に
格別の制限はないが、特開昭59−207905号など
に記載された方法を利用することもできる。
などの公知のラジカル重合開始剤及び/又は、アルキル
リチウム、ナトリウムナフタレンなどの公知のアニオン
重合開始剤を用いることが可能であり、その重合条件に
格別の制限はないが、特開昭59−207905号など
に記載された方法を利用することもできる。
上述の方法で得られた共重合体は未反応の単量体から分
離され、ビニル基及び/又はイソプロペニル基含有共重
合体(以下、重合体Aと略記する)が得られる。これを
後述の反応に用いる。
離され、ビニル基及び/又はイソプロペニル基含有共重
合体(以下、重合体Aと略記する)が得られる。これを
後述の反応に用いる。
本発明において用いられる不飽和カルボン酸及び/又は
その誘導体としては、アクリル酸、メタクリル酸、アク
リルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、メタク
リルアミド、N,N−ジメチルメタクリルアミド、アク
リル酸エステル、メタクリル酸エステル類があげられ
る。
その誘導体としては、アクリル酸、メタクリル酸、アク
リルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、メタク
リルアミド、N,N−ジメチルメタクリルアミド、アク
リル酸エステル、メタクリル酸エステル類があげられ
る。
これらの不飽和カルボン酸及び/又はその誘導体は、得
られるα−メチルスチレンの共重合体中で0.01〜30重
量%となるように用いられる。0.01重量%未満ではセラ
ミック等とのなじみの改善がほとんどなされず、又は3
0重量%を越えるとポリ−α−メチルスチレンの特性が
失なわれ好ましくない。
られるα−メチルスチレンの共重合体中で0.01〜30重
量%となるように用いられる。0.01重量%未満ではセラ
ミック等とのなじみの改善がほとんどなされず、又は3
0重量%を越えるとポリ−α−メチルスチレンの特性が
失なわれ好ましくない。
上記重合体Aと不飽和カルボン酸及び/又はその誘導体
との共重合方法としては、ラジカル重合開始剤の存在下
に行われるかぎり特に制限はないが、通常重合体Aを溶
解した溶液にラジカル重合開始剤(前述のものが使用可
能である)と不飽和カルボン酸及び/又はその誘導体を
加え、ラジカル重合開始剤が作用する条件(加熱、光照
射など)に保つことで行われる。この際、通常重合体A
の濃度は、5〜60重量%、不飽和カルボン酸及び/又
はその誘導体の濃度は0.05〜20重量%、ラジカル重合
開始剤の濃度は0.001〜1重量%に保たれるのが好まし
い。また反応温度としては−30℃〜150℃、好まし
くは0℃〜100℃が適当である。
との共重合方法としては、ラジカル重合開始剤の存在下
に行われるかぎり特に制限はないが、通常重合体Aを溶
解した溶液にラジカル重合開始剤(前述のものが使用可
能である)と不飽和カルボン酸及び/又はその誘導体を
加え、ラジカル重合開始剤が作用する条件(加熱、光照
射など)に保つことで行われる。この際、通常重合体A
の濃度は、5〜60重量%、不飽和カルボン酸及び/又
はその誘導体の濃度は0.05〜20重量%、ラジカル重合
開始剤の濃度は0.001〜1重量%に保たれるのが好まし
い。また反応温度としては−30℃〜150℃、好まし
くは0℃〜100℃が適当である。
本発明においては、共重合は水の不存在下に行われる。
以下、実施例を挙げ、本発明をさらに説明する。
なお、重合体の極限粘度数は30°トルエン溶液で測定
した。
した。
実施例1 トルエン溶媒中でα−メチルスチレン(10vol%)と
ジビニルベンゼン(0.5vol%)をアニオン重合開始剤ブ
チルリチウム(15wt%ヘキサン溶液、0.15vol%)に
より−10℃で重合し、次いで大量のメタノール中に投
じて得たα−メチルスチレン−ジビニルベンゼン共重合
体(極限粘度数0.19、ジビニルベンゼン5.2wt%含有)
5gをトルエン90mlに溶解し、N,N−ジメチルアク
リルアミド0.5ml、アクリル酸0.1mlおよび重合開始剤と
して過酸化ベンゾイル0.25gを加え、80℃で5時間反
応した後、多量のメタノール中に投じた。得られた重合
体(共重合体1)の極限粘度数0.21であり、元素分析及
び赤外吸収スペクトルより算出したN,N−ジメチルア
クリルアミド及びアクリル酸の含量はそれぞれ2.5wt
%、0.8wt%であった。
ジビニルベンゼン(0.5vol%)をアニオン重合開始剤ブ
チルリチウム(15wt%ヘキサン溶液、0.15vol%)に
より−10℃で重合し、次いで大量のメタノール中に投
じて得たα−メチルスチレン−ジビニルベンゼン共重合
体(極限粘度数0.19、ジビニルベンゼン5.2wt%含有)
5gをトルエン90mlに溶解し、N,N−ジメチルアク
リルアミド0.5ml、アクリル酸0.1mlおよび重合開始剤と
して過酸化ベンゾイル0.25gを加え、80℃で5時間反
応した後、多量のメタノール中に投じた。得られた重合
体(共重合体1)の極限粘度数0.21であり、元素分析及
び赤外吸収スペクトルより算出したN,N−ジメチルア
クリルアミド及びアクリル酸の含量はそれぞれ2.5wt
%、0.8wt%であった。
実施例2 アクリル酸にかえてヒドロキシエチルメタクリル酸エス
テル0.1mlを用いる他は実施例1と同様にして重合体
(共重合体2)を得た。得られた共重合体の極限粘度数
は0.20であり、N,N−ジメチルアクリルアミド及びヒ
ドロキシエチルメタクリル酸エステルの含量はそれぞれ
2.4wt%、0.7wt%であった。
テル0.1mlを用いる他は実施例1と同様にして重合体
(共重合体2)を得た。得られた共重合体の極限粘度数
は0.20であり、N,N−ジメチルアクリルアミド及びヒ
ドロキシエチルメタクリル酸エステルの含量はそれぞれ
2.4wt%、0.7wt%であった。
実施例3 トルエン溶媒中でα−メチルスチレン(20vol%)、
ジイソプロペニルベンゼン(1vol%)をブチルリチウ
ム(10wt%ヘキサン溶液、0.2vol%)により−10℃
