JPS5933540B2 - ErGaMnO↓4で示される六方晶系の層状構造を有する化合物およびその製造法 - Google Patents
ErGaMnO↓4で示される六方晶系の層状構造を有する化合物およびその製造法Info
- Publication number
- JPS5933540B2 JPS5933540B2 JP11833381A JP11833381A JPS5933540B2 JP S5933540 B2 JPS5933540 B2 JP S5933540B2 JP 11833381 A JP11833381 A JP 11833381A JP 11833381 A JP11833381 A JP 11833381A JP S5933540 B2 JPS5933540 B2 JP S5933540B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- layered structure
- ergamno
- structure represented
- hexagonal layered
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims description 15
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 4
- AMWRITDGCCNYAT-UHFFFAOYSA-L hydroxy(oxo)manganese;manganese Chemical compound [Mn].O[Mn]=O.O[Mn]=O AMWRITDGCCNYAT-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 14
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 7
- AJNVQOSZGJRYEI-UHFFFAOYSA-N digallium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Ga+3].[Ga+3] AJNVQOSZGJRYEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims description 5
- ZXGIFJXRQHZCGJ-UHFFFAOYSA-N erbium(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Er+3].[Er+3] ZXGIFJXRQHZCGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 5
- VQCBHWLJZDBHOS-UHFFFAOYSA-N erbium(III) oxide Inorganic materials O=[Er]O[Er]=O VQCBHWLJZDBHOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 5
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 5
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910001195 gallium oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 4
- -1 iron ions Chemical class 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 description 2
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 2
- UYAHIZSMUZPPFV-UHFFFAOYSA-N erbium Chemical compound [Er] UYAHIZSMUZPPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002932 luster Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000004570 mortar (masonry) Substances 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 238000000634 powder X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000036632 reaction speed Effects 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
- Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規化合物であるErGaMnO4で示される
六方晶系の層状構造を有する化合物およびその製造法に
関する。
六方晶系の層状構造を有する化合物およびその製造法に
関する。
従来、YFe2O4で示される六方晶系の層状構造を有
する化合物は知られる。
する化合物は知られる。
この化合物はY3+Fe2+Fe3+川一で示されるよ
うに、鉄の2価イオンと3価イオンは5配位の酸素イオ
ンに囲まれ、Yは6配位の酸素イオンをその周りに持つ
ている化合物であり、磁性を持つている。本発明は前記
Y3+Fe゛+Fe゜+OH−の化合物のY3+の代り
にEr3+、Fe2+の代りにMn2+を、Fe3+の
代わりにGa3+を置きかえた新規な化合物およびその
製造法を提供するにある。本発明のErGaMn04で
示される化合物は、この化合物中、エルビウムはEr3
+イオン、マンガンはMn2+、ガリウムは3価イオン
として存在しており、Er3+Ga3+Mn2+OH−
として表わすことができる。この結晶は第1図に示すよ
うな六方晶層状構造を持つている。最大の丸は酸素、中
丸はエルビウム、最小の黒丸はガリウムとマンガンを示
す。GaとMnはランダムに入つている。マンガンの2
価イオンとGaの3価イオンは5配位の酸素イオンによ
つて囲まれ、結晶学的には同一の位置を占めている。ま
たErは6配位の酸素をその周りに持つている。陰イオ
ンである酸素は緻密構造をとつている。この結晶の面指
数(hkl)、面間隔(d入)(doは実測、dcは計
算値を示す)、X線に対する相対反射強度(I%)は第
1表の通りである。
うに、鉄の2価イオンと3価イオンは5配位の酸素イオ
ンに囲まれ、Yは6配位の酸素イオンをその周りに持つ
ている化合物であり、磁性を持つている。本発明は前記
Y3+Fe゛+Fe゜+OH−の化合物のY3+の代り
にEr3+、Fe2+の代りにMn2+を、Fe3+の
代わりにGa3+を置きかえた新規な化合物およびその
製造法を提供するにある。本発明のErGaMn04で
示される化合物は、この化合物中、エルビウムはEr3
+イオン、マンガンはMn2+、ガリウムは3価イオン
として存在しており、Er3+Ga3+Mn2+OH−
として表わすことができる。この結晶は第1図に示すよ
うな六方晶層状構造を持つている。最大の丸は酸素、中
丸はエルビウム、最小の黒丸はガリウムとマンガンを示
す。GaとMnはランダムに入つている。マンガンの2
価イオンとGaの3価イオンは5配位の酸素イオンによ
つて囲まれ、結晶学的には同一の位置を占めている。ま
たErは6配位の酸素をその周りに持つている。陰イオ
ンである酸素は緻密構造をとつている。この結晶の面指
数(hkl)、面間隔(d入)(doは実測、dcは計
算値を示す)、X線に対する相対反射強度(I%)は第
1表の通りである。
そして空間群はR「mで、その晶癖は板状晶で、格子定
数は次の通りである。a0=13.4737±O、00
02(λ)c0=25.298±O、oo5(λ)第1
表ErGaMn04 この化合物は触媒材料ならびに半導体材料として有用な
ものである。
数は次の通りである。a0=13.4737±O、00
02(λ)c0=25.298±O、oo5(λ)第1
表ErGaMn04 この化合物は触媒材料ならびに半導体材料として有用な
ものである。
この化合物は次の方法によつて製造し得られる。
エルビウム酸化物(Er2O3)、マンガン酸化物(M
nO)および酸化ガリウム(Ga2O3)を、モル比で
約1対2対1の割合で混合し、該混合物を非酸化性雰囲
気下で1000℃以上の温度で加熱することによつて製
造することができる。本発明に用いるエルビウム酸化物
は市販のものをそのまま使用してもよいが、酸化物相互
の反応を速やかに進行させるためには、粒径が小さい程
よく、特に10μm以下であることが好ましい。
nO)および酸化ガリウム(Ga2O3)を、モル比で
約1対2対1の割合で混合し、該混合物を非酸化性雰囲
気下で1000℃以上の温度で加熱することによつて製
造することができる。本発明に用いるエルビウム酸化物
は市販のものをそのまま使用してもよいが、酸化物相互
の反応を速やかに進行させるためには、粒径が小さい程
よく、特に10μm以下であることが好ましい。
また、半導体材料として用いる場合は不純物の混入をき
らうので、原料は純度が高く、また、約1000℃で数
時間空気中で仮焼したものが望ましい。酸化マンガンは
通常の試薬特級程度のものでよい。
らうので、原料は純度が高く、また、約1000℃で数
時間空気中で仮焼したものが望ましい。酸化マンガンは
通常の試薬特級程度のものでよい。
粒径は前記、エルビウム酸化物と同様な理由で10μm
以下であることが好ましい。また、1000℃で1日間
炭酸ガスと水素の混合ガス(混合比容量で1対1)中で
仮焼し、O℃に急冷させたものが反応が早くなるので好
