JPH10172431A - 蛍光体パターンの製造法 - Google Patents
蛍光体パターンの製造法Info
- Publication number
- JPH10172431A JPH10172431A JP33010696A JP33010696A JPH10172431A JP H10172431 A JPH10172431 A JP H10172431A JP 33010696 A JP33010696 A JP 33010696A JP 33010696 A JP33010696 A JP 33010696A JP H10172431 A JPH10172431 A JP H10172431A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- phosphor
- resin composition
- photosensitive resin
- phosphor pattern
- pattern
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- Pending
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- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 蛍光体の混色がなく色精度が優れ、高精度で
均一な形状の蛍光体パターンを形成できる蛍光体パター
ンの製造法を提供する。 【解決手段】 放電空間となるべき凹部を有する基板に
蛍光体を含む感光性樹脂組成物にフォトリソグラフ法を
適用することを異色の感光性樹脂組成物について繰返
し、放電空間となるべき凹部を有する基板の凹部内表面
に多色の蛍光体パターンを規則的に形成する蛍光体パタ
ーンの製造法において、所定の色の蛍光体パターンの形
成時に、その蛍光体パターンを形成しようとする凹部以
外の凹部を予め塞いでおくことを特徴とする蛍光体パタ
ーンの製造法。
均一な形状の蛍光体パターンを形成できる蛍光体パター
ンの製造法を提供する。 【解決手段】 放電空間となるべき凹部を有する基板に
蛍光体を含む感光性樹脂組成物にフォトリソグラフ法を
適用することを異色の感光性樹脂組成物について繰返
し、放電空間となるべき凹部を有する基板の凹部内表面
に多色の蛍光体パターンを規則的に形成する蛍光体パタ
ーンの製造法において、所定の色の蛍光体パターンの形
成時に、その蛍光体パターンを形成しようとする凹部以
外の凹部を予め塞いでおくことを特徴とする蛍光体パタ
ーンの製造法。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、蛍光体パターンの
製造法に関する。
製造法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、平板ディスプレイの1つとし
て、プラズマ放電により発光する蛍光体を設けることに
よって多色表示を可能にしたプラズマディスプレイパネ
ル(以下PDPと記す)が知られている。PDPは、ガ
ラスからなる平板状の前面板と背面板とが互い平行にか
つ対向して配設され、両者はその間に設けられたバリア
リブにより一定の間隔に保持されており、前面板、背面
板及びバリアリブに囲まれた空間で放電する構造になっ
ている。このような空間には、表示のための蛍光体が塗
布され、放電によって封入ガスから発生する紫外線によ
って蛍光体が発光させられ、この光を観察者が視認でき
るようになっている
て、プラズマ放電により発光する蛍光体を設けることに
よって多色表示を可能にしたプラズマディスプレイパネ
ル(以下PDPと記す)が知られている。PDPは、ガ
ラスからなる平板状の前面板と背面板とが互い平行にか
つ対向して配設され、両者はその間に設けられたバリア
リブにより一定の間隔に保持されており、前面板、背面
板及びバリアリブに囲まれた空間で放電する構造になっ
ている。このような空間には、表示のための蛍光体が塗
布され、放電によって封入ガスから発生する紫外線によ
って蛍光体が発光させられ、この光を観察者が視認でき
るようになっている
【0003】従来、この蛍光体を設ける方法としては、
各色蛍光体を分散させたスラリー液もしくはペーストを
スクリーン印刷等の方法によって塗布する方法が提案さ
れており、特開平1−115027号公報、特開平1−
124929号公報、特開平1−124930号公報、
特開平2−155142号公報等に開示されている。し
かし、上記の蛍光体分散スラリー液は液状であるため、
蛍光体の沈殿等による分散不良が生じやすく、またスラ
リー液に液状の感光性レジストを用いた場合には、暗反
応の促進等により保存安定性が乏しくなる等の欠点を有
する。さらにスクリーン印刷等の印刷方法は印刷精度に
劣るため、将来的なPDPの大画面化への対応は困難で
ある等の問題がある。
各色蛍光体を分散させたスラリー液もしくはペーストを
スクリーン印刷等の方法によって塗布する方法が提案さ
れており、特開平1−115027号公報、特開平1−
124929号公報、特開平1−124930号公報、
特開平2−155142号公報等に開示されている。し
かし、上記の蛍光体分散スラリー液は液状であるため、
蛍光体の沈殿等による分散不良が生じやすく、またスラ
リー液に液状の感光性レジストを用いた場合には、暗反
応の促進等により保存安定性が乏しくなる等の欠点を有
する。さらにスクリーン印刷等の印刷方法は印刷精度に
劣るため、将来的なPDPの大画面化への対応は困難で
ある等の問題がある。
【0004】これらの問題点の解決には、蛍光体を含有
させた感光性エレメント(感光性フィルムともいう)を
用いる方法が提案されている(特開平6−273925
号公報)。感光性エレメントを用いる方法とは、蛍光体
を含有する感光性樹脂層と支持体フィルムよりなる感光
性エレメントの蛍光体を含有する感光性樹脂層を、加熱
圧着(ラミネート)により前記PDP用基板の空間に埋
め込み、次に、ネガフィルムを用いて、写真法により紫
外線等の活性光で像的に露光し、その後、アルカリ水溶
液等の現像液で、未露光部分を除去し、さらに、焼成に
より不必要な有機成分を取り除いて、必要な部分のみに
蛍光体パターンを形成するものである。従って、前記P
DP用基板の空間に蛍光体パターンを形成する際には、
蛍光体の分散性を確認する必要はなく、また、蛍光体分
散スラリー液若しくはペーストに比べて保存安定性にも
優れている。さらに、写真法を用いるため、精度良く蛍
光体パターンを形成することができる。
させた感光性エレメント(感光性フィルムともいう)を
用いる方法が提案されている(特開平6−273925
号公報)。感光性エレメントを用いる方法とは、蛍光体
を含有する感光性樹脂層と支持体フィルムよりなる感光
性エレメントの蛍光体を含有する感光性樹脂層を、加熱
圧着(ラミネート)により前記PDP用基板の空間に埋
め込み、次に、ネガフィルムを用いて、写真法により紫
外線等の活性光で像的に露光し、その後、アルカリ水溶
液等の現像液で、未露光部分を除去し、さらに、焼成に
より不必要な有機成分を取り除いて、必要な部分のみに
蛍光体パターンを形成するものである。従って、前記P
DP用基板の空間に蛍光体パターンを形成する際には、
蛍光体の分散性を確認する必要はなく、また、蛍光体分
散スラリー液若しくはペーストに比べて保存安定性にも
優れている。さらに、写真法を用いるため、精度良く蛍
光体パターンを形成することができる。
【0005】しかし、従来の方法により感光性エレメン
トを使用して蛍光体を含有する感光性樹脂層を、ラミネ
ートにより前記PDP用基板の空間(セル内)に埋め込
むと、バリアリブ壁面及び空間底面上に蛍光体パターン
を均一な層厚、形状で形成することが困難であった。
トを使用して蛍光体を含有する感光性樹脂層を、ラミネ
ートにより前記PDP用基板の空間(セル内)に埋め込
むと、バリアリブ壁面及び空間底面上に蛍光体パターン
を均一な層厚、形状で形成することが困難であった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】請求項1記載の発明
は、蛍光体の混色がなく色精度が優れ、高精度で均一な
形状の蛍光体パターンを形成できる蛍光体パターンの製
造法を提供するものである。請求項2及び3記載の発明
は、請求項1記載の発明の効果に加えて、さらに作業性
に優れる蛍光体パターンの製造法を提供するものであ
る。請求項4記載の発明は、請求項1、2又は3記載の
発明の効果に加えて、さらにPDP用基板の空間への埋
め込み性(PDP用基板のバリアリブ壁面及び空間底面
上における蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層の形成
性)に優れる蛍光体パターンの製造法を提供するもので
ある。請求項5記載の発明は、請求項4記載の発明の効
果に加えて、さらに作業性に優れる蛍光体パターンの製
造法を提供するものである。
は、蛍光体の混色がなく色精度が優れ、高精度で均一な
形状の蛍光体パターンを形成できる蛍光体パターンの製
造法を提供するものである。請求項2及び3記載の発明
は、請求項1記載の発明の効果に加えて、さらに作業性
に優れる蛍光体パターンの製造法を提供するものであ
る。請求項4記載の発明は、請求項1、2又は3記載の
発明の効果に加えて、さらにPDP用基板の空間への埋
め込み性(PDP用基板のバリアリブ壁面及び空間底面
上における蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層の形成
性)に優れる蛍光体パターンの製造法を提供するもので
ある。請求項5記載の発明は、請求項4記載の発明の効
果に加えて、さらに作業性に優れる蛍光体パターンの製
造法を提供するものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、放電空間とな
るべき凹部を有する基板に蛍光体を含む感光性樹脂組成
物にフォトリソグラフ法を適用することを異色の感光性
樹脂組成物について繰返し、放電空間となるべき凹部を
有する基板の凹部内表面に多色の蛍光体パターンを規則
的に形成する蛍光体パターンの製造法において、所定の
色の蛍光体パターンの形成時に、その蛍光体パターンを
形成しようとする凹部以外の凹部を予め塞いでおくこと
を特徴とする蛍光体パターンの製造法に関する。また、
本発明は、蛍光体パターンを形成しようとする凹部以外
の凹部を予め塞いでおくことを、ポジ型感光性樹脂組成
物にフォトリソグラフ法を適用することにより行う前記
蛍光体パターンの製造法に関する。また、本発明はポジ
型感光性樹脂組成物にフォトリソグラフ法を適用するこ
とを、ポジ型感光性エレメントにフォトリソグラフ法を
適用して蛍光体パターンを形成しようとする凹部以外の
凹部をテンティングすることにより行う前記蛍光体パタ
ーンの製造法に関する。
るべき凹部を有する基板に蛍光体を含む感光性樹脂組成
物にフォトリソグラフ法を適用することを異色の感光性
樹脂組成物について繰返し、放電空間となるべき凹部を
有する基板の凹部内表面に多色の蛍光体パターンを規則
的に形成する蛍光体パターンの製造法において、所定の
色の蛍光体パターンの形成時に、その蛍光体パターンを
形成しようとする凹部以外の凹部を予め塞いでおくこと
を特徴とする蛍光体パターンの製造法に関する。また、
本発明は、蛍光体パターンを形成しようとする凹部以外
の凹部を予め塞いでおくことを、ポジ型感光性樹脂組成
物にフォトリソグラフ法を適用することにより行う前記
蛍光体パターンの製造法に関する。また、本発明はポジ
型感光性樹脂組成物にフォトリソグラフ法を適用するこ
とを、ポジ型感光性エレメントにフォトリソグラフ法を
適用して蛍光体パターンを形成しようとする凹部以外の
凹部をテンティングすることにより行う前記蛍光体パタ
ーンの製造法に関する。
【0008】また、本発明は、前記蛍光体を含む感光性
樹脂組成物にフォトリソグラフ法を適用することが、放
電空間となるべき凹部を有する基板に、支持体、熱可塑
性樹脂層及び蛍光体を含む感光性樹脂組成物層がこの順
で積層されてなる感光性エレメントを放電空間となるべ
き凹部を有する基板の凹部に蛍光体を含む感光性樹脂組
成物層が接するようにして積層し、蛍光体を含む感光性
樹脂組成物層をパターン状に露光し、蛍光体を含む感光
性樹脂組成物層の不要部を現像して除去することにより
行われる前記蛍光体パターンの製造法に関する。また、
本発明は、熱可塑性樹脂層が感光性を有するものである
前記蛍光体パターンの製造法に関する。
樹脂組成物にフォトリソグラフ法を適用することが、放
電空間となるべき凹部を有する基板に、支持体、熱可塑
性樹脂層及び蛍光体を含む感光性樹脂組成物層がこの順
で積層されてなる感光性エレメントを放電空間となるべ
き凹部を有する基板の凹部に蛍光体を含む感光性樹脂組
成物層が接するようにして積層し、蛍光体を含む感光性
樹脂組成物層をパターン状に露光し、蛍光体を含む感光
性樹脂組成物層の不要部を現像して除去することにより
行われる前記蛍光体パターンの製造法に関する。また、
本発明は、熱可塑性樹脂層が感光性を有するものである
前記蛍光体パターンの製造法に関する。
【0009】
【発明の実施の形態】本発明における放電空間となるべ
き凹部を有する基板としては、例えば、バリアリブが形
成されたプラズマディスプレイパネル用基板(PDP用
基板)が挙げられる。PDP用基板は、例えば、透明な
接着のための表面処理を施していてもよい、ガラス板、
合成樹脂板等の基板に、電極及びバリアリブが形成され
たものなどが挙げられる。バリアリブの形成には、特に
制限なく、公知の材料を使用できるが、例えば、シリ
カ、熱硬化性樹脂、低融点ガラス(酸化鉛等)、溶剤な
どを含むリブ材を用いることができる。また、PDP用
基板には、電極及びバリアリブの他に、必要に応じて、
誘電膜、絶縁膜、補助電極、抵抗体等が形成されていて
もよい。これらのものを、基板へ形成する方法として
は、特に制限はなく、例えば、基板に、蒸着、スパッタ
リング、メッキ、塗布、印刷等の方法で電極を形成する
ことができ、印刷法、サンドブラスト法、埋め込み法等
の方法でバリアリブを形成することができる。
き凹部を有する基板としては、例えば、バリアリブが形
成されたプラズマディスプレイパネル用基板(PDP用
基板)が挙げられる。PDP用基板は、例えば、透明な
接着のための表面処理を施していてもよい、ガラス板、
合成樹脂板等の基板に、電極及びバリアリブが形成され
たものなどが挙げられる。バリアリブの形成には、特に
制限なく、公知の材料を使用できるが、例えば、シリ
カ、熱硬化性樹脂、低融点ガラス(酸化鉛等)、溶剤な
どを含むリブ材を用いることができる。また、PDP用
基板には、電極及びバリアリブの他に、必要に応じて、
誘電膜、絶縁膜、補助電極、抵抗体等が形成されていて
もよい。これらのものを、基板へ形成する方法として
は、特に制限はなく、例えば、基板に、蒸着、スパッタ
リング、メッキ、塗布、印刷等の方法で電極を形成する
ことができ、印刷法、サンドブラスト法、埋め込み法等
の方法でバリアリブを形成することができる。
【0010】バリアリブは、通常、高さが20〜500
μm、幅が20〜200μmとされる。バリアリブで囲
まれた放電空間の形状には、特に制限はなく、格子状、
ストライプ状、ハニカム状、3角形状、楕円形状等が可
能であるが、通常、図1及び図2等に示すような、格子
状又はストライプ状の放電空間が形成される。図1及び
図2において、基板1上には、バリアリブ2が形成され
ており、図1では格子状放電空間3が、図2ではストラ
イブ状放電空間4が形成されている。放電空間の大きさ
は、PDPの大きさと解像度によって決められ、通常、
図1のような格子状放電空間であれば、縦及び横の長さ
は、50μm〜1mmとなり、図2のようなストライ状放
電空間であれば、間隔は、30μm〜1mmとなる。
μm、幅が20〜200μmとされる。バリアリブで囲
まれた放電空間の形状には、特に制限はなく、格子状、
ストライプ状、ハニカム状、3角形状、楕円形状等が可
能であるが、通常、図1及び図2等に示すような、格子
状又はストライプ状の放電空間が形成される。図1及び
図2において、基板1上には、バリアリブ2が形成され
ており、図1では格子状放電空間3が、図2ではストラ
イブ状放電空間4が形成されている。放電空間の大きさ
は、PDPの大きさと解像度によって決められ、通常、
図1のような格子状放電空間であれば、縦及び横の長さ
は、50μm〜1mmとなり、図2のようなストライ状放
電空間であれば、間隔は、30μm〜1mmとなる。
【0011】本発明において用いられる感光性樹脂組成
物は、特に制限なく、公知のポジ型感光性樹脂組成物、
ネガ型感光性樹脂組成物等を用いることができる。本発
明における蛍光体を含む感光性樹脂組成物は、公知のポ
ジ型感光性樹脂組成物、ネガ型感光性樹脂組成物等に蛍
光体を配合することにより調整できる。ポジ型感光性樹
脂組成物としては、例えば、溶解抑制系のもの、化学増
幅系のもの等が挙げられる。
物は、特に制限なく、公知のポジ型感光性樹脂組成物、
ネガ型感光性樹脂組成物等を用いることができる。本発
明における蛍光体を含む感光性樹脂組成物は、公知のポ
ジ型感光性樹脂組成物、ネガ型感光性樹脂組成物等に蛍
光体を配合することにより調整できる。ポジ型感光性樹
脂組成物としては、例えば、溶解抑制系のもの、化学増
幅系のもの等が挙げられる。
【0012】溶解抑制剤系のポジ型感光性樹脂組成物と
しては、例えば、(h)バインダと(i)感光剤を含有
する組成物が挙げられる。(h)バインダとしては、ア
ルカリ水溶液に可溶な樹脂が用いられ、例えば、クレゾ
ールノボラック樹脂、フェノールノボラック樹脂、メラ
ミン−ホルムアルデヒド樹脂、ポリエチレンオキシド、
ポリアクリルアミド、ポリ−p−ビニルフェノール、ポ
リメタクリル酸、ポリアクリル酸、クレゾールとヒドロ
キシベンジルアルコールとの共重合体、スチレンとマレ
イミドの共重合体、ポリジメチルグルタルイミド、ポリ
−p−ヒドロキシスチレン等が挙げられる。(i)感光
剤としては、1,2−ナフトキノンジアジド化合物、5
−ジアゾメルドラム酸、2−ジアゾ−1,3−ジケトシ
クロヘキサン−5−カルボン酸エステル、ジフェニルヨ
ードニウム塩、トリフェニルスルホニウム塩等が挙げら
れる。
しては、例えば、(h)バインダと(i)感光剤を含有
する組成物が挙げられる。(h)バインダとしては、ア
ルカリ水溶液に可溶な樹脂が用いられ、例えば、クレゾ
ールノボラック樹脂、フェノールノボラック樹脂、メラ
ミン−ホルムアルデヒド樹脂、ポリエチレンオキシド、
ポリアクリルアミド、ポリ−p−ビニルフェノール、ポ
リメタクリル酸、ポリアクリル酸、クレゾールとヒドロ
キシベンジルアルコールとの共重合体、スチレンとマレ
イミドの共重合体、ポリジメチルグルタルイミド、ポリ
−p−ヒドロキシスチレン等が挙げられる。(i)感光
剤としては、1,2−ナフトキノンジアジド化合物、5
