JPH10186644A - 蛍光体パターンの製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 高精度で均一であり、対称性に優れた形状の
蛍光体パターンの製造法を提供する。 【解決手段】 （Ｉ）プラズマディスプレイパネル用基
板の放電空間内の基板底面及びリブ壁面にポジ型感光性
樹脂層を形成する工程、（ＩＩ）活性光線を像的に照射
する工程、（ＩＩＩ）現像によりポジ型感光性樹脂層の
照射部を除去する工程、（ＩＶ）除去されたプラズマデ
ィスプレイパネル用基板上に、蛍光体を含有するネガ型
感光性樹脂組成物層と熱可塑性樹脂層とを加熱圧着する
工程、（Ｖ）活性光線を（ＩＩ）の工程と同一のパター
ンで像的に照射する工程、（ＶＩ）現象により（ＩＶ）
の工程で加熱圧着された層の不要部を除去する工程、
（ＶＩＩ）上記の工程を繰り返して、赤、緑及び青に発
色する蛍光体を含有する多色パターンを形成する工程及
び（ＶＩＩＩ）焼成により不要分を除去する工程からな
る蛍光体パターンの製造法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、蛍光体パターンの
製造法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、平板ディスプレイの１つとし
て、プラズマ放電により発光する蛍光体を設けることに
よって多色表示を可能にしたプラズマディスプレイパネ
ル（以下ＰＤＰと記す）が知られている。

【０００３】ＰＤＰは、ガラスからなる平板状の前面板
と背面板とが互いに平行にかつ対向して配設され、両者
はその間に設けられたバリアリブにより一定の間隔に保
持されており、前面板、背面板及びバリアリブに囲まれ
た空間で放電する構造になっている。

【０００４】このような空間には、表示のための蛍光体
が塗布され、放電によって封入ガスから発生する紫外線
によって蛍光体が発光させられ、この光を観察者が視認
できるようになっている。

【０００５】従来、この蛍光体を設ける方法としては、
各色蛍光体を分散させたスラリー液若しくはペーストを
スクリーン印刷等の印刷方法によって、塗布する方法が
提案されており、特開平１−１１５０２７号公報、特開
平１−１２４９２９号公報、特開平１−１２４９３０号
公報、特開平２−１５５１４２号公報等に開示されてい
る。

【０００６】しかし、上記の蛍光体分散スラリー液は液
状であるため、蛍光体の沈殿等による分散不良が生じや
すく、またスラリー液に液状の感光性レジストを用いた
場合には、暗反応の促進等により保存安定性が乏しくな
る等の欠点を有する。さらにスクリーン印刷等の印刷方
法は印刷精度に劣るため、将来的なＰＤＰの大画面化へ
の対応は困難である等の問題がある。

【０００７】これらの問題点の解決には、蛍光体を含有
させた感光性エレメント（感光性フィルムともいう）を
用いる方法が提案されている（特開平６−２７３９２５
号公報）。

【０００８】感光性エレメントを用いる方法とは、蛍光
体を含有する感光性樹脂層と支持体フィルムよりなる感
光性エレメントの蛍光体を含有する感光性樹脂層を、加
熱圧着（ラミネート）により前記ＰＤＰ用基板の空間に
埋め込み、次に、ネガフィルムを用いて、写真法により
紫外線等の活性光で像的に露光し、その後、アルカリ水
溶液等の現像液で、未露光部分を除去し、さらに、焼成
により不必要な有機成分を取り除いて、必要な部分のみ
に蛍光体パターンを形成するものである。

【０００９】従って、前記ＰＤＰ用基板の空間に蛍光体
パターンを形成する際には、蛍光体の分散性を確認する
必要はなく、また、蛍光体分散スラリー液若しくはペー
ストに比べて保存安定性にも優れている。さらに、写真
法を用いるため、精度良く蛍光体パターンを形成するこ
とができる。

【００１０】しかし、従来の方法により感光性エレメン
トを使用して発光体を含有する感光性樹脂層を、ラミネ
ートにより前記ＰＤＰ用基板の空間（セル内）に埋め込
むと、バリアリブ壁面及び空間底面上に蛍光体パターン
を均一な層厚、形状で形成することが困難であった。

【００１１】また、従来の方法により感光性エレメント
を使用して蛍光体を含有する感光性樹脂層を、ラミネー
トにより前記ＰＤＰ用基板の空間（セル内）に埋め込む
方法を３回繰り返して、赤、緑及び青に発色する蛍光体
を含有する感光性樹脂からなるパターンを形成する場
合、２回目に蛍光体を含有する感光性樹脂からなるパタ
ーンを形成する空間は、一部が１回目の蛍光体を含有す
る感光性樹脂で埋め込まれた空間と、まだ何も埋め込ま
れていない空間とに囲まれることになり、２回目に形成
される蛍光体を含有する感光性樹脂層の層厚や形状の均
一性をさらに悪化させる傾向があった。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、ＰＤ
Ｐ用基板の空間への埋め込み性（ＰＤＰ用基板のバリア
リブ壁面及び基板底面上における蛍光体を含有するネガ
型感光性樹脂組成物層の形成性）が優れ、高精度で均一
であり、対称性に優れた形状の蛍光体パターンを形成で
きる蛍光体パターンの製造法を提供することにある。

【００１３】本発明の他の目的は、さらに作業性に優れ
た蛍光体パターンの製造法を提供することにある。

【００１４】

【課題を解決するための手段】本発明は、（Ｉ）バリア
リブが形成されたプラズマディスプレイパネル用基板の
放電空間内の基板底面及びリブ壁面上にポジ型感光性樹
脂層（Ｃ）を形成する工程、（ＩＩ）活性光線を像的に
照射する工程、（ＩＩＩ）現像によりポジ型感光性樹脂
層（Ｃ）の照射部を除去する工程、（ＩＶ）所望の部位
のみポジ型感光性樹脂層（Ｃ）が除去されたプラズマデ
ィスプレイパネル用基板上に、蛍光体を含有するネガ型
感光性樹脂組成物層（Ａ）と熱可塑性樹脂層（Ｂ）と
（Ａ）層を基板側にして加熱圧着する工程、（Ｖ）活性
光線を（ＩＩ）の工程と同一のパターンで像的に照射す
る工程、（ＶＩ）現象により（ＩＶ）の工程で加熱圧着
された（Ａ）層及び（Ｂ）層の不要部を除去する工程、
（ＶＩＩ）（ＩＩ）〜（ＶＩ）の工程を繰り返して、
赤、緑及び青に発色する蛍光体を含有する感光性樹脂組
成物からなる多色パターンを形成する工程及び（ＶＩＩ
Ｉ）焼成により不要分を除去する工程からなることを特
徴とする蛍光体パターンの製造法を提供するものであ
る。

【００１５】

【発明の実施の形態】本発明の（ＩＶ）の工程の所望の
部位のみポジ型感光性樹脂層（Ｃ）が除去されたプラズ
マディスプレイパネル用基板上に、蛍光体を含有するネ
ガ型感光性樹脂組成物層（Ａ）と熱可塑性樹脂層（Ｂ）
とを（Ａ）層を基板側にして加熱圧着する工程は、例え
ば、（１）（ＩＶ−１）プラズマディスプレイパネル用
基板上に、蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂層（Ａ）
が配置された状態で熱可塑性樹脂層（Ｂ）を加熱圧着す
る方法と（２）（ＩＶ−２）プラズマディスプレイパネ
ル用基板上に、支持体フィルム上に設けた熱可塑性樹脂
層（Ｂ）の上に蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成
物層（Ａ）を設けた多層フィルムからなる感光性エレメ
ントを加熱圧着する方法により行われる。

【００１６】本発明におけるバリアリブが形成されたプ
ラズマディスプレイパネル用基板（ＰＤＰ用基板）とし
ては、例えば、ガラス板、合成樹脂板等の基板に、電極
及びバリアリブが形成されたものなどが挙げられる。こ
れらの基板には透明な接着のための表面処理が施されて
いてもよい。

【００１７】バリアリブの形成には、特に制限はなく、
公知の材料を使用できるが、例えば、シリカ、熱硬化性
樹脂、低融点ガラス（酸化鉛等）、溶剤などを含むリブ
材を用いることができる。

【００１８】また、ＰＤＰ用基板には、電極及びバリア
リブの他に、必要に応じて、誘電膜、絶縁膜、補助電
極、抵抗体等が形成されていてもよい。

【００１９】これらのものを、基板へ形成する方法とし
ては、特に制限はなく、例えば、基板に、蒸着、スパッ
タリング、メッキ、塗布、印刷等の方法で電極を形成す
ることができ、印刷法、サンドブラスト法、埋め込み法
等の方法でバリアリブを形成することができる。

【００２０】バリアリブは、通常、高さが２０〜５００
μｍ、幅が２０〜２００μｍとされる。バリアリブで囲
まれた放電空間の形状には、特に制限はなく、格子状、
ストライプ状、ハニカム状、３角形状、楕円形状等が可
能であるが、通常、図１及び図２等に示すような、格子
状又はストライプ状の放電空間が形成される。

【００２１】図１及び図２において、基板１上には、バ
リアリブ２が形成されており、図１では格子状放電空間
３が、図２ではストライプ状放電空間４が形成されてい
る。放電空間の大きさは、ＰＤＰの大きさと解像度によ
って決められ、通常、図１のような格子状放電空間であ
れば、縦及び横の長さは、５０μｍ〜１ｍｍとなり、図
２のようなストライプ状放電空間であれば、間隔は、３
０μｍ〜１ｍｍとなる。

【００２２】本発明における、ポジ型感光性樹脂層
（Ｃ）としては、特に制限はないが、例えば、溶解抑制
剤系ポジ型レジスト、化学増幅ポジ型レジスト等が好ま
しいものとして挙げられる。溶解抑制剤系ポジ型レジス
トは、（ｈ）バインダーと（ｉ）感光剤を含有する。

【００２３】（ｈ）バインダーとしては、アルカリ水溶
液に可溶な樹脂が用いられ、例えば、クレゾールノボラ
ック樹脂、フェノールノボラック樹脂、メラミン−ホル
ムアルデヒド樹脂、ポリエチレンオキシド、ポリアクリ
ルアミド、ポリ−ｐ−ビニルフェノール、ポリメタクリ
ル酸、ポリアクリル酸、クレゾールとヒドロキシベンジ
ルアルコールとの共重合体、スチレンとマレイミドの共
重合体、ポリジメチルグルタルイミド、ポリ−ｐ−ヒド
ロキシスチレン等が挙げられる。（ｉ）感光剤として
は、１，２−ナフトキノンジアジド化合物、５−ジアゾ
メルドラム酸、２−ジアゾ−１，３−ジケトシクロヘキ
サン−５−カルボン酸エステル、ジフェニルヨードニウ
ム塩、トリフェニルスルホニウム塩等が挙げられる。

【００２４】化学増幅ポジ型レジストとしては、活性光
線の照射により酸を発生する化合物と、酸により分解な
どの反応を起こし、現像液に可溶化する化合物とを組み
合わせた感光システムが挙げられ、例えば、光照射によ
り酸を発生する化合物と、アセタール化合物との組み合
わせ、主鎖にアセタール又はケタール基を有するポリマ
ーとの組み合わせ、エノールエーテル化合物との組み合
わせ、主鎖にオルトエステル基を有するポリマーとの組
み合わせ、カルボン酸のｔｅｒｔ−ブチルエステル又は
フェノールのｔｅｒｔ−ブチルカルボナート基を有する
重合体との組み合わせ、分子内にカルボン酸のｔｅｒｔ
−アミルエステル構造を有する化合物との組み合わせ等
が挙げられる。

【００２５】これらの中で、活性光線の照射により酸を
発生する化合物と、分子内にカルボン酸のｔｅｒｔ−ア
ミルエステル構造を有する化合物との組み合わせによる
感光システムは、光感度が高く、安定性が良好で、現像
裕度が広いので、より好ましい。

【００２６】これらの中で、活性光線の照射により酸を
発生する化合物と、分子内にカルボン酸のｔｅｒｔ−ア
ミルエステル構造を有する化合物との組み合わせによる
感光システムとしては、例えば特開昭５９−４５４３９
号公報に開示されているような化合物の組み合わせが挙
げられる。

