JPH06350010A - 半導体装置、その製造方法、及びリードフレーム - Google Patents
半導体装置、その製造方法、及びリードフレームInfo
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Abstract
くしたリードフレームを使用した半導体パッケージ53
と、マウントパッド嵌入凹部51を有するヒータインサー
ト38を用いたワイヤボンディングによるパッケージ製造
方法。 【効果】 マウントパッド−樹脂間の剥離がなく、クラ
ックが樹脂に入ることがなく、或いはクラックが大幅に
減少し、また、封止樹脂の反りを阻止できる。また、ボ
ンディングを安定かつ効率よく行うことができる。
Description
体集積回路(IC)チップを樹脂封止したパッケージ構
造)、その製造方法、及びリードフレームに関するもの
である。
19〜図20に示すものが知られており、この実装に際して
図21に示すリードフレーム材1が使用されることがあ
る。
えば42アロイ、銅合金、銅など)で形成されており、リ
ードフレーム外枠2と、これらの内側位置に四方に放射
状に延びる多数のインナーリード7からなるリードフレ
ーム部8とがエッチング等により一体成形されている。
の各辺側で各アウターリード6が線状の連結部(ダムバ
ー)9によって連結されており、これらの連結部はリー
ドフレーム部8の各隅部で外枠2に一体化されている。
の大きい四角形状のマウントパッド(ダイパッド)11上
にマウントされている。マウントパッド11には、これを
支持するサポートピン12が連設され、上記隅部にて外枠
2に一体化されている。なお、図中の4はリードフレー
ム材位置決め用穴である。
〜図24に示すように固定、ワイヤボンディング、更には
樹脂封止された半導体パッケージ13は、図19〜図21のよ
うに、マウントパッド11上に銀ペースト14でマウント
(固着)され、ワイヤ15によってパッド17がインナーリ
ード7にボンディングされ、更に全体がエポキシ系等の
樹脂16で封止された構造となっている。図20中、一点鎖
線は封止樹脂16の外部ライン、二点鎖線はICチップ10
の位置を示す。
図22に拡大図示したように、マウントパッド11上に銀ペ
ースト14によってICチップ10をマウントする。
ィング時には、マウントパッド11に対して下側からヒー
タ部材(ヒータインサート又はヒータブロック)18を接
触させ、マウントパッド11を支持すると同時にヒータの
熱がボンディング部(パッド17)に伝達されるようにし
ている。
ルギーを加えながら、ワイヤ15をキャピラリ19によって
ボンディングパッド17に結合し、更に矢印20のようにイ
ンナーリード7へ導き、圧着することによって行う。
構造においては、ICチップ10のマウントパッド11はI
Cチップ10よりも大きく形成されていたが、これは主と
して次の如き理由によるものである。
示すように、仮に、マウントパッド11がICチップ10よ
りも小さくした場合、マウントパッド11の周辺部がヒー
タインサート18に接触しなくなるため、キャピラリ19に
よる超音波作用時にICチップ10が傾いてその保持が不
安定となり、超音波エネルギーが有効に使われず、ま
た、ヒータインサート18からの熱がICチップ10へ効率
よく伝達されないため、不完全なボンディングが行われ
ることになる。このため、マウントパッド11をICチッ
プ10よりも小さくすることは、当業者をして常識的に考
えつくものではなかった。
又は図26に示すようにしてプリント配線板21上の回路パ
ターン22に対しハンダ付けするに際し、ハンダ23をハン
ダリフロー(例えば赤外線照射によるIRリフロー)に
よって溶融させ、更に固化させるが、図示の如くに樹脂
16中にクラック24が入ってしまうことがある。
ると、上記の如きクラック24は入り難いが、特に近年の
ように薄型化、大チップ化が求められると、上記の如き
マウントパッド11では図25のように樹脂16との界面で剥
離部25が生じ易くなり、パッド11のエッジ11aからクラ