−ジアゾメルドラム酸、2−ジアゾ−1,3−ジケトシ
クロヘキサン−5−カルボン酸エステル、ジフェニルヨ
ードニウム塩、トリフェニルスルホニウム塩等が挙げら
れる。
【0013】化学増幅系のポジ型感光性樹脂組成物とし
ては、活性光線の照射により酸を発生する化合物と、酸
により分解などの反応を起こし、現像液に可溶化する化
合物とを組み合わせた感光システムが挙げられ、例え
ば、光照射により酸を発生する化合物と、アセタール化
合物との組み合わせ、主鎖にアセタール又はケタール基
を有するポリマとの組み合わせ、エノールエーテル化合
物との組み合わせ、主鎖にオルトエステル基を有するポ
リマとの組み合わせ、カルボン酸のtert−ブチルエステ
ル又はフェノールのtert−ブチルカルボナート基を有す
る重合体との組み合わせ、分子内にカルボン酸のtert−
アミルエステル構造を有する化合物との組み合わせ等が
挙げられる。これらの中で、活性光線の照射により酸を
発生する化合物と、分子内にカルボン酸のtert−アミル
エステル構造を有する化合物との組み合わせによる感光
システムは、光感度が高く、安定性が良好で、現像裕度
が広いので、好ましい。
ては、活性光線の照射により酸を発生する化合物と、酸
により分解などの反応を起こし、現像液に可溶化する化
合物とを組み合わせた感光システムが挙げられ、例え
ば、光照射により酸を発生する化合物と、アセタール化
合物との組み合わせ、主鎖にアセタール又はケタール基
を有するポリマとの組み合わせ、エノールエーテル化合
物との組み合わせ、主鎖にオルトエステル基を有するポ
リマとの組み合わせ、カルボン酸のtert−ブチルエステ
ル又はフェノールのtert−ブチルカルボナート基を有す
る重合体との組み合わせ、分子内にカルボン酸のtert−
アミルエステル構造を有する化合物との組み合わせ等が
挙げられる。これらの中で、活性光線の照射により酸を
発生する化合物と、分子内にカルボン酸のtert−アミル
エステル構造を有する化合物との組み合わせによる感光
システムは、光感度が高く、安定性が良好で、現像裕度
が広いので、好ましい。
【0014】ネガ型感光性樹脂組成物としては、例え
ば、(a)フィルム性付与ポリマ、(b)エチレン性不
飽和基を有する光重合性不飽和化合物及び(c)活性光
の照射により遊離ラジカルを生成する光重合開始剤を含
む組成物等が好ましいものとして挙げられる。
ば、(a)フィルム性付与ポリマ、(b)エチレン性不
飽和基を有する光重合性不飽和化合物及び(c)活性光
の照射により遊離ラジカルを生成する光重合開始剤を含
む組成物等が好ましいものとして挙げられる。
【0015】(a)フィルム性付与ポリマとしては、ビ
ニル共重合体が好ましく、ビニル共重合体に用いられる
ビニル単量体としては、例えば、アクリル酸、メタクリ
ル酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、アクリル酸
メチル、メタクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタ
クリル酸エチル、アクリル酸n−プロピル、メタクリル
酸n−プロピル、アクリル酸iso−プロピル、メタクリ
ル酸iso−プロピル、アクリル酸n−ブチル、メタクリ
ル酸n−ブチル、アクリル酸iso−ブチル、メタアクリ
ル酸iso−ブチル、アクリル酸sec−ブチル、メタクリル
酸sec−ブチル、アクリル酸tert−ブチル、メタクリル
酸tert−ブチル、アクリル酸ペンチル、メタクリル酸ペ
ンチル、アクリル酸ヘキシル、メタクリル酸ヘキシル、
アクリル酸ヘプチル、メタクリル酸ヘプチル、アクリル
酸2−エチルヘキシル、メタクリル酸2−エチルヘキシ
ル、アクリル酸オクチル、メタクリル酸オクチル、アク
リル酸ノニル、メタクリル酸ノニル、アクリル酸デシ
ル、メタクリル酸デシル、アクリル酸ドデシル、メタク
リル酸ドデシル、アクリル酸テトラデシル、メタクリル
酸テトラデシル、アクリル酸ヘキサデシル、メタクリル
酸ヘキサデシル、アクリル酸オクタデシル、メタクリル
酸オクタデシル、アクリル酸エイコシル、メタクリル酸
エイコシル、アクリル酸ドコシル、メタクリル酸ドコシ
ル、アクリル酸シクロペンチル、メタクリル酸シクロペ
ンチル、アクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸シク
ロヘキシル、アクリル酸シクロヘプチル、メタクリル酸
シクロヘプチル、アクリル酸ベンジル、メタクリル酸ベ
ンジル、アクリル酸フェニル、メタクリル酸フェニル、
アクリル酸メトキシエチル、メタクリル酸メトキシエチ
ル、アクリル酸メトキシジエチレングリコール、メタク
リル酸メトキシジエチレングリコール、アクリル酸メト
キシジプロピレングリコール、メタクリル酸メトキシジ
プロピレングリコール、アクリル酸メトキシトリエチレ
ングリコール、メタクリル酸メトキシトリエチレングリ
コール、アクリル酸2−ヒドロキシエチル、メタクリル
酸2−ヒドロキシエチル、アクリル酸ジメチルアミノエ
チル、メタクリル酸ジメチルアミノエチル、アクリル酸
ジメチルアミノエチル、メタクリル酸ジメチルアミノエ
チル、アクリル酸ジメチルアミノプロピル、メタクリル
酸ジメチルアミノプロピル、アクリル酸2−クロロエチ
ル、メタクリル酸2−クロロエチル、アクリル酸2−フ
ルオロエチル、メタクリル酸2−フルオロエチル、アク
リル酸2−シアノエチル、メタクリル酸2−シアノエチ
ル、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、
塩化ビニル、酢酸ビニル、N−ビニルピロリドン、ブタ
ジエン、イソプレン、クロロプレン、アクリルアミド、
メタクリルアミド、アクリロニトリル、メタクリロニト
リル等が挙げられる。これらは単独で又は2種類以上を
組み合わせて使用される。
ニル共重合体が好ましく、ビニル共重合体に用いられる
ビニル単量体としては、例えば、アクリル酸、メタクリ
ル酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、アクリル酸
メチル、メタクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタ
クリル酸エチル、アクリル酸n−プロピル、メタクリル
酸n−プロピル、アクリル酸iso−プロピル、メタクリ
ル酸iso−プロピル、アクリル酸n−ブチル、メタクリ
ル酸n−ブチル、アクリル酸iso−ブチル、メタアクリ
ル酸iso−ブチル、アクリル酸sec−ブチル、メタクリル
酸sec−ブチル、アクリル酸tert−ブチル、メタクリル
酸tert−ブチル、アクリル酸ペンチル、メタクリル酸ペ
ンチル、アクリル酸ヘキシル、メタクリル酸ヘキシル、
アクリル酸ヘプチル、メタクリル酸ヘプチル、アクリル
酸2−エチルヘキシル、メタクリル酸2−エチルヘキシ
ル、アクリル酸オクチル、メタクリル酸オクチル、アク
リル酸ノニル、メタクリル酸ノニル、アクリル酸デシ
ル、メタクリル酸デシル、アクリル酸ドデシル、メタク
リル酸ドデシル、アクリル酸テトラデシル、メタクリル
酸テトラデシル、アクリル酸ヘキサデシル、メタクリル
酸ヘキサデシル、アクリル酸オクタデシル、メタクリル
酸オクタデシル、アクリル酸エイコシル、メタクリル酸
エイコシル、アクリル酸ドコシル、メタクリル酸ドコシ
ル、アクリル酸シクロペンチル、メタクリル酸シクロペ
ンチル、アクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸シク
ロヘキシル、アクリル酸シクロヘプチル、メタクリル酸
シクロヘプチル、アクリル酸ベンジル、メタクリル酸ベ
ンジル、アクリル酸フェニル、メタクリル酸フェニル、
アクリル酸メトキシエチル、メタクリル酸メトキシエチ
ル、アクリル酸メトキシジエチレングリコール、メタク
リル酸メトキシジエチレングリコール、アクリル酸メト
キシジプロピレングリコール、メタクリル酸メトキシジ
プロピレングリコール、アクリル酸メトキシトリエチレ
ングリコール、メタクリル酸メトキシトリエチレングリ
コール、アクリル酸2−ヒドロキシエチル、メタクリル
酸2−ヒドロキシエチル、アクリル酸ジメチルアミノエ
チル、メタクリル酸ジメチルアミノエチル、アクリル酸
ジメチルアミノエチル、メタクリル酸ジメチルアミノエ
チル、アクリル酸ジメチルアミノプロピル、メタクリル
酸ジメチルアミノプロピル、アクリル酸2−クロロエチ
ル、メタクリル酸2−クロロエチル、アクリル酸2−フ
ルオロエチル、メタクリル酸2−フルオロエチル、アク
リル酸2−シアノエチル、メタクリル酸2−シアノエチ
ル、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、
塩化ビニル、酢酸ビニル、N−ビニルピロリドン、ブタ
ジエン、イソプレン、クロロプレン、アクリルアミド、
メタクリルアミド、アクリロニトリル、メタクリロニト
リル等が挙げられる。これらは単独で又は2種類以上を
組み合わせて使用される。
【0016】(a)フィルム性付与ポリマの重量平均分
子量は、5,000〜300,000とすることが好ま
しく、20,000〜150,000とすることがより
好ましい。この重量平均分子量が、5,000未満で
は、感光性エレメントとした場合にフィルム形成性及び
可とう性が低下する傾向があり、300,000を超え
ると、現像性(不要部が現像により、容易に除去できる
性質)が低下する傾向がある。なお、重量平均分子量
は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法により
測定し、標準ポリスチレン検量線を用いて換算した値で
ある。
子量は、5,000〜300,000とすることが好ま
しく、20,000〜150,000とすることがより
好ましい。この重量平均分子量が、5,000未満で
は、感光性エレメントとした場合にフィルム形成性及び
可とう性が低下する傾向があり、300,000を超え
ると、現像性(不要部が現像により、容易に除去できる
性質)が低下する傾向がある。なお、重量平均分子量
は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法により
測定し、標準ポリスチレン検量線を用いて換算した値で
ある。
【0017】また、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物
が、公知の各種現像液により現像可能となるように、
(a)フィルム性付与ポリマのカルボキシル基含有率
(酸価(mgKOH/g)で規定できる)を適宜調整すること
ができる。例えば、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム等
のアルカリ水溶液を用いて現像する場合には、酸価を、
90〜260とすることが好ましい。この酸価が、90
未満では、現像が困難となる傾向があり、260を超え
ると、耐現像液性(現像により除去されずに残りパター
ンとなる部分が、現像液によって侵されない性質)が低
下する傾向がある。また、水又はアルカリ水溶液と1種
以上の有機溶剤とからなる水系現像液を用いて現像する
場合には、酸価を、16〜260とすることが好まし
い。この酸価が、16未満では、現像が困難となる傾向
があり、260を超えると、耐現像液性が低下する傾向
がある。さらに、1,1,1−トリクロロエタン等の有
機溶剤現像液を用いる場合には、カルボキシル基を含有
しなくても良い。
が、公知の各種現像液により現像可能となるように、
(a)フィルム性付与ポリマのカルボキシル基含有率
(酸価(mgKOH/g)で規定できる)を適宜調整すること
ができる。例えば、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム等
のアルカリ水溶液を用いて現像する場合には、酸価を、
90〜260とすることが好ましい。この酸価が、90
未満では、現像が困難となる傾向があり、260を超え
ると、耐現像液性(現像により除去されずに残りパター
ンとなる部分が、現像液によって侵されない性質)が低
下する傾向がある。また、水又はアルカリ水溶液と1種
以上の有機溶剤とからなる水系現像液を用いて現像する
場合には、酸価を、16〜260とすることが好まし
い。この酸価が、16未満では、現像が困難となる傾向
があり、260を超えると、耐現像液性が低下する傾向
がある。さらに、1,1,1−トリクロロエタン等の有
機溶剤現像液を用いる場合には、カルボキシル基を含有
しなくても良い。
【0018】(b)エチレン性不飽和基を有する光重合
性不飽和化合物としては、従来、光重合性多官能モノマ
として知られているものを全て用いることができる。例
えば、多価アルコールのアクリレート又はメタクリレー
ト(ジエチレングリコールジアクリレート、ジエチレン
グリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコー
ルジアクリレート、テトラエチレングリコールジメタク
リレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポ
リエチレングリコールジメタアクリレート、テトラプロ
ピレングリコールジアクリレート、テトラプロピレング
リコールジメタクリレート、ヘキサプロピレングリコー
ルジアクリレート、ヘキサプロピレングリコールジメタ
クリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレー
ト、ポリプロピレングリコールジメタクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールト
リアクリリート、ペンタエリスリトールトリメタクリレ
ート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、1,
6−ヘキサンジオールジメタクリレート、1,9−ノナ
ンジオールジアクリレート、ジペンタエリスリペンタア
クリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレ
ート等)、エポキシアクリレート又はエポキシメタクリ
レート(2,2−ビス(4−メタクリロキシエトキシフ
ェニル)プロパン、2,2−ビス(4−アクリロキシエ
トキシフェニル)プロパン、ビスフェノールA/エピク
ロルヒドリン系のエポキシ樹脂のアクリル酸又はメタク
リル酸付加物等)、分子中にベンゼン環を有する低分子
不飽和ポリエステルのアクリレート又はメタクリレート
(無水フタル酸/ネオペンチルグリコール/アクリル酸
=1/2/2(モル比)の縮合物等)、トリメチロール
プロパントリグリシジルエーテルのアクリル酸又はメタ
クリル酸との付加物、トリメチルヘキサメチレンジイソ
シアネートと2価アルコールのアクリル酸モノエステル
又はメタクリル酸モノエステルとの反応で得られるウレ
タンアクリレート化合物又はウレタンメタクリレート化
合物、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレー
ト、トリス(メタクリロキシエチル)イソシアヌレー
ト、ポリスチリルエチルアクリレート、ポリスチリルエ
チルメタクリレート、4−(2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジニル)アクリレート、4−(2,2,6,
6,−テトラメチルピペリジニル)メタクリレート、ビ
スフェノールAジアクリレート、ビスフェノールAジメ
タクリレートなどが挙げられる。これらは単独で又は2
種類以上を組み合わせて使用されるが、本発明における
蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層は、焼成により不
要な有機成分を除去する必要があるため、熱分解性が良
好であるポリエチレングリコールジメタクリレートが好
ましい。
性不飽和化合物としては、従来、光重合性多官能モノマ
として知られているものを全て用いることができる。例
えば、多価アルコールのアクリレート又はメタクリレー
ト(ジエチレングリコールジアクリレート、ジエチレン
グリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコー
ルジアクリレート、テトラエチレングリコールジメタク
リレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポ
リエチレングリコールジメタアクリレート、テトラプロ
ピレングリコールジアクリレート、テトラプロピレング
リコールジメタクリレート、ヘキサプロピレングリコー
ルジアクリレート、ヘキサプロピレングリコールジメタ
クリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレー
ト、ポリプロピレングリコールジメタクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールト
リアクリリート、ペンタエリスリトールトリメタクリレ
ート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、1,
6−ヘキサンジオールジメタクリレート、1,9−ノナ
ンジオールジアクリレート、ジペンタエリスリペンタア
クリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレ
ート等)、エポキシアクリレート又はエポキシメタクリ
レート(2,2−ビス(4−メタクリロキシエトキシフ
ェニル)プロパン、2,2−ビス(4−アクリロキシエ
トキシフェニル)プロパン、ビスフェノールA/エピク
ロルヒドリン系のエポキシ樹脂のアクリル酸又はメタク
リル酸付加物等)、分子中にベンゼン環を有する低分子
不飽和ポリエステルのアクリレート又はメタクリレート
(無水フタル酸/ネオペンチルグリコール/アクリル酸
=1/2/2(モル比)の縮合物等)、トリメチロール
プロパントリグリシジルエーテルのアクリル酸又はメタ
クリル酸との付加物、トリメチルヘキサメチレンジイソ
シアネートと2価アルコールのアクリル酸モノエステル
又はメタクリル酸モノエステルとの反応で得られるウレ
タンアクリレート化合物又はウレタンメタクリレート化
合物、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレー
ト、トリス(メタクリロキシエチル)イソシアヌレー
ト、ポリスチリルエチルアクリレート、ポリスチリルエ
チルメタクリレート、4−(2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジニル)アクリレート、4−(2,2,6,
6,−テトラメチルピペリジニル)メタクリレート、ビ
スフェノールAジアクリレート、ビスフェノールAジメ
タクリレートなどが挙げられる。これらは単独で又は2
種類以上を組み合わせて使用されるが、本発明における
蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層は、焼成により不
要な有機成分を除去する必要があるため、熱分解性が良
好であるポリエチレングリコールジメタクリレートが好
ましい。
【0019】(c)活性光の照射により遊離ラジカルを
生成する光重合開始剤としては、例えば、芳香族ケトン
(ベンゾフェノン、N,N′−テトラメチル−4,4′
−ジアミノベンゾフェノン(ミヒラーケトン)、N,
N′−テトラエチル−4,4′−ジアミノベンゾフェノ
ン、4−メトキシ−4′−ジメチルアミノベンゾフェノ
ン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モ
ルホリノフェニル)−ブタノン−1、2,2−ジメトキ
シ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、1−ヒドロ
キシ−シンクロヘキシル−フェニル−ケトン、2−メチ
ル−1−(4−メチルチオ)フェニル)−2−モルフォ
リノプロパノン−1、2,4−ジエチルチオキサント
ン、2−エチルアントラキノン、フェナントレンキノン
等)、ベンゾインエーテル(ベンゾインメチルエーテ
ル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニルエ
ーテル等)、ベンゾイン(メチルベンゾイン、エチルベ
ンゾイン等)、ベンジル誘導体(ベンジルジメチルケタ
ール等)、2,4,5−トリアリールイミダゾール二量
体、2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジフェニル
イミダゾール二量体、2−(o−クロロフェニル)−
4,5−ジ(m−メトキシフェニル)イミダゾール二量
体、2−(o−フルオロフェニル)−4,5−フェニル
イミダゾール二量体、2−(o−メトキシフェニル)−
4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−(p−メ
トキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二
量体、2,4−ジ(p−メトキシフェニル)−5−フェ
ニルイミダゾール二量体、2−(2,4−ジメトキシフ
ェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体
等)、アクリジン誘導体(9−フェニルアクリジン、
1,7−ビス(9,9′−アクリジニル)ヘプタン等)
などが挙げられる。これらは単独で又は2種類以上を組
み合わせて使用される。
生成する光重合開始剤としては、例えば、芳香族ケトン
(ベンゾフェノン、N,N′−テトラメチル−4,4′
−ジアミノベンゾフェノン(ミヒラーケトン)、N,
N′−テトラエチル−4,4′−ジアミノベンゾフェノ
ン、4−メトキシ−4′−ジメチルアミノベンゾフェノ
ン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モ
ルホリノフェニル)−ブタノン−1、2,2−ジメトキ
シ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、1−ヒドロ
キシ−シンクロヘキシル−フェニル−ケトン、2−メチ
ル−1−(4−メチルチオ)フェニル)−2−モルフォ
リノプロパノン−1、2,4−ジエチルチオキサント
ン、2−エチルアントラキノン、フェナントレンキノン
等)、ベンゾインエーテル(ベンゾインメチルエーテ
ル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニルエ
ーテル等)、ベンゾイン(メチルベンゾイン、エチルベ
ンゾイン等)、ベンジル誘導体(ベンジルジメチルケタ
ール等)、2,4,5−トリアリールイミダゾール二量
体、2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジフェニル
イミダゾール二量体、2−(o−クロロフェニル)−
4,5−ジ(m−メトキシフェニル)イミダゾール二量
体、2−(o−フルオロフェニル)−4,5−フェニル
イミダゾール二量体、2−(o−メトキシフェニル)−
4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−(p−メ
トキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二
量体、2,4−ジ(p−メトキシフェニル)−5−フェ
ニルイミダゾール二量体、2−(2,4−ジメトキシフ
ェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体
等)、アクリジン誘導体(9−フェニルアクリジン、
1,7−ビス(9,9′−アクリジニル)ヘプタン等)
などが挙げられる。これらは単独で又は2種類以上を組
み合わせて使用される。
【0020】本発明において蛍光体を含む感光性樹脂組
成物に使用される(d)蛍光体としては、特に限定はな
く、通常の金属酸化物を主体とするものが用いられる。
赤色発色の蛍光体としては、例えば、Y2O2S:En、
Zn3(PO4)2:Mn、Y2O3:Eu、YVO4:Eu、
(Y,Gd)BO3:Eu、γ−Zn3(PO4)2:Mn、
(ZnCd)S:Ag+In2O等が挙げられる。緑色発
色の蛍光体としては、例えば、ZnS:Cu、Zn2S
iO4:Mn、ZnS:Cu+Zn2SiO4:Mn、G
d2O2S:Tb、Y3Al5O12:Ce、ZnS:Cu,
Al、Y2O2S:Tb、ZnO:Zn、ZnS:Cu,
Al+In2O3、LaPO4:Ce,Tb、BaO・6
Al2O3:Mn等が挙げられる。青色発色の蛍光体とし
ては、例えば、ZnS:Ag、ZnS:Ag,Al、Z
nS:Ag,Ga,Al、ZnS:Ag,Cu,Ga,
Cl、ZnS:Ag+In2O3、Ca2B5O9Cl:E
u2+、(Sr,Ca,Ba,Mg)10(PO4)6Cl2:E
u2+Sr10(PO4)6Cl2:Eu2+、BaMgAl10O
17:Eu2+、BaMgAl14O23:Eu2+、BaMgA
l16O26:Eu2+等が挙げられる。
成物に使用される(d)蛍光体としては、特に限定はな
く、通常の金属酸化物を主体とするものが用いられる。
赤色発色の蛍光体としては、例えば、Y2O2S:En、
Zn3(PO4)2:Mn、Y2O3:Eu、YVO4:Eu、
(Y,Gd)BO3:Eu、γ−Zn3(PO4)2:Mn、
(ZnCd)S:Ag+In2O等が挙げられる。緑色発
色の蛍光体としては、例えば、ZnS:Cu、Zn2S
iO4:Mn、ZnS:Cu+Zn2SiO4:Mn、G
d2O2S:Tb、Y3Al5O12:Ce、ZnS:Cu,
Al、Y2O2S:Tb、ZnO:Zn、ZnS:Cu,
Al+In2O3、LaPO4:Ce,Tb、BaO・6
Al2O3:Mn等が挙げられる。青色発色の蛍光体とし
ては、例えば、ZnS:Ag、ZnS:Ag,Al、Z
nS:Ag,Ga,Al、ZnS:Ag,Cu,Ga,
Cl、ZnS:Ag+In2O3、Ca2B5O9Cl:E
u2+、(Sr,Ca,Ba,Mg)10(PO4)6Cl2:E
u2+Sr10(PO4)6Cl2:Eu2+、BaMgAl10O
17:Eu2+、BaMgAl14O23:Eu2+、BaMgA
l16O26:Eu2+等が挙げられる。
【0021】(a)成分の配合量は、(a)成分及び
(b)成分の総量が100重量部として、10〜90重
量部とすることが好ましく、20〜80重量部とするこ
とがより好ましい。この配合量が、10重量部未満で
は、感光性エレメントとしてロール状で供給した場合、
蛍光体含有感光性樹脂がロール端部からしみ出す(以下
エッジフュージョンと記す)ことにより、感光性エレメ
ントのラミネート時にロールからの繰り出しが困難とな
り、またしみ出した部分がPDP用基板の空間に部分的
に過剰に埋め込まれ、製造歩留りが著しく低下する等の
問題が生じたり、フィルム形成性が低下する等の傾向が
あり、90重量部を超えると、感度が不充分となる傾向
がある。
(b)成分の総量が100重量部として、10〜90重
量部とすることが好ましく、20〜80重量部とするこ
とがより好ましい。この配合量が、10重量部未満で
は、感光性エレメントとしてロール状で供給した場合、
蛍光体含有感光性樹脂がロール端部からしみ出す(以下
エッジフュージョンと記す)ことにより、感光性エレメ
ントのラミネート時にロールからの繰り出しが困難とな
り、またしみ出した部分がPDP用基板の空間に部分的
に過剰に埋め込まれ、製造歩留りが著しく低下する等の
問題が生じたり、フィルム形成性が低下する等の傾向が
あり、90重量部を超えると、感度が不充分となる傾向
がある。
【0022】(b)成分の配合量は、(a)成分及び
(b)成分の総量が100重量部として、10〜90重
量部とすることが好ましく、20〜80重量部とするこ
とがより好ましい。この配合量が、10重量部未満で
は、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物の感度が不充分
となる傾向があり、90重量部を超えると、感光性エレ
メントとした場合に、蛍光体を含有する感光性樹脂組成
物が流動によって端部からしみ出したり、フィルム形成
性が低下する等の傾向がある。
(b)成分の総量が100重量部として、10〜90重
量部とすることが好ましく、20〜80重量部とするこ
とがより好ましい。この配合量が、10重量部未満で
は、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物の感度が不充分
となる傾向があり、90重量部を超えると、感光性エレ
メントとした場合に、蛍光体を含有する感光性樹脂組成
物が流動によって端部からしみ出したり、フィルム形成
性が低下する等の傾向がある。
【0023】(c)成分の配合量は、(a)成分及び
(b)成分の総量が100重量部に対して、0.01〜
30重量部とすることが好ましく、0.1〜20重量部
とすることがより好ましい。この配合量が、0.01重
量部未満では、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物の感
度が不充分となる傾向があり、30重量部を超えると、
蛍光体を含有する感光性樹脂組成物の露光表面での活性
光の吸収が増大して、内部の光硬化が不充分となる傾向
がある。
(b)成分の総量が100重量部に対して、0.01〜
30重量部とすることが好ましく、0.1〜20重量部
とすることがより好ましい。この配合量が、0.01重
量部未満では、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物の感
度が不充分となる傾向があり、30重量部を超えると、
蛍光体を含有する感光性樹脂組成物の露光表面での活性
光の吸収が増大して、内部の光硬化が不充分となる傾向
がある。
【0024】蛍光体を含む感光性樹脂組成物の調整にお
いて、(d)成分の配合量は、(a)成分、(b)成分
及び(c)成分の総量100重量部に対して、10〜4
00重量部とすることが好ましく、50〜380重量部
とすることがより好ましく、70〜350重量部とする
ことが特に好ましい。この配合量が、10重量部未満で
は、PDPとして発光させた場合に発光効率が低下する
傾向があり、300重量部を超えると、感光性エレメン
トとした場合に、フィルム形成性が低下したり、可とう
性が低下する傾向がある。
いて、(d)成分の配合量は、(a)成分、(b)成分
及び(c)成分の総量100重量部に対して、10〜4
00重量部とすることが好ましく、50〜380重量部
とすることがより好ましく、70〜350重量部とする
ことが特に好ましい。この配合量が、10重量部未満で
は、PDPとして発光させた場合に発光効率が低下する
傾向があり、300重量部を超えると、感光性エレメン
トとした場合に、フィルム形成性が低下したり、可とう
性が低下する傾向がある。
【0025】本発明における蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物層を構成する感光性樹脂組成物には、長期間増
粘を起こさず、貯蔵安定性を良好にするために、カルボ
キシル基を有する化合物を含有させることができる。カ
ルボキシル基を有する化合物としては、例えば、飽和脂
肪酸、不飽和脂肪酸、脂肪族二塩基酸、芳香族二塩基
酸、脂肪族三塩基酸、芳香族三塩基酸等が挙げられる。
脂組成物層を構成する感光性樹脂組成物には、長期間増
粘を起こさず、貯蔵安定性を良好にするために、カルボ
キシル基を有する化合物を含有させることができる。カ
ルボキシル基を有する化合物としては、例えば、飽和脂
肪酸、不飽和脂肪酸、脂肪族二塩基酸、芳香族二塩基
酸、脂肪族三塩基酸、芳香族三塩基酸等が挙げられる。
【0026】具体的には、例えば、ぎ酸、酢酸、クロロ
酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、プロピオン酸、
カプリン酸、ウンデカン酸、ラウリン酸、トリデカン
酸、ミリスチン酸、ペンタデカン酸、パルミチン酸、ヘ
プタデカン酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキジ
ン酸、パルミトオレイン酸、オレイン酸、エライジン
酸、リノレン酸、リノール酸、しゅう酸、マロン酸、メ
チルマロン酸、エチルマロン酸、マロン酸モノメチル、
マロン酸モノエチル、こはく酸、メチルこはく酸、アジ
ピン酸、メチルアジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、
アゼライン酸、セバシン酸、マレイン酸、イタコン酸、
フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリト
酸、クエン酸、サリチル酸、ピルビン酸、リンゴ酸等が
挙げられる。中でも、増粘を抑制する効果が高い点か
ら、しゅう酸、マロン酸、メチルマロン酸、エチルマロ
ン酸、クエン酸等が好ましく、しゅう酸、マロン酸、ク
エン酸等がより好ましい。これらは単独で又は2種類以
上組み合わせて使用される。
酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、プロピオン酸、
カプリン酸、ウンデカン酸、ラウリン酸、トリデカン
酸、ミリスチン酸、ペンタデカン酸、パルミチン酸、ヘ
プタデカン酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキジ
ン酸、パルミトオレイン酸、オレイン酸、エライジン
酸、リノレン酸、リノール酸、しゅう酸、マロン酸、メ
チルマロン酸、エチルマロン酸、マロン酸モノメチル、
マロン酸モノエチル、こはく酸、メチルこはく酸、アジ
ピン酸、メチルアジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、
アゼライン酸、セバシン酸、マレイン酸、イタコン酸、
フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリト
酸、クエン酸、サリチル酸、ピルビン酸、リンゴ酸等が
挙げられる。中でも、増粘を抑制する効果が高い点か
ら、しゅう酸、マロン酸、メチルマロン酸、エチルマロ
ン酸、クエン酸等が好ましく、しゅう酸、マロン酸、ク
エン酸等がより好ましい。これらは単独で又は2種類以
上組み合わせて使用される。
【0027】カルボキシル基を有する化合物の配合量
は、(a)成分100重量部に対して、0.01〜30
重量部とすることが好ましい。この配合量が、0.01
重量部未満では、保存安定性の効果が低くなる傾向があ
り、30重量部を超えると、感度が不充分となる傾向が
ある。
は、(a)成分100重量部に対して、0.01〜30
重量部とすることが好ましい。この配合量が、0.01
重量部未満では、保存安定性の効果が低くなる傾向があ
り、30重量部を超えると、感度が不充分となる傾向が
ある。
【0028】本発明における蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物層を構成する感光性樹脂組成物には、蛍光体の
分散を良好とするために、分散剤を添加することが好ま
しい。分散剤としては、無機分散剤(シリカゲル系、ベ
ントナイト系、カオリナイト系、タルク系、ヘクトライ
ト系、モンモリロナイト系、サポナイト系、バイデライ
ト系等)、有機分散剤(脂肪族アマイド系、脂肪族エス
テル系、酸化ポリエチレン系、硫酸エステル系アニオン
活性剤、ポリカルボン酸アミン塩系、ポリカルボン酸
系、ポリアマイド系、高分子ポリエーテル系、アクリル
共重合物系、特殊シリコン系等)等が挙げられる。これ
らは単独で又は2種類以上を組み合わせて使用すること
ができる。
脂組成物層を構成する感光性樹脂組成物には、蛍光体の
分散を良好とするために、分散剤を添加することが好ま
しい。分散剤としては、無機分散剤(シリカゲル系、ベ
ントナイト系、カオリナイト系、タルク系、ヘクトライ
ト系、モンモリロナイト系、サポナイト系、バイデライ
ト系等)、有機分散剤(脂肪族アマイド系、脂肪族エス
テル系、酸化ポリエチレン系、硫酸エステル系アニオン
活性剤、ポリカルボン酸アミン塩系、ポリカルボン酸
系、ポリアマイド系、高分子ポリエーテル系、アクリル
共重合物系、特殊シリコン系等)等が挙げられる。これ
らは単独で又は2種類以上を組み合わせて使用すること
ができる。
【0029】分散剤の使用量としては、特に制限はな
く、(a)成分100重量部に対して、0.01〜10
0重量部とすることが好ましい。この使用量が、0.0
1重量部未満では、添加効果が発現しない傾向があり、
100重量部を超えると、パターン形成精度(蛍光体を
含有する感光性樹脂組成物からなるパターンを、現像
後、寸法的に正確に、所望の形状で得られる性質)が低
下する傾向がある。
く、(a)成分100重量部に対して、0.01〜10
0重量部とすることが好ましい。この使用量が、0.0
1重量部未満では、添加効果が発現しない傾向があり、
100重量部を超えると、パターン形成精度(蛍光体を
含有する感光性樹脂組成物からなるパターンを、現像
後、寸法的に正確に、所望の形状で得られる性質)が低
下する傾向がある。
【0030】本発明における蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物層を構成する感光性樹脂組成物には、焼成後、
PDP用基板から蛍光体が剥離しないようにするため
に、結着剤を使用することが好ましい。結着剤として
は、例えば、低融点ガラス、金属アルコキシド、シラン
カップリング剤等が挙げられる。これらは単独で又は2
種類以上を組み合わせて使用される。結着剤の使用量と
しては、特に制限はなく、(d)成分100重量部に対
して、0.01〜100重量部とすることが好ましく、
0.05〜50重量部とすることがより好ましく、0.
