JPH0648535B2 - 磁気記録媒体用二軸配向ポリエステルフイルム - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は磁気記録媒体用二軸配向ポリエステルフイルム
に関し、更に詳しくは特定の球状シリカ粒子と特定の酸
化チタン粒子を含有し、滑り性，耐スクラッチ性，耐削
れ性及び磁気変換特性の優れた磁気記録媒体用として有
用な二軸配向ポリエステルフイルムに関する。

［従来技術］ 従来より、ポリエステルフイルムは磁気記録媒体用のベ
ースフイルムとして広く用いられている。近年、磁気記
録媒体、とりわけ磁気記録テープは益々高画質化が要求
されるようになっている。このため、磁気記録テープの
磁性層側のベースフイルムの表面はますます平坦化が要
求されるようになっている。

一方、磁気テープの製造工程における作業性の向上、さ
らにはその製品品質の向上のため、滑り性や耐削れ性も
重要な要求特性である。また、ビデオ用途、時に高画質
用ベースには反磁性層面にバックコーティングと呼ばれ
るコーティング層を設け、操作時のガイド部，再生ヘッ
ド等による摩耗抑制を行なっているが、コスト合理化の
ためにバックコーティングの省略も要望されている。

一般に、フイルムの滑り性の改良には、フイルム表面に
凹凸を付与することによりガイドロール等との間の接触
面積を減少せしめる方法が採用されており、大別して
(i)フイルム原料に用いる高分子触媒残渣から不活性の
粒子を析出せしめる方法と、(ii)不活性無機粒子を添加
せしめる方法が用いられている。これら原料高分子中の
微粒子は、その大きさが大きい程、滑り性の改良効果が
大となるが、同時に表面の粗面化も大となり、表面の平
坦性と滑り性という相反する特性を同時に満足させるこ
とはなかなか難しいのが現状である。

また、耐削れ性は、例えばポリエステルフイルム表面に
磁性層を塗布する時、コーティングロールおよびその後
のカレンダー工程のロールとフイルム表面との摩耗によ
る削れ粉の抑制や、フイルム表面へのしわ，擦り傷の発
生防止等に重要な特性である。これら削れ粉等の発生は
磁性層の塗布工程で、ロールを頻繁に清掃せねばなら
ず、生産歩留りの低下を招き、また削れ粉等がフイルム
に付着した場合には加工後の磁気記録テープにおいて磁
気記録信号の欠落、即ちドラップアウトの原因となる。
更に磁性層塗布後のフイルムをスリットして磁気記録テ
ープに加工した後でも、リールやカセット等からの引き
出し、巻き上げ鵜の他の操作の際に、多くのガイド部，
再生ヘッド等との間で摩耗が著しく生じ、擦り傷，歪の
発生、さらにはポリエステルフイルム表面の削れ等によ
る削れ粉状物質を発生させる結果、磁気記録信号の欠
落、即ちドロップアウトの大きな原因となることが多
い。

磁気記録媒体用ベースフイルムに対するこれらの要求に
対し、従来より多くの提案がなされている。しかし、例
えば、滑り性の向上を目的として炭酸カルシウム，カオ
リン等の比較的大粒子を添加するものは、表面の平坦化
は不十分となり、磁気記録の高画質化への要求を満足し
ない。また大粒子を含むフイルムは、通常二軸延伸によ
って該粒子とポリエステルの境界に剥離が生じ、該粒子
の周りにボイドが形成される。このボイドはフイルムの
加工時等に摩耗により脱落し削れ粉状となり、ドロップ
アウトの要因となる。一方、耐スクラッチ性，耐削れ性
の向上を目的として酸化チタンの如き比較的小粒子を添
加したり、上記大粒子と小粒子を共存させる等のもの
は、磁気記録の高画質化への要求を満すべく表面の平坦
化を進めると、滑り性が悪くなる。

［発明の目的］ 本発明の目的は、上記不都合を解消し、磁気記録媒体用
として用いたとき磁気変換特性が従前よりさらに良好で
あり、しかも滑り性，耐スクラッチ性，耐削れ性が良
い、磁気記録媒体用ポリエステルフイルムを提供するこ
とにある。

