JPH0943774A - ハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents

ハロゲン化銀写真感光材料

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JPH0943774A
JPH0943774A JP7192896A JP19289695A JPH0943774A JP H0943774 A JPH0943774 A JP H0943774A JP 7192896 A JP7192896 A JP 7192896A JP 19289695 A JP19289695 A JP 19289695A JP H0943774 A JPH0943774 A JP H0943774A
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JP
Japan
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silver halide
silver
acid
mol
solution
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Application number
JP7192896A
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English (en)
Inventor
Junichi Tanabe
潤一 田▲辺▼
Takeshi Sanpei
武司 三瓶
Masato Takada
昌人 高田
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Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
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Publication date
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Publication of JPH0943774A publication Critical patent/JPH0943774A/ja
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  • Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 保存安定性が高く、且つ網点再現性の優れた
高品位な画像再現性をもたらすハロゲン化銀写真感光材
料の提供。 【構成】 1.支持体上にハロゲン化銀乳剤層を有する
ハロゲン化銀写真感光材料において、該ハロゲン化銀乳
剤層が(100)面を主平面として有する塩化銀含有率
50モル%以上100モル%以下の平板状ハロゲン化銀
粒子を含有し、かつ該支持体がシンジオタクチックポリ
スチレンを含有することを特徴とするハロゲン化銀写真
感光材料。2.支持体上にハロゲン化銀乳剤層を有する
ハロゲン化銀写真感光材料において、該ハロゲン化銀乳
剤層がニトロシル又はチオニトロシル配位子を有する周
期律表の第5〜8族の元素から選ばれる少なくとも1種
の遷移金属を含有し、かつ該支持体がシンジオタクチッ
クポリスチレンを含有することを特徴とするハロゲン化
銀写真感光材料。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ハロゲン化銀写真感光
材料(以下、単に感光材料ともいう)に関し、詳しくは
印刷製版用ハロゲン化銀写真感光材料に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、印刷製版用感光材料において
写真特性上高感度かつ超硬調の画像再現をなし得る写真
技術の開発が盛んに行われている。特にスキャナー工程
で近年注目されている400線/インチを越える高精細
出力やFMスクリーン方式のように微小なDotの出力
などでは単に硬調で有るだけでなく、大点から小点にい
たるまで忠実な再現性が要求されてきた。
【0003】高感度の技術の一つとして、米国特許5,
320,938号や特開平6−337490号等で開示
された(100)面を有する高塩化銀含有平板粒子が知
られている。
【0004】硬調化技術の一つとしては、特開平5−3
13277号や米国特許5,252,451号に記載さ
れた、ハロゲン化銀粒子に周期律表第8族の遷移元素を
配位子とともにドーピングすることが知られている。
【0005】また写真感光材料用の支持体としては、紙
やガラス、金属の他にポリエチレンテレフタレート(P
ET)、3酢酸セルロース(TAC)、ポリエチレンナ
フタレート(PEN)などが使用されているが、印刷製
版用感光材料では通常PETが用いられている。
【0006】乳剤層中に含まれるハロゲン化銀として
(100)面を有する高塩化銀含有平板粒子及び支持体
にPETを用いると、上記の400線/インチを越える
高精細出力方式のように微小なDotの出力では微小な
網点の再現性が非常に悪く、かつカブリが上昇したり、
未露光部に発生する砂状の微小な点、いわゆる黒ポツが
発生しやすく上記の要求を満足するものは得られない。
また遷移元素の配位子をハロゲン化銀粒子にドーピング
し、支持体にPETを用いると硬調化の反面感度が経時
で変化し、写真性能上不安定になってしまう。これらを
改良する技術が長きにわたり待ち望まれていた。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、保存
安定性が高く、且つ網点再現性の優れた高品位な画像再
現性をもたらすハロゲン化銀写真感光材料を提供するこ
とにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、以
下の構成により達成される。 1.支持体上にハロゲン化銀乳剤層を有するハロゲン化
銀写真感光材料において、該ハロゲン化銀乳剤層が(1
00)面を主平面として有する塩化銀含有率50モル%
以上100モル%以下の平板状ハロゲン化銀粒子を含有
し、かつ該支持体がシンジオタクチックポリスチレンを
含有することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。
【0009】2.支持体上にハロゲン化銀乳剤層を有す
るハロゲン化銀写真感光材料において、該ハロゲン化銀
乳剤層がニトロシル又はチオニトロシル配位子を有する
周期律表の第5〜8族の元素から選ばれる少なくとも1
種の遷移金属を含有し、かつ該支持体がシンジオタクチ
ックポリスチレンを含有することを特徴とするハロゲン
化銀写真感光材料。
【0010】以下、本発明を詳述する。
【0011】本発明において乳剤層中に含まれるハロゲ
ン化銀粒子は、平板状ハロゲン化銀粒子である。
【0012】本発明の平板状ハロゲン化銀粒子とは、二
つの対向する平行な主平面を有する粒子を言い、粒子厚
さに対する粒径の比(以下アスペクト比と称す)の平均
値が1.3より大きいものをいう。ここで粒径とは平均
投影面積径(以下粒径と記す)のことで、該平板状ハロ
ゲン化銀粒子の投影面積の円相当直径(該ハロゲン化銀
粒子と同じ投影面積を有する円の直径)で示され、厚さ
とは平板状ハロゲン化銀粒子を形成する2つの平行な主
平面間の距離をいう。
【0013】本発明の平板状ハロゲン化銀粒子のアスペ
クト比は2以上であるが、好ましくは2.0以上15.
0未満である。特に4以上8未満が好ましい。
【0014】本発明において乳剤層中に含まれるハロゲ
ン化銀粒子の全投影面積の50%以上が(100)面を
主平面とする平板状ハロゲン化銀粒子からなることが特
徴であるが、好ましくは70%以上、さらに好ましくは
90〜100%である。
【0015】本発明において、平板状ハロゲン化銀粒子
の主平面の形状は直角平行四辺形または直角平行四辺形
の角が丸まった形状である。該直角平行四辺形の隣接辺
比は10未満であるが、好ましくは5未満、更に好まし
くは2未満である。また、角が丸みを帯びている場合の
辺の長さは、その辺の直線部分を延長し、隣接する辺の
直線部分を延長した線との交点との間の距離で表され
る。
【0016】本発明の平板状ハロゲン化銀粒子の平均粒
径は0.1〜5.0μmであることが好ましく、0.1
〜3.0μmであることが更に好ましく、最も好ましく
は0.1〜1.0μmである。
【0017】本発明の平板状ハロゲン化銀粒子の平均厚
さは0.01〜1.0μmであることが好ましく、より
好ましくは0.02〜0.40μm、更に好ましくは
0.02〜0.30μmである。
【0018】粒径及び厚さは感度、その他写真特性を最
良にするように最適化することができる。なお、最適粒
径、最適厚さは、感度、その他の写真特性に影響する他
の因子として例えば親水性コロイド層の厚さ、硬膜度、
化学熟成条件、感光材料の設定感度、銀付量等によって
異なる。
【0019】本発明の平板状ハロゲン化銀粒子は粒径分
布の狭い単分散乳剤が好ましく、具体的には (粒径の標準偏差/平均粒径)×100=粒径分布の広
さ(%) によって分布の広さを定義したとき5%以上25%以下
のものが好ましく、更に好ましくは5%以上20%以下
のものであり、特に好ましくは5%以上15%以下であ
る。
【0020】本発明の平板状ハロゲン化銀粒子は厚さの
分布が小さいことが好ましい。具体的には、(厚さの標
準偏差/平均厚さ)×100=厚さ分布の広さ(%)に
よって分布の広さを定義したとき5%以上25%以下の
ものが好ましく、更に好ましくは5%以上20%以下の
ものであり、特に好ましくは5%以上15%以下であ
る。
【0021】本発明の平板状ハロゲン化銀粒子はハロゲ
ン化銀として臭化銀、塩化銀、沃臭化銀、塩臭化銀、沃
塩化銀、塩沃臭化銀等を用いることができる。沃化銀の
含有量は、ハロゲン化銀粒子全体での平均沃化銀含有率
として0モル%以上1.0モル%以下が好ましいが、さ
らには0モル%以上0.5モル%以下が好ましい。
【0022】本発明において、個々のハロゲン化銀粒子
のハロゲン含有率及び平均ハロゲン含有率はEPMA法
(Electron Probe Micro Ana
lyzer法)を用いることにより求めることができ
る。この方法は乳剤粒子を互いに接触しないようによく
分散したサンプルを作製し、電子ビームを照射し、電子
線励起によるX線分析を行うもので極微小な部分の元素
分析を行える。この方法により、各粒子から放射される
銀及びハロゲンの特性X線強度を求めることにより、個
々の粒子のハロゲン化銀組成を決定できる。少なくとも
50個の粒子についてEPMA法によりハロゲン含有率
