JPS6048024B2 - 帯電防止されたハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、帯電防止された写真感光材料に関するもので
、少なくとも１つの感光性ハロゲン化銀乳剤層と、少な
くとも１つの帯電防止層を設けたものからなる帯電防止
された写真感光材料に関するものである。

写真感光材料の製造および使用にさいしては、静電気が
蓄積される傾向があり、この静電気の蓄積は多くの障害
を引き起す。

この帯電は、例えば感光層をはじめとする各種皮膜層の
塗布、および乾燥時における搬送などの製造工程におい
ては写真感光材料とローラーとの接触、あるいは写真感
光材料の巻取、巻き戻し工程中ての支持体面と乳剤面の
摩擦、又は剥離をうけることにより生じ、又使用にさい
しては感光材料が接着を起す程の高湿度にさらされた場
合の支持体と乳剤面との剥離、又映画用カメラ、Ｘレイ
フイルムの自動現像等が用いられるばあいにも発生する
。そして、これらの蓄積された静電気が放電するさいに
、感光材料が感光し、現像処理後、シミ状、樹枝状、羽
毛状等の不規則なスタチツクマークを生じ、写真感光材
料の商品価値を著しく失わしめるものてある。これらの
スタチツクマークは現像するまでその存在が分らないの
で、非常にやつかいな問題の一つである。また、これら
の蓄積された静電気は感光材料表面への塵埃の付着を招
き、塗布時の不均一故障など二次的な故障を発生させる
原因になる。又、すべての感光材料支持体は疎水性であ
るために、静電気の蓄積が大であるからそのスタチツク
マークの発生は処理速度、乳剤感度の上昇につれて増加
し、著しく悪影響を及ぼすようになる。写真感光材料の
帯電を防止するために、従来、種々の物質が使用されて
いる。

これらの物質は、イオン性の導電性物質あるいは吸湿性
物質であつて感光材料に導電性を与えて、電荷の蓄積に
よる放電が起る前に電荷をすみやかに逸散せしめる方法
がしはしば用いられてきた。使用にあたつては、これら
の物質の単独作用あるいは併用することもある。これら
は、写真感光材料の支持体に直接帯電防止性を与えるた
めには、かような物質を支持体である高分子物質に直接
配合するか、あるいは支持体表面に塗布する方法が知ら
れている。後者のばあいは帯電防止剤を単独であるいは
ゼラチン、ポリビニルアルコール、セルロースアセテー
ト、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール等の
高分子物質と混合して塗布する方法が用いられる。また
帯電防止剤は支持体上に設けられる感光性乳剤層のほか
、非感光性の補助層（例え，ばバッキング層、ハレーシ
ヨン防止層、中間層、保護層等）の中に添加することが
できる。あるいは現像された感光材料の取扱い中におけ
る塵埃の付着を防止するのに現像済み感光材料に塗布す
る方法もある。ところで公知の帯電防止剤は、高感。度
の乳剤層を有する感光材料のばあい、特に低湿度の条件
において満足すべき効果を示すものが少なく、あるいは
経時による帯電防止効果の低下、高温、高湿条件におけ
る接着故障などを伴うことが多い。また、非感光性の補
助層の中に添加した！帯電防止剤が特に高温、高湿下に
おいて隣接する感光性乳剤層に拡散し、かぶり濃度の増
大、現像阻害、現像濃度の低下などの写真性に対する悪
影響を及ぼす場合がある。この帯電防止剤の拡散を防ぐ
ために高分子量のポリマー帯電防止剤の使用くが試みら
れたが、この場合ポリマー帯電防止剤を添加した補助層
の塗布工程において、塗布液の粘度が著しく増大し、塗
布工程を困難にする。これに対し、塗布液の濃度を低下
せしめて塗布工程を改善した場合は、乾燥負荷が増大し
、乾燥工程の設備増強や、乾燥装置内を通過させる塗布
物の搬送速度の低下を余儀なくされる。従つてポリマー
帯電防止剤の写真感光材料の適用は困難てあつた。本発
明の目的は、第一に表面電気抵抗が低く、第二に帯電防
止剤を添加した補助層から隣接したハロゲン化銀乳剤層
への帯電防止剤の拡散が少なく、第三に写真性に悪影響
を及ぼさず、第四に塗布液の帯電防止剤添加による粘度
増加が少なく、第五に耐接着性等、膜物性が良いという
特徴を有する帯電防止された写真感光材料を提供するこ
とにある。