［発明の構成・効果］ 本発明の目的は、本発明によれば、ポリエステル中に、
第１成分として平均粒径が0.05μｍ以上２μｍ未満であ
りかつ粒径比（長径／短径）が1.0 〜1.2 である球状シ
リカ粒子を0.01〜２重量％含有し、第２成分として平均
粒径が0.05μｍ以上１μｍ未満であり、下記式で表され
る粒度分布比［γ］の値が1.2 〜2.3 の範囲にあるアナ
ターゼ型酸化チタン粒子を0.01〜１重量％含有すること
を特徴とする磁気記録媒体用二軸配向ポリエステルフイ
ルムによって達成される。

ここで、球状シリカ粒子の長径，短径，面積円相当径は
粒子表面に金属を蒸着してのち電子顕微鏡にて例えば１
万〜３万倍に拡大した像から求め、平均粒径，粒径比は
次式で求める。

平均粒径 ＝測定粒子の面積円相当径の総和／測定粒子の数 粒径比＝シリカ粒子の平均長径／該粒子の平均短径 本発明におけるポリエステルとは芳香族ジカルボン酸を
主たる酸成分とし、脂肪族グリコールを主たるグリコー
ル成分とするポリエステルである。かかるポリエステル
は実質的に線状であり、そしてフイルム形成性特に溶融
成形によるフイルム形成性を有する。芳香族ジカルボン
惨としては、例えばテレフタル惨，ナフタレンジカルボ
ン酸，イソフタル酸，ジフェニルエタンジカルボン酸，
ジフェニルジカルボン酸，ジフェニルエーテルジカルボ
ン酸，ジフェニルスルホンジカルボン酸，ジフェニルケ
トンジカルボン酸，アンスラセンジカルボン酸等を挙げ
ることができる。脂肪族グリコールとしては、例えばエ
チレングリコール，トリメチレングリコール，テトラメ
チレングリコール，ペンタメチレングリコール，ヘキサ
メチレングリコール，デカメチレングリコール等の如き
炭素数２〜10のアルキレングリコールあるいはシクロヘ
キサンジメタノールの如き脂環族ジオール等を挙げるこ
とができる。

本発明において、ポリエステルとしては例えばアルキレ
ンテレフタレート及び／又はアルキレンナフタレートを
主たる構成成分とするものが好ましく用いられる。

かかるポリエステルのうちでも、例えばポリエチレンテ
レフタレート，ポリエチレン−2,6 −ナフタレートはも
ちろんのこと、例えば全ジカルボン酸成分の80モル％以
上がテレフタル酸及び／又は2,6 −ナフタレンジカルボ
ン酸であり、全グリコール成分の80モル％以上がエチレ
ングリコールである共重合体が好ましい。その際全酸成
分の20モル％以下はテレフタル酸及び／又はナフタレン
ジカルボン酸以外の上記芳香族ジカルボン酸であること
ができ、また例えばアジピン酸，セバチン酸等の如き脂
肪族ジカルボン酸；シクロヘキサン−1,4 −ジカルボン
酸の如き脂環族ジカルボン酸等であることができる。ま
た、全グリコール成分の20モル％以下は、エチレングリ
コール以外の上記グリコールであることができ、あるい
は例えばハイドロキノン，レゾルシン，2,2 −ビス（４
−ヒドロキフェニル）プロパン等の如き芳香族ジオー
ル；1,4 −ジヒドロキシメチルベンゼンの如き芳香族を
含む脂肪族ジオール；ポリエチレングリコール，ポリプ
ロピレングリコール，ポリテトラメチレングリコール等
の如きポリアルキレングリコール（ポリオキシアルキレ
ングリコール）等であることもできる。

また、本発明におけるポリエステルには、例えばヒドロ
キシ安息香酸の如き芳香族オキシ酸；ω−ヒドロキシカ
プロン酸の如き脂肪族オキシ酸等のオキシカルボン酸に
由来する成分を、ジカルボン酸成分およびオキシカルボ
ン酸成分の総量に対し20モル％以下で共重合或いは結合
するものも包含される。

さらに本発明におけるポリエステルには実質的に線状で
ある範囲の量、例えば全酸成分に対し２モル％以下の量
で、３官能以上のポリカルボン酸又はポリヒドロキシ化
合物、例えばトリメリット酸，ペンタエリスリトール等
を共重合したものをも包含される。