【００２７】それらの中で、下記一般式（ア）又は
（イ）で表されるニトロベンジル誘導体（式中、Ｒは炭
素数１〜１６のアルキル基を示し、好ましくはブチル基
である。）

【００２８】

【化１】

【００２９】

【化２】 とｔｅｒｔ−アミルアクリレート及びｔｅｒｔ−アミル
アクリレートの単独共重合体、若しくは他の共重合可能
なモノマーとの共重合体との組み合わせが特に好まし
い。

【００３０】ここでいう他の共重合可能なモノマーとし
ては、例えば、メチルメタクリレート、エチルメタクリ
レート、ｎ−ブチルメタクリレート、メチルアクリレー
ト、エチルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、シ
クロヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルアクリレ
ート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒド
ロキシエチルアクリレート、アクリロニトリル、スチレ
ン、α−メチルスチレン、ジアセトンアクリルアミド、
ビニルトルエン等が挙げられ、これらは１種以上併用し
て共重合することができる。これら他の共重合可能なモ
ノマーの共重合量は、共重合体を構成する全モノマーの
総量１００重量部のうち、８０重量部以下とすることが
好ましい。更に好ましくは７０〜２０重量部とする。８
０重量部を超えると光感度が低くなる傾向がある。

【００３１】前記共重合体の合成は、前記共重合性モノ
マーを有機溶媒中でアゾビスイソブチロニトリル、アゾ
ビスジメチルバレロニトリル、過酸化ベンゾイル等の重
合開始剤を用いて一般的な溶液重合により得ることがで
きる。このとき用いる有機溶媒としては、メトキシエタ
ノール、エトキシエタノール、トルエン、キシレン、メ
チルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘ
キサノール、酢酸ブチル、クロルベンゼン、ジオキサ
ン、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどが用
いられる。この共重合体は、重量平均分子量（ＧＰＣに
よるポリスチレン換算）が５，０００〜３００，０００
とすることが好ましく、１０，０００〜１５０，０００
とすることがより好ましい。この重量平均分子量が、
５，０００未満では、レジストの機械強度が弱くなる傾
向があり、３００，０００を超えると現像性（露光部が
現像により、容易に除去できる性質）が悪くなる傾向が
ある。

【００３２】ポジ型感光性樹脂（Ｃ）の現像液として
は、例えば、メタケイ酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、
水酸化ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化カリウム等の
無機アルカリ及び、トリエタノールアミン、水酸化テト
ラメチルアンモニウム等の有機アルカリの水溶液が挙げ
られる。アルカリ水溶液の濃度は、０．１〜１５重量％
が好ましく、０．５〜５重量％がより好ましい。０．１
重量％未満では露光部を短時間に完全に除去できないこ
とがあり、また、１５重量％を超えると未露光部も一部
侵される可能性がある。現像方法は、上記の現像液を吹
きつけるか、現像液に浸漬するなどして行われる。

【００３３】本発明における蛍光体を含有するネガ型感
光性樹脂組成物層（Ａ）としては、蛍光体を含有するネ
ガ型感光性樹脂組成物層であれば特に制限はないが、例
えば、（ａ）フィルム性付与ポリマー、（ｂ）末端にエ
チレン性不飽和基を有する光重合性不飽和化合物、
（ｃ）活性光線の照射により遊離ラジカルを生成する光
開始剤及び（ｄ）蛍光体を含む層等が好ましいものとし
て挙げられる。

【００３４】（ａ）フィルム性付与ポリマーとしては、
ビニル共重合体が好ましく、ビニル共重合体に用いられ
るビニル単量体としては、例えば、アクリル酸、メタク
リル酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、アクリル
酸メチル、メタクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メ
タクリル酸エチル、アクリル酸ｎ−プロピル、メタクリ
ル酸ｎ−プロピル、アクリル酸ｉｓｏ−プロピル、メタ
クリル酸ｉｓｏ−プロピル、アクリル酸ｎ−ブチル、メ
タクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸ｉｓｏ−ブチル、メ
タクリル酸ｉｓｏ−ブチル、アクリル酸ｓｅｃ−ブチ
ル、メタクリル酸ｓｅｃ−ブチル、アクリル酸ｔｅｒｔ
−ブチル、メタクリル酸ｔｅｒｔ−ブチル、アクリル酸
ペンチル、メタクリル酸ペンチル、アクリル酸ヘキシ
ル、メタクリル酸ヘキシル、アクリル酸ヘプチル、メタ
クリル酸ヘプチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、メ
タクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、
メタクリル酸オクチル、アクリル酸ノニル、メタクリル
酸ノニル、アクリル酸デシル、メタクリル酸デシル、ア
クリル酸ドデシル、メタクリル酸ドデシル、アクリル酸
テトラデシル、メタクリル酸テトラデシル、アクリル酸
ヘキサデシル、メタクリル酸ヘキサデシル、アクリル酸
オクタデシル、メタクリル酸オクタデシル、アクリル酸
エイコシル、メタクリル酸エイコシル、アクリル酸ドコ
シル、メタクリル酸ドコシル、アクリル酸シクロペンチ
ル、メタクリル酸シクロペンチル、アクリル酸シクロヘ
キシル、メタクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸シク
ロヘプチル、メタクリル酸シクロヘプチル、アクリル酸
ベンジル、メタクリル酸ベンジル、アクリル酸フェニ
ル、メタクリル酸フェニル、アクリル酸メトキシエチ
ル、メタクリル酸メトキシエチル、アクリル酸メトキシ
ジエチレングリコール、メタクリル酸メトキシジエチレ
ングリコール、アクリル酸メトキシジプロピレングリコ
ール、メタクリル酸メトキシジプロピレングリコール、
アクリル酸メトキシトリエチレングリコール、メタクリ
ル酸メトキシトリエチレングリコール、アクリル酸２−
ヒドロキシエチル、メタクリル酸２−ヒドロキシエチ
ル、アクリル酸ジメチルアミノエチル、メタクリル酸ジ
メチルアミノエチル、アクリル酸ジエチルアミノエチ
ル、メタクリル酸ジエチルアミノエチル、アクリル酸ジ
メチルアミノプロピル、メタクリル酸ジメチルアミノプ
ロピル、アクリル酸２−クロロエチル、メタクリル酸２
−クロロエチル、アクリル酸２−フルオロエチル、メタ
クリル酸２−フルオロエチル、アクリル酸２−シアノエ
チル、メタクリル酸２−シアノエチル、スチレン、α−
メチルスチレン、ビニルトルエン、塩化ビニル、酢酸ビ
ニル、Ｎ−ビニルピロリドン、ブタジエン、イソプレ
ン、クロロプレン、アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等が挙げら
れる。これらは単独で又は２種以上を組み合わせて使用
される。

【００３５】（ａ）フィルム性付与ポリマーの重量平均
分子量は、５，０００〜３００，０００とすることが好
ましく、２０，０００〜１５０，０００とすることがよ
り好ましい。この重量平均分子量が、５，０００未満で
は、感光性エレメントとした場合にフィルム形成性及び
可とう性が低下する傾向があり、３００，０００を超え
ると、現像性（不要部が現像により、容易に除去できる
性質）が低下する傾向がある。

【００３６】なお、重量平均分子量は、ゲルパーミエー
ションクロマトグラフィー法により測定し、標準ポリス
チレン検量線を用いて換算した値である。

【００３７】また、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物
が、公知の各種現像液により現像可能となるように、
（ａ）フィルム性付与ポリマーのカルボキシル基含有率
（酸価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）で規定できる）を適宜調整す
ることができる。

【００３８】例えば、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム
等のアルカリ水溶液を用いて現像する場合には、酸価
を、９０〜２６０とすることが好ましい。この酸価が、
９０未満では、現像が困難となる傾向があり、２６０を
超えると、耐現像液性（現像により除去されずに残りパ
ターンとなる部分が、現像液によって侵されない性質）
が低下する傾向がある。

【００３９】また、水又はアルカリ水溶液と１種以上の
有機溶剤とからなる水系現像液を用いて現像する場合に
は、酸価を、１６〜２６０とすることが好ましい。この
酸価が、１６未満では、現像が困難となる傾向があり、
２６０を超えると、耐現像液性が低下する傾向がある。

【００４０】さらに、１，１，１−トリクロロエタン等
の有機溶剤現像液を用いる場合には、カルボキシル基を
含有しなくても良い。

【００４１】（ｂ）末端にエチレン性不飽和基を有する
光重合性不飽和化合物としては、従来、光重合性多官能
モノマーとして知られているものを全て用いることがで
きる。

【００４２】例えば、多価アルコールのアクリレート又
はメタクリレート（ジエチレングリコールジアクリレー
ト、ジエチレングリコールジメタクリレート、テトラエ
チレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリ
コールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジア
クリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレー
ト、テトラプロピレングリコールジアクリレート、テト
ラプロピレングリコールジメタクリレート、ヘキサプロ
ピレングリコールジアクリレート、ヘキサプロピレング
リコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコール
ジアクリレート、ポリプロピレングリコールジメタクリ
レート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ト
リメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリ
スリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールト
リメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリ
レート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、
１，９−ノナンジオールジアクリレート、ジペンタエリ
スリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトー
ルペンタメタクリレート等）、エポキシアクリレート又
はエポキシメタクリレート（２，２−ビス（４−メタク
リロキシエトキシフェニル）プロパン、２，２−ビス
（４−アクリロキシエトキシフェニル）プロパン、ビス
フェノールＡ／エピクロルヒドリン系のエポキシ樹脂
の、アクリル酸又はメタクリル酸付加物等）、分子中に
ベンゼン環を有する低分子不飽和ポリエステルのアクリ
レート又はメタクリレート（無水フタル酸／ネオペンチ
ルグリコール／アクリル酸＝１／２／２（モル比）の縮
合物等）、トリメチロールプロパントリグリシジルエー
テルのアクリル酸又はメタクリル酸との付加物、トリメ
チルヘキサメチレンジイソシアネートと２価アルコール
のアクリル酸モノエステル又はメタクリル酸モノエステ
ルとの反応で得られるウレタンアクリレート化合物又は
ウレタンメタクリレート化合物、トリス（アクリロキシ
エチル）イソシアヌレート、トリス（メタクリロキシエ
チル）イソシアヌレート、ポリスチリルエチルアクリレ
ート、ポリスチリルエチルメタクリレート、４−（２，
２，６，６−テトラメチルピペリジニル）アクリレー
ト、４−（２，２，６，６−テトラメチルピペリジニ
ル）メタクリレート、ビスフェノールＡジアクリレー
ト、ビスフェノールＡジメタクリレートなどが挙げられ
る。これらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使用
されるが、本発明における蛍光体を含有する感光性樹脂
組成物層（Ａ）は、焼成により不要な有機成分を除去す
る必要があるため、熱分解性が良好であるポリエチレン
グリコールジメタクリレートが好ましい。

【００４３】（ｃ）活性光線の照射により遊離ラジカル
を生成する光開始剤としては、例えば、芳香族ケトン
（ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ′−テトラメチル−４，４′
−ジアミノベンゾフエノン（ミヒラーケトン）、Ｎ，
Ｎ′−テトラエチル−４，４′−ジアミノベンゾフェノ
ン、４−メトキシ−４′−ジメチルアミノベンゾフェノ
ン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モ
ルホリノフェニル）−ブタノン−１，２，２−ジメトキ
シ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１−ヒドロ
キシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２−メチル
−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルフォ
リノプロパノン−１、２，４−ジエチルチオキサント
ン、２−エチルアントラキノン、フェナントレンキノン
等）、ベンゾインエーテル（ベンゾインメチルエーテ
ル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニルエ
ーテル等）、ベンゾイン（メチルベンゾイン、エチルベ
ンゾイン等）、ベンジル誘導体（ベンジルジメチルケタ
ール等）、２，４，５−トリアリールイミダゾール二量
体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニル
イミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−
４，５−ジ（ｍ−メトキシフェニル）イミダゾール二量
体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−フェニル
イミダゾール二量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−
４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メ
トキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二
量体、２，４−ジ（ｐ−メトキシフェニル）−５−フェ
ニルイミダゾール二量体、２−（２，４−ジメトキシフ
ェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体
等）、アクリジン誘導体（９−フェニルアクリジン、
１，７−ビス（９，９′−アクリジニル）ヘプタン等）
などが挙げられる。これらは単独で又は２種類以上を組
み合わせて使用される。

