JPH10186645A - 蛍光体パターンの製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 高精度で均一な形状のパターンを形成できる
蛍光体パターンの製造法を提供する。 【解決手段】 （Ｉ）プラズマディスプレイパネル用基
板上に、活性光線の照射により現像液への溶解性が発現
するポジフィルムを圧着する工程、（ＩＩ）上記ポジフ
ィルムの蛍光体が形成されるべき所望の部位を、像的に
露光し、現像して、露光された部位の該ポジフィルムを
除去する工程、（ＩＩＩ）所望の部位のみポジフィルム
が除去されたプラズマディスプレイパネル用基板上に、
蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成物層と熱可塑性
樹脂層とを加熱圧着する工程、（ＩＶ）蛍光体が形成さ
れるべき所望の位置に活性光線を像的に照射する工程、
（Ｖ）ポジフィルムを残し現象により不要部を除去する
工程、（ＶＩ）ポジフィルム（Ａ）を除去する工程及び
（ＶＩＩ）焼成により不要分を除去する工程の各工程を
含む蛍光体パターンの製造法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、蛍光体パターンの
製造法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、平板ディスプレイの１つとし
て、プラズマ放電により発光する蛍光体を設けることに
よって多色表示を可能にしたプラズマディスプレイパネ
ル（以下ＰＤＰと記す）が知られている。

【０００３】ＰＤＰは、ガラスからなる平板状の前面板
と背面板とが互いに平行にかつ対向して配設され、両者
はその間に設けられたバリアリブにより一定の間隔に保
持されており、前面板、背面板及びバリアリブに囲まれ
た空間で放電する構造になっている。

【０００４】このような空間には、表示のための蛍光体
が塗布され、放電によって封入ガスから発生する紫外線
によって蛍光体が発光させられ、この光を観察者が視認
できるようになっている。

【０００５】従来、この蛍光体を設ける方法としては、
各色蛍光体を分散させたスラリー液若しくはペーストを
スクリーン印刷等の印刷方法によって、塗布する方法が
提案されており、特開平１−１１５０２７号公報、特開
平１−１２４９２９号公報、特開平１−１２４９３０号
公報、特開平２−１５５１４２号公報等に開示されてい
る。

【０００６】しかし、上記の蛍光体分散スラリー液は液
状であるため、蛍光体の沈殿等による分散不良が生じや
すく、またスラリー液に液状の感光性レジストを用いた
場合には、暗反応の促進等により保存安定性が乏しくな
る等の欠点を有する。さらにスクリーン印刷等の印刷方
法は印刷精度に劣るため、将来的なＰＤＰの大画面化へ
の対応は困難である等の問題がある。

【０００７】これらの問題点の解決には、蛍光体を含有
させた感光性エレメント（感光性フィルムともいう）を
用いる方法が提案されている（特開平６−２７３９２５
号公報）。

【０００８】感光性エレメントを用いる方法とは、蛍光
体を含有する感光性樹脂層と支持体フィルムよりなる感
光性エレメントの蛍光体を含有する感光性樹脂層を、加
熱圧着（ラミネート）により前記ＰＤＰ用基板の空間に
埋め込み、次に、ネガフィルムを用いて、写真法により
紫外線等の活性光で像的に露光し、その後、アルカリ水
溶液等の現像液で、未露光部分を除去し、さらに、焼成
により不必要な有機成分を取り除いて、必要な部分のみ
に蛍光体パターンを形成するものである。

【０００９】従って、前記ＰＤＰ用基板の空間に蛍光体
パターンを形成する際には、蛍光体の分散性を確認する
必要はなく、また、蛍光体分散スラリー液若しくはペー
ストに比べて保存安定性にも優れている。さらに、写真
法を用いるため、精度良く蛍光体パターンを形成するこ
とができる。

【００１０】しかし、従来の方法により感光性エレメン
トを使用して発光体を含有する感光性樹脂層を、ラミネ
ートにより前記ＰＤＰ用基板の空間（セル内）に埋め込
むと、バリアリブ壁面及び空間底面上に蛍光体パターン
を均一な層厚、形状で形成することが困難であった。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、ＰＤ
Ｐ用基板の空間への埋め込み性（ＰＤＰ用基板のバリア
リブ壁面及び基板底面上における蛍光体を含有するネガ
型感光性樹脂組成物層の形成性）が優れ、高精度で均一
な形状の蛍光体パターンを形成できる蛍光体パターンの
製造法を提供することにある。

【００１２】本発明の他の目的は、さらに作業性に優れ
た蛍光体パターンの製造法を提供することにある。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明は、（Ｉ）バリア
リブが形成されたプラズマディスプレイパネル用基板上
に、活性光線の照射により現像液への溶解性が発現する
ポジフィルム（Ａ）を圧着する工程、（ＩＩ）上記活性
光線の照射により現像液への溶解性が発現するポジフィ
ルム（Ａ）の蛍光体が形成されるべき所望の部位を、像
的に露光し、現像して、露光された部位の該ポジフィル
ム（Ａ）を除去する工程、（ＩＩＩ）所望の部位のみポ
ジフィルム（Ａ）が除去されたプラズマディスプレイパ
ネル用基板上に、蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組
成物層（Ｂ）と熱可塑性樹脂層（Ｃ）とを（Ｂ）層を基
板側にして加熱圧着する工程、（ＩＶ）蛍光体が形成さ
れるべき所望の位置に活性光線を像的に照射する工程、
（Ｖ）ポジフィルム（Ａ）を残し現象により（Ｂ）層及
び（Ｃ）層の不要部を除去する工程、（ＶＩ）ポジフィ
ルム（Ａ）を除去する工程及び（ＶＩＩ）焼成により不
要分を除去する工程の各工程を含むことを特徴とする蛍
光体パターンの製造法を提供するものである。

【００１４】また、本発明において、（Ｉ）〜（ＶＩ）
の各工程を繰り返して、赤、緑及び青に発色する蛍光体
を含有する感光性樹脂組成物層（Ｂ）からなる多色のパ
ターンを形成した後、（ＶＩＩ）の工程を行なうことに
より多色の蛍光体パターンを形成することができる。

【００１５】

【発明の実施の形態】本発明の（ＩＩＩ）の工程の所望
の部位のみポジフィルム（Ａ）が除去されたプラズマデ
ィスプレイパネル用基板上に、蛍光体を含有するネガ型
感光性樹脂組成物層（Ｂ）と熱可塑性樹脂層（Ｃ）とを
（Ｂ）層を基板側にして加熱圧着する工程は、例えば、
（１）（ＩＩＩＡ）プラズマディスプレイパネル用基板
上に、蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂層（Ｂ）が配
置された状態で熱可塑性樹脂層（Ｃ）を加熱圧着する方
法と（２）（ＩＩＩＢ）プラズマディスプレイパネル用
基板上に、支持体フィルム上に設けた熱可塑性樹脂層
（Ｃ）の上に蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成物
層（Ｂ）を設けた多層フィルムからなる感光性エレメン
ト（Ｅ）を加熱圧着する方法により行われる。

【００１６】本発明におけるバリアリブが形成されたプ
ラズマディスプレイパネル用基板（ＰＤＰ用基板）とし
ては、例えば、ガラス板、合成樹脂板等の基板に、電極
及びバリアリブが形成されたものなどが挙げられる。こ
れらの基板には透明な接着のための表面処理が施されて
いてもよい。

【００１７】バリアリブの形成には、特に制限はなく、
公知の材料を使用できるが、例えば、シリカ、熱硬化性
樹脂、低融点ガラス（酸化鉛等）、溶剤などを含むリブ
材を用いることができる。

【００１８】また、ＰＤＰ用基板には、電極及びバリア
リブの他に、必要に応じて、誘電膜、絶縁膜、補助電
極、抵抗体等が形成されていてもよい。

【００１９】これらのものを、基板へ形成する方法とし
ては、特に制限はなく、例えば、基板に、蒸着、スパッ
タリング、メッキ、塗布、印刷等の方法で電極を形成す
ることができ、印刷法、サンドブラスト法、埋め込み法
等の方法でバリアリブを形成することができる。

【００２０】バリアリブは、通常、高さが２０〜５００
μｍ、幅が２０〜２００μｍとされる。バリアリブで囲
まれた放電空間の形状には、特に制限はなく、格子状、
ストライプ状、ハニカム状、３角形状、楕円形状等が可
能であるが、通常、図１及び図２等に示すような、格子
状又はストライプ状の放電空間が形成される。

【００２１】図１及び図２において、基板１上には、バ
リアリブ２が形成されており、図１では格子状放電空間
３が、図２ではストライプ状放電空間３が形成されてい
る。放電空間の大きさは、ＰＤＰの大きさと解像度によ
って決められ、通常、図１のような格子状放電空間であ
れば、縦及び横の長さは、５０μｍ〜１ｍｍとなり、図
２のようなストライプ状放電空間であれば、間隔は、３
０μｍ〜１ｍｍとなる。

【００２２】本発明における、活性光の照射により現像
液への溶解性が発現するポジフィルム（Ａ）としては、
例えば、溶解抑制剤系ポジ型レジスト、化学増幅ポジ型
レジスト等のポジ型フォトレジストを支持体フィルム上
に公知の方法で塗布、乾燥しフィルム状にしたものが好
ましいものとして挙げられる。

【００２３】溶解抑制剤系ポジ型レジストは、（ｈ）バ
インダーと（ｉ）感光剤を含有する。

【００２４】（ｈ）バインダーとしては、アルカリ水溶
液に可溶な樹脂が用いられ、例えば、クレゾールノボラ
ック樹脂、フェノールノボラック樹脂、メラミン−ホル
ムアルデヒド樹脂、ポリエチレンオキシド、ポリアクリ
ルアミド、ポリ−ｐ−ビニルフェノール、ポリメタクリ
ル酸、ポリアクリル酸、クレゾールとヒドロキシベンジ
ルアルコールとの共重合体、スチレンとマレイミドの共
重合体、ポリジメチルグルタルイミド、ポリ−ｐ−ヒド
ロキシスチレン等が挙げられる。（ｉ）感光剤として
は、１，２−ナフトキノンジアジド化合物、５−ジアゾ
メルドラム酸、２−ジアゾ−１，３−ジケトシクロヘキ
サン−５−カルボン酸エステル、ジフェニルヨードニウ
ム塩、トリフェニルスルホニウム塩等が挙げられる。

【００２５】化学増幅ポジ型レジストとしては、活性光
線の照射により酸を発生する化合物と、酸により分解な
どの反応を起こし、現像液に可溶化する化合物とを組み
合わせた感光システムが挙げられ、例えば、光照射によ
り酸を発生する化合物と、アセタール化合物との組み合
わせ、主鎖にアセタール又はケタール基を有するポリマ
ーとの組み合わせ、エノールエーテル化合物との組み合
わせ、主鎖にオルトエステル基を有するポリマーとの組
み合わせ、カルボン酸のｔｅｒｔ−ブチルエステル又は
フェノールのｔｅｒｔ−ブチルカルボナート基を有する
重合体との組み合わせ、分子内にカルボン酸のｔｅｒｔ
−アミルエステル構造を有する化合物との組み合わせ等
が挙げられる。

【００２６】支持体フィルムとしては、化学的及び熱的
に安定であり、また、可とう性の物質で構成された、例
えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネー
ト、ポリエチレン、ポリプロピレン等が挙げられ、その
中でも、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンが
好ましく、ポリエチレンテレフタレートがより好まし
い。この支持体フィルムの厚さは、５〜１００μｍとす
ることが好ましく、１０〜３０μｍとすることがより好
ましい。

【００２７】塗布方法としては、公知の方法を用いるこ
とができ、例えば、ナイフコート法、ロールコート法、
スプレーコート法、グラビアコート法、バーコート法、
カーテンコート法等が挙げられる。

