JPH08258445A - 平版印刷版用支持体及びその製造方法並びに感光性平版印刷版 - Google Patents
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Abstract
び感光層との接着性が良好である平版印刷版用支持体及
びその製造方法並びに感光性平版印刷版に関する。 【構成】本発明は、Rmaxが3μm以下の滑らかな表
面を有し、かつマイクロポアの開口直径が8nm以上、
深さが800nm以上である砂目構造を有することを特
徴とする平版印刷版用支持体、及びアルミニウム板の表
面を粗面化した後、化学的処理を行い粗面化表面の鋭利
な部分を溶解し滑らかにすることによって、Rz/Ra
が処理前に比べ95%以下にすることを特徴とする平版
印刷版用支持体の製造方法、並びに該支持体上に感光層
を設けて成ることを特徴とする感光性平版印刷版であ
る。
Description
その製造方法並びに感光性平版印刷版に関するものであ
り、特に、印刷適性の点から親水性、保水性及び感光層
との接着性が良好である平版印刷版用支持体及びその製
造方法並びに感光性平版印刷版に関するものである。
持体としては、印刷適性の面から親水性、保水性、感光
層との接着性等に優れたものが要求され、このような観
点から通常粗面化・陽極酸化処理されたアルミニウム板
を親水化処理した支持体が用いられている。
17号は粗面の深さを規定し、ドイツ特許第1,81
3,443号は粗面の高低差を規定し、特開昭55−1
32294号は平均深さを規定しており、また米国特許
第1,412,768号は硫酸中で高電流密度で陽極酸
化処理し、米国特許第3,511,661号は燐酸中で
陽極酸化処理し、特開平3−253596号に陽極酸化
方法について各々開示している。
くすることによる保水量の多さが調子再現、印刷時の刷
り易さに効果があるのだが、上記従来技術の粗く、深
く、またエッジが鋭利である砂目構造では、インク粒子
がひっかかり、また感光層の現像時の抜けが悪く、汚れ
の原因となってしまうことが判明した。
の目的は、ストップ汚れに代表される汚れが発生しにく
く、残膜がなく、印刷時に水が絞れる平版印刷版用支持
体及びその製造方法並びに感光性平版印刷版を提供す
る。
じり合わないことを利用した印刷方法であり、印刷版面
には水を受容してインキを反発する非画線部と、水を反
発してインキを受容する画像部が形成され、印刷機から
水とインキを供給して、画像部に受容されたインキのみ
を紙に転写する。印刷機は印刷板面の画像部に受容され
たインキを一度ゴム製のブランケットに転写した後、紙
に転写するオフセット印刷方式が一般的である。通常、
印刷枚数が多くなるほどブランケット上の非画線部に当
たる部分もインキにより汚れてくるが、汚れの程度が大
きいと洗浄のしにくさという問題となり、汚れが著しく
なると紙面の非画線部が汚れてくるという問題になる。
体としては、印刷適性の面から親水性、保水性、感光層
との接着性に優れたものが要求され、このような観点か
ら通常表面を砂目立てといわれる粗面化処理を施された
アルミニウム板が用いられている。粗面化処理は、ボー
ル研磨、ブラシ研磨、ブラスト研磨、バフ研磨、ホーニ
ング研磨等の機械的粗面化法、また塩酸、硝酸等の酸性
電解液中で交流あるいは直流によって支持体表面を電解
処理する電気化学的粗面化法等が知られている。このよ
うな方法で砂目立て処理したアルミニウム板は、そのま
までは比較的柔らかく、摩耗しやすいので、次いで陽極
酸化処理を施して酸化皮膜が形成される。このように処
理されたアルミニウム板の表面は硬く、耐摩耗性に優れ
ている。
ニウム板でも様々な印刷条件下では、非画線部の汚れ、
耐刷性を満足させるには不十分である。このような問題
を解決するために、非画線部の汚れを改善するために
は、陽極酸化処理の後に親水化処理が施される。特開昭
56−21126号では親水性樹脂と水溶性塩からなる
下塗層を設ける方法、特開昭64−14090号ではカ
ルボン酸塩からなる下塗層を設ける方法、特開昭63−
130391号では少なくとも1つのアミノ基と、カル
ボキシル基およびスルホ基から選ばれた少なくとも1つ
の基とを有する化合物の無機塩酸及び有機塩酸から選ば
れた少なくとも1つからなる親水層を設ける方法、特開
昭63−165183号では少なくとも1つのアミノ基
と、ホスホン基またはホスホン基の塩を含む親水層を設
ける方法、等が提案されているがこれらの親水化処理を
施すだけでは耐刷性を劣化させることなく汚れ難さを改
善するには不十分であった。また、印刷時に検討合わせ
や休憩等でしばらく印刷機を停止した後、印刷再開時に
発生する微点状の汚れは改善されなかった。さらに、粗
面形状では、米国特許第4,301,229号ではピッ
ト径の累積度数分布と中心線平均粗さを規定、米国特許
第3,861,917号では粗面の深さを規定、カナダ
特許第955,449号では粗面の山の高さと直径を規
定、ドイツ特許第1,813,443号では粗面の高低
差を規定、特開昭55−132294号では平均深さを
規定、特開平5−24376号ではピット径と径に垂直
な方向の最大深さを規定、等が提案されているがこれら
の形状でも耐刷性と非画線部の汚れ難さ、特に印刷再開
時の微点状の汚れには不十分であった。また、特公平2
−12752号では硝酸系電解液中で電解粗面化した後
アルカリエッチングする方法が提案されているが、これ
だけでは、非画線部の汚れ難さ、耐刷性は良好である
が、ブランケットの汚れ難さについては不十分であっ
た。
の目的は、非画線部の汚れ難さ、耐刷性を両立し、ブラ
ンケットの汚れ難さ、調子再現性に優れた平版印刷版用
支持体の製造方法の提供にある。
ら親水性、保水性及び感光層との接着性が良好である平
版印刷版用支持体及びその製造方法並びに感光性平版印
刷版を提供することである。
の表面を粗面化した後、化学的処理を行い粗面化表面の
鋭利な部分を溶解し滑らかにすることによって、Rz/
Raが処理前に比べ95%以下にすることを特徴とする
平版印刷版用支持体の製造方法、Rmaxが3μm以
下の滑らかな表面を有し、かつマイクロポアの開口直径
が8nm以上、深さが800nm以上である砂目構造を
有することを特徴とする平版印刷版用支持体、アルミ
ニウム板の表面を粗面化した後、化学的処理を行い粗面
化表面の鋭利な部分を溶解し滑らかにすることによっ
て、Rz/Raが処理前に比べ95%以下にした支持体
上に感光層を設けて成ることを特徴とする感光性平版印
刷版、Rmaxが3μm以下の滑らかな表面を有し、
かつマイクロポアの開口直径が8nm以上、深さが80
0nm以上である砂目構造を有する支持体上に感光層を
設けて成ることを特徴とする感光性平版印刷版、粗面
化、陽極酸化処理を施されたアルミニウム板において、
該粗面化をa)硝酸系電解溶液中で電気化学的に直径8
00〜2000nmのピットを生成し、b)アルカリ水
溶液中で化学的エッチングをアルミニウムの溶解量が4
〜6g/m2になるように行い、c)酸でデスマット処
理を行うことを特徴とする平版印刷版用支持体の製造方
法、粗面化、陽極酸化処理を施されたアルミニウム板
において、該粗面化をa)塩酸系電解溶液中で電気化学
的に直径7〜25μmのピットを生成し、b)硝酸系電
解溶液中で電気化学的に直径600〜1000nmのピ
ットを生成し、c)アルカリ水溶液中で化学的エッチン
グをアルミニウムの溶解量が3〜5g/m2になるよう
に行い、d)酸でデスマット処理を行うことを特徴とす
る平版印刷版用支持体の製造方法、塩酸系電解溶液中
で電気化学的にピットを生成した後、酸またはアルカリ
水溶液で化学的にエッチング処理を施す工程を有するこ
とを特徴とする前記記載の平版印刷版用支持体の製造
方法、粗面化、陽極酸化処理を施されたアルミニウム
板において、該粗面化をa)機械的に長さ30〜50μ
m、幅5〜15μmの凹部を中心間隔50〜200μm
で生成し、b)塩酸系電解溶液中で電気化学的に直径7
〜25μmのピットを生成し、c)硝酸系電解溶液中で
電気化学的に直径600〜1000nmのピットを生成
し、d)アルカリ水溶液中で化学的エッチングをアルミ
ニウムの溶解量が3〜5g/m2になるように行い、
e)酸でデスマット処理を行うことを特徴とする平版印
刷版用支持体の製造方法、機械的に凹部を生成した
後、および塩酸系電解溶液中で電気化学的にピットを生
成した後、酸またはアルカリ水溶液で化学的にエッチン
グ処理を施す工程を有することを特徴とする前記記載
の平版印刷版用支持体の製造方法、の各々により達成さ
れる。
かかりをなくし、感光層の抜け性を向上させ、かつ保水
量には影響しない砂目構造が作成できた。 Rmaxを小さくし、インク粒子のひっかかりをなく
し、感光層の抜け性を向上させ、かつ保水量による印刷
性能を補うためにマイクロポアを大きく、深くすること
によって、一度湿し水が入ったら出にくい砂目構造とな
り、印刷時に水が絞れるという刷り易さ、調子再現も向
上した。
画線部の汚れ難さと耐刷性を両立し、ブランケットの汚
れ難さ、調子再現性に優れた感光性平版印刷版を提供で
きた。
る。先ず、請求項1〜4について説明する。本発明に使
用されるアルミニウム支持体には、純アルミニウムおよ
びアルミニウム合金よりなる支持体が含まれる。アルミ
ニウム合金としては種々のものが使用でき、例えば珪
素、銅、マンガン、マグネシウム、クロム、亜鉛、鉛、
ビスマス、ニッケル、チタン、ナトリウム、鉄等の金属
とアルミニウムの合金が用いられる。
アルミニウム表面の圧延油を除去するために脱脂処理を
施すことが好ましい。脱脂処理としては、トリクレン、
シンナー等の溶剤を用いる脱脂処理、ケロシンとトリエ