【００４４】（ｄ）蛍光体としては、特に限定はなく、
通常の金属酸化物を主体とするものが用いられる。

【００４５】赤色発色の蛍光体としては、例えば、Ｙ₂
Ｏ₂Ｓ：Ｅｕ、Ｚｎ₃（ＰＯ₄）₂：Ｍｎ、Ｙ₃０₃：Ｅｕ、
ＹＶＯ₄：Ｅｕ、（Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ₃：Ｅｕ、γ−Ｚｎ₃
（ＰＯ₄）₂：Ｍｎ、（ＺｎＣｄ）Ｓ：Ａｇ＋Ｉｎ₂Ｏ等
が挙げられる。

【００４６】緑色発色の蛍光体としては、例えば、Ｚｎ
Ｓ：Ｃｕ、Ｚｎ₂ＳｉＯ₄：Ｍｎ、ＺｎＳ：Ｃｕ＋Ｚｎ₂
ＳｉＯ₄：Ｍｎ、Ｇｄ₂Ｏ₂Ｓ：Ｔｂ、Ｙ₃Ａｌ₅Ｏ₁₂：Ｃ
ｅ、ＺｎＳ：Ｃｕ，Ａｌ、Ｙ₂Ｏ₂Ｓ：Ｔｂ、ＺｎＯ：Ｚ
ｎ、ＺｎＳ：Ｃｕ，Ａｌ＋Ｉｎ ₂Ｏ₃、ＬａＰＯ₄：Ｃ
ｅ，Ｔｂ、ＢａＯ・６Ａｌ₂Ｏ₃：Ｍｎ等が挙げられる。

【００４７】青色発色の蛍光体としては、例えば、Ｚｎ
Ｓ：Ａｇ、ＺｎＳ：Ａｇ，Ａｌ、ＺｎＳ：Ａｇ，Ｇａ，
Ａｌ、ＺｎＳ：Ａｇ，Ｃｕ，Ｇａ，Ｃｌ、ＺｎＳ：Ａｇ
＋Ｉｎ₂Ｏ₃、Ｃａ₂Ｂ₅Ｏ₉Ｃｌ：Ｅｕ²⁺、（Ｓｒ，Ｃ
ａ，Ｂａ，Ｍｇ）₁₀（ＰＯ₄）₆Ｃ１₂：Ｅｕ²⁺、Ｓｒ₁₀
（ＰＯ₄）₆Ｃｌ₂：Ｅｕ²⁺、ＢａＭｇＡｌ₁₀Ｏ₁₇：Ｅｕ
²⁺、ＢａＭｇＡｌ₁₄Ｏ₂₃：Ｅｕ²⁺、ＢａＭｇＡｌ
₁₆Ｏ₂₆：Ｅｕ²⁺等が挙げられる。

【００４８】（ａ）成分の配合量は、（ａ）成分及び
（ｂ）成分の総量が１００重量部として、１０〜９０重
量部とすることが好ましく、２０〜８０重量部とするこ
とがより好ましい。この配合量が、１０重量部未満で
は、感光性エレメントとしてロール状で供給した場合、
蛍光体含有感光性樹脂組成物がロール端部からしみ出す
（以下エッジフュージョンと記す）ことにより、感光性
エレメントのラミネート時にロールからの繰り出しが困
難となり、またしみ出した部分がＰＤＰ用基板の空間に
部分的に過剰に埋め込まれ、製造歩留りが著しく低下す
る等の問題が生じたり、フィルム形成性が低下する等の
傾向があり、９０重量部を超えると、感度が不充分とな
る傾向がある。

【００４９】（ｂ）成分の配合量は、（ａ）成分及び
（ｂ）成分の総量が１００重量部として、１０〜９０重
量部とすることが好ましく、２０〜８０重量部とするこ
とがより好ましい。この配合量が、１０重量部未満で
は、蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成物の感度が
不充分となる傾向があり、９０重量部を超えると、感光
性エレメントとした場合に、蛍光体を含有するネガ型感
光性樹脂組成物が流動によって端部からしみ出したり、
フィルム形成性が低下する等の傾向がある。

【００５０】（ｃ）成分の配合量は、（ａ）成分及び
（ｂ）成分の総量１００重量部に対して、０．０１〜３
０重量部とすることが好ましく、０．１〜２０重量部と
することがより好ましい。この配合量が、０．０１重量
部未満では、蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成物
の感度が不充分となる傾向があり、３０重量部を超える
と、蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成物の露光表
面での活性光線の吸収が増大して、内部の光硬化が不充
分となる傾向がある。

【００５１】（ｄ）成分の配合量は、（ａ）成分、
（ｂ）成分及び（ｃ）成分の総量１００重量部に対し
て、１０〜３００重量部とすることが好ましく、５０〜
２５０重量部とすることがより好ましく、７０〜２００
重量部とすることが特に好ましい。この配合量が、１０
重量部未満では、ＰＤＰとして発光させた場合に発光効
率が低下する傾向があり、３００重量部を超えると、感
光性エレメントとした場合に、フィルム形成性が低下し
たり、可とう性が低下する傾向がある。

【００５２】本発明における蛍光体を含有するネガ型感
光性樹脂組成物層（Ａ）を構成する感光性樹脂組成物に
は、長期間増粘を起こさず、貯蔵安定性を良好にするた
めに、カルボキシル基を有する化合物を含有させること
ができる。カルボキシル基を有する化合物としては、例
えば、飽和脂肪酸、不飽和脂肪酸、脂肪族二塩基酸、芳
香族二塩基酸、脂肪族三塩基酸、芳香族三塩基酸等が挙
げられる。

【００５３】具体的には、例えば、ぎ酸、酢酸、クロロ
酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、プロピオン酸、
カプリン酸、ウンデカン酸、ラウリン酸、トリデカン
酸、ミリスチン酸、ペンタデカン酸、パルミチン酸、ヘ
プタデカン酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキジ
ン酸、パルミトオレイン酸、オレイン酸、エライジン
酸、リノレン酸、リノール酸、しゅう酸、マロン酸、メ
チルマロン酸、エチルマロン酸、マロン酸モノメチル、
マロン酸モノエチル、こはく酸、メチルこはく酸、アジ
ピン酸、メチルアジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、
アゼライン酸、セバシン酸、マレイン酸、イタコン酸、
フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリト
酸、クエン酸、サリチル酸、ピルビン酸、リンゴ酸等が
挙げられる。

【００５４】中でも、増粘を抑制する効果が高い点か
ら、しゅう酸、マロン酸、メチルマロン酸、エチルマロ
ン酸、クエン酸等が好ましく、しゅう酸、マロン酸、ク
エン酸等がより好ましい。これらは単独で又は２種類以
上組み合わせて使用される。

【００５５】カルボキシル基を有する化合物の配合量
は、（ａ）成分１００重量部に対して、０．０１〜３０
重量部とすることが好ましい。この配合量が、０．０１
重量部未満では、保存安定性の効果が低くなる傾向があ
り、３０重量部を超えると、感度が不充分となる傾向が
ある。

【００５６】本発明における蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物層（Ａ）を構成する感光性樹脂組成物には、蛍
光体の分散を良好とするために、分散剤を添加すること
が好ましい。

【００５７】分散剤としては、無機分散剤（シリカゲル
系、ベントナイト系、カオリナイト系、タルク系、ヘク
トライト系、モンモリロナイト系、サポナイト系、バイ
デライト系等）、有機分散剤（脂肪族アマイド系、脂肪
族エステル系、酸化ポリエチレン系、硫酸エステル系ア
ニオン活性剤、ポリカルボン酸アミン塩系、ポリカルボ
ン酸系、ポリアマイド系、高分子ポリエーテル系、アク
リル共重合物系、特殊シリコン系等）等が挙げられる。
これらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使用する
ことができる。

【００５８】分散剤の使用量としては、特に制限はな
く、（ａ）成分１００重量部に対して、０．０１〜１０
０重量部とすることが好ましい。この使用量が、０．０
１重量部未満では、添加効果が発現しない傾向があり、
１００重量部を超えると、パターン形成精度（蛍光体を
含有するネガ型感光性樹脂組成物からなるパターンを、
現像後、寸法的に正確に、所望の形状で得られる性質）
が低下する傾向がある。

【００５９】本発明における蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物層（Ａ）を構成する感光性樹脂組成物には、焼
成後、ＰＤＰ用基板から蛍光体が剥離しないようにする
ために、結着剤を使用することが好ましい。

【００６０】結着剤としては、例えば、低融点ガラス、
金属アルコキシド、シランカップリング剤等が挙げられ
る。これらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使用
される。

【００６１】結着剤の使用量としては、特に制限はな
く、（ｄ）成分１００重量部に対して、０．０１〜１０
０重量部とすることが好ましく、０．０５〜５０重量部
とすることがより好ましく、０．１〜３０重量部とする
ことが特に好ましい。この使用量が、０．０１重量部未
満では、蛍光体の結着効果が発現しない傾向があり、１
００重量部を超えると、発光効率が低下する傾向があ
る。

【００６２】また、本発明における蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層（Ａ）を構成するネガ型感光性樹脂組
成物には、染料、発色剤、可塑剤、顔料、重合禁止剤、
表面改質剤、安定剤、密着性付与剤、熱硬化剤等を必要
に応じて添加することができる。

【００６３】本発明における熱可塑性樹脂層（Ｂ）を構
成する樹脂としては、加熱圧着時の温度で軟化するもの
であれば特に制限はなく、例えば、ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩
化ビニリデン、ポリスチレン、ポリビニルトルエン、ポ
リアクリル酸エステル、ポリメタクリル酸エステル、エ
チレンと酢酸ビニルの共重合体、エチレンとアクリル酸
エステルの共重合体、塩化ビニルと酢酸ビニルの共重合
体、スチレンとアクリル酸エステル又はメタクリル酸エ
ステルとの共重合体、ビニルトルエンとアクリル酸エス
テル又はメタクリル酸エステルとの共重合体、ポリビニ
ルアルコール系樹脂（ポリアクリル酸エステル又はポリ
メタクリル酸エステルの加水分解物、ポリ酢酸ビニルの
加水分解物、エチレンと酢酸ビニルとの共重合体の加水
分解物、エチレンとアクリル酸エステルとの共重合体の
加水分解物、塩化ビニルと酢酸ビニルとの共重合体の加
水分解物、スチレンとアクリル酸エステル又はメタクリ
ル酸エステルとの共重合体の加水分解物、ビニルトルエ
ンとアクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルとの
共重合体の加水分解物等）、カルボキシアルキルセルロ
ースの水溶性塩、水溶性セルロースエステル類、カルボ
キシアルキルでん粉の水溶性塩、ポリビニルピロリド
ン、不飽和カルボン酸とこれらと共重合可能な不飽和単
量体を共重合することにより得られるカルボキシル基を
有する樹脂などが挙げられる。

【００６４】また、本発明における熱可塑性樹脂層
（Ｂ）は、混色防止、作業性の向上等の点から、（ｅ）
熱可塑性樹脂、（ｆ）末端にエチレン性不飽和基を有す
る光重合性不飽和化合物及び（ｇ）活性光線の照射によ
り遊離ラジカルを生成する光開始剤を含有してなるネガ
型感光性樹脂組成物により構成することもできる。

【００６５】（ｅ）熱可塑性樹脂としては、前記した熱
可塑性樹脂層（Ｂ）を構成する樹脂として使用可能な樹
脂及び蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成物層
（Ａ）を構成する感光性樹脂組成物に使用可能な（ａ）
フィルム性付与ポリマーを使用することができる。

【００６６】（ｆ）末端にエチレン性不飽和基を有する
光重合性不飽和化合物としては、前記した蛍光体を含有
するネガ型感光性樹脂組成物層（Ａ）を構成するネガ型
感光性樹脂組成物に使用可能な（ｂ）末端にエチレン性
不飽和基を有する光重合性不飽和化合物を使用すること
ができる。

【００６７】（ｇ）活性光線の照射により遊離ラジカル
を生成する光開始剤としては、前記した蛍光体を含有す
るネガ型感光性樹脂組成物層（Ａ）を構成するネガ型感
光性樹脂組成物に使用可能な（ｃ）活性光線の照射によ
り遊離ラジカルを生成する光開始剤を使用することがで
きる。