ック24が入る現象がしばしば観察される。
の水蒸気をモールド樹脂中に吸い込み、この水蒸気はリ
ードフレームと樹脂との間で凝縮して水となり、IRリ
フロー時にこの水が水蒸気となって急激に膨張し、所謂
水蒸気爆発を起こし、樹脂をリードフレームから剥がす
ためである。また、上述の現象を助長させる原因として
マウントパッド、ICチップ及び樹脂の異なる熱膨張係
数の差によって、樹脂成型、硬化完了後にパッケージ内
部に歪みが残存し、反りを生じ、パッケージ自体が変形
してしまう程になることもある。
て、ICチップ10を固着する銀ペースト14は極めて吸湿
性の大きい物質であるため、その吸湿水分がIRリフロ
ー等の加熱時に水蒸気爆発を起こすことが挙げられる。
部分に上述と同様の現象によって凝縮した水が水蒸気爆
発を起こすことによってパッド11を変形させ、樹脂16に
も多大なストレスを与え、クラック24が特にパッド11の
エッジ11aから生じてしまうのである。
樹脂のクラックや反りの発生を著しく減少させ或いは防
止できる半導体装置とそのリードフレームを提供するこ
とにある。
造に際し、半導体素子とリードとのボンディングを安定
かつ効率よく行える製造方法を提供することにある。
素子がこれよりも小さいマウント部(例えばマウントパ
ッド及び/又はサポートピンの付加的なマウント部)上
に固定された状態で樹脂封止されている半導体装置、及
び上記マウント部を有するリードフレームに係るもので
ある。
おいては、上記マウントパッドのマウント面に凹部が形
成され、この凹部に半導体素子固定用の固着剤が充填さ
れていることが望ましい。そして、マウントパッドの側
面が半導体素子マウント面からその反対面にかけて内向
きに傾斜していることが望ましい。
ピンの側面が半導体素子マウント側からその反対面にか
けて内向きに傾斜していることもよい。また、サポート
ピンに付加的なマウント部が設けられ、このマウント部
にも半導体素子が固定されることができる。この場合、
サポートピンの付加的なマウント部に凹部が形成され、
この凹部に半導体素子固定用の固着剤が充填されている
のがよい。
レーム(特に、半導体素子よりも小さいマウントパッド
を有するリードフレーム)に対し、ヒータ部材に形成さ
れた嵌入凹部にマウントパッド及び/又はサポートピン
を嵌入させ、この状態で、前記マウントパッド及び/又
はサポートピンに固定された半導体素子の裏面に前記ヒ
ータ部材を接触させ、前記半導体素子と前記リードフレ
ームのインナーリード部とをボンディングする方法によ
って製造することが望ましい。
は、上記マウントパッドのサポートピンの嵌入凹部も形
成するのがよい。そして、マウントパッド嵌入凹部をマ
ウントパッドよりも大きくすることが望ましい。
すものである。本実施例においては、既述した従来例と
共通する部分には共通符号を付してその説明を省略する
ことがある。
フレーム41によれば、ICチップ10をマウント(固定)
する四角形状のマウントパッド(ダイパッド)31が、既
述した当業者の常識に反し、ICチップ10よりも小さく
形成されていることが大きな特徴である。
パッド31のチップマウント面に四角形状の凹部30が形成
され、この凹部内に銀ペースト等の固着剤34が充填され
てICチップ10の固着に供されると共に、マウントパッ
ド31とICチップ10との接合面50には固着剤34が付着し
ていないこと(即ち、固着剤34による固着面はマウント
パッド31のマウント面とほぼ同一平面内に存在するこ
と)である。
のチップサイズの15〜40%としてよいが、後述するハン
ドリング時にICチップ10が位置ずれしたり或いは銀ペ
ースト量による影響や応力を考慮すると、小さい程好ま
しいと考えられる。例えば、ICチップ10のサイズを8
mm×8mmとしたとき、マウントパッド31は4mm×4mm程
度(ICチップ10の約25%の面積)が適当であると思わ
れる。
トピン32(更には各リード6、7等)と共に、図5のよ
うにリードフレーム41としてエッチング等により一体成