タノール等のエマルジョンを用いたエマルジョン脱脂処
理等が用いられる。また、脱脂処理には、苛性ソーダ等
のアルカリの水溶液を用いることもできる。脱脂処理に
苛性ソーダ等のアルカリの水溶液を用いた場合、上記脱
脂処理のみでは除去できない汚れや酸化皮膜も除去する
ことができる。
を改善するために行われる砂目立て処理方法としては、
機械的に表面を粗面化する、いわゆる機械的粗面化法
と、電気化学的に表面を粗面化する、いわゆる電気化学
的粗面化法がある。機械的粗面化法には例えばボール研
磨、ブラシ研磨、ブラスト研磨、バフ研磨等の方法があ
る。また電気化学的粗面化法には、例えば塩酸または硝
酸等を含む電解液中で交流あるいは直流によって支持体
を電解処理する方法等がある。このうちのいずれか1
つ、もしくは2つ以上の方法を併用することにより、支
持体を砂目立てすることができる。電解粗面化処理につ
いては、例えば、特公昭48−28123号公報、英国
特許第896563号明細書、特開昭53−67507
号公報に記載されており、本発明においては、これら方
法を用いることができる。
おいて印加される電圧は、1〜50ボルトが好ましく、
2〜30ボルトが更に好ましい。電流密度は、10〜1
50A/dm2が好ましく、20〜100A/dm2が
更に好ましい。電気量は、100〜20000c/dm
2、好ましくは100〜10000c/dm2、より好
ましくは200〜5000c/dm2である。温度は、
10〜50℃が好ましく、15〜45℃が更に好まし
い。硝酸濃度は、0.01〜5重量%が好ましい。電解
液には、必要に応じて硝酸塩、塩化物、アミン類、アル
デヒド類、燐酸、クロム酸、ホウ酸等を加えることがで
きる。
axを3μm以上にするために更に好ましいのは、印加
電圧は1〜20ボルト、電流密度は10〜70A/dm
2、電気量は100〜3000c/dm2、温度は10
〜30℃、濃度は0.01〜2.0重量%である。
に、Rz/Raが95%以下になるように以下の化学的
処理を行うことが好ましい。砂目立てされたアルミニウ
ム板の平滑化、均斉化等を目的としてアルミニウム板の
表面を酸又はアルカリの水溶液による化学的処理を行う
ことが好ましい。上記酸又はアルカリ水溶液の具体例と
しては例えば弗酸、弗化ジルコン酸、りん酸、硫酸、塩
酸、硝酸等の酸及び水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、第三燐酸ナトリウム、アルミン酸ナトリウム、けい
酸ナトリウム、炭酸ナトリウム等のアルカリ水溶液が用
いられる。これらの酸又はアルカリ水溶液はそれぞれ一
種又は二種以上を混合して使用することができる。化学
的処理はこれらの酸又はアルカリの0.05〜40重量
%水溶液を用い40℃〜100℃の液温において5〜3
00秒処理する。
酸水溶液であり、濃度5〜30重量%、温度70〜10
0℃の条件で処理した際に、請求項1の発明を満足す
る。
支持体の表面には、スマットが生成しているので、この
スマットを除去するために、適宜水洗あるいはアルカリ
エッチング等の処理を行うことが一般に好ましい。この
ような処理としては、たとえば、特公昭48−2812
3号公報に記載されているアルカリエッチング法や特開
昭53−12739号公報に記載されている硫酸デスマ
ット法等の処理方法等が挙げられる。
めに陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸
化処理に用いられる電解質としては多孔質酸化皮膜を形
成するものならばいかなるものでも使用することがで
き、一般には硫酸、リン酸、蓚酸、クロム酸あるいはそ
れらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解
質の種類によって適宜決められる。陽極酸化の処理条件
は用いる電解質により種々変わるので一概に特定し得な
いが、一般的には電解質の濃度が1〜80重量%溶液、
液温は1〜70℃、電流密度1〜60A/dm2、電圧
1〜100V、電解時間10秒〜5分の範囲にあれば適
当である。特に好ましい硫酸法は通常直流電流で処理が
行われるが、交流を用いることも可能である。硫酸の濃
度は5〜30%で使用され、20〜60℃の温度範囲で
5〜250秒間電解処理される。この電解液には、アル
ミニウムイオンが含まれている方が好ましい。さらにこ
のときの電流密度は1〜20A/dm2が好ましい。
好ましいのは、硫酸を用い、濃度は5〜50重量%、温
度は30〜60℃、電流密度は15〜60A/dm2、
電圧は20〜100V、で処理することである。
発明に使用されるアルミニウム支持体には、純アルミニ
ウムおよびアルミニウム合金よりなる支持体が含まれ
る。アルミニウム合金としては種々のものが使用でき、
例えば珪素、銅、マンガン、マグネシウム、クロム、亜
鉛、鉛、ビスマス、ニッケル、チタン、ナトリウム、鉄
等の金属とアルミニウムの合金が用いられる。
アルミニウム表面の圧延油を除去するために脱脂処理を
施すことが好ましい。脱脂処理としては、トリクレン、
シンナー等の溶剤を用いる脱脂処理、ケロシン、トリエ
タノール等のエマルジョンを用いたエマルジョン脱脂処
理等が用いられる。また、脱脂処理には、苛性ソーダ等
のアルカリの水溶液を用いることができる。脱脂処理に
苛性ソーダ等のアルカリ水溶液を用いた場合、上記脱脂
処理のみでは除去できない汚れや酸化皮膜も除去するこ
とができる。
を用いた場合、支持体の表面にはスマットが生成するの
で、この場合には、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の
酸、あるいはそれらの混酸に浸漬しデスマット処理を施
すことが好ましい。
に長さ30〜50μm、幅5〜15μmの凹部を100
〜200μmの間隔で生成する。これらの凹部は小さす
ぎると湿し水が均一に蒸発しにくくなり、大きすぎると
湿し水が均一に広がりにくくなる。間隔も同様に疎らで
あると湿し水が均一に蒸発しにくくなり、密すぎると湿
し水が均一に広がりにくくなる。
ラシ研磨、ホーニング研磨が好ましい。ブラシ研磨で
は、例えば線径5〜15μm、間隔100〜200μm
のブラシ毛を植毛したロールブラシを回転し、支持体表
面に押しつけて粗面化を行う。ホーニング研磨では、例
えば粒径5〜15μmのAl2O3の粒子を水に均一に
分散させ、ノズルより圧力をかけ射出し、支持体表面に
斜め角度から衝突させて粗面化を行う。また、あらかじ
め長さ30〜50μm、幅5〜15μmの粒子を100
〜200μmの間隔で有するように塗布されたシートを
支持体表面に張り合わせ、圧力をかけて粗面パターンを
転写することにより粗面化を行うこともできる。
気化学的に粗面化されるが、その前に、機械的粗面化さ
れた支持体の表面に食い込んだ研磨剤、アルミニウム屑
等を取り除くため、酸またはアルカリの水溶液に浸漬す
る化学的エッチング処理を行うことが好ましい。酸とし
ては、例えば硫酸、過硫酸、弗酸、燐酸、硝酸、塩酸等
が含まれ、塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム等が含まれる。これらの中でもアルカリ
の水溶液を用いるのが好ましい。これらの酸またはアル
カリの0.05〜40重量%水溶液を用い40〜100
℃の液温において5〜300秒処理する。
た場合、支持体の表面にはスマットが生成するので、こ
の場合には、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸、ある
いはそれらの混酸に浸漬したデスマット処理を施すこと
が好ましい。
化において印加される電圧は、1〜50ボルトが好まし
く、2〜30ボルトが更に好ましい。電流密度は、10
〜200A/dm2が好ましく、50〜150A/dm
2が更に好ましい。電気量は、100〜20000c/
dm2が好ましく、100〜10000c/dm2が更
に好ましい。温度は、10〜50℃が好ましく、15〜
45℃が更に好ましい。塩酸濃度は0.1〜5重量%が
好ましい。電解溶液には、必要に応じて硝酸塩、塩化
物、アミン類、アルデヒド類、燐酸、クロム酸、ホウ
酸、酢酸、蓚酸等を加えることができる。
り、塩酸系電解溶液中で電気化学的に直径7〜25μm
のピットを生成できる。硝酸系電解溶液を用いての電気
化学的粗面化において印加される電圧は、1〜50ボル
トが好ましく、2〜30ボルトが更に好ましい。電流密
度は、10〜150A/dm2が好ましく、20〜10
0A/dm2が更に好ましい。電気量は、100〜10
000c/dm2であり、好ましくは200〜5000
c/dm2、より好ましくは500〜3000c/dm
2である。温度は、10〜50℃が好ましく、15〜4
5℃が更に好ましい。硝酸濃度は0.1〜2重量%が好
ましい。電解溶液には、必要に応じて硝酸塩、塩化物、
アミン類、アルデヒド類、燐酸、クロム酸、ホウ酸、酢
酸、蓚酸等を加えることができる。
り、硝酸系電解溶液中で電気化学的に直径800〜20
00nmのピット、および直径600〜1000nmの
ピットを生成できる。
た後、硝酸系電解溶液中で電気化学的に粗面化する場
合、その間に、酸またはアルカリの水溶液に浸漬する化
学的エッチング処理を行うことが好ましい。酸として
は、例えば硫酸、過硫酸、弗酸、燐酸、硝酸、塩酸等が
含まれ、塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム等が含まれる。これらの中でもアルカリの
水溶液を用いるのが好ましい。これらの酸またはアルカ
リの0.05〜40重量%水溶液を用い40〜100℃