を求めれば、それらの平均からハロゲン含有率が求めら
れる。
【0023】本発明のハロゲン化銀乳剤に含まれる平板
状ハロゲン化銀粒子(以下、本発明の平板状ハロゲン化
銀粒子と略すこともある。)は粒子間のハロゲン含有量
がより均一になっていることが好ましい。EPMA法に
より粒子間のハロゲン含有量の分布を測定したとき、相
対標準偏差が35%以下、更に20%以下であることが
好ましい。
【0024】本発明の平板状ハロゲン化銀粒子が沃化銀
を含有する場合、含有させる位置は少なくとも内部に含
有することが好ましい。内部の場合、少なくとも中心部
に存在することが更に好ましい。また内部の他に最表面
に存在させることも好ましい。
【0025】本発明において、ハロゲン化銀粒子内部の
ハロゲン組成分布は粒子を超薄切片に前処理した後、冷
却しながら透過電子顕微鏡で観察、分析を行うことによ
り求められる。具体的には乳剤からハロゲン化銀粒子を
取り出した後、樹脂中に包埋し、これをダイヤモンドナ
イフで切削することにより厚さ60nmの切片を作製す
る。
【0026】この切片を液体窒素で冷却しながら、エネ
ルギー分散型X線分析装置を装着した透過電子顕微鏡に
より観察と点分析を行い、定量計算することにより求め
られる(井上、長澤:写真学会昭和62年年次大会講演
要旨集p62)。
【0027】本発明において、平板状ハロゲン化銀粒子
の最表面の沃化銀含有率とは、XPS法(X−ray
Photoelectron Spectroscop
y:X線光電子分光法)によって分析される深さ50Å
までの部分の沃化銀含有率を言い、以下のようにして求
めることができる。
【0028】試料を1×10-10torr以上×10-8
torr以下の超高真空中で−110℃以下まで冷却
し、プローブ用X線としてMgKαをX線源電圧15k
v、X線源電流40mAで照射し、Ag3d5/2、B
r3d、I3d3/2電子について測定する。測定され
たピークの積分強度を感度因子(Sensitivit
y Factor)で補正し、これらの強度比から最表
面のハライド組成を求める。
【0029】試料を冷却するのは、室温でのX線照射に
よる試料の破壊(ハロゲン化銀の分解とハライド{特に
沃素}の拡散)で生じる測定誤差をなくし、測定精度を
高めるためである。−110℃まで冷却すれば試料破壊
は測定上支障のないレベルに抑えることができる。
【0030】本発明において、平板状ハロゲン化銀粒子
は種々のハロゲン組成が可能であるが塩化銀を50モル
%以上100モル%以下含有すること、更には70モル
%以上100モル%以下含有することが好ましい。
【0031】本発明の平板状ハロゲン化銀粒子は転位線
を有していてもよい。転位線は例えばJ.F.Hami
lton, Phot.Sci.Eng, 57(19
67)や、T.Shiozawa, J.Soc.Ph
ot.Sci.Japan,35,213(1972)
に記載の低温での透過型電子顕微鏡を用いた直接的な方
法により観察することができる。即ち、乳剤から粒子に
転位線が発生する程の圧力をかけないよう注意して取り
だしたハロゲン化銀粒子を電子顕微鏡観察用のメッシュ
に載せ、電子線による損傷(プリントアウト等)を防ぐ
ように試料を冷却した状態で透過法により観察を行う。
【0032】このとき、粒子の厚みが厚いほど電子線が
透過しにくくなるので、高圧型(0.25μmの厚さの
粒子に対して200kv以上)の電子顕微鏡を用いた方
がより鮮明に観察することができる。
【0033】本発明の平板状ハロゲン化銀粒子は米国特
許5,320,938号記載の方法で調製することが出
来る。即ち、(100)面を形成しやすい条件下で沃度
イオンの存在下、低pClで核形成させることが好まし
い。核形成後はオストワルド熟成及び/又は成長を行
い、所望の粒径、分布を有する平板状ハロゲン化銀粒子
を得ることが出来る。
【0034】例えば、まず第1の容器に銀塩溶液、沃素
イオンを含んだハライド溶液、保護コロイド液を添加し
て核形成を行い、核形成後、その混合溶液を第2の容器
に移し、そこで成長させる方法が好ましく用いられる。
【0035】尚、その際、成長を途中で一旦止め、これ
を種粒子とし種粒子上にハロゲン化銀を析出させる方法
にて成長させてもよい。具体的には反応容器に予め保護
コロイドを含む水溶液及び種粒子を存在させ、必要に応
じて銀イオン、ハロゲンイオン、或いはハロゲン化銀微
粒子を供給して種粒子を成長させることができる。
【0036】本発明の平板状ハロゲン化銀粒子を作成す
るには、保護コロイド液のpClは0.5〜3.5の範
囲にあることが好ましく、1.0〜3.0が更に好まし
く、1.5〜2.5が最も好ましい。
【0037】本発明の平板状ハロゲン化銀粒子の作成に
おいて、核形成は銀塩溶液が保護コロイド液中に添加さ
れた時点から開始されるが、沃素イオンは、銀塩溶液と
同時か又は銀塩溶液に先だって添加されることが好まし
く、最も好ましくは銀塩溶液に先だって添加する場合で
ある。
【0038】本発明の平板状ハロゲン化銀粒子の作成に
おいて、沃素は沃化銀と塩化銀の固溶限界まで導入する
ことが可能であるが、核形成開始時の保護コロイド液中
の沃素イオン濃度としては10モル%以下が好ましく、
さらに好ましくは0.01モル%以上、10モル%以下
であり、最も好ましくは0.05モル%以上、10モル
%以下である。
【0039】本発明の平板状ハロゲン化銀粒子の作成に
おいて、核形成時における銀塩溶液の添加時間は5秒以
上、1分未満が好ましい。また核形成時には銀塩溶液と
ハライド溶液がともに添加されることが好ましい。特に
沃素イオンは添加されることが好ましい。
【0040】また核形成時の保護コロイド液中の臭素イ
オンは、塩素イオンが50モル%以上存在する限りにお
いて存在していてもよい。
【0041】本発明において、核の塩化銀含有率は50
モル%以上100モル%以下であるが、好ましくは70
モル%以上100モル%以下、更に好ましくは90モル
%以上100モル%以下である。核形成時のpHは2〜
8が好ましい。また温度は30〜90℃が好ましく、3
5〜70℃が更に好ましい。
【0042】核形成時に添加される銀量は総銀量の0.
1〜10モル%であることが好ましい。
【0043】本発明の平板状ハロゲン化銀粒子の作成に
おいて、アンモニア、チオエーテル、チオ尿素等の公知
のハロゲン化銀溶剤を存在させることができる。本発明
の平板状ハロゲン化銀粒子の調製において、成長時は銀
塩溶液とハライド溶液をダブルジェット法によって添加
し、添加速度を粒子の成長に応じて、新核形成が起こら
ず、かつオストワルド熟成によるサイズ分布の広がりが
ない速度、即ち新しい核が発生する速度の30〜100
%の範囲で徐々に変化させる方法により所望の粒径、分
布を有する粒子を得ることができる。更に成長させる別
の条件として、日本写真学会昭和58年年次大会要旨集
88項に見られるように、ハロゲン化銀微粒子を添加し
溶解、再結晶することにより成長させる方法も好ましく
用いられる。特に沃化銀微粒子、臭化銀微粒子、沃臭化
銀微粒子、塩化銀微粒子が好ましく用いられる。
【0044】本発明の平板状ハロゲン化銀粒子は、いわ
ゆるハロゲン変換型(コンバージョン型)の粒子であっ
ても構わない。ハロゲン変換量は銀量に対して0.2モ
ル%〜0.5モル%が好ましく、変換の時期は物理熟成
中でも物理熟成終了後でもよい。
【0045】ハロゲン変換の方法としては、通常ハロゲ
ン変換前の粒子表面のハロゲン組成よりも銀との溶解度
積の小さいハロゲン水溶液またはハロゲン化銀微粒子を
添加する。このときの微粒子サイズとしては0.02〜
0.2μm以下が好ましく、より好ましくは0.02〜
0.1μmである。
【0046】本発明の平板状ハロゲン化銀粒子の最表面
の沃化銀を含有させる場合、その方法としては、基盤と
なる平板状粒子を含有する乳剤に硝酸銀溶液とヨードイ
オンを含有する溶液を同時添加する方法、沃化銀、沃臭
化銀または塩沃臭化銀等のハロゲン化銀微粒子を添加す
る方法、沃化カリウムまたは沃化カリウムと臭化カリウ
ムの混合物、ヨードイオンを放出する有機化合物等の添
加法などが適用できる。
【0047】これらのうち好ましいのはハロゲン化銀微
粒子を添加する方法である。特に好ましいのは沃化銀微
粒子の添加及びヨードイオンを放出する有機化合物の添
加である。上記の最表面の沃化銀含有率を調整する時期
は、ハロゲン化銀結晶の製造工程の最終的過程から化学
熟成工程、更にハロゲン化銀乳剤の塗布直前の調液工程
終了までの間に選ぶことができるが、化学熟成工程終了
までに調整することが好ましい。ここで言う化学熟成工
程とは、本発明のハロゲン化銀乳剤の物理熟成及び脱塩
操作が終了した時点から、化学増感剤を添加し、その後
化学熟成を停止するための操作を施した時点までの間を
指す。又、ハロゲン化銀微粒子の添加は時間間隔をとっ
て数回に分けて行ってもよいし、該微粒子の添加後に、
更に別の化学熟成済み乳剤を加えてもよい。
【0048】ハロゲン化銀微粒子を添加する際の本発明
の乳剤液の温度は、30〜80℃の範囲が好ましく、更
には40〜65℃の範囲が特に好ましい。又、本発明は
添加するハロゲン化銀微粒子が、添加後塗布直前までの
間に一部もしくは全部が消失する条件で実施されること
が好ましく、更に好ましい条件は添加したハロゲン化銀
微粒子の20%以上が塗布直前において消失しているこ
とである。
【0049】本発明の平板状ハロゲン化銀粒子の製造に
当たっては、製造時の撹拌条件が極めて重要である。撹
拌装置としては特開昭62−160128号に示される
添加液ノズルを撹拌機の母液吸入口に近く液中に設置し
た装置が特に好ましく用いられる。この際の撹拌回転数
は100〜1200rpmにすることが好ましい。
【0050】本発明の平板状ハロゲン化銀粒子は粒子を
形成する過程及び/又は成長させる過程で、カドミウム
塩、亜鉛塩、鉛塩、タリウム塩、イリジウム塩(錯塩を
含む)、ロジウム塩(錯塩を含む)、及び鉄塩(錯塩を
含む)から選ばれる少なくとも1種を用いて金属イオン
を添加し、粒子内部及び/または粒子表面にこれらの金
属元素を含有させることが好ましい。
【0051】本発明において現像速度を促進するために
脱塩工程前にハロゲン化銀溶剤を添加することも好まし
い。例えば、チオシアン酸化合物(チオシアン酸カリウ
ム、チオシアン酸ナトリウム、チオシアン酸アンモニウ
ム等)を銀1モル当たり1×10-3モル以上、3×10
-2モル以下加えることが好ましい。
【0052】本発明において、ハロゲン化銀粒子の保護
コロイド用分散媒としてはゼラチンを用いることが好ま
しく、ゼラチンとしてはアルカリ処理ゼラチン、酸処理
ゼラチン、低分子量ゼラチン(分子量が2万〜10万)、
フタル化ゼラチン等の修飾ゼラチンが用いられる。ま