で0.5時間重合し、実施例1と同様に大量のメタノール
中に投じ分離した。得られた共重合体は極限粘度数1.6
3、ジイソプロペニルベンゼン含量5.7wt%であった。
ジイソプロペニルベンゼン(1vol%)をブチルリチウ
ム(10wt%ヘキサン溶液、0.2vol%)により−10℃
で0.5時間重合し、実施例1と同様に大量のメタノール
中に投じ分離した。得られた共重合体は極限粘度数1.6
3、ジイソプロペニルベンゼン含量5.7wt%であった。
この共重合体10gをジメチルホルムアミド100mlに溶
解し、アクリルアミド0.5gおよびアゾビスイソブチロ
ニトリル0.5gを加え、70℃で10時間重合した。得
られた共重合体3は元素分析よりアクリルアミドを3wt
%含しており、その極限粘度数は1.72であった。
解し、アクリルアミド0.5gおよびアゾビスイソブチロ
ニトリル0.5gを加え、70℃で10時間重合した。得
られた共重合体3は元素分析よりアクリルアミドを3wt
%含しており、その極限粘度数は1.72であった。
以上の実施例1〜3で得られた共重合体1〜3、実施例
1および3で得たα−メチルスチレンとジビニルベンゼ
ンまたはジイソプロペニルベンゼンとの共重合体を用
い、各10gを30mlのトルエンに溶解した溶液にアル
ミナ(粒径2μm)30gを入れ混練して分散性を調べ
た。
1および3で得たα−メチルスチレンとジビニルベンゼ
ンまたはジイソプロペニルベンゼンとの共重合体を用
い、各10gを30mlのトルエンに溶解した溶液にアル
ミナ(粒径2μm)30gを入れ混練して分散性を調べ
た。
共重合体1〜3を用いたものでは、アルミナが均一に分
散したスラリーとなったが、不飽和カルボン酸及び/又
はその誘導体を共重合していない重合体を用いた場合に
はアルミナが均一に分散しなかった。
散したスラリーとなったが、不飽和カルボン酸及び/又
はその誘導体を共重合していない重合体を用いた場合に
はアルミナが均一に分散しなかった。
本発明の方法を実施することによりポリ−α−メチルス
チレン自身のもつ分解性を保持し、しかもセラミック、
基板などとのなじみのよいα−メチルスチレンの共重合
体を得ることが可能となり、工業的に極めて価値があ
る。
チレン自身のもつ分解性を保持し、しかもセラミック、
基板などとのなじみのよいα−メチルスチレンの共重合
体を得ることが可能となり、工業的に極めて価値があ
る。
Claims (1)
- 【請求項1】α−メチルスチレンとジビニルベンゼン及
び/又はジイソプロペニルベンゼンとの不飽和基含有共
重合体と不飽和カルボン酸及び/又はその誘導体及びラ
ジカル重合開始剤を有機溶媒に溶解し、水の不存在下に
共重合することを特徴とするα−メチルスチレンの共重
合体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60166697A JPH0617417B2 (ja) | 1985-07-30 | 1985-07-30 | α−メチルスチレンの共重合体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60166697A JPH0617417B2 (ja) | 1985-07-30 | 1985-07-30 | α−メチルスチレンの共重合体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6227407A JPS6227407A (ja) | 1987-02-05 |
| JPH0617417B2 true JPH0617417B2 (ja) | 1994-03-09 |
Family
ID=15836065
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60166697A Expired - Lifetime JPH0617417B2 (ja) | 1985-07-30 | 1985-07-30 | α−メチルスチレンの共重合体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0617417B2 (ja) |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5817526B2 (ja) * | 1978-12-20 | 1983-04-07 | 旭化成株式会社 | クロマトグラフィ−用充填剤の製造方法 |
| JPS58201682A (ja) * | 1982-05-20 | 1983-11-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光学プリンタ |
| JPS5966406A (ja) * | 1982-10-07 | 1984-04-14 | Sumitomo Chem Co Ltd | 微粒子重合体の製造法 |
| JPS59128512A (ja) * | 1983-01-12 | 1984-07-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光プリンタ |
| JPS6083865A (ja) * | 1983-10-14 | 1985-05-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光学プリンタ |
| JPS60166696A (ja) * | 1984-02-08 | 1985-08-29 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 新規生理活性ポリペプチドのdνa |
-
1985
- 1985-07-30 JP JP60166697A patent/JPH0617417B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6227407A (ja) | 1987-02-05 |
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