の液温において5〜300秒間処理する。上記をアルカ
リの水溶液で浸漬処理を行った場合、支持体の表面には
スマットが生成するので、この場合には、燐酸、硝酸、
硫酸、クロム酸等の酸、あるいはそれらの混酸に浸漬し
デスマット処理を施すことが好ましい。
アルカリ水溶液中で化学的エッチングを行う。化学的エ
ッチングに用いられるアルカリ水溶液としては、水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、第三燐酸ナトリウム、第
三燐酸カリウム、アルミン酸ナトリウム、メタ珪酸ナト
リウム、炭酸ナトリウム等が用いられ、5〜40重量%
水溶液を用い、20〜80℃の液温において1〜60秒
間処理する。これらの条件を組み合わせることにより、
アルミニウムの溶解量を4〜6g/m2、または3〜5
g/m2となるようにアルカリ水溶液で化学的エッチン
グ処理を行う。アルカリ水溶液で化学的エッチング処理
を行った支持体の表面にはスマットが生成するので、燐
酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸、あるいはそれらの混
酸に浸漬しデスマット処理を施す。粗面化処理の次に、
陽極酸化処理を行い、続いて、封孔処理、親水化処理を
行っても良い。陽極酸化処理、封孔処理、親水化処理に
ついては前記の処理を適用できる。
光層への擦れ傷を防ぐために、また、現像時、現像液中
へのアルミニウム成分の溶出を防ぐために、特開昭50
−151136号、同57−63293号、同60−7
3538号、同61−67863号、特開平6−351
74号に記載されている、支持体裏面に保護層を設ける
処理を行うことができる。本発明の凹部の長さ、幅、深
さ、あるいはピットの直径は、撮影倍率200〜100
00倍で撮影した電子顕微鏡写真を用いて測定すること
ができる。
極酸化処理の後、封孔処理を施してもよい。封孔処理と
しては、沸騰水処理、水蒸気処理、珪酸ソーダ処理、重
クロム酸塩水溶液処理、亜硝酸塩処理、酢酸アンモン処
理等が挙げられる。更に本発明に好ましく用いられる支
持体は、親水性下塗層を設けてもよい。親水性下塗層と
しては、米国特許第3,181,461号明細書に記載
のアルカリ金属珪酸塩、米国特許第1,860,426
号明細書に記載の親水性セルロース、特開昭60−14
9491号公報、同63−165183号公報に記載の
アミノ酸及びその塩、特開昭60−232998号公報
に記載の水酸基を有するアミン類及びその塩、特開昭6
2−19494号公報に記載の燐酸塩、特開昭59−1
01651号公報に記載のスルホ基を有するモノマー単
位を含む高分子化合物等が挙げられる。
光性組成物を含む感光層を塗布することにより本発明に
好ましく用いられる感光性平版印刷版が得られる。この
感光層中に用いられる感光性物質としては特に限定され
るものはなく、通常、感光性平版印刷版に用いられてい
る種々のものを用いることができる。以下、この点につ
いて説明する。
持体上に感光性組成物からなる感光層を塗布することに
より本発明の感光性平版印刷版が得られる。この感光層
中に用いられる感光性物質は、ポジ型感光性平版印刷版
を得ようとする場合、o−キノンジアジド化合物であれ
ば特に限定されるものではなく、通常、例えば下記のよ
うな各種のものが使用される。
組成物)使用されるo−キノンジアジド化合物を含む感
光性組成物においては、o−キノンジアジド化合物とア
ルカリ可溶性樹脂を併用する。o−キノンジアジド化合
物としては、例えばo−ナフトキノンジアジドスルホン
酸と、フェノール類及びアルデヒドまたはケトンの重縮
合樹脂とのエステル化合物が挙げられる。
ノール、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾ
ール、3,5−キシレノール、カルバクロール、チモー
ル等の一価フェノール、カテコール、レゾルシン、ヒド
ロキノン等の二価フェノール、ピロガロール、フロログ
ルシン等の三価フェノール等が挙げられる。前記アルデ
ヒドとしてはホルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、ア
セトアルデヒド、クロトンアルデヒド、フラフラール等
が挙げられる。これらのうち好ましいものはホルムアル
デヒド及びベンズアルデヒドである。前記ケトンとして
はアセトン、メチルエチルケトン等が挙げられる。
ェノール・ホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾール・ホ
ルムアルデヒド樹脂、m−、p−混合クレゾール・ホル
ムアルデヒド樹脂、レゾルシン・ベンズアルデヒド樹
脂、ピロガロール・アセトン樹脂等が挙げられる。前記
o−ナフトキノンジアジド化合物のフェノール類のOH
基に対するo−ナフトキノンジアジドスルホン酸の縮合
率(OH基1個に対する反応率)は、15〜80%が好
ましく、より好ましいのは20〜45%である。
ド化合物としては特開昭58−43451号公報に記載
のある以下の化合物も使用できる。即ち、例えば1,2
−ベンゾキノンジアジドスルホン酸エステル、1,2−
ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル、1,2−ベ
ンゾキノンジアジドスルホン酸アミド、1,2−ナフト
キノンジアジドスルホン酸アミドなどの公知の1,2−
キノンジアジド化合物、更に具体的にはジェイ・コサー
ル(J.Kosar)著「ライト−センシティブ・シス
テムズ」(Light−Sensitive Syst
ems)第339〜352頁(1965年)、ジョン・
ウィリー・アンド・サンズ(JohnWilley &
Sons)社(ニューヨーク)やダブリュ・エス・デ
ィ・フォレスト(W.S.De Forest)著「フ
ォトレジスト」(Photoresist)第50巻
(1975年)、マックローヒル(Mc Graw H
ill)社(ニューヨーク)に記載されている1,2−
ベンゾキノンジアジド−4−スルホン酸フェニルエステ
ル、1,2,1´,2´−ジ−(ベンゾキノンジアジド
−4−スルホニル)−ジヒドロキシビフェニル、1,2
−ベンゾキノンジアジド−4−(N−エチル−M−β−
ナフチル)−スルホンアミド、1,2−ナフトキノンジ
アジド−5−スルホン酸シクロヘキシルエステル、1−
(1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホニル)−
3,5−ジメチルピラゾール、1,2−ナフトキノンジ
アジド−5−スルホン−4´−ヒドロキシジフェニル−
4´−アゾ−β−ナフトール−エステル、N,N−ジ−
(1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホニル)−
アニリン、2´−(1,2−ナフトキノンジアジド−5
−スルホニルオキシ)−1−ヒドロキシ−アントラキノ
ン、1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン−
2,4−ジヒドロキシベンゾフェノンエステル、1,2
−ナフトキノノジアジド−5−スルホン酸−2,3,4
−トリヒドロキシベンゾフェノンエステル、1,2−ナ
フトキノンジアジド−5−スルホン酸クロリド2モルと
4,4´−ジアミノベンゾフェノン1モルとの縮合物、
1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸クロリ
ド2モルと4,4´−ジヒドロキシ−1,1´−ジフェ
ニルスルホン1モルとの縮合物、1,2−ナフトキノン
ジアジド−5−スルホン酸クロリド1モルとプルプロガ
リン1モルとの縮合物、1,2−ナフトキノンジアジド
−5−(N−ジヒドロアビエチル)−スルホンアミド等
の1,2−キノンジアジド化合物を例示することができ
る。また、特公昭37−1953号、同37−3627
号、同37−13109号、同40−26126号、同
40−3801号、同45−5604号、同45−27
345号、同51−13013号、特開昭48−965
75号、同48−63802号、同48−63803号
各公報に記載された1,2−キノンジアジド化合物も挙
げることができる。
1,2−ベンゾキノンジアジドスルホニルクロリド又は
1,2−ナフトキノンジアジドスルホニルクロリドをピ
ロガロール・アセトン縮合樹脂又は2,3,4−トリヒ
ドロキシベンゾフェノンと反応させて得られるo−キノ
ンジアジドエステル化合物が特に好ましい。本発明に用
いられるo−キノンジアジド化合物としては上記化合物
を各々単独で用いてもよいし、2種以上組合せて用いて
もよい。o−キノンジアジド化合物の感光性組成物中に
占める割合は、6〜60重量%が好ましく、特に好まし
いのは、10〜50重量%である。
印刷版を得ようとする場合、公知のジアゾ化合物を含む
感光性組成物を用いればよい。この感光性組成物中のジ
アゾ化合物は、例えば、好ましくは芳香族ジアゾニウム
塩とホルムアルデヒドまたはアセトアルデヒドとの縮合
物で代表されるジアゾ樹脂である。特に好ましくは、p
−ジアゾフェニルアミンとホルムアルデヒドまたはアセ
トアルデヒドとの縮合物の塩、例えばヘキサフルオロホ
ウ燐酸塩、テトラフルオロホウ酸塩、過塩素酸塩または
過ヨウ素酸塩と前記縮合物との反応生成物であるジアゾ
樹脂無機塩や、米国特許第3,300,309号明細書
中に記載されているような、前記縮合物とスルホン酸類
との反応生成物であるジアゾ樹脂有機塩等が挙げられ
る。さらにジアゾ樹脂は、好ましくは結合剤と共に使用
される。かかる結合剤としては種々の高分子化合物を使
用することができるが、好ましくは特開昭54−986
