JPH11194484A - 感光性エレメント及びその製造方法並びに蛍光体パターンの製造法、蛍光体パターン及びプラズマディスプレイパネル用背面板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 高精度で均一な形状の蛍光体パターンを形成
できる感光性エレメントとその製造方法、このエレメン
トを用い、高精度の蛍光体パターンを形成できる蛍光体
パターンの製造法、及び、その蛍光体パターンを備えた
プラズマディスプレイパネル用背面板を提供する。 【解決手段】 支持体フィルム１上に、埋め込み層２を
有し、その層上に蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層
３を有する感光性エレメントであって、埋め込み層２の
感光性樹脂組成物層に接する面が、所定の位置に凹部が
形成された凹凸面であり、感光性樹脂組成物層の埋め込
み層２に接する面が埋め込み層２の凹凸面に嵌合してお
り、感光性樹脂組成物層の埋め込み層２に接していない
表面が平滑な面に形成されていることから、感光性樹脂
組成物層に厚層部と薄層部が形成されている感光性エレ
メント。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイ蛍光体層形成用に好適に用いられる感光性エレメン
ト及びその製造方法並びに蛍光体パターンの製造法、蛍
光体パターン及びプラズマディスプレイパネル用背面板
に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、平板ディスプレイの１つとし
て、プラズマ放電により発光する蛍光体を設けることに
よって多色表示を可能にしたプラズマディスプレイパネ
ル（以下ＰＤＰと記す）が知られている。

【０００３】ＰＤＰは、ガラスからなる平板状の前面板
と背面板とが互いに平行にかつ対向して配設され、両者
はその間に設けられたバリアリブにより一定の間隔に保
持されており、前面板、背面板及びバリアリブに囲まれ
た空間で放電する構造になっている。

【０００４】このような空間には、表示のための蛍光体
が塗布され、放電によって封入ガスから発生する紫外線
によって蛍光体が発光させられ、この光を観察者が視認
できるようになっている。

【０００５】従来、この蛍光体を設ける方法としては、
各色蛍光体を分散させたスラリー液若しくはペーストを
スクリーン印刷等の印刷方法によって、塗布する方法が
提案されており、特開平１−１１５０２７号公報、特開
平１−１２４９２９号公報、特開平１−１２４９３０号
公報、特開平２−１５５１４２号公報等に開示されてい
る。

【０００６】しかし、上記の蛍光体分散スラリー液は液
状であるため、蛍光体の沈殿等による分散不良が生じや
すく、またスラリー液に液状の感光性レジストを用いた
場合には、暗反応の促進等により保存安定性が乏しくな
る等の欠点を有する。さらにスクリーン印刷等の印刷方
法は印刷精度に劣るため、将来的なＰＤＰの大画面化へ
の対応は困難である等の問題がある。

【０００７】これらの問題点の解決には、蛍光体を含有
させた感光性エレメント（感光性フィルムともいう）を
用いる方法が提案されている（特開平６−２７３９２５
号公報）。

【０００８】感光性エレメントを用いる方法とは、蛍光
体を含有する感光性樹脂層と支持体フィルムよりなる感
光性エレメントの蛍光体を含有する感光性樹脂層を、加
熱圧着（ラミネート）により前記ＰＤＰバリアリブ基板
の空間に埋め込み、次に、ネガフィルムを用いて、写真
法により紫外線等の活性光で像的に露光し、その後、ア
ルカリ水溶液等の現像液で、未露光部分を除去し、さら
に、焼成により露光部分の蛍光体を含有する感光性樹脂
層の不必要な有機成分を取り除いて、必要な部分のみに
蛍光体パターンを形成するものである。

【０００９】このような感光性エレメントを使用する方
法は、写真法を用いるため、精度良く蛍光体パターンを
形成することができる。

【００１０】しかし、従来の方法により感光性の材料
を、ＰＤＰバリアリブ基板の全面に塗布し、フォトプロ
セスを用いてパターン化し、ＲＧＢ三色蛍光体層を形成
すると、各色毎に使用した蛍光体の約７割を現像液によ
り除去するため、コスト高につながり、精度のよいフォ
トプロセスの最大の短所となっていた。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、フォ
トプロセスで現像除去される蛍光体の量を最小限にで
き、ＰＤＰバリアリブ基板等の凹凸を有する基板の空間
への埋め込み性（ＰＤＰバリアリブ基板であれば、バリ
アリブ壁面及び空間底面上における蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層の形成性）が優れ、高精度で均一な形
状の蛍光体パターンを形成できる感光性エレメントを提
供することにある。

【００１２】本発明の他の目的は、ＰＤＰバリアリブ基
板等の凹凸を有する基板の空間への埋め込み性が優れ、
高精度で均一な形状の蛍光体パターンを形成できる感光
性エレメントを作業性良く製造できる感光性エレメント
の製造方法を提供することにある。

【００１３】本発明の他の目的は、フォトプロセスで現
像除去される蛍光体の量を最小限にでき、ＰＤＰバリア
リブ基板等の凹凸を有する基板の空間への埋め込み性
（ＰＤＰバリアリブ基板であれば、バリアリブ壁面及び
空間底面上における蛍光体を含有する感光性樹脂組成物
層の形成性）が優れ、高精度で均一な形状の蛍光体パタ
ーンを形成できる蛍光体パターンの製造法を提供するこ
とにある。

【００１４】本発明の他の目的は、上記発明の効果に加
えて、更に作業性、環境安全性に優れる蛍光体パターン
の製造法を提供することにある。

【００１５】本発明の他の目的は、上記発明の効果に加
えて、更に膜減りの抑制に優れる蛍光体パターンの製造
法を提供することにある。

【００１６】本発明の他の目的は、高精度で均一な形状
で輝度の優れた蛍光体パターンを提供することにある。

【００１７】本発明の他の目的は、高精度で均一な形状
で輝度の優れた蛍光体パターンを備えたプラズマディス
プレイパネル用背面板を提供することにある。

【００１８】

【課題を解決するための手段】即ち、本発明は、支持体
フィルム上に、（Ｂ）埋め込み層を有し、（Ｂ）埋め込
み層上に（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を
有する感光性エレメントであって、（Ｂ）埋め込み層の
（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層に接する面
が、所定の位置に凹部が形成された凹凸面であり、
（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層の（Ｂ）埋
め込み層に接する面が（Ｂ）埋め込み層の凹凸面に嵌合
しており、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層
の（Ｂ）埋め込み層に接していない表面が平滑な面に形
成されていることから、（Ａ）蛍光体を含有する感光性
樹脂組成物層に厚層部と薄層部が形成されていることを
特徴とする感光性エレメントを提供するものである。

【００１９】また、本発明は、支持体フィルム上に埋め
込み層用樹脂層を形成し、埋め込み層用樹脂層の所定の
位置に凹部が転写されるように凸部が形成された成形鋳
型から、（Ｂ）埋め込み層の支持体フィルムに接してい
ない面に所定の位置に凹部を形成し、（Ｂ）埋め込み層
の凹部を有する面の上に、表面が平滑になるように
（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を形成する
ことを特徴とする、上記本発明の感光性エレメントの製
造方法を提供するものである。

【００２０】また、本発明は、（Ｉ）凹凸を有するＰＤ
Ｐバリアリブ基板上に、本発明の感光性エレメントの
（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層の厚層部
と、ＰＤＰバリアリブ基板の凹部が対応するように載置
し、（Ｂ）埋め込み層の上からＰＤＰバリアリブ基板に
対して圧力を加えて、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物層及び（Ｂ）埋め込み層を凹凸を有するＰＤＰ
バリアリブ基板上に積層する工程、（ＩＩ）感光性エレ
メントの支持体フィルム及び積層された（Ｂ）埋め込み
層を除去する工程、（ＩＩＩ）（Ａ）蛍光体を含有する
感光性樹脂組成物層に活性光線を像的に照射する工程、
（ＩＶ）現像により活性光線を像的に照射した（Ａ）蛍
光体を含有する感光性樹脂組成物層から不要部を選択的
に除去してパターンを形成する工程及び（Ｖ）前記パタ
ーンから焼成により不要分を除去して蛍光体パターンを
形成する工程からなることを特徴とする蛍光体パターン
の製造法を提供するものである。

【００２１】また、本発明は、上記（Ｉ）〜（ＩＶ）の
工程を繰り返して、赤、緑及び青に発色する蛍光体を含
有する感光性樹脂層からなる多色のパターンを形成した
後、（Ｖ）の工程を行い多色の蛍光体パターンを形成す
る蛍光体パターンの製造法を提供するものである。

【００２２】また、本発明は、上記（Ｉ）〜（Ｖ）の工
程を繰り返して、赤、緑及び青に発色する多色の蛍光体
パターンを形成する蛍光体パターンの製造法を提供する
ものである。