【００６８】（ｅ）成分の配合量は、（ｅ）成分及び
（ｆ）成分の総量が１００重量部として、１０〜９０重
量部とすることが好ましく、２０〜８０重量部とするこ
とがより好ましい。この配合量が、１０重量部未満で
は、感光性エレメントとした場合に、ネガ型感光性樹脂
組成物が流動によって端部からしみ出したり、フィルム
形成性が低下する等の傾向があり、９０重量部を超える
と、感度が不充分となる傾向がある。

【００６９】（ｆ）成分の配合量は、（ｅ）成分及び
（ｆ）成分の総量が１００重量部として、１０〜９０重
量部とすることが好ましく、２０〜８０重量部とするこ
とがより好ましい。この配合量が、１０重量部未満で
は、感度が不充分となる傾向があり、９０重量部を超え
ると、感光性エレメントとした場合に、ネガ型感光性樹
脂組成物が流動によって端部からしみ出したり、フィル
ム形成性が低下する等の傾向がある。

【００７０】（ｇ）成分の配合量は、（ｅ）成分及び
（ｆ）成分の総量１００重量部に対して、０．０１〜３
０重量部とすることが好ましく、０．１〜２０重量部と
することがより好ましい。この配合量が、０．０１重量
部未満では、感度が不充分となる傾向があり、３０重量
部を超えると、露光表面での活性光線の吸収が増大し
て、内部の光硬化が不充分となる傾向がある。

【００７１】また、熱可塑性樹脂層（Ｂ）は、後述する
現像工程において、前記（１）の方法においては、蛍光
体を含有するネガ型感光性樹脂組成物層（Ａ）及び熱可
塑性樹脂層（Ｂ）が、同一の現像液を使用して現像でき
るものであることが、前記（２）の方法においてはポジ
型感光性樹脂層（Ｃ）、蛍光体を含有するネガ型感光性
樹脂組成物層（Ａ）及び熱可塑性樹脂層（Ｂ）が、同一
の現像液を使用して現像できるものであることが工程を
少なくできる点から好ましい。同一の現像液で現像でき
るものとしては、水又はアルカリ水溶液に可溶なものが
挙げられる。

【００７２】水又はアルカリ水溶液に可溶な熱可塑性樹
脂層（Ｂ）を構成する樹脂としては、例えば、ポリビニ
ルアルコール系樹脂（ポリアクリル酸エステル又はポリ
メタクリル酸エステルの加水分解物、ポリ酢酸ビニルの
加水分解物、エチレンと酢酸ビニルとの共重合体の加水
分解物、エチレンとアクリル酸エステルとの共重合体の
加水分解物、塩化ビニルと酢酸ビニルとの共重合体の加
水分解物、スチレンとアクリル酸エステル又はメタクリ
ル酸エステルとの共重合体の加水分解物、ビニルトルエ
ンとアクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルとの
共重合体の加水分解物等）、カルボキシアルキルセルロ
ースの水溶性塩、水溶性セルロースエーテル類、カルボ
キシアルキルでん粉の水溶性塩、ポリビニルピロリド
ン、不飽和カルボン酸とこれらと共重合可能な不飽和単
量体を共重合することにより得られるカルボキシル基を
有する樹脂などが挙げられる。

【００７３】不飽和カルボン酸とこれらと共重合可能な
不飽和単量体を共重合することにより得られるカルボキ
シル基を有する樹脂としては、例えば、不飽和カルボン
酸（アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル
酸、イタコン酸等）と、前記蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物層（Ａ）を構成する（ａ）フィルム性付与ポリ
マーに使用可能なビニル単量体とを共重合して得られる
ビニル共重合体などを使用することが好ましい。

【００７４】不飽和カルボン酸とこれらと共重合可能な
不飽和単量体を共重合することにより得られるカルボキ
シル基を有する樹脂は、重量平均分子量が、５，０００
〜３００，０００とすることが好ましく、２０，０００
〜１５０，０００とすることがより好ましい。この重量
平均分子量が、５，０００未満では、感光性エレメント
とした場合にフィルム形成性及び可とう性が低下する傾
向があり、３００，０００を超えると、現像性（不要部
が現像により、容易に除去できる性質）が低下する傾向
がある。なお、重量平均分子量は、ゲルパーミエーショ
ンクロマトグラフィー法により測定し、標準ポリスチレ
ン検量線を用いて換算した値である。

【００７５】また、アルカリ水溶液に可溶な熱可塑性樹
脂層（Ｂ）として、公知の各種現像液により現像可能と
なるように、不飽和カルボン酸とこれらと共重合可能な
不飽和単量体を共重合することにより得られるカルボキ
シル基を有する樹脂のカルボキシル基含有率（酸価（ｍ
ｇＫＯＨ／ｇ）で規定できる）を適宜調整することがで
きる。例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアル
カリ水溶液を用いて現像する場合には、酸価を９０〜２
６０とすることが好ましい。この酸価が、９０未満で
は、現像が困難となる傾向があり、２６０を超えると、
耐現像液性が低下する傾向がある。また、水又はアルカ
リ水溶液と１種以上の有機溶剤とからなる水系現像液を
用いて現像する場合には、酸価を１６〜２６０とするこ
とが好ましい。この酸価が、１６未満では、現像が困難
となる傾向があり、２６０を超えると、耐現像液性が低
下する傾向がある。

【００７６】また、熱可塑性樹脂層（Ｂ）のフィルム性
を良好なものとするために、上記した熱可塑性樹脂層
（Ｂ）を構成する樹脂中に、可塑剤を添加することがで
きる。

【００７７】可塑剤としては、ポリプロピレングリコー
ル、ポリエチレングリコール、ジオクチルフタレート、
ジヘプチルフタレート、ジブチルフタレート、トリクレ
ジルフォスフェート、クレジルジフェニルフォスフェー
ト、ビフェニルジフェニルフォスフェート等が挙げられ
る。

【００７８】本発明の（１）の方法においては、蛍光体
を含有するネガ型感光性樹脂組成物層（Ａ）はこれを構
成する前記各成分を溶解又は分散可能な溶剤に、溶解又
は混合させることにより、均一に分散した溶液とし、支
持体フィルム上に、塗布乾燥して得られた感光性エレメ
ントとして用いられる 本発明における熱可塑性樹脂層（Ｂ）は、これを構成す
る樹脂を溶解する溶剤に、溶解又は混合させることによ
り、均一な溶液とし、支持体フィルム上に、ナイフコー
ト法、ロールコー卜法、スプレーコート法、グラビアコ
ート法、バーコート法、カーテンコート法等の公知の塗
布方法を用いて、塗布、乾燥することによりフィルム状
に形成することができる。

【００７９】本発明の前記（２）の方法においては、支
持体フィルム上に熱可塑性樹脂層（Ｂ）を設け、その上
に蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成物層（Ａ）を
積層して得られた感光性エレメントとして用いられる。
積層方法としては、ネガ型感光性樹脂組成物を構成する
前記各成分を溶解又は分散可能な溶剤に、溶解又は混合
させることにより、均一に分散した溶液とし、熱可塑性
樹脂層（Ｂ）上に、塗布乾燥する方法が用いられる。

【００８０】蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成物
層（Ａ）の各成分を溶解又は分散可能な溶剤としては、
例えば、トルエン、アセトン、メチルエチルケトン、メ
チルイソブチルケトン、メチルセロソルブ、エチルセロ
ソルブ、γ−ブチルラクトン、Ｎ−メチルピロリドン、
ジメチルホルムアミド、テトラメチルスルホン、ジエチ
レングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコー
ルモノブチルエーテル、クロロホルム、塩化メチレン、
メチルアルコール、エチルアルコール等が挙げられる。
これらは単独で又は２種以上を組み合わせて使用され
る。

【００８１】また、熱可塑性樹脂層（Ｂ）を構成する樹
脂を溶解する溶剤としては、例えば、水及び上記の溶剤
等が挙げられる。

【００８２】支持体フィルムとしては、化学的及び熱的
に安定であり、また、可とう性の物質で構成された、例
えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネー
ト、ポリエチレン、ポリプロピレン等が挙げられ、その
中でも、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンが
好ましく、ポリエチレンテレフタレートがより好まし
い。この支持体フィルムの厚さは、５〜１００μｍとす
ることが好ましく、１０〜３０μｍとすることがより好
ましい。

【００８３】塗布方法としては、公知の方法を用いるこ
とができ、例えば、ナイフコート法、ロールコート法、
スプレーコート法、グラビアコート法、バーコート法、
カーテンコート法等が挙げられる。

【００８４】乾燥温度は、６０〜１３０℃とすることが
好ましく、乾燥時間は、３分〜１時間とすることが好ま
しい。

【００８５】本発明における蛍光体を含有するネガ型感
光性樹脂組成物層（Ａ）の厚さは、特に制限はないが、
１０〜１００μｍとすることが好ましく、２０〜８０μ
ｍとすることがより好ましい。この厚さが、１０μｍ未
満では、焼成後の蛍光体パターンが薄くなり、発光効率
が低下する傾向があり、１００μｍを超えると、焼成後
の蛍光体パターンが厚くなり、蛍光面の発光面積が縮小
して発光効率が低下する傾向がある。

【００８６】本発明における蛍光体を含有するネガ型感
光性樹脂組成物層（Ａ）の上には、さらに剥離可能なカ
バーフィルムを積層することができる。

【００８７】カバーフィルムとしては、ポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリカ
ーボネート等が挙げられ、支持体フィルムと蛍光体を含
有するネガ型感光性樹脂組成物層（Ａ）との接着力より
も、カバーフィルムと蛍光体を含有するネガ型感光性樹
脂組成物層（Ａ）との接着力の方が小さいものであるこ
とが好ましい。このようにして得られる感光性エレメン
トは、ロール状に巻いて保管可能とすることができる。

【００８８】本発明における熱可塑性樹脂層（Ｂ）の厚
さは、特に制限はないか、ＰＤＰ用基板の空間への埋め
込み性等の点から、１０〜２００μｍとすることが好ま
しく、２０〜１００μｍとすることがより好ましい。

【００８９】本発明における熱可塑性樹脂層（Ｂ）の上
には、さらに剥離可能なカバーフィルムを積層すること
ができる。

【００９０】カバーフィルムとしては、ポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリカ
ーボネート等が挙げられ、支持体フィルムと熱可塑性樹
脂層（Ｂ）との接着力よりも、カバーフィルムと熱可塑
性樹脂層（Ｂ）との接着力の方が小さいものであること
が好ましい。このようにしてフィルム上に形成された熱
可塑性樹脂層（Ｂ）は、ロール状に巻いて保管可能とす
ることができる。

【００９１】以下、本発明の蛍光体パターンの製造法の
各工程について、図３及び図４を用いて詳述する。な
お、図３及び図４は、本発明の蛍光体パターンの製造法
の各工程を示した模式図である。 ［（Ｉ）バリアリブが形成されたプラズマディスプレイ
パネル用基板の放電空間内の基板底面及びリブ壁面に、
ポジ型感光性樹脂層（Ｃ）を形成する工程］バリアリブ
２が形成されたＰＤＰ用基板１の放電空間内の基板底面
及びリブ壁面に、ポジ型感光性樹脂層（Ｃ）５を形成し
た状態を図３（Ｉ）に示した。

【００９２】図３（Ｉ）において、バリアリブ２が形成
されたＰＤＰ用基板１の放電空間内の基板底面及びリブ
壁面に、ポジ型感光性樹脂層（Ｃ）５を形成する方法と
しては、例えば、前記したポジ型感光性樹脂の溶液を塗
布し、乾燥する方法等が挙げられる。

【００９３】また、ポジ型感光性樹脂の感光性エレメン
トを作製し、後述する（ＩＶ）の工程と同様の工程によ
ってポジ型感光性樹脂層（Ｃ）を加熱圧着した後、現像
によって熱可塑性樹脂層（Ｂ）を除去することにより、
ポジ型感光性樹脂層（Ｃ）５を形成してもよい。