ましい。酸化ガリウムは試薬特級程度のものでよい。そ
の粒径は前記と同様に10μm以下であることが好まし
い。また800℃で1日間空気中で仮焼したものが好ま
しい。これらの原料をそのまま、あるいはアルコール類
、アセトン等を入れ十分混合する。こ紅らの混合割合は
Er2O:3、MnO.Ga2O3をモル比で1対2対
1の割合である。この割合をはずれると目的とする層状
化合物を得ることができない。これらの混合物を石英ま
たは白金の容器に封入して非酸化性雰囲気下で加熱する
。
以下であることが好ましい。また、1000℃で1日間
炭酸ガスと水素の混合ガス(混合比容量で1対1)中で
仮焼し、O℃に急冷させたものが反応が早くなるので好
ましい。酸化ガリウムは試薬特級程度のものでよい。そ
の粒径は前記と同様に10μm以下であることが好まし
い。また800℃で1日間空気中で仮焼したものが好ま
しい。これらの原料をそのまま、あるいはアルコール類
、アセトン等を入れ十分混合する。こ紅らの混合割合は
Er2O:3、MnO.Ga2O3をモル比で1対2対
1の割合である。この割合をはずれると目的とする層状
化合物を得ることができない。これらの混合物を石英ま
たは白金の容器に封入して非酸化性雰囲気下で加熱する
。
そればマンガンが2価の状態であるので、酸化性雰囲気
(例えば大気中)下ではマンガンが酸化されて3価にな
つてしまうので、非酸化性雰囲気下であることが必要で
ある。加熱温度は1000℃以上であればよく、また加
熱時間は10分以上、好ましくは1時間以上である。加
熱の際の昇温速度は制約はない。反応終了後はO℃に急
冷するかあるいは大気中に急激に引出せばよい。得られ
たErGaMnO4化合物は黒色金属光沢を有し、粉末
X線回折法によつて結晶構造を有することが分つた。
(例えば大気中)下ではマンガンが酸化されて3価にな
つてしまうので、非酸化性雰囲気下であることが必要で
ある。加熱温度は1000℃以上であればよく、また加
熱時間は10分以上、好ましくは1時間以上である。加
熱の際の昇温速度は制約はない。反応終了後はO℃に急
冷するかあるいは大気中に急激に引出せばよい。得られ
たErGaMnO4化合物は黒色金属光沢を有し、粉末
X線回折法によつて結晶構造を有することが分つた。
試料重量を反応の前後で精密に秤量し、得られた化合物
の化学量論数を決定した。実施例純度99,9%以上の
エルビウム酸化物 (Er2O3)粉末、純度99.9%以上の酸化マンガ
ン(MnO)、純度99.9%以上のガリウム酸化物(
Ga2O3)粉末をモル比で1対2対1の割合に秤量し
、乳鉢内でアセトンを加えて十分に混合して平均粒径数
μmの微粉末混合物を得た。
の化学量論数を決定した。実施例純度99,9%以上の
エルビウム酸化物 (Er2O3)粉末、純度99.9%以上の酸化マンガ
ン(MnO)、純度99.9%以上のガリウム酸化物(
Ga2O3)粉末をモル比で1対2対1の割合に秤量し
、乳鉢内でアセトンを加えて十分に混合して平均粒径数
μmの微粉末混合物を得た。
該混合物を白金管(内径8mm)内に入れて溶封した。
これを1300℃に設定された箱型のシリコニツト炉内
に入れ、約3日間加熱し、その後試料を取出し、室温ま
で急速に冷却した。得られたものはErGaMnO4の
六方晶系の層状化合物であつた。その結晶の性状は第1
表に示す通りであつた。
これを1300℃に設定された箱型のシリコニツト炉内
に入れ、約3日間加熱し、その後試料を取出し、室温ま
で急速に冷却した。得られたものはErGaMnO4の
六方晶系の層状化合物であつた。その結晶の性状は第1
表に示す通りであつた。
図面は本発明のErGaMnO4の結晶の図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 ErGaMnO_4で示される六方晶系の層状構造
を有する化合物。 2 エルビウム酸化物(Er_2O_3)、マンガン酸
化物(MnO)および酸化ガリウム(Ga_2O_3)
を、モル比で約1対2対1の割合で混合し、この混合物
を非酸化性雰囲気下で1000℃以上の温度で加熱する
ことを特徴とするErGaMnO_4で示される六方晶
系の層状構造を有する化合物の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11833381A JPS5933540B2 (ja) | 1981-07-28 | 1981-07-28 | ErGaMnO↓4で示される六方晶系の層状構造を有する化合物およびその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11833381A JPS5933540B2 (ja) | 1981-07-28 | 1981-07-28 | ErGaMnO↓4で示される六方晶系の層状構造を有する化合物およびその製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5820726A JPS5820726A (ja) | 1983-02-07 |