【００２３】また、本発明は、本発明の蛍光体パターン
の製造法により製造された蛍光体パターンを提供するも
のである。

【００２４】また、本発明は、プラズマディスプレイパ
ネル用基板上に本発明の蛍光体パターンの製造法により
製造された蛍光体パターンを備えてなるプラズマディス
プレイパネル用背面板を提供するものである。

【００２５】

【発明の実施の形態】本発明の感光性エレメントを構成
する各層の断面を示す部分断面図を図１に示す。本発明
の感光性エレメントの支持体フィルム１としては、化学
的及び熱的に安定であり、また、可とう性の物質で構成
されたものであれば特に制限はなく、例えば、ポリエチ
レンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン等が挙げられ、その中でもポリエチ
レンテレフタレート、ポリエチレンが好ましく、ポリエ
チレンテレフタレートがより好ましい。

【００２６】支持体フィルム１の厚さは、特に制限はな
いが、５〜１００μｍとすることが好ましく、１０〜９
０μｍとすることがより好ましい。

【００２７】本発明における（Ａ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層３は、その組成に特に制限はなく、フ
ォトリソグラフィー法に通常使用される感光性樹脂組成
物を用いて構成しうるが、光感度、作業性の点から、特
開平９−２６５９０６号公報等に記載される（ａ）フィ
ルム性付与ポリマー、（ｂ）エチレン性不飽和基を有す
る光重合性不飽和化合物、（ｃ）活性光の照射により遊
離ラジカルを生成する光開始剤及び（ｄ）蛍光体を含む
ものであることが好ましい。

【００２８】また、本発明における（Ａ）蛍光体を含有
する感光性樹脂組成物層３は、蛍光体パターンの作製時
に、焼成により不要分を除去する必要があるため、
（ｂ）エチレン性不飽和基を有する光重合性不飽和化合
物の中から、熱分解性が良好な、ポリエチレングリコー
ルジメタクリレート、ポリエチレングリコールジアクリ
レート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ポ
リプロピレングリコールジメタクリレート、ポリ（エチ
レン・プロピレン）グリコールジアクリレート、ポリ
（エチレン・プロピレン）グリコールジメタクリレート
がより好ましく用いられる。

【００２９】また、後述する蛍光体パターンの作製時
に、焼成により不要成分を除去する必要があるため、本
発明における（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物
層３を構成する蛍光体を含有する感光性樹脂組成物の
内、（ｄ）蛍光体及び、後述の必要に応じて用いられる
結着剤以外の成分は、熱分解性が良好なものである必要
があるため、この（ｄ）蛍光体及び結着剤以外の成分に
はこれを構成する元素として、炭素、水素、酸素及び窒
素以外のものを含まないことが好ましい。

【００３０】本発明における（ａ）成分の配合量は、
（ａ）成分及び（ｂ）成分の総量が１００重量部とし
て、１０〜９０重量部とすることが好ましく、２０〜８
０重量部とすることがより好ましい。この配合量が、１
０重量部未満では、感光性エレメントとしてロール状で
供給した場合、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物がロ
ール端部からしみ出す（以下エッジフュージョンと記
す）ことにより、感光性エレメントのラミネート時にロ
ールからの繰り出しが困難となる等の問題が生じたり、
フィルム形成性が低下する等の傾向があり、９０重量部
を超えると、感度が不十分となる傾向がある。

【００３１】本発明における（ｂ）成分の配合量は、
（ａ）成分及び（ｂ）成分の総量が１００重量部とし
て、１０〜９０重量部とすることが好ましく、２０〜８
０重量部とすることがより好ましい。この配合量が、１
０重量部未満では、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物
の感度が不十分となる傾向があり、９０重量部を超える
と、光硬化物が脆くなる傾向があり、また、感光性エレ
メントとした場合に、蛍光体を含有する感光性樹脂組成
物が流動によって端部からしみ出したり、フィルム形成
性が低下する傾向がある。

【００３２】本発明における（ｃ）成分の配合量は、
（ａ）成分及び（ｂ）成分の総量１００重量部に対し
て、０．０１〜３０重量部とすることが好ましく、０．
１〜２０重量部とすることがより好ましい。この配合量
が、０．０１重量部未満では、蛍光体を含有する感光性
樹脂組成物の感度が不十分となる傾向があり、３０重量
部を超えると、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物の露
光表面での活性光の吸収が増大して、内部の光硬化が不
十分となる傾向がある。

【００３３】本発明における（ｄ）成分の配合量は、
（ａ）成分、（ｂ）成分及び（ｃ）成分の総量１００重
量部に対して、１０〜４００重量部とすることが好まし
く、５０〜３５０重量部とすることがより好ましく、７
０〜３００重量部とすることが特に好ましい。この配合
量が、１０重量部未満では、ＰＤＰとして発光させた場
合に発光効率が低下する傾向があり、４００重量部を超
えると、感光性エレメントとした場合に、フィルム形成
性が低下したり、可とう性が低下する傾向がある。

【００３４】本発明における（Ａ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層３を構成する蛍光体を含有する感光性
樹脂組成物にはフィルム性を良好なものとするために可
塑剤を添加することができる。

【００３５】可塑剤としては、一般式（Ｉ）

【００３６】

【化１】 （式中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基を示し、Ｙ¹は水素
原子又は置換基を有していてもよい飽和の炭化水素基も
しくはポリアルキレングリコール残基を示し、Ｙ²は、
水酸基又は置換基を有してもよい飽和の炭化水素基若し
くはポリアルキレングリコール残基を示し、ｐは１〜１
００の整数を示す。）で表わされるポリプロピレングリ
コール及びその誘導体、ポリエチレングリコール及びそ
の誘導体などのポリアルキレングリコール並びに、ジオ
クチルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジブチルフ
タレート、トリクレジルフォスフェート、クレジルジフ
ェニルフォスフェート、ビフェニルジフェニルフォスフ
ェート等が挙げられる。

【００３７】可塑剤を配合する場合、その配合量は、
（ａ）成分及び（ｂ）成分の総量１００重量部に対し
て、０．０１〜９０重量部とすることが好ましく、０．
０１〜８０重量部とすることがより好ましく、０．０１
〜７０重量部とすることが特に好ましい。この配合量
が、９０重量部を超えると、（Ａ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層３を構成する蛍光体を含有する感光性
樹脂組成物の感度が不十分となる傾向がある。

【００３８】本発明における（Ａ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層３を構成する蛍光体を含有する感光性
樹脂組成物には、長期間増粘を起こさず、貯蔵安定性を
良好にするために、カルボキシル基を有する化合物を含
有させることができる。

【００３９】カルボキシル基を有する化合物としては、
例えば、飽和脂肪酸、不飽和脂肪酸、脂肪族二塩基酸、
芳香族二塩基酸、脂肪族三塩基酸、芳香族三塩基酸等が
挙げられる。

【００４０】カルボキシル基を有する化合物を配合する
場合、その配合量は、（ａ）成分１００重量部に対し
て、０．０１〜３０重量部とすることが好ましい。この
配合量が、０．０１重量部未満では、保存安定性の効果
が低くなる傾向があり、３０重量部を超えると、感度が
不十分となる傾向がある。

【００４１】本発明における（Ａ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層３を構成する蛍光体を含有する感光性
樹脂組成物には、蛍光体の分散を良好とするために、分
散剤を添加することが好ましい。

【００４２】分散剤を配合する場合、その使用量として
は、特に制限はなく、（ａ）成分１００重量部に対し
て、０．０１〜１００重量部とすることが好ましい。こ
の使用量が、０．０１重量部未満では、添加効果が発現
しない傾向があり、１００重量部を超えると、パターン
形成精度（蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層からな
るパターンを、現像後、寸法的に正確に、所望の形状で
得られる性質）が低下する傾向がある。

【００４３】本発明における（Ａ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層３を構成する蛍光体を含有する感光性
樹脂組成物には、焼成後、ＰＤＰバリアリブ基板から蛍
光体が剥離しないようにするために、結着剤を配合する
ことが好ましい。

【００４４】結着剤を配合する場合、その使用量として
は、特に制限はなく、（ｄ）成分１００重量部に対し
て、０．０１〜１００重量部とすることが好ましく、
０．０５〜５０重量部とすることがより好ましく、０．
１〜３０重量部とすることが特に好ましい。この使用量
が、０．０１重量部未満では、蛍光体の結着効果が発現
しない傾向があり、１００重量部を超えると、発光効率
が低下する傾向がある。

【００４５】また、本発明における（Ａ）蛍光体を含有
する感光性樹脂組成物層３を構成する蛍光体を炭有する
感光性樹脂組成物には、染料、発色剤、可塑剤、顔料、
重合禁止剤、表面改質剤、安定剤、密着性付与剤、熱硬
化剤等を必要に応じて添加することができる。