13号公報に記載されているような芳香族性水酸基を有
する単量体、例えばN−(4−ヒドロキシフェニル)ア
クリルアミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)メタク
リルアミド、o−、m−、またはp−ヒドロキシスチレ
ン、o−、m−、またはp−ヒドロキシフェニルメタク
リレート等と他の単量体との共重合体、米国特許第4,
123,276号明細書中に記載されているようなヒド
ロキシエチルアクリレート単位またはヒドロキシエチル
メタクリレート単位を主な繰り返し単位として含むポリ
マー、シェラック、ロジン等の天然樹脂、ポリビニルア
ルコール、米国特許第3,751,257号明細書中に
記載されているような線状ポリウレタン樹脂、ポリビニ
ルアルコールのフタレート化樹脂、ビスフェノールAと
エピクロルヒドリンから縮合されたエポキシ樹脂、酢酸
セルロース、セルロースアセテートフタレート等のセル
ロール誘導体が包含される。
てもよい。 1)光架橋系感光性樹脂組成物 光架橋系感光性樹脂組成物中の感光成分は、分子中に不
飽和二重結合を有する感光性樹脂からなるもので、例え
ば米国特許第3,030,208号明細書、同3,43
5,237号明細書及び同3,622,320号明細書
等に記載されている如き、重合体主鎖中に感光基として
ポリビニルシンナメート等が挙げられる。
て、二重結合を有する単量体、または二重結合を有する
単量体と高分子バインダーとからなり、このような組成
物の代表的なものは、例えば米国特許第2,760,8
63号明細書及び同2,791,504号明細書、特開
昭59−42684号、特公平6−76444号、特開
平5−85562号等に記載されている。
組成物、メタクリル酸メチル及びポリメチルメタクリレ
ートを含む組成物、メタクリル酸メチル、ポリメチルメ
タクリレート及びポリエチレングリコールメタクリレー
トモノマーを含む組成物、メタクリル酸メチル、アルキ
ッド樹脂とポリエチレングリコールジメタクリレートモ
ノマーを含む組成物等の光重合性組成物が用いられる。
この光重合系感光性樹脂組成物には、この技術分野で通
常知られている光重合開始剤(例えばベンゾインメチル
エーテル等のベンゾイン誘導体、ベンゾフェノン等のベ
ンゾフェノン誘導体、チオキサントン誘導体、アントラ
キノン誘導体、アクリドン誘導体等)が添加される。
脂としては、ノボラック樹脂、フェノール性水酸基を有
するビニル系重合体、特開昭55−57841号公報に
記載されている多価フェノールとアルデヒド又はケトン
との縮合樹脂等が挙げられる。
は、例えばフェノール・ホルムアルデヒド樹脂、クレゾ
ール・ホルムアルデヒド樹脂、特開昭55−57841
号公報に記載されているようなフェノール・クレゾール
・ホルムアルデヒド共重合体樹脂、特開昭55−127
553号公報に記載されているようなp−置換フェノー
ルとフェノールもしくは、クレゾールとホルムアルデヒ
ドとの共重合体樹脂等が挙げられる。
ン標準)は、好ましくは数平均分子量Mnが3.00×
102〜7.50×103、重量平均分子量Mwが1.
00×103〜3.00×104、より好ましくはMn
が5.00×102〜4.00×103、Mwが3.0
0×103〜2.00×104である。上記ノボラック
樹脂は単独で用いてもよいし、2種以上組合せて用いて
もよい。
める割合は5〜95重量%が好ましい。又、本発明に好
ましく用いられるフェノール性水酸基を有するビニル系
共重合体としては、該フェノール性水酸基を有する単位
を分子構造中に有する重合体であり、下記一般式[I]
〜[V]の少なくとも1つの構造単位を含む重合体が好
ましい。
子、アルキル基又はカルボキシル基、好ましくは水素原
子を表わす。R3は水素原子、ハロゲン原子又はアルキ
ル基を表わし、好ましくは水素原子又はメチル基、エチ
ル基等のアルキル基を表わす。R4は水素原子、アルキ
ル基、アリール基又はアラルキル基を表わし、好ましく
は水素原子を表わす。Aは窒素原子又は酸素原子と芳香
族炭素原子とを連結する、置換基を有していてもよいア
ルキレン基を表わし、mは0〜10の整数を表わし、B
は置換基を有していてもよいフェニレン基又は置換基を
有してもよいナフチレン基を表わす。]
体型の構造を有するものが好ましく、前記一般式[I]
〜一般式[V]でそれぞれ示される構造単位と組合せて
用いることができる単量体単位としては、例えばエチレ
ン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレ
ン等のエチレン系不飽和オフィレン類、例えばスチレ
ン、α−メチルスチレン、p−メチルスチレン、p−ク
ロロスチレン等のスチレン類、例えばアクリル酸、メタ
クリル酸等のアクリル酸類、例えばイタコン、マレイン
酸、無水マレイン酸等の不飽和脂肪族ジカルボン酸類、
例えばアクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸−n−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸ド
デシル、アクリル酸−2−クロロエチル、アクリル酸フ
ェニル、α−クロロアクリル酸メチル、メタクリル酸メ
チル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸エチル等のα
−メチレン脂肪族モノカルボン酸のエステル類、例えば
アクリロニトリル、メタアクリロニトリル等のニトリル
類、例えばアクリルアミド等のアミド類、例えばアクリ
ルアニリド、p−クロロアクリルアニリド、m−ニトロ
アクリルアニリド、m−メトキシアクリルアニリド等の
アニリド類、例えば酢酸ビニル、プロピアン酸ビニル、
ベンゾエ酸ビニル、酢酸ビニル等のビニルエステル類、
例えばメチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、
イソブチルビニルエーテル、β−クロロエチルビニルエ
ーテル等のビニルエーテル類、塩化ビニル、ビニリデン
クロライド、ビニリデンシアナイド、例えば1−メチル
−1−メトキシエチレン、1,1−ジメトキシエチレ
ン、1,2−ジメトキシエチレン、1,1−ジメトキシ
カルボニルエチレン、1−メチル−1−ニトロエチレン
等のエチレン誘導体類、例えばN−ビニルピロール、N
−ビニルカルバゾール、N−ビニルインドール、N−ビ
ニルピロリデン、N−ビニルピロリドン等のN−ビニル
系単量体がある。これらのビニル系単量体は、不飽和二
重結合が開裂した構造で高分子化合物中に存在する。
のエステル類、ニトリル類が本発明の目的に対して優れ
た性能を示し、好ましい。これらの単量体は、本発明に
用いられる重合体中にブロックまたはランダムのいずれ
かの状態で結合していてもよい。
性組成物中に占める割合は0.5〜70重量%であるこ
とが好ましい。ビニル系重合体は、上記重合体を単独で
用いてもよいし、又2種以上組合せて用いてもよい。
又、他の高分子化合物等と組合せて用いることもでき
る。
光性組成物には、有機酸・無機酸・酸無水物が含有され
てもよい。本発明に使用される酸としては、例えば特開
昭60−88942号、特願昭63−293107号に
記載の有機酸と、日本化学会編「化学便覧新版」(丸善
出版)第92〜158頁に記載の無機酸が挙げられる。
有機酸の例としては、p−トルエンスルホン酸、ドデシ
ルベンゼンスルホン酸、メシチレンスルホン酸、メタン
スルホン酸、エタンスルホン酸、ベンゼルスルホン酸、
m−ベンゼンジスルホン酸等のスルホン酸、p−トルエ
ンスルフィン酸、ベンジルスルフィン酸、メタンスルフ
ィン酸等のスルフィン酸、フェニルホスホン酸、メチル
ホスホン酸、クロルメチルホスホン酸等のホスホン酸、
ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、ペンタン
酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸等の脂肪族モノカルボン
酸、シクロヘキサンカルボン酸等の脂環式モノカルボン
酸、安息香酸、o−、m−、p−ヒドロキシ安息香酸、
o−、m−、p−メトキシ安息香酸、o−、m−、p−
メチル安息香酸、3,5−ジヒドロキシ安息香酸、フロ
ログリシンカルボン酸、没食子酸、3,5−ジメチル安
息香酸等の芳香族モノカルボン酸が挙げられる。また、
マロン酸、メチルマロン酸、ジメチルマロン酸、コハク
酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン
酸、アゼライン酸、セバシン酸、イタコン酸、リンゴ酸
等の飽和または、不飽和脂肪族ジカルボン酸、テトラヒ
ドロフタル酸、1,1−シクロブタンジカルボン酸、
1,1−シクロペンタンジカルボン酸、1,3−シクロ
ペンタンジカルボン酸、1,1−シクロヘキサンジカル
ボン酸、1,2−シクロヘキサンジカルボン酸、1,3
−シクロヘキサンジカルボン酸等の脂環式ジカルボン
酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の芳香族
ジカルボン酸等を挙げることができる。
−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、
メシチレンスルホン酸、メタンスルホン酸、エタンスル
ホン酸、ベンゼルスルホン酸、m−ベンゼンジスルホン
酸等のスルホン酸、またはcis−1,2−シクロヘキ
サンジカルボン酸、シリンガ酸等がある。無機酸の例と
しては、硝酸、硫酸、塩酸、ケイ酸、リン酸等が挙げら
れ、さらに好ましくは、硫酸、リン酸である。