【００９４】また、支持体フィルム上に熱可塑性樹脂層
（Ｂ）を設けたフィルムの（Ｂ）層の上にポジ型感光性
樹脂の溶液を塗布、乾燥してポジ型感光性樹脂層を含む
多層フィルムを作製し、後述する（ＩＶ）の工程と同様
の工程によってポジ型感光性樹脂層（Ｃ）５を形成して
もよい。

【００９５】放電空間内に形成されるポジ型感光性樹脂
層（Ｃ）５の体積は、後述する（ＶＩ）の工程を終了し
た時点における蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層
（Ａ）７′の体積の７０〜１３０％となるようにするこ
とが好ましく、９０〜１１０％であればより好ましく、
同一であればさらに好ましく、ポジ型感光性樹脂層
（Ｃ）５と光硬化後の蛍光体を含有する感光性樹脂組成
物層（Ａ）７′との形状が一致すれば最も好ましい。ポ
ジ型感光性樹脂層（Ｃ）の形成量がこの範囲外では、後
述する（ＶＩＩ）の工程において、２色目の蛍光体を含
有する感光性樹脂組成物層（Ａ）７′ｂの対称性を低下
させる傾向がある。

【００９６】また、熱可塑性樹脂層（Ｂ）にネガ型感光
性樹脂を使用した場合は、ポジ型感光性樹脂層（Ｃ）５
の体積は、光硬化後の熱可塑性樹脂層（Ｂ）と光硬化後
の蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層（Ａ）７′の体
積の合計に対して、７０〜１３０％となるようにするこ
とが好ましく、９０〜１１０％であればより好ましく、
同一であればさらに好ましく、ポジ型感光性樹脂層
（Ｃ）５と光硬化後の熱可塑性樹脂層（Ｂ）及び蛍光体
を含有する感光性樹脂組成物層（Ａ）７′の合計との形
状が一致すれば最も好ましい。

【００９７】このようにポジ型感光性樹脂層を形成する
ことにより、後述する（ＩＶ）の工程において、蛍光体
を含有する感光性樹脂組成物層（Ａ）を形成する放電空
間の周囲の凹凸の対称性を高めることができ、後述する
（ＶＩＩ）の工程において、赤、緑及び青色に発色する
蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成物層からなる多
色パターンを形成する時に、全ての色について、高精度
で均一であり、対称性に優れた蛍光体を含有する感光性
樹脂組成物層（Ａ）を形成することができる。 ［（ＩＩ）活性光線を像的に照射する工程］活性光線１
０を像的に照射する状態を図３（ＩＩ）に示した。

【００９８】図３（ＩＩ）において、活性光線１０を像
的に照射する方法としては、図３（ＩＩ）の状態でフォ
トマスク９を介して、ポジ型感光性樹脂層（Ｃ）５に活
性光線１０を像的に照射することができる。

【００９９】活性光線１０としては、公知の活性光源が
使用でき、例えば、カーボンアーク、水銀蒸気アーク、
キセノンアーク、その他から発生する光等が挙げられ
る。

【０１００】ポジ型感光性樹脂の感受性は、通常、紫外
線領域において最大であるので、その場合の活性光源
は、紫外線を有効に放射するものにすべきである。ま
た、ポジ型感光性樹脂が可視光線に感受するものである
場合には、活性光線１０としては、可視光が用いられ、
その光源としては、前記のもの以外に写真用フラッド電
球、太陽ランプ等も使用することができる。 ［（ＩＩＩ）現像により照射部を除去する工程］現像に
より活性光線の照射部を除去した状態を図３（ＩＩＩ）
に示した。本発明における現像方法としては、例えば、
図３（ＩＩ）の状態の後、ポジ型感光性樹脂層（Ｃ）に
前述した化学増幅ポジ型レジストを使用する場合は、通
常は６０〜１５０℃で１〜３０分加熱して、露光部の現
像液への可溶化反応を完了させてから、アルカリ水溶液
等の公知の現像液を用いて、スプレー、揺動浸漬、ブラ
ッシング、スクラッビング等の公知方法により現像を行
い、露光部を除去する方法等が挙げられる。ただし、ポ
ジ型感光性樹脂層（Ｃ）の現像に用いる現像液は、ポジ
型感光性樹脂層（Ｃ）の現像を行うことによって、後述
する蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成物層（Ａ）
及びネガ型感光性の熱硬化性樹脂層（Ｂ）の光硬化部を
溶解させたり剥離させたり変質させたりするものであっ
てはならない。

【０１０１】アルカリ水溶液の塩基としては、水酸化ア
ルカリ（リチウム、ナトリウム又はカリウムの水酸化物
等）、炭酸アルカリ（リチウム、ナトリウム又はカリウ
ムの炭酸塩若しくは重炭酸塩等）、アルカリ金属リン酸
塩（リン酸カリウム、リン酸ナトリウム等）、アルカリ
金属ピロリン酸塩（ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸
カリウム等）、アルカリ金属メタケイ酸塩（メタケイ酸
ナトリウム、メタケイ酸カリウム等）、水酸化テトラメ
チルアンモニウム、トリエタノールアミンなどが挙げら
れ、中でも、炭酸ナトリウム、水酸化テトラメチルアン
モニウム等が好ましいものとして挙げられる。

【０１０２】アルカリ水溶液の濃度は、０．１〜１５重
量％が好ましく、０．５〜５重量％がより好ましい。
０．１重量％未満では露光部を短時間に完全に除去でき
ないことがあり、また、１５重量％を超えると未露光部
も一部侵される可能性がある。

【０１０３】また、アルカリ水溶液中には、表面活性
剤、消泡剤、現像を促進させるための少量の有機溶剤等
を混入させることができる。 ［（ＩＶ−１）プラズマディスプレイパネル用基板上
に、蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成物層（Ａ）
の上部に熱可塑性樹脂層（Ｂ）が配置された状態で、
（Ｂ）層を加熱圧着する工程］及び［（ＩＶ−２）プラ
ズマディスプレイパネル用基板上に、感光性エレメント
（Ｅ）を加熱圧着する工程］バリアリブ２が形成された
ＰＤＰ用基板１上に、前記蛍光体を含有するネガ型感光
性樹脂組成物層（Ａ）７を積層させた状態を図３（ＩＶ
−１）に示した。

【０１０４】図３（ＩＶ−１）において、バリアリブ２
が形成されたＰＤＰ用基板１上に、前記蛍光体を含有す
るネガ型感光性樹脂組成物層（Ａ）７を積層させる方法
としては、例えば前記感光性エレメントを用いて積層さ
せる方法等が挙げられる。

【０１０５】感光性エレメントを用いる場合は、感光性
エレメントにカバーフィルムが存在しているときは、そ
のカバーフィルムを除去後、ＰＤＰ用基板のバリアリブ
を形成した面に、蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組
成物層（Ａ）７が接するように、圧着ロール等で圧着さ
せることにより積層することができる。

【０１０６】この時の圧着圧力は、線圧で５０〜１×１
０⁶Ｎ／ｍとすることが好ましい。この圧着圧力が、５
０Ｎ／ｍ未満では、蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂
組成物層（Ａ）７が、ＰＤＰ用基板上の空間への埋め込
み性が低下する傾向があり、１×１０⁶Ｎ／ｍを超える
と、ＰＤＰ用基板のバリアリブが破壊される傾向があ
る。

【０１０７】また、蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂
組成物層（Ａ）７の空間への埋め込み性をさらに向上さ
せる点から、上記圧着ロールの表面が、ゴム、プラスチ
ック等の柔軟性に富んだ材質のものを使用することもで
きる。なお、柔軟性に富んだ材質の層の厚さは、２００
〜４００μｍとすることが好ましい。

【０１０８】また、蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂
組成物層（Ａ）７の空間への埋め込み性をさらに向上さ
せる点から、加熱ロール８等により感光性エレメントを
加熱しながら、ＰＤＰ用基板のバリアリブを形成した面
に圧着して積層することもできる。

【０１０９】加熱圧着時の加熱温度は、１０〜１３０℃
とすることが好ましく、２０〜１２０℃とすることがよ
り好ましく、３０〜１１０℃とすることが特に好まし
い。この加熱温度が、１０℃未満では、蛍光体を含有す
るネガ型感光性樹脂組成物層（Ａ）７が、ＰＤＰ基板上
に充分に密着できない傾向があり、１３０℃を超える
と、蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成物層（Ａ）
７が熱硬化する傾向がある。

【０１１０】また、加熱圧着時の圧着圧力は、線圧で５
０〜１×１０⁶Ｎ／ｍすることが好ましい。この圧着圧
力が、５０Ｎ／ｍ未満では、蛍光体を含有するネガ型感
光性樹脂組成物層（Ａ）７が、ＰＤＰ基板上に充分に密
着できない傾向があり、１×１０⁶Ｎ／ｍを超えると、
ＰＤＰ用基板のバリアリブが破壊される傾向がある。

【０１１１】感光性エレメントを前記のように加熱すれ
ば、バリアリブを形成したＰＤＰ用基板を予熱処理する
ことは必要ではないが、蛍光体を含有するネガ型感光性
樹脂組成物層（Ａ）７の空間への埋め込み性をさらに向
上させる点から、前記ＰＤＰ用基板の予熱処理を行うこ
とが好ましい。

【０１１２】さらに、同様の目的で、４×１０³Ｐａ以
下の減圧下で、上記した圧着及び加熱圧着の操作を行う
こともできる。

【０１１３】また、このように積層が完了した後、３０
〜１５０℃の範囲で、１〜１２０分間、加熱することも
できる。この際、支持体フィルムを必要に応じて除去す
ることもできる。

【０１１４】蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成物
層（Ａ）７の上部に、熱可塑性樹脂層（Ｂ）６を配置
し、加熱圧着しながら蛍光体を含有するネガ型感光性樹
脂組成物層（Ａ）７及び熱可塑性樹脂層（Ｂ）６を積層
させた状態を図３（ＩＶ−１）に示した。

【０１１５】図３（ＩＶ−１）において、蛍光体を含有
するネガ型感光性樹脂組成物層（Ａ）７の上部に、熱可
塑性樹脂層（Ｂ）６を配置し、加熱圧着させる方法とし
ては、例えば、図３（ＩＶ−１）の状態の蛍光体を含有
するネガ型感光性樹脂組成物層（Ａ）７の上に、支持体
フィルムが存在している場合には、支持体フィルムを除
去後、蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成物層
（Ａ）７の上部に、熱可塑性樹脂層（Ｂ）６（カバーフ
ィルムが存在しているときは、そのカバーフィルムを除
去した後）を配置し、加熱ロール８等により加熱圧着す
る方法などが挙げられる。

【０１１６】加熱圧着時の加熱温度は、１０〜１３０℃
とすることが好ましく、２０〜１２０℃とすることがよ
り好ましく、３０〜１１０℃とすることが特に好まし
い。この加熱温度が、１０℃未満では、蛍光体を含有す
るネガ型感光性樹脂組成物層（Ａ）７のＰＤＰ基板の空
間への埋め込み性が低下する傾向があり、１３０℃を超
えると、蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成物層
（Ａ）７が熱硬化する傾向がある。

【０１１７】また、加熱圧着時の圧着圧力は、線圧で５
０〜１×１０⁶Ｎ／ｍすることが好ましい。この圧着圧
力が、５０Ｎ／ｍ未満では、蛍光体を含有するネガ型感
光性樹脂組成物層（Ａ）７のＰＤＰ基板の空間への埋め
込み性が低下する傾向があり、１×１０⁶Ｎ／ｍを超え
ると、ＰＤＰ用基板のバリアリブが破壊される傾向があ
る。

【０１１８】熱可塑性樹脂層（Ｂ）６を前記のように加
熱すれば、蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成物層
（Ａ）７を積層したＰＤＰ用基板を予熱処理することは
必要ではないが、蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組
成物層（Ａ）７の空間への埋め込み性をさらに向上させ
る点から、蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成物層
（Ａ）７を積層したＰＤＰ用基板を予熱処理することが
好ましい。

【０１１９】この時の予熱温度は、３０〜１３０℃とす
ることが好ましく、また、予熱時間は０．５〜２０分間
とすることが好ましい。

【０１２０】また、蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂
組成物層（Ａ）７の空間への埋め込み性をさらに向上さ
せる点から、上記圧着ロールの表面が、ゴム、プラスチ
ック等の柔軟性に富んだ材質のものを使用することもで
きる。