【００４６】本発明における（Ｂ）埋め込み層２を構成
する材質としては、外部からの応力により変形し、かつ
（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層３からの剥
離が可能であるものであれば特に制限はなく、例えば、
ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、
ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリ
ウレタン、テフロン、ゴム類（ブタジエンゴム、スチレ
ンブタジエンゴム、シリコンゴム等）、ポリ塩化ビニ
ル、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレ
ン、ポリビニルトルエン、ポリアクリル酸エステル、ポ
リメタクリル酸エステル、エチレンと酢酸ビニルの共重
合体、エチレンとアクリル酸エステルの共重合体、塩化
ビニルと酢酸ビニルの共重合体、スチレンとアクリル酸
エステル又はメタクリル酸エステルとの共重合体、ビニ
ルトルエンとアクリル酸エステル又はメタクリル酸エス
テルとの共重合体、ポリビニルアルコール系樹脂（ポリ
酢酸ビニルの加水分解物、エチレンと酢酸ビニルとの共
重合体の加水分解物、塩化ビニルと酢酸ビニルとの共重
合体の加水分解物等）、カルボキシアルキルセルロース
の水溶性塩、水溶性セルロースエーテル類、カルボキシ
アルキルでん粉の水溶性塩、ポリビニルピロリドン、不
飽和カルボン酸とこれらと共重合可能な不飽和単量体を
共重合することにより得られるカルボキシル基を有する
樹脂などが挙げられる。これらは単独で又は２種類以上
組み合わせて使用される。

【００４７】また、本発明における（Ｂ）埋め込み層２
には、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層３か
ら（Ｂ）埋め込み層２へのマイグレーション抑制等の点
からエチレン性不飽和基を有する光重合性不飽和化合
物、活性光の照射により遊離ラジカルを生成する光開始
剤、カルボキシル基を有する化合物、染料、発色剤、可
塑剤、重合禁止剤、表面改質剤、安定剤、密着性付与剤
並びに熱硬化剤等を必要に応じて添加することもでき
る。通常、（Ａ）蛍光体を含有する前述した蛍光体を含
有する感光性樹脂組成物層３を構成する蛍光体を含有す
る感光性樹脂組成物に添加したものと同じものを添加す
る。

【００４８】上記した材料のうち、例えば、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、テフロン等は、溶融押出し法等に
よりフィルム状に形成されたものを、（Ｂ）埋め込み層
２として使用することができる。

【００４９】本発明において用いられる基板としては、
例えば、バリアリブが形成されたプラズマディスプレイ
パネル用バリアリブ基板（本明細書中、ＰＤＰバリアリ
ブ基板と略する）等が挙げられる。ＰＤＰバリアリブ基
板としては、例えば、透明な接着のための表面処理を施
していてもよい、ガラス板、合成樹脂等の基板に、電極
及びバリアリブが形成されたものなどが挙げられる。バ
リアリブの形成には、特に制限なく、公知の材料を使用
できるが、例えば、シリカ、熱硬化性樹脂、低融点ガラ
ス（酸化鉛等）、溶剤などを含むリブ材を用いることが
できる。

【００５０】また、ＰＤＰバリアリブ基板には、電極及
びバリアリブの他に、必要に応じて、誘電膜、絶縁膜、
補助電極、抵抗体等が形成されていてもよい。

【００５１】これらのものを、基板へ形成する方法とし
ては、特に制限はなく、例えば、基板に、蒸着、スパッ
タリング、メッキ、塗布、印刷等の方法で電極を形成す
ることができ、印刷法、サンドブラスト法、埋め込み等
の方法でバリアリブを形成することができる。

【００５２】図２及び図３にバリアリブが形成されたＰ
ＤＰバリアリブ基板の模式図を示した。バリアリブは、
通常、高さが２０〜５００μｍ、幅が２０〜２００μｍ
とされる。

【００５３】バリアリブで囲まれた放電空間の形状に
は、特に制限はなく、格子状、ストライプ状、ハニカム
状、３角形状、楕円形状等が可能であるが、通常図２及
び図３に示すように、格子状又はストライプ状の放電空
間が形成される。

【００５４】図２及び図３において、ＰＤＰバリアリブ
基板４上にはバリアリブ５が形成されており、図２では
格子状放電空間６が、図３ではストライプ状放電空間７
が形成されている。放電空間の大きさは、ＰＤＰの大き
さと解像度によって決められ、通常図２のような格子状
放電空間であれば、縦及び横の長さは、５０μｍ〜１ｍ
ｍとなり、図３のようなストライプ状放電空間であれ
ば、間隔は３０μｍ〜１ｍｍとなる。

【００５５】本発明の感光性エレメントの（Ａ）蛍光体
を含有する感光性樹脂組成物層３の構造は、上記適応す
るＰＤＰのバリアリブの形状によって異なる。

【００５６】図２に示す格子状のバリアリブに適応する
ための本発明の感光性エレメントの（Ａ）蛍光体を含有
する感光性樹脂組成物層３の厚層部３ａ及び薄層部３ｂ
の平面図を図４（ａ）に格子状のＰＤＰバリアリブ基板
４の平面図（図４（ｂ））とともに示す。１つの厚層部
３ａの寸法は、ほぼ（１横セルピッチ＋リブ幅）×（１
縦セルピッチ＋リブ幅）の長方形であり、蛍光体パター
ンを形成すべき所定の個所にのみ厚層部３ａが存在する
ように構成されている。

【００５７】図３に示すストライプ状のバリアリブに適
応するための本発明の感光性エレメントの（Ａ）蛍光体
を含有する感光性樹脂組成物層３の厚層部３ａ及び薄層
部３ｂの平面図を図５（ａ）にストライプ状のＰＤＰバ
リアリブ基板４の平面図（図５（ｂ））とともに示す。
ストライプ状の１つの厚層部の幅は、ほぼ（１セルピッ
チ＋リブ幅）であり、蛍光体パターンを形成すべき所定
の個所（３セルピッチ毎）にのみ厚層部３ａが存在する
ように構成されている。

【００５８】図３（ａ）及び図５（ａ）に示した本発明
の感光性エレメントを図４（ａ）及び図５（ａ）の破線
で切断した断面図を図６に示す。（Ａ）蛍光体を含有す
る感光性樹脂組成物層３の薄層部３ｂの層厚ｃは０〜２
０μｍであり、薄ければ薄いほうが現像時に除去される
蛍光体の量が少なくなり好ましい。また、厚層部３ａの
層厚ｄは適応するＰＤＰバリアリブ基板の寸法によって
異なり、通常は２０〜８０μｍの間である。

【００５９】次に、本発明の感光性エレメントを製造す
る方法について説明する。この製造には、種々の方法が
挙げられるが、支持体フィルム１上に埋め込み層用樹脂
層２′を形成し、埋め込み層用樹脂層２′の所定の位置
に凹部が転写されるように凸部が形成された成形鋳型を
用いて、埋め込み層用樹脂層２′の所定の位置に凹部を
形成して凹凸面を有する（Ｂ）埋め込み層２を形成す
る。その上に表面が平滑になるように（Ａ）蛍光体を含
有する感光性樹脂組成物層３を形成することによって本
発明の感光性エレメントは得られる。

【００６０】本発明の感光性エレメントを製造する方法
について図７を用いて説明する。

【００６１】本発明の支持体フィルム１上に埋め込み層
用樹脂層２′を形成する方法としては、支持体フィルム
１上に、（Ｂ）埋め込み層２を構成する前記樹脂等を溶
解又は分解可能な溶剤に、溶解又は混合させることによ
り、均一に溶解又は分散した溶液とし、直接、塗布、乾
燥することにより得られ、更に形成された埋め込み層用
樹脂層２′上には剥離可能なカバーフィルムが積層され
てもよい。

【００６２】前記各成分を溶解又は分散可能な溶剤とし
ては、例えば、トルエン、アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、メチルセロソルブ、エチ
ルセロソルブ、γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチルピロリ
ドン、ジメチルホルムアミド、テトラメチルスルホン、
ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレング
リコールモノブチルエーテル、クロロホルム、塩化メチ
レン、メチルアルコール、エチルアルコール等が挙げら
れる。これらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使
用される。

【００６３】前記カバーフィルムとしては、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポ
リカーボネート等が挙げられ、支持体フィルム１と埋め
込み層用樹脂層２′との接着力よりも、カバーフィルム
と埋め込み層用樹脂層２′との接着力の方が小さいもの
であることが好ましい。

【００６４】カバーフィルムの厚さは、特に制限はない
が、５〜１００μｍとすることが好ましく、１０〜９０
μｍとすることがより好ましい。

【００６５】塗布方法としては、公知の方法を用いるこ
とができ、例えば、ナイフコート法、ロールコート法、
スプレーコート法、グラビアコート法、バーコート法、
カーテンコート法、ディスペンサー法等が挙げられる。

【００６６】本発明における埋め込み層用樹脂層２′の
厚さは、特に制限はないが、ＰＤＰバリアリブ基板４の
空間への埋め込み性等の点から、１０〜２００μｍとす
ることが好ましく、２０〜１００μｍとすることがより
好ましい。

