JPS5955794A - 光記録媒体 - Google Patents

光記録媒体

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JPS5955794A
JPS5955794A JP57166832A JP16683282A JPS5955794A JP S5955794 A JPS5955794 A JP S5955794A JP 57166832 A JP57166832 A JP 57166832A JP 16683282 A JP16683282 A JP 16683282A JP S5955794 A JPS5955794 A JP S5955794A
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ring
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憲良 南波
Shigeru Asami
浅見　茂
Akihiko Kuroiwa
黒岩　顕彦
Shiro Nakagawa
士郎 中川
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ■　発明の背景 技術分野 本発明は、光記録媒体、特にヒートモードの光記録媒体
に関する。
先行技術 光記録媒体は、媒体と書き込みないし読み出しヘッドが
非接触であるので、記録媒体が摩耗劣化しないという特
徴をもち、このため、種々の光記録媒体の開発研究が行
われている。
このような光記録媒体のうち、暗室による画像処理が不
要である等の点で、ヒートモード光記録媒体の開発が活
発になっている。
このヒートモードの光記録媒体は、記録光を熱として利
用する光記録媒体であり、その１例として、レーザー等
の記録光で媒体の一部を融解、除去等して、ピットと称
される小穴を形成して書き込みを行い、このピットによ
り情報を記録し、このピットを読み出し光で検出して読
み出しを行うものがある。
そして、このようなビット形成型の媒体の１例として、
基体上に、光吸収色素からなる記録層を設層して、色素
を融解してピットを形成するものや、ニトロセルロース
等の自己酸化性化合物と光吸収色素とを含む記録層を設
層し、ニトロセルロース等を分解させてピットを形成す
るものや、熱可塑性樹脂と光吸収色素とからなる記録層
を門設し、樹脂および色素を融解してピットを形成する
ものなどが知られている。
ところで、光吸収色素の１つとして、カルボシアニン色
素が知られている。
しかし、カルボシアニン色素を用いるときには、光に対
する媒体の生保存性と記録後の記録保存性が悪く、光の
存在下で保存すると書き込み不能とたったり、Ｓ／Ｎ比
が劣化したりして、実用に耐えない。　特に、記録層の
層厚が０，２μ情程度以下にまでうずくなると、このよ
うな不都合はきわめて顕著である。
ところで、一般に光による劣化は紫外域の光によるもの
と考えられ、耐光性を改良するためには、記録層などに
、紫外線吸収剤を含有させることが考えられる。　しか
し、カルボシアニン色素を含む記録層に紫外線吸収剤を
含有させても、耐光性はさして向上しないことが確認さ
れた。
そこで、本発明者らは、耐光性の波長依存を調べてみた
ところ、カルボシアニン色素を含む記録層の保存性を悪
いものとしているのは、特に、赤色ないし近赤外領域の
波長光であることが判明した。
なお、上記のような事情から、カルボシアニン色素を用
いた媒体では、赤色〜近赤外領域の読み出し光を用いた
ときの再生劣化も大きく、読み出し光のくりかえし照射
によって読み出しのＳ／Ｎ比が劣化す゛る。
■　発明の目的 本発明は、このような実状に鑑みなされたものであって
、その主たる目的は、赤色ないし近赤外領域の光に対す
る保存性と再生劣化とが改良されたカルボシアニン色素
を含む記録層を有する光記録媒体を提供することにある
。
本発明者らは、とのよ５な目的につき種々検討を行い、
保存性の悪化と再生劣化の増大とは、赤色ないし近赤外
光によって励起したカルボシアニン色素が、基底状態酸
素にエネルギーを移動することによって生成する一重項
酸素によってカルボシアニン色素が酸化劣化するのでは
ないかとの着想を得た。
そこで、本発明者らは、−重環酸素クエンチャーを記録
層に含有させたところ、保存性と再生劣化とが格段と向
上することを見出し、本発明をなすに到った。
すなわち、本発明は、基体上に、カルボシアニン色素と
、−重環酸素クエンチャーとを含む記録層を有すること
を特徴とする光記録媒体である。
また第２の発明は、 基体上に、カルボシアニン色素と、−重環酸素クエンチ
ャーと自己酸化性化合物または熱可塑性樹脂とを含む記