も任意であり、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水安息
香酸等、脂肪族・芳香族モノカルボン酸から誘導される
もの、無水コハク酸、無水マレイン酸、無水グルタル
酸、無水フタル酸等、脂肪族・芳香族ジカルボン酸から
誘導されるもの等を挙げることができる。好ましい酸無
水物は、無水グルタル酸、無水フタル酸である。これら
の化合物は、単独あるいは2種以上混合して使用でき
る。これらの酸の含有量は、全感光性組成物の全固形分
に対して、一般的に0.05〜5重量%であって、好ま
しくは、0.1〜3重量%の範囲である。
面活性剤を含んでもよい。界面活性剤としては、両性界
面活性剤、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、
ノニオン界面活性剤、フッ素系界面活性剤等を挙げるこ
とができる。
メチルアミンオキサイド、ラウリルカルボキシメチルヒ
ドロキシエチル、イミダゾリニウムベタイン等がある。
アニオン界面活性剤としては、脂肪酸塩、アルキル硫酸
エステル塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキル
ナフタレンスルホン酸塩、アルキルスルホコハク酸塩、
アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩、アルキル
リン酸塩、ポリオキシエチレンアルキル硫酸エステル
塩、ポリオキシエチレンアルキルアリル硫酸エステル
塩、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、ポリオキ
シエチレンアルキルリン酸エステル等がある。カチオン
界面活性剤としては、アルキルアミン塩、第4級アンモ
ニウム塩、アルキルベタイン等がある。
エチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキ
ルアリルエーテル、ポリオキシエチレン誘導体、オキシ
エチレン・オキシプロピレンブロックコポリマー、ソル
ビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン
脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪
酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエ
チレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルア
ミン、アルキルアルカノールアミド等がある。
肪族基を含むアクリレートまたはメタアクリレートおよ
び(ポリオキシアルキレン)アクリレートまたは(ポリ
オキシアルキレン)メタアクリレートの共重合体等があ
る。これらの化合物は、単独あるいは2種以上混合して
使用することができる。特に好ましくはFC−430
(住友3M(株)製)フッ素系ポリエチレングリコール
#−2000(関東化学(株)製)である。感光性組成
物中に占める割合は、0.01〜10重量%であること
が好ましく、さらに好ましくは0.01〜5重量%で使
用される。
は、露光より可視画像を形成させるプリントアウト材料
を添加することができる。プリントアウト材料は露光に
より酸もしくは遊離基を生成する化合物と相互作用する
ことによってその色調を変える有機染料よりなるもの
で、露光により酸もしくは遊離基を生成する化合物とし
ては、例えば特開昭50−36209号公報に記載のo
−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸ハロゲニド、
特開昭53−36223号公報に記載されているo−ナ
フトキノンジアジド−4−スルホン酸クロライドと電子
吸引性置換基を有するフェノール類、またはアニリン酸
とのエステル化合物またはアミド化合物、特開昭55−
77742号公報、特開昭57−148784号公報等
に記載のハロメチルビニルオキサジアゾール化合物及び
ジアゾニウム塩等が挙げられる。
合物)本発明の感光性組成物に用いることができる、露
光により酸または遊離基を生成する化合物としては、例
えば、ハロメチルオキサジアゾール化合物、ハロメチル
−s−トリアジン化合物等が用いられる。ハロメチルオ
キサジアゾール化合物とは、オキサジアゾール類にハロ
メチル基、好ましくはトリクロロメチル基を有する化合
物である。
昭57−6096号公報、同61−51788号公報、
特公平1−28369号公報、特開昭60−13853
9号公報、同60−177340号公報、同60−24
1049号公報等に記載されている。また、ハロメチル
−s−トリアジン化合物とは、s−トリアジン環に1以
上のハロメチル基、好ましくはトリクロロメチル基を有
する化合物である。
により酸又は遊離基を生成する化合物の添加量は、0.
01〜10重量%が好ましく、より好ましくは、0.1
〜30重量%であり、特に好ましくは、0.2〜3重量
%である。これらの化合物は、単独あるいは2種以上混
合して使用できる。
に色素を用いることができる。該色素は、露光による可
視画像(露光可視画像)と現像後の可視画像を得ること
を目的として使用される。
と反応して色調を変化するものが好ましく使用できる。
ここに「色調が変化する」とは、無色から有色の色調へ
の変化、有色から無色あるいは異なる有色の色調への変
化のいずれをも包含する。好ましい色素は酸と塩を形成
して色調を変化するものである。例えば、ビクトリアピ
ュアブルーBOH(保土谷化学社製)、オイルブルー#
603(オリエント化学工業社製)、パテントピュアブ
ルー(住友三国化学社製)、クリスタルバイオレット、
ブリリアントグリーン、エチルバイオレット、メチルバ
イオレット、メチルグリーン、エリスロシンB、ペイシ
ックフクシン、マラカイトグリーン、オイルレッド、m
−クレゾールパープル、、ローダミンB、オーラミン、
4−p−ジエチルアミノフェニルイミナフトキノン、シ
アノ−p−ジエチルアミノフェニルアセトアニリド等に
代表されるトリフェニルメタン系、ジフェニルメタン
系、オキサジン系、キサンテン系、イミノナフトキノン
系、アゾメチン系またはアントラキノン系の色素が有色
から無色あるいは異なる有色の色調へ変化する変色剤の
例として挙げられる。
ては、ロイコ色素及び、例えばトリフェニルアミン、ジ
フェニルアミン、o−クロロアニリン、1,2,3−ト
リフェニルグアニジン、ナフチルアミン、ジアミノジフ
ェニルメタン、p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェ
ニルアミン、1,2−ジアニリノエチレン、p,p′,
p″−トリス−ジメチルアミノトリフェニルメタン、
p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェニルメチルイミ
ン、p,p′,p″−トリアミノ−o−メチルトリフェ
ニルメタン、p,p′−ビス−ジメチルアミノジフェニ
ル−4−アニリノナフチルメタン、p,p′,p″−ト
リアミノトリフェニルメタンに代表される第1級または
第2級アリールアミン系色素が挙げられる。上記の変色
剤の感光性組成物中に占める割合は、0.01〜10重
量%であることが好ましく、更に好ましくは0.02〜
5重量%で使用される。これらの化合物は、単独あるい
は2種以上混合して使用できる。尚、特に好ましい色素
は、ビクトリアピュアブルーBOH、オイルブルー#6
03である。
ための感脂化剤(例えば、特開昭55−527号公報記
載のスチレン−無水マレイン酸共重合体のアルコールに
よるハーフエステル化物、p−t−ブチルフェノール−
ホルムアルデヒド樹脂等のノボラック樹脂、あるいはこ
れらとo−キノンジアジド化合物との部分エステル化
物、フッ素系界面活性剤、p−ヒドロキシスチレンの5
0%脂肪酸エステル等)、等が好ましく用いられる。こ
れらの添加剤の添加量はその使用対象、目的によって異
なるが、一般には全固形分に対して、0.01〜30重
量%である。
きる包接化合物は、水あるいは有機分子を包接すること
ができる化合物であれば特に限定されないが、組成物の
調製に用いる溶剤に可溶な有機系化合物が好ましい。そ
のような有機系化合物の例としては、例えば、「ホスト
ゲストケミストリー」(平岡道夫ら著、講談社1984
年、東京)などの成書や「テトラヘドロンレポート」
(No.226(1987)P5725A.Colle
tら)、「化学工業4月号」((1991)P278新
海ら)、「化学工業4月号((1991)P288平岡
ら)等に示されているものが挙げられる。
きる包接化合物としては、例えば、環状D−グルカン
類、シクロファン類、中性ポリリガンド、環状ポリアニ
オン、環状ポリカチオン、環状ペプチド、スフェランド
(SPHERANDS)、キャビタンド(CAVITA
NDS)およびそれらの非環状類縁体が挙げられる。こ
れらの中でも、環状D−グルカン類およびその非環状類
縁体、シクロファン類、中性ポリリガンドが更に好まし
い。
体としては、例えば、α−D−グルコピラノースがグリ
コキシド結合によって連なった化合物として挙げられ
る。該化合物としては、デンプン、アミロース、アミロ
ペクトン等のD−グルコピラノース基により構成される
糖質類、α−シクロデキストリン、β−シクロデキスト
リン、γ−シクロデキストリン、D−グルコピラノース
基の重合度が9以上のシクロデキストリン等のシクロデ
キストリンおよびSO3C6H4CH2 C6H4SO
3基、NHCH2CH2NH基、NHCH2CH2NH