【００６７】また、後述する（Ｂ）埋め込み層２を除去
する工程において、（Ｂ）埋め込み層２の剥離性をよく
するために、埋め込み層用樹脂層２′とカバーフィルム
との間に、（Ｂ）埋め込み層２との接着力よりも、
（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層３及びカバ
ーフィルムとの接着力が小さいもので、（Ｂ）層と
（Ａ）層とを容易に分離させるためのフィルム等を更に
積層することもできる。

【００６８】このようにして得られるフィルムは、シー
ト状又はロール状に巻いて保管可能とすることができ
る。

【００６９】次に、カバーフィルムが存在するときはカ
バーフィルムを剥離しながら、埋め込み層用樹脂層２′
の所定の位置に凹部が転写されるように凸部が形成され
た成形鋳型を用いて、埋め込み層用樹脂層２′の所定の
位置に凹部を形成する工程（図７（ｃ））について説明
する。

【００７０】本発明において使用される埋め込み層用樹
脂層２′の所定の位置に凹部が転写されるように凸部が
形成された成形鋳型の材質は、ガラス、セラミックス、
金属、合成樹脂又はそれらの表面処理されたものなど、
いずれでもよく、合成樹脂としては、テフロン、シリコ
ン樹脂、アクリル、エポキシ、ポリエチレン、ポリプロ
ピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネー
ト等が挙げられる。

【００７１】また、凸部が形成された成形鋳型の製造
は、金型などによる射出成型、押し出し成型など公知の
方法によって行うことができる。

【００７２】また、本発明における（Ｂ）埋め込み層２
は、埋め込み用樹脂層２′を構成する前記樹脂等を押し
出し塗工等によって、直接塗工しながら成形鋳型により
所定の位置に凹部を形成して形成することもできる。

【００７３】特に、（Ｂ）埋め込み層２の所定位置に形
成された凹部底部での（Ｂ）埋め込み層２の厚さが、２
０〜１００μｍであることが好ましい。

【００７４】本発明において、所定の位置に凹部が形成
された（Ｂ）埋め込み層２の凹凸面の上に、表面が平滑
になるように（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物
層３を形成する工程（図７（ｄ））について説明する。

【００７５】本発明の（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物層３を表面が平滑になるように塗工する方法と
しては、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層３
を構成する前記各成分を溶解又は分散可能な溶剤に、溶
解又は混合させることにより、均一に分散した溶液と
し、所定の位置に凹部が形成された（Ｂ）埋め込み層２
上に、塗布、乾燥することにより得られる。

【００７６】前記各成分を、溶解又は分散可能な溶剤と
しては、例えば、トルエン、アセトン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトン、メチルセロソルブ、エ
チルセロソルブ、γ−ブチルラクトン、Ｎ−メチルピロ
リドン、ジメチルホルムアミド、テトラメチルスルホ
ン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレ
ングリコールモノブチルエーテル、クロロホルム、塩化
メチレン、メチルアルコール、エチルアルコール等が挙
げられる。これらは単独で又は２種以上を組み合わせて
使用される。

【００７７】前記塗布方法としては、公知の方法を用い
ることができ、例えば、ナイフコート法、ロールコート
法、スプレーコート法、グラビアコート法、バーコート
法、カーテンコート法、ディスペンサー法等が挙げられ
る。

【００７８】乾燥温度は、６０〜１３０℃とすることが
好ましく、乾燥時間は、３分〜１時間とすることが好ま
しい。

【００７９】前記した支持体フィルム１、（Ｂ）埋め込
み層２及び（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層
３を有する感光性エレメントの（Ａ）蛍光体を含有する
感光性樹脂組成物層３の上には、更に、剥離可能なカバ
ーフィルム８（図８）を積層することができる。

【００８０】このカバーフィルムとしては、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポ
リカーボネート等が挙げられ、（Ｂ）埋め込み層２と
（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層３との接着
力よりも、カバーフィルム８と（Ａ）蛍光体を含有する
感光性樹脂組成物層３との接着力の方が小さいものであ
ることが好ましい。

【００８１】カバーフィルム８の厚さは、特に制限はな
いが、５〜１００μｍとすることが好ましく、１０〜９
０μｍとすることがより好ましい。

【００８２】このようにして得られる感光性エレメント
は、シート状又はロール状に巻いて保管可能とすること
ができる。

【００８３】本発明における（Ａ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層３の厚さは、特に制限はないが、先に
説明したように、ＰＤＰの蛍光体層形成に寄与しない薄
層部３ｂは０〜２０μｍとすることが好ましく、薄けれ
ば薄いほうがよく、またＰＤＰの蛍光体層形成に寄与す
る厚層部３ａは２０〜２００μｍとすることが好まし
く、２０〜１２０μｍとすることがより好ましく、３０
〜８０μｍとすることが特に好ましい。この厚さが、２
０μｍ未満では、焼成後の蛍光体パターンが薄くなり、
発光効率が低下する傾向があり、２００μｍを超える
と、焼成後の蛍光体パターンが厚くなり、放電空間が小
さくなり発光できなくなる傾向がある。

【００８４】本発明の蛍光体パターンの製造法は、
（Ｉ）凹凸を有するＰＤＰバリアリブ基板上に、本発明
の感光性エレメントの（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物層の厚層部と、ＰＤＰバリアリブ基板の凹部が
対応するように載置し、（Ｂ）埋め込み層の上からＰＤ
Ｐバリアリブ基板に対して圧力を加えて、（Ａ）蛍光体
を含有する感光性樹脂組成物層及び（Ｂ）埋め込み層を
凹凸を有するＰＤＰバリアリブ基板上に積層する工程、
（ＩＩ）感光性エレメントの支持体フィルム及び積層さ
れた（Ｂ）埋め込み層を除去する工程、（ＩＩＩ）
（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層に活性光線
を像的に照射する工程、（ＩＶ）現像により活性光線を
像的に照射した（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成
物層から不要部を選択的に除去してパターンを形成する
工程及び（Ｖ）前記パターンから焼成により不要分を除
去して蛍光体パターンを形成する工程からなることを特
徴とする。

【００８５】以下、本発明の蛍光体パターンの製造法の
一例を、各工程に付いて、図９及び図１０を用いて説明
する。なお、図９及び図１０は、本発明の蛍光体パター
ンの製造法の一例の各工程を示した模式図である。

【００８６】［（Ｉ）凹凸を有するＰＤＰバリアリブ基
板上に、本発明の感光性エレメントの（Ａ）蛍光体を含
有する感光性樹脂組成物層の厚層部と、ＰＤＰバリアリ
ブ基板の凹部が対応するように載置し、（Ｂ）埋め込み
層上からＰＤＰバリアリブ基板に対して圧力を加えて、
（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層及び（Ｂ）
埋め込み層を凹凸を有するＰＤＰバリアリブ基板上に積
層する工程］この（Ｉ）工程では、凹凸を有するＰＤＰ
バリアリブ基板４上に、本発明の感光性エレメントの
（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層３の厚層部
３ａと、ＰＤＰバリアリブ基板４の凹部が対応するよう
に配置し、（Ｂ）埋め込み層２上からＰＤＰバリアリブ
基板４に対して圧力を加えて、（Ａ）蛍光体を含有する
感光性樹脂組成物層３及び（Ｂ）埋め込み層２を圧着す
る。この工程の一例を図９（Ｉ）及び図９（ＩＩ）に示
した。

【００８７】図９（Ｉ）は、バリアリブ５が形成された
ＰＤＰバリアリブ基板４（凹凸を有する基板）上に、本
発明の感光性エレメントの（Ａ）蛍光体を含有する感光
性樹脂組成物層３の厚層部３ａと、ＰＤＰバリアリブ基
板４の凹部が対応するように配置した状態を示した。

【００８８】積層のための加圧は、減圧下において行っ
てもよい。また、この時加熱を伴うこともできる。

【００８９】圧着圧力は、線圧で２．４×１０²〜２．
４×１０⁵Ｎ／ｍとすることが好ましく、４．８×１０²
〜１．２×１０⁵Ｎ／ｍとすることがより好ましく、
９．６×１０²〜２．４×１０⁴Ｎ／ｍとすることが特に
好ましい。この圧着圧力が、２．４×１０²Ｎ／ｍ未満
では、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層３の
ＲＧＢ３色蛍光体層の均一な形成性が低下する傾向があ
り、２．４×１０⁵Ｎ／ｍを超えると、ＰＤＰバリアリ
ブ基板４が破壊される傾向がある。

【００９０】加圧する場合の圧着ロール等の材質として
は、後述する（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物
層３の空間への埋め込み性を更に向上させる点から、表
面がゴム、プラスチック等の柔軟性に富んだものである
ことが好ましい。

【００９１】なお、柔軟性に富んだ材質の層の厚さは、
２００〜４００μｍとすることが好ましい。また、加熱
する場合の温度は、１０〜１４０℃とすることが好まし
く、２０〜１３５℃とすることがより好ましく、３０〜
１３０℃とすることが特に好ましい。この加熱温度が、
１０℃未満では、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組
成物層３が、ＰＤＰバリアリブ基板４上に十分に密着で
きない傾向があり、１４０℃を超えると、（Ａ）蛍光体
を有する感光性樹脂組成物層３が熱硬化する傾向があ
る。