本発明のかかる目的は下記Ａ群より選ばれる少なくとも
１つのモノマー、２０〜９踵量％と、下記Ｂ群より選ば
れる少なくとも１つのモノマー、１〜ａ重量％を乳化重
合して得られるポリマーラテックスを含有する表面積を
有することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料によ
り達成された。

Ｂ群：Ａ群以外のモノマーで、少なくとも１つの ビニ
ル基を有するモノマーであり、Ａ群の モノマーと共重
合可能なもの。Ａ群モノマーは下記一般式（１）て表わ
されるモノマーである。

一般式（１） ここにＲ１：水素原子又、メチル基 Ａ ：酸素原子又、−ＮＨ− Ｒ２：アルキレン（炭素数２〜１０）、 アリーレン（炭素数６〜１２）、 アルキルアリーレン（炭素数７〜１３）、Ｍ ：水素原
子、アルカリ金属原子、アン モニウムイオン なお、Ｒ２は置換されていてもよく、置換基としては、
ハロゲン原子、水酸基及びアリール基（炭素数６〜８）
を挙げることが出来る。

又、Ｒ２は分枝していてもよい。Ａ群モノマーの内、好
ましいものをさらに詳述すると、たとえばアクリロイル
オキシアルキルホスフェート、（たとえばアクリロイル
オキシエチルホスフェート、アクリロイルオキシプロピ
ルホスフェート、１−アクリロイルオキシプロピルー２
−ホスフェート、４−アクリロイルオキシブチルホスフ
ェート、アクリロイルオキシエトキシエチルホスフェー
ト、１−アクリロイルオキシー３−クロロプロピルー２
−ホスフェート、など）、メタクリロイルオキシアルキ
ルホスフエート、（たとえばメタクリロイルオキシエチ
ルホスフエート、メタクリロイルオキシプロピルホスフ
エート、１−メタクリロイルオキシー２−ホスフェート
、４−メタクリロイルオキシブチルホスフエート、１−
メタクリロイルオキシー３−クロロプロピルー２−ホス
フェート、２−メタクリロイルオキシエトキシエチルホ
スフエート、など）、アクリルアミドアルキルホスフェ
ート（たとえば２−アクリルアミドエチルホスフェート
など）、メタクリルアミドアルキルホスフェート（たと
えば２ーメタクリルアミドエチルホスフェートなど）、
ビニルベンジルホスフェートなどがある。

これらの内特に、アクリロイルオキシエチルホスフェー
ト、アクリロイルオキシプロピルホスフェート、メタロ
イルオキシエチルホスフエート、メタクリロイルオキシ
プロピルホスフエートが好ましい。

次にＢ群モノマーについて記載する。

Ｂ群モノマーとしては、少なくとも１つのビニル基を持
ち、Ａ群モノマーと共重合可能なモノマーであれば特に
限定はないが、例えばアクリル酸エステル類、メタクリ
ル酸エステル類、アクリルアミド類、アリル化合物、ビ
ニルエーテル類、ビニルエステル類、ビニル異節環化合
物、スチレン類、マレイン酸エステル類、フマル酸エス
テル類、イタコン酸エステル類、オレフィン類、クロト
ン酸エステル類、不飽和ニトリルなどがある。