録層を有することを特徴とする光記録媒体である。
■　発明の具体的構成 以下、本発明の具体的構成を詳細に説明する。
本発明における光吸収色素は、カルボシアニン色素であ
る。
カルボシアニン色素としては、種々のものであってよい
が、特に、本発明の効果がより高いものとなるのは、下
記式〔工〕で示される化合物である場合である。
式（Ｉ） Φ−Ｌ＝Ｗ　　　（Ｘ−）ｍ 上記式〔ＩＩにおいて、ΦおよびＶは、それぞれ、ベン
ゼン環またはナフタレ／環が縮合してよもいチアゾール
環、オキサゾール環、セレナゾール環、イミダゾール環
またはピリジン環の残基をあられす。
この場合、ΦおよびＷは、Φがこれら各環のＮ原子に十
電荷を有し、１ＯＮ原子が中性であるものである。　そ
して、それぞれは互いに同一でも、異なっていてもよく
、種々の置換基が結合していてよい。
これらのうちでは、ΦおよびＷは同一であることが好ま
しく、特に、下記式（ｎ）〜Ｃｘ＋ｔ）］であることが
好ましい。　なお、下記においては、Φの形で表示する
。
〔ｌ） Ｒ□ （ｆｉｔ） Ｋ工 ［ＩＶ） Ｒ工 〔７〕（Ｒ′）。
〔■〕
〔■〕 〔■〕 Ｒ工 〔■〕 （１尤’）ｗ　　　　Ｈ工 凡□ 上記において、Ｒ工およびＲ２は、それぞれ、置換また
は非置換のアルキル基またはアリ、−々基をあられす。
　この場合、アルキル基の炭素原子数は、１〜５である
ことが好ましく、また好ましい置換基としては、スルホ
ン酸基、アルキルカルボキシオキシ基、アルキルアミド
基、アルキルオキシ基、水酸基等をあげることができる
。　なお、後述のｍが０であるときには、ΦのＲ工は一
電荷をもつ。
また、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ’　、　Ｒ６
′、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９およびＲ１０は、それぞれ、置換
基をあられすが、アルキル基、アリール基、複素環残基
、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキルチオ基、アル
キルヒドロキシカルボニル基、カルボン酸基等であるこ
とが好ましい。　そして、ｐ、ｑｌ　ｒ、Ｓ、ｔｌ　ｕ
、ｕ′、ｖ１ｗ％ｘ、ｙおよび２は、それぞれ、０また
は１以上の整数であるが、通常０〜４程度である。
他方、Ｌは、モノ、ジ、トリまたはテトラカルボシアニ
ン色素を形成するための連結基を表わすが、特に式〔Ｘ
Ｍ〕〜〔藷〕のいずれかであることが好ましい。
式（ｘｎｔ） ＣＨ，＝ＣＨ−Ｃｌ−１＝ＣＨ−Ｃ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ
−ＣＨ式１３）　　ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ，＝Ｃ−ＣＨ−Ｃ
Ｈ−ＣＨ■ 式〔■）　　ＣＨ＝　ＣＨ−Ｃ＝　ＣＨ−ＣＨ式［ＸＫ
　］　　］ＣＨ−Ｃ＝ＣＨ−ＣＨ 暑 ここに、Ｙは、水素原子または１価の基を表わす。　こ
の場合、】価の基としては、メチル基等の低級アルキル
基、メトキシ基等の低級アルコキシ基、ジメチルアミノ
基、ジフェニルアミノ基、メチルフェニルアミノ基、モ
ルホリノ基、イミダゾリジン基、エトキシカルボニルピ
ペラジン基などのジ置換アミン基、アセトキシ基等のア
ルキルカルボニルオキシ基、メチルチオ基等のアルキル
チオ基、シアノ基、ニトロ基、Ｂｒ、Ｃ１等の７１０ゲ
ン原子などであることが好ましい。
なお、これら式〔■〕〜〔Ｘ［Ｘ〕の中では、トリカル
ボシアニン連結基、特に式（ＸＩＶ）〜〔■〕か好まし
い。
さらに、Ｘ−は陰イオンであり、その好ましい例として
は、■−５Ｂｒ−１ＣｔＯ”：、ＢＰ、−１なお、ｍは
Ｏまたは１であるが、ｍが０であるときには、通常、Φ
のＲ工が一電荷をもち、分子内塩となる。
次Ｋ、本発明の光吸収色素の具体例を挙げるが、本発明
はこれにより限定されるものではない。
色素層　　　Φ、　Ｆ　　　　Ｒ，、Ｒ２Ｒ１〜ＲＩＯ
ＤＩ　　　　　　　　　　　　　　　　ＣＩ［）　　　
　　　　　　　　　　　　　Ｃ２Ｈ，４−ＣＨＤ２　　
　　　　　　　　　　　　　　　（Ｉ［）　　　　　　
　　　　　　　　　　　　ＣＨ３４−ＣＨＤ３　　　　
　　　［ＬＩＩ’：ｌ　　　　　　　Ｃ，Ｈ，−Ｄ４　
　　　　　　［１１Ｄ　　　　　　　Ｃ２Ｈ３５−Ｃｔ
Ｄ５　　　　　　〔■〕　　　　　　ＣＱＨ５５−ＯＣ
ＨＤ７　　　　　　　（Ｉｌ［）　　　　　　　Ｃ２Ｈ
６−Ｄ８　　　　　　　（ｎＤ　　　　　　　ＣａＩ２
　　　　　　−Ｄ９　　　　　　　（１：］　　　　　
　　Ｃ２Ｈ６−ＤＩＯ（ＩＴ　）　　　　　　　Ｃ２Ｈ