【００９２】感光性エレメントを前記のように加熱すれ
ば、バリアリブ５が形成されたＰＤＰバリアリブ基板４
（凹凸を有する基板）を予熱処理することは必要ではな
いが、後述する（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成
物層３の空間への埋め込み性を更に向上させる点から、
前記ＰＤＰバリアリブ基板４の予熱処理を行うことが好
ましい。

【００９３】更に、同様の目的で、５×１０⁴Ｐａ以下
の減圧下で、上記した圧着及び加熱圧着の操作を行うこ
ともできる。

【００９４】また、このように積層が完了した後、３０
〜１５０℃の範囲で、１〜１２０分間、加熱することも
できる。この際、支持体フィルム１を必要に応じて除去
することもできる。

【００９５】図９（ＩＩ）は、本発明の感光性エレメン
トを圧着し、バリアリブ５が形成されたＰＤＰバリアリ
ブ基板４（凹凸を有する基板）のバリアリブ壁面及び基
板底面上に囲まれた空間へ、（Ａ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層３及び埋め込み層２を埋め込んだ状態
を示した。

【００９６】また、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂
組成物層３のＰＤＰバリアリブ基板４の空間への埋め込
み性を更に向上するために、（Ｂ）埋め込み層２の上に
支持体フィルム１が存在する場合には、その支持体フィ
ルム１を必要に応じて除去しながら圧着ロール９等によ
り圧着してもよい。

【００９７】［（ＩＩ）感光性エレメントの支持体フィ
ルム及び積層された（Ｂ）埋め込み層を除去する工程］
支持体フィルム１は、本発明の感光性エレメントをＰＤ
Ｐバリアリブ基板４上に載置する前に剥離して除去して
もよいし、工程（Ｉ）後に（Ｂ）埋め込み層２と共に、
又は別個に除去してもよい。

【００９８】（Ｂ）埋め込み層２及び支持体フィルム１
を剥離した状態を図９（ＩＩＩ）に示した。

【００９９】図９（ＩＩＩ）において、（Ｂ）埋め込み
層２を除去する方法としては、例えば、（Ｂ）埋め込み
層２上に、粘着テープを接着したり、鉤型の治具等を用
いて、物理的に（Ｂ）埋め込み層２を剥がす方法などが
挙げられる。

【０１００】また、作業性の向上を目的に、静電気、吸
引等の力を利用し、（Ｂ）埋め込み層２を剥離する方法
などを使用することができる。また、（Ｂ）埋め込み層
２を剥がした直後に、巻取り用ロール等を使用して
（Ｂ）埋め込み層２を巻取ることもできる。

【０１０１】［（ＩＩＩ）（Ａ）蛍光体を含有する感光
性樹脂組成物層３に活性光線を像的に照射する工程］活
性光線１１を像的に照射する状態を図９（ＩＶ）に示し
た。図９（ＩＶ）において、活性光線１１を像的に照射
する方法としては、図９（ＩＩＩ）の状態の（Ａ）蛍光
体を含有する感光性樹脂組成物層３の上部に、ネガフィ
ルム、ポジフィルム等のフォトマスク１０を介して、活
性光線１１を像的に照射することができる。

【０１０２】このとき、（Ａ）蛍光体を含有する感光性
樹脂組成物層３の上に、前記した支持体フィルム１を新
たに被覆して、活性光線１１を像的に照射することもで
きる。

【０１０３】また、（Ｂ）埋め込み層２が活性光線１１
を透過する材質のものであれば、（Ｂ）埋め込み層が積
層されたままの状態で本工程を行い、次いで、前記工程
（ＩＩ）における（Ｂ）埋め込み層の除去を行うことも
できる。

【０１０４】また、フォトマスク１０の活性光線１１の
透過幅は、通常、ＰＤＰバリアリブ基板４の凹部の開口
幅よりも小さくしておくことが、位置合わせ精度の裕度
を大きくできる点から好ましい。

【０１０５】活性光線１１としては、公知の活性光源が
使用でき、例えば、カーボンアーク、水銀蒸気アーク、
キセノンアーク、その他から発生する光等が挙げられ
る。

【０１０６】光開始剤の感受性は、通常、紫外線領域に
おいて最大であるので、その場合の活性光源は、紫外線
を有効に放射するものにすべきである。また、光開始剤
が可視光線に感受するもの、例えば、９，１０−フェナ
ンスレンキノン等である場合には、活性光線１１として
は、可視光が用いられ、その光源としては、前記のもの
以外に写真用フラッド電球、太陽ランプ等も使用するこ
とができる。

【０１０７】また、本発明における活性光線１１として
は、平行光線、散乱光線等が挙げられ、平行光線、散乱
光線のどちらを使用してもよく、また、両方を一工程に
おいて使用してもよく、両方を二段階で別々で使用して
もよい。なお、両方を二段階で別々に使用する場合に
は、どちらを先に行ってもよい。

【０１０８】また、本発明における活性光線１１の照射
量は、特に制限はないが、５〜１０，０００ｍＪ／ｃｍ
²とすることが好ましく、７〜５，０００ｍＪ／ｃｍ²と
することがより好ましく、１０〜１，０００ｍＪ／ｃｍ
²とすることが特に好ましい。

【０１０９】［（ＩＶ）現像により活性光線を像的に照
射した（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層の不
要部を選択的に除去してパターンを形成する工程］現像
により不要部を除去した状態を図９（Ｖ）に示した。な
お、図９（Ｖ）において、３′は光硬化後の蛍光体を含
有する感光性樹脂組成物層である。

【０１１０】図９（Ｖ）の工程において、現像方法とし
ては、例えば、図９（ＩＶ）の状態の後、（Ａ）蛍光体
を含有する感光性樹脂組成物層３の上に支持体フィルム
１が存在する場合には、これを除去した後、アルカリ水
溶液、水系現像液、有機溶剤等の公知の現像液を用い
て、スプレー、揺動浸漬、ブラッシング、スクラッビン
グ等の公知方法により現像を行い、不要部を除去する方
法等が挙げられる。

【０１１１】また、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂
組成物層３の不要部を除去する方法として、露光部、未
露光部の粘着性の差を利用し、（Ａ）蛍光体を含有する
感光性樹脂組成物層３の粘着性を有した不要部のみを剥
離するドライ現像にて行うこともできる。

【０１１２】アルカリ水溶液の塩基としては、水酸化ア
ルカリ（リチウム、ナトリウム又はカリウムの水酸化物
等）、炭酸アルカリ（リチウム、ナトリウム又はカリウ
ムの炭酸塩若しくは重炭酸塩等）、アルカリ金属リン酸
塩（リン酸カリウム、リン酸ナトリウム等）、アルカリ
金属ピロリン酸塩（ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸
カリウム等）、水酸化テトラメチルアンモニウム、トリ
エタノールアミンなどが挙げられ、中でも、炭酸ナトリ
ウム、水酸化テトラメチルアンモニウム等が好ましいも
のとして挙げられる。

【０１１３】現像に用いるアルカリ水溶液のｐＨは、９
〜１１とすることが好ましく、また、その温度は、
（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層３の現像性
に合わせて調整することができる。

【０１１４】また、アルカリ水溶液中には、表面活性
剤、消泡剤、現像を促進させるための少量の有機溶剤を
混入させることができる。

【０１１５】水系現像液としては、水又はアルカリ水溶
液と１種以上の有機溶剤とからなるものが挙げられる。

【０１１６】ここで、アルカリ水溶液の塩基としては、
前記物質以外に、例えば、ホウ砂、メタケイ酸ナトリウ
ム、エタノールアミン、エチレンジアミン、ジエチレン
トリアミン、２−アミノ−２−ヒドロキシメチル−１，
３−プロパンジオール、１，３−ジアミノプロパノール
−２−モルホリン、水酸化テトラメチルアンモニウム等
が挙げられる。

【０１１７】水系現像液のｐＨは、８〜１２とすること
が好ましく、９〜１０とすることがより好ましい。

【０１１８】有機溶剤としては、例えば、アセトンアル
コール、アセトン、酢酸エチル、炭素数１〜４のアルコ
キシ基をもつアルコキシエタノール、エチルアルコー
ル、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、ジエ
チレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリ
コールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ
ブチルエーテル等が挙げられる。これらは、単独で又は
２種類以上を組み合わせて使用される。

【０１１９】水と１種以上の有機溶剤とからなる水系現
像液（有機溶剤が水に溶解しない場合はエマルジョン溶
液）で、有機溶剤としては、例えばアセトンアルコー
ル、アセトン、酢酸エチル、炭素数１〜４のアルコキシ
基をもつアルコキシエタノール、エチルアルコール、イ
ソプロピルアルコール、ブチルアルコール、ジエチレン
グリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコール
モノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチル
エーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテ
ル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプ
ロピレングリコールモノプロピルエーテル、３−メチル
−３−メトキシブチルアセテート、１，１，１−トリク
ロロエタン、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミド、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケ
トン、γ−ブチロラクトン等が挙げられる。これらは、
単独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。