1〜30重量部とすることが特に好ましい。この使用量
が、0.01重量部未満では、蛍光体の結着効果が発現
しない傾向があり、100重量部を超えると、発光効率
が低下する傾向がある。
脂組成物層を構成する感光性樹脂組成物には、焼成後、
PDP用基板から蛍光体が剥離しないようにするため
に、結着剤を使用することが好ましい。結着剤として
は、例えば、低融点ガラス、金属アルコキシド、シラン
カップリング剤等が挙げられる。これらは単独で又は2
種類以上を組み合わせて使用される。結着剤の使用量と
しては、特に制限はなく、(d)成分100重量部に対
して、0.01〜100重量部とすることが好ましく、
0.05〜50重量部とすることがより好ましく、0.
1〜30重量部とすることが特に好ましい。この使用量
が、0.01重量部未満では、蛍光体の結着効果が発現
しない傾向があり、100重量部を超えると、発光効率
が低下する傾向がある。
【0031】また、本発明における蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層を構成する感光性樹脂組成物には、染
料、発色剤、可塑剤、顔料、重合禁止剤、表面改質剤、
安定剤、密着性付与剤、熱硬化剤等を必要に応じて添加
することができる。
光性樹脂組成物層を構成する感光性樹脂組成物には、染
料、発色剤、可塑剤、顔料、重合禁止剤、表面改質剤、
安定剤、密着性付与剤、熱硬化剤等を必要に応じて添加
することができる。
【0032】本発明における蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物層は、これを構成する前記各成分を溶解又は分
散可能な溶剤に、溶解又は混合させることにより、均一
に分散した溶液とし、支持体フィルム上に、塗布、乾燥
することにより感光性エレメントとして得ることができ
る。
脂組成物層は、これを構成する前記各成分を溶解又は分
散可能な溶剤に、溶解又は混合させることにより、均一
に分散した溶液とし、支持体フィルム上に、塗布、乾燥
することにより感光性エレメントとして得ることができ
る。
【0033】前記各成分を溶解又は分散可能な溶剤とし
ては、例えば、トルエン、アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、メチルセロソルブ、エチ
ルセロソルブ、γ−ブチロラクトン、N−メチルピロリ
ドン、ジメチルホルムアミド、テトラメチルスルホン、
ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレング
リコールモノブチルエーテル、クロロホルム、塩化メチ
レン、メチルアルコール、エチルアルコール等があげら
れる。これらは単独で又は2種類以上を組み合わせて使
用される。
ては、例えば、トルエン、アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、メチルセロソルブ、エチ
ルセロソルブ、γ−ブチロラクトン、N−メチルピロリ
ドン、ジメチルホルムアミド、テトラメチルスルホン、
ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレング
リコールモノブチルエーテル、クロロホルム、塩化メチ
レン、メチルアルコール、エチルアルコール等があげら
れる。これらは単独で又は2種類以上を組み合わせて使
用される。
【0034】支持体フィルムとしては、化学的及び熱的
に安定であり、また、可とう性の物質で構成された、例
えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネー
ト、ポリエチレン、ポリプロピレン等が挙げられ、その
中でも、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンが
好ましく、ポリエチレンテレフタレートがより好まし
い。この支持体フィルムの厚さは、5〜100μmとす
ることが好ましく、10〜30μmとすることがより好
ましい。塗布方法としては、公知の方法を用いることが
でき、例えば、ナイフコート法、ロールコート法、スプ
レーコート法、グラビアコート法、バーコート法、カー
テンコート法等が挙げられる。乾燥温度は、60〜13
0℃とすることが好ましく、乾燥時間は、3分〜1時間
とすることが好ましい。
に安定であり、また、可とう性の物質で構成された、例
えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネー
ト、ポリエチレン、ポリプロピレン等が挙げられ、その
中でも、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンが
好ましく、ポリエチレンテレフタレートがより好まし
い。この支持体フィルムの厚さは、5〜100μmとす
ることが好ましく、10〜30μmとすることがより好
ましい。塗布方法としては、公知の方法を用いることが
でき、例えば、ナイフコート法、ロールコート法、スプ
レーコート法、グラビアコート法、バーコート法、カー
テンコート法等が挙げられる。乾燥温度は、60〜13
0℃とすることが好ましく、乾燥時間は、3分〜1時間
とすることが好ましい。
【0035】本発明における蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物層の厚さは、特に制限はないが、10〜100
μmとすることが好ましく、20〜80μmとすること
がより好ましい。この厚さが、10μm未満では、焼成
後の蛍光体パターンが薄くなり、発光効率が低下する傾
向があり、100μmを超えると、焼成後の蛍光体パタ
ーンが厚くなり、蛍光面の発光面積が縮小して発光効率
が低下する傾向がある。
脂組成物層の厚さは、特に制限はないが、10〜100
μmとすることが好ましく、20〜80μmとすること
がより好ましい。この厚さが、10μm未満では、焼成
後の蛍光体パターンが薄くなり、発光効率が低下する傾
向があり、100μmを超えると、焼成後の蛍光体パタ
ーンが厚くなり、蛍光面の発光面積が縮小して発光効率
が低下する傾向がある。
【0036】本発明における蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物層の上には、さらに剥離可能なカバーフィルム
を積層することができる。カバーフィルムとしては、ポ
リエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリカーボネート等が挙げられ、支持体フィルム
と(B)蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層との接着
力よりも、カバーフィルムと(B)蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層との接着力の方が小さいものであるこ
とが好ましい。このようにして得られる感光性エレメン
トは、ロール状に巻いて保管可能とすることができる。
脂組成物層の上には、さらに剥離可能なカバーフィルム
を積層することができる。カバーフィルムとしては、ポ
リエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリカーボネート等が挙げられ、支持体フィルム
と(B)蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層との接着
力よりも、カバーフィルムと(B)蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層との接着力の方が小さいものであるこ
とが好ましい。このようにして得られる感光性エレメン
トは、ロール状に巻いて保管可能とすることができる。
【0037】本発明における熱可塑性樹脂層を構成する
樹脂としては、放電空間となるべき凹部を有する基板
に、支持体、熱可塑性樹脂層及び蛍光体を含む感光性樹
脂組成物層がこの順で積層されてなる感光性エレメント
を放電空間となるべき凹部を有する基板の凹部に蛍光体
を含む感光性樹脂組成物層が接するようにして積層する
際の加熱圧着時の温度で軟化するものであれば特に制限
はなく、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポ
リスチレン、ポリビニルトルエン、ポリアクリル酸エス
テル、ポリメタクリル酸エステル、エチレンと酢酸ビニ
ルの共重合体、エチレンとアクリル酸エステルの共重合
体、塩化ビニルと酢酸ビニルの共重合体、スチレンとア
クリル酸エステル又はメタクリル酸エステルとの共重合
体、ビニルトルエンとアクリル酸エステル又はメタクリ
ル酸エステルとの共重合体、ポリビニルアルコール系樹
脂(ポリアクリル酸エステル又はポリメタクリル酸エス
テルの加水分解物、ポリ酢酸ビニルの加水分解物、エチ
レンと酢酸ビニルとの共重合体の加水分解物、エチレン
とアクリル酸エステルとの共重合体の加水分解物、塩化
ビニルと酢酸ビニルとの共重合体の加水分解物、スチレ
ンとアクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルとの
共重合体の加水分解物、ビニルトンエンとアクリル酸エ
ステル又はメタクリル酸エステルとの共重合体の加水分
解物等)、カルボキシアルキルセルロースの水溶性塩、
水溶性セルロースエーテル類、カルボキシアルキルでん
粉の水溶性塩、ポリビニルピロリドン、不飽和カルボン
酸とこれらと共重合可能な不飽和単量体を共重合するこ
とにより得られるカルボキシル基を有する樹脂などが挙
げられる。
樹脂としては、放電空間となるべき凹部を有する基板
に、支持体、熱可塑性樹脂層及び蛍光体を含む感光性樹
脂組成物層がこの順で積層されてなる感光性エレメント
を放電空間となるべき凹部を有する基板の凹部に蛍光体
を含む感光性樹脂組成物層が接するようにして積層する
際の加熱圧着時の温度で軟化するものであれば特に制限
はなく、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポ
リスチレン、ポリビニルトルエン、ポリアクリル酸エス
テル、ポリメタクリル酸エステル、エチレンと酢酸ビニ
ルの共重合体、エチレンとアクリル酸エステルの共重合
体、塩化ビニルと酢酸ビニルの共重合体、スチレンとア
クリル酸エステル又はメタクリル酸エステルとの共重合
体、ビニルトルエンとアクリル酸エステル又はメタクリ
ル酸エステルとの共重合体、ポリビニルアルコール系樹
脂(ポリアクリル酸エステル又はポリメタクリル酸エス
テルの加水分解物、ポリ酢酸ビニルの加水分解物、エチ
レンと酢酸ビニルとの共重合体の加水分解物、エチレン
とアクリル酸エステルとの共重合体の加水分解物、塩化
ビニルと酢酸ビニルとの共重合体の加水分解物、スチレ
ンとアクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルとの
共重合体の加水分解物、ビニルトンエンとアクリル酸エ
ステル又はメタクリル酸エステルとの共重合体の加水分
解物等)、カルボキシアルキルセルロースの水溶性塩、
水溶性セルロースエーテル類、カルボキシアルキルでん
粉の水溶性塩、ポリビニルピロリドン、不飽和カルボン
酸とこれらと共重合可能な不飽和単量体を共重合するこ
とにより得られるカルボキシル基を有する樹脂などが挙
げられる。
【0038】また、本発明における熱可塑性樹脂層は、
混色防止、作業性の向上等の点から、(e)熱可塑性樹
脂、(f)エチレン性不飽和基を有する光重合性不飽和
化合物及び(g)活性光の照射により遊離ラジカルを生
成する光重合開始剤を含有してなる感光性を有する樹脂
組性物により構成することもできる。
混色防止、作業性の向上等の点から、(e)熱可塑性樹
脂、(f)エチレン性不飽和基を有する光重合性不飽和
化合物及び(g)活性光の照射により遊離ラジカルを生
成する光重合開始剤を含有してなる感光性を有する樹脂
組性物により構成することもできる。
【0039】(e)熱可塑性樹脂としては、前記した熱
可塑性樹脂層を構成する樹脂として使用可能な樹脂及び
蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を構成する感光性
樹脂組成物に使用可能な(a)フィルム性付与ポリマを
使用することがてきる。 (f)エチレン性不飽和基を有する光重合性不飽和化合
物としては、前記した蛍光体を含有する感光性樹脂組成
物層を構成する感光性樹脂組成物に使用可能な(b)エ
チレン性不飽和基を有する光重合性不飽和化合物を使用
することができる。 (g)活性光の照射により遊離ラジカルを生成する光重
合開始剤としては、前記した蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物層を構成する感光性樹脂組成物に使用可能な
(c)活性光の照射により遊離ラジカルを生成する光重
合開始剤を使用することができる。
可塑性樹脂層を構成する樹脂として使用可能な樹脂及び
蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を構成する感光性
樹脂組成物に使用可能な(a)フィルム性付与ポリマを
使用することがてきる。 (f)エチレン性不飽和基を有する光重合性不飽和化合
物としては、前記した蛍光体を含有する感光性樹脂組成
物層を構成する感光性樹脂組成物に使用可能な(b)エ
チレン性不飽和基を有する光重合性不飽和化合物を使用
することができる。 (g)活性光の照射により遊離ラジカルを生成する光重
合開始剤としては、前記した蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物層を構成する感光性樹脂組成物に使用可能な
(c)活性光の照射により遊離ラジカルを生成する光重
合開始剤を使用することができる。
【0040】(e)成分の配合量は、(e)成分及び
(f)成分の総量が100重量部として、10〜90重
量部とすることが好ましく、20〜80重量部とするこ
とがより好ましい。この配合量が、10重量部未満で
は、感光性エレメントとした場合に、感光性樹脂組成物
が流動によって端部からしみ出したり、フィルム形成性
が低下する等の傾向があり、90重量部を超えると、感
度が不充分となる傾向がある。
(f)成分の総量が100重量部として、10〜90重
量部とすることが好ましく、20〜80重量部とするこ
とがより好ましい。この配合量が、10重量部未満で
は、感光性エレメントとした場合に、感光性樹脂組成物
が流動によって端部からしみ出したり、フィルム形成性
が低下する等の傾向があり、90重量部を超えると、感
度が不充分となる傾向がある。
【0041】(f)成分の配合量は、(e)成分及び
(f)成分の総量が100重量部として、10〜90重
量部とすることが好ましく、20〜80重量部とするこ
とがより好ましい。この配合量が、10重量部未満で
は、感度が不充分となる傾向があり、90重量部を超え
ると、感光性エレメントとした場合に、流動によって端
部からしみ出したり、フィルム形成性が低下する等の傾
向がある。
(f)成分の総量が100重量部として、10〜90重
量部とすることが好ましく、20〜80重量部とするこ
とがより好ましい。この配合量が、10重量部未満で
は、感度が不充分となる傾向があり、90重量部を超え
ると、感光性エレメントとした場合に、流動によって端
部からしみ出したり、フィルム形成性が低下する等の傾
向がある。
【0042】(g)成分の配合量は、(e)成分及び
(f)成分の総量100重量部に対して、0.01〜3
0重量部とすることが好ましく、0.1〜20重量部と
することがより好ましい。この配合量が、0.01重量
部未満では、感度が不充分となる傾向があり、30重量
部を超えると、露光表面での活性光の吸収が増大して、
内部の光硬化が不充分となる傾向がある。
(f)成分の総量100重量部に対して、0.01〜3
0重量部とすることが好ましく、0.1〜20重量部と
することがより好ましい。この配合量が、0.01重量
部未満では、感度が不充分となる傾向があり、30重量
部を超えると、露光表面での活性光の吸収が増大して、
内部の光硬化が不充分となる傾向がある。
【0043】また、熱可塑性樹脂層は、後述する現像工
程において、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層及び
熱可塑性樹脂層が、同一の現像液を使用して現像できる
ものであることが、工程を少なくできる点から好まし
い。同一の現像液で現像できるものとしては、水又はア
ルカリ水溶液に可溶なものが挙げられる。
程において、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層及び
熱可塑性樹脂層が、同一の現像液を使用して現像できる
ものであることが、工程を少なくできる点から好まし
い。同一の現像液で現像できるものとしては、水又はア
ルカリ水溶液に可溶なものが挙げられる。
【0044】水又はアルカリ水溶液に可溶な熱可塑性樹
脂層を構成する樹脂としては、例えば、ポリビニルアル
コール系樹脂(ポリアクリル酸エステル又はポリメタク
リル酸エステルの加水分解物、ポリ酢酸ビニルの加水分
解物、エチレンと酢酸ビニルとの共重合体の加水分解
物、エチレンとアクリル酸エステルとの共重合体の加水
分解物、塩化ビニルと酢酸ビニルとの共重合体の加水分
解物、スチレンとアクリル酸エステル又はメタクリル酸
エステルとの共重合体の加水分解物、ビニルトルエンと
アクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルとの共重
合体の加水分解物等)、カルボキシアルキルセルロース
の水溶性塩、水溶性セルロースエーテル類、カルボキシ
アルキルでん粉の水溶性塩、ポリビニルピロリドン、不
飽和カルボン酸とこれらと共重合可能な不飽和単量体を
共重合することにより得られるカルボキシル基を有する
樹脂などが挙げられる。
脂層を構成する樹脂としては、例えば、ポリビニルアル
コール系樹脂(ポリアクリル酸エステル又はポリメタク
リル酸エステルの加水分解物、ポリ酢酸ビニルの加水分
解物、エチレンと酢酸ビニルとの共重合体の加水分解
物、エチレンとアクリル酸エステルとの共重合体の加水
分解物、塩化ビニルと酢酸ビニルとの共重合体の加水分
解物、スチレンとアクリル酸エステル又はメタクリル酸
エステルとの共重合体の加水分解物、ビニルトルエンと
アクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルとの共重
合体の加水分解物等)、カルボキシアルキルセルロース
の水溶性塩、水溶性セルロースエーテル類、カルボキシ
アルキルでん粉の水溶性塩、ポリビニルピロリドン、不
飽和カルボン酸とこれらと共重合可能な不飽和単量体を
共重合することにより得られるカルボキシル基を有する