，−Ｌ　　　　　　　　　　Ｙ　　　　　　　　　　　
Ｘ（：ＸＩＶ）　　　　　　　　ＨＩ ［ｘ■）　　　　　　　　ＨＩ 〔Ｘ■〕　　　　　　　ＨＣ６Ｏ 〔Ｘｖ）Ｎ（Ｃ６Ｈ５）２ＣＬＯ Ｃｘｗ）　　　　　　　　ＨＩ 〔Ｘ■〕Ｈ■ 〔Ｘ■〕　　　　　　　　　　　　　　　　■（ｘ■）
　　　　　　　　ＨＩ ［：ｘｍ）　　　　　　　　ＨＣａ （ＸＩＶ：］　　　　　　　ＣＨ３Ｉ Ｄ１ｌ　　　　　　（ＩＩＩ：）　　　　　　Ｃ２Ｈ５
−ＤＩ２　　　　　　（［）　　　　　　Ｃ２Ｈ３−Ｄ
Ｉ３　　　　　　［１［［］　　　　　　］０２Ｈ６−
Ｄ１４　　　　　（■：］　　　　（ＣＨ２）３０ＣＯ
ＣＨ３−Ｄｌｓ　　　　　　Ｃｒｖ　）　　　　　ＣＨ
２ＣＨ２０Ｈ５−ＣｔＤ１６〔ｖ〕ＣＱＨ６− ＤＩ　７　　　　　　ＣＷ　）　　　　　　”２Ｈ５−
ＤＩ８〔■〕Ｃ２Ｈ３− ＤＩ９　　　　　　（Ｗ）　　　”　　Ｃ２Ｈ６−Ｄ２
０　　　　　〔■：］　　　　　　Ｃ２Ｈ５−５０９− ［：ＸＶＩＩ］　　　　　　　　ＨＩ 〔Ｘ品）　　　　　　　　Ｈ工 （ＸＩ）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　Ｉ
（ＸＶ）　　　　Ｎ（Ｃ６Ｈ５）２Ｃ／＝Ｏ。
〔窟）　　　　　　ＨＣ６Ｏ。
（ＸＩＶ）　　　　　　ＨＣ１Ｏ。
〔■）　　　　　　　　Ｈｒ ［ＸＶ：ｌ　　　　０ＣＯＯＣ２Ｈ，ＣｔＤ〔ＸＶ）　
　　　　　０ＣＨ５Ｉ ［ＸＩＶ）　　　　　　　　　ＨＩ （１ Ｄ２１　　　　　　　　　　　　　　　〔■）　　　　
　　　　　　　　ＣＨ２ＣＨ２０Ｈ−Ｄ２２　　　　　
　　　　　　　　　　（、Ｋ）　　　　　　　　　　　
　　　　ＣＱＨ５−Ｄ２３　　　　　　　［Ｋ　）　　
　　　（ＣＨ２）３０ＣＯＣＨ３−Ｄ２４　　　　　　
　（Ｘ　）　　　　　　　Ｃ２Ｈ５−Ｄ２５　　　　　
　　（Ｘ：］　　　　　ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２５ｏ３Ｈ−
Ｄ２６　　　　　　　（Ｘ　）　　　　　　Ｃ２Ｈ６−
Ｄ２７　　　　　　　（Ｍ）　　　’　　　　”１ｌＨ
５−Ｄ２８　　　　　　〔淵）　　　　　　　Ｃ２Ｈ６
−〔Ｖ″ｌ　　　　　　　　Ｈ，Ｃ傾。
ＣＩＴＶ　）　　　　　　　　　ＨＩ 〔Ｘ■〕０ＣＯＯＣ２Ｈ５Ｃ６Ｏ４ 〔Ｘ■〕　　　　　　　　ＨＩ 〔πｒ’３　　　　　　Ｎ（Ｃ，Ｈ，）　、ｃｏｏ。
（ＸＶ）　　　　　Ｎ（Ｃ６Ｈｌ、）２Ｉ瞳）　　　　
　　　　　ＨＣｔＯ 番 〔正）　　　　　　　　ＨＣｔＤ　。
このようなカルボシアニン色素は、レーザー研究８（４
）色素レーザー用有機化合物総覧、大有機化学（朝食書
店）含窒素複素環化合物ＩＰ４３２等に記載されており
、公知の方法によって合成することができる。
このような色素は、単独で記録層を構成する。　あるい
は、記録層中に、自己酸化性化合物または熱可塑性樹脂
とともに含有される。
後者では、色素単独で記録層を形成するときと比較して
、層中での結晶化がおさえられて、膜物性が良好となる
。　　　□ 記録層に含有される自己酸化性化合物は、昇温したとき
、酸化的な分解を生じるものである。
このような自己酸化性化合物の例としては、特願昭５５
−９９２０２号に記載したようなものを挙げることがで
きるが、これらのうち、％にニトロセルロースが好適で
ある。
また、自己酸化性化合物にかえて、あるいは、場合によ
っては、これに加えて含有される熱可塑性樹脂は、記録
光を吸収した光吸収体の昇温により、軟化するものであ
り、熱可塑性樹脂としては、公知の種々のものを用いる
ことができる。
これらのうち、特に好適に用いることができる熱可塑性
樹脂には、以下のようなものがある。
Ｉ）ポリオレフィン ポリエチレン、ポリプロビレ／、ポリ４−メチルベ／テ
ン−１など。
ｔｉ）ポリオレフィン共重合体 例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−ア
クリレート共重合体、エチレン−アクリル酸共重合体、
エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−ブチ／−１
共重合体、エチレン−無水マレイン酸共重合体、エテレ
／プロピレンターポリマー（ＥＰＴ）など。
この場合、コモノマーの重合比は任意のものとすること
ができる。
ｉ）塩化ビニル共重合体 例えば、酢酸ビニル−塩化ビニル共重合体、塩化ビニル
−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−無水マレイン
酸共重合体、アクリル酸エステルないしメタアクリル酸
エステルと塩化ビニルとの共重合体、アクリルニトリル
−塩化ビニル共重合体、塩化ビニルエーテル共重合体、