【０１２０】有機溶剤の濃度は、通常、２〜９０重量％
の範囲とされ、また、その温度は、現像性にあわせて調
整することができる。

【０１２１】また、水系現像液中には、界面活性剤、消
泡剤等を少量混入することができる。

【０１２２】単独で用いる有機溶剤現像液としては、例
えば、１，１，１−トリクロロエタン、Ｎ−メチルピロ
リドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、シクロヘキサ
ノン、メチルイソブチルケトン、γ−ブチロラクトン等
が挙げられる。これらの有機溶剤には、引火防止のた
め、１〜２０重量％の範囲で水を添加してもよい。

【０１２３】また、水、アルカリ水溶液、水系現像液
（水と１種以上の有機溶剤又はアルカリ水溶液と１種以
上の有機溶剤とからなるもの）、有機溶剤等の公知の現
像液中には、現像時の蛍光体劣化防止の点で、アルカリ
金属イオン以外の金属イオン又はハロゲンイオンを含ま
ないことが好ましい。

【０１２４】また、現像液、蛍光体の劣化を防止する目
的で、光硬化後の蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層
３′に残存したアルカリ水溶液の塩基を、ルイス酸水溶
液を用いて、スプレー、揺動浸漬、ブラッシング、スク
ラッビング等の公知方法により酸処理（中和処理）する
ことができる。

【０１２５】ルイス酸としては、例えば、４級アンモニ
ウム塩、或は通常の有機酸又は無機酸が挙げられる。

【０１２６】また、現像後、ＰＤＰバリアリブ基板４上
の凹部内面における光硬化後の蛍光体を含有する感光性
樹脂組成物層のパターンの密着性及び耐薬品性等を向上
させる目的で、高圧水銀ランプ等による紫外線照射や加
熱を行うこともできる。

【０１２７】このときの紫外線の照射量は、通常０．２
〜１０Ｊ／ｃｍ²であり、照射の際に加熱を行うことも
できる。また、加熱の温度は６０〜１８０℃とすること
が好ましく、１００〜１８０℃とすることがより好まし
い。また、加熱時間は１５〜９０分間とすることが好ま
しい。これらの紫外線の照射と加熱は、照射と加熱を別
々に行ってもよく、どちらを先に行ってもよい。

【０１２８】［（Ｖ）前記パターンから焼成により不要
分を除去して蛍光体パターンを形成する工程］焼成によ
り不要分を除去した後の蛍光体パターンを形成した状態
を図９（ＶＩ）に示した。なお、図９（ＶＩ）におい
て、１２は蛍光体パターンである。

【０１２９】図９（ＶＩ）において、焼成方法として
は、特に制限はなく、公知の焼成方法を使用し、蛍光体
及び結着剤以外の不要分を除去し、蛍光体パターンを形
成することができる。

【０１３０】このときの、焼成温度は、３５０〜８００
℃とすることが好ましく、４００〜６００℃とすること
がより好ましい。また、焼成時間は、３〜１２０分間と
することが好ましく、５〜９０分間とすることがより好
ましい。

【０１３１】このときの、昇温速度は、０．５〜５０℃
／分とすることが好ましく、１〜４５℃／分とすること
がより好ましい。また、最高焼成温度に到達する前の３
５０〜４５０℃の間に、その温度を保持するステップを
設けることができ、その保持時間は５〜１００分間とす
ることが好ましい。

【０１３２】なお、この焼成は、空気雰囲気下で行って
もよく、窒素雰囲気下で行ってもよく、空気雰囲気下及
び窒素雰囲気下を併用して行ってもよく、また、昇温過
程において、空気雰囲気下及び窒素雰囲気下を適宜交互
に織り混ぜて行うこともできる。

【０１３３】本発明の蛍光体パターンの製造法は、工程
数を低減できる等の点から、前記本発明における（Ｉ）
〜（ＩＶ）の工程を１色毎に繰り返して、赤色、緑色及
び青色に発色する蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層
３からなる多色パターンを形成した後、（Ｖ）の工程を
行い、多色の蛍光体パターンを形成することが好まし
い。

【０１３４】本発明において、赤色、青色及び緑色に発
色するそれぞれの蛍光体を単独で有する（Ａ）蛍光体を
含有する感光性樹脂組成物層３のパターンの形成、又は
蛍光体パターンの形成は、赤色、青色及び緑色の各色に
ついて、どのような順番でも行うことができる。

【０１３５】本発明における（Ｉ）〜（ＩＶ）の各工程
を１色毎に繰り返して、赤色、緑色及び青色に発色する
蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を含む多色パター
ンを形成した状態を図１０に示した。図１０において、
３′ａは１色目のパターン、３′ｂは２色目のパターン
及び３′ｃは３色目のパターンである。

【０１３６】また、本発明の蛍光体パターンの製造法
は、膜べりの抑制等の点から、前記本発明における
（Ｉ）〜（Ｖ）の各工程を１色毎に繰り返して、赤色、
緑色及び青色に発色する多色の蛍光体パターンを形成し
てもよい。

【０１３７】図１１は、本発明における（Ｖ）の工程を
行って形成された多色の蛍光体パターンを有するＰＤＰ
バリアリブ基板４の部分断面図であり、１２ａは１色目
の蛍光体パターンであり、１２ｂは２色目の蛍光体パタ
ーンであり、１２ｃは３色目の蛍光体パターンである。

【０１３８】本発明のプラズマディスプレイパネル用背
面板は、上述のようにして得られた蛍光体パターンを、
プラズマディスプレイパネル用基板上に備えてなるもの
である。

【０１３９】以下に、プラズマディスプレイパネル用背
面板について、図１２を用いて説明する。なお、図１２
は、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）の一例を示
した模式図であり、図１２において４は基板、５はバリ
アリブ、７はストライプ状放電空間、１２は蛍光体パタ
ーン、１３はアドレス用電極、１４は保護膜、１５は誘
電体層、１６は表示用電極、１７は前面板用基板であ
る。

【０１４０】図１２において、基板４、バリアリブ５、
蛍光体パターン１２及びアドレス用電極１３を含む下部
がＰＤＰ用背面板であり、保護膜１４、誘電体層１５、
表示用電極１６及び前面板用基板１７を含む上部がＰＤ
Ｐ用前面板である。

【０１４１】ＰＤＰは、電圧の印加方式から、ΑＣ（交
流）型ＰＤＰ、ＤＣ（直流）型ＰＤＰ等に分類でき、一
例として示した図１２の模式図は、ΑＣ型ＰＤＰであ
る。

【０１４２】なお、本発明の蛍光体パターンの製造法及
び感光性エレメントは、フィールドエミッションディス
プレイ（ＦＥＤ）、エレクトロルミネッセンスディスプ
レイ（ＥＬＤ）等の自発光型ディスプレイにも適用する
ことができる。

【０１４３】

【実施例】以下、実施例により本発明を説明する。

【０１４４】製造例１ ［フィルム性付与ポリマー（ａ）溶液の作製］撹拌機、
還流冷却機、不活性ガス導入口及び温度計を備えたフラ
スコに、表１に示す（１）を仕込み、窒素ガス雰囲気下
で８０℃に昇温し、反応温度を８０℃±２℃に保ちなが
ら、表１に示す（２）を４時間かけて均一に滴下した。

【０１４５】（２）の滴下後、８０℃±２℃で６時間撹
拌を続け、重量平均分子量が８０，０００、酸価が１３
０ｍｇＫＯＨ／ｇのフィルム性付与ポリマー（ａ）の溶
液（固形分４５．５重量％）を得た。

【０１４６】

【表１】 製造例２ ［埋め込み層用溶液（ｂ−１）の作製］表２に示す材料
を混合し、加熱下撹拌しながら溶解して埋め込み層用溶
液（ｂ−１）を調製した。

【０１４７】

【表２】 製造例３ ［蛍光体を含有する感光性樹脂組成物溶液（Ａ−１）の
作製］表３に示す材料を、ライカイ機を用いて１５分間
混合し、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物溶液（Ａ−
１）を調製した。

【０１４８】

【表３】 製造例４ ［蛍光体を含有する感光性樹脂組成物溶液（Ａ−２）の
作製］表４に示す材料を、ライカイ機を用いて１５分間
混合し、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物溶液（Ａ−
２）を調製した。

【０１４９】

【表４】 製造例５ ［蛍光体を含有する感光性樹脂組成物溶液（Ａ−３）の
作製］表５に示す材料を、ライカイ機を用いて１５分間
混合し、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物溶液（Ａ−
３）を調製した。