樹脂などが挙げられる。
【0045】不飽和カルボン酸とこれらと共重合可能な
不飽和単量体を共重合することにより得られるカルボキ
シル基を有する樹脂としては、例えば、不飽和カルボン
酸(アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル
酸、イタコン酸等)と、前記蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物層を構成する(a)フィルム性付与ポリマに使
用可能なビニル単量体として共重合して得られるビニル
共重合体などを使用することが好ましい。不飽和カルボ
ン酸とこれらと共重合可能な不飽和単量体を共重合する
ことにより得られるカルボキシル基を有する樹脂は、重
量平均分子量が、5,000〜300,000とするこ
とが好ましく、20,000〜150,000とするこ
とがより好ましい。この重量平均分子量が、5,000
未満では、感光性エレメントとした場合にフィルム形成
性及び可とう性が低下する傾向があり、300,000
を超えると、現像性が低下する傾向がある。
不飽和単量体を共重合することにより得られるカルボキ
シル基を有する樹脂としては、例えば、不飽和カルボン
酸(アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル
酸、イタコン酸等)と、前記蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物層を構成する(a)フィルム性付与ポリマに使
用可能なビニル単量体として共重合して得られるビニル
共重合体などを使用することが好ましい。不飽和カルボ
ン酸とこれらと共重合可能な不飽和単量体を共重合する
ことにより得られるカルボキシル基を有する樹脂は、重
量平均分子量が、5,000〜300,000とするこ
とが好ましく、20,000〜150,000とするこ
とがより好ましい。この重量平均分子量が、5,000
未満では、感光性エレメントとした場合にフィルム形成
性及び可とう性が低下する傾向があり、300,000
を超えると、現像性が低下する傾向がある。
【0046】また、アルカリ水溶液に可能な熱可塑性樹
脂層として、公知の各種現像液により現像可能となるよ
うに、不飽和カルボン酸とこれらと共重合可能な不飽和
単量体を共重合することにより得られるカルボキシル基
を有する樹脂のカルボキシル基含有率(酸価(mgKOH/
g)で規定できる)を適宜調整することができる。例え
ば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ水溶液
を用いて現像する場合には、酸価が、90〜260とす
ることが好ましい。この酸価が、90未満では、現像が
困難となる傾向があり、260を超えると、耐現像液性
が低下する傾向がある。また、水又はアルカリ水溶液と
1種以上の有機溶剤とからなる水系現像液を用いて現像
する場合には、酸価が、16〜260とすることが好ま
しい。この酸価が、16未満では、現像が困難となる傾
向があり、260を超えると、耐現像液性が低下する傾
向がある。
脂層として、公知の各種現像液により現像可能となるよ
うに、不飽和カルボン酸とこれらと共重合可能な不飽和
単量体を共重合することにより得られるカルボキシル基
を有する樹脂のカルボキシル基含有率(酸価(mgKOH/
g)で規定できる)を適宜調整することができる。例え
ば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ水溶液
を用いて現像する場合には、酸価が、90〜260とす
ることが好ましい。この酸価が、90未満では、現像が
困難となる傾向があり、260を超えると、耐現像液性
が低下する傾向がある。また、水又はアルカリ水溶液と
1種以上の有機溶剤とからなる水系現像液を用いて現像
する場合には、酸価が、16〜260とすることが好ま
しい。この酸価が、16未満では、現像が困難となる傾
向があり、260を超えると、耐現像液性が低下する傾
向がある。
【0047】また、熱可塑性樹脂層のフィルム性を良好
なものとするために、上記した熱可塑性樹脂層を構成す
る樹脂中に、可塑剤を添加することができる。可塑剤と
しては、ポリプロピレングリコール、ポリエチレングリ
コール、ジオクチルフタレート、ジヘプチルフタレー
ト、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェー
ト、クレジルジフェニルフォスフェート、ビフェニルジ
フェニルフォスフェート等が挙げられる。
なものとするために、上記した熱可塑性樹脂層を構成す
る樹脂中に、可塑剤を添加することができる。可塑剤と
しては、ポリプロピレングリコール、ポリエチレングリ
コール、ジオクチルフタレート、ジヘプチルフタレー
ト、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェー
ト、クレジルジフェニルフォスフェート、ビフェニルジ
フェニルフォスフェート等が挙げられる。
【0048】本発明における熱可塑性樹脂層は、これを
構成する樹脂を溶解する溶剤に、溶解又は混合させるこ
とにより、均一な溶液とし、前記した支持体フィルム上
に、ナイフコート法、ロールコート法、スプレーコート
法、グラビアコート法、バーコート法、カーテンコート
法等の公知の塗布方法を用いて、塗布、乾燥することに
よりフィルム状に形成することができる。熱可塑性樹脂
層を構成する樹脂を溶解する溶剤としては、例えば、
水、トルエン、アセトン、メチルエチルケトン、メチル
イソブチルケトン、メチルセロソルブ、エチルセロソル
ブ、γ−ブチルラクトン、N−メチルピロリドン、ジメ
チルホルムアミド、テトラメチルスルホン、ジエチレン
グリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモ
ノブチルエーテル、クロロホルム、塩化メチレン、メチ
ルアルコール、エチルアルコール等が挙げられる。これ
らは単独で又は2種類以上を組み合わせて使用される。
構成する樹脂を溶解する溶剤に、溶解又は混合させるこ
とにより、均一な溶液とし、前記した支持体フィルム上
に、ナイフコート法、ロールコート法、スプレーコート
法、グラビアコート法、バーコート法、カーテンコート
法等の公知の塗布方法を用いて、塗布、乾燥することに
よりフィルム状に形成することができる。熱可塑性樹脂
層を構成する樹脂を溶解する溶剤としては、例えば、
水、トルエン、アセトン、メチルエチルケトン、メチル
イソブチルケトン、メチルセロソルブ、エチルセロソル
ブ、γ−ブチルラクトン、N−メチルピロリドン、ジメ
チルホルムアミド、テトラメチルスルホン、ジエチレン
グリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモ
ノブチルエーテル、クロロホルム、塩化メチレン、メチ
ルアルコール、エチルアルコール等が挙げられる。これ
らは単独で又は2種類以上を組み合わせて使用される。
【0049】本発明における熱可塑性樹脂層の厚さは、
特に制限はないが、PDP用基板の空間への埋め込み性
等の点から、10〜200μmとすることが好ましく、
20〜100μmとすることがより好ましい。また、本
発明における熱可塑性樹脂層の上には、さらに剥離可能
なカバーフィルムを積層することができる。カバーフィ
ルムとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリカーボネート等が挙げら
れ、支持体フィルムと熱可塑性樹脂層との接着力より
も、カバーフィルムと熱可塑性樹脂層との接着力の方が
小さいものが好ましい。このようにしてフィルム状に形
成された熱可塑性樹脂層は、ロール状に巻いて保管可能
とすることができる。
特に制限はないが、PDP用基板の空間への埋め込み性
等の点から、10〜200μmとすることが好ましく、
20〜100μmとすることがより好ましい。また、本
発明における熱可塑性樹脂層の上には、さらに剥離可能
なカバーフィルムを積層することができる。カバーフィ
ルムとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリカーボネート等が挙げら
れ、支持体フィルムと熱可塑性樹脂層との接着力より
も、カバーフィルムと熱可塑性樹脂層との接着力の方が
小さいものが好ましい。このようにしてフィルム状に形
成された熱可塑性樹脂層は、ロール状に巻いて保管可能
とすることができる。
【0050】以下、本発明の蛍光体パターンの製造法の
一例を、図3、図4及び図5を用いて詳述する。なお、
図3、図4及び図5は、本発明の蛍光体パターンの製造
法の各工程を示した模式図である。
一例を、図3、図4及び図5を用いて詳述する。なお、
図3、図4及び図5は、本発明の蛍光体パターンの製造
法の各工程を示した模式図である。
【0051】〔(I)放電空間となるべき凹部を有する
基板としてのバリアリブが形成されたプラズマディスプ
レイパネル用基板上に、活性光の照射により現像液への
溶解性が発現するポジフィルム(ポジ型感光性樹脂組成
物の層を有する感光性エレメント)を圧着する工程〕バ
リアリブ2が形成されたPDP用基板1上に、前記活性
光の照射により現像液への溶解性が発現するポジフィル
ムを積層した状態を図3(a)に示した。前記ポジフィ
ルムにカバーフィルムが存在しているときは、そのカバ
ーフィルムを除去後、PDP用基板のバリアリブを形成
した面に、活性光の照射により現像液への溶解性が発現
するポジフィルムのポジ型感光性樹脂組成物の層が接す
るように、圧着ロール等で圧着させて積層させることが
できる。
基板としてのバリアリブが形成されたプラズマディスプ
レイパネル用基板上に、活性光の照射により現像液への
溶解性が発現するポジフィルム(ポジ型感光性樹脂組成
物の層を有する感光性エレメント)を圧着する工程〕バ
リアリブ2が形成されたPDP用基板1上に、前記活性
光の照射により現像液への溶解性が発現するポジフィル
ムを積層した状態を図3(a)に示した。前記ポジフィ
ルムにカバーフィルムが存在しているときは、そのカバ
ーフィルムを除去後、PDP用基板のバリアリブを形成
した面に、活性光の照射により現像液への溶解性が発現
するポジフィルムのポジ型感光性樹脂組成物の層が接す
るように、圧着ロール等で圧着させて積層させることが
できる。
【0052】〔(II)上記活性光の照射により現像液へ
の溶解性が発現するポジフィルムの、蛍光体が形成され
るべき所望の部位を、像的に露光し、現像して、露光さ
れた部位のポジフィルムを除去する工程〕次に、蛍光体
が形成されるべき所望の部位を、像的に露光した状態を
図3(a)に示す。活性光線9を像的に照射する方法と
しては、図3(a)の状態の活性光の照射により現像液
への溶解性が発現するポジフィルムの上部に、フォトマ
スク8を介して、活性光線9を像的に照射することがで
きる。この時、活性光の照射により現像液への溶解性が
発現するポジフィルムに支持体フィルムが存在する場合
は、その支持体フィルムを積層したまま活性光線9を像
的に照射してもよく、また、支持体フィルムを除去した
後に活性光線9を像的に照射してもよい。また、照射後
に化学反応をより速やかに進行させるために、加熱処理
を行うことはとくに制限はない。次に、現像して、露光
された部位のポジフィルムを除去した状態を図3(c)
に示した。現像方法としては、例えば、図3(b)の状
態の後、活性光の照射により現像液への溶解性が発現す
るポジフィルムに支持体フィルムが存在する場合には、
これを除去した後、現像液を用いて、スプレー、揺動浸
漬、ブラッシング、スクラッピング等の公知方法により
現像を行い、不要部を除去する方法等が挙げられる。
の溶解性が発現するポジフィルムの、蛍光体が形成され
るべき所望の部位を、像的に露光し、現像して、露光さ
れた部位のポジフィルムを除去する工程〕次に、蛍光体
が形成されるべき所望の部位を、像的に露光した状態を
図3(a)に示す。活性光線9を像的に照射する方法と
しては、図3(a)の状態の活性光の照射により現像液
への溶解性が発現するポジフィルムの上部に、フォトマ
スク8を介して、活性光線9を像的に照射することがで
きる。この時、活性光の照射により現像液への溶解性が
発現するポジフィルムに支持体フィルムが存在する場合
は、その支持体フィルムを積層したまま活性光線9を像
的に照射してもよく、また、支持体フィルムを除去した
後に活性光線9を像的に照射してもよい。また、照射後
に化学反応をより速やかに進行させるために、加熱処理
を行うことはとくに制限はない。次に、現像して、露光
された部位のポジフィルムを除去した状態を図3(c)
に示した。現像方法としては、例えば、図3(b)の状
態の後、活性光の照射により現像液への溶解性が発現す
るポジフィルムに支持体フィルムが存在する場合には、
これを除去した後、現像液を用いて、スプレー、揺動浸
漬、ブラッシング、スクラッピング等の公知方法により
現像を行い、不要部を除去する方法等が挙げられる。
【0053】活性光の照射により現像液への溶解性が発
現するポジフィルムの現像液としては、例えば、メタケ
イ酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、
炭酸カリウム、水酸化カリウム等の無機アルカリ及び、
トリエタノールアミン、水酸化テトラメチルアンモニウ
ム等の有機アルカリの水溶液が挙げられる。アルカリ水
溶液の濃度は、0.1〜15重量%が好ましく、0.5
〜5重量%がより好ましい。0.1重量%未満では露光
部を短時間に完全に除去できないことがあり、また、1
5重量部%を超えると未露光部も一部侵される可能性が
ある。現像方法は、上記の現像液を吹きつけるか、現像
液に浸漬するなどして行われる。不要部の除去された図
3(c)において、左端の凹部は後に所定の一つの色の
蛍光体パターンが形成されるのでポジフィルムで塞がれ
ておらず、中央及び右端の凹部は前記蛍光体パターンが
形成されないのでポジフィルムによってその上部が塞が
れている。なお、ここで、ポジフィルムに代えて、ネガ
フィルム(ネガ型感光性樹脂組成物の層を有する感光性
エレメント)を用いても、常法に従えば、同様に所定の
凹部を塞ぐことができる。
現するポジフィルムの現像液としては、例えば、メタケ
イ酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、
炭酸カリウム、水酸化カリウム等の無機アルカリ及び、
トリエタノールアミン、水酸化テトラメチルアンモニウ
ム等の有機アルカリの水溶液が挙げられる。アルカリ水
溶液の濃度は、0.1〜15重量%が好ましく、0.5
〜5重量%がより好ましい。0.1重量%未満では露光
部を短時間に完全に除去できないことがあり、また、1
5重量部%を超えると未露光部も一部侵される可能性が
ある。現像方法は、上記の現像液を吹きつけるか、現像
液に浸漬するなどして行われる。不要部の除去された図
3(c)において、左端の凹部は後に所定の一つの色の
蛍光体パターンが形成されるのでポジフィルムで塞がれ
ておらず、中央及び右端の凹部は前記蛍光体パターンが
形成されないのでポジフィルムによってその上部が塞が
れている。なお、ここで、ポジフィルムに代えて、ネガ
フィルム(ネガ型感光性樹脂組成物の層を有する感光性
エレメント)を用いても、常法に従えば、同様に所定の
凹部を塞ぐことができる。
【0054】〔(III)バリアリブが形成されたプラズ
マディスプレイパネル用基板上に、蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層の上部に熱可塑性樹脂層が配置された
状態で、熱可塑性樹脂層を加熱圧着する工程〕図3
(c)の状態の、バリアリブ2が形成されたPDP用基
板1上に、前記蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層5
を積層した状態を図4(d)に示した。図3(d)にお
いて、バリアリブ2が形成されたPDP用基板1上に、
蛍光体を含有する感光性樹脂組成層5を積層させる方法
としては、例えば、前記した感光性エレメントを用いて
積層させる方法等が挙げられる。
マディスプレイパネル用基板上に、蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層の上部に熱可塑性樹脂層が配置された
状態で、熱可塑性樹脂層を加熱圧着する工程〕図3
(c)の状態の、バリアリブ2が形成されたPDP用基
板1上に、前記蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層5
を積層した状態を図4(d)に示した。図3(d)にお
いて、バリアリブ2が形成されたPDP用基板1上に、
蛍光体を含有する感光性樹脂組成層5を積層させる方法
としては、例えば、前記した感光性エレメントを用いて
積層させる方法等が挙げられる。
【0055】感光性エレメントを用いる場合は、感光性
エレメントにカバーフィルムが存在しているときは、そ
のカバーフィルムを除去後、PDP用基板のバリアリブ
を形成した面に、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層
5が接するように、圧着ロール等で圧着させることによ
り積層することができる。加圧する場合の圧着圧力は、
線圧で50〜1×105N/mとすることが好ましく、2.
5×102〜5×104N/mとすることがより好ましく、
5×102〜4×104N/mとすることが特に好ましい。
この圧着圧力が、50N/m未満では、蛍光体を含有する
感光性樹脂組成物層5のPDP基板の空間への埋め込み
性が低下する傾向があり、1×105N/mを超えると、P
DP用基板のバリアリブが破壊される傾向がある。ここ
で、線圧を5×105N/mとする方法としては、例えば、
シリンダ径が40mmφのラミネータを用い、厚さが3m
m、縦10cm×横10cm(正方形)の基板を用いて、ラ
ミネータのシリンダ圧力(常圧1atmが0である)を、
2kgf/cm2とすることにより、線圧を5×103N/mとす
る方法、シリンダ径が40mmφのラミネータを用い、厚
さが3mm、縦20cm×横20cm(正方形)の基板を用い
て、ラミネータのシリンダ圧力(常圧1atmが0であ
る)を、4kgf/cm2とすることにより、線圧を5×103
N/mとする方法等が挙げられる。
エレメントにカバーフィルムが存在しているときは、そ
のカバーフィルムを除去後、PDP用基板のバリアリブ
を形成した面に、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層
5が接するように、圧着ロール等で圧着させることによ
り積層することができる。加圧する場合の圧着圧力は、
線圧で50〜1×105N/mとすることが好ましく、2.