エチレンないしプロビレ／−塩化ビニル共重合体、エチ
レン−酢酸ビニル共重合体に塩化ビニルをグラフト重合
したものなど。
この場合、共重合比は任意のものとすることができる。
ｉｖ）塩化ビニリデン共重合体 塩化ビニリゾ／−塩化ビニル共重合体、塩化ビニリデン
−塩化ビニル−アクリルニトリル共重合体、塩化ビニリ
ゾ／−ブタジェン−ハロゲン化ビニル共重合体など。
この場合、共重合比は、任意のものとすることができる
。
■）ポリスチレン ｖｉ）スチレン共重合体 例えば、スチレン−アクリルニトリル共重合体（ＡＳ樹
脂）、スチレン−アクリルニトリル−ブタジェン共重合
体（ＡＢＳ樹脂）、スチレン−無水マレイン酸共重合体
（ＳＭＡＮ脂）、スチレ／−アクリルエステル−アクリ
ルアミド共重合体、スチレ／−ブタジェン共重合体（５
ＢＲ）、スチレン−塩化ビニリデン共重合体、スチレン
−メチルメタアクリレート共重合体など。
この場合、共重合比は任意のものとすることができる。
ｖｉ）スチレン型重合体 例えば、ｐ−メチルスチレン、２，５−ジクロルスチレ
ン、α、β−ビニルナフタレン、α−ビニルピリジン、
アセナフテン、ビニルアントラセンなど、あるいはこれ
らの共重合体。
ｖｉｉ）クマロ／−インデン樹脂 クロマン−インデン−ステレ／の共重合体。
ｔｘ）テルペン樹脂ないしピコライト 例えば、α−ピネンから得られるリモネンの重合体であ
るテルペン樹脂やβ−ピネンから得られるピコライト。
Ｘ）アクリル樹脂 特に下記式で示される原子団を含むものが好ましい。
式　　　　　　　Ｒ□。
］ 一〇〇−Ｃ− Ｃ−０ａ２゜ １ 上記式において、Ｒ□。は、水素原子またはアルキル基
を表わし、Ｒ２ｏは、置換または非置換のアルキル基を
表わす。　この場合、上記式において、Ｒよ。は、水素
原子または炭素原子数１〜４の低級アルキル基、％に水
素原子またはメチル基であることが好ましい。　また、
Ｒ２ｏは、置換、非置換いずれのアルキル基であっても
よいが、アルキル基の炭素原子数は１〜４であることが
好ましく、またＲ２ｏが置換アルキル基であるときには
、アルキル基を置換する置換基は、水酸基、ハロゲン原
子またはアミノ基（特にジアルキルアミノ基）であるこ
とが好ましい。
このような上記式で示される原子団は、他のくりかえし
原子団とともに、共重合体を形成して各種アクリル樹脂
を構成してもよいが、通常は、上記式で示される原子団
の１種または２種以上をくりかえし単位とする単独重合
体または共重合体を形成してアクリル樹脂を構成するこ
とになる。
ｘｉ）ポリアクリルニトリル ｘｉ）アクリルニトリル共重合体 例えば、アクリルニトリル−酢酸ビニル共重合体、アク
リルニトリル−塩化ビニル共重合体、アクリルニトリル
−スチレン共重合体、アクリルニトリル−塩化ビニリデ
ン共重合体、アクリルニトリル−ビニルピリジン共重合
体、アクリルニトリル−メタクリル酸メチル共重合体、
アクリルニトリル−ブタジェン共重合体、アクリルニト
リル−アクリル酸ブチル共重合体など。
この場合、共重合比は任意のものとすることができる。
ｘｆＩ）ダイア七ト／アクリルアミドポリマーアクリル
ニトリルにアセト／を作用させたダイア七トンアクリル
アミドポリマー。
ｘｔｖ）ポリ酢酸ビニル Ｗ）酢酸ビニル共重合体 例エバ、アクリル酸エステル、ビニルエーテル、エチレ
ン、塩化ビニル等との共重合体など。
共重合比は任意のものであってよい。
Ｘ！Ａ）ポリビニルエーテル 例えば、ポリビニルメチルエーテル、ポリビニルエチル
エーテル、ポリビニルブチルエーテルなど。
新）ポリアミド この場合、ポリアミドとしては、ナイロン６、ナイロン
６６、ナイロン６１０、ナイロン６１２、ナイロン９、
ナイロ／１１、ナイロン１２、ナイロン１３等の通常の
ホモナイロンの他、ナイロン６／６６／６１０、ナイロ
ン６／６６／１２、ナイロ／６／６６／１１等の共重合
体や、場合によっては変性ナイロンであってもよい。
ｉ）ポリエステル 例えば、シュウ酸、コノ＼り酸、マレイン酸、アジピン
酸、セバステン酸等の脂肪族二塩基酸、あるいはイソフ
タル酸、テレフタル酸などの芳香族二塩基酸などの各種
二塩基酸と、エチレングリコール、テトラメチレングリ
コール、ヘキサメチレングリコール等のグリコール類と
の縮合物や、共縮合物が好適である。　そして、これら
のうちでは、特に脂肪族二塩基酸とグリコール類との縮
合物や、グリコール類と脂肪族二塩基酸との共縮合物は
、特に好適である。
さらに、例えば無水フタル酸とグリセリンとの縮合物で
あるグリプタル樹脂を、脂肪酸、天然樹脂等でエステル
化変性した変性グリブタル樹脂等も好適に使用される。
ｘｉｘ）ポリビニルアセタール系樹脂 ポリビニルアルコールを、アセタール化して得られるポ