形されるものである。そして、マウントパッド31の凹部
30は、図3に斜線で示すようにハーフエッチングで形成
可能であるが、その深さdは図4に示すように、銀ペー
スト34の厚み分(例えば約30μm程度)としてよい。
は、リードフレーム部8の4つの隅部のうち1つの隅部
(図5では右上の隅部)のみが図21のものと同様にリー
ドフレーム外枠2に直接的に固定されるが、他の3つの
隅部は夫々3つの蛇行状折曲部22、23、24を介してリー
ドフレーム外枠2に連結されている。このリードフレー
ム41によれば、ワイヤボンディングの如き熱工程におい
て外枠2とリードフレーム部8との間に温度差が生じて
も、上下、左右等の方向に生じ得る歪み応力が折曲部2
2、23、24の弾性変形によって効果的に吸収されること
になる。この結果、リードフレーム部8自体の寸法位置
精度(リードの間隔等)が向上し、またリードフレーム
材自体の歪みがなくなるので、搬送性が良くなり、スム
ーズな搬送が可能となる。
止したとき、樹脂の収縮によってリード6、7を引っ張
ろうとする力が生じても、これは折曲部22、23、24の変
形によって吸収され、このためにリードフレーム材の歪
みや変形を防止でき、耐湿性等の信頼性も向上する。
ICチップ10をマウント及びボンディングする工程を説
明する。
パッド31上に銀ペースト34によって固着(マウント)す
る。銀ペースト34は予めマウントパッド31の凹部30内に
充填されている。
パッド31及びサポートピン32を嵌入させるための四角形
状の凹部51及び放射状の線状凹部(溝)52を設けたヒー
タ部材(ヒータインサート)38を用意する。図7では、
凹部51、52を斜線で図示している。
タインサート又はヒータブロック)38に設けられた各凹
部51及び52にマウントパッド31及びサポートピン32を嵌
入させると、ICチップ裏面はヒータ部材に接触するこ
とになる。また、ICチップの周囲では、インナーリー
ド7の先端領域部は、ヒータ部材表面の段差39が設けら
れているため、インナーリードクランプ70(図6参照)
により押圧されると確実にヒータ部材に接触することに
なり、既述のように熱的にも機械的にも安定した接触が
確保され、安定したボンディングが行われることにな
る。ICチップ周囲では、ヒータ部材の各凹部51及び52
とマウントパッド31及びサポートピン32との間には約 5
00μm弱の隙間を設けておくのがよい。
に、熱及び超音波エネルギーを加えながら、ワイヤ15を
キャピラリ19によってパッド17に結合し、更に矢印20の
ようにインサートリード7へ導き、圧着する。
に小さく形成されていてもヒータインサート38に十分に
支持されるため、安定にワイヤボンディングを行え、か
つ、ヒータの熱をヒータインサート38からICチップ10
へ直接伝達でき、熱効率が損なわれることはない。
うな貫通孔54を設け、この貫通孔を通して真空吸引する
ことによってICチップ10をヒータインサート38上に吸
着させ、安定に支持することができる。また、これ以外
にも、ICチップ10をヒータインサート38に対しクラン
パ(図示せず)等によって機械的に固定してもよい。
て、図1に示したように樹脂16によって封止し、アウタ
ーリード6の不要部分を切断し、半導体パッケージ53を
作製する。
例によるパッケージ及びリードフレームは、マウントパ
ッド31がICチップ10よりも小さく形成され、かつ、凹
部30内に銀ペースト34を充填しているため、次の (1)〜
(5) の如き顕著な作用効果を得ることができる。
分だけパッド31の近傍での水分が少なくなり、かつパッ
ド31による熱膨張、収縮の差による歪みも少なくなり、
加熱したとき(例えばIRリフローや樹脂封止時)に図
25で説明したような水蒸気爆発によるパッド31−樹脂16
間の剥離がなく、クラックが樹脂に入ることがなく、或
いはクラックが大幅に減少する。
Cチップ10に対し樹脂16が直接接着しているので、一般
にシリコン(ICチップ10)とエポキシ樹脂(封止樹脂
16)との接着性が非常に良好であることによって、樹脂