上記ポリエステルは、それ自体公知であり、且つそれ自
体公知の方法で製造することができる。

上記ポリエステルとしては、ｏ−クロロフェノール中の
溶液として35℃で測定して求めた固有粘度が約0.4 〜約
0.9 のものが好ましい。

本発明の二軸配向ポリエステルフイルムはそのフイルム
表面に多数の微細な突起を有している。それらの多数の
微細な突起は、本発明によれば、ポリエステル中に分散
して含有される多数の球状シリカ粒子（第１成分）と酸
化チタン粒子（第２成分）に由来する。

これら粒子を分散含有するポリエステルは、通常ポリエ
ステルを形成するための反応時、例えばエステル交換法
による場合のエステル交換反応中あるい重縮合反応中の
任意の時期、又は直接重合法による場合の任意の時期
に、球状シリカ粒子と酸化チタン粒子をそれぞれまたは
一緒に（好ましくはグリコール中のスラリーとして）反
応系中に添加することにより製造することができる。好
ましくは、重縮合反応の初期例えば固有粘度が約0.3 に
至るまでの間に、これら不活性粒子を反応系中に添加す
るのが好ましい。

本発明においてポリエステル中に分散含有させる第１成
分としての球状シリカ粒子は平均粒径が0.05μｍ以上２
μｍ未満でありかつ粒径比（長径／短径）が1.0 〜1.2
であるシリカ粒子である。この球状シリカ粒子は個々の
形状が極めて真球に近い球状であって、従来から滑剤と
して知られているシリカ粒子が10 mμｍ程度の超微細な
塊状粒子か、これらが凝集して0.5 μｍ程度の凝集物
（凝集粒子）を形成しているのとは著しく異なる点に特
徴がある。球状シリカ粒子の平均粒径は好ましくは0.08
〜1.2 μｍ、更に好ましくは0.1 〜0.8 μｍである。こ
の平均粒径が0.05μｍ未満では滑り性や耐削れ性の向上
効果が不充分であり、好ましくない。また平均粒径が２
μｍを超えると磁気記録媒体用のベースフイルムとして
はフイルム表面が粗れすぎて好ましくない。また球状シ
リカ粒子の粒径比は1.0 〜1.2 、好ましくは1.0 〜1.1
、更に好ましくは1.0 〜1.05である。

また、球状シリカ粒子は粒径分布がシャープであること
が好ましく、分布の急峻度を表わす相対標準偏差が0.5
以下、更には0.35以下、特に0.25以下であることが好ま
しい。この相対標準偏差は次式で表わされる。

こで、Di：個々の粒子の面積円相当径（μｍ） ：面積円相当径の平均値 ｎ：粒子の測定個数 を表わす。

相対標準偏差が0.5 以下の球状シリカ粒子を用いると、
該粒子が球状で且つ粒度分布が極めて急峻であることか
ら、フイルム表面の突起の高さが極めて均一となる。更
にフイルム表面の個々の突起は、滑剤周辺のボイドが小
さいために、突起形状が非常にシャープであり、従っ
て、同じ突起の数であっても他の滑剤単独によるものに
比して滑り性が極めて良好となる。

球状シリカ粒子は、上述の条件を満たせば、その製法そ
の他に何ら限定されるものではない。例えば球状シリカ
粒子は、オルトケイ酸エチル［Si（ＯＣ₂Ｈ₅）_４］の加
水分解から含水シリカ［Si（ＯＨ）_４］単分散球をつく
り、更にこの含水シリカ単分散球を脱水化処理してシリ
カ結合［≡Si−Ｏ−Si≡］を三次元的に成長させること
で製造できる（日本化学会誌‘81，No.9，P.1503）。

Si（ＯＣ₂Ｈ₅）_４＋４Ｈ₂Ｏ →Si（ＯＨ）_４＋４Ｃ₂Ｈ₅ＯＨ ≡Si−ＯＨ＋ＨＯ−Si≡ →≡Si−ＯSi≡＋Ｈ₂Ｏ 本発明において第１成分としての球状シリカ粒子の添加
量は、ポリエステルに対して0.001 〜２重量％とする必
要があり、好ましくは0.05〜１重量％の範囲である。こ
の添加量が0.001 重量％未満では、滑り性や耐削れ性の
向上効果が不充分となり、一方２重量％を超えると表面
平坦性が低下し、好ましくない。