【００２８】活性光の照射により現像液への溶解性が発
現するポジフィルム（Ａ）の現像液としては、例えば、
メタケイ酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリ
ウム、炭酸カリウム、水酸化カリウム等の無機アルカリ
及び、トリエタノールアミン、水酸化テトラメチルアン
モニウム等の有機アルカリの水溶液が挙げられる。アル
カリ水溶液の濃度は、０．１〜１５重量％が好ましく、
０．５〜５重量％がより好ましい。０．１重量％未満で
は露光部を短時間に完全に除去できないことがあり、ま
た、１５重量％を超えると未露光部も一部侵される可能
性がある。現像方法は、上記の現像液を吹きつけるか、
現像液に浸漬するなどして行われる。

【００２９】本発明における蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物層（Ｂ）としては、蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物を含む層であれば特に制限はないが、例えば、
（ａ）フィルム性付与ポリマー、（ｂ）末端にエチレン
性不飽和基を有する光重合性不飽和化合物、（ｃ）活性
光線の照射により遊離ラジカルを生成する光開始剤及び
（ｄ）蛍光体を含む層が好ましいものとして挙げられ
る。

【００３０】（ａ）フィルム性付与ポリマーとしては、
ビニル共重合体が好ましく、ビニル共重合体に用いられ
るビニル単量体としては、例えば、アクリル酸、メタク
リル酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、アクリル
酸メチル、メタクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メ
タクリル酸エチル、アクリル酸ｎ−プロピル、メタクリ
ル酸ｎ−プロピル、アクリル酸ｉｓｏ−プロピル、メタ
クリル酸ｉｓｏ−プロピル、アクリル酸ｎ−ブチル、メ
タクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸ｉｓｏ−ブチル、メ
タクリル酸ｉｓｏ−ブチル、アクリル酸ｓｅｃ−ブチ
ル、メタクリル酸ｓｅｃ−ブチル、アクリル酸ｔｅｒｔ
−ブチル、メタクリル酸ｔｅｒｔ−ブチル、アクリル酸
ペンチル、メタクリル酸ペンチル、アクリル酸ヘキシ
ル、メタクリル酸ヘキシル、アクリル酸ヘプチル、メタ
クリル酸ヘプチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、メ
タクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、
メタクリル酸オクチル、アクリル酸ノニル、メタクリル
酸ノニル、アクリル酸デシル、メタクリル酸デシル、ア
クリル酸ドデシル、メタクリル酸ドデシル、アクリル酸
テトラデシル、メタクリル酸テトラデシル、アクリル酸
ヘキサデシル、メタクリル酸ヘキサデシル、アクリル酸
オクタデシル、メタクリル酸オクタデシル、アクリル酸
エイコシル、メタクリル酸エイコシル、アクリル酸ドコ
シル、メタクリル酸ドコシル、アクリル酸シクロペンチ
ル、メタクリル酸シクロペンチル、アクリル酸シクロヘ
キシル、メタクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸シク
ロヘプチル、メタクリル酸シクロヘプチル、アクリル酸
ベンジル、メタクリル酸ベンジル、アクリル酸フェニ
ル、メタクリル酸フェニル、アクリル酸メトキシエチ
ル、メタクリル酸メトキシエチル、アクリル酸メトキシ
ジエチレングリコール、メタクリル酸メトキシジエチレ
ングリコール、アクリル酸メトキシジプロピレングリコ
ール、メタクリル酸メトキシジプロピレングリコール、
アクリル酸メトキシトリエチレングリコール、メタクリ
ル酸メトキシトリエチレングリコール、アクリル酸２−
ヒドロキシエチル、メタクリル酸２−ヒドロキシエチ
ル、アクリル酸ジメチルアミノエチル、メタクリル酸ジ
メチルアミノエチル、アクリル酸ジエチルアミノエチ
ル、メタクリル酸ジエチルアミノエチル、アクリル酸ジ
メチルアミノプロピル、メタクリル酸ジメチルアミノプ
ロピル、アクリル酸２−クロロエチル、メタクリル酸２
−クロロエチル、アクリル酸２−フルオロエチル、メタ
クリル酸２−フルオロエチル、アクリル酸２−シアノエ
チル、メタクリル酸２−シアノエチル、スチレン、α−
メチルスチレン、ビニルトルエン、塩化ビニル、酢酸ビ
ニル、Ｎ−ビニルピロリドン、ブタジエン、イソプレ
ン、クロロプレン、アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等が挙げら
れる。これらは単独で又は２種以上を組み合わせて使用
される。

【００３１】（ａ）フィルム性付与ポリマーの重量平均
分子量は、５，０００〜３００，０００とすることが好
ましく、２０，０００〜１５０，０００とすることがよ
り好ましい。この重量平均分子量が、５，０００未満で
は、感光性エレメントとした場合にフィルム形成性及び
可とう性が低下する傾向があり、３００，０００を超え
ると、現像性（不要部が現像により、容易に除去できる
性質）が低下する傾向がある。

【００３２】なお、重量平均分子量は、ゲルパーミエー
ションクロマトグラフィー法により測定し、標準ポリス
チレン検量線を用いて換算した値である。

【００３３】また、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物
が、公知の各種現像液により現像可能となるように、
（ａ）フィルム性付与ポリマーのカルボキシル基含有率
（酸価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）で規定できる）を適宜調整す
ることができる。

【００３４】例えば、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム
等のアルカリ水溶液を用いて現像する場合には、酸価
を、９０〜２６０とすることが好ましい。この酸価が、
９０未満では、現像が困難となる傾向があり、２６０を
超えると、耐現像液性（現像により除去されずに残りパ
ターンとなる部分が、現像液によって侵されない性質）
が低下する傾向がある。

【００３５】また、水又はアルカリ水溶液と１種以上の
有機溶剤とからなる水系現像液を用いて現像する場合に
は、酸価を、１６〜２６０とすることが好ましい。この
酸価が、１６未満では、現像が困難となる傾向があり、
２６０を超えると、耐現像液性が低下する傾向がある。

【００３６】さらに、１，１，１−トリクロロエタン等
の有機溶剤現像液を用いる場合には、カルボキシル基を
含有しなくても良い。

【００３７】（ｂ）末端にエチレン性不飽和基を有する
光重合性不飽和化合物としては、従来、光重合性多官能
モノマーとして知られているものを全て用いることがで
きる。

【００３８】例えば、多価アルコールのアクリレート又
はメタクリレート（ジエチレングリコールジアクリレー
ト、ジエチレングリコールジメタクリレート、テトラエ
チレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリ
コールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジア
クリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレー
ト、テトラプロピレングリコールジアクリレート、テト
ラプロピレングリコールジメタクリレート、ヘキサブロ
ピレングリコールジアクリレート、ヘキサプロピレング
リコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコール
ジアクリレート、ポリプロピレングリコールジメタクリ
レート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ト
リメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリ
スリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールト
リメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリ
レート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、
１，９−ノナンジオールジアクリレート、ジペンタエリ
スリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトー
ルペンタメタクリレート等）、エポキシアクリレート又
はエポキシメタクリレート（２，２−ビス（４−メタク
リロキシエトキシフェニル）プロパン、２，２−ビス
（４−アクリロキシエトキシフェニル）プロパン、ビス
フェノールＡ／エピクロルヒドリン系のエポキシ樹脂
の、アクリル酸又はメタクリル酸付加物等）、分子中に
ベンゼン環を有する低分子不飽和ポリエステルのアクリ
レート又はメタクリレート（無水フタル酸／ネオペンチ
ルグリコール／アクリル酸＝１／２／２（モル比）の縮
合物等）、トリメチロールプロパントリグリシジルエー
テルのアクリル酸又はメタクリル酸との付加物、トリメ
チルヘキサメチレンジイソシアネートと２価アルコール
のアクリル酸モノエステル又はメタクリル酸モノエステ
ルとの反応で得られるウレタンアクリレート化合物又は
ウレタンメタクリレート化合物、トリス（アクリロキシ
エチル）イソシアヌレート、トリス（メタクリロキシエ
チル）イソシアヌレート、ポリスチリルエチルアクリレ
ート、ポリスチリルエチルメタクリレート、４−（２，
２，６，６−テトラメチルピペリジニル）アクリレー
ト、４−（２，２，６，６−テトラメチルピペリジニ
ル）メタクリレート、ビスフェノールＡジアクリレー
ト、ビスフェノールＡジメタクリレートなどが挙げられ
る。これらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使用
されるが、本発明における蛍光体を含有する感光性樹脂
組成物層（Ｂ）は、焼成により不要な有機成分を除去す
る必要があるため、熱分解性が良好であるポリエチレン
グリコールジメタクリレートが好ましい。

【００３９】（ｃ）活性光線の照射により遊離ラジカル
を生成する光開始剤としては、例えば、芳香族ケトン
（ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ′−テトラメチル−４，４′
−ジアミノベンゾフエノン（ミヒラーケトン）、Ｎ，
Ｎ′−テトラエチル−４，４′−ジアミノベンゾフェノ
ン、４−メトキシ−４′−ジメチルアミノベンゾフェノ
ン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モ
ルホリノフェニル）−ブタノン−１，２，２−ジメトキ
シ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１−ヒドロ
キシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２−メチル
−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルフォ
リノプロパノン−１、２，４−ジエチルチオキサント
ン、２−エチルアントラキノン、フェナントレンキノン
等）、ベンゾインエーテル（ベンゾインメチルエーテ
ル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニルエ
ーテル等）、ベンゾイン（メチルベンゾイン、エチルベ
ンゾイン等）、ベンジル誘導体（ベンジルジメチルケタ
ール等）、２，４，５−トリアリールイミダゾール二量
体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニル
イミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−
４，５−ジ（ｍ−メトキシフェニル）イミダゾール二量
体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−フェニル
イミダゾール二量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−
４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メ
トキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二
量体、２，４−ジ（ｐ−メトキシフェニル）−５−フェ
ニルイミダゾール二量体、２−（２，４−ジメトキシフ
ェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体
等）、アクリジン誘導体（９−フェニルアクリジン、
１，７−ビス（９，９′−アクリジニル）ヘプタン等）
などが挙げられる。これらは単独で又は２種類以上を組
み合わせて使用される。

【００４０】（ｄ）蛍光体としては、特に限定はなく、
通常の金属酸化物を主体とするものが用いられる。

【００４１】赤色発色の蛍光体としては、例えば、Ｙ₂
Ｏ₂Ｓ：Ｅｕ、Ｚｎ₃（ＰＯ₄）₂：Ｍｎ、Ｙ₃０₃：Ｅｕ、
ＹＶＯ₄：Ｅｕ、（Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ₃：Ｅｕ、γ−Ｚｎ₃
（ＰＯ₄）₂：Ｍｎ、（ＺｎＣｄ）Ｓ：Ａｇ＋Ｉｎ₂Ｏ等
が挙げられる。

【００４２】緑色発色の蛍光体としては、例えば、Ｚｎ
Ｓ：Ｃｕ、Ｚｎ₂ＳｉＯ₄：Ｍｎ、ＺｎＳ：Ｃｕ＋Ｚｎ₂
ＳｉＯ₄：Ｍｎ、Ｇｄ₂Ｏ₂Ｓ：Ｔｂ、Ｙ₃Ａｌ₅Ｏ₁₂：Ｃ
ｅ、ＺｎＳ：Ｃｕ，Ａｌ、Ｙ₂Ｏ₂Ｓ：Ｔｂ、ＺｎＯ：Ｚ
ｎ、ＺｎＳ：Ｃｕ，Ａｌ＋Ｉｎ ₂Ｏ₃、ＬａＰＯ₄：Ｃ
ｅ，Ｔｂ、ＢａＯ・６Ａｌ₂Ｏ₃：Ｍｎ等が挙げられる。