【０１５０】

【表５】 実施例１ ［感光性エレメント（ｉ）の作製］３０μｍの厚さのポ
リエチレンテレフタレートフィルム上に、製造例２で得
られた埋め込み層用溶液（ｂ−１）を均一に塗布し、８
０〜１１０℃の熱風対流式乾燥機で１０分間乾燥して溶
剤を除去し埋め込み層用樹脂層を形成した。得られた埋
め込み層用樹脂層の乾燥後の厚さは、１００μｍであっ
た。

【０１５１】表面上に幅２７０μｍ高さ４０μｍの凸部
が、ストライプ状に６６０μｍおきに形成されたテフロ
ン製成型鋳型（１０ｃｍ×１０ｃｍ）上に、先に得られ
たポリエチレンテレフタレート上に埋め込み層用樹脂層
が形成されたフィルムを、埋め込み層用樹脂層を成型鋳
型に接触させて載置し、次いでポリエチレンテレフタレ
ート側から加熱圧着（ラミネート温度が１２０℃、ラミ
ネート速度が０．５ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）
が４×１０⁵Ｐａ（幅１０ｃｍの成型鋳型を用いたた
め、このときの線圧は９．８×１０³Ｎ／ｍ））した
後、成型鋳型から剥離して、幅２７０μｍ深さ４０μｍ
の溝がストライプ状に６６０μｍおきに形成された
（Ｂ）埋め込み層を有するフィルムを得た。

【０１５２】次に、この表面にストライプ状に溝が形成
された（Ｂ）埋め込み層上に、製造例３で得られた蛍光
体を含有する感光性樹脂組成物溶液（Ａ−１）を表面が
平滑になるように塗布乾燥して、厚層部の厚さ５０μｍ
の（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を形成し
た。更に、この上に２５μｍの厚さのポリエチレンフィ
ルムをカバーフィルムとして張り合わせて、感光性エレ
メント（ｉ）を作製した。

【０１５３】実施例２ ［感光性エレメント（ｉｉ）の作製］実施例１におい
て、製造例３で得られた蛍光体を含有する感光性樹脂組
成物溶液（Ａ−１）を、製造例４で得られた蛍光体を含
有する感光性樹脂組成物溶液（Ａ−２）に代えた以外
は、実施例１と同様にして、感光性エレメント（ｉｉ）
を作製した。なお、感光性エレメント（ｉｉ）の（Ａ）
蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層の厚層部の厚さは
５０μｍであった。

【０１５４】実施例３ ［感光性エレメント（ｉｉｉ）の作製］実施例１におい
て、製造例３で得られた蛍光体を含有する感光性樹脂組
成物溶液（Ａ−１）を、製造例５で得られた蛍光体を含
有する感光性樹脂組成物溶液（Ａ−３）に代えた以外
は、実施例１と同様にして、感光性エレメント（ｉｉ
ｉ）を作製した。なお、感光性エレメント（ｉｉｉ）の
（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層の厚層部の
厚さは５０μｍであった。

【０１５５】実施例４ 凹凸を有するＰＤＰバリアリブ基板（ストライプ状のバ
リアリブ、バリアリブ間の開口幅１７０μｍ、バリアリ
ブの幅５０μｍ、バリアリブの高さ１５０μｍ）のバリ
アリブが形成された側に、実施例１で得られた感光性エ
レメント（ｉ）のカバーフィルムを剥離・除去しなが
ら、ラミネート温度が１２０℃、ラミネート速度が０．
５ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）が４×１０⁵Ｐａ
（幅１０ｃｍの基板を用いたため、このときの線圧は
９．８×１０³Ｎ／ｍ）で積層しＰＤＰバリアリブ基板
の所定の位置の凹部内面に感光性エレメント（ｉ）を埋
め込んだ。

【０１５６】感光性エレメント（ｉ）を埋め込んだ後、
（Ｂ）埋め込み層をポリエチレンテレフタレートフィル
ムごと剥離・除去し、蛍光体を含有する感光性樹脂組成
物層のみ残された基板を、ストライプ方向に対して直角
の方向に切断し、その切断面を電子顕微鏡にて観察し、
蛍光体層形成性を確認した結果、均一で良好な蛍光体層
が形成されていることが分かった。

【０１５７】実施例５ ［赤蛍光体パターンの作製］ ［（１）凹凸を有するＰＤＰバリアリブ基板の凹凸表面
上に、感光性エレメント（ｉ）を積層する工程］実施例
４と同様にして、感光性エレメント（ｉ）を基板に積層
した。

【０１５８】［（２）活性光線を像的に照射する工程］
次に、ポリエチレンテレフタレートフィルムごと（Ｂ）
埋め込み層を剥離して除き、（Ａ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層上に試験用フォトマスクを密着させ
て、（株）オーク製作所製ＨＭＷ−５９０型露光機を使
用し、５００ｍＪ／ｃｍ²で活性光線を像的に照射し
た。

【０１５９】［（３）現像により不要部を除去する工
程］次いで、活性光線の照射後、常温で１時間放置した
後、１重量％炭酸ナトリウム水溶液を用いて、３０℃で
１２０秒間スプレー現像した。

【０１６０】現像後、８０℃で１０分間乾燥し、東芝電
材（株）製東芝紫外線照射装置を使用して、３Ｊ／ｃｍ
²の紫外線照射を行い、更に、１５０℃で１時間、乾燥
器中で加熱した。

【０１６１】［（４）焼成により不要分を除去する工
程］次いで、５００℃で３０分間加熱処理（焼成）を行
い、不必要な樹脂成分を除去し、ＰＤＰバリアリブ基板
の凹部内面に赤蛍光体パターンを形成させた。

【０１６２】得られた赤蛍光体パターンの断面を、実体
顕微鏡及びＳＥＭにより目視にて観察し、赤蛍光体パタ
ーンの形成状況を評価した結果、赤蛍光体層がＰＤＰバ
リアリブ基板の凹部内面（バリアリブ壁面及び基板面）
上に均一に形成されていた。

【０１６３】実施例６ ［青蛍光体パターンの作製］ ［（１）凹凸を有するＰＤＰバリアリブ基板の凹凸表面
上に、感光性エレメント（ｉｉ）を積層する工程］実施
例４と同様にして、感光性エレメント（ｉｉ）を基板に
積層した。

【０１６４】［（２）活性光線を像的に照射する工程］
次に、ポリエチレンテレフタレートフィルムごと（Ｂ）
埋め込み層を剥離して除き、（Ａ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層上に試験用フォトマスクを密着させ
て、（株）オーク製作所製ＨＭＷ−５９０型露光機を使
用し、５００ｍＪ／ｃｍ²で活性光線を像的に照射し
た。

【０１６５】［（３）現像により不要部を除去する工
程］次いで、活性光線の照射後、常温で１時間放置した
後、１重量％炭酸ナトリウム水溶液を用いて、３０℃で
１２０秒間スプレー現像した。

【０１６６】現像後、８０℃で１０分間乾燥し、東芝電
材（株）製東芝紫外線照射装置を使用して、３Ｊ／ｃｍ
²の紫外線照射を行い、更に、１５０℃で１時間、乾燥
器中で加熱した。

【０１６７】［（４）焼成により不要分を除去する工
程］次いで、５００℃で３０分間加熱処理（焼成）を行
い、不必要な樹脂成分を除去し、ＰＤＰバリアリブ基板
の凹部内面に青蛍光体パターンを形成させた。

【０１６８】得られた青蛍光体パターンの断面を実体顕
微鏡及びＳＥＭにより目視にて観察し、青蛍光体パター
ンの形成状況を評価した結果、青蛍光体層がＰＤＰバリ
アリブ基板の凹部内面（バリアリブ壁面及び基板面）上
に均一に形成されていた。

【０１６９】実施例７ ［緑蛍光体パターンの作製］ ［（１）凹凸を有するＰＤＰバリアリブ基板の凹凸表面
上に、感光性エレメント（ｉｉｉ）を積層する工程］実
施例４と同様にして、感光性エレメント（ｉｉｉ）を基
板に積層した。

【０１７０】［（２）活性光線を像的に照射する工程］
次に、ポリエチレンテレフタレートフィルムごと（Ｂ）
埋め込み層を剥離して除き、（Ａ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層上に試験用フォトマスクを密着させ
て、（株）オーク製作所製ＨＭ２−５９０型露光機を使
用し、５００ｍＪ／ｃｍ²で活性光線を像的に照射し
た。

【０１７１】［（３）現像により不要分を除去する工
程］次いで、活性光線の照射後、常温で１時間放置した
後、１重量％炭酸ナトリウム水溶液を用いて、３０℃で
１２０秒間スプレー現像した。

【０１７２】現像後、８０℃で１０分間乾燥し、東芝電
材（株）製東芝紫外線照射装置を使用して、３Ｊ／ｃｍ
²の紫外線照射を行い、更に、１５０℃で１時間、乾燥
器中で加熱した。

【０１７３】［（４）焼成により不要分を除去する工
程］次いで、５００℃で３０分間加熱処理（焼成）を行
い、不必要な樹脂成分を除去し、ＰＤＰバリアリブ基板
の凹部内面に緑蛍光体パターンを形成させた。