CH2 CH2NH基、SC6H5基、N3基、NH2
基、NEt2基、SC(NH2 +)NH2基、SH基、
SCH2CH2NH2基、イミダゾール基、エチレンジ
アミン基等の置換基を導入した下記式
られる。また、下記一般式[VI]および一般式[VI
I]で表されるシクロデキストリン誘導体および分岐シ
クロデキストリン、シクロデキストリンポリマー等も挙
げられる。
それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子、アル
キル基または置換アルキル基を表す。特にR1〜R3が
水素原子あるいはヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロ
ピル基であるものが好ましく、1分子中の置換アルキル
基の含有率が15%〜50%であるものが更に好まし
い。n2は4〜10の正の整数を表す。
子、−R2−CO2H、−R2−SO3H、−R2−N
H2または−N−(R3)2(R2は、炭素数1〜5の
直鎖または分岐鎖のアルキレン基を表し、R3は、炭素
数1〜5の直鎖または分岐鎖のアルキル基を表す。
ounal of the American Che
mical Society」第71巻 第354頁1
949年、「Cheimish Berichte」第
90巻 第2561頁1949年、第90巻 第256
1頁 1957年に記載されているが、勿論これらに限
定されるものではない。
ンとは、公知のシクロデキストリンにグルコース、マル
トース、セロビオーズ、ラクトース、ショ糖、ガラクト
ース、グルコサミン等の単糖類や2糖類等の水溶性物質
を分岐付加ないし結合させたものであり、好ましくは、
シクロデキストリンにマルトースを結合させたマルトシ
ルシクロデキストリン(マルトースの結合分子数は1分
子、2分子、3分子等いずれでもよい)やシクロデキス
トリンにグルコースを結合させたグルコシルシクロデキ
ストリン(グルコースの結合分子数は1分子、2分子、
3分子等いずれもでもよい)が挙げられる。
合成方法は、例えば、澱粉化学、第33巻、第2号、1
19〜126頁(1986)、同127〜132頁(1
986)、澱粉化学、第30巻、第2号、231〜23
9頁(1983)等に記載されており、これら公知の方
法を参照して合成可能であり、例えば、マルトシルシク
ロデキストリンは、シクロデキストリンとマルトースを
原料とし、イソアミラーゼやプルラナーゼ等の酵素を利
用してシクロデキストリンにマルトースを結合させる方
法で製造できる。グルコシルシクロデキストリンも同様
の方法で製造できる。これらの包接化合物は、単体とし
て添加してもよいが、包接化合物自身あるいは分子を取
り込んだ包接化合物の溶剤への溶解性、その他の添加剤
との相溶性を良好にするために包接能を有する置換基を
ポリマーにペンダント置換基として懸垂させたポリマー
を一緒に添加してもよい。
本発明に係る支持体表面に塗布乾燥させることにより、
感光層を設けて、本発明の感光性平版印刷版を製造する
ことができる。
を溶解する際に使用し得る溶媒としては、メタノール、
エタノール、n−プロパノール、i−プロパノール、n
−ブタノール、n−ペンタノール、ヘキサノール等の脂
肪族アルコール類、アリルアルコール、ベンジルアルコ
ール、アニソール、フェネトール、n−ヘキサン、シク
ロヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン等の
炭化水素類、ジアセトンアルコール、3−メトキシ−1
−ブタノール、4−メトキシ−1−ブタノール、3−エ
トキシ−1−ブタノール、3−メトキシ−3−メチル−
1−ブタノール、3−メトキシ−3−エチル−1−1ペ
ンタノール−4−エトキシ−1−ペンタノール、5−メ
トキシ−1−ヘキサノール、アセトン、メチルエチルケ
トン、メチルプロピルケトン、ジエチルケトン、メチル
イソブチルケトン、メチルペンチルケトン、メチルヘキ
シルケトン、エチルブチルケトン、ジブチルケトン、シ
クロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキ
サノン、γ−ブチロラクトン、3−ヒドロキシ−2−ブ
タノン、4−ヒドロキシ−2−ブタノン、4−ヒドロキ
シ−2−ペンタノン、5−ヒドロキシ−2−ペンタノ
ン、4−ヒドロキシ−3−ペンタノン、6−ヒドロキシ
−2−ヘキサノン、3−メチル−3−ヒドロキシ−2−
ペンタノン、エチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコー
ル、プロピレングリコール、エチレングリコールモノア
セテート、エチレングリコールジアセテート、プロピレ
ングリコールモノアセテート、プロピレングリコールジ
アセテート、エチレングリコールアルキルエーテル類お
よびそのアセテート(MC、EC、ブチルセロソルブ、
フェニルセロソルブ、エチレングリコールジメチルエー
テル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレン
グリコールジブチルエーテル、MCアセテート、ECア
セテート)、ジエチレングリコールモノアルキルエーテ
ル類およびそのアセテート(ジエチレングリコールモノ
メチルエーテル、モノエチルエーテル、モノi−プロピ
ルエーテル、モノブチルエーテル、ジエチレングリコー
ルモノメチルエーテルアセテート等)、ジエチレングリ
コールジアルキルエーテル類(DMDG、DEDG、D
BDG、MEDG)、トリエチレングリコールアルキル
エーテル類(モノメチルエーテル、モノエチルエーテ
ル、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、メチルエチ
ルエーテル等)、プロピレングリコールアルキルエーテ
ル類およびそのアセテート(モノメチルエーテル、モノ
エチルエーテル、n−プロピルエーテル、モノブチルエ
ーテル、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノメ
チルエーテルアセテート、モノエチルエーテルアセテー
ト等)、ジプロピレングリコールアルキルエーテル類
(モノメチルエーテル、モノエチルエーテル、n−プロ
ピルエーテル、モノブチルエーテル、ジメチルエーテ
ル、ジエチルエーテル)、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、
ギ酸ブチル、ギ酸アミル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢
酸プロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピ
オン酸エチル、酪酸メチル、酪酸エチル等のカルボン酸
エステル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シド、ジオキサン、テトラヒドロフラン、乳酸メチル、
乳酸エチル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、炭酸プ
ロピレン等が挙げられる。これらの溶媒は、単独あるい
は2種以上混合して使用できる。
は、上記感光層上に皮膜形成能を有する水不溶性で有機
溶媒可溶性の高分子化合物から成る被覆層を形成するこ
とができる。
には、真空焼き枠を用いた密着露光の際の真空引きの時
間を短縮し、且つ焼きボケを防ぐため、マット層を設け
ることが好ましい。具体的には、特開昭50−1258
05号、特公昭57−6582号、同61−28986
号の各公報に記載されているようなマット層を設ける方
法、特公昭62−62337号公報に記載されているよ
うな固体粉末を熱融着させる方法等が挙げられる。
おける画像フィルムと感光性平版印刷版との真空密着性
を改良することにより、真空引き時間を短縮し、さらに
密着不良による露光時の微小網点のつぶれを防止するこ
とである。マット層の塗布方法としては、特開昭55−
12974号に記載されているパウダリングされた固体
粉末を熱融着する方法、特開昭58−182636号に
記載されているポリマー含有水をスプレーし乾燥させる
方法等があり、どの方法でもよいが、マット層自体がア
ルカリ現像液に溶解するか、あるいはこれにより除去可
能な物が望ましい。
する際に用いる塗布方法としては、従来公知の方法、例
えば、回転塗布、ワイヤーバー塗布、ディップ塗布、エ
アーナイフ塗布、スプレー塗布、エアースプレー塗布、
静電エアースプレー塗布、ロール塗布、ブレード塗布及
びカーテン塗布等の方法が用いられる。この際塗布量は
用途により異なるが、例えば、固形分として0.05〜
5.0g/m2の塗布量が好ましい。
版の使用に際しては、従来から常用されている方法を適
用することができ、例えば線画像、網点画像などを有す
る透明原画を感光面に密着して露光し、次いでこれを適
当な現像液を用いて非画像部の感光性層を除去すること
によりレリーフ像が得られる。露光に好適な光源として
は、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、
ケミカルランプ、カーボンアーク灯などが使用される。
ジ型用現像液は、水を主たる溶媒とするアルカリ金属珪
酸塩溶液からなるものであればいかなるものであっても
よい。例えば、アルカリ剤、有機溶媒、アニオン系界面
活性剤、水溶性還元剤及び非イオン型界面活性剤及び/
又はカチオン系界面活性剤を含有する。現像液組成にお
いて珪酸塩[SiO2]/アルカリ金属酸化物[M
2O]比(但し、珪酸塩[SiO2]、アルカリ金属酸
化物[M2O]はモル濃度を示す。)が、0.5〜2.