【００４３】青色発色の蛍光体としては、例えば、Ｚｎ
Ｓ：Ａｇ、ＺｎＳ：Ａｇ，Ａｌ、ＺｎＳ：Ａｇ，Ｇａ，
Ａｌ、ＺｎＳ：Ａｇ，Ｃｕ，Ｇａ，Ｃｌ、ＺｎＳ：Ａｇ
＋Ｉｎ₂Ｏ₃、Ｃａ₂Ｂ₅Ｏ₉Ｃｌ：Ｅｕ²⁺、（Ｓｒ，Ｃ
ａ，Ｂａ，Ｍｇ）₁₀（ＰＯ₄）₆Ｃ１₂：Ｅｕ²⁺、Ｓｒ₁₀
（ＰＯ₄）₆Ｃｌ₂：Ｅｕ²⁺、ＢａＭｇＡｌ₁₀Ｏ₁₇：Ｅｕ
²⁺、ＢａＭｇＡｌ₁₄Ｏ₂₃：Ｅｕ²⁺、ＢａＭｇＡｌ
₁₆Ｏ₂₆：Ｅｕ²⁺等が挙げられる。

【００４４】（ａ）成分の配合量は、（ａ）成分及び
（ｂ）成分の総量が１００重量部として、１０〜９０重
量部とすることが好ましく、２０〜８０重量部とするこ
とがより好ましい。この配合量が、１０重量部未満で
は、感光性エレメントとしてロール状で供給した場合、
蛍光体含有感光性樹脂組成物がロール端部からしみ出す
（以下エッジフュージョンと記す）ことにより、感光性
エレメントのラミネート時にロールからの繰り出しが困
難となり、またしみ出した部分がＰＤＰ用基板の空間に
部分的に過剰に埋め込まれ、製造歩留りが著しく低下す
る等の問題が生じたり、フィルム形成性が低下する等の
傾向があり、９０重量部を超えると、感度が不充分とな
る傾向がある。

【００４５】（ｂ）成分の配合量は、（ａ）成分及び
（ｂ）成分の総量が１００重量部として、１０〜９０重
量部とすることが好ましく、２０〜８０重量部とするこ
とがより好ましい。この配合量が、１０重量部未満で
は、蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成物の感度が
不充分となる傾向があり、９０重量部を超えると、感光
性エレメントとした場合に、蛍光体を含有するネガ型感
光性樹脂組成物が流動によって端部からしみ出したり、
フィルム形成性が低下する等の傾向がある。

【００４６】（ｃ）成分の配合量は、（ａ）成分及び
（ｂ）成分の総量１００重量部に対して、０．０１〜３
０重量部とすることが好ましく、０．１〜２０重量部と
することがより好ましい。この配合量が、０．０１重量
部未満では、蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成物
の感度が不充分となる傾向があり、３０重量部を超える
と、蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成物の露光表
面での活性光線の吸収が増大して、内部の光硬化が不充
分となる傾向がある。

【００４７】（ｄ）成分の配合量は、（ａ）成分、
（ｂ）成分及び（ｃ）成分の総量１００重量部に対し
て、１０〜３００重量部とすることが好ましく、５０〜
２５０重量部とすることがより好ましく、７０〜２００
重量部とすることが特に好ましい。この配合量が、１０
重量部未満では、ＰＤＰとして発光させた場合に発光効
率が低下する傾向があり、３００重量部を超えると、感
光性エレメントとした場合に、フィルム形成性が低下し
たり、可とう性が低下する傾向がある。

【００４８】本発明における蛍光体を含有するネガ型感
光性樹脂組成物層（Ｂ）を構成する感光性樹脂組成物に
は、長期間増粘を起こさず、貯蔵安定性を良好にするた
めに、カルボキシル基を有する化合物を含有させること
ができる。カルボキシル基を有する化合物としては、例
えば、飽和脂肪酸、不飽和脂肪酸、脂肪族二塩基酸、芳
香族二塩基酸、脂肪族三塩基酸、芳香族三塩基酸等が挙
げられる。

【００４９】具体的には、例えば、ぎ酸、酢酸、クロロ
酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、プロピオン酸、
カプリン酸、ウンデカン酸、ラウリン酸、トリデカン
酸、ミリスチン酸、ペンタデカン酸、パルミチン酸、ヘ
プタデカン酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキジ
ン酸、パルミトオレイン酸、オレイン酸、エライジン
酸、リノレン酸、リノール酸、しゅう酸、マロン酸、メ
チルマロン酸、エチルマロン酸、マロン酸モノメチル、
マロン酸モノエチル、こはく酸、メチルこはく酸、アジ
ピン酸、メチルアジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、
アゼライン酸、セバシン酸、マレイン酸、イタコン酸、
フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリト
酸、クエン酸、サリチル酸、ピルビン酸、リンゴ酸等が
挙げられる。

【００５０】中でも、増粘を抑制する効果が高い点か
ら、しゅう酸、マロン酸、メチルマロン酸、エチルマロ
ン酸、クエン酸等が好ましく、しゅう酸、マロン酸、ク
エン酸等がより好ましい。これらは単独で又は２種類以
上組み合わせて使用される。

【００５１】カルボキシル基を有する化合物の配合量
は、（ａ）成分１００重量部に対して、０．０１〜３０
重量部とすることが好ましい。この配合量が、０．０１
重量部未満では、保存安定性の効果が低くなる傾向があ
り、３０重量部を超えると、感度が不充分となる傾向が
ある。

【００５２】本発明における蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物層（Ｂ）を構成する感光性樹脂組成物には、蛍
光体の分散を良好とするために、分散剤を添加すること
が好ましい。

【００５３】分散剤としては、無機分散剤（シリカゲル
系、ベントナイト系、カオリナイト系、タルク系、ヘク
トライト系、モンモリロナイト系、サポナイト系、バイ
デライト系等）、有機分散剤（脂肪族アマイド系、脂肪
族エステル系、酸化ポリエチレン系、硫酸エステル系ア
ニオン活性剤、ポリカルボン酸アミン塩系、ポリカルボ
ン酸系、ポリアマイド系、高分子ポリエーテル系、アク
リル共重合物系、特殊シリコン系等）等が挙げられる。
これらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使用する
ことができる。

【００５４】分散剤の使用量としては、特に制限はな
く、（ａ）成分１００重量部に対して、０．０１〜１０
０重量部とすることが好ましい。この使用量が、０．０
１重量部未満では、添加効果が発現しない傾向があり、
１００重量部を超えると、パターン形成精度（蛍光体を
含有するネガ型感光性樹脂組成物からなるパターンを、
現像後、寸法的に正確に、所望の形状で得られる性質）
が低下する傾向がある。

【００５５】本発明における蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物層（Ｂ）を構成する感光性樹脂組成物には、焼
成後、ＰＤＰ用基板から蛍光体が剥離しないようにする
ために、結着剤を使用することが好ましい。

【００５６】結着剤としては、例えば、低融点ガラス、
金属アルコキシド、シランカップリング剤等が挙げられ
る。これらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使用
される。

【００５７】結着剤の使用量としては、特に制限はな
く、（ｄ）成分１００重量部に対して、０．０１〜１０
０重量部とすることが好ましく、０．０５〜５０重量部
とすることがより好ましく、０．１〜３０重量部とする
ことが特に好ましい。この使用量が、０．０１重量部未
満では、蛍光体の結着効果が発現しない傾向があり、１
００重量部を超えると、発光効率が低下する傾向があ
る。

【００５８】また、本発明における蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層（Ｂ）を構成するネガ型感光性樹脂組
成物には、染料、発色剤、可塑剤、顔料、重合禁止剤、
表面改質剤、安定剤、密着性付与剤、熱硬化剤等を必要
に応じて添加することができる。

【００５９】本発明における熱可塑性樹脂層（Ｃ）を構
成する樹脂としては、加熱圧着時の温度で軟化するもの
であれば特に制限はなく、例えば、ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩
化ビニリデン、ポリスチレン、ポリビニルトルエン、ポ
リアクリル酸エステル、ポリメタクリル酸エステル、エ
チレンと酢酸ビニルの共重合体、エチレンとアクリル酸
エステルの共重合体、塩化ビニルと酢酸ビニルの共重合
体、スチレンとアクリル酸エステル又はメタクリル酸エ
ステルとの共重合体、ビニルトルエンとアクリル酸エス
テル又はメタクリル酸エステルとの共重合体、ポリビニ
ルアルコール系樹脂（ポリアクリル酸エステル又はポリ
メタクリル酸エステルの加水分解物、ポリ酢酸ビニルの
加水分解物、エチレンと酢酸ビニルとの共重合体の加水
分解物、エチレンとアクリル酸エステルとの共重合体の
加水分解物、塩化ビニルと酢酸ビニルとの共重合体の加
水分解物、スチレンとアクリル酸エステル又はメタクリ
ル酸エステルとの共重合体の加水分解物、ビニルトルエ
ンとアクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルとの
共重合体の加水分解物等）、カルボキシアルキルセルロ
ースの水溶性塩、水溶性セルロースエステル類、カルボ
キシアルキルでん粉の水溶性塩、ポリビニルピロリド
ン、不飽和カルボン酸とこれらと共重合可能な不飽和単
量体を共重合することにより得られるカルボキシル基を
有する樹脂などが挙げられる。

【００６０】また、本発明における熱可塑性樹脂層
（Ｃ）は、混色防止、作業性の向上等の点から、（ｅ）
熱可塑性樹脂、（ｆ）末端にエチレン性不飽和基を有す
る光重合性不飽和化合物及び（ｇ）活性光線の照射によ
り遊離ラジカルを生成する光開始剤を含有してなるネガ
型感光性樹脂組成物により構成することもできる。

【００６１】（ｅ）熱可塑性樹脂としては、前記した熱
可塑性樹脂層（Ｃ）を構成する樹脂として使用可能な樹
脂及び蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成物層
（Ｂ）を構成する感光性樹脂組成物に使用可能な（ａ）
フィルム性付与ポリマーを使用することができる。

【００６２】（ｆ）末端にエチレン性不飽和基を有する
光重合性不飽和化合物としては、前記した蛍光体を含有
するネガ型感光性樹脂組成物層（Ｂ）を構成するネガ型
感光性樹脂組成物に使用可能な（ｂ）末端にエチレン性
不飽和基を有する光重合性不飽和化合物を使用すること
ができる。

【００６３】（ｇ）活性光線の照射により遊離ラジカル
を生成する光開始剤としては、前記した蛍光体を含有す
るネガ型感光性樹脂組成物層（Ｂ）を構成するネガ型感
光性樹脂組成物に使用可能な（ｃ）活性光線の照射によ
り遊離ラジカルを生成する光開始剤を使用することがで
きる。

【００６４】（ｅ）成分の配合量は、（ｅ）成分及び
（ｆ）成分の総量が１００重量部として、１０〜９０重
量部とすることが好ましく、２０〜８０重量部とするこ
とがより好ましい。この配合量が、１０重量部未満で
は、感光性エレメントとした場合に、ネガ型感光性樹脂
組成物が流動によって端部からしみ出したり、フィルム
形成性が低下する等の傾向があり、９０重量部を超える
と、感度が不充分となる傾向がある。

【００６５】（ｆ）成分の配合量は、（ｅ）成分及び
（ｆ）成分の総量が１００重量部として、１０〜９０重
量部とすることが好ましく、２０〜８０重量部とするこ
とがより好ましい。この配合量が、１０重量部未満で
は、感度が不充分となる傾向があり、９０重量部を超え
ると、感光性エレメントとした場合に、ネガ型感光性樹
脂組成物が流動によって端部からしみ出したり、フィル
ム形成性が低下する等の傾向がある。