本発明においてポリエステル中に分散含有させる第２成
分としての酸化チタン粒子は、平均粒径が0.05μｍ以上
１μｍ未満であり、前記式で表される粒度分布比［γ］
の値が1.2 〜2.3 の範囲にあるアナターゼ型酸化チタン
粒子である。酸化チタンの好ましい平均粒径は0.1 μｍ
以上0.5 μｍ未満である。この平均粒径が0.05μｍ未満
では酸化チタンを添加することによる耐スクラッチ性の
向上効果が不十分であり、好ましくない。一方、平均粒
径が１μｍ以上では磁気記録媒体用のベースフイルムと
してはフイルム表面が粗れすぎて好ましくない。また、
好ましい粒度分布比［γ］の値は1.2 〜2.1 の範囲にあ
る。この粒度分布比［γ］が2.3 を超えると、ポリエス
テル中に分散含有させフイルム化したとき、粗大粒子が
多くなり、フイルム表面が磁気記録媒体用としては粗れ
すぎて好ましくない。この粒度分布比［γ］が小さいこ
とは粒度分布がシャープであることを示している。この
様の特定の範囲の粒度分布比を有する酸化チタン粒子は
単に市販品を使用するだけでは得られず、例えばＰ_２Ｏ
_５換算で0.25重量％以上のＰ元素を含みかつＫ_２Ｏ換算
で0.1 重量％以上のＫ元素を含む特殊なアナターゼ型酸
化チタンをエチレングリコールの如き溶媒中で粉砕又は
解砕処理を行ない、沈降処理により粗大粒子を分離し、
更に過処理等を実施することにより得ることができ
る。

本発明において第２成分としての酸化チタン粒子の含有
量は、ポリエステルに対して0.01〜１重量％とする必要
があり、好ましくは0.05〜0.5 重量％の範囲である。こ
の添加量が0.01重量％未満では対スクラッチ性の向上効
果が不充分となり、一方１重量％を超えると酸化チタン
粒子に起因するフイルム上の突起部が磁気テープ製造工
程において削り粉状物となりやすく、ドロップアウトの
増加につながり、好ましくない。

本発明の二軸配向ポリエステルフイルムは、従来から蓄
積された二軸延伸フイルムの製造法に順じて製造でき
る。例えば、球状シリカ粒子及び酸化チタン粒子を含有
するポリエステルを溶融製膜して非晶質の未延伸フイル
ムとし、次いで該未延伸フイルムを二軸方向に延伸し、
熱固定し、必要であれば弛緩熱処理することによって製
造される。その際、フイルム表面特性は、球状シリカ粒
子や酸化チタン粒子の粒径，量等によって、また延伸条
件によって変化するので従来の延伸条件から適宜選択す
る。また密度，熱収縮率等も延伸，熱処理時の温度，倍
率，速度等によって変化するので、これらの特性を同時
に満足する条件を定める。例えば、延伸温度は１段目延
伸温度（例えば縦方向延伸温度：Ｔ₁）が（Tg−10）〜
（Tg＋45）℃の範囲（但し、Tg：ポリエステルのガラス
転移温度）から、２段目延伸温度（例えば横方向延伸温
度：Ｔ₂）が（Ｔ₁＋５）〜（Ｔ₁＋40）℃の範囲から選
択するとよい。また、延伸倍率は一軸方向の延伸倍率が
2.5 以上、特に３倍以上でかつ面積倍率が８倍以上、特
に10倍以上となる範囲から選択するとよい。更にまた、
熱固定温度は180 〜250 ℃、更には 200 〜230 ℃の
範囲から選択するとよい。

本発明の二軸配向ポリエステルフイルムは、従来のもの
に比べてボイドの小さいフイルムであるが、特に球状シ
リカ粒子の周辺におけるボイドが小さい特徴がある。こ
の球状シリカ粒子周辺のボイドが小さい理由は球状シリ
カ粒子のポリエステルへの親和性の良さと、更に粒子そ
のものが極めて真球に近いことから、延伸において滑剤
周辺の応力が均等に伝播し、ポリエステルと滑剤の界面
の一部に応力が集中しないことによると推測される。