0のものであり、その他のアルカリ金属珪酸塩、添加剤
等は従来の現像処理剤を使用することができる。
に説明する。先ず、請求項1〜4について説明する。 実施例1〜6 (砂目の製造)粗面化条件、化学的処理条件、陽極酸化
条件の異なる6種類のアルミニウム支持体を製造した。
それらの製造条件と得られた砂目の形状について下記表
1に示した。なお、すべての砂目は、粗面化、化学処
理、陽極酸化処理後、1.0%の酢酸アンモン溶液中に
85℃で30秒浸漬し、引き続き0.1%のカルボキシ
メチルセルロースの水溶液に90℃で30秒浸漬し、8
0℃で5分間乾燥して支持体を作成した。
物塗布液をワイヤーバーを用いて塗布し、80℃で2分
間乾燥し感光性平版印刷版を得た。このとき、感光性組
成物塗布液の塗布量は、乾燥重量として2.0g/m2
となるようにした。
原稿フィルムを密着し、光源として2kwメタルハライ
ドランプを使用し、8mW/cm2で60秒間照射する
ことにより露光した。この露光済みの感光性平版印刷版
を、市販されている現像液(SDR−1、コニカ(株)
製、6倍に希釈、現像時間20秒、現像温度27℃)で
現像した。
下記の評価方法により水幅、汚れ、残膜、ストップ汚れ
の評価を行った。得られた結果を表2に示した。
刷版を作成し、ハイデルベルグ社製印刷機GTOにかけ
て印刷を行い、汚れの有無を目視で下記の基準により評
価した。 [印刷時の汚れ評価] ◎:全く汚れていない ○:僅かに汚れが見られるが実用上全く問題のない程度
である ×:かなり汚れている
測定用ステップタブレット(イーストマンコダック社製
No.2、濃度差0.15ずつで21段階のグレースケ
ール)を密着して、刷版を作成した。印刷版上に形成さ
れた5本の画像部を消去液(SIR−15、コニカ製)
により画像部を消去した。消去時間を5水準に分け、そ
のときの消去によるフリンジ汚れを現像インク(SPO
−1、コニカ製)盛りをして確認した。 ○:良好 △:消去跡が現れる(インキは着肉しないが、残膜が目
視で明らかに確認できる) ×:汚れる(インキが着肉する)
して、水量ダイヤルを変更し、非画線部が汚れ始めるか
平網部がからみ始める水量のダイヤル値と、画線部のイ
ンキ濃度が低下してくる水量のダイヤル値を求め、その
差を水幅とした。 ◎:差がダイヤル値で18以上である ○:差がダイヤル値で14以上18未満である ×:差がダイヤル値で14未満である
印刷機GTOにより3000枚印刷後、印刷機を停止
し、再び印刷開始した時の微点状汚れの発生個数を評価
した。
H16)を、85℃に保たれた10%水酸化ナトリウム
水溶液中に浸漬し、1分間脱脂処理を行った後、水洗し
た。この脱脂したアルミニウム板を、25℃に保たれた
10%硫酸水溶液中に1分間浸漬し、デスマット処理し
た後水洗した。次いでこのアルミニウム板を、1.0%
の硝酸水溶液中において、温度30℃、電流密度80A
/dm2の条件で交流電流により30秒間電解粗面化し
た。その後、70℃に保たれた10%水酸化ナトリウム
水溶液中でアルミニウムの溶解量が5g/m2となるよ
うに化学的エッチングを行った。次いで25℃に保たれ
た10%硝酸水溶液中に10秒間浸漬し、デスマット処
理した後水洗した。次いで、20%硫酸水溶液中で、温
度35℃、電流密度3A/dm2の条件で1分間陽極酸
化処理を行った。その後、80℃に保たれた0.1%の
酢酸アンモニウム水溶液中に30秒間浸漬し封孔処理を
行い、80℃で5分間乾燥してアルミニウム支持体11
を得た。
により電子顕微鏡にて倍率10000倍で撮影観察した
ところ、硝酸電解粗面化により形成されたピットの直径
は1200〜1500nmであることが確認された。次
に、下記組成の感光性組成物塗布液をワイヤーバーを用
いて塗布し、80℃で2分間乾燥し、感光性平版印刷版
を得た。このとき、感光性組成物塗布液は乾燥重量とし
て2.0g/m2となるようにした。
ハライドランプを使用し、8mW/cm2で60秒間照
射することにより露光した。この露光済みの感光性平版
印刷版を、市販されている現像液(SDR−1、コニカ
(株)製、6倍に希釈、現像時間20秒、現像温度27
℃)で現像した。このようにして得られた平版印刷版に
ついて、印刷を行ったところ表4に示した結果が得られ
た。
H16)を、85℃に保たれた10%水酸化ナトリウム
水溶液中に浸漬し、1分間脱脂処理を行った後、水洗し
た。この脱脂したアルミニウム板を、25℃に保たれた
10%硫酸水溶液中に1分間浸漬し、デスマット処理し
た後、水洗した。次いでこのアルミニウム板を、2.0
%の硝酸水溶液中において、温度30℃、電流密度13
0A/dm2の条件で交流電流により60秒間電解粗面
化した。その後、70℃に保たれた10%水酸化ナトリ
ウム水溶液中で10秒間浸漬し、次いで25℃に保たれ
た10%硝酸水溶液中に10秒間浸漬し、デスマット処
理した後、水洗した。次いで、このアルミニウム板を、
0.5%の硝酸水溶液中において、温度30℃、電流密
度40A/dm2の条件で交流電流により30秒間電解
粗面化した。その後、70℃に保たれた10%の水酸化
ナトリウム水溶液中でアルミニウムの溶解量が4g/m
2となるように化学的エッチングを行った。次いで25
℃に保たれた10%硝酸水溶液中に10秒間浸漬し、デ
スマット処理した後水洗した。次いで、20%硫酸水溶
液中で、温度35℃、電流密度3A/dm2の条件で1
分間陽極酸化処理を行った。その後、80℃に保たれた
0.1%の酢酸アンモニウム水溶液中に30秒間浸漬し
封孔処理を行い、80℃で5分間乾燥してアルミニウム
支持体12を得た。
により電子顕微鏡にて倍率1000倍で撮影観察したと
ころ塩酸電解粗面化により形成されたピットの直径は1
0〜15μmであることが確認された。倍率10000
倍で撮影観察したところ、硝酸電解粗面化により形成さ
れたピットの直径は700〜900nmであることが確
認された。実施例11と同様にして感光性組成物を塗布
し、露光、現像を行い印刷を行った。
H16)を、85℃に保たれた10%水酸化ナトリウム
水溶液中に浸漬し、1分間脱脂処理を行った後、水洗し
た。この脱脂したアルミニウム板を、25℃に保たれた
10%硫酸水溶液中に1分間浸漬し、デスマット処理し
た後、水洗した。次いでこのアルミニウム板に、平均粒
径10μmのAl2O3粒子を水に容積比で10部にな
るように混合し攪拌機にて均一に分散させた分散液を、
口径が直径2mmの60個のノズルより圧力6kg/c
m2で射出し、アルミニウム板表面に対して100mm
の距離から30度の角度にて衝突させた。その後、70
℃に保たれた10%水酸化ナトリウム水溶液中で10秒
間浸漬し、次いで25℃に保たれた10%硫酸水溶液中
に10秒間浸漬し、デスマット処理した後、水洗した。
次いでこのアルミニウム板を、2.0%の塩酸水溶液中
において、温度30℃、電流密度130A/dm2の条
件で交流電流により60秒間電解粗面化した。その後、
70℃に保たれた10%水酸化ナトリウム水溶液中で1
0秒間浸漬し、次いで25℃に保たれた10%硫酸水溶
液中に10秒間浸漬し、デスマット処理した後、水洗し
た。次いでこのアルミニウム板を、0.5%の硝酸水溶
液中において、温度30℃、電流密度40A/dm2の
条件で交流電流により30秒間電解粗面化した。その
後、70℃に保たれた10%水酸化ナトリウム水溶液中
でアルミニウムの溶解量が4g/m2となるように化学
的エッチングを行った。次いで25℃に保たれた10%
硫酸水溶液中に10秒間浸漬し、デスマット処理した後
水洗した。次いで、20%硫酸水溶液中で、温度35
℃、電流密度3A/dm2の条件で1分間陽極酸化処理
を行った。その後、80℃に保たれた0.1%の酢酸ア
ンモニウム水溶液中に30秒間浸漬し封孔処理を行い、
80℃で5分間乾燥してアルミニウム支持体13を得
た。
により電子顕微鏡にて倍率200倍で撮影観察したとこ
ろ、凹部は長さ32〜40μm、幅8〜10μm、間隔
150〜180μmであることが確認された。倍率10
00倍で撮影観察したところ塩酸電解粗面化により形成
されたピットの直径は10〜15μmであることが確認
された。倍率10000倍で撮影観察したところ、硝酸
電解粗面化により形成されたピットの直径は700〜9
00nmであることが確認された。実施例11と同様に
して感光性組成物を塗布し、露光、現像を行い印刷を行
った。
ルミニウムの溶解量が2g/m2となるように化学的エ
ッチングを行った以外は実施例11と同様にしてアルミ
ニウム支持体4を得た。実施例11と同様にして感光性
組成物を塗布し、露光、現像を行い印刷を行った。
ルミニウムの溶解量が2g/m2となるように化学的エ