5×102〜5×104N/mとすることがより好ましく、
5×102〜4×104N/mとすることが特に好ましい。
この圧着圧力が、50N/m未満では、蛍光体を含有する
感光性樹脂組成物層5のPDP基板の空間への埋め込み
性が低下する傾向があり、1×105N/mを超えると、P
DP用基板のバリアリブが破壊される傾向がある。ここ
で、線圧を5×105N/mとする方法としては、例えば、
シリンダ径が40mmφのラミネータを用い、厚さが3m
m、縦10cm×横10cm(正方形)の基板を用いて、ラ
ミネータのシリンダ圧力(常圧1atmが0である)を、
2kgf/cm2とすることにより、線圧を5×103N/mとす
る方法、シリンダ径が40mmφのラミネータを用い、厚
さが3mm、縦20cm×横20cm(正方形)の基板を用い
て、ラミネータのシリンダ圧力(常圧1atmが0であ
る)を、4kgf/cm2とすることにより、線圧を5×103
N/mとする方法等が挙げられる。
【0056】また、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物
層5の空間への埋め込み性をさらに向上させる点から、
上記圧着ロールの表面が、ゴム、プラスチック等の柔軟
性に富んだ材質のものを使用することもできる。なお、
柔軟性に富んだ材質の層の厚さは、200〜400μm
とすることが好ましい。
層5の空間への埋め込み性をさらに向上させる点から、
上記圧着ロールの表面が、ゴム、プラスチック等の柔軟
性に富んだ材質のものを使用することもできる。なお、
柔軟性に富んだ材質の層の厚さは、200〜400μm
とすることが好ましい。
【0057】また、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物
層5の空間への埋め込み性をさらに向上させる点から、
加熱ロール等により感光性エレメントを加熱しながら、
PDP用基板のバリアリブを形成した面に圧着して積層
することもできる。加熱圧着時の加熱温度は、10〜1
30℃とすることが好ましく、20〜120℃とするこ
とがより好ましく、30〜110℃とすることが特に好
ましい。この加熱温度が、10℃未満では、蛍光体を含
有する感光性樹脂組成物層5が、PDP基板上に充分に
密着できない傾向があり、130℃を超えると、蛍光体
を有する感光性樹脂組成物層5が熱硬化する傾向があ
る。
層5の空間への埋め込み性をさらに向上させる点から、
加熱ロール等により感光性エレメントを加熱しながら、
PDP用基板のバリアリブを形成した面に圧着して積層
することもできる。加熱圧着時の加熱温度は、10〜1
30℃とすることが好ましく、20〜120℃とするこ
とがより好ましく、30〜110℃とすることが特に好
ましい。この加熱温度が、10℃未満では、蛍光体を含
有する感光性樹脂組成物層5が、PDP基板上に充分に
密着できない傾向があり、130℃を超えると、蛍光体
を有する感光性樹脂組成物層5が熱硬化する傾向があ
る。
【0058】感光性エレメントを前記のように加熱すれ
ば、バリアリブを形成したPDP用基板を予熱処理する
ことは必要ではないが、蛍光体を含有する感光性樹脂組
成物層5の空間への埋め込み性をさらに向上させる点か
ら、前記PDP用基板の予熱処理を行うことが好まし
い。さらに、同様の目的で、5×104Pa以下の減圧下
で、上記した圧着及び加熱圧着の操作を行うこともでき
る。また、このように積層が完了した後、30〜150
℃の範囲で、1〜120分間、加熱することもできる。
この際、支持体フィルムを必要に応じて除去することも
できる。
ば、バリアリブを形成したPDP用基板を予熱処理する
ことは必要ではないが、蛍光体を含有する感光性樹脂組
成物層5の空間への埋め込み性をさらに向上させる点か
ら、前記PDP用基板の予熱処理を行うことが好まし
い。さらに、同様の目的で、5×104Pa以下の減圧下
で、上記した圧着及び加熱圧着の操作を行うこともでき
る。また、このように積層が完了した後、30〜150
℃の範囲で、1〜120分間、加熱することもできる。
この際、支持体フィルムを必要に応じて除去することも
できる。
【0059】蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層5の
上部に、熱可塑性樹脂層6を配置し、加熱圧着しながら
蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層5及び熱可塑性樹
脂層6を積層する様子を図4(e)に示した。図4
(e)において、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層
5の上部に、熱可塑性樹脂層6を配置し、加熱圧着する
方法としては、例えば、図4(e)において、蛍光体を
含有する感光性樹脂組成物層5の上に、支持体フィルム
が存在している場合には、支持体フィルムを除去後、蛍
光体を含有する感光性樹脂組成物層5の上部に、熱可塑
性樹脂層6(カバーフィルムが存在しているときは、そ
のカバーフィルムを除去した後)を配置し、加熱ロール
7等により加熱圧着する方法などが挙げられる。
上部に、熱可塑性樹脂層6を配置し、加熱圧着しながら
蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層5及び熱可塑性樹
脂層6を積層する様子を図4(e)に示した。図4
(e)において、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層
5の上部に、熱可塑性樹脂層6を配置し、加熱圧着する
方法としては、例えば、図4(e)において、蛍光体を
含有する感光性樹脂組成物層5の上に、支持体フィルム
が存在している場合には、支持体フィルムを除去後、蛍
光体を含有する感光性樹脂組成物層5の上部に、熱可塑
性樹脂層6(カバーフィルムが存在しているときは、そ
のカバーフィルムを除去した後)を配置し、加熱ロール
7等により加熱圧着する方法などが挙げられる。
【0060】加熱圧着時の加熱温度は、10〜130℃
とすることが好ましく、20〜120℃とすることがよ
り好ましく、30〜110℃とすることが特に好まし
い。この加熱温度が、10℃未満では、蛍光体を含有す
る感光性樹脂組成物層5のPDP基板の空間への埋め込
み性が低下する傾向があり、130℃を超えると、蛍光
体を含有する感光性樹脂組成物層5が熱硬化する傾向が
ある。加圧する場合の圧着圧力は、線圧で50〜1×1
05N/mとすることが好ましく、2.5×102〜5×1
04N/mとすることがより好ましく、5×102〜4×1
04N/mとすることが特に好ましい。この圧着圧力が、5
0N/m未満では、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層
7のPDP基板の空間への埋め込み性が低下する傾向が
あり、1×105N/mを超えると、PDP用基板のバリア
リブが破壊される傾向がある。ここで、線圧を5×10
5N/mとする方法としては、例えば、シリンダ径が40mm
φのラミネータを用い、厚さが3mm、縦10cm×横10
cm(正方形)の基板を用いて、ラミネータのシリンダ圧
力(常圧1atmが0である)を、2kgf/cm2とすることに
より、線圧を5×103N/mとする方法、シリンダ径が4
0mmφのラミネータを用い、厚さが3mm、縦20cm×横
20cm(正方形)の基板を用いて、ラミネータのシリン
ダ圧力(常圧1atmが0である)を、4kgf/cm2とするこ
とにより、線圧を5×103N/mとする方法等が挙げられ
る。
とすることが好ましく、20〜120℃とすることがよ
り好ましく、30〜110℃とすることが特に好まし
い。この加熱温度が、10℃未満では、蛍光体を含有す
る感光性樹脂組成物層5のPDP基板の空間への埋め込
み性が低下する傾向があり、130℃を超えると、蛍光
体を含有する感光性樹脂組成物層5が熱硬化する傾向が
ある。加圧する場合の圧着圧力は、線圧で50〜1×1
05N/mとすることが好ましく、2.5×102〜5×1
04N/mとすることがより好ましく、5×102〜4×1
04N/mとすることが特に好ましい。この圧着圧力が、5
0N/m未満では、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層
7のPDP基板の空間への埋め込み性が低下する傾向が
あり、1×105N/mを超えると、PDP用基板のバリア
リブが破壊される傾向がある。ここで、線圧を5×10
5N/mとする方法としては、例えば、シリンダ径が40mm
φのラミネータを用い、厚さが3mm、縦10cm×横10
cm(正方形)の基板を用いて、ラミネータのシリンダ圧
力(常圧1atmが0である)を、2kgf/cm2とすることに
より、線圧を5×103N/mとする方法、シリンダ径が4
0mmφのラミネータを用い、厚さが3mm、縦20cm×横
20cm(正方形)の基板を用いて、ラミネータのシリン
ダ圧力(常圧1atmが0である)を、4kgf/cm2とするこ
とにより、線圧を5×103N/mとする方法等が挙げられ
る。
【0061】熱可塑性樹脂層6を前記のように加熱すれ
ば、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層5を積層した
PDP用基板を予熱処理することは必要ではないが、蛍
光体を含有する感光性樹脂組成物層5の空間への埋め込
み性をさらに向上させる点から、蛍光体を含有する感光
性樹脂組成物層5を積層したPDP用基板を予熱処理す
ることが好ましい。この時の予熱温度は、30〜130
℃とすることが好ましく、また、予熱時間は、0.5〜
20分間とすることが好ましい。また、蛍光体を含有す
る感光性樹脂組成物層5の空間への埋め込み性をさらに
向上させる点から、上記圧着ロールの表面が、ゴム、プ
ラスチック等の柔軟性に富んだ材質のものを使用するこ
ともできる。なお、柔軟性に富んだ材質の層の厚さは、
200〜400μmとすることが好ましい。
ば、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層5を積層した
PDP用基板を予熱処理することは必要ではないが、蛍
光体を含有する感光性樹脂組成物層5の空間への埋め込
み性をさらに向上させる点から、蛍光体を含有する感光
性樹脂組成物層5を積層したPDP用基板を予熱処理す
ることが好ましい。この時の予熱温度は、30〜130
℃とすることが好ましく、また、予熱時間は、0.5〜
20分間とすることが好ましい。また、蛍光体を含有す
る感光性樹脂組成物層5の空間への埋め込み性をさらに
向上させる点から、上記圧着ロールの表面が、ゴム、プ
ラスチック等の柔軟性に富んだ材質のものを使用するこ
ともできる。なお、柔軟性に富んだ材質の層の厚さは、
200〜400μmとすることが好ましい。
【0062】さらに、同様の目的で、5×104Pa以下
の減圧下で、上記した圧着及び加熱圧着の操作を行うこ
ともできる。また、積層が完了した後、30〜150℃
の範囲で、1〜120分間加熱することもできる。この
時、熱可塑性樹脂層6の上に支持体フィルムが存在する
場合には、その支持体フィルムを必要に応じて除去して
もよい。このようにして、蛍光体を含有する感光性樹脂
組成物層5をPDP用基板の空間に均一に形成すること
ができる。
の減圧下で、上記した圧着及び加熱圧着の操作を行うこ
ともできる。また、積層が完了した後、30〜150℃
の範囲で、1〜120分間加熱することもできる。この
時、熱可塑性樹脂層6の上に支持体フィルムが存在する
場合には、その支持体フィルムを必要に応じて除去して
もよい。このようにして、蛍光体を含有する感光性樹脂
組成物層5をPDP用基板の空間に均一に形成すること
ができる。
【0063】また、本発明における(III)工程では、
蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層5と熱可塑性樹脂
層6とを、2層同時に加熱圧着しながら積層させること
もできる。2層同時に加熱圧着させる時の加熱圧着条件
としては、前記熱可塑性樹脂層6を加熱圧着させる時の
条件を用いることができる。
蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層5と熱可塑性樹脂
層6とを、2層同時に加熱圧着しながら積層させること
もできる。2層同時に加熱圧着させる時の加熱圧着条件
としては、前記熱可塑性樹脂層6を加熱圧着させる時の
条件を用いることができる。
【0064】〔(IV)活性光線を像的に照射する工程〕
活性光線9を像的に照射する状態を図4(f)に示し
た。図4(f)において、活性光線9を像的に照射する
方法としては、図4(e)中の下の状態の熱可塑性樹脂
層6の上部に、フォトマスク8を介して、活性光線9を
像的に照射することができる。この時、熱可塑性樹脂層
6の上に支持体フィルムが存在する場合は、その支持体
フィルムを積層したまま活性光線9を像的に照射しても
よく、また、支持体フィルムを除去した後に活性光線9
を像的に照射してもよい。なお、この時、熱可塑性樹脂
層6が、前記した感光性樹脂組成物である場合には、蛍
光体を含有する感光性樹脂組成物層5及び熱可塑性樹脂
層6は、同時に光硬化することとなる。
活性光線9を像的に照射する状態を図4(f)に示し
た。図4(f)において、活性光線9を像的に照射する
方法としては、図4(e)中の下の状態の熱可塑性樹脂
層6の上部に、フォトマスク8を介して、活性光線9を
像的に照射することができる。この時、熱可塑性樹脂層
6の上に支持体フィルムが存在する場合は、その支持体
フィルムを積層したまま活性光線9を像的に照射しても
よく、また、支持体フィルムを除去した後に活性光線9
を像的に照射してもよい。なお、この時、熱可塑性樹脂
層6が、前記した感光性樹脂組成物である場合には、蛍
光体を含有する感光性樹脂組成物層5及び熱可塑性樹脂
層6は、同時に光硬化することとなる。
【0065】また、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物
層5を溶解しない水、アルカリ水溶液、水系現像液、有
機溶剤等を用いて、熱可塑性樹脂層を溶解により除去し
た後、フォトマスク8を介して、活性光線9を像的に照
射することもできる。
層5を溶解しない水、アルカリ水溶液、水系現像液、有
機溶剤等を用いて、熱可塑性樹脂層を溶解により除去し
た後、フォトマスク8を介して、活性光線9を像的に照
射することもできる。
【0066】活性光線9としては、公知の活性光源が使
用でき、例えば、カーボンアーク、水銀蒸気アーク、キ
セノンアーク、その他から発生する光等が挙げられる。
光開始剤の感受性は、通常、紫外線領域において最大で
あるので、その場合の活性光源は、紫外線を有効に放射
するものにすべきである。また、光開始剤が可視光線に
感受するもの、例えば、9,10−フェナンスレンキノ
ン等である場合には、活性光線9としては、可視光が用
いられ、その光源としては、前記のもの以外に写真用フ
ラッド電球、太陽ランプ等も使用することができる。ま
た、活性光線の照射量としては、3mJ/cm2〜3J/cm2が
好ましく、5mJ/cm2〜1J/cm2がより好ましく、10mJ/
cm2〜1J/cm2が特に好ましい。
用でき、例えば、カーボンアーク、水銀蒸気アーク、キ
セノンアーク、その他から発生する光等が挙げられる。
光開始剤の感受性は、通常、紫外線領域において最大で
あるので、その場合の活性光源は、紫外線を有効に放射
するものにすべきである。また、光開始剤が可視光線に
感受するもの、例えば、9,10−フェナンスレンキノ
ン等である場合には、活性光線9としては、可視光が用
いられ、その光源としては、前記のもの以外に写真用フ
ラッド電球、太陽ランプ等も使用することができる。ま
た、活性光線の照射量としては、3mJ/cm2〜3J/cm2が
好ましく、5mJ/cm2〜1J/cm2がより好ましく、10mJ/
cm2〜1J/cm2が特に好ましい。
【0067】〔(V)現像により不要部を除去する工
程〕現像により不要部を除去した状態を図4(g)に示
した。図4(g)において、現像方法としては、例え
ば、図4(f)の露光の後、熱可塑性樹脂層6の上に支
持体フィルムが存在する場合には、これを除去した後、
アルカリ水溶液、水系現像液、有機溶剤等の公知の現像
液を用いて、スプレー、揺動浸漬、ブラッシング、スク
ラッピング等の公知方法により現像を行い、不要部を除
去する方法等が挙げられる。
程〕現像により不要部を除去した状態を図4(g)に示
した。図4(g)において、現像方法としては、例え
ば、図4(f)の露光の後、熱可塑性樹脂層6の上に支
持体フィルムが存在する場合には、これを除去した後、
アルカリ水溶液、水系現像液、有機溶剤等の公知の現像
液を用いて、スプレー、揺動浸漬、ブラッシング、スク
ラッピング等の公知方法により現像を行い、不要部を除
去する方法等が挙げられる。
【0068】不要部を除去する場合には、まず、蛍光体
を含有する感光性樹脂組成物層5を溶解しない水、アル
カリ水溶液、半溶剤水溶液、半溶剤アルカリ水溶液、有
機溶剤等を用いて、熱可塑性樹脂層6を溶解により除去
した後に、現像液を用いて、蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物層5の不要部を除去してもよく、また、熱可塑
性樹脂層6が、前記した蛍光体を含有する感光性樹脂組
成物層5及び熱可塑性樹脂層6が、同一の現像液を使用
して現像できるものである場合には、その現像液を用い
て、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層5の不要部及
び熱可塑性樹脂層6を一工程で除去することもできる。
を含有する感光性樹脂組成物層5を溶解しない水、アル
カリ水溶液、半溶剤水溶液、半溶剤アルカリ水溶液、有
機溶剤等を用いて、熱可塑性樹脂層6を溶解により除去
した後に、現像液を用いて、蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物層5の不要部を除去してもよく、また、熱可塑
性樹脂層6が、前記した蛍光体を含有する感光性樹脂組
成物層5及び熱可塑性樹脂層6が、同一の現像液を使用
して現像できるものである場合には、その現像液を用い
て、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層5の不要部及
び熱可塑性樹脂層6を一工程で除去することもできる。
【0069】また、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物
層5の不要部及び熱可塑性樹脂層6の不要部を除去する
方法として、ドライ現像にて、それぞれ単独に又は一工
程で行うこともできる。なお、この時、熱可塑性樹脂層
6が、前記した感光性樹脂組成物である場合には、光硬
化後の蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層5′の上部
には、光硬化後の熱可塑性樹脂層が残存することとなる
(図5(h))。
層5の不要部及び熱可塑性樹脂層6の不要部を除去する
方法として、ドライ現像にて、それぞれ単独に又は一工
程で行うこともできる。なお、この時、熱可塑性樹脂層