た、これ以外の親水性コロイドも使用できる。具体的に
はリサーチ・ディスクロージャー誌(Research
Disclosure.以下RDと略す)第176巻
No.17643(1978年12月)の項に記載され
ているものが挙げられる。
【0053】本発明の平板状ハロゲン化銀粒子の作成に
おいて、ハロゲン化銀粒子の成長時に不要な可溶性塩類
を除去してもよいし、或いは含有させたままでもよい。
該塩類を除去する場合にはRD第176巻No.176
43のII項に記載の方法に基づいて行うことができる。
【0054】またハロゲン化銀乳剤は化学増感されてい
ても、されていなくてもよい。化学増感の方法としては
硫黄増感、還元増感及び貴金属増感法が知られており、
これらの何れをも単独で用いても又併用してもよい。好
ましい化学増感方法は硫黄増感であり、硫黄増感剤とし
ては、ゼラチン中に含まれる硫黄化合物の他、種々の硫
黄化合物、例えばチオ硫酸塩、チオ尿素類、ローダニン
類、ポリスルフィド化合物等を用いることができる。
【0055】貴金属増感法としては、先に挙げた金属イ
オンの他に金化合物、主として金錯塩を用いることがで
きる(金増感法)。
【0056】還元増感剤としては第一錫塩、アミン類、
ホルムアミジンスルフィン酸、シラン化合物アスコルビ
ン酸などを用いることができる。
【0057】本発明のシンジオタクチックポリスチレン
(SPS)を主成分とする支持体とは、立体規則性構造
(タクチシチィー)が主としてシンジオタクチック構
造、即ち炭素−炭素結合が形成される主鎖に対して側鎖
であるフェニール基や置換フェニール基が交互に反対方
向に位置する立体構造を有するものであり、主鎖の主た
る連鎖が、ラセモ連鎖であるスチレン系重合体あるい
は、それを含む組成物であり、スチレンの単独重合体で
あれば、特開昭62−117708号記載の方法で重合
することが可能であり、またその他の重合体について
は、特開平1−46912号、同1−178505号等
に記載された方法により重合することにより得ることが
できる。
【0058】そのタクティシティーは同位体炭素によ
る、核磁気共鳴法(13C−NMR法)により定量され
る。13C−NMR法により測定されるタクティシティー
は、連続する複数個の構成単位の存在割合、例えば2個
の場合はダイアッド、3個の場合はトリアッド、5個の
場合はペンタッドによって示すことができるが、本発明
に言う主としてシンジオタクチック構造を有するスチレ
ン系重合体とは、通常ラセミダイアッドで75%以上1
00%以下、好ましくは85%以上100%以下、若し
くはラセミトリアッド60%以上100%以下、好まし
くは75%以上100%以下、若しくはラセミペンタッ
ド30%以上100%以下、好ましくは50%以上10
0%以下である。
【0059】シンジオタクチックポリスチレン系組成物
を構成する重合体の具体的なモノマーとしては、スチレ
ン、メチルスチレン等のアルキルスチレン、クロロメチ
ルスチレン、クロロスチレン等のハロゲン化(アルキ
ル)スチレン、アルコキシスチレン、ビニル安息香酸エ
ステル等を主成分とする単独もしくは混合物である。特
に、アルキルスチレンとスチレンの共重合体は、50μ
m以上の膜厚を有するフィルムを得るためには、好まし
い組み合わせである。
【0060】本発明のシンジオタクチック構造を有する
ポリスチレン系樹脂は、上記のような原料モノマーを重
合用の触媒として、特開平5−320448号、4頁〜
10頁に記載の(イ)(a)遷移金属化合物及び(b)
アルミノキサンを主成分とするもの、又は(ロ)(a)
遷移金属化合物及び(c)遷移金属化合物と反応してイ
オン性錯体を形成しうる化合物を主成分とするものを用
いて重合して製造することができる。
【0061】本発明の支持体に用いるスチレン系重合体
を製造するには、まず、前記スチレン系単量体を十分に
精製してから上記触媒の何れかの存在下に重合させる。
この際、重合方法、重合条件(重合温度,重合時間)、
溶媒などは適宜選定すればよい。通常は−50〜200
℃、好ましくは30〜100℃の温度において、1秒〜
10時間、好ましくは1分〜6時間程度重合が行われ
る。また、重合方法としては、スラリー重合法,溶液重
合法,塊状重合法,気相重合法など、何れも用いること
ができるし、連続重合,非連続重合の何れであってもよ
い。ここで、溶液重合にあっては、溶媒として、例えば
ベンゼン,トルエン,キシレン,エチルベンゼンなどの
芳香族炭化水素,シクロペンタン,ヘキサン,ヘプタ
ン,オクタンなどの脂肪族炭化水素などを一種又は二種
以上を組合わせて使用することができる。この場合、単
量体/溶媒(体積比)は任意に選択することができる。
また、重合体の分子量制御や組成制御は、通常用いられ
ている方法によって行えばよい。分子量制御は例えば水
素,温度,モノマー濃度などで行うことができる。
【0062】また、本発明の効果を損なわない程度に、
これらと共重合可能な他のモノマーを共重合すること
は、かまわない。
【0063】SPS(シンジオタクチック・ポリスチレ
ン)を製膜するに用いる重合体は、重量平均分子量が1
0,000以上、更に好ましくは30,000以上であ
る。重量平均分子量が10,000未満のものでは、強
度特性や耐熱性に優れたフイルムにならない場合があ
る。重量平均分子量の上限については、特に限定される
ものではないが、1,500,000以上では延伸張力
の増加に伴う破断の発生などが生じる可能性がある。
【0064】本発明のSPSフィルムの分子量は、製膜
される限りにおいては制限がないが、重量平均分子量
で、10000〜3000000であることが好まし
く、特には30000〜1500000のものが好まし
い。
【0065】またこの時の分子量分布(数平均分子量/
重量平均分子量)は、1.5〜8が好ましい。この分子
量分布については、異なる分子量のものを混合すること
により調整することも可能である。更に本発明のシンジ
オタクチックポリスチレン系フイルムは、シンジオタク
チックポリスチレン系ペレットを120〜180℃で、
1〜24時間、真空下或いは、常圧下で空気又は窒素等
の不活性気体雰囲気下で乾燥する。目的とする含有水分
率は、特に限定されないが加水分解による機械的強度等
の低下を防ぐ観点から、0.05%以下、好ましくは
0.01%以下、更に好ましくは0.005%以下が良
い。しかしながら目的を達成すれば、これらの方法に特
に限定されるものではない。
【0066】《重合例》特開平3−131843号に準
じてSPSペレットを作製した。触媒の調整から重合反
応までは、全て乾燥アルゴン気流下で行った。内容積5
00mlのガラス性容器に硫酸銅5水塩(CuSO4
5H2O)17.8g(71mmol)精製ベンゼン2
00mlおよびトリメチルアルミニウム24mlをい
れ、40℃で8時間撹拌して触媒の調整を行った。これ
をアルゴン気流下No.3ガラスフィルターで濾過し
て、濾液を凍結乾燥させた。これを取り出し、2lのス
テンレス製容器にいれ、この中にさらにトリブチルアル
ミニウム、ペンタシクロペンタジエチルチタンメトキシ
ドを混合し90℃に加熱した。
【0067】この中に、精製したスチレンを1l入れ、
さらに、精製したp−メチルスチレン70mlを入れ、
この温度中で8時間重合反応を続けた。この後室温まで
冷却し、1lの塩化メチレンを入れ、さらに撹拌しなが
らナトリウムメチラートのメタノール溶液を加えて触媒
を失活させた。内容物を20lのメタノール中に徐々に
滴下して、更にガラスフィルターで濾過して3回メタノ
ールで洗浄した後、乾燥させた。1,2,4−トリクロ
ルベンゼンを溶媒として、135℃で標準ポリスチレン
で検量したGPCの測定の結果から求めたこの重合体の
重量平均分子量は、415000であった。
【0068】またこの重合体の融点は、245℃で13
−NMRの測定からも得られた重合体のは、シンジオタ
クチック構造を有することを確認した。
【0069】これを押出機でペレット化した後に、13
0℃で乾燥させた。
【0070】本発明のSPSフィルムとしては、スチレ
ンから作られるSPS単独であることが好ましいが、さ
らにSPSを含むフィルムとして、SPSに、主鎖がメ
ソ連鎖であるアイソタクチック構造を有するスチレン系
重合体(IPS)を混合することにより結晶化速度のコ
ントロールが可能であり、より強固なフィルムとするこ
とが可能である。
【0071】SPSとIPSとを混合する際には、その
比はお互いの立体規則性の高さに依存するが、30:7
0〜99:1好ましくは、50:50〜98:2であ
る。
【0072】支持体中には、本発明の目的を妨げない範
囲において、機能性付与のために無機微粒子、酸化防止
剤、UV吸収剤、帯電防止剤、染料、顔料、色素等を含
有させることが可能である。
【0073】製膜時に押し出す方法は、公知の方法が適
用出来るが、例えばTダイで押し出すことが好ましい。
シンジオタクチックポリスチレンペレットを280〜3
50℃で溶融、押出して、キャスティングロール上で静
電印加しながら冷却固化させて未延伸フィルムを作製す
る。
【0074】次にこの未延伸フィルムを2軸延伸し、2
軸配向させる。延伸方法としては、公知の方法、例え
ば、縦延伸及び横延伸を順に行う逐次2軸延伸法のほ
か、横延伸・縦延伸の逐次2軸延伸法、横・縦・縦延伸
法、縦・横・縦延伸法、縦・縦・横延伸法、または同時
2軸延伸法等を採用することができ、要求される機械的
強度や寸法安定性等の諸特性に応じて適宜選択すること
ができる。
【0075】一般に、最初に長手方向に、次に幅手方向
に延伸を行う逐次2軸延伸方法が好ましく、この場合、
縦横の延伸倍率としては、2.5〜6倍で、縦延伸温度
は,ポリマーのガラス転移温度(Tg)に依存するが、
通常(Tg+10)℃〜(Tg+50)℃の温度範囲で
延伸する。シンジオタクチックポリスチレン系フイルム
の場合は、110〜150℃行うことが好ましい。幅手
方向の延伸温度としては、長手方向より若干高くして1
15〜160℃で行うことが好ましい。つぎに、この延
伸フィルムを熱処理する。この場合の熱処理温度として
は、用途に応じて適宜変更出来る。高い収縮率を要求さ
れる収縮包装用途には150℃以下、寸法安定性を要求
される写真、印刷、医用用途には、目的に応じて適宜1
50〜270℃の温度が採用される。
【0076】熱処理時間は、特に限定されないが通常1
秒から2分程度が採用される。
【0077】必要に応じて、縦熱弛緩、横熱弛緩処理等
を施してもよいことは言うまでもない。
【0078】この後にフィルムを、急冷して巻き取って
も良いが、Tg〜熱処理温度の間で0.1分〜1500
時間かけて徐冷し大きな径のコアに巻取り40℃〜Tg
間でさらに−0.01〜−20℃/分の間の平均冷却速
度で冷却すると、支持体に巻ぐせを付けにくくする効果