【０１２１】なお、柔軟性に富んだ材質の層の厚さは、
２００〜４００μｍとすることが好ましい。

【０１２２】さらに同様の目的で、４×１０³Ｐａ以下
の減圧下で、上記した圧着及び加熱圧着操作を行うこと
もできる。

【０１２３】また、積層が完了した後、３０〜１５０℃
の範囲で、１〜１２０分間加熱することもできる。この
時、熱可塑性樹脂（Ｂ）６の上に支持体フィルムが存在
する場合には、その支持体フィルムを必要に応じて除去
してもよい。

【０１２４】また、本発明における（ＩＶ−１）の工程
においても、蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成物
層（Ａ）７と熱可塑性樹脂層（Ｂ）６とを、２層同時に
加熱圧着しながら積層させることもできる。２層同時に
加熱圧着させるときの加熱圧着条件としては、前記熱可
塑性樹脂層（Ｂ）６を加熱圧着させるときの条件を用い
ることができる。

【０１２５】次に、バリアリブ２が形成されたＰＤＰ基
板１上に、感光性エレメント（Ｅ）を積層させた状態を
図４（ＩＶ−２）に示した。

【０１２６】図４（ＩＶ−２）において、バリアリブ２
が形成されたＰＤＰ用基板１上に、熱可塑性樹脂層
（Ｂ）６及び前記蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組
成物層（Ａ）７からなる感光性エレメント（Ｅ）を積層
させる方法としては、例えば感光性エレメント（Ｅ）に
カバーフィルムが存在しているときは、そのカバーフィ
ルムを除去後、ＰＤＰ用基板のバリアリブを形成した面
に、蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成物層（Ａ）
７が接するように配置し、加熱ロール８等により加熱圧
着する方法等が挙げられる。

【０１２７】加熱圧着条件、ＰＤＰ基板の予熱条件等は
（ＩＶ−１）と同様である。

【０１２８】このようにして、蛍光体を含有するネガ型
感光性樹脂組成物層（Ａ）７をＰＤＰ用基板の放電空間
内の基板底面及びリブ壁面に均一に形成することができ
る。 ［（Ｖ）活性光線を像的に照射する工程］活性光線１０
を像的に照射する状態を図４（Ｖ）に示した。（Ｖ）の
工程において、活性光線１０を像的に照射する方法とし
ては、図４（Ｖ）の状態の熱可塑性樹脂（Ｂ）６の上部
に、（ＩＩ）の工程で用いたフォトマスクと同一パター
ンのフォトマスク９を介して、活性光線１０を像的に照
射することができる。このとき、熱可塑性樹脂層（Ｂ）
６の上に支持体フィルムが存在する場合は、その支持体
フィルムを積層したまま活性光線１０を像的に照射して
もよく、また、支持体フィルムを除去した後に活性光線
１０を像的に照射してもよい。

【０１２９】なお、この時、熱可塑性樹脂層（Ｂ）６
が、前記したネガ型感光性樹脂組成物である場合には、
蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層（Ａ）７及び熱可
塑性樹脂層（Ｂ）６は、同時に光硬化することとなる。

【０１３０】また、蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂
組成物層（Ａ）７を溶解しない水、アルカリ水溶液、水
系現像液、有機溶剤等を用いて、熱可塑性樹脂層（Ｂ）
６を溶解により除去した後、フォトマスク９を介して、
活性光線１０を像的に照射することもできる。

【０１３１】活性光線１０としては、公知の活性光源が
使用でき、例えば、カーボンアーク、水銀蒸気アーク、
キセノンアーク、その他から発生する光等が挙げられ
る。

【０１３２】光開始剤の感受性は、通常、紫外線領域に
おいて最大であるので、その場合の活性光源は、紫外線
を有効に放射するものにすべきである。また、光開始剤
が可視光線に感受するもの、例えば、９，１０−フェナ
ンスレンキノン等である場合には、活性光線１０として
は、可視光が用いられ、その光源としては、前記のもの
以外に写真用フラッド電球、太陽ランプ等も使用するこ
とができる。 ［（ＶＩ）現像により（Ａ）層及び（Ｂ）層の不要部を
除去する工程］現像により、（Ａ）層及び（Ｂ）層の不
要部を除去した状態を図４（ＶＩ）に示した。なお、図
４（ＶＩ）において、７′は光硬化後の蛍光体を含有す
るネガ型感光性樹脂組成物層である。

【０１３３】図４（ＶＩ）において、現像方法として
は、例えば、図４（Ｖ）の状態の後、熱可塑性樹脂層
（Ｂ）６の上に支持体フィルムが存在する場合には、こ
れを除去した後、アルカリ水溶液、水系現像液、有機溶
剤等の公知の現像液を用いて、スプレー、揺動浸漬、ブ
ラッシング、スクラッビング等の公知方法により現像を
行い、不要部を除去する方法等が挙げられる。ただし、
蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成物層（Ａ）の現
像に用いる現像液は、蛍光体を含有するネガ型感光性樹
脂組成物層（Ａ）の現像を行うことによって、前述した
ポジ型感光性樹脂層（Ｃ）の未露光部を溶解させたり剥
離させたり変質させたりするものであってはならない。

【０１３４】不要部を除去する場合には、まず、蛍光体
を含有するネガ型感光性樹脂組成物層（Ａ）７及びポジ
型感光性樹脂層（Ｃ）の未露光部を溶解しない水、アル
カリ水溶液、半溶剤水溶液、半溶剤アルカリ水溶液、有
機溶剤等を用いて、熱可塑性樹脂層（Ｂ）６を溶解によ
り除去した後に、現像液を用いて、蛍光体を含有するネ
ガ型感光性樹脂組成物層（Ａ）７の不要部を除去しても
よく、また、熱可塑性樹脂層（Ｂ）６が、前記した蛍光
体を含有するネガ型感光性樹脂組成物層（Ａ）７の現像
液と同一の現像液を使用して現像できるものである場合
には、その現像液を用いて、蛍光体を含有するネガ型感
光性樹脂組成物層（Ａ）７の不要部及び熱可塑性樹脂層
（Ｂ）６を一工程で除去することもできる。

【０１３５】また、蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂
組成物層（Ａ）７の不要部及び熱可塑性樹脂層（Ｂ）６
の不要部を除去する方法として、ドライ現象にて、それ
ぞれ単独に又は一工程で行うこともできる。

【０１３６】なお、このとき、蛍光体を含有するネガ型
感光性樹脂組成物層（Ａ）７が、前記したネガ型感光性
樹脂組成物である場合には、光硬化後の蛍光体を含有す
る感光性樹脂組成物層７′の上部には、光硬化後の熱可
塑性樹脂層（Ｂ）が残存することとなる。

【０１３７】アルカリ水溶液の塩基としては、水酸化ア
ルカリ（リチウム、ナトリウム又はカリウムの水酸化物
等）、炭酸アルカリ（リチウム、ナトリウム又はカリウ
ムの炭酸塩若しくは重炭酸塩等）、アルカリ金属リン酸
塩（リン酸カリウム、リン酸ナトリウム等）、アルカリ
金属ピロリン酸塩（ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸
カリウム等）、水酸化テトラメチルアンモニウム、トリ
エタノールアミンなどが挙げられ、中でも、炭酸ナトリ
ウム、水酸化テトラメチルアンモニウム等が好ましいも
のとして挙げられる。

【０１３８】現像に用いるアルカリ水溶液のｐＨは、９
〜１１とすることが好ましく、また、その温度は、蛍光
体を含有するネガ型感光性樹脂組成物層（Ａ）７及び熱
可塑塑性樹脂層（Ｂ）６の現像性に合わせて調整するこ
とができる。

【０１３９】また、アルカリ水溶液中には、表面活性
剤、消泡剤、現像を促進させるための少量の有機溶剤等
を混入させることができる。

【０１４０】水系現像液としては、水又はアルカリ水溶
液と１種以上の有機溶剤とからなるものが挙げられる。

【０１４１】ここで、アルカリ水溶液の塩基としては、
前記物質以外に、例えば、ホウ砂、メタケイ酸ナトリウ
ム、エタノールアミン、エチレンジアミン、ジエチレン
トリアミン、２−アミノー２−ヒドロキシメチル−１，
３−プロパンジオール、１，３−ジアミノプロパノール
−２−モルホリン、水酸化テトラメチルアンモニウム等
が挙げられる。

【０１４２】水系現像液のｐＨは、８〜１２とすること
が好ましく、９〜１０とすることがより好ましい。

【０１４３】有機溶剤としては、例えば、三アセトンア
ルコール、アセトン、酢酸エチル、炭素数１〜４のアル
コキシ基をもつアルコキシエタノール、エチルアルコー
ル、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、ジエ
チレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリ
コールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノ
ブチルエーテル等が挙げられる。これらは、単独で又は
２種類以上を組み合わせて使用される。

【０１４４】有機溶剤の濃度は、通常、２〜９０重量％
の範囲とされ、また、その温度は、現像性にあわせて調
整することができる。

【０１４５】また、水系現像液中には、界面活性剤、消
泡剤等を少量混入することができる。

【０１４６】単独で用いる有機溶剤現像液としては、例
えば、１，１，１−トリクロロエタン、Ｎ−メチルピロ
リドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、シクロヘキサ
ノン、メチルイソブチルケトン、γ−ブチロラクトン等
が挙げられる。これらの有機溶剤には、引火防止のた
め、１〜２０重量％の範囲で水を添加してもよい。

【０１４７】また、現像後、ＰＤＰ用基板の放電空間内
の基板底面及びリブ壁面における蛍光体を含有するネガ
型感光性樹脂組成物層７′の密着性及び耐薬品性等を向
上させる目的で、加熱を行うこともできる。このときの
温度は、６０〜１８０℃とすることが好ましく、１００
〜１８０℃とすることがより好ましい。ただし、この温
度範囲であっても、ポジ型感光性樹脂層（Ｃ）が変形し
たり変質したりする場合は、ポジ型感光性樹脂層（Ｃ）
が変形したり変質したりすることがない範囲の温度に設
定することが好ましい。また、加熱時間は、１５〜９０
分間とすることが好ましい。 ［（ＶＩＩ）（ＩＩ）〜（ＶＩ）の工程を繰り返して、
赤、緑及び青に発色する蛍光体を有するネガ型感光性樹
脂組成物からなる多色パターンを形成する工程］前記
（ＩＩ）〜（ＶＩ）の各工程を繰り返して、赤、緑及び
青に発色する蛍光体を含有するネガ型感光性樹組成物か
らなる多色パターンを形成した状態を図５に示した。な
お、図５において、７′ａは１色目のパターン、７′ｂ
は２色目のパターン及び７′ｃは３色目のパターンであ
る。

【０１４８】本発明において、赤色、青色及び緑色に発
色するそれぞれの蛍光体を単独で含む蛍光体を含有する
感光性樹脂組成物層（Ａ）７は、赤色、青色及び緑色の
各色について、どの様な順番でも行うことができる。

【０１４９】前記（ＩＩ）〜（ＶＩ）の工程を１回行っ
て１色目のパターンを形成した後、２回目の（ＩＩＩ）
の工程まで終了した状態を図５（ＶＩＩ）に示す。ま
た、前記（ＩＩ）〜（ＶＩ）の工程を２回行って１色目
及び２色目のパターンを形成した後、３回目の（ＩＩ
Ｉ）の工程まで終了した状態を図５（ＶＩＩ）に示す。

【０１５０】本発明において、（ＩＶ）の工程で蛍光体
を含有するネガ型感光性樹脂組成物層を形成しようとす
る放電空間４′以外の放電空間には、ポジ型感光性樹脂
層（Ｃ）５、又は光硬化後の蛍光体を含有するネガ型感
光性樹組成物層（Ａ）７′のどちらかが形成されてお
り、（ＩＶ）の工程を行うときの放電空間まわりの対称
性が向上しているので、特に対称性に優れた（Ａ）層を
形成することができる。 ［（ＶＩＩＩ）焼成により不要分を除去する工程］本発
明における（ＶＩＩＩ）の工程を行い多色の蛍光体パタ
ーンを形成した状態を図５（ＶＩＩＩ）に示した。図５
（ＶＩＩＩ）において、１１ａは１色目の蛍光体パター
ン、１１ｂは２色目の蛍光体パターン及び１１ｃは３色
目の蛍光体パターンである。