16とICチップ10の界面剥離が起き難く、既述の水がこ
の界面に集まり、水蒸気爆発を起こすチャンスを一層減
ずることになる。
部30内に充填され、ICチップ10−パッド31の接合面50
上にはみ出すことがなく、また、銀ペースト量も減少さ
せることができるため、コストダウンを図れる上に、銀
ペーストに寄因する水分の放出、拡散、更には吸蔵ガス
の放出が少なく、図26で示した如き水蒸気爆発により樹
脂16にクラックが入ることがなく、或いはクラックが大
幅に減少する。そして、樹脂16として低応力のエポキシ
樹脂を使用しなくてすみ、これによって銀ペーストから
放出されようとするガス量を更に少なくできる。
め、マウントパッド31と銀ペースト34とICチップ10と
の合計厚みが、図19の従来例に比べて銀ペーストの厚み
分だけ(例えば、約30μm)小さくなり、パッケージ化
したときの全厚を薄くすることができる。
の上にマウントするICチップ10のサイズはマウントパ
ッド31のサイズに依存しないことになり、マウントでき
るチップサイズの自由度が大きくなる。
法は、マウントパッド嵌入凹部51を設けたヒータインサ
ート38を使用し、かつ、ICチップ10を周辺で直接支持
してボンディングを行うものであるため、次の (6)〜
(7) の顕著な作用効果を奏する。
〜図9に示したように、マウントパッド31が小さくても
これをヒータインサート38上に確実に支持でき、しか
も、ヒータインサート38の凹部51及び52内にパッド31及
びピン32を嵌入させているために支持が一層安定する。
従って、ワイヤボンディングを安定に行えることにな
る。
に対してICチップ10が直接接しているので、ヒータか
らICチップ(特にパッド17)への熱伝達、そして超音
波エネルギーが損なわれず、ボンディング強度は良好に
保たれ、ヒータの熱やキャピラリ19の超音波エネルギー
を低くしても、十分なボンディングを行えることにもな
る。
特に耐クラック性について具体的なテストを下記の条件
で行い、結果を下記表1に示した。
パッケージを85℃、85%RHで所定時間(下記表1参照)
放置。→その後、プリント配線板上に載せ、IRリフロ
ー炉(最高温度 245℃/5秒)に1回通す。→その後、
超音波探傷によって樹脂内部のクラックを観察。
た。 パッケージ:176ピン QFP(樹脂部24mm×24mm×
1.4mm 厚) モールド樹脂:ビフェニル系エポキシ樹脂 銀ペースト:低応力エポキシ系銀ペースト ワイヤ:Auワイヤ、27μm径
/サンプル数
ッドのサイズをICチップのサイズよりも小さくしたこ
と(上記では、ICチップの面積の17%又は24%)によ
って、従来のパッケージに比べて耐クラック性が著しく
向上することが明らかである。
る作用効果、特に半導体製品に要求される耐温度衝撃性
の試験の一つである温度サイクル試験を下記の条件で行
い、結果を下記表2に示す。
パッケージを85℃/30%RHで 168時間吸湿させる。→
その後、IRリフロー炉(最高温度 245℃/5秒)に3
回通す。→その後、温度サイクル試験(150℃/−65℃、
時間は各温度に10分間保持)を所定回数行う。→その
後、外観検査及び前述したと同様の超音波探傷によっ
て、樹脂内部のクラックを観察。
/サンプル数
ージに比べて耐クラック性が著しく向上することを明ら
かに示している。
た。即ち、図1に示した如くパッケージの裏面(図面で
は下側の面)中心位置での深度を0とし、パッケージの
4コーナー位置での深度をそれぞれ測定した(パッケー
ジ厚は 1.4mm、ICチップサイズは 8.1mm×8.3mm 、I
Cチップ厚は0.28mm)。パッケージ表面側への反りを−
の深度で、裏面側への反りを+の深度で表し、4コーナ
ーの測定深度の平均値を「パッケージの反り」として評
価した。結果を下記表3に示す(但し、深度の単位はμ
m)。
は従来例に比べて反りが大幅に減少していることを示し
ている。
に示すものである。
断面形状として、その四辺の側面60をチップマウント面
(表側)から反対面(裏側)にかけて内向きに例えば直