【００６６】（ｇ）成分の配合量は、（ｅ）成分及び
（ｆ）成分の総量１００重量部に対して、０．０１〜３
０重量部とすることが好ましく、０．１〜２０重量部と
することがより好ましい。この配合量が、０．０１重量
部未満では、感度が不充分となる傾向があり、３０重量
部を超えると、露光表面での活性光線の吸収が増大し
て、内部の光硬化が不充分となる傾向がある。

【００６７】また、熱可塑性樹脂層（Ｃ）は、後述する
現像工程において、蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂
組成物層（Ｂ）及び熱可塑性樹脂層（Ｃ）が、同一の現
像液を使用して現像できるものであることが工程を少な
くできる点から好ましい。同一の現像液で現像できるも
のとしては、水又はアルカリ水溶液に可溶なものが挙げ
られる。

【００６８】水又はアルカリ水溶液に可溶な熱可塑性樹
脂層（Ｃ）を構成する樹脂としては、例えば、ポリビニ
ルアルコール系樹脂（ポリアクリル酸エステル又はポリ
メタクリル酸エステルの加水分解物、ポリ酢酸ビニルの
加水分解物、エチレンと酢酸ビニルとの共重合体の加水
分解物、エチレンとアクリル酸エステルとの共重合体の
加水分解物、塩化ビニルと酢酸ビニルとの共重合体の加
水分解物、スチレンとアクリル酸エステル又はメタクリ
ル酸エステルとの共重合体の加水分解物、ビニルトルエ
ンとアクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルとの
共重合体の加水分解物等）、カルボキシアルキルセルロ
ースの水溶性塩、水溶性セルロースエーテル類、カルボ
キシアルキルでん粉の水溶性塩、ポリビニルピロリド
ン、不飽和カルボン酸とこれらと共重合可能な不飽和単
量体を共重合することにより得られるカルボキシル基を
有する樹脂などが挙げられる。

【００６９】不飽和カルボン酸とこれらと共重合可能な
不飽和単量体を共重合することにより得られるカルボキ
シル基を有する樹脂としては、例えば、不飽和カルボン
酸（アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル
酸、イタコン酸等）と、前記蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物層（Ｂ）を構成する（ａ）フィルム性付与ポリ
マーに使用可能なビニル単量体とを共重合して得られる
ビニル共重合体などを使用することが好ましい。

【００７０】不飽和カルボン酸とこれらと共重合可能な
不飽和単量体を共重合することにより得られるカルボキ
シル基を有する樹脂は、重量平均分子量が、５，０００
〜３００，０００とすることが好ましく、２０，０００
〜１５０，０００とすることがより好ましい。この重量
平均分子量が、５，０００未満では、感光性エレメント
とした場合にフィルム形成性及び可とう性が低下する傾
向があり、３００，０００を超えると、現像性（不要部
が現像により、容易に除去できる性質）が低下する傾向
がある。なお、重量平均分子量は、ゲルパーミエーショ
ンクロマトグラフィー法により測定し、標準ポリスチレ
ン検量線を用いて換算した値である。

【００７１】また、アルカリ水溶液に可溶な熱可塑性樹
脂層（Ｃ）として、公知の各種現像液により現像可能と
なるように、不飽和カルボン酸とこれらと共重合可能な
不飽和単量体を共重合することにより得られるカルボキ
シル基を有する樹脂のカルボキシル基含有率（酸価（ｍ
ｇＫＯＨ／ｇ）で規定できる）を適宜調整することがで
きる。例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアル
カリ水溶液を用いて現像する場合には、酸価を９０〜２
６０とすることが好ましい。この酸価が、９０未満で
は、現像が困難となる傾向があり、２６０を超えると、
耐現像液性が低下する傾向がある。また、水又はアルカ
リ水溶液と１種以上の有機溶剤とからなる水系現像液を
用いて現像する場合には、酸価を１６〜２６０とするこ
とが好ましい。この酸価が、１６未満では、現像が困難
となる傾向があり、２６０を超えると、耐現像液性が低
下する傾向がある。

【００７２】また、熱可塑性樹脂層（Ｃ）のフィルム性
を良好なものとするために、上記した熱可塑性樹脂層
（Ｃ）を構成する樹脂中に、可塑剤を添加することがで
きる。

【００７３】可塑剤としては、ポリプロピレングリコー
ル、ポリエチレングリコール、ジオクチルフタレート、
ジヘプチルフタレート、ジブチルフタレート、トリクレ
ジルフォスフェート、クレジルジフェニルフォスフェー
ト、ビフェニルジフェニルフォスフェート等が挙げられ
る。

【００７４】本発明の（１）の方法においては、蛍光体
を含有するネガ型感光性樹脂組成物層（Ｂ）はこれを構
成する前記各成分を溶解又は分散可能な溶剤に、溶解又
は混合させることにより、均一に分散した溶液とし、支
持体フィルム上に、塗布乾燥して得られた感光性エレメ
ントとして用いられる本発明における熱可塑性樹脂層
（Ｃ）は、これを構成する樹脂を溶解する溶剤に、溶解
又は混合させることにより、均一な溶液とし、支持体フ
ィルム上に、ナイフコート法、ロールコー卜法、スプレ
ーコート法、グラビアコート法、バーコート法、カーテ
ンコート法等の公知の塗布方法を用いて、塗布、乾燥す
ることによりフィルム状に形成することができる。

【００７５】本発明の前記（２）の方法においては、支
持体フィルム上に熱可塑性樹脂層（Ｃ）を設け、その上
に蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成物層（Ｂ）を
積層して得られた感光性エレメント（Ｅ）として用いら
れる。積層方法としては、ネガ型感光性樹脂組成物を構
成する前記各成分を溶解又は分散可能な溶剤に、溶解又
は混合させることにより、均一に分散した溶液とし、熱
可塑性樹脂層（Ｃ）上に、塗布乾燥する方法が用いられ
る。

【００７６】蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成物
層（Ｂ）の各成分を溶解又は分散可能な溶剤としては、
例えば、トルエン、アセトン、メチルエチルケトン、メ
チルイソブチルケトン、メチルセロソルブ、エチルセロ
ソルブ、γ−ブチルラクトン、Ｎ−メチルピロリドン、
ジメチルホルムアミド、テトラメチルスルホン、ジエチ
レングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコー
ルモノブチルエーテル、クロロホルム、塩化メチレン、
メチルアルコール、エチルアルコール等が挙げられる。
これらは単独で又は２種以上を組み合わせて使用され
る。

【００７７】また、熱可塑性樹脂層（Ｃ）を構成する樹
脂を溶解する溶剤としては、例えば、水及び上記の溶剤
等が挙げられる。

【００７８】支持体フィルムとしては、化学的及び熱的
に安定であり、また、可とう性の物質で構成された、例
えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネー
ト、ポリエチレン、ポリプロピレン等が挙げられ、その
中でも、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンが
好ましく、ポリエチレンテレフタレートがより好まし
い。この支持体フィルムの厚さは、５〜１００μｍとす
ることが好ましく、１０〜３０μｍとすることがより好
ましい。

【００７９】塗布方法としては、公知の方法を用いるこ
とができ、例えば、ナイフコート法、ロールコート法、
スプレーコート法、グラビアコート法、バーコート法、
カーテンコート法等が挙げられる。

【００８０】乾燥温度は、６０〜１３０℃とすることが
好ましく、乾燥時間は、３分〜１時間とすることが好ま
しい。

【００８１】本発明における蛍光体を含有するネガ型感
光性樹脂組成物層（Ｂ）の厚さは、特に制限はないが、
１０〜１００μｍとすることが好ましく、２０〜８０μ
ｍとすることがより好ましい。この厚さが、１０μｍ未
満では、焼成後の蛍光体パターンが薄くなり、発光効率
が低下する傾向があり、１００μｍを超えると、焼成後
の蛍光体パターンが厚くなり、蛍光面の発光面積が縮小
して発光効率が低下する傾向がある。

【００８２】本発明における蛍光体を含有するネガ型感
光性樹脂組成物層（Ｂ）の上には、さらに剥離可能なカ
バーフィルムを積層することができる。

【００８３】カバーフィルムとしては、ポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリカ
ーボネート等が挙げられ、支持体フィルムと蛍光体を含
有するネガ型感光性樹脂組成物層（Ｂ）との接着力より
も、カバーフィルムと蛍光体を含有するネガ型感光性樹
脂組成物層（Ｂ）との接着力の方が小さいものであるこ
とが好ましい。このようにして得られる感光性エレメン
トは、ロール状に巻いて保管可能とすることができる。

【００８４】本発明における熱可塑性樹脂層（Ｃ）の厚
さは、特に制限はないか、ＰＤＰ用基板の空間への埋め
込み性等の点から、１０〜２００μｍとすることが好ま
しく、２０〜１００μｍとすることがより好ましい。

【００８５】本発明における熱可塑性樹脂層（Ｃ）の上
には、さらに剥離可能なカバーフィルムを積層すること
ができる。

【００８６】カバーフィルムとしては、ポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリカ
ーボネート等が挙げられ、支持体フィルムと熱可塑性樹
脂層（Ｃ）との接着力よりも、カバーフィルムと熱可塑
性樹脂層（Ｃ）との接着力の方が小さいものであること
が好ましい。このようにしてフィルム上に形成された熱
可塑性樹脂層（Ｃ）は、ロール状に巻いて保管可能とす
ることができる。

【００８７】以下、本発明の蛍光体パターンの製造法の
各工程について、図３及び図４を用いて詳述する。な
お、図３及び図４は、本発明の蛍光体パターンの製造法
の各工程を示した模式図である。 ［（Ｉ）バリアリブが形成されたプラズマディスプレイ
パネル用基板に、活性光の照射により現像液への溶解性
が発現するポジフィルム（Ａ）を圧着する工程］バリア
リブ２が形成されたＰＤＰ用基板１上に、前記活性光の
照射により現像液への溶解性が発現するポジフィルム
（Ａ）を圧着した状態を図３（Ｉ）に示した。前記ポジ
フィルムにカバーフィルムが存在しているときは、その
カバーフィルムを除去後、ＰＤＰ用基板のバリアリブを
形成した面に、活性光の照射により現像液への溶解性が
発現するポジフィルム（Ａ）が接するように、圧着ロー
ル等で圧着させることができる。

【００８８】圧着する場合の圧着圧力は、線圧で５０〜
１×１０⁶Ｎ／ｍとすることが好ましい。この圧着圧力
が、５０Ｎ／ｍ未満では、ポジフィルム（Ａ）がＰＤＰ
用基板の空間への埋め込み性が低下する傾向があり、１
×１０⁶Ｎ／ｍを超えると、ＰＤＰ用基板のバリアリブ
が破壊される傾向がある。

【００８９】また、ポジフィルム（Ａ）のＰＤＰ用基板
の空間への埋め込み性をさらに向上させる点から、上記
圧着ロールの表面が、ゴム、プラスチック等の柔軟性に
富んだ材質のものを使用することもできる。なお、柔軟
性に富んだ材質の層の厚さは、２００〜４００μｍとす
ることが好ましい。

【００９０】また、ポジフィルム（Ａ）のＰＤＰ用基板
の空間への埋め込み性をさらに向上させる点から、加熱
ロール７等により加熱しながら、ＰＤＰ用基板のバリア
リブを形成した面に圧着することもできる。