【０１５１】（ＶＩＩＩ）の工程において、焼成方法と
しては、特に制限はなく、公知の焼成方法を使用し、蛍
光体及び結着剤以外の不要分を除去し、蛍光体パターン
を形成することができる。

【０１５２】この時の焼成温度は、３５０〜８００℃と
することが好ましく、４００〜６００℃とすることがよ
り好ましい。また、焼成時間は３〜１２０分間とするこ
とが好ましく、５〜９０分間とすることがより好まし
い。

【０１５３】

【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて詳細に説明
するが、本発明はこれに限定されるものではない。

【０１５４】製造例１ ［ポジ型感光性樹脂溶液の作製］撹拌機、還流冷却機、
温度計、滴下ロート及び窒素ガス導入管を備えたフラス
コにプロピレングリコールモノメチルエーテル２４０ｇ
を仕込み、窒素ガス雰囲気下で９０℃に昇温した。反応
温度を９０±２℃に保ちながら、ｔｅｒｔ−アミルアク
リレート１２０ｇ、メチルメタクリレート８０ｇ及びア
ゾビスイソブチロニトリル２ｇを混合した液を２時間か
けてフラスコ内に滴下した。その後、９０℃±２℃で３
時間撹拌を続けた後に、アゾビスジメチルバレロニトリ
ル１ｇをプロピレングリコールモノメチルエーテル４０
ｇに溶解した液を１０分かけてフラスコ内に滴下し、そ
の後再び９０℃±２℃で４時間撹拌を続け、重量平均分
子量３９，０００のｔｅｒｔ−アミルアクリレートの共
重合ポリマー溶液を得た。

【０１５５】このようにして得られたｔｅｒｔ−アミル
アクリレートの共重合ポリマー溶液２４０ｇ（ポリマー
固形１００ｇ）に、下記一般式（Ｉ）

【０１５６】

【化３】 であるｐ−ニトロベンジル誘導体１５ｇを溶解させて、
ポジ型感光性樹脂の溶液を得た。

【０１５７】製造例２ ［フィルム性付与ポリマー（ａ）の作製］撹拌機、還流
冷却機、不活性ガス導入口及び温度計を備えたフラスコ
に、表１に示すを仕込み、窒素ガス雰囲気下で８０℃
に昇温し、反応温度を８０℃±２℃に保ちながら、表１
に示すを４時間かけて均一に滴下した。の滴下後、
８０℃±２℃で６時間撹拌を続け、重量平均分子量が８
０，０００、酸価が１３０ｍｇＫＯＨ／ｇのフィルム性
付与ポリマー（ａ）を得た。

【０１５８】

【表１】 製造例３ ［赤色の蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成物層を
含む感光性エレメント（Ａ−Ｒ）の作製］表２に示す材
料を、ライカイ機を用いて１５分間混合し、赤色の蛍光
体を含有するネガ型感光性樹脂組成物溶液を調製した。

【０１５９】

【表２】 得られた溶液を、２０μｍの厚さのポリエチレンテレフ
タレートフィルム上に均一に塗布し、８０〜１１０℃の
熱風対流式乾燥機で１０分間乾燥して溶剤を除去し、赤
色の蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成物層（Ａ）
を形成した。得られた赤色の蛍光体を含有するネガ型感
光性樹脂組成物層の乾燥後の厚さは、６０μｍであっ
た。

【０１６０】次いで、赤色の蛍光体を含有するネガ型感
光性樹脂組成物層（Ａ）の上に、厚さが２５μｍのポリ
エチレンフィルムをカバーフィルムとして張り合わせ
て、赤色の蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成物層
（Ａ）を含む感光性エレメント（Ａ−Ｒ）を作製した。

【０１６１】製造例４ ［緑色の蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成物層
（Ａ）を含む感光性エレメント（Ａ−Ｇ）の作製］表２
に示す材料に代えて、表３に示す材料を使用した以外
は、製造例３と同様にして、緑色の蛍光体を含有するネ
ガ型感光性樹脂組成物層を形成した。得られた緑色の蛍
光体を含有するネガ型感光性樹脂組成物層の乾燥後の厚
さは、６０μｍであった。

【０１６２】

【表３】 次いで、製造例３と同様にして、緑色の蛍光体を含有す
るネガ型感光性樹脂組成物層（Ａ）を含む感光性エレメ
ント（Ａ−Ｇ）を作製した。

【０１６３】製造例５ ［青色の蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成物層
（Ａ）を含む感光性エレメント（Ａ−Ｂ）の作製］表２
に示す材料に代えて、表４に示す材料を使用した以外
は、製造例３と同様にして、青色の蛍光体を含有するネ
ガ型感光性樹脂組成物層を形成した。得られた緑色の蛍
光体を含有するネガ型感光性樹脂組成物層の乾燥後の厚
さは、６０μｍであった。

【０１６４】

【表４】 次いで、製造例３と同様にして、緑色の蛍光体を含有す
るネガ型感光性樹脂組成物層（Ａ）を含む感光性エレメ
ント（Ａ−Ｂ）を作製した。

【０１６５】製造例６ ［熱可塑性樹脂層（Ｂ）を含むフィルム（Ｂ−１）の作
製］表５に示す材料からなる樹脂溶液を、２０μｍの厚
さのポリエチレンテレフタレートフィルム上に均一に塗
布し、熱可塑性樹脂層（Ｂ）を形成した。得られた熱可
塑性樹脂層（Ｂ）の乾燥後の厚さは７０μｍであった。

【０１６６】

【表５】 次いで、熱可塑性樹脂層（Ｂ）の上に厚さが２５μｍの
ポリエチレンテレフタレートフィルムをカバーフィルム
として張り合せて、熱可塑性樹脂層（Ｂ）を含むフィル
ム（Ｂ−１）を作製した。

【０１６７】製造例７ ［熱可塑性樹脂層（Ｂ）及び赤色の蛍光体を含有するネ
ガ型感光性樹脂組成物層（Ａ）を含む感光性エレメント
（Ｅ−Ｒ）の作製］表２に示す材料を、ライカイ機を用
いて１５分間混合し、蛍光体を含有するネガ型感光性樹
脂組成物溶液を調製した。

【０１６８】得られた溶液を、製造例６で得た熱可塑性
樹脂層を含むフィルム（Ｂ−１）のポリエチレンテレフ
タレートフィルムを剥離した後、熱可塑性樹脂層（Ｂ）
の上に均一に塗布し、８０〜１１０℃の熱風対流式乾燥
機で１０分間乾燥して溶剤を除去し、赤色の蛍光体を含
有するネガ型感光性樹脂組成物層（Ａ）を形成した。得
られた赤色の蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成物
層の乾燥後の厚さは、６０μｍであった。

【０１６９】次いで、赤色の蛍光体を含有するネガ型感
光性樹脂組成物層（Ａ）の上に、厚さが２５μｍのポリ
エチレンフィルムをカバーフィルムとして張り合わせ
て、赤色の蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成物層
（Ａ）を含む感光性エレメント（Ｅ−Ｒ）を作製した。

【０１７０】製造例８ ［熱可塑性樹脂層（Ｂ）及び緑色の蛍光体を含有するネ
ガ型感光性樹脂組成物層（Ａ）を含む感光性エレメント
（Ｅ−Ｇ）の作製］表２に示す材料に代えて、表３に示
す材料を使用した以外は、製造例７と同様にして、緑色
の蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成物層を形成し
た。得られた緑色の蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂
組成物層の乾燥後の厚さは、６０μｍであった。

【０１７１】次いで、緑色の蛍光体を含有するネガ型感
光性樹脂組成物層（Ａ）の上に、厚さが２５μｍのポリ
エチレンフィルムをカバーフィルムとして張り合わせ
て、緑色の蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成物層
（Ａ）を含む感光性エレメント（Ｅ−Ｇ）を作製した。

【０１７２】製造例９ ［熱可塑性樹脂層（Ｂ）及び青色の蛍光体を含有するネ
ガ型感光性樹脂組成物層（Ａ）を含む感光性エレメント
（Ｅ−Ｂ）の作製］表２に示す材料に代えて、表４に示
す材料を使用した以外は、製造例７と同様にして、青色
の蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成物層を形成し
た。得られた青色の蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂
組成物層の乾燥後の厚さは、６０μｍであった。

【０１７３】次いで、青色の蛍光体を含有するネガ型感
光性樹脂組成物層（Ａ）の上に、厚さが２５μｍのポリ
エチレンフィルムをカバーフィルムとして張り合わせ
て、青色の蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成物層
（Ａ）を含む感光性エレメント（Ｅ−Ｂ）を作製した。

【０１７４】次に、ＰＤＰ用基板（ストライプ状バリア
リブ、バリアリブ間の開口幅１５０μｍ、バリアリブの
幅７０μｍ、バリアリブの高さ１５０μｍ）のバリアリ
ブが形成された側に、上記ポジ型感光性樹脂の溶液の塗
布と１００℃で１５分の乾燥とを５回繰り返して、空間
にポジ型感光性樹脂を充填した。

【０１７５】実施例１ ［蛍光パターンの作製］ ［（Ｉ）バリアリブが形成されたプラズマディスプレイ
パネル用基板の放電空間内にポジ型感光性樹脂層を形成
する工程］ＰＤＰ用基板（ストライプ状バリアリブ、バ
リアリブ間の開口幅１５０μｍ、バリアリブの幅７０μ
ｍ、バリアリブの高さ１５０μｍ）のバリアリブが形成
された側に、製造例１で得られたポジ型感光性樹脂の溶
液をロールコート法により塗布し、１００℃で１５分乾
燥してポジ型感光性樹脂層（Ｃ）をＰＤＰ用基板の放電
空間内に形成した。 ［（ＩＩ）活性光線を像的に照射する工程］次いで、ポ
ジ型感光性樹脂層（Ｃ）を形成したＰＤＰ用基板に、赤
色用フォトレジストマスクを密着させて、（株）オーク
製作所製、ＨＭＷ−５９０型露光機を使用し、２００ｍ
Ｊ／ｃｍ²で活性光線を像的に照射した。 ［（ＩＩＩ）現像によりポジ型感光性樹脂層（Ｃ）の照
射部を除去する工程］次いで、１２０℃で１５分間加熱
した後、１重量％のメタケイ酸ナトリウム水溶液で１５
０秒間スプレー現像して、ポジ型感光性樹脂層（Ｃ）の
照射部を除去した。その後、蒸留水を５分間スプレーし
て洗浄し、８０℃の熱風を１０分間吹けつけて乾燥し
た。 ［（ＩＶ−１）プラズマディスプレイパネル用基板上
に、蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成物層（Ａ）
の上部に熱可塑性樹脂層が配置された状態で、（Ｂ）層
を加熱圧着する工程］次いで、このＰＢＰ用基板に、製
造例３で得られた蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組
成物層（Ａ）を含む感光性エレメント（Ａ−Ｒ）を、ポ
リエチレンフィルムを剥がしながら真空ラミネータ（日
立化成工業（株）製、商品名ＶＬＭ−１型）を用いて、
ヒートシュー温度が３０℃、ラミネート速度が１．５ｍ
／分、気圧が４０００Ｐａ以下、圧着圧力が線圧で２．
５×１０⁵Ｎ／ｍで積層した。