線状に傾斜させている。そして、これに対応して図6に
示したヒータインサート38の凹部51の側面も傾斜させ
る。
させていることによって、ヒータインサート38の凹部へ
の嵌入が容易となり、また嵌入後の収まり状態も安定す
る。また、図10に示すIRリフロー時に加わる熱で樹脂
16−マウントパッド31間に生じる応力を傾斜面60に沿っ
て分散させることができ、パッド31のエッジ31aが直角
である場合に比べて応力の集中を緩和し、樹脂16にクラ
ックが入ることを一層効果的に防止することができる。
なお、上記の側面60の傾斜形状は、直線状に限らず、曲
面状等、他の形状であってもよい。
61をICチップマウント側(表側)からその反対側(裏
側)にかけて内向きに例えば曲線状に傾斜させたもので
ある。
ト38の嵌入凹部52の側面も傾斜させると、ヒータインサ
ート38にリードフレームを載置する際に、サポートピン
32が図の(a)→(b)のように嵌入し易くなり、また
その嵌入状態も安定化する。このサポートピン32は、図
9に示した傾斜面60のあるマウントパッド31と組み合わ
せると、より効果的である。なお、上記の側面61の傾斜
形状は曲面状に限らず、直線状等、他の形状であっても
よい。
対するICチップ10の接着強度が仮に不十分であある場
合、サポートピン32に付加的なマウント部62を円形状に
設け、このマウント部62でもICチップ10を固定するこ
とによって、リードフレーム上でのICチップ10の接着
強度を向上させている。この場合、マウント部62には、
チップ固定用の銀ペーストを充填する凹部63をハーフエ
ッチング等によって形成することが望ましい。
(b)、(c)、(d)があり、図12(a)と比較した
場合に中央部のマウントパッドが無い。上述したマウン
ト部62は円形状とは限らず、三角形、四角形、その他の
多角形、または楕円等、種々の形状をとることができ
る。
ン32に対応して、図13のようにヒータインサート38にも
円形状のマウント部嵌入凹部64を形成している。
マウントパッド31の四隅に(合計4本)それぞれ連設し
ているのに対し、マウントパッド31の対角線上で2本連
設した例を示すものである。
しても、マウントパッド31を十分に支持することができ
る。サポートピン32は更に、マウントパッド31の3つの
隅部に連設し、3本としてもよい。
述した四角形状以外の例えば円形状又は円形に近い丸み
をもたせた形状としたものである。
述した樹脂−マウントパッド間の応力を分散させ、応力
集中を緩和できることがあり、耐クラック性が向上する
場合がある。パッド形状は、上記以外にも、他の多角形
状、曲線形状等、種々であってよい。
使用する上述のヒータインサート38のマウントパッド嵌
入凹部51をマウントパッド31よりも大きくし、マウント
パッド31が余裕を以て凹部51内に嵌入若しくは挿入され
るようにしている。
サイズにかかわらず、多種類のマウントパッド31に対し
てヒータインサート38を共用することができる。従っ
て、マウントパッド毎にヒータインサート38をその都
度、交換する必要がない。
り、マウントパッド31に銀ペースト充填用の凹部を形成
していない例を示すものである。
ICチップ10よりも小さくしている点では上述したと同
様の顕著な作用効果を得ることができる。この例の如き
構成は、図9〜図16に示した各例にも同様に適用しても
よい。
の実施例は本発明の技術的思想に基いて更に変形が可能
である。
トピン、固着剤充填用の凹部、ヒータインサート及びそ
のマウントパッド嵌入凹部のサイズや形状等は様々に変
化させてよい。また、材質的にも、リードフレーム材は
42アロイ、銅合金、銅等の金属、固着剤は銀ペースト以
外の接着剤、ヒーターインサートはステンレス鋼等、種
々であってよい。
成は、他のタイプのリードフレーム、例えばテープキャ
リア方式に適用することもできる。ボンディングも、上
述したワイヤボンディングに限ることはない。
が出ている上述のQFPパッケージのみならず、デュア
ル・インライン・パッケージ等にも適用してよい。