リビニルホルマール、ポリビニルアセタール系樹脂はい
ずれも好適に使用される。
この場合、ポリビニルアセタール系樹脂のアセタール化
度は、任意のものとすることができる。
ｘｘ）ポリウレタン樹脂 ウレタン結合をもつ熱可塑性ポリウレタン樹脂 特に、グリコール類と、ジイソシアネート類との縮合に
よって得られるポリウレタン樹脂、就中アルキレ／グリ
コールとアルキレンジイソシアネートとの縮合によって
得られるポリウレタン樹脂が好適である。
ｘｘｉ）ポリエーテル スチレンホルマリン樹脂、環状アセタールの開環重合物
、ポリエチレンオキサイドおよびグリコール、ポリプロ
ピレンオキサイドおよびグリコール、プロピレンオキサ
イド−エチレンオキサイド共重合体、ポリフェニン／オ
キサイドなど。
）ｏｃｉ）セル四−ス誘導体 有機酸エステル、エーテルないしこれらの混合体。
癌０ポリカーボネート 例えば、ポリジオキシジフェニルメタンカーボネート、
ポリジオキシジフェニルエタンカーボネート、ジオキシ
ジフェニルプロパンカーボネート等の各種ポリカーボネ
ート。
逼り上記ｉ）〜）ｏｔｈＩ）の２種以上のブレンド体、
またはその他の熱可塑性樹脂とのブレンド体。
なお、自己酸化性化合物および熱可塑性樹脂の分子量等
は種々のものであってよい。
このような自己酸化性化合物または熱可塑性樹脂と、前
記の色素とは、通常、重量比で１対０．１〜１００の広
範な量比にて設層される。
さらには、記録層には、−重環酸素クエンチャーが含有
される。
一重環酸素クエンチャーとしては、種々のものを用いる
ことができるが、特に、安定性や耐光性の向上が大きい
こと、長波長の書き込みレーザー光の吸収が増大するこ
と、さらには再生劣化が減少すること、そして、色素と
の相溶性が良好であることなどから、遷移金属キレート
化合物であることが好ましい。
この場合、中心金属としては、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｃｕ、庵等
が好ましく、特に、下記の化合物が好適である。
なお、遷移金属キレート化合物としては、７００〜８５
０　ｎｍに吸収をもつもの、特にそのうち、７００〜８
５０　ｎｍに極大吸収波長をもつものであることが好ま
しい。
１）アセチルアセトナートキレート系 ＱＩ　Ｎ１（ｕ）アセチルアセトナートＱ２　Ｃｕ（Ｉ
［）アセチルアセトナートＱａ　Ｍｎ（ｌ［）アセチル
アセトナートＱ４　Ｃｏ（ｎ）アセチルアセトナート２
）ビスジテオ−α−ジケトン系 ここに、鯉）〜ａ４）は、アルキル基またはアリール基
を表わし、Ｍは２価の遷移金属原子を表わす。
Ｑ５　Ｎ１（ｉ）ジチオベンジル Ｑｅ　Ｎｉ（１）ジテオビアセチル Ｂ ３）　　ヒ、ｘ、フェニルジチオール系ここに　Ｒ（５
１およびα６）は、メチル基などのアルキル基、あるい
はＣｔなとのノ飄ロゲン原子等を表わし、ＭはＮ１等の
２価の遷移金属原子を表わす。
また、上記構造のＭの上下には、さらに配位がされてい
てもよい。
このようなものとしては、下記のものカー市販されてい
る。
Ｑ９　　ＰＡ−１００１（商品名　三井東圧ファイン株
式会社製） ＱＩＯＰＡ−１００２（同　上） Ｑｌｌ　ＰＡ−１００３（同　上） Ｑ１２　ＰＡ−１００５（同　上） Ｑ１３　ＰＡ−１００６（同　上） ４）サリチルアルデヒドオキシム系 ここに　Ｒ（７）および廊８）は、アルキル基を表わし
、Ｍは２価の遷移金属原子を表わす。
Ｑ１４　　Ｎ１（ＩＦ）　Ｏ−（Ｎ−イソフｏ　ヒル＊
ｙｖムイミドイル）フェノール Ｑ１５　　Ｎ１（Ｉｆ）０−（Ｎ−ドブミルホルムイミ
ドイル）フェノール Ｑ１６　　Ｃｏ（Ｉ）　０−（Ｎ−ドデシルホルムイミ
ドイル）フェノール Ｑ１７　Ｃｕ（Ｉ）Ｏ−（Ｎ−ドデシルホルムイミドイ
ル）フェノール　　。
Ｑ１８　　Ｎｔ（ｕ）　２　、２′−（エチレンビスに
トリ四メチリジン）〕−ジフェノール Ｑ１９　　Ｃｏ（ＩＩ）　２　、２′−［：エチレンビ
スにトリロメチリジン）〕−ジフェノール Ｑ２０　Ｎｔ（ｎ）　２　、２′−［：　１．８−す７
テレンビス（ニトリ四メチリジン）〕−ジフェノールＱ
２１　　Ｎ１（Ｈ）−［Ｎ−フェニルホルムイミドイル
〕フェノール Ｑ２２　　Ｃｏ（ＩＩ）−［Ｎ−フェニルホルムイミド
イル］フェノール Ｑ２３　Ｃｕ（１）−（Ｎ−フェニルホルムイミドイル
〕フェノール Ｑ２４　　Ｎ１（ＩＩ）サリチルアルデヒドフェニルヒ
ドラゾン Ｑ２５　Ｎ１（１）サリチルアルデヒドオキシム５）チ
オビスフェノレートキレート系 跡υ ことに、Ｍは前記と同じであり、Ｒ（９１およびＲＱＩ
は、アルキル基を表わし、また可４）はアミノ基を表わ
す。
Ｑ２６　　Ｎ１（ＩＦ）ｎ−ブチ／Ｉ７７ミノ［：２．
２’−チオビス（４−ｔｅｒｔ−オクチ＃）−フェノレ