ッチングを行った以外は実施例12と同様にしてアルミ
ニウム支持体5を得た。実施例11と同様にして感光性
組成物を塗布し、露光、現像を行い印刷を行った。
ルミニウムの溶解量が2g/m2 となるように化学的
エッチングを行った以外は実施例13と同様にしてアル
ミニウム支持体6を得た。実施例11と同様にして感光
性組成物を塗布し、露光、現像を行い印刷を行った。
度80A/dm2の条件で交流電流により30秒間電解
粗面化する代わりに、2.0%の塩酸水溶液中におい
て、温度30℃、電流密度130A/dm2の条件で交
流電流により60秒間電解粗面化した以外は実施例11
と同様にしてアルミニウム支持体7を得た。実施例11
と同様にして感光性組成物を塗布し、露光、現像を行い
印刷を行った。
度130A/dm2の条件で交流電流による60秒間の
電解粗面化、その後の、70℃に保たれた10%水酸化
ナトリウム水溶液中で10秒間の浸漬、次いで25℃に
保たれた10%硝酸水溶液中に10秒間浸漬するデスマ
ット処理および水洗を行わなかったこと以外は実施例1
3と同様にしてアルミニウム支持体8を得た。実施例1
1と同様にして感光性組成物を塗布し、露光、現像を行
い印刷を行った。
たれた10%水酸化ナトリウム水溶液中で10秒間の浸
漬、次いで25℃に保たれた10%硫酸水溶液中に10
秒間浸漬するデスマット処理および水洗、さらに、0.
5%の硝酸水溶液中において、温度30℃、電流密度4
0A/dm2の条件で交流電流による30秒間の電解粗
面化処理を行わなかったこと以外は実施例13と同様に
してアルミニウム支持体9を得た。実施例11と同様に
して感光性組成物を塗布し、露光、現像を行い印刷を行
った。
AIYA1F−1)にかけコート紙、湿し水(東京イン
キ(株)製エッチ液SG−51、濃度1.5%)、イン
キ(東洋インキ(株)製ハイプラスM紅)を使用して印
刷を行い、印刷物の画像部にインキ着肉不良が現れるか
非画像部にインキが付着するまで印刷を行い、そのとき
の印刷枚数を求め、耐刷性を評価した。
刷を開始し、きれいで完全な画像が得られる枚数を評価
した。
刷機を停止し、1時間放置した後、印刷を開始し、発生
した微点状の汚れを100cm2内の個数で評価した。
行ったときの印刷物上のスクリーン線数150line
/inchの50%網点の面積を測定し、印刷版上の5
0%網点の面積からゲイン量を評価した。面積の測定は
マクベス濃度計で行った。
行ったときの印刷物上のスクリーン線数150line
/inchの80%網点の濃度を測定し、以下の式を用
いて評価した。濃度の測定はマクベス濃度計で行った。
量ダイヤルを変更し、非画線部が汚れ始めるか平網部が
からみ始める水量のダイヤル値と、画線部のインキ濃度
が低下してくる水量のダイヤル値を求め、その差を水幅
とした。
を停止し、ブランケット上の非画線部のインキによる汚
れの程度を目視で評価した。 ○…ほとんど汚れていない ×…著しく汚れている
のネガ型感光性組成物塗布液を用い、他は同様の実験を
行った結果、実施例3と同様の効果が得られた。
性、保水性及び感光層との接着性が良好である平版印刷
版用支持体及びその製造方法並びに感光性平版印刷版を
提供できる。
Claims (9)
- 【請求項1】アルミニウム板の表面を粗面化した後、化
学的処理を行い粗面化表面の鋭利な部分を溶解し滑らか
にすることによって、Rz/Raが処理前に比べ95%
以下にすることを特徴とする平版印刷版用支持体の製造
方法。 - 【請求項2】Rmaxが3μm以下の滑らかな表面を有
し、かつマイクロポアの開口直径が8nm以上、深さが
800nm以上である砂目構造を有することを特徴とす
る平版印刷版用支持体。 - 【請求項3】アルミニウム板の表面を粗面化した後、化
学的処理を行い粗面化表面の鋭利な部分を溶解し滑らか
にすることによって、Rz/Raが処理前に比べ95%
以下にした支持体上に感光層を設けて成ることを特徴と
する感光性平版印刷版。 - 【請求項4】Rmaxが3μm以下の滑らかな表面を有
し、かつマイクロポアの開口直径が8nm以上、深さが
800nm以上である砂目構造を有する支持体上に感光
層を設けて成ることを特徴とする感光性平版印刷版。 - 【請求項5】粗面化、陽極酸化処理を施されたアルミニ
ウム板において、該粗面化をa)硝酸系電解溶液中で電
気化学的に直径800〜2000nmのピットを生成
し、b)アルカリ水溶液中で化学的エッチングをアルミ
ニウムの溶解量が4〜6g/m2になるように行い、
c)酸でデスマット処理を行うことを特徴とする平版印
刷版用支持体の製造方法。 - 【請求項6】粗面化、陽極酸化処理を施されたアルミニ
ウム板において、該粗面化をa)塩酸系電解溶液中で電
気化学的に直径7〜25μmのピットを生成し、b)硝
酸系電解溶液中で電気化学的に直径600〜1000n
mのピットを生成し、c)アルカリ水溶液中で化学的エ
ッチングをアルミニウムの溶解量が3〜5g/m2にな
るように行い、d)酸でデスマット処理を行うことを特
徴とする平版印刷版用支持体の製造方法。 - 【請求項7】塩酸系電解溶液中で電気化学的にピットを
生成した後、酸またはアルカリ水溶液で化学的にエッチ
ング処理を施す工程を有することを特徴とする請求項6
記載の平版印刷版用支持体の製造方法。 - 【請求項8】粗面化、陽極酸化処理を施されたアルミニ
ウム板において、該粗面化をa)機械的に長さ30〜5
0μm、幅5〜15μmの凹部を中心間隔50〜200
μmで生成し、b)塩酸系電解溶液中で電気化学的に直
径7〜25μmのピットを生成し、c)硝酸系電解溶液
中で電気化学的に直径600〜1000nmのピットを
生成し、d)アルカリ水溶液中で化学的エッチングをア
ルミニウムの溶解量が3〜5g/m2になるように行
い、e)酸でデスマット処理を行うことを特徴とする平
版印刷版用支持体の製造方法。 - 【請求項9】機械的に凹部を生成した後、および塩酸系
電解溶液中で電気化学的にピットを生成した後、酸また
はアルカリ水溶液で化学的にエッチング処理を施す工程
を有することを特徴とする請求項8記載の平版印刷版用
支持体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9157195A JP3497005B2 (ja) | 1995-03-24 | 1995-03-24 | 平版印刷版用支持体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9157195A JP3497005B2 (ja) | 1995-03-24 | 1995-03-24 | 平版印刷版用支持体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08258445A true JPH08258445A (ja) | 1996-10-08 |
| JP3497005B2 JP3497005B2 (ja) | 2004-02-16 |
Family
ID=14030223
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9157195A Expired - Fee Related JP3497005B2 (ja) | 1995-03-24 | 1995-03-24 | 平版印刷版用支持体の製造方法 |
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| Country | Link |
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| JP (1) | JP3497005B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011051101A (ja) * | 2009-08-31 | 2011-03-17 | Fujifilm Corp | 平版印刷版用アルミニウム合金板およびその製造方法 |
-
1995
- 1995-03-24 JP JP9157195A patent/JP3497005B2/ja not_active Expired - Fee Related
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|---|---|---|---|---|
| JP2011051101A (ja) * | 2009-08-31 | 2011-03-17 | Fujifilm Corp | 平版印刷版用アルミニウム合金板およびその製造方法 |
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