がある点で好ましい。もちろん40℃〜Tg間での熱処
理は、支持体を巻とってから乳剤塗布後製法品断裁まで
に0.1分〜1500時間恒温槽に入れて行うことが好
ましい。
【0079】上述の製膜法に加えて、易滑性、接着性、
帯電防止性能等の諸特性を付与するため、SPS支持体
の少なくとも片面に、前述の特性等を付与したSPS支
持体を積層した、SPS積層フイルムを作製することも
出来る。積層の方法は、樹脂が溶融された状態で層流で
積層した後、ダイより押し出すとか、冷却、固化したS
PS未延伸支持体又はSPS一軸延伸支持体に、溶融S
PSを押出ラミネートし、しかる後縦・横両方向に又
は、一軸延伸方向と直角方向に延伸、熱固定して得られ
る。SPS樹脂の押出条件、延伸温度、延伸倍率、熱固
定温度等は、SPS積層支持体の組み合わせによっては
若干異なるが、最適条件を選ぶよう微調整すれば良く、
大幅な変更にはならない。
【0080】勿論、積層は2層以上の積層からなり、同
種ポリマーの組み合わせ(共重合ポリマーの組み合わせ
を含む)であっても良いし、異種ポリマーであっても良
いことは言うまでもない。
【0081】上述の製膜法は、その用途、目的に応じて
適宜変えられるもので、本発明はいかなる理由でも、こ
れらの方法に限定されるものではない。
【0082】このようにして得られたシンジオタクチッ
ク・ポリスチレン系延伸フイルムの厚さは、用途に応じ
て異なるが、極薄コンデンサー用の0.3μm厚さのも
の、通常コンデンサー用の6μm、12μm厚み、医
用、印刷感材用の100μm、電気絶縁材料(スロット
ライナー等)用の250μm厚さと、多岐に亘るが、上
記製膜条件は、0.3〜500μmの厚さのものに有効
である。
【0083】つぎにハロゲン化銀写真感光材料用親水性
コロイド層塗布前の支持体の下引処理に付いてのべる。
【0084】下引層を塗設する際には、薬品処理、機械
的粗面化処理、コロナ放電処理、火炎処理、紫外線処
理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、
レーザー処理などを施すことが好ましい。これらの処理
により表面の表面張力を50dyne/cm以上にする
事が好ましい。
【0085】下引層に付いては、当業界で用いられてい
るものならいずれを用いても構わない。
【0086】また下引層は、単層でも構わないが、より
機能性を求め、接着力を高めるためには、重層であるこ
とが望ましい。
【0087】以下に下引の重層法について説明する。
【0088】重層法においては、下引第1層は、支持体
に良く接着することが好ましく、素材としては、メタク
リル酸、アクリル酸、等の不飽和カルボン酸もしくはそ
のエステル、スチレン、塩化ビニリデン、塩化ビニル、
等の単量体から得られる重合体もしくは、共重合体、水
分散系のポリエステル、ポリウレタン、ポリエチレンイ
ミン、エポキシ樹脂などが挙げられる。
【0089】下引第1層に用いることができるポリマー
ラテックスとしては、ゴム状物質を用いてもよい。ゴム
状物質は一般にビニル単量体−ジオレフィンからなり、
ビニル単量体としては、スチレン、アクリロニトリル、
メタクリロニトリル、メタクリル酸メチル、アクリル酸
メチル、酢酸ビニル等が好ましく用いられ、ジオレフィ
ンとしては、ブタジエン、イソプレン、クロロプレンが
好ましく用いられる。これらの成分に加え、不飽和カル
ボン酸としてアクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、
無水マレイン酸若しくはこれらのアルキルエステル、ア
クロレイン、メテクロレイン、アクリル酸グリシジル、
メタクリル酸グリシジル、アクリル酸2−ヒドロキシエ
チル、メタクリル酸、2−ヒドロキシエチル、アクリル
酸アリル、メタクリル酸アリル、N−メチロールアクリ
ルアミド、N−メチロールメタクリルアミド、ビニルイ
ソシアネート、アリルイソシアネート等の架橋可能な成
分を加えるのがよい。ジオレフィンの含有量として好ま
しくは10〜60重量%程度である。市販されていて入
手しやすいものとして、スチレン−ブタジエン、スチレ
ン−イソプレン、スチレン−クロロプレン、メチルメタ
クリレート−ブタジエン、アクリロニトリル−ブタジエ
ン等を挙げることができるが好ましくはポリマーラテッ
クスを構成するモノマーとしてスチレン及びその誘導
体、メタクリル酸,アクリル酸やイタコン酸及びそれら
のエステル(アルキルアクリレート、アルキルメタクリ
レート等)、2−ヒドロキシエチルアクリレート,2−
ヒドロキシエチルメタクリレート,2−ヒドロキシプロ
ピルアクリレート,2−ヒドロキシプロピルメタクリレ
ート等のヒドロキシ基含有モノマー、アクリルアミド,
メタクリルアミド,N−メチルメタクリルアミド,N−
メチルアクリルアミド,N−メチロールメタクリルアミ
ド,N−メチロールアクリルアミド,N,N−ジメチロ
ールアクリルアミド、N−メトキシメチルアクリルアミ
ド等のアミド基含有モノマー、N,N−ジエチルアミノ
エチルアクリレート,N,N−ジエチルアミノメタクリ
レート等のアミノ基含有モノマー、グリシジルアクリレ
ート,グリシジルメタクリレート等のエポキシ基含有モ
ノマー、アクリル酸やメタクリル酸の塩(ナトリウム
塩、カリウム塩、アンモニウム塩等)等のカルボキシル
基又はカルボン酸塩を含有するモノマー、スチレンスル
ホン酸やビニルスルホン酸及びそれらの塩(ナトリウム
塩、カリウム塩、アンモニウム塩等)等のスルホン酸基
又はスルホン酸塩を含有するモノマー、イタコン酸,マ
レイン酸,フマル酸の塩(ナトリウム塩、カリウム塩、
アンモニウム塩)等のカルボキシル基又はカルボン酸塩
を含有するモノマー、無水マレイン酸,無水イタコン酸
等の酸無水物を含有するモノマー、ビニルイソシアネー
ト、アリルイソシアネート、ビニルメチルエーテル、ビ
ニルエチルエーテル、アクリロニトリル、酢酸ビニル等
が挙げられ、一種もしくは二種以上で共重合させて用い
ることができる。
【0090】ポリマーラテックスの重合方法としては、
乳化重合法、溶液重合法、塊状重合法、懸濁重合法、放
射線重合法等が挙げられる。
【0091】溶液重合法では、溶媒中で適当な濃度のモ
ノマーの混合物(通常、溶媒に対して40重量%以下、
好ましくは10〜25重量%の混合物)を開始剤の存在
下で約10〜200℃、好ましくは30〜120℃の温
度で、約0.5〜48時間、好ましくは2〜20時間重
合を行う。開始剤としては、重合溶媒に可溶なもので、
過酸化ベンゾイル,アゾビスイソブチロニトリル(AI
BN),過酸化ジ第3ブチル等の有機溶媒系開始剤、過
硫酸アンモニウム(APS),過硫酸カリウム,2,
2′−アゾビス−(2−アミノジプロパン)−ハイドロ
クロライド等の水溶性開始剤、又はこれらと2価の鉄塩
や亜硫酸水素ナトリウム等の還元剤を組み合わせたもの
が挙げられる。溶媒としては、モノマーの混合物を溶解
するものであればよく、水、メタノール、エタノール、
ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、ジオキ
サン若しくはこれらの混合溶媒等が挙げられる。
【0092】乳化重合法では、水を分散媒とし、水に対
して10〜50重量%のモノマーとモノマーに対して
0.05〜5重量%の重合開始剤、0.1〜20重量%
の分散剤を用い、約30〜100℃、好ましくは60〜
90℃で3〜8時間、撹拌しながら重合せしめる。開始
剤としては、水溶性過酸化物(過酸化カリウム、過硫酸
アンモニウム等)、水溶性アゾ化合物(2,2′−アゾ
ビス−(2−アミノジプロパン)−ハイドロクロライド
等)又はこれらと2価の鉄塩や亜硫酸水素ナトリウム等
の還元剤を組み合わせたものが挙げられる。分散剤とし
てはアニオン性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤、水
溶性ポリマー等が挙げられる。
【0093】得られる重合体の分子量は、通常、ポリス
チレン若しくはポリエチレンオキシド換算で500〜
5,000,000程度、好ましくは1,000〜50
0,000である。
【0094】疎水性のポリマーラテックスの合成法に関
しては、米国特許第2,852,386号、同2,85
3,457号、同3,411,911号、同3,41
1,912号、同4,197,127号、ベルギー特許
第688,882号、同691,360号、同712,
823号、特公昭45−5331号、特開昭60−18
540号、同51−130217号、同58−1378
31号、同55−50240号等に詳しく記載されてい
る。疎水性ポリマーの平均粒径は0.005〜2.0μ
m程度、好ましくは0.01〜0.8μmである。
【0095】水分散性ポリエステルとスチレン系重合体
を構成要素とする共重合体を用いることができる。この
水分散性ポリエステルとスチレン系重合体を構成要素と
する共重合体または、組成物について説明する。
【0096】水分散性ポリエステルとは、多塩基酸また
はそのエステル形成性誘導体とポリオールまたはそのエ
ステル形成性誘導体との縮重合反応により得られる実質
的に線状のポリマーである。このポリマーの多塩基酸成
分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、
無水フタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、1,
4−シクロヘキサンジカルボン酸、アジピン酸、セバシ
ン酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ダイマー酸な
どを例示することができる。これら成分と共にマレイン
酸、フマール酸、イタコン酸などの不飽和多塩基酸やp
−ヒドロキシ安息香酸、p−(β−ヒドロキシエトキ
シ)安息香酸などのヒドロキシカルボン酸を小割合用い
ることができる。
【0097】また、ポリオール成分としては、エチレン
グリコール、ジエチレングリコール、1,4−ブタンジ
オール、ネオペンチルグリコール、ジプロピレングリコ
ール、1,6−ヘキサンジオール、1,4−シクロヘキ
サンジメタノール、キシリレングリコール、トリメチロ
ールプロパン、ポリ(エチレンオキシド)グリコール、
ポリ(テトラメチレンオキシド)グリコールなどを例示
することができる。
【0098】該水分散性ポリエステルに水分散性及び水
溶性を付与するために、スルホン酸塩、ジエチレングリ
コール、ポリアルキレンエーテルグリコールなどの導入
が有効な手段である。特にスルホン酸塩を有するジカル
ボン酸成分(スルホン酸塩を有するジカルボン酸及び/
又はそのエステル形成性誘導体)を水分散性ポリエステ
ル中の全ジカルボン酸成分に対して5〜15モル%含有