【００９１】加熱圧着時の加熱温度は、１０〜１３０℃
とすることが好ましく、２０〜１２０℃とすることがよ
り好ましく、３０〜１１０℃とすることが特に好まし
い。この加熱温度が、１０℃未満では、ポジフィルム
（Ａ）が、バリアリブが形成されたＰＤＰ用基板上に充
分に密着できない傾向があり、１３０℃を超えると、ポ
ジフィルム（Ａ）が熱硬化する傾向がある。 ［（ＩＩ）上記活性光の照射により現像液への溶解性が
発現するポジフィルム（Ａ）の蛍光体が形成されるべき
所望の部位を、像的に露光し、現像して、露光された部
位の該ポジフィルム（Ａ）を除去する工程］次に、蛍光
体が形成されるべき所望の部位を、像的に露光した状態
を図３（ＩＩ）−１に示す。活性光線９を像的に照射す
る方法としては、図３（Ｉ）の状態の活性光の照射によ
り現像液への溶解性が発現するポジフィルム（Ａ）の上
部に、ネガフィルム、ポジフィルム等のフォトマスク８
を介して、活性光線９を像的に照射する。この時、活性
光の照射により現像液への溶解性が発現するポジフィル
ム（Ａ）の上に支持体フィルムが存在する場合は、その
支持体フィルムを積層したまま活性光線９を像的に照射
してもよく、また、支持体フィルムを除去した後に活性
光線９を像的に照射してもよい。また、照射後に化学反
応をより速やかに進行させるために、加熱処理を行うこ
とは特に制限はない。次に、現像して、露光された部位
の該ポジフィルムを除去した状態を図３（ＩＩ）−２に
示した。現像方法としては、例えば、図３（ＩＩ）−１
の状態の後、活性光の照射により現像液への溶解性が発
現するポジフィルム（Ａ）の上に支持体フィルムが存在
する場合には、これを除去した後、アルカリ水溶液等の
公知の現像液を用いて、スプレー、揺動浸漬、ブラッシ
ング、スクラッビング等の公知方法により現像を行い、
不要部を除去する方法等が挙げられる。 ［（ＩＩＩＡ）バリアリブが形成されたプラズマディス
プレイパネル用基板上に、蛍光体を含有する感光性樹脂
組成物層（Ｂ）の上部に熱可塑性樹脂層（Ｃ）が配置さ
れた状態で、（Ｃ）層を加熱圧着する工程、及び（ＩＩ
ＩＢ）所望の部位のみポジフィルム（Ａ）が除去され
た、前記プラズマディスプレイパネル用基板上に、支持
体フィルム上に感光性の熱可塑性樹脂層（Ｂ）を有し、
その上に蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層（Ｂ）を
有してなる感光性エレメントを、蛍光体を含有する感光
性樹脂組成物層（Ｂ）が接するように加熱圧着する工
程］図３（ＩＩ）−２状態の、パリアリブ２が形成され
たＰＤＰ用基板１上に、前記蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物層（Ｂ）５を積層させた状態を図３（ＩＩＩ
Ａ）−１に示した。図３（ＩＩＩＡ）−１において、バ
リアリブが形成された基板１上に、蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層（Ｂ）５を積層させる方法としては、
例えば前記した感光性エレメントを用いて積層させる方
法等が挙げられる。

【００９２】感光性エレメントを用いる場合は、感光性
エレメントにカバーフィルムが存在しているときは、そ
のカバーフィルムを除去後、ＰＤＰ用基板のバリアリブ
を形成した面に、蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組
成物層（Ｂ）５が接するように、圧着ロール等で圧着さ
せることにより積層することができる。

【００９３】この時の圧着圧力は、線圧で５０〜１×１
０⁶Ｎ／ｍとすることが好ましい。この圧着圧力が、５
０Ｎ／ｍ未満では、蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂
組成物層（Ｂ）５がＰＤＰ用基板の空間への埋め込み性
が低下する傾向があり、１×１０⁶Ｎ／ｍを超えると、
ＰＤＰ用基板のバリアリブが破壊される傾向がある。

【００９４】また、蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂
組成物層（Ｂ）５の空間への埋め込み性をさらに向上さ
せる点から、上記圧着ロールの表面が、ゴム、プラスチ
ック等の柔軟性に富んだ材質のものを使用することもで
きる。なお、柔軟性に富んだ材質の層の厚さは、２００
〜４００μｍとすることが好ましい。

【００９５】また、蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂
組成物層（Ｂ）５の空間への埋め込み性をさらに向上さ
せる点から、加熱ロール７等により感光性エレメントを
加熱しながら、ＰＤＰ用基板のバリアリブを形成した面
に圧着して積層することもできる。

【００９６】加熱圧着時の加熱温度は、１０〜１３０℃
とすることが好ましく、２０〜１２０℃とすることがよ
り好ましく、３０〜１１０℃とすることが特に好まし
い。この加熱温度が、１０℃未満では、蛍光体を含有す
るネガ型感光性樹脂組成物層（Ｂ）５が、ＰＤＰ基板上
に充分に密着できない傾向があり、１３０℃を超える
と、蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成物層（Ｂ）
５が熱硬化する傾向がある。

【００９７】また、加熱圧着時の圧着圧力は、線圧で５
０〜１×１０⁶Ｎ／ｍとすることが好ましい。この圧着
圧力が、５０Ｎ／ｍ未満では、蛍光体を含有するネガ型
感光性樹脂組成物層（Ｂ）５がＰＤＰ用基板の空間への
埋め込み性が低下する傾向があり、１×１０⁶Ｎ／ｍを
超えると、ＰＤＰ用基板のバリアリブが破壊される傾向
がある。

【００９８】感光性エレメントを前記のように加熱すれ
ば、バリアリブを形成したＰＤＰ用基板を予熱処理する
ことは必要ではないが、蛍光体を含有するネガ型感光性
樹脂組成物層（Ａ）５の空間への埋め込み性をさらに向
上させる点から、前記ＰＤＰ用基板の予熱処理を行うこ
とが好ましい。

【００９９】さらに、同様の目的で、４×１０³Ｐａ以
下の減圧下で、上記した圧着及び加熱圧着の操作を行う
こともできる。

【０１００】また、このように積層が完了した後、３０
〜１５０℃の範囲で、１〜１２０分間、加熱することも
できる。この際、支持体フィルムを必要に応じて除去す
ることもできる。

【０１０１】蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成物
層（Ｂ）５の上部に、熱可塑性樹脂層（Ｃ）６を配置
し、加熱圧着しながら蛍光体を含有するネガ型感光性樹
脂組成物層（Ｂ）５及び熱可塑性樹脂層（Ｃ）６を積層
させた状態を図４（ＩＩＩＡ−２）に示した。

【０１０２】図４（ＩＩＩＡ−２）において、蛍光体を
含有するネガ型感光性樹脂組成物層（Ｂ）５の上部に、
熱可塑性樹脂層（Ｃ）６を配置し、加熱圧着させる方法
としては、例えば、図３（ＩＩＩＡ−１）の状態の蛍光
体を含有するネガ型感光性樹脂組成物層（Ｂ）５の上
に、支持体フィルムが存在している場合には、支持体フ
ィルムを除去後、蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組
成物層（Ｂ）５の上部に、熱可塑性樹脂層（Ｃ）６（カ
バーフィルムが存在しているときは、そのカバーフィル
ムを除去した後）を配置し、加熱ロール７等により加熱
圧着する方法などが挙げられる。

【０１０３】加熱圧着時の加熱温度は、１０〜１３０℃
とすることが好ましく、２０〜１２０℃とすることがよ
り好ましく、３０〜１１０℃とすることが特に好まし
い。この加熱温度が、１０℃未満では、蛍光体を含有す
るネガ型感光性樹脂組成物層（Ｂ）５のＰＤＰ基板の空
間への埋め込み性が低下する傾向があり、１３０℃を超
えると、蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成物層
（Ｂ）５が熱硬化する傾向がある。

【０１０４】また、加熱圧着時の圧着圧力は、線圧で５
０〜１×１０⁶Ｎ／ｍとすることが好ましい。この圧着
圧力が、５０Ｎ／ｍ未満では、蛍光体を含有するネガ型
感光性樹脂組成物層（Ｂ）５がＰＤＰ用基板の空間への
埋め込み性が低下する傾向があり、１×１０⁶Ｎ／ｍを
超えると、ＰＤＰ用基板のバリアリブが破壊される傾向
がある。

【０１０５】熱可塑性樹脂層（Ｃ）６を前記のように加
熱すれば、蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成物層
（Ｂ）５を積層したＰＤＰ用基板を予熱処理することは
必要ではないが、蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組
成物層（Ｂ）５の空間への埋め込み性をさらに向上させ
る点から、蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成物層
（Ｂ）５を積層したＰＤＰ用基板を予熱処理することが
好ましい。

【０１０６】この時の予熱温度は、３０〜１３０℃とす
ることが好ましく、また、予熱時間は０．５〜２０分間
とすることが好ましい。

【０１０７】また、蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂
組成物層（Ｂ）５の空間への埋め込み性をさらに向上さ
せる点から、上記圧着ロールの表面が、ゴム、プラスチ
ック等の柔軟性に富んだ材質のものを使用することもで
きる。

【０１０８】なお、柔軟性に富んだ材質の層の厚さは、
２００〜４００μｍとすることが好ましい。

【０１０９】さらに同様の目的で、４×１０³Ｐａ以下
の減圧下で、上記した圧着及び加熱圧着操作を行うこと
もできる。

【０１１０】また、積層が完了した後、３０〜１５０℃
の範囲で、１〜１２０分間加熱することもできる。この
時、熱可塑性樹脂（Ｃ）６の上に支持体フィルムが存在
する場合には、その支持体フィルムを必要に応じて除去
してもよい。

【０１１１】このようにして、蛍光体を含有する感光性
樹脂組成物層（Ｂ）５をＰＤＰ用基板の空間内のリブ壁
面及び基板底面に均一に形成することができる。

【０１１２】また、本発明における（ＩＩＩＡ−１）の
工程では、蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成物層
（Ｂ）５と熱可塑性樹脂層（Ｃ）６とを、２層同時に加
熱圧着しながら積層させることもできる。２層同時に加
熱圧着させるときの加熱圧着条件としては、前記熱可塑
性樹脂（Ｃ）６を加熱圧着させるときの条件を用いるこ
とができる。

【０１１３】次に、バリアリブ２が形成されたＰＤＰ基
板１上に、感光性エレメント（Ｅ）を積層させた状態を
図４（ＩＩＩＢ）に示した。

【０１１４】図４（ＩＩＩＢ）において、バリアリブ２
が形成されたＰＤＰ用基板１上に、熱可塑性樹脂層
（Ｃ）６及び前記蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組
成物層（Ｂ）５からなる感光性エレメント（Ｅ）を積層
させる方法としては、例えば感光性エレメント（Ｅ）に
カバーフィルムが存在しているときは、そのカバーフィ
ルムを除去後、ＰＤＰ用基板のバリアリブを形成した面
に、蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成物層（Ｂ）
５が接するように配置し、加熱ロール７等により加熱圧
着する方法等が挙げられる。

【０１１５】加熱圧着条件、ＰＤＰ基板の予熱条件等は
（ＩＩＩＡ−１、２）と同様である。 ［（ＩＶ）活性光線を像的に照射する工程］活性光線９
を像的に照射する状態を図４（ＩＶ）に示した。図４
（ＩＶ）において、活性光線９を像的に照射する方法と
しては、図４（ＩＶ）の状態の（Ｂ）熱可塑性樹脂層６
の上部に、ネガフィルム、ポジフィルム等のフォトマス
ク８を介して、活性光線９を像的に照射することができ
る。この時、（Ｂ）熱可塑性樹脂層６の上に支持体フィ
ルムが存在する場合は、その支持体フィルムを積層した
まま活性光線９を像的に照射してもよく、また、支持体
フィルムを除去した後に活性光線９を像的に照射しても
よい。