ート〕 Ｑ２７　　Ｎ１（ＩＩ）ｎ−ブチルアミ／　（：　２　
、２’　−チオビス（４−ｔｅｒｔ−オクチル）−フェ
ノレート〕 このような−１項酸素りエ／チャーは、公知の方法に従
い合成される。
そして、−重環酸素クエンチャーは、前記色素１モルあ
たり、一般に０．０５〜１２モル、特ＩＣ０，１〜１．
２モル程度含有される。
このような記録層を設層するには、一般に常法に従い塗
設すればよく、その厚さは、一般に、０，０３〜２μ嘱
程度とされる。　　あるいは、色素単独で記録層を形成
するときには、蒸着、スバツタリ／グ等によってもよい
。
なお、このような記録層には、この他、他のポリマーな
いしオリゴマー、各種可塑剤、界面活性剤、帯電防止剤
、滑剤、難燃剤、安定剤１分散剤等が含有されていても
よい。
なお、塗布に用いる溶媒としては、例えばメチルエチル
ケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等
のケトン系、酢酸ブチル、酢酸エチル、カルピトールア
セテート、ブチルカルピトールアセテート等のエステル
系、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のエーテル
系、ナいしトルエン、キシレン等の芳香族系、ジクロロ
エタン等のハロゲン化アルキル系などを用いればよい。
このような記録層を設層する基体の材質には特に制限は
なく、各種樹脂、ガラス、セラミックス、金属等いずれ
であってもよい。
また、その形状は使用用途に応じ、テープ、ディスク、
ドラム、ベルト等いずれであってもよい。
なお、基体は、必要に応じ、反射層等の下地層や蓄熱層
などを有するものであってもよい。
また、記録層上には、必要に応じ、透明基体を用いると
きに裏面として機能する反射層や、各種最上層保護層、
ハーフミラ一層などを設けることもできる。
本発明の媒体は、このような基体の一面上に上記の記録
層を有するものであってもよく、その両面に記録層を有
するものであってもよい。　また、基体の一面上に記録
層を塗設したものを２つ用い、それらを記録層が向かい
あうようにして、所定の間隙をもって対向させ、それを
密閉したりして、ホコリやキズがつかないようにするこ
ともできる。
■　発明の具体的作用 本発明の媒体は、走行ないし回転下において、記録光を
パルス状圧照射する。　このとき、記録層中の色素の発
熱により、自己酸化性化合物が分解するか、あるいは熱
可塑性樹脂や、色素が融解し、ピットが形成される。
この場合、特に、トリないしテトラカルボシアニン色素
を用いるときには、７５０．７８０．８３　Ｑ　ｎｍの
波長の記録半導体レーザー、ダイオードなどを用いたと
き、きわめて良好な書き込みを行うことができる。
このように形成されたピットは、やはり媒体の走行ない
し回転下、上記の波長の読み出し光の反射光ないし透過
光、特に反射光を検出することにより読み出される。
なお、記録層に熱可塑性樹脂を用いるときには、一旦記
録層に形成したピットを光ないし熱で消去し、再書き込
みを行うこともできる。
また、記録ないし読み出し光としては、Ｈｅ−Ｎｅレー
ザー等を用いることもできる。
■　発明の具体的効果 本発明によれば、赤色〜近赤外光の存在下で保存するよ
うなときでも、カルボシアニン色素の励起状態によって
生じる一重項酸素が、クエンチャ−によって３重項状態
に有効に変換されるので、カルボシアニン色素の酸化劣
化がきわめて少なく、生保存性および記録保存性は格段
と向上する。
また、読み出し光による再生劣化もきわめて小さくなる
。
■　発明の具体的実施例 以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明をさらに詳
細に説明する。
実施例１ 下記表１に示される色素Ｄ、樹脂Ｒ１−重環酸素クエン
チャーＱとを用い、これを表１に示される割合にて所定
の溶媒中に溶解し、直径１５ｃｒｎのアクリルディスク
基板上に、０．２μ惰の厚さに塗布設層して、各種媒体
を得た。
この場合、表１において、ＮＣは、窒素含量１１，５〜
１２．２％、ＪＩＳＫ６７０３にもとづく粘度２０秒の
ニトロセルロースである。
また、ＣＩは、クマロ／−インデン樹脂（日鉄化学社製
Ｖ−１２０数平均分子量７３０）、ＮＹは、６，６−ナ
イロン（数平均分子量３万）、ＥＣは、エチルセルロー
ス（数平均分子量３万、アセチル化度３０％）、ＰＳは
、ポリスチレン（数平均分子量３万）をそれぞれ表わす
。
さらに、用いた色素は、上記にて例示した屑のものを用
い、比較用色素Ａとしては、クエンチャ−Ｑ１３として
示した近赤外吸収色素ＰＡ−１００６（三井東圧化学社
製）を用いた。