6が、前記した感光性樹脂組成物である場合には、光硬
化後の蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層5′の上部
には、光硬化後の熱可塑性樹脂層が残存することとなる
(図5(h))。
【0070】アルカリ水溶液の塩基としては、水酸化ア
ルカリ(リチウム、ナトリウム又はカリウムの水酸化物
等)、炭酸アルカリ(リチウム、ナトリウム又はカリウ
ムの炭酸塩若しくは重炭酸塩等)、アルカリ金属リン酸
塩(リン酸カリウム、リン酸ナトリウム等)、アルカリ
金属ピロリン酸塩(ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸
カリウム等)、水酸化テトラメチルアンモニウム、トリ
エタノールアミンなどが挙げられ、中でも、炭酸ナトリ
ウム、水酸化テトラメチルアンモニウム等が好ましいも
のとして挙げられる。現像に用いるアルカリ水溶液のpH
は、9〜11とすることが好ましく、また、その温度
は、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層5及び熱可塑
性樹脂層6の現像性に合わせて調整することができる。
また、アルカリ水溶液中には、表面活性剤、消泡剤、現
像を促進させるための少量の有機溶剤等を混入させるこ
とができる。
ルカリ(リチウム、ナトリウム又はカリウムの水酸化物
等)、炭酸アルカリ(リチウム、ナトリウム又はカリウ
ムの炭酸塩若しくは重炭酸塩等)、アルカリ金属リン酸
塩(リン酸カリウム、リン酸ナトリウム等)、アルカリ
金属ピロリン酸塩(ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸
カリウム等)、水酸化テトラメチルアンモニウム、トリ
エタノールアミンなどが挙げられ、中でも、炭酸ナトリ
ウム、水酸化テトラメチルアンモニウム等が好ましいも
のとして挙げられる。現像に用いるアルカリ水溶液のpH
は、9〜11とすることが好ましく、また、その温度
は、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層5及び熱可塑
性樹脂層6の現像性に合わせて調整することができる。
また、アルカリ水溶液中には、表面活性剤、消泡剤、現
像を促進させるための少量の有機溶剤等を混入させるこ
とができる。
【0071】水系現像液としては、水又はアルカリ水溶
液と1種以上の有機溶剤とからなるものが挙げられる。
ここで、アルカリ水溶液の塩基としては、前記物質以外
に、例えば、ホウ砂、メタケイ酸ナトリウム、エタノー
ルアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、
2−アミノ−2−ヒドロキシメチル−1、3−プロパン
ジオール、1,3−ジアミノプロパノール−2−モルホ
リン、水酸化テトラメチルアンモニウム等が挙げられ
る。水系現像液のpHは、8〜12とすることが好まし
く、9〜10とすることがより好ましい。
液と1種以上の有機溶剤とからなるものが挙げられる。
ここで、アルカリ水溶液の塩基としては、前記物質以外
に、例えば、ホウ砂、メタケイ酸ナトリウム、エタノー
ルアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、
2−アミノ−2−ヒドロキシメチル−1、3−プロパン
ジオール、1,3−ジアミノプロパノール−2−モルホ
リン、水酸化テトラメチルアンモニウム等が挙げられ
る。水系現像液のpHは、8〜12とすることが好まし
く、9〜10とすることがより好ましい。
【0072】有機溶剤としては、例えば、三アセトンア
ルコール、アセトン、酢酸エチル、炭素数1〜4のアル
コキシ基をもつアルコキシエタノール、エチルアルコー
ル、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、ジエ
チレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリ
コールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ
ブチルエーテル等が挙げられる。これらは単独で又は2
種類以上を組み合わせて使用される。有機溶剤の濃度
は、通常、2〜90重量%の範囲とされ、また、その温
度は、現像性にあわせて調整することができる。また、
水系現像液中には、界面活性剤、消泡剤等を少量混入す
ることができる。単独で用いる有機溶剤現像液として
は、例えば、1,1,1−トリクロロエタン、N−メチ
ルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、シクロ
ヘキサノン、メチルイソブチルケトン、γ−ブチロラク
トン等が挙げられる。これらの有機溶剤は、引火防止の
ため、1〜20重量%の範囲で水を添加してもよい。
ルコール、アセトン、酢酸エチル、炭素数1〜4のアル
コキシ基をもつアルコキシエタノール、エチルアルコー
ル、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、ジエ
チレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリ
コールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ
ブチルエーテル等が挙げられる。これらは単独で又は2
種類以上を組み合わせて使用される。有機溶剤の濃度
は、通常、2〜90重量%の範囲とされ、また、その温
度は、現像性にあわせて調整することができる。また、
水系現像液中には、界面活性剤、消泡剤等を少量混入す
ることができる。単独で用いる有機溶剤現像液として
は、例えば、1,1,1−トリクロロエタン、N−メチ
ルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、シクロ
ヘキサノン、メチルイソブチルケトン、γ−ブチロラク
トン等が挙げられる。これらの有機溶剤は、引火防止の
ため、1〜20重量%の範囲で水を添加してもよい。
【0073】また、現像後、PDP用基板の空間の表面
における蛍光体含有フォトレジストの密着性及び耐薬品
性等を向上させる目的で、高圧水銀ランプ等による紫外
線照射や加熱を行うこともできる。この時の、紫外線の
照射量は、通常、0.2〜10J/cm2であり、照射の際
に、加熱を伴うこともできる。また、加熱時の温度は、
60〜180℃とすることが好ましく、100〜180
℃とすることがより好ましい。また、加熱時間は、15
〜90分間とすることが好ましい。これらの紫外線の照
射と加熱は、照射と加熱を別々に行ってもよく、どちら
を先に行ってもよい。
における蛍光体含有フォトレジストの密着性及び耐薬品
性等を向上させる目的で、高圧水銀ランプ等による紫外
線照射や加熱を行うこともできる。この時の、紫外線の
照射量は、通常、0.2〜10J/cm2であり、照射の際
に、加熱を伴うこともできる。また、加熱時の温度は、
60〜180℃とすることが好ましく、100〜180
℃とすることがより好ましい。また、加熱時間は、15
〜90分間とすることが好ましい。これらの紫外線の照
射と加熱は、照射と加熱を別々に行ってもよく、どちら
を先に行ってもよい。
【0074】〔(VI)焼成により不要分を除去する工
程〕焼成により不要分を除去した後の蛍光体パターンを
形成した状態を図5(i)に示した。なお、図5(i)
において、10は蛍光体パターンである。図5(i)に
おいて、焼成方法としては、特に制限はなく、公知の焼
成方法を使用し、蛍光体及び結着剤以外の不要分を除去
し、蛍光体パターンを形成することができる。この時
の、焼成温度は、350〜800℃とすることが好まし
く、400〜600℃とすることがより好ましい。ま
た、焼成温度は、3〜120分間とすることが好まし
く、5〜90分間とすることがより好ましい。
程〕焼成により不要分を除去した後の蛍光体パターンを
形成した状態を図5(i)に示した。なお、図5(i)
において、10は蛍光体パターンである。図5(i)に
おいて、焼成方法としては、特に制限はなく、公知の焼
成方法を使用し、蛍光体及び結着剤以外の不要分を除去
し、蛍光体パターンを形成することができる。この時
の、焼成温度は、350〜800℃とすることが好まし
く、400〜600℃とすることがより好ましい。ま
た、焼成温度は、3〜120分間とすることが好まし
く、5〜90分間とすることがより好ましい。
【0075】本発明の蛍光体パターンの製造法は、工程
数を低減できる等の点から、前記本発明における(I)
〜(V)の工程を行い1色目のパターンを形成した後、
(II)〜(V)の工程を2色目3色目のパターンの形成
の毎に繰り返して、赤色、緑色及び青色に発色する蛍光
体を含有する感光性樹脂組成物層からなる多色のパター
ンを形成した後、(V)の工程を行い多色の蛍光体パタ
ーンを形成することが好ましい。本発明において、赤
色、青色及び緑色に発色するそれぞれの蛍光体を単独で
含む(B)蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層5は、
赤色、青色及び緑色の各色について、どの様な順番でも
行うことができる。
数を低減できる等の点から、前記本発明における(I)
〜(V)の工程を行い1色目のパターンを形成した後、
(II)〜(V)の工程を2色目3色目のパターンの形成
の毎に繰り返して、赤色、緑色及び青色に発色する蛍光
体を含有する感光性樹脂組成物層からなる多色のパター
ンを形成した後、(V)の工程を行い多色の蛍光体パタ
ーンを形成することが好ましい。本発明において、赤
色、青色及び緑色に発色するそれぞれの蛍光体を単独で
含む(B)蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層5は、
赤色、青色及び緑色の各色について、どの様な順番でも
行うことができる。
【0076】本発明における(I)〜(V)の工程を行
い1色目のパターンを形成した後、(II)〜(V)の工
程を2色目3色目のパターンの形成の毎に繰り返して、
赤色、緑色及び青色に発色する蛍光体を含有する感光性
樹脂組成物層からなる多色のパターンを形成した状態を
図6に示した。図6において、5′aは1色目のパター
ン、5′bは2色目のパターン及び5′cは3色目のパ
ターンである。また、本発明における(VI)の工程を
行い多色の蛍光体パターンを形成した状態を図7に示し
た。図7において、10aは1色目の蛍光体パターン、
10bは2色目の蛍光体パターン及び10cは3色目の
蛍光体パターンである。
い1色目のパターンを形成した後、(II)〜(V)の工
程を2色目3色目のパターンの形成の毎に繰り返して、
赤色、緑色及び青色に発色する蛍光体を含有する感光性
樹脂組成物層からなる多色のパターンを形成した状態を
図6に示した。図6において、5′aは1色目のパター
ン、5′bは2色目のパターン及び5′cは3色目のパ
ターンである。また、本発明における(VI)の工程を
行い多色の蛍光体パターンを形成した状態を図7に示し
た。図7において、10aは1色目の蛍光体パターン、
10bは2色目の蛍光体パターン及び10cは3色目の
蛍光体パターンである。
【0077】
【実施例】以下、実施例により本発明を説明する。 製造例1 〔フィルム性付与ポリマの溶液(a−1)の作製〕撹拌
機、還流冷却機、不活性ガス導入口及び温度計を備えた
フラスコに、表1に示すを仕込み、窒素ガス雰囲気下
で80℃に昇温し、反応温度を80℃±2℃に保ちなが
ら、表1に示すを4時間かけて均一に滴下した。の
滴下後、80℃±2℃で6時間撹拌を続け、重量平均分
子量が80,000、酸価が130mgKOH/gのフィルム
性付与ポリマの溶液(固型分45.5重量%)(a−
1)を得た。
機、還流冷却機、不活性ガス導入口及び温度計を備えた
フラスコに、表1に示すを仕込み、窒素ガス雰囲気下
で80℃に昇温し、反応温度を80℃±2℃に保ちなが
ら、表1に示すを4時間かけて均一に滴下した。の
滴下後、80℃±2℃で6時間撹拌を続け、重量平均分
子量が80,000、酸価が130mgKOH/gのフィルム
性付与ポリマの溶液(固型分45.5重量%)(a−
1)を得た。
【0078】
【表1】
【0079】製造例2 〔蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を含む感光性エ
レメント(B−1)の作製〕表2に示す材料を、ライカ
イ機を用いて15分間混合し、蛍光体を含有する感光性
樹脂組成物溶液を調製した。
レメント(B−1)の作製〕表2に示す材料を、ライカ
イ機を用いて15分間混合し、蛍光体を含有する感光性
樹脂組成物溶液を調製した。
【0080】
【表2】
【0081】得られた溶液を、20μmの厚さのポリエ
チレンテレフタレートフィルム上に均一に塗布し、80
〜110℃の熱風対流式乾燥機で10分間乾燥して溶剤
を除去し、赤色の蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層
を形成した。得られた蛍光体を含有する感光性樹脂組成
物層の乾燥後の厚さは、60μmであった。次いで、蛍
光体を含有する感光性樹脂組成物層の上に、厚さが25
μmのポリエチレンフィルムをカバーフィルムとして張
り合わせて、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を含
む感光性エレメント(B−1)を作製した。
チレンテレフタレートフィルム上に均一に塗布し、80
〜110℃の熱風対流式乾燥機で10分間乾燥して溶剤
を除去し、赤色の蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層
を形成した。得られた蛍光体を含有する感光性樹脂組成
物層の乾燥後の厚さは、60μmであった。次いで、蛍
光体を含有する感光性樹脂組成物層の上に、厚さが25
μmのポリエチレンフィルムをカバーフィルムとして張
り合わせて、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を含
む感光性エレメント(B−1)を作製した。
【0082】製造例3 〔蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を含む感光性エ
レメント(B−2)の作製〕表2に示す材料に代えて、
表3に示す材料を使用した以外は、製造例2と同様にし
て、青色の蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を形成
した。得られた蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層の
乾燥後の厚さは、60μmであった。
レメント(B−2)の作製〕表2に示す材料に代えて、
表3に示す材料を使用した以外は、製造例2と同様にし
て、青色の蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を形成
した。得られた蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層の
乾燥後の厚さは、60μmであった。
【0083】
【表3】
【0084】次いで、製造例2と同様にして、蛍光体を
含有する感光性樹脂組成物層を含む感光性エレメント
(B−2)を作製した。
含有する感光性樹脂組成物層を含む感光性エレメント
(B−2)を作製した。
【0085】製造例4 〔蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を含む感光性エ
レメント(B−3)の作製〕表2に示す材料に代えて、
表4に示す材料を使用した以外は、製造例2と同様にし
て、緑色の蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を形成
した。得られた蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層の
乾燥後の厚さは、60μmであった。
レメント(B−3)の作製〕表2に示す材料に代えて、
表4に示す材料を使用した以外は、製造例2と同様にし
て、緑色の蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を形成
した。得られた蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層の
乾燥後の厚さは、60μmであった。
【0086】
【表4】
【0087】次いで、製造例2と同様にして、蛍光体を
含有する感光性樹脂組成物層を含む感光性エレメント
(B−3)を作製した。
含有する感光性樹脂組成物層を含む感光性エレメント
(B−3)を作製した。
【0088】製造例5 〔感光性の熱可塑性樹脂層を含むフィルム(C−1)の
作製〕表5に示す材料からなる樹脂溶液を、20μmの
厚さのポリエチレンテレフタレートフィルム上に均一に
塗布し、80〜110℃の熱風対流式乾燥機で10分間
乾燥して蒸留水を除去し、感光性の熱可塑性樹脂層を形
成した。得られた熱可塑性樹脂層の乾燥後の厚さは、7
0μmであった。
作製〕表5に示す材料からなる樹脂溶液を、20μmの
厚さのポリエチレンテレフタレートフィルム上に均一に
塗布し、80〜110℃の熱風対流式乾燥機で10分間
乾燥して蒸留水を除去し、感光性の熱可塑性樹脂層を形
成した。得られた熱可塑性樹脂層の乾燥後の厚さは、7
0μmであった。
【0089】
【表5】
【0090】製造例6 〔活性光の照射により現像液への溶解性が発現するポジ
フィルムの作製〕撹拌機、還流冷却機、温度計、滴下ロ
ート及び窒素ガス導入管を備えたフラスコにプロピレン
グリコールモノメチルエーテル240gを仕込み、窒素
ガス雰囲気下で90℃に昇温した。反応温度を90℃±
2℃に保ちながら、tert−アミルアクリレート120
g、メチルメタクリレート80g及びアゾビスイソブチ
ロニトリル2gを混合した液を2時間かけてフラスコ内
に滴下した。その後、90℃±2℃で3時間撹拌を続け
た後に、アゾビスジメチルバレロニトリル1gをプロピ
レングリコールモノメチルエーテル40gに溶解した液
を10分かけてフラスコ内に滴下し、その後再び90℃
±2℃で4時間撹拌を続け、重量平均分子量39,00
0のtert−アミルアクリレートの共重合ポリマ溶液を得
た。
フィルムの作製〕撹拌機、還流冷却機、温度計、滴下ロ
ート及び窒素ガス導入管を備えたフラスコにプロピレン
グリコールモノメチルエーテル240gを仕込み、窒素
ガス雰囲気下で90℃に昇温した。反応温度を90℃±
2℃に保ちながら、tert−アミルアクリレート120
g、メチルメタクリレート80g及びアゾビスイソブチ
ロニトリル2gを混合した液を2時間かけてフラスコ内
に滴下した。その後、90℃±2℃で3時間撹拌を続け
た後に、アゾビスジメチルバレロニトリル1gをプロピ
レングリコールモノメチルエーテル40gに溶解した液
を10分かけてフラスコ内に滴下し、その後再び90℃
±2℃で4時間撹拌を続け、重量平均分子量39,00
0のtert−アミルアクリレートの共重合ポリマ溶液を得
た。
【0091】このようにして得られたtert−アミルアク
リレートの共重合ポリマ溶液240g(ポリマ固形分1