することが好ましい。
【0099】本発明の下引層に用いられるスルホン酸塩
を有するジカルボン酸及び/又はそのエステル形成性誘
導体としてはスルホン酸アルカリ金属塩の基を有するも
のが特に好ましく、例えば4−スルホイソフタル酸、5
−スルホイソフタル酸、スルホテレフタル酸、4−スル
ホフタル酸、4−スルホナフタレン−2,7−ジカルボ
ン酸、5−(4−スルホフェノキシ)イソフタル酸など
のアルカリ金属塩叉はそのエステル形成性誘導体が用い
られるが、5−スルホイソフタル酸ナトリウム塩又はそ
のエステル形成性誘導体が特に好ましい。これらのスル
ホン酸塩を有するジカルボン酸及び/又はそのエステル
形成性誘導体は、水溶性及び耐水性の点から全ジカルボ
ン酸成分に対し6〜10モル%で用いられることが特に
好ましい。
【0100】本発明の下引層に用いるスチレン系重合体
のモノマーとしては、スチレン単独でかまわないし又共
重合する際には、例えばアルキルアクリレート、アルキ
ルメタクリレート(アルキル基としてはメチル基、エチ
ル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル
基、イソブチル基、t−ブチル基、2−エチルヘキシル
基、シクロヘキシル基、フェニル基、ベンジル基、フェ
ニルエチル基等);2−ヒドロキシエチルアクリレー
ト、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロ
キシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルメ
タクリレート等のヒドロキシ含有モノマー;アクリルア
ミド、メタクリルアミド、N−メチルメタクリルアミ
ド、N−メチルアクリルアミド、N−メチロールメタク
リルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N,N−
ジメチロールアクリルアミド、N−メトキシメチルアク
リルアミド等のアミド基含有モノマー;N,N−ジエチ
ルアミノエチルアクリレート、N,N−ジエチルアミノ
メタクリレートのアミノ基含有モノマー;グリシジルア
クリレート、グリシジルメタクリレート等のエポキシ基
含有モノマー;アクリル酸、メタクリル酸及びそれらの
塩(ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩)等の
カルボキシル基またはその塩を含有するモノマー;スチ
レンスルホン酸、ビニルスルホン酸及びそれらの塩(ナ
トリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩)等のスルホ
ン酸基叉はその塩を含有するモノマー;イタコン酸、マ
レイン酸、フマール酸及びそれらの塩(ナトリウム塩、
カリウム塩、アンモニウム塩)等のカルボキシル基また
はその塩を含有するモノマー;無水マレイン酸、無水イ
タコン酸等の酸無水物を含有するモノマー;ビニルイソ
シアネート、アリルイソシアネート、ビニルメチルエー
テル、ビニルエチルエーテル、アクリロニトリル、塩化
ビニル、酢酸ビニル、塩化ビニリデン等が挙げられる。
上述のモノマーは、1種もしくは2種以上を用いて共重
合させることができる。
【0101】水分散性ポリエステルをビニル系重合体に
変性するには、水分散性ポリエステルの末端に付加重合
可能な基を導入してビニル系共重合体のモノマーと共重
合することによりグラフト化する方法、ビニル系共重合
体を重合しモノマーとしてカルボン酸、グリシジル基も
しくはアミノ基等水分散性ポリエステルを縮重合する際
に反応可能基を導入しグラフト化する方法等がある。
【0102】また、重合開始剤には、過硫酸アンモニウ
ム、過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウムなどがあり、好
ましくは過硫酸アンモニウムが使用される。
【0103】更に、重合については、特に界面活性剤を
必要とせず、ソープフリーで反応可能である。しかし、
重合安定性を改良する目的で、系内に界面活性剤を乳化
剤として用いることができ、一般のノニオン・アニオン
いずれの界面活性剤も使用できる。
【0104】上記の水分散性ポリエステルとスチレン系
共重合体の変性する割合は、99/1〜5/95、好ま
しくは97/3〜50/50、更に好ましくは95/5
〜80/20がよい。
【0105】下引第1層中には、塗布性を向上させるた
めに活性剤の添加やメチルセルロース等のセルロース化
合物を含有させることが好ましい。
【0106】下引処理は、前記フィルム製膜後に行って
も構わないが、下引組成物が延伸可能であるならば、製
膜途中である縦延伸の前、縦延伸と横延伸の間、横延伸
後熱処理の前など任意の場所で行うことが可能である。
【0107】延伸ができない場合例えば、親水性基を有
するポリマーを用いるには、親水性高分子間での相互作
用が強く、延伸できないことがあるが、スチーム下で延
伸したり、延伸助剤としてポリグリセリンなどを添加す
ることにより延伸が可能となる。
【0108】親水基を有するモノマーの中で好ましい物
としては、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸
等の不飽和カルボン酸が挙げられる。この含有量として
は、耐水性の点からみて、1〜10重量%が好ましく、
更に好ましくは1〜8重量%、より好ましくは、1〜6
重量%、最も好ましくは、1〜4重量%である。またこ
の共重合体の第4成分として、その他の共重合可能な単
量体を0〜15重量%、好ましくは、0〜10重量%の
範囲で、必要に応じて共重合させる事ができる。この例
としては、メチルスチレン等のアルキル置換スチレン、
クロロスチレン、クロルメチルスチレン等のハロゲン化
スチレン、アクリロニトリル等の不飽和ニトリル化合
物、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、アクリル
酸t−ブチル等の脂肪族、メタクリル酸シクロヘキシル
等の脂環族、アクリル酸ベンジル等の芳香族(メタ)ア
クリル酸エステル化合物、更にはゴム変性化合物であ
る、ブタジエン、イソプレン等を挙げることができる。
【0109】これらの共重合体の製法は、特に制限がな
く、通常は一般公知のラジカル開始剤を用いて、ラジカ
ル重合により得る事ができる。
【0110】これらの単量体からなる共重合体の、GP
C法により測定される標準ポリスチレン換算の重量平均
分子量としては、1500〜700000であることが
好ましく、2000〜500000であることが更に好
ましい。
【0111】下引第2層は、写真乳剤層と良く接着する
親水性樹脂層であることが好ましい。親水性樹脂層を構
成するバインダーとして、ゼラチン、ゼラチン誘導体、
ガゼイン、寒天、アルギン酸ソーダ、でんぷん、ポリビ
ニルアルコール、ポリアクリル酸共重合体、カルボキシ
メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース等の水
溶性ポリマー類、ポリスチレンスルホン酸ソーダ共重合
体と疎水性ラテックスの組み合わせなどが挙げられる
が、ゼラチンが好ましい。
【0112】これら下引2層中には、硬膜剤を用いて膜
強度を高めることが好ましく、このような硬膜剤として
は、例えばホルムアルデヒド、グルタルアルデヒドのよ
うなアルデヒド化合物、米国特許2,732,303
号、同3,288,775号、英国特許974,723
号、同1,167,207号等に記載されている反応性
ハロゲンを有する化合物、ジアセチル、シクロペンタン
ジオンの如きケトン化合物、ビス(2−クロロエチル)
尿素、2−ヒドロキシ−4,6−ジクロロ−1,3,5
−トリアジン、ジビニルスルホン、5−アセチル−1,
3−ジアクリロイルヘキサヒドロ−1,3,5−トリア
ジン、米国特許3,232,763号、同3,635,
718号、英国特許994,809号等に記載の反応性
オレフィンを有する化合物、米国特許3,539,64
4号、同3,642,486号、特公昭49−1356
8号、同53−47271号、同56−48860号、
特開昭53−57257号、同61−128240号、
同62−4275号、同63−53541号、同63−
264572号等に記載のビニルスルホン化合物、N−
ヒドロキシメチルフタルイミド、米国特許2,732,
316号、同2,586,168号等に記載のN−メチ
ロール化合物、米国特許3,103,437号等に記載
のイソシアネート化合物、米国特許2,983,611
号、同3,107,280号等に記載のアジリジン化合
物、米国特許2,725,294号、同2,725,2
95号等に記載の酸誘導体類、米国特許3,100,7
04号等に記載のカルボジイミド系化合物、米国特許
3,091,537号等に記載のエポキシ系化合物、米
国特許3,321,313号、同3,543,292号
等に記載のイソオキサゾール系化合物、ムコクロル酸の
ようなハロゲノカルボキシアルデヒド類、ジヒドロキシ
ジオキサン、ジクロロジオキサン等のジオキサン誘導体
等の有機硬膜剤及びクロムミョウバン、硫酸ジルコニウ
ム、三塩化クロム等の無機硬膜剤である。またゼラチン
に対して硬膜作用が比較的速い硬膜剤としては、特開昭
50−38540号に記載のジヒドロキノリン骨格を有
する化合物、特開昭51−59625号、同62−26
2854号、同62−264044号、同63−184
741号に記載のN−カルバモイルピリジニウム塩類、
特公昭55−38655号に記載のアシルイミダゾール
類、特公昭53−22089号に記載のN−アシルオキ
シイミダゾール類、特公昭53−22089号に記載の
N−アシルオキシイミノ基を分子内に2個以上有する化
合物、特開昭52−93470号に記載のN−スルホニ
ルオキシイミド基を有する化合物、特開昭58−113
929号に記載のリン−ハロゲン結合を有する化合物、
特開昭60−225148号、同61−240236
号、同63−41580号に記載のクロロホルムアミジ
ニウム化合物等が知られている。
【0113】この下引第2層には、滑り剤として2酸化
珪素、2酸化チタン等の無機微粒子や、ポリメタクリル
酸メチル等の有機系マット材(1〜10μm)を含有す
ることが好ましい。
【0114】これ以外にも必要に応じて、各種の添加剤
例えば、帯電防止剤、ハレーション防止剤、着色用染
料、顔料、塗布助剤を含有することができる。
【0115】この中でも帯電防止剤を含有させることが
好ましい。好ましい帯電防止剤としては、非感光性の導
電体および/もしくは半導体微粒子を挙げられる。
【0116】本発明の下引層に用いられる非感光性の導
電体および/もしくは半導体微粒子とは、粒子中に存在
する電荷担体、例えば陽イオン、陰イオン、電子、正孔