加えて、用いたクエンチャ−は、上記にて例示したもの
の屑で示される。
そして、表１には、Ｒ／Ｄの重量比と、Ｑ／Ｄのモル比
とが併記される。
このようにして作成した各媒体につき、これを１８００
ｒＩ）ｍで回転させながら、ＡＩＱａＡｓ−ＧａＡｓ半
導体レーザー記録光（８３０ｎｍ　）を１μ惟φに集光
しく集光部用力ｉ　ｏ　ｍＶ　）、パルス巾１００　ｎ
　ｓｅｅ、所定周波数で、パルス列状に照射して、書き
込みを行った。
この後、１　ｍＷ　（７）半導体レーザー（８３０ｎｍ
）読み出し光を１μｓｅｃ巾、３ＫＨｚのパルストシて
照射して、ディスク表面におけるピーク−ビーク間の当
初のＳ／Ｎ比と５分間照射後のＳ／Ｎ比を測定した。
さらに、これとは別に、書き込み後の媒体を暗中にて、
６０℃、相対湿度９０％の条件下で５０００時間保存し
、保存後のＳ／Ｎ比を測定した。
また、書き込み後の媒体に、２５０Ｗの赤外線ランプを
４０備の距離で゛５時間照射し、照射後のＳ／Ｎ比を測
定した。
これらの結果を表１に示す。
表１に示される結果から、本発明の媒体層２〜７，１１
、］３．１５．１７．１９と比較用の媒体／１６８〜１
０．１２．１４．１６．１８との比較において、本発明
の効果があきらかである。
実施例２ 実施例１の媒体７ｇ６１１．１３、】５．１７．１９を
用い、実施例１と同様に書き込みを行ったのち、赤外線
ヒーターを用い、媒体を１５０℃、１５秒間加熱して消
去を行ったところ、各媒体とも、くりかえし複数回の消
去、再書き込みが良好にできることが確認された。
出願人　　東京電気化学工業株式会社 代理人　弁理士　　石　井　陽　− （１２） 手続補正書（自発） 昭和５８年　６月２３日 １、事件の表示 昭和５７年特許願第１６６８３２号 ２、発明の名称 光記録媒体 ３、補正をする者 事件との関係　　　　　　　　特許出願人任　　所　　
　　東京都中央区日本橋−丁目１３番１号名　　称　　
　（３０６）　　ティーディーケイ株式会社代表者　　
大　歳　　寛 ４、代理人　　〒１７１ 住　　所　　　　東京都豊島区西池袋五丁目１７番１１
号矢部ビル１階　　電話　９８８−１６８０６、補正の
内容 明細書の１３、発明の詳細な説明」の欄の記載を、下記
のとおり補正する。
Ｍ　ｎ　ｊ　とあるを、１ｒＮｉ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｍｎ。
Ｐｄ、Ｐｔｊと補正する。
ＩＩ　）第２７ページ第２行〜第３３ページ第を行まで
の記載を、下記のとおり補正する。
「１）　アセチルアセトナートキレート系ＱＩＮｉ（Ｉ
Ｉ）アセチルアセトナートＱ２　　Ｃｕ　（ｎ）アセチ
ルアセトナートＱ３　　Ｍｎ（ｍ）アセチルアセトナー
トＱ４　　Ｃｏ（ＩＩ）アセチルアセトナート２）　ビ
スジチオ−α−ジケトン系 ここに、Ｒ（ＩＬ　Ｒ（４）は、置換ないし非置換のア
ルキル基またはアリール基を表わし、Ｍは、Ｎｉ　、Ｃ
ｏ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ｐｔ等の遷移金属原子を表わ゛す。
この場合、Ｍは一電荷をもち、４級アンモニウムイオン
等のカチオンと塩を形成してもよい。
Ｑ５’　　Ｎｉ　　（ＩＩ）ジチオベンジルＱ６Ｎｉ（
ＩＩ）ジチオビアセチル Ｎ　（Ｃ，Ｈ８）。
３）　ビスフェニルジチオール系 （５）　　　　　　（８） ここに、ＲおよびＲは、メチル基 などのアルキル基、あるいはＣ１などのハロゲン原子等
を表わし、Ｍは、Ｎｉ、Ｃｏ。
Ｃｕ　、Ｐｄ　、Ｐｔ等の遷移金属原子を表わす。　さ
らに、ａおよびｂは、それぞれ、Ｏまたは４以下の整数
である。
また、上記構造のＭは一電荷をもって、カチオンと塩を
形成してもよく、さらにはＭの上下には、さらに他の配
位子が結合していてもよい。
このようなものとしては、下記のものがある。
ＱＩＯＰＡ−１００１（商品名　三井東圧ファイン株式
会社製） Ｑｌｌ　　ＰＡ−１００２（同　」二　Ｎｉ−ビス（ト
ルエンジチオール）テトラ（ｔ −ブチル）アンモニウム〕 Ｑ１２　　ＰＡ−１００３（同　上） Ｑ１３　　ＰＡ−１００５（同　上　Ｎｉ−ビス（ジク
ロロベンゼン）テトラ（ｔ− ブチル）アンモニウム〕 Ｑ１４　　ＦＡ−１００６（同　上　Ｎｉ−ビス（トリ
クロロベンゼンジチオール） テトラ（ｔ−ブチル）アンモニウム〕 Ｑ１５　　Ｃｏ−ビス（ベンゼン−１，２−ジチオール
）テトラブチルアンモニウム Ｑ１６　　Ｃｏ−ビス（０−キシレン−４，５−ジチオ
ール）テトラ（ｔ−ブチル） アンモニウム Ｑ１７　　Ｎｉ−ビス（ベンゼン−１，２−ジチオール
）テトラブチルアンモニウム Ｑ１８　　Ｎｉ−ビス（Ｏ−キシレン−４，５−ジチオ
ール）テトラブチルアンモニ ウム Ｑ１９　　Ｎｉ−ビス（５−クロロベンゼン−１，２−