本発明においては、その粒径分布が極めてシャープであ
る球状シリカ粒子の添加によりポリエステルフイルムの
表面に形成された突起の分布は極めて均一性が高く、突
起の高さのそろったポリエステルフイルムが得られる。
そしてこのフイルムに特定の酸化チタン粒子を含有させ
ることによって、表面を平坦化しても滑り性，耐スクラ
ッチ性及び耐削れ性の優れた磁気記録媒体用二軸配向ポ
リエステルフイルムを提供することが可能となる。

［実施例］ 以下、実施例を掲げて本発明を更に説明する。なお本発
明における種々の物性値および特性は以下の如く測定さ
れたものである。

(1) 球状シリカ粒子の粒径 粒子粒径の測定には次の状態がある。

1) 粒体から平均粒径，粒径比等を求める場合 2) フイルム中粒子の平均粒径，粒径比等を求める場合 (i) 粉体からの場合 電顕試料台上に粉体を個々の粒子ができるだけ重ならな
いように散在せしめ、金スパッター装置により表面に金
薄膜蒸着層を厚み200 Å〜300 Åで形成せしめ、走査型
電子顕微鏡にて例えば10,000〜30,000倍で観察し、日本
レギュレーター(株)製ルーゼックス 500にて、少なくと
も100 個の粒子の長径（Dli），短径（Dsi）及び面積円
相当径（Di）を求める。そして、これらの次式で表わさ
れる数平均値をもって、シリカ粒子の長径（Dl），短径
（Ds），平均粒径（）を表わす。

(ii) フイルム中の粒子の場合 試料フイルム小片を走査型粒子顕微鏡用試料台に固定
し、日本電子(株)製スパッターリング装置（JFC-1100型
イオンエッチング装置）を用いてフイルム表面に下記条
件にてイオンエッチング処理を施す。条件は、ベンジャ
ー内に試料を設置し、約10^-3Torrの真空状態まで真空度
を上げ、電圧0.25KV，電流12.5mAにて約10分間イオンエ
ッチングを実施する。更に同装置にて、フイルム表面に
金スパッターを施し、走査型電子顕微鏡にて10,000〜3
0,000倍で観察し、日本レギュレーター(株)製ルーゼッ
クス500 にて少なくとも100 個の粒子の長径（Dli），
短径（Dsi）及び面積円相当径（Di）を求める。以下、
上記(i)と同様に行なう。

(2) 酸化チタン誌の平均粒径等 1) 平均粒径 島津製作所製CP-50 型セントリフュグル パーティクル
サイズ アナライザー（Centrifugal Particle Size
Analyser）を用いて測定する。得られた遠心沈降曲線を
基に算出した各粒径の粒子とその存在量との積算曲線か
ら、50マスパーセントに相当する粒径を読み取り、この
値を上記平均粒径とする（Book「粒度測定技術」日刊工
業新聞社発行，1975年，頁242 〜247 参照）。

2) 酸化チタン誌の粒度分布比［γ］ 平均粒径の測定において得られた遠心沈降曲線を基に、
各粒径の粒子とその存在量との累積曲線を描き、粒子の
積算重量がそれぞれ25％，75％に相当する粒径を読みよ
り、25％相当の粒径を75％相当の粒径で除して粒度分布
比を求める。積算は粒径の大きい方から行う。

(3) フイルム表面粗さ（Ra） 中心線平均粗さ（Ra）としてJIS-B0601 で定義される値
であり、本発明では(株)小坂研究所の触針表面粗さ計
（SURFCORDER SE-30C）を用いて測定する。測定条件等
は次の通りである。

(a) 触針先端半径： 2μｍ (b) 測定圧力 ： 30mg (c) カットオフ ： 0.25mm (d) 測定長 ： 2.5mm (e) データーのまとめ方 同一試料について５回繰返し測定し、最も大きい値を１
つ除き、残りの４つのデーターの平均値の少数点以下４
桁目を四捨五入し、小数点以下３桁目まで表示する。