【０１７６】次いで、赤色の蛍光体を含有するネガ型感
光性樹脂組成物層（Ａ）を含む感光性エレメント（Ａ−
Ｒ）のポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離し、
赤色の蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成物層
（Ａ）上に、製造例６で得られた熱可塑性樹脂層（Ｂ）
を含むフィルム（Ｂ−１）をポリエチレンテレフタレー
トフィルムを剥がしながら、ラミネータ（日立化成工業
（株）製、商品名ＨＬＭ−３０００型）を用いて、ラミ
ネート速度が０．５ｍ／分、圧着圧力が線圧で５．０×
１０⁵Ｎ／ｍで積層した。 ［（Ｖ）活性光線を、（ＩＩ）の工程と同一のパターン
で像的に照射する工程］次いで、熱可塑性樹脂層（Ｂ）
を含むフィルム（Ｂ−１）のポリエチレンテレフタレー
トフィルム上に、（ＩＩ）の工程で用いた赤色フォトマ
スクを密着させて、（株）オーク製作所製、ＨＭＷ−５
９０型露光機を使用し、１００ｍＪ／ｃｍ²で活性光線
を像的に照射した。 ［（ＶＩ）現像により、（ＩＶ−１）の工程で加熱圧着
された（Ａ）層及び（Ｂ）層の不要部を除去する工程］
次いで、活性光線の照射後、常温で１時間放置した後、
１重量％炭酸ナトリウム水溶液を用いて、３０℃で７０
秒間スプレー現像した。現像後、蒸留水を５分間吹きつ
けて洗浄し、８０℃の熱風を１０分間吹きつけて乾燥し
て赤色の蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成物層
（Ａ）のパターンを得た。 ［（ＶＩＩ）（ＩＩ）〜（ＶＩ）の工程を繰り返して、
赤、緑及び青に発色する蛍光体を有するネガ型感光性樹
脂組成物からなる多色パターンを形成する工程］次い
で、上記の（ＩＩ）〜（ＶＩ）の工程において、赤色用
フォトマスクの代わりに緑色用フォトマスクを用い、赤
色の蛍光体を含有するネガ型感光性エレメント（Ａ−
Ｒ）の代わりに緑色の蛍光体を含有するネガ型感光性エ
レメント（Ａ−Ｇ）を用いて（ＩＩ）〜（ＶＩ）の工程
を繰り返し、緑色の蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂
組成物層（Ａ）のパターンを付け加えた。

【０１７７】次いで、上記の（ＩＩ）〜（ＶＩ）の工程
において、赤色用フォトマスクの代わりに青色用フォト
マスクを用い、赤色の蛍光体を含有するネガ型感光性エ
レメント（Ａ−Ｒ）の代わりに青色の蛍光体を含有する
ネガ型感光性エレメント（Ａ−Ｂ）を用いて（ＩＩ）〜
（ＶＩ）の工程を繰り返し、青色の蛍光体を含有するネ
ガ型感光性樹脂組成物層（Ａ）のパターンを付け加え
て、赤、緑及び青色の蛍光体を含有するネガ型感光性樹
脂組成物層のパターンを作製した。 ［（ＶＩＩＩ）焼成により不要分を除去する工程］次い
で、５５０℃で３０分間加熱処理（焼成）を行い、不必
要な樹脂成分を除去し、ＰＤＰ用基板の空間に蛍光体パ
ターンを形成させた。 ［蛍光体パターンの評価］得られた蛍光体パターンの断
面のＳＥＭ写真を撮り、蛍光体層と放電空間底面との間
の空隙の有無と蛍光体層の形状の観察及び放電空間の底
面中央及びリブの中央部の蛍光体層の厚さの測定を行
い、結果を表６に示した。

【０１７８】

【表６】 実施例２ 実施例１において（ＩＶ−１）及び（Ｖ−１）の工程を
次に示す（ＩＶ−２）及び（Ｖ−２）の工程に変えた他
は同様にして、ＰＤＰ用基板の空間に蛍光体パターンを
形成させた。蛍光体パターンの評価を表７に示す。 ［（ＩＶ−２）プラズマディスプレイパネル用基板上
に、感光性エレメント（Ｅ）（支持体フィルム上に熱可
塑性樹脂層（Ｂ）を設け、その上に蛍光体を含有するネ
ガ型感光性樹脂組成物層（Ａ）を設けた多層フィルム）
を加熱圧着する工程］次いで、このＰＢＰ用基板に、製
造例７で得られた熱可塑性樹脂層（Ｂ）及び赤色の蛍光
体を含有するネガ型感光性樹脂組成物層（Ａ）を含む感
光性エレメント（Ｅ−Ｒ）を、ポリエチレンフィルムを
剥がしながら真空ラミネータ（日立化成工業（株）製、
商品名ＶＬＭ−１型）を用いて、ヒートシュー温度が１
１０℃、ラミネート速度が０．５ｍ／分、気圧が４００
０Ｐａ以下、圧着圧力が線圧で５．０×１０⁵Ｎ／ｍで
積層した。 ［（Ｖ−２）活性光線を、（ＩＩ）の工程と同一のパタ
ーンで像的に照射する工程］次いで、感光性エレメント
のポリエチレンテレフタレートフィルム上に、（ＩＩ）
の工程で用いた赤色フォトマスクを密着させて、（株）
オーク製作所製、ＨＭＷ−５９０型露光機を使用し、１
００ｍＪ／ｃｍ²で活性光線を像的に照射した。

【０１７９】

【表７】 比較例１ 実施例１と同様のプラズマディスプレイパネル用基板
に、赤色の蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成物層
（Ａ）を含む感光性エレメント（Ａ−Ｒ）を、ポリエチ
レンフィルムを剥離しながら、ラミネータ（日立化成工
業（株）製、商品名ＨＬＭ−３０００型）を用いて、ラ
ミネート温度が１１０℃、ラミネート速度が０．５ｍ／
分、圧着圧力が線圧で５．０×１０⁵Ｎ／ｍで積層し
た。

【０１８０】次いで、赤色の蛍光体を含有するネガ型感
光性樹脂組成物層（Ａ）を含む感光性エレメント（Ａ−
Ｒ）のポリエチレンテレフタレートフィルム上に赤色用
フォトマスクを密着させて、（株）オーク製作所製、Ｈ
ＭＷ−５９０型露光機を使用し、１００ｍＪ／ｃｍ²で
活性光線を像的に照射した。

【０１８１】次いで、活性光線の照射後、常温で１時間
放置した後、１重量％炭酸ナトリウム水溶液を用いて、
３０℃で７０秒間スプレー現像した。現像後、蒸留水を
５分間吹きつけて洗浄し、８０℃の熱風を１０分間吹き
つけて乾燥して赤色の蛍光体を含有するネガ型感光性樹
脂組成物層（Ａ）のパターンを得た。

【０１８２】同様の工程をさらに２回繰り返して、緑色
の蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成物層のパター
ン及び青色の蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成物
層のパターンをつけ加えて、赤、緑及び青色の蛍光体を
含有するネガ型感光性樹脂組成物層のパターンを作製し
た。

【０１８３】次いで、実施例と同様の条件で熱処理を行
い、ＰＤＰ用基板の空間に蛍光体パターンを形成させ
た。

【０１８４】得られた蛍光体パターンの断面のＳＥＭ写
真を撮り、蛍光体の観察を行った結果、蛍光体層と放電
空間底面との間に隙間が生じ、蛍光体層は放電空間底面
まで到達していなかった。

【０１８５】この結果から、蛍光体を含有するネガ型感
光性樹脂組成物層（Ａ）を含む感光性エレメントを熱圧
着する従来の方法では、ポジ型感光性樹脂（Ｃ）及び熱
可塑性樹脂層を含むフィルムを使用した、実施例１及び
２と比較して、ＰＤＰ用基板の空間における蛍光体パタ
ーンの形成性（ＰＤＰ用基板のバリアリブ面及び空間底
面上への埋め込み性）が劣ることが分かる。

【０１８６】

【発明の効果】本発明の蛍光体パターンの製造法は、Ｐ
ＤＰ用基板の空間への埋め込み性（ＰＤＰ用基板の放電
空間内のバリアリブ壁面及び基板底面上における蛍光体
を含有する感光性樹脂組成物層の形成性）が優れ、高精
度で均一な形状の蛍光体パターンを形成できる。

【０１８７】また、本発明はさらに作業性に優れる蛍光
体パターンの製造法を提供するものである。

【図面の簡単な説明】

【図１】バリアリブが形成されたＰＤＰ用基板の一例を
示した模式図である。

【図２】バリアリブが形成されたＰＤＰ用基板の一例を
示した模式図である。

【図３】本発明の蛍光体パターンの製造方法の各工程を
示した模式図である。

【図４】本発明の蛍光体パターンの製造方法の各工程を
示した模式図である。

【図５】蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層からなる
多色パターンを形成した状態を示した模式図である。

【符号の説明】

１ 基板 ２ バリアリブ ３ 格子状放電空間 ４ ストライプ状放電空間 ４′ 蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成物層を形
成するストライプ状放電空間 ５ ポジ型感光性樹脂層（Ｃ） ６ 熱可塑性樹脂層（Ｂ） ７ 蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成物層（Ａ） ７′光硬化後の蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成
物層（Ａ） ７′ａ １色目の蛍光体パターン ７′ｂ ２色目の蛍光体パターン ７′ｃ ３色目の蛍光体パターン ８ 加熱ロール ９ フォトマスク １０ 活性光線 １１ａ １色目の蛍光体パターン １１ｂ ２色目の蛍光体パターン １１ｃ ３色目の蛍光体パターン

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｊ 9/227 Ｈ０１Ｊ 9/227 Ｅ // Ｃ０９Ｄ 4/06 Ｃ０９Ｄ 4/06 (72)発明者 和田 有美子 茨城県日立市東町４丁目13番１号 日立化 成工業株式会社茨城研究所内 (72)発明者 田井 誠司 茨城県日立市東町４丁目13番１号 日立化 成工業株式会社茨城研究所内

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （Ｉ）バリアリブが形成されたプラズマ
   ディスプレイパネル用基板の放電空間内の基板底面及び
   リブ壁面にポジ型感光性樹脂層（Ｃ）を形成する工程、
   （ＩＩ）活性光線を像的に照射する工程、（ＩＩＩ）現
   像によりポジ型感光性樹脂層（Ｃ）の照射部を除去する
   工程、（ＩＶ）所望の部位のみポジ型感光性樹脂層
   （Ｃ）が除去されたプラズマディスプレイパネル用基板
   上に、蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成物層
   （Ａ）と熱可塑性樹脂層（Ｂ）とを（Ａ）層を基板側に
   して加熱圧着する工程、（Ｖ）活性光線を（ＩＩ）の工
   程と同一のパターンで像的に照射する工程、（ＶＩ）現
   象により（ＩＶ）の工程で加熱圧着された（Ａ）層及び
   （Ｂ）層の不要部を除去する工程、（ＶＩＩ）（ＩＩ）
   〜（ＶＩ）の工程を繰り返して、赤、緑及び青に発色す
   る蛍光体を含有する感光性樹脂組成物からなる多色パタ
   ーンを形成する工程及び（ＶＩＩＩ）焼成により不要分
   を除去する工程からなることを特徴とする蛍光体パター
   ンの製造法。
2. 【請求項２】 （ＩＶ）の工程を、プラズマディスプレ
   イパネル用基板上に、蛍光体を含有するネガ型感光性樹
   脂層（Ａ）の上部に熱可塑性樹脂層（Ｂ）が配置された
   状態で熱可塑性樹脂層（Ｂ）を加熱圧着することにより
   行う請求項１記載の蛍光体パターンの製造法。
3. 【請求項３】 （ＶＩ）の工程の蛍光体を含有するネガ
   型感光性樹脂層（Ａ）及び熱可塑性樹脂層（Ｂ）の不要
   部の除去を同一の現像液を使用して現像することにより
   行う請求項２記載の蛍光体パターンの製造法。
4. 【請求項４】 （ＩＶ）の工程を、プラズマディスプレ
   イパネル用基板上に、支持体フィルム上に設けた熱可塑
   性樹脂層（Ｂ）の上に蛍光体を含有するネガ型感光性樹
   脂組成物層（Ａ）を設けた多層フィルムからなる感光性
   エレメントを加熱圧着することにより行う請求項１記載
   の蛍光体パターンの製造法。
5. 【請求項５】 （ＩＩＩ）の工程のポジ型感光性樹脂層
   （Ｃ）の照射部の除去並びに（ＶＩ）の工程の蛍光体を
   含有するネガ型感光性樹脂層（Ａ）及び熱可塑性樹脂層
   （Ｂ）の不要部の除去を同一の現像液を使用して現像す
   ることにより行う請求項４記載の蛍光体パターンの製造
   法。
6. 【請求項６】 蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成
   物層（Ａ）が、（ａ）フィルム性付与ポリマー、（ｂ）
   末端にエチレン性不飽和基を有する光重合性不飽和化合
   物、（ｃ）活性光線の照射により遊離ラジカルを生成す
   る光開始剤及び（ｄ）蛍光体、を含むものである請求項
   １記載の蛍光体パターンの製造法。