等によって導電性を示すもので、有機材料、無機材料あ
るいは両者の複合材料でもよい。好ましくは電子伝導性
を示す化合物であり、有機材料であればポリアニリン、
ポリピロール、ポリアセチレン等の高分子微粒子等を挙
げることができる。無機材料であれば酸素不足酸化物、
金属過剰酸化物、金属不足酸化物、酸素過剰酸化物等の
不定比化合物を形成し易い金属酸化物微粒子等が挙げら
れる。また電荷移動錯体もしくは有機ー無機複合材料で
あればホスファゼン金属錯体等を挙げることができる。
この中で本発明の下引層に最も好ましい化合物は製造方
法などが多様な方式をとることが可能な金属酸化物微粒
子である。また、本発明の下引層に中における導電体は
体積固有抵抗が103Ω・cm以下のものを、半導体に
ついては1012Ω・cm以下のものをそれぞれ導電体、
半導体として定義する。
【0117】以下に好ましい導電性微粒子の作成方法を
例示する。
【0118】(半導体微粒子溶液の調製)塩化第二スズ
水和物65gを水/エタノール混合溶液2000ccに
溶解し、均一溶液を得た。次いでこれを煮沸し共沈澱物
を得た。生成した沈澱物をデカンテーションにより取り
出し、蒸留水にて沈澱を何度も水洗する。沈澱を洗浄し
た蒸留水中に硝酸銀を滴下し塩素イオンの反応がないこ
とを確認後、蒸留水1000cc添加し全量を2000
ccとする。さらに30%アンモニア水を40cc加
え、水浴中で加温し、コロイド状ゲル分散液を得た。こ
のコロイド状ゲル分散液を分散液A−1とする。
【0119】(半導体微粒子粉末の調製)塩化第二スズ
水和物65gと三塩化アンチモン1.5gをエタノール
1000gに溶解し均一溶液を得た。この溶液に1N−
水酸化ナトリウム水溶液を前記溶液のpHが3になるま
で滴下してコロイド状酸化第二スズと酸化アンチモンの
共沈殿を得た。得られた共沈澱を50℃に24時間放置
し赤褐色のコロイド状沈澱を得た。
【0120】赤褐色のコロイド状沈澱を遠心分離により
分離した。過剰なイオンを除くため沈澱に水を加え遠心
分離によって水洗した。この操作を3回繰り返し過剰イ
オンを除去した。
【0121】過剰イオンを除去したコロイド状沈澱10
0gを平均粒径0.3μmの硫酸バリウム50gおよび
水1000gに混合し900℃に加熱された焼成炉中に
噴霧し青みがかった平均粒径0.1μmの酸化第二スズ
と硫酸バリウムからなる粉末混合物A−2を得た。
【0122】下引層組成物の塗布液濃度は、通常20重
量%以下であり、好ましくは15重量%以下である。塗
布量は、フィルム1m2あたり塗布液重量で1〜30g
さらには5〜20gであることが好ましい。
【0123】塗布方法としては、公知の種々の方法が適
用できる。例えば、ロールコート法、グラビアロールコ
ート法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、バ
ーコート法、含浸法及びカーテンコート法等を単独もし
くは組み合わせて適用することができる。
【0124】本発明の感光材料は、レントゲン撮影用、
印刷製版用、一般撮影用、直接鑑賞用等の各種の用途に
用いることができる。
【0125】次に本発明の目的を達成する遷移金属配位
錯体の好ましい具体例を挙げる。
【0126】本発明の遷移金属配位錯体の好ましいもの
としては下記一般式で表される六配位錯体である。
【0127】〔M(NY)L5m 式中、Mは元素の周期律表の5〜8族の元素から選ばれ
る遷移金属であり、Lは架橋配位子であり1つ(NY)
で置換していても良い。Yは酸素又は硫黄である。m=
0、−1、−2、−3である。ニトロシル及びチオニト
ロシル架橋配位子以外のLの好ましい具体例としては、
ハロゲン化物配位子(フッ化物、塩化物、臭化物及びヨ
ウ化物)、シアン化物配位子、シアネート配位子、チオ
シアネート配位子、セレノシアネート配位子、テルロシ
アネート配位子、アシド配位子及びアコ配位子が挙げら
れる。アコ配位子が存在する場合には、配位子の1つ又
は2つを占めることが好ましい。Mの特に好ましい具体
例はロジウム、ルテニウム、レニウム、オスミウム、イ
リジウムである。
【0128】以下に遷移金属配位錯体の具体例を示す。
【0129】 3−1 〔Ru(NO)Cl5-2 3−2 〔Ru(NO)2Cl4-1 3−3 〔Ru(NO)(H2O)Cl4-1 3−4 〔Rh(NO)Cl5-2 3−5 〔Re(NO)Cl5-2 3−6 〔Re(NO)CN5-2 3−7 〔Re(NO)ClCN4-2 3−8 〔Rh(NO)2Cl4-1 3−9 〔Rh(NO)(H2O)Cl4-1 3−10 〔Ru(NO)CN5-2 3−11 〔Ru(NO)Br5-2 3−12 〔Rh(NS)Cl5-2 3−13 〔Os(NO)Cl5-2 3−14 〔Cr(NO)Cl5-3 3−15 〔Re(NO)Cl5-1 3−16 〔Os(NS)Cl4(TeCN)〕-2 3−17 〔Ru(NS)I5-2 3−18 〔Re(NS)Cl4(SeCN)〕-2 3−19 〔Os(NS)Cl(SCN)4-2 3−20 〔Ir(NO)Cl5-2 また上記の金属錯体を含有するハロゲン化銀には特に制
限はなく、塩化銀、臭化銀、塩臭化銀、沃塩化銀、塩沃
臭化銀いずれでもよく、また平板状、球状、立方体状、
14面体状、正八面体状その他いずれの形状でもよい。
好ましくは粒子サイズ分布が狭く、特に平均粒子サイズ
の±40%の粒子サイズ域内に全粒子数の90%、望ま
しくは95%が入るような、いわゆる単分散乳剤が好ま
しい。また塩化銀、50モル%以上の塩化銀を含む塩臭
化銀又は50モル%以上の塩化銀を含む塩沃臭化銀が好
ましく,より好ましくは本発明で用いた(100)平板
状ハロゲン化銀粒子である。ハロゲン化銀の平均粒子サ
イズは0.7μm以下であることが好ましく、特に0.
5〜0.1μmが好ましい。平均粒径とは、写真科学の
分野の専門家には常用されており、容易に理解される用
語である。粒径とは、粒子が球状又は球に近似できる粒
子の場合には粒子直径を意味する。粒子が立方体である
場合には球に換算し、その球の直径を粒径とする。
【0130】平均粒径を求める方法の詳細については、
ミース,ジェームス:ザ・セオリー・オブ・ザ・フォト
グラフィックプロセス(C.E.Mees&T.H.J
ames著:The theory of the p
hotographic process),第3版,
36〜43頁(1966年(マクミラン「Mcmill
an」社刊))を参照すればよい。
【0131】本発明においては下記に記載された化合物
をハロゲン化銀写真感光材料中に含有させることが好ま
しい。
【0132】(1)染料の固体分散微粒子体 特開平7−5629号公報(3)頁〜(16)頁 (2)酸基を有する化合物 特開昭62−237445号公報292(8)頁左下欄
11行目〜309(25)頁右下欄3行目 (3)酸性ポリマー 特開平6−186659号公報(10)頁〜(17)頁 (4)増感色素 特開平5−224330号公報(3)頁〜(13)頁 特開平6−194771号公報(11)頁〜(22)頁 特開平6−242533号公報(2)頁〜(8)頁 特開平6−337492号公報(3)頁〜(34)頁 特開平6−337494号公報(4)頁〜(14)頁 (5)強色増感剤 特開平6−347938号公報(3)頁〜(16)頁 前述の添加剤及びその他の公知の添加剤については、例
えばリサーチ・ディスクロージャー(RD)No.17
643(1978年12月)、同No.18716(1
979年11月)及び同No.308119(1989
年12月)に記載された化合物が挙げられる。これら三
つの(RD)に記載されている化合物種類と記載箇所を
以下に掲載した。
【0133】 添加剤 RD−17643 RD−18716 RD−308119 頁 分類 頁 分類 頁 分類 化学増感剤 23 III 648右上 996 III 増感色素 23 IV 648〜649 996〜8 IVA 減感色素 23 IV 998 lVB 染料 25〜26 VIII 649〜650 1003 VIII 現像促進剤 29 XXI 648右上 カブリ抑制剤・安定剤 24 IV 649右上 1006〜7 VI 増白剤 24 V 998 V 硬膜剤 26 X 651左 1004〜5 X 界面活性剤 26〜7 XI 650右 1005〜6 XI 帯電防止剤 27 XII 650右 1006〜7 XIII 可塑剤 27 XII 650右 1006 XII スベリ剤 27 XII マット剤 28 XVI 650右 1008〜9 XVI バインダー 26 XXII 1003〜4 IX 支持体 28 XVII
1009 XVII 本発明において用いることのできる現像主薬としては、
ジヒドロキシベンゼン類(例えばハイドロキノン、クロ
ルハイドロキノン、ブロムハイドロキノン、2,3−ジ
クロロハイドロキノン、メチルハイドロキノン、イソプ
ロピルハイドロキノン、2,5−ジメチルハイドロキノ
ン等)、3−ピラゾリドン類(例えば1−フェニル−3
−ピラゾリドン、1−フェニル−4−メチル−3−ピラ
ゾリドン、1−フェニル−4,4−ジメチル−3−ピラ
ゾリドン、1−フェニル−4−エチル−3−ピラゾリド
ン、1−フェニル−5−メチル−3−ピラゾリドン
等)、アミノフェノール類(例えばo−アミノフェノー
ル、p−アミノフェノール、N−メチル−o−アミノフ
ェノール、N−メチル−p−アミノフェノール、2,4
−ジアミノフェノール等)、ピロガロール、アスコルビ
ン酸、1−アリール−3−ピラゾリン類(例えば1−
(p−ヒドロキシフェニル)−3−アミノピラゾリン、
1−(p−メチルアミノフェニル)−3−アミノピラゾ
リン、1−(p−アミノフェニル)−3−アミノピラゾ
リン、1−(p−アミノ−N−メチルフェニル)−3−
アミノピラゾリン等)、遷移金属錯塩類(Ti、V、C
r、Mn、Fe、Co、Ni、Cu等の遷移金属の錯塩
であり、これらは現像液として用いるために還元力を有
する形であれば良く、例えばTi3+、V2+、Cr2+、F
2+等の錯塩の形をとり、配位子としては、エチレンジ
アミン四酢酸(EDTA)、ジエチレントリアミン五酢
酸(DTPA)等のアミノポリカルボン酸およびその
塩、ヘキサメタポリリン酸、テトラポリリン酸等のリン
酸類およびその塩などが挙げられる。)などを、単独も
しくは組み合わせて使用することができるが、3−ピラ
ゾリドン類とジヒドロキシベンゼン類との組合せ、又は
アミノフェノール類とジヒドロキシベンゼン類との組合
せ或いは3−ピラゾリドン類とアスコルビン酸との組合
せ、アミノフェノール類とアスコルビン酸との組合せ、
3−ピラゾリドン類と遷移金属錯塩類との組合せ、アミ
ノフェノール類と遷移金属錯塩類との組合せで使用する
ことが好ましい。また現像主薬は、通常0.01〜1.