(4) フイルムの摩擦係数（μk） 温度20℃，湿度60％の環境で、巾1/2 インチに裁断した
フイルムを、固定棒（表面粗さ0.2 μｍ）に角度θ＝(1
52/180)πラジアン(152゜)で接触させて毎分200cm の速
さで移動（摩擦）させる。入り口テンションＴ₁が25g
となるようにテンションコントローラーを調整した時の
出口テンション（Ｔ₂：g）をフイルムが90m 走行したの
ちに出口テンション検出機で検出し、次式に走行摩擦係
数μk を算出する。

μk ＝（2.303 ／θ）log （Ｔ_２／Ｔ_１） ＝0.733 log （Ｔ_２／25） (5) 削れ性 ベースフイルムの走行面の削れ性を５段のミニスーパー
カレンダーを使用して評価する。カレンダーはナイロン
ロールとスチールロールの５段カレンダーであり、処理
温度は80℃，フイルムにかかる線圧は200 kg／cm，フイ
ルムスピードは50m ／分で走行させる。走行フイルムは
全長2000m 走行させた時点でカレンダーのトップローラ
ーに付着する汚れでベースフイルムの削れ性を評価す
る。

＜４段階判定＞ ◎ ナイロンロールの汚れ全くなし ○ ナイロンロールの汚れほとんどなし × ナイロンロールが汚れる ×× ナイロンロールがひどく汚れる (6) スクラッチ判定 巾1/2 インチに裁断したフイルムを上記(4) の摩擦係数
測定装置を用いて、フイルム面が固定棒に152 ゜の角度
で接触する様にかけ、20cm/sec速度で10m 走行させ、こ
れを50回繰返した後の1/2 インチ巾フイルムの表面に入
ったスクラッチの太さ，深さ，数を総合して次の５段階
判定する。

＜５段階判定＞ ◎ フイルムに全くスクラッチが認められない ○ フイルムにほとんどスクラッチが認められない Δ フイルムにスクラッチが認められる（何本か） × フイルムに太いスクラッチが何本か認められる ×× フイルムに太く深いスクラッチが多数全面に認め
られる (7) 磁気コーティングテープの電磁変換特性 市販の家庭用ＶＴＲを用いて50％白レベル信号（100 ％
白レベル信号はピーク・ツー・ピークの電圧が0.714 ボ
ルトである）に、100 ％クロマレベル信号を重畳した信
号を記録し、その再生信号をシバソクノイズメーター：
タイプ925Rを用いて測定を行う。クロマＳ／Ｎの定義は
シバソクの定義に従い次の通りである。

ここでES(p-p) は白レベル信号の再生信号ピーク・ツー
・ピークの電圧差(p-p) である。

ES(p-p) ＝0.714V(p-p) また、EN(rms) はクロマレベル信号の再生信号のピーク
の電圧の平方根値である。

(8) ドロップアウト 市販のドロップアウトカレンダー（例えばシバソクVH01
BZ型）にて５μsec ×10dBのドロップアウトをカウント
し、１分間のカウント数を算出する。

実施例１，２及び比較例１〜３ ジメチルテレフタレートとエチレングリコールとをエス
テル交換触媒として酢酸マンガンを、重合触媒として三
酸化アンチモンを、安定剤として亜燐酸を用い、更に滑
剤として表−１に示す平均粒径，粒径比，相対標準偏差
の球状シリカ粒子を2.5 重量％となるように加えて常法
より重合し、固有粘度（オルソクロロフェノール，35
℃）0.62の球状シリカを含有するポリエチレンテレフタ
レートペレットを得た。

一方、粒子中にＰ元素を0.38重量％，Ｋ元素0.18重量％
を含むアナターゼ型酸化チタン粒子30重量部をエチレン
グリコール70重量部に撹拌しながら投入し、ホモゲナイ
ザーにて高速撹拌してスラリーを得、サンドグライダー
粉砕機にて処理し、更に高速回転する分級機により粗大
粒子部分を分級した後目開き１μｍのフィルターにて
過して平均粒径0.30μｍ，粒度分布比1.6 の酸化チタン
スラリーを得た。このスラリーを球状シリカ粒子の代り
に添加する以外は上記と同様の方法にて酸化チタン粒子
を2.5 重量％含有するポリエチレンテレフタレートペレ
ットを得た。