ッド等のマウント部を半導体素子よりも小さくしたの
で、マウント部と樹脂との熱膨張、収縮の差による歪み
が少なくなり、反りの発生も著しく低減され、そして更
に、半導体素子に対し樹脂の接着性が非常に良好である
ことと接着面積の増加と相まって、マウント部近傍の半
導体素子と樹脂との接着力が低下し難く、既述の水分が
凝縮し、水蒸気爆発に起因するマウント部−樹脂間の剥
離がなく、クラックが樹脂に入ることがなく、或いはク
ラックが大幅に減少する。
にマウントする半導体素子のサイズはマウント部のサイ
ズに依存しないことになり、マウントできる半導体素子
サイズの自由度が大きくなる。
は、マウント部が小さくてもこれをヒータインサート上
に確実に支持でき、しかも、ヒータインサートの凹部内
にマウント部を嵌入させているために支持が一層安定す
る。従って、ボンディングを安定に行える。
素子が直接接しているので、ヒータから半導体素子への
熱伝達、そして超音波エネルギーが損なわれない等、ボ
ンディング強度は良好に保たれ、ヒータの熱や圧着に要
するエネルギーを低くしても、十分なボンディングを行
えることにもなる。
体装置)の断面図である。
る。
視図である。
断面図である。
ートの平面図及びその各断面図である。
ウントパッドの一部破断斜視図である。
ハンダリフロー時の断面図である。
ポートピンをヒーターインサートの凹部に嵌入するとき
の拡大断面図である。
部平面図である。
トの平面図である。
要部平面図である。
要部平面図である。
凹部にICチップをマウントしたマウントパッドを嵌入
した状態の断面図である。
部のマウントパッドの拡大斜視図である。
断面図である。
の断面図である。
る。
プをマウントした状態の拡大斜視図である。
グ時の要部断面図である。
である。
である。
Claims (11)
- 【請求項1】 半導体素子がこれよりも小さいマウント
部上に固定された状態で樹脂封止されている半導体装
置。 - 【請求項2】 マウントパッドのマウント面に凹部が形
成され、この凹部に半導体素子固定用の固着剤が充填さ
れている、請求項1に記載した半導体装置。 - 【請求項3】 マウントパッドの側面がマウント面から
その反対面にかけて内向きに傾斜している、請求項1又
は2に記載した半導体装置。 - 【請求項4】 マウントパッドを支持するサポートピン
の側面が半導体素子マウント側からその反対面にかけて
内向きに傾斜している、請求項1〜3のいずれかに記載
した半導体装置。 - 【請求項5】 サポートピンに付加的なマウント部が設
けられ、このマウント部にも半導体素子が固定されてい
る、請求項1〜4のいずれかに記載した半導体装置。 - 【請求項6】 サポートピンの付加的なマウント部に凹
部が形成され、この凹部に半導体素子固定用の固着剤が
充填されている、請求項5に記載した半導体装置。 - 【請求項7】 請求項1〜3のいずれかに記載したマウ
ントパッドを有するリードフレーム。 - 【請求項8】 請求項4〜6のいずれかに記載したサポ
ートピンが設けられている、請求項7に記載したリード
フレーム。 - 【請求項9】 請求項7又は8に記載したリードフレー
ムのマウントパッド及び/又はサポートピンをヒータ部
材に形成された嵌入凹部に嵌入させ、この状態で、前記
マウントパッド及び/又は前記サポートピンに固定され
た半導体素子に前記ヒータ部材を接触させ、前記半導体
素子と前記リードフレームのインナーリード部とをボン
ディングする、請求項1〜6のいずれかに記載した半導
体装置の製造方法。 - 【請求項10】 請求項1〜3のいずれかに記載したマウ
ントパッドの嵌入凹部と共に、請求項4〜6のいずれか
に記載したサポートピンの嵌入凹部もヒータ部材に形成
する、請求項9に記載した製造方法。 - 【請求項11】 ヒータ部材に形成するマウントパッド嵌
入凹部をマウントパッドよりも大きくする、請求項9又
は10に記載した製造方法。
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