4モル/リットルの量で用いられるのが好ましい。
【0134】また、現像廃液は通電して再生することが
できる。具体的には、現像廃液に陰極(例えばステンレ
スウール等の電気伝導体または半導体)を、電解質溶液
に陽極(例えば炭素、金、白金、チタン等の溶解しない
電気伝導体)を入れ、陰イオン交換膜を介して現像廃液
槽と電解質溶液槽が接するようにし、両極に通電して再
生する。通電しながら本発明に係る感光材料を処理する
こともできる。その際、現像液に添加される各種の添加
剤、例えば現像液に添加することができる保恒剤、アル
カリ剤、pH緩衝剤、増感剤、カブリ防止剤、銀スラッ
ジ防止剤等を追加添加することが出来る。また、現像液
に通電しながら感光材料を処理する方法があり、その際
に上記のような現像液に添加できる添加剤を追加添加で
きる。現像廃液を再生して利用するする場合には、用い
られる現像液の現像主薬としては、遷移金属錯塩類が好
ましい。
【0135】本発明において保恒剤として用いる亜硫酸
塩、メタ重亜硫酸塩としては、亜硫酸ナトリウム、亜硫
酸カリウム、亜硫酸アンモニウム、メタ重亜硫酸ナトリ
ウムなどがある。亜硫酸塩は0.25モル/リットル以
上が好ましい。特に好ましくは0.4モル/リットル以
上である。
【0136】現像液には、その他必要によりアルカリ剤
(水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等)、pH緩衝剤
(例えば炭酸塩、燐酸塩、硼酸塩、硼酸、酢酸、枸櫞
酸、アルカノールアミン等)、溶解助剤(例えばポリエ
チレングリコール類、それらのエステル、アルカノール
アミン等)、増感剤(例えばポリオキシエチレン類を含
む非イオン界面活性剤、四級アンモニウム化合物等)、
界面活性剤、消泡剤、カブリ防止剤(例えば臭化カリウ
ム、臭化ナトリウムの如きハロゲン化物、ニトロベンズ
インダゾール、ニトロベンズイミダゾール、ベンゾトリ
アゾール、ベンゾチアゾール、テトラゾール類、チアゾ
ール類等)、キレート化剤(例えばエチレンジアミン四
酢酸又はそのアルカリ金属塩、ニトリロ三酢酸塩、ポリ
燐酸塩等)、現像促進剤(例えば米国特許2,304,
025号、特公昭47−45541号に記載の化合物
等)、硬膜剤(例えばグルタルアルデヒド又は、その重
亜硫酸塩付加物等)、或いは消泡剤などを添加すること
ができる。全処理時間(Dryto Dry)を60秒
以下にするには、現像液のpHは8.5〜10.5に調
整されることが好ましい。
【0137】定着液としては一般に用いられる組成のも
のを用いることができる。定着液は一般に定着剤とその
他から成る水溶液であり、pHは通常3.8〜5.8で
ある。定着剤としては、チオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸
カリウム、チオ硫酸アンモニウム等のチオ硫酸塩、チオ
シアン酸ナトリウム、チオシアン酸カリウム、チオシア
ン酸アンモニウム等のチオシアン酸塩の他、可溶性安定
銀錯塩を生成し得る有機硫黄化合物で定着剤として知ら
れているものを用いることができる。
【0138】定着液には、硬膜剤として作用する水溶性
アルミニウム塩、例えば塩化アルミニウム、硫酸アルミ
ニウム、カリ明礬などを加えることができる。
【0139】定着液には、所望により、保恒剤(例えば
亜硫酸塩、重亜硫酸塩)、pH緩衡剤(例えば酢酸)、
pH調整剤(例えば硫酸)、硬水軟化能のあるキレート
剤等の化合物を含むことができる。
【0140】現像液は、固定成分の混合物でも、グリコ
ールやアミンを含む有機性水溶液でも、粘度の高い半練
り状態の粘稠液体でもよい。又、使用時に希釈して用い
てもよいし、あるいはそのまま用いてもよい。
【0141】本発明で用いられる現像処理に際しては、
現像温度を20〜30℃の通常の温度範囲に設定するこ
ともできるし、30〜40℃の高温処理の範囲に設定す
ることもできる。
【0142】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明す
るが、本発明の態様はこれに限定されない。
【0143】実施例1 《支持体の作製》 SPSの合成 スチレンを倍量のトルエンに溶解し、触媒としてトリイ
ソブチルアルミニウム及びペンタメチルシクロペンタジ
エニルチタントリメトキサイドを用い、96℃で8時間
反応を行い、水酸化ナトリウムのメタノール溶液で触媒
を分解除去した後、メタノールで3回洗浄してシンジオ
タクチックポリスチレン(SPS)を得た。
【0144】得られたSPSを330℃でTダイから冷
却ドラム上にフィルム状に溶融押出し、急冷固化して厚
さ1370μ及び1054μの未延伸フィルムを得た。
フィルムの厚さは冷却ドラムの引き取り速度を変化させ
て調整した。これらを135℃で余熱し、縦延伸(3.
1倍)した後、130℃で横延伸(3.4倍)し、更に
250℃で熱固定を行って、曲げ弾性率450kg/m
2の130μ及び100μの2軸延伸フィルムを得
た。
【0145】得られたSPSフィルムの両面に0.5K
V・A・min/m2のコロナ放電処理を施し、下記ラ
テックスの下引液(固形分20重量%)を乾燥膜厚0.
5μとなるように塗布して120℃で1分間乾燥した。
【0146】上記SPS支持体上にコロナ放電を施した
後に、スチレン−グリシジルアクリレート及びゼラチン
のからなる0.3μの接着層を作成した。
【0147】(ハロゲン化銀乳剤Aの調製(比較乳
剤))同時混合法を用いて塩化銀95モル%、残りは臭
化銀からなる塩臭化銀を調製した。混合時にNa3Rh
Cl6を銀1モル当たり2×10-7モルを添加した。得
られた乳剤は平均粒径0.20μmの単分散(変動係数
10%)の塩臭化銀であった。ついで特開平2−280
139号に記載の変性ゼラチン(ゼラチン中のアミノ基
をフェノールカルバミル置換したもので例えば特開平2
−280139号287(3)項の例示化合物G−8)
を使い脱塩した。
【0148】得られた乳剤に4−ヒドロキシ−6−メチ
ル−1,3,3a7−テトラザインデンを銀1モルあた
り1×10-3モル添加し更に臭化カリウム及びクエン酸
を添加してpH5.6、EAg123mvに調整して、
p−トルエンチオスルホン酸ナトリウム1×10-3モル
を添加後銀1モル当たり5mgの塩化金酸と0.5mg
の硫黄華を添加して温度60℃で最高感度がでるまで化
学熟成を行った。熟成終了後4−ヒドロキシ−6−メチ
ル−1,3,3a7−テトラザインデンを銀1モルあた
り2×10-3モル、1−フェニル−5−メルカプトテト
ラゾールを3×10-4モル及びゼラチンを添加し、沃化
カリウムを添加を300mg/Ag1mol添加した
(但し全ての乳剤にNa3RhCl6添加)。
【0149】(ハロゲン化銀乳剤Bの調製(比較乳
剤))同時混合法を用いて塩化銀95モル%、残りは臭
化銀からなる塩臭化銀を調製した。混合時にNa3Rh
Cl6を銀1モル当たり2×10-7モルを添加した。得
られた乳剤は平均粒径0.20μmの単分散(変動係数
10%)の塩臭化銀であった。ついで特開平2−280
139号に記載の変性ゼラチン(ゼラチン中のアミノ基
をフェノールカルバミル置換したもので例えば特開平2
−280139号、p287(3)の例示化合物Gー
8)を使い脱塩した。
【0150】得られた乳剤に4−ヒドロキシ−6−メチ
ル−1,3,3a,7−テトラザインデンを銀1モルあ
たり1×10-3モル添加し更に臭化カリウム及びクエン
酸を添加してpH5.6、EAg123mvに調整し
て、p−トルエンチオスルホン酸ナトリウム1×10-3
モルを添加後、銀1モル当たり5mgの塩化金酸と0.