【０１１６】なお、この時、熱可塑性樹脂層（Ｃ）６
が、前記した感光性樹脂組成物である場合には、蛍光体
を含有する感光性樹脂組成物層（Ｂ）５及び熱可塑性樹
脂層（Ｃ）６は、同時に光硬化することとなる。

【０１１７】また、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物
層（Ｂ）５を溶解しない水、アルカリ水溶液、水系現像
液、有機溶剤等を用いて、熱可塑性樹脂層（Ｃ）６を溶
解により除去した後、ネガフィルム、ポジフィルム等フ
ォトマスク８を介して、活性光線９を像的に照射するこ
ともできる。

【０１１８】活性光線９としては、公知の活性光源が使
用でき、例えば、カーボンアーク、水銀蒸気アーク、キ
セノンアーク、その他から発生する光等が挙げられる。

【０１１９】光開始剤の感受性は、通常、紫外線領域に
おいて最大であるので、その場合の活性光源は、紫外線
を有効に放射するものにすべきである。また、光開始剤
が可視光線に感受するもの、例えば、９，１０−フェナ
ンスレンキノン等である場合には、活性光線９として
は、可視光が用いられ、その光源としては、前記のもの
以外に写真用フラッド電球、太陽ランプ等も使用するこ
とができる。 ［（Ｖ）現像により（Ｂ）層及び（Ｃ）層の不要部を除
去する工程］現像により他の蛍光体パターンを形成でき
るように不要部を除去した状態を図５（Ｖ）に示した。
なお、図５（Ｖ）において、５′は光硬化後の蛍光体を
含有する感光性樹脂組成物層（Ｂ）である。

【０１２０】図５（Ｖ）において、現像方法としては、
例えば、図４（ＩＶ）の状態の後、熱可塑性樹脂層
（Ｃ）６の上に支持体フィルムが存在する場合には、こ
れを除去した後、アルカリ水溶液、水系現像液、有機溶
剤等の公知の現像液を用いて、スプレー、揺動浸漬、ブ
ラッシング、スクラッビング等の公知方法により現像を
行い不要部を除去する方法等が挙げられる。

【０１２１】不要部を除去する場合には、まず、蛍光体
を含有する感光性樹脂組成物層（Ｂ）５を溶解しない
水、アルカリ水溶液、半溶剤水溶液、半溶剤アルカリ水
溶液、有機溶剤等を用いて、熱可塑性樹脂層（Ｃ）６を
溶解により除去した後に、現像液を用いて、蛍光体を含
有する感光性樹脂組成物層（Ｂ）５の不要部を除去して
もよく、また、熱可塑性樹脂層（Ｃ）６が、前記した蛍
光体を含有する感光性樹脂組成物層（Ｂ）５及び熱可塑
性樹脂層（Ｃ）６が、同一の現像液を使用して現像でき
るものである場合には、その現像液を用いて蛍光体を含
有する感光性樹脂組成物層（Ｂ）５の不要部及び熱可塑
性樹脂層（Ｃ）６を一工程で除去することもできる。

【０１２２】また、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物
層（Ｂ）５の不要部及び熱可塑性樹脂層（Ｃ）６の不要
部を除去する方法として、ドライ現象にて、それぞれ単
独に又は一工程で行うこともできる。

【０１２３】なお、この時、熱可塑性樹脂層（Ｃ）６
が、前記した感光性樹脂組成物である場合には、光硬化
後の蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層５′の上部に
は、光硬化後の熱可塑性樹脂層（Ｃ）が残存することと
なる。

【０１２４】アルカリ水溶液の塩基としては、水酸化ア
ルカリ（リチウム、ナトリウム又はカリウムの水酸化物
等）、炭酸アルカリ（リチウム、ナトリウム又はカリウ
ムの炭酸塩若しくは重炭酸塩等）、アルカリ金属リン酸
塩（リン酸カリウム、リン酸ナトリウム等）、アルカリ
金属ピロリン酸塩（ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸
カリウム等）、水酸化テトラメチルアンモニウム、トリ
エタノールアミンなどが挙げられ、中でも、炭酸ナトリ
ウム、水酸化テトラメチルアンモニウム等が好ましいも
のとして挙げられる。

【０１２５】現像に用いるアルカリ水溶液のｐＨは、９
〜１１とすることが好ましく、また、その温度は、蛍光
体を含有する感光性樹脂組成物層（Ｂ）５及び熱可塑性
樹脂層（Ｃ）６の現像性に合わせて調整することができ
る。

【０１２６】また、アルカリ水溶液中には、表面活性
剤、消泡剤、現像を促進させるための少量の有機溶剤等
を混入させることができる。

【０１２７】水系現象液としては、水又はアルカリ水溶
液と１種以上の有機溶剤とからなるものが挙げられる。

【０１２８】ここで、アルカリ水溶液の塩基としては、
前記物質以外に、例えば、ホウ砂、メタケイ酸ナトリウ
ム、エタノールアミン、エチレンジアミン、ジエチレン
トリアミン、２−アミノ−２−ヒドロキシメチル−１，
３−プロパンジオール、１，３−ジアミノプロパノール
−２−モルホリン、水酸化テトラメチルアンモニウム等
が挙げられる。

【０１２９】水系現像液のｐＨは、８〜１２とすること
が好ましく、９〜１０とすることがより好ましい。

【０１３０】有機溶剤としては、例えば、三アセトンア
ルコール、アセトン、酢酸エチル、炭素数１〜４のアル
コキシ基をもつアルコキシエタノール、エチルアルコー
ル、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、ジエ
チレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリ
コールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノ
ブチルエーテル等が挙げられる。これらは、単独で又は
２種類以上を組み合わせて使用される。

【０１３１】有機溶剤の濃度は、通常、２〜９０重量％
の範囲とされ、また、その温度は、現像性にあわせて調
整することができる。

【０１３２】また、水系現像液中には、界面活性剤、消
泡剤等を少量混入することができる。

【０１３３】単独で用いる有機溶剤現像液としては、例
えば、１，１，１−トリクロロエタン、Ｎ−メチルピロ
リドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、シクロヘキサ
ノン、メチルイソブチルケトン、γ−ブチロラクトン等
が挙げられる。これらの有機溶剤には、引火防止のた
め、１〜２０重量％の範囲で水を添加してもよい。

【０１３４】また、現像後、ＰＢＰ用基板の空間のリブ
壁面及び基板底面における蛍光体を含有する感光性樹脂
組成物層（Ｂ）の密着性及び耐薬品性等を向上させる目
的で、高圧水銀ランプ等による紫外線照射や加熱を行う
こともできる。

【０１３５】この時の紫外線の照射量は、通常、０．２
〜１０Ｊ／ｃｍ²であり、照射の際に、加熱を伴うこと
もできる。

【０１３６】また、加熱時の温度は、６０〜１８０℃と
することが好ましく、１００〜１８０℃とすることがよ
り好ましい。また、加熱時間は、１５〜９０分間とする
ことが好ましい。

【０１３７】これらの紫外線の照射と加熱は、照射と加
熱を別々に行ってもよく、どちらを先に行ってもよい。 ［（ＶＩ）ポジフィルムを除去する工程］ポジフィルム
を除去した状態を図５（ＶＩ）に示した。

【０１３８】ポジフィルムを除去する方法としては、活
性光線を照射して現像により溶解させ取り除く方法、焼
成により取り除く方法等が挙げられる。活性光線を照射
して現像により溶解させ取り除く方法としては、前述し
た、（ＩＩ）活性光の照射により現像液への溶解性が発
現するポジフィルム（Ａ）の蛍光体が形成されるべき所
望の部位を、像的に露光し、現像して、露光された部位
の該ポジフィルム（Ａ）を除去する工程で示した方法を
用いることができる。焼成により取り除く方法として
は、後述する（ＶＩＩ）焼成により不要分を除去する工
程で示す方法を用いることができる。 ［（ＶＩＩ）焼成により不要分を除去する工程］焼成に
より不要分を除去した後の蛍光体パターンを形成した状
態を図５（ＶＩＩ）に示した。なお、図５（ＶＩＩ）に
おいて、１０ａ、１０ｂ及び１０ｃは蛍光体パターンで
ある。

【０１３９】図５（ＶＩＩ）において、焼成方法として
は、特に制限はなく、公知の焼成方法を使用し、蛍光体
及び結着剤以外の不要分を除去し、蛍光体パターンを形
成することができる。

【０１４０】この時の焼成温度は、３５０〜８００℃と
することが好ましく、４００〜６００℃とすることがよ
り好ましい。また、焼成時間は３〜１２０分間とするこ
とが好ましく、５〜９０分間とすることがより好まし
い。

【０１４１】本発明の蛍光体パターンの製造法は、工程
数を低減できる等の点から、（Ｉ）〜（ＶＩ）の各工程
を繰り返して、赤、緑及び青に発色する蛍光体を含有す
る感光性樹脂組成物層からなる多色のパターンを形成し
た後、（ＶＩＩ）の工程を行い多色の蛍光体パターンを
形成することが好ましい。

【０１４２】本発明において、赤色、青色及び緑色に発
色するそれぞれの蛍光体を単独で含む蛍光体を含有する
感光性樹脂組成物層（Ｂ）５は、赤色、青色及び緑色の
各色について、どの様な順番でも行うことができる。

【０１４３】本発明における（Ｉ）〜（ＶＩ）の各工程
を繰り返して、赤、緑及び青に発色する蛍光体を含有す
る感光性樹組成物層（Ｂ）からなる多色のパターンを形
成した状態を図５（ＶＩＩ）に示した。図５（ＶＩＩ）
において、５′ａは１色目のパターン、５′ｂは２色目
のパターン及び５′ｃは３色目のパターンである。

【０１４４】また、本発明における（ＶＩＩ）の工程を
行い多色の蛍光体パターンを形成した状態を図６に示し
た。図６において、１０ａは１色目の蛍光体パターン、
１０ｂは２色目の蛍光体パターン及び１０ｃは３色目の
蛍光体パターンである。

【０１４５】

【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて詳細に説明
するが、本発明はこれに限定されるものではない。

【０１４６】製造例１ ［フィルム性付与ポリマー（ａ−１）の作製］撹拌機、
還流冷却機、不活性ガス導入口及び温度計を備えたフラ
スコに、表１に示すを仕込み、窒素ガス雰囲気下で８
０℃に昇温し、反応温度を８０℃±２℃に保ちながら、
表１に示すを４時間かけて均一に滴下した。の滴下
後、８０℃±２℃で６時間撹拌を続け、重量平均分子量
が８０，０００、酸価が１３０ｍｇＫＯＨ／ｇのフィル
ム性付与ポリマー（ａ−１）を得た。

【０１４７】

【表１】 製造例２ ［蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を含む感光性エ
レメント（Ｂ−１）の作製］表２に示す材料を、ライカ
イ機を用いて１５分間混合し、蛍光体を含有するネガ型
感光性樹脂組成物溶液を調製した。

【０１４８】

【表２】 得られた溶液を、２０μｍの厚さのポリエチレンテレフ
タレートフィルム上に均一に塗布し、８０〜１１０℃の
熱風対流式乾燥機で１０分間乾燥して溶剤を除去し、赤
色の蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成物層（Ｂ）
を形成した。得られた赤色の蛍光体を含有するネガ型感
光性樹脂組成物層（Ｂ）の乾燥後の厚さは、６０μｍで
あった。

【０１４９】次いで、赤色の蛍光体を含有するネガ型感
光性樹脂組成物層（Ｂ）の上に、厚さが２５μｍのポリ
エチレンフィルムをカバーフィルムとして張り合わせ
て、赤色の蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成物層
（Ｂ）を含む感光性エレメント（Ｂ−１）を作製した。