00g)に、下記一般式(I)
リレートの共重合ポリマ溶液240g(ポリマ固形分1
00g)に、下記一般式(I)
【化1】 で表されるp−ニトロベンジル誘導体15gを溶解させ
て、ポジ型感光性樹脂の溶液を得た。
て、ポジ型感光性樹脂の溶液を得た。
【0092】前記、ポジ型感光性樹脂の溶液を、20μ
mの厚さのポリエチレンテレフタレートフィルム上に均
一に塗布し、100℃の熱風対流式乾燥機で10分間乾
燥して溶剤を除去し、活性光の照射により現像液への溶
解性が発現するポジフィルムを作製した。得られた活性
光の照射により現像液への溶解性が発現するポジフィル
ムの乾燥後の厚さは、60μmであった。
mの厚さのポリエチレンテレフタレートフィルム上に均
一に塗布し、100℃の熱風対流式乾燥機で10分間乾
燥して溶剤を除去し、活性光の照射により現像液への溶
解性が発現するポジフィルムを作製した。得られた活性
光の照射により現像液への溶解性が発現するポジフィル
ムの乾燥後の厚さは、60μmであった。
【0093】〔蛍光体パターンの作製〕 実施例1 〔(I)バリアリブが形成されたプラズマディスプレイ
パネル用基板上に、活性光の照射により現像液への溶解
性が発現するポジフィルムを圧着する工程〕PBP用基
板(ストライプ状のバリアリブ、バリアリブ間の開口幅
150μm、バリアリブの幅70μm、バリアリブの高
さ150μm(縦×横が10cm×10cm)のバリアリブ
が形成された側に、製造例6で得られた、活性光の照射
により現像液への溶解性が発現するポジフィルムをラミ
ネータ(日立化成工業(株)製、商品名HLM−3000
型)を用いて、ラミネート温度が80℃、ラミネート速
度が0.5m/分、圧着圧力が線圧5×103N/mで積層
した。次いで、ポリエチレンテレフタレートフィルムを
剥がした。
パネル用基板上に、活性光の照射により現像液への溶解
性が発現するポジフィルムを圧着する工程〕PBP用基
板(ストライプ状のバリアリブ、バリアリブ間の開口幅
150μm、バリアリブの幅70μm、バリアリブの高
さ150μm(縦×横が10cm×10cm)のバリアリブ
が形成された側に、製造例6で得られた、活性光の照射
により現像液への溶解性が発現するポジフィルムをラミ
ネータ(日立化成工業(株)製、商品名HLM−3000
型)を用いて、ラミネート温度が80℃、ラミネート速
度が0.5m/分、圧着圧力が線圧5×103N/mで積層
した。次いで、ポリエチレンテレフタレートフィルムを
剥がした。
【0094】〔(II)上記活性光の照射により現像液へ
の溶解性が発現するポジフィルムの、蛍光体が形成され
るべき所望の部位を、像的に露光し、現像して、露光さ
れた部位の該ポジフィルムを除去する工程〕次いで、活
性光の照射により現像液への溶解性が発現するポジフィ
ルムを積層したPDP用基板に、試験用フォトマスクを
密着させて、(株)オーク製作所製、HMW−590型露
光機を使用し、200mJ/cm2で活性光線を像的に照射し
た。さらに、120℃で15分間加熱した後、1重量%
のメタケイ酸ナトリウム水溶液で150秒間スプレー現
像して、露光部の活性光の照射により現像液への溶解性
が発現するポジフィルムを除去した。その後、蒸留水を
5分間スプレーして洗浄し、80℃の熱風を10分間吹
きつけて乾燥した。
の溶解性が発現するポジフィルムの、蛍光体が形成され
るべき所望の部位を、像的に露光し、現像して、露光さ
れた部位の該ポジフィルムを除去する工程〕次いで、活
性光の照射により現像液への溶解性が発現するポジフィ
ルムを積層したPDP用基板に、試験用フォトマスクを
密着させて、(株)オーク製作所製、HMW−590型露
光機を使用し、200mJ/cm2で活性光線を像的に照射し
た。さらに、120℃で15分間加熱した後、1重量%
のメタケイ酸ナトリウム水溶液で150秒間スプレー現
像して、露光部の活性光の照射により現像液への溶解性
が発現するポジフィルムを除去した。その後、蒸留水を
5分間スプレーして洗浄し、80℃の熱風を10分間吹
きつけて乾燥した。
【0095】〔(III)バリアリブが形成されたプラズ
マディスプレイパネル用基板上に、蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層の上部に、熱可塑性樹脂層が配置され
た状態で、熱可塑性樹脂層を加熱圧着する工程〕製造例
2で得られた蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を含
む感光性エレメント(B−1)を、ポリエチレンフィル
ムを剥がしながら、真空ラミネータ(日立化成工業(株)
製、商品名VLM−1型)を用いて、ヒートシュー温度
が30℃、ラミネート速度が1.5m/分、気圧が4,
000Pa以下、圧着圧力が線圧5×103N/mで積層し
た。
マディスプレイパネル用基板上に、蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層の上部に、熱可塑性樹脂層が配置され
た状態で、熱可塑性樹脂層を加熱圧着する工程〕製造例
2で得られた蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を含
む感光性エレメント(B−1)を、ポリエチレンフィル
ムを剥がしながら、真空ラミネータ(日立化成工業(株)
製、商品名VLM−1型)を用いて、ヒートシュー温度
が30℃、ラミネート速度が1.5m/分、気圧が4,
000Pa以下、圧着圧力が線圧5×103N/mで積層し
た。
【0096】次いで、蛍光体を含有する感光性樹脂組成
物層を含む感光性エレメント(B−1)のポリエチレン
テレフタレートフィルムを剥離し、蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層上に、製造例6で得られた熱可塑性樹
脂層を含むフィルム(C−1)を、ポリエチレンフィル
ムを剥がしながら、ラミネータ(日立化成工業(株)製、
商品名HLM−3000型)を用いて、ラミネート温度
が110℃、ラミネート速度が0.5m/分、圧着圧力
が線圧1×104N/mで積層した。
物層を含む感光性エレメント(B−1)のポリエチレン
テレフタレートフィルムを剥離し、蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層上に、製造例6で得られた熱可塑性樹
脂層を含むフィルム(C−1)を、ポリエチレンフィル
ムを剥がしながら、ラミネータ(日立化成工業(株)製、
商品名HLM−3000型)を用いて、ラミネート温度
が110℃、ラミネート速度が0.5m/分、圧着圧力
が線圧1×104N/mで積層した。
【0097】〔(IV)活性光線を像的に照射する工程〕
次いで、熱可塑性樹脂層を含むフィルム(C−1)のポ
リエチレンテレフタレートフィルム上に、試験用フォト
マスクを密着させて、(株)オーク製作所製、HMW−5
90型露光機を使用し、100mJ/cm2で活性光線を像的
に照射した。
次いで、熱可塑性樹脂層を含むフィルム(C−1)のポ
リエチレンテレフタレートフィルム上に、試験用フォト
マスクを密着させて、(株)オーク製作所製、HMW−5
90型露光機を使用し、100mJ/cm2で活性光線を像的
に照射した。
【0098】〔(V)現像により不要部を除去する工
程〕次いで、活性光線の照射後、常温で1時間放置した
後、1重量%炭酸ナトリウム水溶液を用いて、30℃で
70秒間スプレー現像した。現像後、80℃で10分間
乾燥し、東芝電材(株)製東芝紫外線照射装置を使用し
て、3J/cm2の紫外線照射を行った。
程〕次いで、活性光線の照射後、常温で1時間放置した
後、1重量%炭酸ナトリウム水溶液を用いて、30℃で
70秒間スプレー現像した。現像後、80℃で10分間
乾燥し、東芝電材(株)製東芝紫外線照射装置を使用し
て、3J/cm2の紫外線照射を行った。
【0099】〔(VI)焼成により不要分を除去する工
程〕次いで、550℃で30分間加熱処理(焼成)を行
い、不必要な樹脂成分を除去し、PBP用基板の空間に
蛍光体パターンを形成させた。
程〕次いで、550℃で30分間加熱処理(焼成)を行
い、不必要な樹脂成分を除去し、PBP用基板の空間に
蛍光体パターンを形成させた。
【0100】比較例1 実施例1において、工程(I)及び(II)を除き、さら
に、熱可塑性樹脂層を含むフィルム(C−1)を使用し
なかった以外は、実施例1と同様にして、蛍光体パター
ンを形成した。
に、熱可塑性樹脂層を含むフィルム(C−1)を使用し
なかった以外は、実施例1と同様にして、蛍光体パター
ンを形成した。
【0101】〔蛍光体パターンの評価〕得られた蛍光体
パターンの断面を、実体顕微鏡及びSEMにより目視に
て観察し、蛍光体パターンの形成状況を評価し、結果を
表6に示した。評価基準は次の通りである。 ○:蛍光体層がPBP用基板の空間(バリアリブ壁面及
びセル底面上)に均一に形成されている ×:蛍光体層がPBP用基板の空間(バリアリブ壁面及
びセル底面上)に均一に形成されていない
パターンの断面を、実体顕微鏡及びSEMにより目視に
て観察し、蛍光体パターンの形成状況を評価し、結果を
表6に示した。評価基準は次の通りである。 ○:蛍光体層がPBP用基板の空間(バリアリブ壁面及
びセル底面上)に均一に形成されている ×:蛍光体層がPBP用基板の空間(バリアリブ壁面及
びセル底面上)に均一に形成されていない
【0102】
【表6】
【0103】表6から、本発明の蛍光体パターンの製造
法を用いた、実施例1は蛍光体パターンの形成法(PB
P用基板のバリアリブ面及び空間底面上への埋め込み
性)に優れることが分かる。一方、本発明の蛍光体パタ
ーンの製造法を用いなかった比較例1は、蛍光体パター
ンの形成性が劣ることが分かる。
法を用いた、実施例1は蛍光体パターンの形成法(PB
P用基板のバリアリブ面及び空間底面上への埋め込み
性)に優れることが分かる。一方、本発明の蛍光体パタ
ーンの製造法を用いなかった比較例1は、蛍光体パター
ンの形成性が劣ることが分かる。
【0104】実施例2 〔多色の蛍光体パターンの作製〕実施例1における
(I)〜(V)の工程を行って得られた、1色目の赤色
の蛍光体パターンが形成された基板に、蛍光体を含有す
る感光性樹脂組成物層を含む感光性エレメント(B−
1)の代わりに感光性エレメント(B−2)を用い、
(II)〜(V)の工程を行って2色目の青色の蛍光体パ
ターンを形成し、さらに、蛍光体を含有する感光性樹脂
組成物層を含む感光性エレメント(B−1)の代わりに
感光性エレメント(B−3)を用い、(II)〜(V)の
工程を行って3色目の緑色の蛍光体パターンを形成し、
最後に(V)の工程を行って多色の蛍光体パターンを形
成した。得られた多色の蛍光体パターンを、EDAX社
製PV9900型「エネルギー分散型X線分析装置(X
MA)」(加速電圧20kV)を用いて、各色毎に、蛍光
体の組成を測定し、混色の有無を確認した結果、混色は
認められなかった。
(I)〜(V)の工程を行って得られた、1色目の赤色
の蛍光体パターンが形成された基板に、蛍光体を含有す
る感光性樹脂組成物層を含む感光性エレメント(B−
1)の代わりに感光性エレメント(B−2)を用い、
(II)〜(V)の工程を行って2色目の青色の蛍光体パ
ターンを形成し、さらに、蛍光体を含有する感光性樹脂
組成物層を含む感光性エレメント(B−1)の代わりに
感光性エレメント(B−3)を用い、(II)〜(V)の
工程を行って3色目の緑色の蛍光体パターンを形成し、
最後に(V)の工程を行って多色の蛍光体パターンを形
成した。得られた多色の蛍光体パターンを、EDAX社
製PV9900型「エネルギー分散型X線分析装置(X
MA)」(加速電圧20kV)を用いて、各色毎に、蛍光
体の組成を測定し、混色の有無を確認した結果、混色は
認められなかった。
【0105】
【発明の効果】請求項1記載の蛍光体パターンの製造法
は、蛍光体の混色がなく色精度が優れ、高精度で均一な
形状の蛍光体パターンを形成できる。請求項2及び3記
載の蛍光体パターンの製造法は、請求項1記載の蛍光体
パターンの製造法の効果を奏し、さらに作業性に優れる
ものである。請求項4記載の蛍光体パターンの製造法
は、請求項1、2又は3記載の蛍光体パターンの製造法
の効果を奏し、さらにPDP用基板の空間への埋め込み
性(PBP用基板のバリアリブ壁面及び空間底面上にお
ける蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層の形成性)に
優れるものである。請求項5記載の蛍光体パターンの製
造法は、請求項4記載の蛍光体パターンの製造法の効果
を奏し、さらに作業性に優れるものである。
は、蛍光体の混色がなく色精度が優れ、高精度で均一な
形状の蛍光体パターンを形成できる。請求項2及び3記
載の蛍光体パターンの製造法は、請求項1記載の蛍光体
パターンの製造法の効果を奏し、さらに作業性に優れる
ものである。請求項4記載の蛍光体パターンの製造法
は、請求項1、2又は3記載の蛍光体パターンの製造法
の効果を奏し、さらにPDP用基板の空間への埋め込み
性(PBP用基板のバリアリブ壁面及び空間底面上にお
ける蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層の形成性)に
優れるものである。請求項5記載の蛍光体パターンの製
造法は、請求項4記載の蛍光体パターンの製造法の効果
を奏し、さらに作業性に優れるものである。
【図1】バリアリブが形成されたPDP用基板の一例を
示した模式図である。
示した模式図である。
【図2】バリアリブが形成されたPDP用基板の一例を
示した模式図である。
示した模式図である。
【図3】本発明の蛍光体パターンの製造法の各工程を示
した模式図である。
した模式図である。
【図4】本発明の蛍光体パターンの製造法の各工程を示
した模式図である。
した模式図である。
【図5】本発明の蛍光体パターンの製造法の各工程を示
した模式図である。
した模式図である。
【図6】多色のパターンを形成した状態を示した模式図
である。
である。
【図7】多色の蛍光体パターンを形成した状態を示した
模式図である。
模式図である。
1 基板 2 バリアリブ 3 格子状放電空間 4 ストライプ状放電空間 5 蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層 5′ 光硬化後の蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層 5′a 1色目のパターン 5′b 2色目のパターン 5′c 3色目のパターン 6 感光性の熱可塑性樹脂層 6′ 光硬化後の感光性の熱可塑性樹脂層 7 加熱ロール 8 フォトマスク 9 活性光線 10′a 1色目のパターン 10′b 2色目のパターン 10′c 3色目のパターン 10 蛍光体パターン 10a 1色目の蛍光体パターン 10b 2色目の蛍光体パターン 10c 3色目の蛍光体パターン 11 ポジフィルム 11′ 現像後に残ったポジフィルム
フロントページの続き (72)発明者 和田 有美子 茨城県日立市東町四丁目13番1号 日立化 成工業株式会社茨城研究所内 (72)発明者 田井 誠司 茨城県日立市東町四丁目13番1号 日立化 成工業株式会社茨城研究所内
Claims (5)
- 【請求項1】 放電空間となるべき凹部を有する基板に
蛍光体を含む感光性樹脂組成物にフォトリソグラフ法を
適用することを異色の感光性樹脂組成物について繰返
し、放電空間となるべき凹部を有する基板の凹部内表面
に多色の蛍光体パターンを規則的に形成する蛍光体パタ
ーンの製造法において、所定の色の蛍光体パターンの形
成時に、その蛍光体パターンを形成しようとする凹部以
外の凹部を予め塞いでおくことを特徴とする蛍光体パタ
ーンの製造法。 - 【請求項2】 蛍光体パターンを形成しようとする凹部
以外の凹部を予め塞いでおくことを、ポジ型感光性樹脂
組成物にフォトリソグラフ法を適用することにより行う
請求項1記載の蛍光体パターンの製造法。 - 【請求項3】 ポジ型感光性樹脂組成物にフォトリソグ
ラフ法を適用することを、ポジ型感光性エレメントにフ
ォトリソグラフ法を適用して蛍光体パターンを形成しよ
うとする凹部以外の凹部をテンティングすることにより
行う請求項2記載の蛍光体パターンの製造法。 - 【請求項4】 蛍光体を含む感光性樹脂組成物にフォト
リソグラフ法を適用することが、放電空間となるべき凹
部を有する基板に、支持体、熱可塑性樹脂層及び蛍光体
を含む感光性樹脂組成物層がこの順で積層されてなる感
光性エレメントを放電空間となるべき凹部を有する基板
の凹部に蛍光体を含む感光性樹脂組成物層が接するよう
にして積層し、蛍光体を含む感光性樹脂組成物層をパタ
ーン状に露光し、蛍光体を含む感光性樹脂組成物層の不
要部を現像して除去することにより行われる請求項1、
2又は3記載の蛍光体パターンの製造法。 - 【請求項5】 熱可塑性樹脂層が感光性を有するもので
ある請求項4記載の蛍光体パターンの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33010696A JPH10172431A (ja) | 1996-12-11 | 1996-12-11 | 蛍光体パターンの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33010696A JPH10172431A (ja) | 1996-12-11 | 1996-12-11 | 蛍光体パターンの製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10172431A true JPH10172431A (ja) | 1998-06-26 |
Family
ID=18228868
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33010696A Pending JPH10172431A (ja) | 1996-12-11 | 1996-12-11 | 蛍光体パターンの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10172431A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8455058B2 (en) | 2008-05-14 | 2013-06-04 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Resin composition and coating method using the same |
-
1996
- 1996-12-11 JP JP33010696A patent/JPH10172431A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8455058B2 (en) | 2008-05-14 | 2013-06-04 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Resin composition and coating method using the same |
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