ジチオール）テトラブチルア ンモニウム Ｑ２０　　Ｎｉ−ビス（３，４，５，６−テトラメチル
ベンゼン−１，２ジチオー ル）テトラブチルアンモニウム Ｑ２１　　Ｎｉ−ビス（３，４，５，６−テトラクロロ
ベンゼン−１，２ジチオー ル）テトラブチルアンモニウム ４）　サリチルアルデヒドオキシム系 （７）　　　　　　　　（８） ここに、ＲおよびＲはアルキル基 を表わし、Ｍは、Ｎｉ　、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｐｄ。
ＰＬ等の遷移金属原子を表わす。
Ｑ２２　　Ｎｉ　　（ＩＩ）ｏ　−（Ｎ−イソプロピル
ホルムイミドイル）フェノール Ｑ２３　　Ｎ１（ＩＩ）ｏ−（Ｎ−ドデシルホルムイミ
ドイル）フェノール Ｑ２４　　Ｃｏ　（ＩＩ）ｏ　−（Ｎ−ドデシルホルム
イミドイル）フェノール Ｑ２５　　Ｃｕ　（ＩＩ）ｏ　−（Ｎ−ドデシルホルム
イミドイル）フェノール Ｑ２６　　Ｎ１（ＩＩ）２．２′−（エチレンビスにト
リロメチリジン））ｌフェ ノール Ｑ２７　　Ｃｏ（ＩＩ）２．２”−（ｚチレンビスにト
リロメチリジン）〕−ジフェ ノール Ｑ２８　　　Ｎｉ　　（ＩＩ）　　２．２”−（１，８
−ナフチレンビスにトリロメチリジ ン）〕−ジフェノール Ｑ２９　　Ｎｉ　　（ＩＴ）−（Ｎ−フェニルホルムイ
ミドイル）フェノール Ｑ３０　　ＣＯ（Ｈ）−ＣＮ−７エ＝ルボルムイミドイ
ル）フェノール Ｑ３１　　Ｃｕ　（ＩＴ）　　　（Ｎ−フェニルホルム
イミドイル）フェノール Ｑ３２　　Ｎ１（ＩＩ）サリチルアルデヒドフェニルヒ
ドラゾン Ｑ３３　　Ｎ１（ＩＩ）サリチルアルデヒドオキ５）　
チオビスフェルレートキレート系（９） ここに、Ｍは前記と同じであり、Ｒお よびＲ（１０）は、アルキル基を表わす、　またＭは一
電荷をもち、カチオンと塩とを形成していてもよい。
Ｑ３４　　Ｎｉ　　（ＩＩ）ｎ−ブチルアミノ〔２゜２
′−チオビス（４−ｔｅｒｔ−オクチル）−フェルレー
ト）　　（Ｃｙａｓｏｒｂ　　−ＵＶ−１０８４（アメ
リカン　シア ナ　ミ　　ド　　　Ｃｏ、、Ｌｔｄ、）　　　）Ｑ３５
　　Ｃｏ（ＩＩ）ｎ−ブチルアミノ〔２゜２′−チオビ
ス（４−ｔｅｒｔ−オクチル）−フェルレート〕 Ｑ３６　　Ｎｉ　　（ＩＩ）　−２、２′−チオビス（
４−ｔｅｒｔ−オクチル）−フェルレート０ ■）第３８ページ第１５行に、ＦＱ１３ｊ　とあるを、
１ｒＱ１４−ｊ　と補正する。
■）第４０〜４１ページの表１において、それぞれ、ｆ
Ｑ２０ｊ　をｒＱ２８ｊ　４．：、１ｒＱ１０ｊを［’
Ｑ１１ｊに、ＦＱ１３ｊをｆＱ１４ｊに、補正する。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １、基体上に、カルボシアニン色素と、−１項酸素クエ
    ンチャーとを含む記録層を有することを特徴とする光記
    録媒体。 ２、　カルボシアニン色素が、下記式〔工〕で示される
    化合物である特許請求の範囲第１項に記載の光記録媒体
    。 式ＣＩ） Φ−ｔ、＝Ｖ／（Ｘ−）ｍ 〔上記式［Ｉ）において、 ΦおよびＷは、それぞれ、ベンゼン環またはナフタレン
    環が縮合してもよいチアゾール環、セレナゾール環、イ
    ミダゾール環またはピリジン環の残基を表わし、Ｌは、
    モノ、ジ、トリまたはテトラカルボシアニンを形成する
    だめの連結基を表わし、 Ｘ−は陰イオンを表わし、 ｍはＯまたは１の整数である。） ３、−１項酸素クエンチャーが、遷移金属キレート化合
    物である特許請求の範囲第１項または第２項に記載の光
    記録媒体。 ４、基体上に、カルボシアニア色素と、−１項酸素クエ
    ンチャーと、自己酸化性化合物または熱可塑性樹脂とを
    含む記録層を有することを特徴とする光記録媒体。 ５、　カルボシアニン色素が、下記式〔１〕で示される
    化合物である特許請求の範囲第４項に記載の光記録媒体
    。 式ＣＩ） Φ−Ｉ、＝ｉ　　　（ｘ−）ｍ （上記式〔Ｉ〕において、 ΦおよびＷは、それぞれ、ベンゼン環またはナフタレン
    環が縮合してもよい、チアゾール環、オキサゾール環、
    セレナゾール環、イミダゾール環またはピリジン環の残
    基な表わし、Ｌは、モノ、ジ、トリまたはテトラカルボ
    シアニンを形成するための連結基を表わし、Ｘ−は陰イ
    オンを表わし、 ｍはＯまたは１の整数である。） ６、−重項酸累クエンチャーが、遷移金属キレート化合
    物である特許請求の範囲第４項または第５項に記載の光
    記録媒体。
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