【０１５０】製造例３ ［蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成物層（Ｂ）を
含む感光性エレメント（Ｂ−２）の作製］表２に示す材
料に代えて、表３に示す材料を使用した以外は、製造例
２と同様にして、緑色の蛍光体を含有するネガ型感光性
樹脂組成物層（Ｂ）を形成した。得られた緑色の蛍光体
を含有するネガ型感光性樹脂組成物層（Ｂ）の乾燥後の
厚さは、６０μｍであった。

【０１５１】

【表３】 次いで、製造例２と同様にして、緑色の蛍光体を含有す
るネガ型感光性樹脂組成物層（Ｂ）を含む感光性エレメ
ント（Ｂ−２）を作製した。

【０１５２】製造例４ ［蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成物層（Ｂ）を
含む感光性エレメント（Ｂ−３）の作製］表２に示す材
料に代えて、表４に示す材料を使用した以外は、製造例
２と同様にして、青色の蛍光体を含有するネガ型感光性
樹脂組成物層（Ｂ）を形成した。得られた青色の蛍光体
を含有するネガ型感光性樹脂組成物層（Ｂ）の乾燥後の
厚さは、６０μｍであった。

【０１５３】

【表４】 次いで、製造例２と同様にして、青色蛍光体を含有する
ネガ型感光性樹脂組成物層（Ｂ）を含む感光性エレメン
ト（Ｂ−３）を作製した。

【０１５４】製造例５ ［熱可塑性樹脂層（Ｃ）を含むフィルム（Ｃ−１）の作
製］表５に示す材料からなる樹脂溶液を、２０μｍの厚
さのポリエチレンテレフタレートフィルム上に均一に塗
布し、８０〜１１０℃の熱風対流式乾燥機で１０分間乾
燥して溶剤を除去して、熱可塑性樹脂層（Ｃ）を形成し
た。得られた熱可塑性樹脂層（Ｃ）の乾燥後の厚さは７
０μｍであった。

【０１５５】

【表５】 製造例２〜５で得られた、蛍光体を含有するネガ型感光
性樹脂組成物層（Ｂ）を含む感光性エレメント（Ｂ−
１）、（Ｂ−２）、（Ｂ−３）並びに熱可塑性樹脂層
（Ｃ）を含むフィルム（Ｃ−１）について、エッジフュ
ージョン性を下記の方法で評価したところ、すべて、エ
ッジフュージョン性は○であった。 ［エッジフュージョン性］ロール状に巻き取られた長さ
９０ｍの（Ｂ−１）、（Ｂ−２）、（Ｂ−３）並びに熱
可塑性樹脂層（Ｃ）を含むフィルム（Ｃ−１）を、温度
が２３℃、湿度が６０％Ｒｈで保管し、ロール側面から
感光層及び樹脂層のしみ出しの様子を、６カ月間にわた
って目視で評価した。評価基準は次の通りである。

【０１５６】 ○：エッジフュージョン性が良好なもの（６カ月間でも
感光層のしみ出しがないもの） ×：エッジフュージョン性が不良なもの（６カ月間で感
光層のしみ出しが発生したもの） 製造例６ ［活性光の照射により現像液への溶解性が発現するポジ
フィルム（Ａ）の作製］撹拌機、還流冷却機、温度計、
滴下ロート及び窒素ガス導入管を備えたフラスコにプロ
ピレングリコールモノメチルエーテル２４０ｇを仕込
み、窒素ガス雰囲気下で９０℃に昇温した。反応温度を
９０±２℃に保ちながら、ｔｅｒｔ−アミルアクリレー
ト１２Ｏｇ、メチルメタクリレート８０ｇ及びアゾビス
イソブチロニトリル２ｇを混合した液を２時間かけてフ
ラスコ内に滴下した。その後、９０℃±２℃で３時間撹
拌を続けた後に、アゾビスジメチルバレロニトリル１ｇ
をプロピレングリコールモノメチルエーテル４０ｇに溶
解した液を１０分かけてフラスコ内に滴下し、その後再
び９０℃±２℃で４時間撹拌を続け、重量平均分子量３
９，０００のｔｅｒｔ−アミルアクリレートの共重合ポ
リマー溶液を得た。

【０１５７】このようにして得られたｔｅｒｔ−アミル
アクリレートの共重合ポリマー溶液２４０ｇ（ポリマー
固形分１００ｇ）に、下記一般式（Ｉ）

【０１５８】

【化１】 であるｐ−ニトロベンジル誘導体１５ｇを溶解させて、
ポジ型感光性樹脂の溶液を得た。

【０１５９】前記、ポジ型感光性樹脂の溶液を、２０μ
ｍの厚さの支持体フィルムであるポリエチレンテレフタ
レートフィルム上に均一に塗布し、１００℃の熱風対流
式乾燥機で１０分間乾燥して溶剤を除去し、活性光の照
射により現象液への溶解性が発現するポジフィルム
（Ａ）を作製した。得られた活性光の照射により現像液
への溶解性が発現するポジフィルム（Ａ）の乾燥後の厚
さは、６０μｍであった。

【０１６０】製造例７ ［蛍光体を含有する感光性樹脂組成物溶液（Ｂ−４）の
作製］表２に示す材料を、ライカイ機を用いて１５分間
混合し、赤色の蛍光体を含有する感光性樹脂組成物溶液
を調製した。

【０１６１】製造例８ ［蛍光体を含有する感光性樹脂組成物溶液（Ｂ−５）の
作製］表２に示す材料に代えて、表３に示す材料を使用
した以外は、製造例２と同様にして、緑色の蛍光体を含
有する感光性樹脂組成物溶液を調製した。

【０１６２】製造例９ ［蛍光体を含有する感光性樹脂組成物溶液（Ｂ−６）の
作製］表２に示す材料に代えて、表４に示す材料を使用
した以外は、製造例２と同様にして、青色の蛍光体を含
有する感光性樹脂組成物溶液を調製した。

【０１６３】製造例１０ ［熱可塑性樹脂層用溶液（Ｃ−１）の作製］表５に示す
材料を配合し、熱可塑性樹脂層用溶液（Ｃ−２）を調製
した。 ［感光性エレメントの作製］ 製造例１１ 製造例１０で得られた熱可塑性樹脂層用溶液（Ｃ−２）
を、２０μｍ厚さのポリエチレンテレフタレートフィル
ム上に均一に塗布し、８０〜１１０℃の熱風対流式乾燥
機で１０分間乾燥して溶剤を除去し、熱可塑性樹脂層
（Ｃ）を形成した。得られた熱可塑性樹脂層（Ｃ）の乾
燥後の厚さは、７０μｍであった。次いで、製造例７で
得られた蛍光体を含有する感光性樹脂組成物溶液（Ｂ−
４）を、感光性の熱可塑性樹脂層（Ｃ）の上に均一に塗
布し、８０〜１１０℃の熱風対流式乾燥機で１０分間乾
燥して溶剤を除去し、蛍光体を含有する感光性樹脂組成
物層（Ｂ）を形成した。得られた蛍光体を含有する感光
性樹脂組成物層（Ｂ）の乾燥後の厚さは、６０μｍであ
った。

【０１６４】次いで、蛍光体を含有する感光性樹脂組成
物層（Ｂ）の上に、厚さが２５μｍのポリエチレンフィ
ルムをカバーフィルムとして張り合わせて、赤色の蛍光
体を含有する感光性樹脂組成物層を含む感光性エレメン
ト（ｉ）を作製した。

【０１６５】製造例１２ 製造例１１において蛍光体を含有する感光性樹脂組成物
溶液（Ｂ−４）を用いる代わりに、緑色の蛍光体を含有
する感光性樹脂組成物溶液（Ｂ−５）を用いて、同様に
感光性エレメント（ｉｉ）を作製した。

【０１６６】製造例１３ 製造例１１において蛍光体を含有する感光性樹脂組成物
溶液（Ｂ−４）を用いる代わりに、青色の蛍光体を含有
する感光性樹脂組成物溶液（Ｂ−６）を用いて、同様に
感光性エレメント（ｉｉｉ）を作製した。

【０１６７】製造例１１〜１３で得られた、感光性エレ
メント（ｉ）、（ｉｉ）及び（ｉｉｉ）について、エッ
ジフュージョン性を下記の方法で評価したところ、すべ
て○であった。

【０１６８】製造例１４ 表２に示す材料を、ライカイ機を用いて１５分間混合
し、赤色の蛍光体を含有する感光性樹脂組成物溶液を調
製した。

【０１６９】得られた溶液を、２０μｍの厚さのポリエ
チレンテレフタレートフィルム上に均一に、塗布し、８
０〜１１０℃の熱風対流式乾燥機で１０分間乾燥して溶
剤を除去し、赤色の（Ｃ）蛍光体を含有する感光性樹脂
組成物層を形成した。得られた（Ｃ）蛍光体を含有する
感光性樹脂組成物層の乾燥後の厚さは、６０μｍであっ
た。

【０１７０】次いで、赤色の（Ｃ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層の上に、厚さが２５μｍのポリエチレ
ンフィルムをカバーフィルムとして張り合わせて、感光
性エレメント（ｉｖ）を作製した。 ［蛍光体パターンの作製］ 実施例１ ［（Ｉ）バリアリブが形成されたプラズマディスプレイ
パネル用基板上に、活性光の照射により現像液への溶解
性が発現するポジフィルム（Ａ）を圧着する工程］ＰＤ
Ｐ用基板（ストライプ状バリアリブ、バリアリブ間の開
口幅１５０μｍ、バリアリブの幅７０μｍ、バリアリブ
の高さ１５０μｍ）のバリアリブが形成された側に、製
造例６で得られた、活性光の照射により現像液への溶解
性が発現するポジフィルム（Ａ）を、ラミネータ（日立
化成工業（株）製、商品名ＨＬＭ−３０００型）を用い
て、ラミネート温度が８０℃、ラミネート速度が０．５
ｍ／分、圧着圧力が線圧で２．５×１０⁵Ｎ／ｍで積層
した。次いで、ポリエチレンテレフタレートフィルムを
剥がした。 ［（ＩＩ）上記活性光の照射により現像液への溶解性が
発現するポジフィルム（Ａ）の、蛍光体が形成されるべ
き所望の部位を、像的に露光し、現像して、露光された
部位の該ポジフィルムを除去する工程］次いで、活性光
の照射により現像液への溶解性が発現するポジフィルム
（Ａ）を積層したＰＤＰ用基板に、試験用フォトマスク
を密着させて、（株）オーク製作所製、ＨＭＷ−５９０
型露光機を使用し、２００ｍＪ／ｃｍ²で活性光線を像
的に照射した。さらに、１２０℃で１５分間加熱した
後、１重量％のメタケイ酸ナトリウム水溶液で１５０秒
間スプレー現像して、露光部の活性光の照射により現像
液への溶解性が発現するポジフィルム（Ａ）を除去し
た。その後、蒸留水を５分間スプレーして洗浄し、８０
℃の熱風を１０分間吹きつけて乾燥した。 ［（ＩＩＩＡ）バリアリブが形成されたプラズマディス
プレイパネル用基板上に、蛍光体を含有する感光性樹脂
組成物層（Ｂ）の上部に熱可塑性樹脂層（Ｃ）が配置さ
れた状態で、（Ｃ）層を加熱圧着する工程」製造例２で
得られた蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層（Ｂ）を
含む感光性エレメント（Ｂ−１）を、ポリエチレンフィ
ルムを剥がしながら、真空ラミネータ（日立化成工業
（株）製、商品名ＶＬＭ−１型）を用いて、ヒートシュ
ー温度が３０℃、ラミネート速度が１．５ｍ／分、気圧
が４０００Ｐａ以下、圧着圧力が線圧で２．５×１０⁵
Ｎ／ｍで積層した。