この２種のポリエチレンテレフタレートペレット及び実
質的に滑剤を含まないポリエチレンテレフタレートペレ
ットを表−１に示す滑剤添加量となるように計量後、Ｖ
型ブレンダーにて混合し、170 ℃，３時間乾燥後押出機
ホッパーに供給し、溶融温度280 〜300 ℃で溶融し、こ
の溶融ポリマーを間隔１mmのスリット状ダイを通して表
面仕上げ0.3S程度，表面温度20℃の回転冷却ドラム上に
形成押出し、200 μｍの未延伸フイルムを得た。

このようにして得られた未延伸フイルムを75℃に予熱
し、更に低速，高速のロール間で15mm上方より900 ℃の
表面温度のＩＲヒーター１本にて加熱して3.6 倍に延伸
し、急冷し、続いてステンターに供給し105 ℃にて横方
向に3.7 倍に延伸した。得られた二軸配向フイルムを20
5 ℃の温度で５秒間熱固定し、厚み15μｍの熱固定二軸
配向フイルムを得た。

かくして得られたフイルムについて表面粗さ，走行時の
摩擦係数，削れ性及び耐スクラッチ性を評価した。この
結果を表−１に示す。

また、５％のコバルトを含有する針状のα−FeＯＯＨを
加熱分解して得たαFe_３Ｏ₃を水素還元して、平均針状
長さ0.2 μｍの強磁性鉄粉を得た。

上記強磁性鉄粉100 重量部（以下単に「部」と記す）と
下記の組成物をボールミルで12時間混練分散した。

ポリエステルポリウレタン 12部 塩化ビニル−酢酸ビニル− 無水マレイン酸共重合体 10部 α−アルミナ 5部 カーボンブラック 1部 酢酸ブチル 70部 メチルエチルケトン 35部 シクロヘキサノン 100部 分散後更に を添加してなお15〜30分混練した。更に、トリイソシア
ネート化合物の25％酢酸エチル溶液７部を加え、１時間
高速剪断分散して磁性塗布液を調整した。

得られた塗布液を、上記で得られた二軸配向フイルム
（厚み15μｍ）の上に乾燥膜厚が3.5 μｍとなるように
塗布した。

次いで直流磁場中で配向処理した後、100 ℃で乾燥し
た。乾燥後、カレンダリング処理を施して1/2 インチ巾
にスリットして厚み18.5μｍのビデオ用の磁気テープを
得た。

この様にして得られた磁気テープの電磁変換特性及びド
ロップアウトを表−１に示す。

実施例１，２のものは滑り性，削れ性，耐スクラッチ性
に優れ、また電磁変換特性，ドラップアウトにも優れ
る。比較例１のものは球状シリカ粒子の粒径が小さく、
滑り性，削れ性が劣る。比較例２のものは球状シリカ粒
子の粒径が大きすぎ電磁変換特性が劣り、比較例３のも
のでは球状シリカ粒子の粒径比が大きく削れ性，耐スク
ラッチ性が不十分である。

実施例３及び比較例４〜７ 球状シリカ粒子の平均粒径が0.30μｍ，粒径比が1.05，
含有量が3.5 重量％である以外は実施例１と同様にして
球状シリカ粒子を含有する固有粘度0.58のポリエチレン
テレフタレートペレットを得た。

このポリエチレンテレフタレートペレットと実施例１で
得た酸化チタン粒子を含有するポリエチレンテレフタレ
ートペレットを用いて、球状シリカ粒子の濃度、又は酸
化チタン粒子の濃度の異る二軸配向フイルムを実施例１
と同様の方法にて得た。これらのフイルムの表面粗さ，
摩擦係数，削れ性及び耐スクラッチ性を評価した。この
結果を表−２に示す。また、これらのフイルムを実施例
１と同様にして磁気テープにした後の電磁変換特性及び
ドロップアウトの測定結果も表−２に示す。

比較例４のものは球状シリカ粒子の添加量が低く、削れ
性が不十分であり、比較例５のものは球状シリカ粒子の
添加量が多くなりすぎて表面が粗くなり、電磁変換特性
が不十分である。比較例６，７では酸化チタン粒子の添
加量が適性でなく、それぞれ耐スクラッチ性，削れ性に
劣る。