5mgの硫黄華を添加して温度60℃で最高感度がでる
まで化学熟成を行った。熟成終了後4−ヒドロキシ−6
−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデンを銀1
モルあたり2×10-3モル、1−フェニル−5−メルカ
プトテトラゾールを3×10-4モル及びゼラチンを添加
し、沃化カリウムを添加を300mg/Ag1mol添
加した。
【0151】 (ハロゲン化銀乳剤Cの調製) A1 オセインゼラチン 24.2g 水 9657ml ポリプロピレンオキシ−ポリエチレンオキシ−ジサクシネート −ナトリウム塩(10%エタノール水溶液) 6.78ml 臭化カリウム 10.8g 10%硝酸 114ml B1 2.5N硝酸銀水溶液 2825ml C1 臭化カリウム 841g 水で 2825ml D1 1.75N臭化カリウム水溶液 下記銀電位制御量 42℃で特公昭58−58288号、同58−5828
9号に示される混合撹拌機を用いて溶液A1に溶液B1
及び溶液C1の各々464.3mlを同時混合法によ
り、1.5分を要して添加し、核形成を行った。
【0152】溶液B1及び溶液C1の添加を停止した
後、60分の時間を要して溶液A1の温度を50℃に上
昇させ、3%KOHでpHを5.0に合わせた後、再び
溶液B1と溶液C1を同時混合法により、各々55.4
ml/minの流量で30分間添加した。この42℃か
ら50℃への昇温及び溶液B1、C1による再同時混合
の間の銀電位(飽和銀−塩化銀電極を比較電極として銀
イオン選択電極で測定)を溶液D1を用いてそれぞれ+
8mv及び+16mvになるように制御した。
【0153】添加終了後3%KOHによってpHを6に
合わせ、直ちに脱塩、水洗を行った。得られたハロゲン
化銀乳剤を電子顕微鏡で観察したところ、全投影面積の
90%以上が最大隣接辺比が1.1〜2.0の6角平板
状粒子よりなり、6角平板状粒子の平均粒径(円直径換
算)は0.30μm、平均厚さは0.050μm、平均
アスペクト比9.3、粒径分布の広さ18.1%の平板
状ハロゲン化銀粒子であった。
【0154】〔Em−Cの調製〕以下に示す5種の溶液
を用い、平板状沃塩化銀乳剤Em−Cを調製した。
【0155】 A2 低メチオニンゼラチン 35.53g 塩化ナトリウム 1.306g 沃化カリウム 49.87g 水で 2030mlに仕上げ B2 塩化ナトリウム 1.737g 沃化カリウム 49.80g 水で 30mlに仕上げ C2 硝酸銀 5.096g 水で 30mlに仕上げ D2 塩化ナトリウム 46.80g 水で 800mlに仕上げ E2 硝酸銀 135.90g 水で 800mlに仕上げ 反応容器内で溶液A2を40℃に保ちながら、激しく撹
拌し、そこに溶液B2と溶液C2の全量を毎分30ml
の流量で1分かけて同時混合法により、添加し、核た。
この間、pClは1.95に終始保った。得られた核粒
子は沃度を2モル%含んでいた。
【0156】次に、この混合溶液を35℃に10分間保
った後、溶液D2と溶液E2の全量を毎分4mlの流量
で20分かけて同時混合法で添加した。この間pClは
1.95に終始保った。
【0157】添加終了後、直ちに脱塩、水洗を行った。
引き続きEm−Aと同様にしてこの乳剤に熟成を施し
た。得られたハロゲン化銀乳剤を電子顕微鏡で観察した
ところ、全投影面積の50%以上が最大隣接辺比が10
未満の直角平行四辺形平板状粒子よりなり、直角平行四
辺形平板状粒子の平均粒径(円直径換算)は0.28μ
m、平均厚さは0.030μm、平均アスペクト比2
4、粒径分布の広さ17.9%の平板状ハロゲン化銀粒
子であった。
【0158】〔Em−Dの調製〕上記Em−Cに用いた
5種の溶液A2、B2、C2、D2、E2を用い、下記
により平板状沃塩化銀乳剤Em−Dを調製した。
【0159】反応容器内で溶液A2を40℃に保ちなが
ら、激しく撹拌し、そこに溶液B2と溶液C2の全量を
毎分30mlの流量で1分かけて同時混合法により、添
加した。この間、pClは1.95に終始保った。得ら
れた核粒子は沃度を2モル%含んでいた。
【0160】次に、この混合溶液を32℃に10分間保
った後、溶液D2と溶液E2の全量を毎分4mlの流量
で20分かけて同時混合法で添加した。この間pClは
1.95に終始保った。
【0161】添加終了後、直ちに脱塩、水洗を行った。
引き続きEm−Aと同様にしてこの乳剤に熟成を施し
た。得られたハロゲン化銀乳剤を電子顕微鏡で観察した
ところ、全投影面積の50%以上が最大隣接辺比が10
未満の直角平行四辺形平板状粒子よりなり、直角平行四
辺形平板状粒子の平均粒径(円直径換算)は0.26μ
m、平均厚さは0.029μm、平均アスペクト比2
4、粒径分布の広さ17.8%の平板状ハロゲン化銀粒
子であった。
【0162】(印刷製版スキャナー用感光材料材料の調
製)支持体上に、下記の処方1のゼラチン下塗層をゼラ
チン量が0.5g/m2になるように、その上に処方2
のハロゲン化銀乳剤層1を銀量1.5g/m2ゼラチン
量が1.0g/m2なるように、さらにその上層に中間
保護層として下記処方3の塗布液をゼラチン量が0.3
g/m2になるように、さらにその上層に処方4のハロ
ゲン化銀乳剤層2を銀量1.5g/m2、ゼラチン量が
1.0g/m2になるように、さらに下記処方5の塗布
液をゼラチン量が0.6g/m2になるよう同時重層塗
布した。また反対側の下塗層上には下記処方6のバッキ
ング層をゼラチン量が0.6g/m2になるように、下
記処方6のバッキング保護層をゼラチン量が0.4g/
2になるように乳剤層側とカーテン塗布方式で200
m/minの速さで同時重層塗布することで試料を得
た。
【0163】(ハロゲン化銀乳剤Dの調製)Em−Dに
遷移金属配位錯体3−8を銀1mol当たり3×10-4
mol添加しハロゲン化銀乳剤Dを得た。
【0164】(ハロゲン化銀写真感光材料の調製)両面
に厚さ0.1μmの下塗層(特開昭59−19941号
の実施例1参照)を施した表1の支持体の一方の下塗層
上に、下塗層に近い順で下記処方(1)〜(5)を同時
塗布した。また反対側のもう一方の下塗層上には下記処
方(6)に従ってバッキング層をゼラチン量が3.1g
/m2になる様に塗設し、さらにその上に下記処方
(6)の保護層をゼラチン量が1g/m2になる様に塗
設して試料を得た。
【0165】 処方(1)AHU層組成 ゼラチン 0.3g/m2 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 50mg/m2 処方(2)乳剤層組成 ゼラチン 1.7g/m2 ハロゲン化銀乳剤(表1) 銀量3.3g/m2 増感色素:S−D 8mg/m2 カブリ防止剤:4−メルカプト安息香酸 2mg/m2 硬調化剤:H−23 3×10-5モル/m2 造核促進剤:Na−1 1×10-4モル/m2 ポリマーラテックス1 0.7g/m2 コロイダルシリカ 0.5g/m2 化合物K 45mg/m2 水溶性ポリマーV−1 20mg/m2 界面活性剤:サポニン 0.1g/m2 界面活性剤:スルホコハク酸ナトリウムイソペンチルノルマルデシルエステル 8mg/m2 処方(3)中間層組成 ゼラチン 0.3g/m2 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 50mg/m2 ポリマーラテックス2 0.3g/m2 処方(4)乳剤保護層組成 ゼラチン 0.2g/m2 ポリマーラテックス2 0.1g/m2 マット剤:平均粒径3.5μmのシリカ 20mg/m2 界面活性剤:スルホコハク酸ナトリウムジ(2−エチルヘキシル)エステル 10mg/m2 界面活性剤F−2 2mg/m2 促進剤:ハイドロキノン 50mg/m2 促進剤:1−フェニル−4−ヒドロキシメチル−4′−メチル −3−ピラゾリドン 5mg/m2 硬膜剤:K−3 300mg/m2 処方(5)バッキング層組成 ゼラチン 3.1g/m2 界面活性剤:ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 50mg/m2 コロイダルシリカ 0.5g/m2 処方(6)バッキング保護層組成 ゼラチン 1g/m2 マット剤:平均粒径4.0μmのポリメチルメタクリレート 50mg/m2 界面活性剤:スルホコハク酸ナトリウム 界面活性剤:ジ(2−エチルヘキシル)エステル 10mg/m2 硬膜剤:グリオキザール 25mg/m2 2−ヒドロキシ−4,6−ジクロロ−1,3,5−トリアジン 35mg/m
【0166】
【化1】
【0167】
【化2】
【0168】 (現像液処方) 純水(イオン交換水) 800ml 炭酸カリウム 55g ハイドロキノン 15g ジメゾンS 1.0g DTPA・5Na 1.45g 臭化カリウム 5g 5−メチルベンゾトリアゾール 0.2g 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 0.03g 亜硫酸ナトリウム 40g ジエチレングリコール 40g 水酸化カリウムでpH調整 pH9.8 最後に、純水で1lに仕上げた。
【0169】 (定着液処方) チオ硫酸アンモニウム (59.5%w/v水溶液) 830ml エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩 515mg 亜硫酸ナトリウム 63g 硼酸 22.5g 酢酸(90%w/v水溶液) 82g クエン酸(50%w/v水溶液) 15.7g グルコン酸(50%w/w水溶液) 8.55g 硫酸アルミニウム(48%水溶液) 13ml グルタルアルデヒド 3g 硫酸 使用時のpHを4.6にする量 使用時に水を加えて1リットルに仕上げた。
【0170】上記の処理に際しては、 現像;35℃、30秒、補充量100ml/m 定着;33℃、10秒、補充量40ml/m2 水洗;常温、10秒 スクイズ;2秒 乾燥;40℃、8秒 全処理時間60秒で行った。
【0171】(評価方法) (感度及びガンマ)得られた試料をステップウェジに密
着し、3200°Kのタングステン光で3秒間露光し現
像定着処理を行い光学濃度計コニカ(株)製PDA−6
5を用いて感度を求めた。なお感度はカブリ濃度+3.
0透過濃度を与える露光量の逆数で、試料No.1−1
の感度を100としてそれぞれの条件における相対値で
求めた。またガンマは透過濃度1〜3における特性曲線
の傾きから求めた。
【0172】(黒ポツ)現像処理した試料の未露光部を
40倍に拡大して2mm×2mmの範囲に見られる黒ポ
ツの個数で表した。10個以下が実用上問題なく、それ
以上は実用上問題となるレベルである。
【0173】(感度経時変化)遮光下にて、同じ試料を
2つ用意し、一方を冷凍保存、もう一方を23℃、湿度
55%下で60日間保存した後、上記と同じ方法で露光
し、冷凍保存の試料の感度を100としたときの23℃
保存の試料の感度を求めた。つまり、この値が100に
近いほど感材の経時安定性が高いとみなすことができ
る。
【0174】(網点再現性)ヘリウムネオンレーザー光
(波長633nm)を搭載したスキャナーSG−737
(大日本スクリーン製造(株)社製)を用いて、700
線/インチの線数で小点(5%の網点)、中点(50%
の網点)、ベタ(100%の網点)を出力するように設
定し、光量を変化させながら露光して、上記組成の現像
液及び定着液を用いて迅速処理用自動現像機(GR−2
6SR コニカ(株)製)にて下記条件で処理した。得
られた現像済みの試料についてX−Rite361Tで
網%を測定した。また網点の点質を評価した。
【0175】(小点の網%の評価方法)ベタ濃度が5.
0を与える露光量における小点(目標5%)のでき上が
りの網%、5%に近いほど良い。
【0176】(中点の網%の評価方法)ベタ濃度が5.
0を与える露光量における中点(目標50%)のでき上
がりの網%、50%に近いほど良い。
【0177】評価結果を表1に示す。
【0178】
【表1】
【0179】表1から、本発明の試料は比較に比べ感度
の経時変化が小さく、かつ小点、中点の品質に優れた高
品質な感材であることがわかる。
【0180】実施例2 (ハロゲン化銀乳剤の調製)実施例1の乳剤A〜D中の
Na3RhCl6の代わりに、表2に示す遷移金属配位錯
体を銀1mol当たり3×10-4mol添加した。
【0181】それ以外は実施例1と同様である。
【0182】評価結果を表2に示す。
【0183】
【表2】
【0184】表2から、本発明の試料は比較に比べ感度
の経時変化が小さく、かつ小点、中点の品質に優れた高
品質な感材であることがわかる。
【0185】
【発明の効果】本発明によるハロゲン化銀写真感光材料
は、保存安定性が高く、且つ網点再現性の優れた高品位
な画像再現性をもたらすことができる。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 支持体上にハロゲン化銀乳剤層を有する
    ハロゲン化銀写真感光材料において、該ハロゲン化銀乳
    剤層が(100)面を主平面として有する塩化銀含有率
    50モル%以上100モル%以下の平板状ハロゲン化銀
    粒子を含有し、かつ該支持体がシンジオタクチックポリ
    スチレンを含有することを特徴とするハロゲン化銀写真
    感光材料。
  2. 【請求項2】 支持体上にハロゲン化銀乳剤層を有する
    ハロゲン化銀写真感光材料において、該ハロゲン化銀乳
    剤層がニトロシル又はチオニトロシル配位子を有する周
    期律表の第5〜8族の元素から選ばれる少なくとも1種
    の遷移金属を含有し、かつ該支持体がシンジオタクチッ
    クポリスチレンを含有することを特徴とするハロゲン化
    銀写真感光材料。
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