| JPS5933540B2 true JPS5933540B2 (ja) | 1984-08-16 |
Family
ID=14734060
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11833381A Expired JPS5933540B2 (ja) | 1981-07-28 | 1981-07-28 | ErGaMnO↓4で示される六方晶系の層状構造を有する化合物およびその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5933540B2 (ja) |
-
1981
- 1981-07-28 JP JP11833381A patent/JPS5933540B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5820726A (ja) | 1983-02-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS5934656B2 (ja) | YbAlMnO↓4で示される六方晶系の層状構造を有する化合物およびその製造法 | |
| JPS5933539B2 (ja) | LuAlMnO↓4で示される六方晶系の層状構造を有する化合物およびその製造法 | |
| JPS5933541B2 (ja) | HoGaMnO↓4で示される六方晶系の層状構造を有する化合物およびその製造法 | |
| JPS5943412B2 (ja) | LuFeMnO↓4で示される六方晶系の層状構造を有する化合物およびその製造法 | |
| JPS5933542B2 (ja) | YGaMnO↓4で示される六方晶系の層状構造を有する化合物およびその製造法 | |
| JPS5933536B2 (ja) | LuGaMnO↓4で示される六方晶系の層状構造を有する化合物およびその製造法 | |
| JPS5943424B2 (ja) | TmFeCuO↓4で示される六方晶系の層状構造を有する化合物およびその製造法 | |
| JPS5933537B2 (ja) | TmGaMnO↓4で示される六方晶系の層状構造を有する化合物およびその製造法 | |
| JPS5943413B2 (ja) | TmFeMnO↓4で示される六方晶系の層状構造を有する化合物およびその製造法 | |
| JPS5933535B2 (ja) | YbGaMnO↓4で示される六方晶系の層状構造を有する化合物およびその製造法 | |
| JPS5943410B2 (ja) | ErFeMnO↓4で示される六方晶系の層状構造を有する化合物およびその製造法 | |
| JPS5943409B2 (ja) | YFeMnO↓4で示される六方晶系の層状構造を有する化合物およびその製造法 | |
| JPS5933538B2 (ja) | TmAlMnO↓4で示される六方晶糸の層状構造を有する化合物およびその製造法 | |
| JPS5943416B2 (ja) | YbFeZnO↓4で示される六方晶系の層状構造を有する化合物およびその製造法 | |
| JPS5943411B2 (ja) | YbFeMnO↓4で示される六方晶系の層状構造を有する化合物およびその製造法 | |
| JPS6045130B2 (ja) | 4NiO・6Fe↓2O↓3・9GeO↓2(Ni↓4Fe↓1↓2Ge↓9O↓4↓0)で示される単斜晶系に属する化合物およびその製造法 | |
| JPS5943420B2 (ja) | YbFeMgO↓4で示される六方晶系の層状構造を有する化合物およびその製造法 | |
| JPS6041622B2 (ja) | LuGaCoO↓4で示される六方晶系の層状構造を有する化合物およびその製造法 | |
| JPS5820726A (ja) | ErGaMnO↓4で示される六方晶系の層状構造を有する化合物およびその製造法 | |
| JPS6041618B2 (ja) | YbFeCoO↓4で示される六方晶系の層状構造を有する化合物およびその製造法 | |
| JPS6041620B2 (ja) | YbGaCoO↓4で示される六方晶系の層状構造を有する化合物およびその製造法 | |
| JPS606891B2 (ja) | TmGaCuO↓4で示される六方晶系の層状構造を有する化合物およびその製造法 | |
| JPH0513093B2 (ja) | ||
| JPS606890B2 (ja) | LuGaMgO↓4で示される六方晶系の層状構造を有する化合物およびその製造法 | |
| JPS606893B2 (ja) | LuGaCuO↓4で示される六方晶系の層状構造を有する化合物およびその製造法 |