【０１７４】得られた緑蛍光体パターンの断面を、実体
顕微鏡及びＳＥＭにより目視にて観察し、緑蛍光体パタ
ーンの形成状況を評価した結果、緑蛍光体がＰＤＰバリ
アリブ基板の凹部内面（バリアリブ壁面及び基板面）上
に均一に形成されていた。

【０１７５】以上の結果から、本発明の積層方法及び積
層装置を用いて蛍光体パターンを製造することにより、
良好な蛍光体パターンを製造することができることがわ
かる。

【０１７６】実施例８ ［３色蛍光体パターンの形成］実施例５における（１）
〜（３）の工程を行って得られた、１色目の赤色に発色
する蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層のパターンが
形成された基板を用いて、実施例６の（１）〜（３）と
同様の工程を行って、２色目の青色に発色する蛍光体を
含有する感光性樹脂組成物層のパターンを形成し、次い
で、実施例７の（１）〜（３）と同様の工程を行って、
３色目の緑色に発色する蛍光体を含有する感光性樹脂組
成物層のパターンを形成して多色のパターンを作製し
た。

【０１７７】次に、得られた多色のパターンを用いて、
実施例５における（４）の工程を行い、多色の蛍光体パ
ターンが形成されたＰＤＰ用背面板を作製した。

【０１７８】得られた多色の蛍光体パターンの断面を、
実体顕微鏡及びＳＥＭにより目視にて観察し、多色の蛍
光体パターンの形成状況を評価した結果、赤、青及び緑
に発色する多色の蛍光体パターンがＰＤＰ用背面板の空
間（バリアリブ壁面及びセル底面上）に均一に形成され
ていることを確認した。

【０１７９】

【発明の効果】本発明の感光性エレメントは、フォトプ
ロセスで現像除去される蛍光体の量を最小限にできる。

【０１８０】本発明の感光性エレメントの製造法によれ
ば、上記の効果を有する感光性得れ面とを作業性よく製
造することができる。

【０１８１】本発明の蛍光体パターンの製造法は、フォ
トプロセスで現像除去する蛍光体の量を最小限にするこ
とができ、ＰＤＰの製造コストを低減するのに好適であ
る。

【０１８２】また、本発明の蛍光体パターンの製造法に
よれば、多色の蛍光体パターンを容易、かつ低コストで
形成することができ、電界放出型ディスプレイ基板等の
プラズマディスプレイパネル等の製造に極めて好適であ
る。

【０１８３】本発明によって形成される蛍光体パターン
は、高精度で均一な形状で、精度の優れたものである。

【０１８４】本発明のプラズマディスプレイパネル用背
面板は、高精度で均一で精度の優れた蛍光体パターンを
備えたものである。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の感光性エレメントの一態様を模式的に
示した部分断面図である。

【図２】バリアリブが形成されたＰＤＰバリアリブ基板
の一例を示す斜視図である。

【図３】バリアリブが形成されたＰＤＰバリアリブ基板
の他の一例を示す斜視図である。

【図４】本発明の感光性エレメントの一例の部分平面図
（ａ）と、格子状バリアリブが形成されたＰＤＰバリア
リブ基板の一例の部分平面図（ｂ）である。

【図５】本発明の感光性エレメントの他の一例の部分平
面図（ａ）と、ストライプ状バリアリブが形成されたＰ
ＤＰバリアリブ基板の一例の部分平面図（ｂ）である。

【図６】本発明の感光性エレメントの一例を示す部分断
面図である。

【図７】本発明の感光性エレメントの製造法の各工程に
一例を示した模式的部分断面図である。

【図８】カバーフィルムが積層された本発明の感光性エ
レメントの一例を示した模式的部分断面図である。

【図９】本発明の蛍光体パターンの製造法の各工程の一
例を示した模式的部分断面図である。

【図１０】蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層からな
る多色パターンを形成したＰＤＰバリアリブ基板を示す
模式的断面図である。

【図１１】多色の蛍光体パターンを形成したＰＤＰバリ
アリブ基板を示す模式的部分断面図である。

【図１２】本発明のプラズマディスプレイパネル用背面
板の一例を模式的に示した部分断面図である。

【符号の説明】

１ 支持体フィルム ２ （Ｂ）埋め込み層 ２′埋め込み層用樹脂層 ３ （Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層 ３ａ 厚層部 ３ｂ 薄層部 ３′ 光硬化後の蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層 ３′ａ １色目のパターン ３′ｂ ２色目のパターン ３′ｃ ３色目のパターン ４ ＰＤＰバリアリブ基板 ５ バリアリブ ６ 格子状放電空間 ７ ストライプ状放電空間 ８ カバーフィルム ９ 圧着ロール １０ フォトマスク １１ 活性光線 １２ 蛍光体パターン １２ａ １色目の蛍光体パターン １２ｂ ２色目の蛍光体パターン １２ｃ ３色目の蛍光体パターン １３ アドレス用電極 １４ 保護膜 １５ 誘電体層 １６ 表示用電極 １７ 全面板用基板

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 野尻 剛 茨城県日立市東町四丁目13番１号 日立化 成工業株式会社茨城研究所内 (72)発明者 佐藤 和也 茨城県日立市東町四丁目13番１号 日立化 成工業株式会社茨城研究所内 (72)発明者 木村 直紀 茨城県日立市東町四丁目13番１号 日立化 成工業株式会社茨城研究所内 (72)発明者 島村 真理子 茨城県日立市東町四丁目13番１号 日立化 成工業株式会社茨城研究所内

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 支持体フィルム上に、（Ｂ）埋め込み層
   を有し、（Ｂ）埋め込み層上に（Ａ）蛍光体を含有する
   感光性樹脂組成物層を有する感光性エレメントであっ
   て、（Ｂ）埋め込み層の（Ａ）蛍光体を含有する感光性
   樹脂組成物層に接する面が、所定の位置に凹部が形成さ
   れた凹凸面であり、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂
   組成物層の（Ｂ）埋め込み層に接する面が（Ｂ）埋め込
   み層の凹凸面に嵌合しており、（Ａ）蛍光体を含有する
   感光性樹脂組成物層の（Ｂ）埋め込み層に接していない
   表面が平滑な面に形成されていることから、（Ａ）蛍光
   体を含有する感光性樹脂組成物層に厚層部と薄層部が形
   成されていることを特徴とする感光性エレメント。
2. 【請求項２】 支持体フィルム上に埋め込み層用樹脂層
   を形成し、埋め込み層用樹脂層の所定の位置に凹部が転
   写されるように凸部が形成された成形鋳型から、（Ｂ）
   埋め込み層の支持体フィルムに接していない面に所定の
   位置に凹部を形成し、（Ｂ）埋め込み層の凹部を有する
   面の上に、表面が平滑になるように（Ａ）蛍光体を含有
   する感光性樹脂組成物層を形成することを特徴とする請
   求項１記載の感光性エレメントの製造方法。
3. 【請求項３】 （Ｉ）凹凸を有するＰＤＰバリアリブ基
   板上に、請求項１記載の感光性エレメントを（Ａ）蛍光
   体を含有する感光性樹脂組成物層の厚層部と、ＰＤＰバ
   リアリブ基板の凹部が対応するように載置し、（Ｂ）埋
   め込み層の上からＰＤＰバリアリブ基板に対して圧力を
   加えて、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層及
   び（Ｂ）埋め込み層を凹凸を有するＰＤＰバリアリブ基
   板上に積層する工程、（ＩＩ）感光性エレメントの支持
   体フィルム及び積層された（Ｂ）埋め込み層を除去する
   工程、（ＩＩＩ）（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組
   成物層に活性光線を像的に照射する工程、（ＩＶ）現像
   により活性光線を像的に照射した（Ａ）蛍光体を含有す
   る感光性樹脂組成物層から不要部を選択的に除去してパ
   ターンを形成する工程及び（Ｖ）前記パターンから焼成
   により不要分を除去して蛍光体パターンを形成する工程
   からなることを特徴とする蛍光体パターンの製造法。
4. 【請求項４】 （Ｉ）〜（ＩＶ）の工程を繰り返して、
   赤、緑及び青に発色する蛍光体を含有する感光性樹脂層
   からなる多色のパターンを形成した後、（Ｖ）の工程を
   行い多色の蛍光体パターンを形成する請求項３記載の蛍
   光体パターンの製造法。
5. 【請求項５】 （Ｉ）〜（Ｖ）の工程を繰り返して、
   赤、緑及び青に発色する多色の蛍光体パターンを形成す
   る請求項３記載の蛍光体パターンの製造法。
6. 【請求項６】 請求項３、４又は５記載の蛍光体パター
   ンの製造法により製造された蛍光体パターン。
7. 【請求項７】 プラズマディスプレイパネル用基板上に
   請求項６記載の蛍光体パターンを備えてなるプラズマデ
   ィスプレイパネル用背面板。