比較例８，９ 酸化チタン粒子のサンドグライダー粉砕条件，デカンタ
ーでの分級条件及びフィルターの過条件を変更し、平
均粒径がそれぞれ0.03μｍ，1.60μｍのスラリーを得
た。これらのスラリーを用いること以外は実施例１と同
様にして酸化チタン含有ポリエチレンテレフタレートペ
レットを得た。

このペレットと実施例３で得られた球状シリカ粒子含有
ポリエチレンテレフタレートペレットとを用いて実施例
１と同様に二軸配向フイルム及び磁気テープを得た。こ
れらの特性を表−３に示す。比較例８，９のものは酸化
チタン粒子の粒径が適性でなく、特に比較例８では耐ス
クラッチ性に劣り、比較例９では削れ性，電磁変換特性
に劣る。

比較例１０ Ｐ元素の含有量が0.15重量％，Ｋ元素の含有量が0.08重
量％の酸化チタン粒子を実施例１と全く同様な方法でス
ラリー化処理を行なった所、平均粒径0.35μｍ，粒度分
布比2.5 の酸化チタンからなるスラリーが得られた。こ
のスラリーを用いて、実施例１と同様の方法にて酸化チ
タン粒子を2.5 重量％含有するポリエチレンテレフタレ
ートペレットを得た。

このペレットと実施例１で得られた球状シリカ粒子を含
有するポリエチレンテレフタレートペレットとを用い
て、実施例１と同様にして二軸配向ポリエステルフイル
ム及び磁気テープを得た。これらの特性も表−３に示
す。比較例１０のものでは酸化チタン粒子の粒度分布比
が大きく、結果として粗大粒子に起因してフイルム表面
が粗く、電磁変換特性が劣り、且つ粗大粒子による高突
起部分が削れやすく、磁気テープのドロップアウトも多
い。

比較例１１，１２ 実施例２で得られた粒状シリカ粒子を含有するポリエチ
レンテレフタレートペレット及び酸化チタン粒子を含有
するポリエチレンテレフタレートを、それぞれ単独で用
いて実施例１と同様の方法にて二軸配向フイルム及び磁
気テープを得た。これらの特性も表−３に示す。比較例
１１のものは酸化チタン粒子を含まないため、耐スクラ
ッチ性が今一歩不十分であり、一方比較例１２のものは
球状シリカ粒子を含まないため、滑り性，削れ性が劣
る。

本発明による磁気記録媒体用二軸配向ポリエステルフイ
ルムは、上記実施例，比較例に示すごとく、特定範囲の
球状シリカ粒子及び酸化チタン粒子を含有することによ
り優れた表面性を有するとともに、削れ性，耐スクラッ
チ性及び磁気テープ化後の電磁変換特性，ドロップアウ
トに優れる。また平坦な表面を有するにもかかわらず繰
返し走行後の摩擦係数も低く、高画質用の磁気テープと
してもバックコートなしで使用が可能である。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】ポリエステル中に、第１成分として平均粒
   径が0.05μｍ以上２μｍ未満でありかつ粒径比（長径／
   短径）が1.0 〜1.2 である球状シリカ粒子を0.01〜２重
   量％含有し、第２成分として平均粒径が0.05μｍ以上１
   μｍ未満でり、下記式で表わされる粒度分布比［γ］の
   値が1.2 〜2.3 の範囲にあるアナターゼ型酸化チタン粒
   子を0.01〜１重量％含有することを特徴とする磁気記録
   媒体用二軸配向ポリエステルフイルム。
2. 【請求項２】球状シリカ粒子の下記式で表わされる相対
   標準偏差が0.5 以下であることを特徴とする特許請求の
   範囲第１項記載の磁気記録媒体用二軸配向ポリエステル
   フイルム。 ここで、Di：個々の粒子の面積円相当径（μｍ） ：面積円相当径の平均値 ｎ：粒子の個数 を表わす。
3. 【請求項３】酸化チタン粒子の組成において、Ｐ_２Ｏ_５
   換算で0.25重量％以上のＰ元素が含まれ、かつＫ_２Ｏ換
   算で0.1 重量％以上のＫ元素が含まれていることを特徴
   とする特許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体用二軸
   配向ポリエステルフイルム。