【０１７１】次いで、蛍光体を含有する感光性樹脂組成
物層（Ｂ）を含む感光性エレメント（Ｂ−１）のポリエ
チレンテレフタレートフィルムを剥離し、蛍光体を含有
する感光性樹脂組成物層（Ｂ）上に、製造例６で得られ
た熱可塑性樹脂層（Ｃ）を含むフィルム（Ｃ−１）を、
ポリエチレンフィルムを剥がしながら、ラミネ−タ（日
立化成工業（株）製、商品名ＨＬＭ−３０００型）を用
いて、ラミネート温度が１１０℃、ラミネート速度が
０．５ｍ／分、圧着圧力が線圧で５×１０⁵Ｎ／ｍで積
層した。 ［（ＩＶ）活性光線を像的に照射する工程］次いで、熱
可塑性樹脂層（Ｃ）を含むフィルム（Ｃ−１）のポリエ
チレンテレフタレートフィルム上に、試験用フォトマス
クを密着させて、（株）オーク製作所製、ＨＭＷ−５９
０型露光機を使用し、１００ｍＪ／ｃｍ²で活性光線を
像的に照射した。 ［（Ｖ）現像により不要部を除去する工程］次いで、活
性光線の照射後、常温で１時間放置した後、１重量％炭
酸ナトリウム水溶液を用いて、３０℃で７０秒間スプレ
ー現像した。現像後、８０℃で１０分間乾燥し、東芝電
材（株）製東芝紫外線照射装置を使用して、３Ｊ／ｃｍ
²の紫外線照射を行った。 ［（ＶＩ）ポジフィルム（Ａ）を除去する工程〕次い
で、ＰＤＰ用基板全面に、（株）オーク製作所製、ＨＭ
Ｗ−５９０型露光機を使用し、２００ｍＪ／ｃｍ²で活
性光線を像的に照射した。さらに、１２０℃で１５分間
加熱した後、１重量％のメタケイ酸ナトリウム水溶液で
１５０秒間スプレー現像して、残存するポジフィルムを
除去した。その後、蒸留水を５分間スプレーして洗浄
し、８０℃の熱風を１０分間吹きつけて乾燥した。 ［（ＶＩＩ）焼成により不要分を除去する工程］次い
で、５５０℃で３０分間加熱処理（焼成）を行い、不必
要な樹脂成分を除去し、ＰＤＰ用基板の空間に蛍光体パ
ターンを形成させた。

【０１７２】実施例２ 実施例１において（ＩＩＩＡ）の工程を次に示す（ＩＩ
ＩＢ）の工程に変えた他は同様にして、ＰＤＰ用基板の
空間に蛍光体パターンを形成させた。 ［（ＩＩＩＢ）所望の部位のみポジフィルム（Ａ）が除
去された、前記のプラズマディスプレイパネル用基板上
に、支持体フィルム上に熱可塑性樹脂層（Ｃ）を有し、
その上に蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層（Ｂ）を
有してなる感光性エレメント（Ｅ）を、蛍光体を含有す
る感光性樹脂組成物層（Ｂ）が接するように加熱圧着す
る工程］製造例１１で得られた感光性エレメント（Ｅ）
（ｉ）を、ポリエチレンフィルムを剥がしながら真空ラ
ミネータ（日立化成工業（株）製、商品名ＶＬＭ−１
型）を用いて、ヒートシュー温度が１１０℃、ラミネー
ト速度が０．５ｍ／分、気圧が４０００Ｐａ以下、圧着
圧力が線圧で５×１０⁵Ｎ／ｍで積層した。

【０１７３】実施例３ ［多色の蛍光体パターンの作製］実施例１における
（Ｉ）〜（ＶＩ）の工程を行って得られた、１色目の赤
色の蛍光体パターンが形成された基板に、感光性エレメ
ント（ｉ）の代わりに感光性エレメント（ｉｉ）を用
い、（Ｉ）〜（ＶＩ）の工程を行って２色目の緑色の蛍
光体パターンを形成し、さらに、感光性エレメント
（ｉ）の代わりに感光性エレメント（ｉｉｉ）を用い、
（Ｉ）〜（ＶＩ）の工程を行って３色目の青色の蛍光体
パターンを形成し、最後に（ＶＩＩ）の工程を行って多
色の蛍光体パターンを形成した。

【０１７４】得られた多色の蛍光体パターンを、ＥＤＡ
Ｘ社製ＰＶ９９００型「エネルギー分散型Ｘ線分析装置
（ＸＭＡ）」（加速電圧２０ｋＶ）を用いて、各色毎
に、蛍光体の組成を測定し、混色の有無を確認した結
果、混色は認められなかった。

【０１７５】比較例１ 製造例１４ 実施例１において、工程（Ｉ）及び（ＩＩ）を除き、さ
らに、製造例１４で得られた感光性エレメント（ｉｖ）
を使用して、実施例１と同様にして、蛍光体パターンを
形成した。

【０１７６】比較例２ 実施例２において、工程（Ｉ）及び（ＩＩ）を除き、さ
らに、熱可塑性樹脂層を含むフィルム（Ｃ−１）を使用
しなかった以外は。実施例２と同様にして、蛍光体パタ
ーンを形成した。 ［蛍光体パターンの評価］得られた蛍光体パターンの断
面を、実体顕微鏡及びＳＥＭにより目視にて観察し、蛍
光体パターンの形成状祝を評価し、結果を表６に示し
た。評価基準は次の通りである。 ○：蛍光体層がＰＤＰ用基板の空間（バリアリブ壁面及
びセル底面上）に均一に形成されている ×：蛍光体層がＰＤＰ用基板の空間（バリアリブ壁面及
びセル底面上）に均一に形成されていない

【０１７７】

【表６】 表６から、本発明の蛍光体パターンの製造法を用いた、
実施例１及び２は蛍光体パターンの形成性（ＰＤＰ用基
板のバリアリブ面及び空間底面上への埋め込み性）に優
れることが分かる。一方、本発明の蛍光体パターンの製
造法を用いなかった比較例１及び２は、蛍光体パターン
の形成性が劣ることが分かる。

【０１７８】

【発明の効果】本発明の蛍光体パターンの製造法は、Ｐ
ＤＰ用基板の空間への埋め込み性（ＰＤＰ用基板の空間
のバリアリブ壁面及び基板底面上における蛍光体を含有
する感光性樹脂組成物層の形成性）が優れ、高精度で均
一な形状の蛍光体パターンを形成できる。

【０１７９】また、本発明はさらに作業性に優れる蛍光
体パターンの製造法を提供するものである。

【図面の簡単な説明】

【図１】バリアリブが形成されたＰＤＰ用基板の一例を
示した模式図である。

【図２】バリアリブが形成されたＰＤＰ用基板の一例を
示した模式図である。

【図３】本発明の蛍光体パターンの製造方法の各工程を
示した模式図である。

【図４】本発明の蛍光体パターンの製造方法の各工程を
示した模式図である。

【図５】蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層からなる
多色パターンを形成した状態を示した模式図である。

【符号の説明】

１ 基板 ２ バリアリブ ３ 格子状放電空間 ３′ ストライプ状放電空間 ４ ポジフィルム（Ａ） ５ 蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成物層（Ｂ） ５′光硬化後の蛍光体を含有するネガ型感光性樹脂組成
物層（Ｂ） ５′ａ １色目のパターン ５′ｂ ２色目の蛍光体パターン ５′ｃ ３色目の蛍光体パターン ６ 熱可塑性樹脂層（Ｃ） ６′ 光硬化後の熱可塑性樹脂層（Ｃ） ７ 加熱ロール ８ フォトマスク ９ 活性光線 １０ａ １色目の蛍光体パターン １０ｂ ２色目の蛍光体パターン １０ｃ ３色目の蛍光体パターン

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｇ０３Ｆ 7/40 ５０１ Ｇ０３Ｆ 7/40 ５０１ Ｈ０１Ｊ 9/227 Ｈ０１Ｊ 9/227 Ｅ // Ｃ０９Ｄ 4/06 Ｃ０９Ｄ 4/06 (72)発明者 和田 有美子 茨城県日立市東町４丁目13番１号 日立化 成工業株式会社茨城研究所内 (72)発明者 田井 誠司 茨城県日立市東町４丁目13番１号 日立化 成工業株式会社茨城研究所内

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （Ｉ）バリアリブが形成されたプラズマ
   ディスプレイパネル用基板上に、活性光線の照射により
   現像液への溶解性が発現するポジフィルム（Ａ）を圧着
   する工程、（ＩＩ）上記活性光線の照射により現像液へ
   の溶解性が発現するポジフィルム（Ａ）の蛍光体が形成
   されるべき所望の部位を、像的に露光し、現像して、露
   光された部位の該ポジフィルム（Ａ）を除去する工程、
   （ＩＩＩ）所望の部位のみポジフィルム（Ａ）が除去さ
   れたプラズマディスプレイパネル用基板上に、蛍光体を
   含有するネガ型感光性樹脂組成物層（Ｂ）と熱可塑性樹
   脂層（Ｃ）とを（Ｂ）層を基板側にして加熱圧着する工
   程、（ＩＶ）蛍光体が形成されるべき所望の位置に活性
   光線を像的に照射する工程、（Ｖ）ポジフィルム（Ａ）
   を残し現象により（Ｂ）層及び（Ｃ）層の不要部を除去
   する工程、（ＶＩ）ポジフィルム（Ａ）を除去する工程
   及び（ＶＩＩ）焼成により不要分を除去する工程の各工
   程を含むことを特徴とする蛍光体パターンの製造法。
2. 【請求項２】 （Ｉ）〜（ＶＩ）の各工程を繰り返し
   て、赤、緑及び青に発色する蛍光体を含有する感光性樹
   脂組成物層（Ｂ）からなる多色のパターンを形成した
   後、（ＶＩＩ）の工程を行い多色の蛍光体パターンを形
   成する請求項１記載の蛍光体パターンの製造法。
3. 【請求項３】 （ＩＩＩ）の工程を、プラズマディスプ
   レイパネル用基板上に、蛍光体を含有するネガ型感光性
   樹脂組成物層（Ｂ）の上部に熱可塑性樹脂層（Ｃ）が配
   置された状態で熱可塑性樹脂層（Ｃ）を加熱圧着するこ
   とにより行う請求項１又は２記載の蛍光体パターンの製
   造法。
4. 【請求項４】 （ＩＩＩ）の工程を、プラズマディスプ
   レイパネル用基板上に、支持体フィルム上に設けた熱可
   塑性樹脂層（Ｃ）の上に蛍光体を含有するネガ型感光性
   樹脂組成物層（Ｂ）を設けた多層フィルムからなる感光
   性エレメント（Ｅ）を加熱圧着することにより行う請求
   項１又は２記載の蛍光体パターンの製造法。
5. 【請求項５】 蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層
   （Ｂ）が、（ａ）フィルム性付与ポリマー、（ｂ）末端
   にエチレン性不飽和基を有する光重合性不飽和化合物、
   （ｃ）活性光線の照射により遊離ラジカルを生成する光
   開始剤及び（ｄ）蛍光体を含むものである請求項１〜４
   いずれか記載の蛍光体パターンの製造法。
6. 【請求項６】 （Ｖ）の工程の蛍光体を含有するネガ型
   感光性樹脂層（Ｂ）及び熱可塑性樹脂層（Ｃ）の不要部
   の除去を同一の現像液を使用して現像することにより行
   う請求項１又は２記載の蛍光体パターンの製造法。