この内特に、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エス
テル類、ビニルエステル類及びスチレン類が好ましい。
アクリル酸エステル類としては、たとえば、メチルアク
リレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレ
ート、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレ
ート、イソブチルアクリレート、Ｓｅｃ−ブチルアクリ
レート、アミルアクリレート、ヘキシルアクリレート、
２−エチルヘキシルアクリレート、オクチルアクリレー
ト、２ーフェノキシエチルアクリレート、２−クロロエ
チルアクリレート、ジメチルアミノエチルアクリレート
、ベンジルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート
、テトラヒドロフルフリルアクリレート、フェニルアク
リレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、３−ヒ
ドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピ
ルアクリレート、２，３−ジヒドロキシプロピルアクリ
レート、エチレングリコールジアクリレート、トリエチ
レングリコールアクリレート、トリメチロールプロパン
トリアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、
２−エトキシエチルアクリレートを挙げることが出来る
。

メタクリル酸エステル類としては、たとえば、メチルメ
タクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−プロピルメ
タクリレート、イソプロピルメタクリレート、ｎ−ブチ
ルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、Ｓｅｃ
−ブチルメタクリレート、アミルメタクリレート、ヘキ
シルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、
ベンジルメタクリレート、アセトアセトキシエチルメタ
クリレート、クロロベンジルメタクリレート、オクチル
メタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒ
ドロフルフリルメタクリレート、フェニルメタクリレー
ト、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、３−ヒドロ
キシプロピルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピル
メタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート
、トリエチレングリコールメタクリレート、トリメチロ
ールプロパンモノメタクリレート、ペンタエリスリトー
ルトリメタクリレート、２−メトキシエチルメタクリレ
ート、２−エトキシエチルメタクリレート、を挙げるこ
とが出来る。ビニルエステル類としては、例えば、ビニ
ルアセテート、ビニルプロピオネート、ビニルブチレー
ト、ビニルクロルアセテート、ビニルジクロル）アセテ
ート、ビニルメトキシアセテート、ビニルアセトアセテ
ート、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル、クロル安息
香酸ビニルなどを挙げることが出来る。

スチレン類としては、たとえば、スチレン、メチルスチ
レン、クロルメチルスチレン、トリフルオルメチルスチ
レン、アセトキシメチルスチレン、メトキシスチレン、
クロルスチレン、ジクロルスチレン、トリクロルスチレ
ン、ジビニルベンゼン、ブロムスチレン、などを挙げる
ことが出来る。

アクリルアミド類としては、例えば、アクリルアミド、
メチルアクリルアミド、プロピルアクリルアミド、Ｎ−
アクリロイルピペリジンを、アリル化合物としては、例
えば酢酸アリル、安息香酸アリルを、ビニルエーテル類
としては、例えばメチルビニルエーテル、クロルエチル
ビニルエーテルを挙げることが出来る。本発明のポリマ
ーラテックスを構成するＢ群モノマーの少なくとも１つ
は水不溶性であることが好ましい。ポリマーラテックス
を構成するＢ群モノマーが２つ在る場合、その内、量的
に多い方のモノマーは水不溶性であることが好ましい。
ここに、水不溶性とは、水に対する溶解度が３重量％以
下である。Ａ群とＢ群の共重合組成比については、Ａ群
モノマーが、２０〜９踵量パーセント、Ｂ群モノマーが
１〜８唾量パーセントであるが、帯電防止性能、乳化重
合性、乳化重合物の安定性等からＡ群モノマーが３０〜
８呼量パーセント、Ｂ群モノマーが２０〜７０重量パー
セントが好ましく、特にＡ群モノマーが３０〜６鍾量パ
ーセント、Ｂ群モノマーが４０〜７唾量パーセントが好
適である。

本発明の共重合体の合成には、英国特許第１２１１０３
丹、特公昭４７−２９１９５号、特願昭４７−７１７４
号、特願昭４７−２３４６６号、特願昭４７−５９７４
３号、特一願昭４８−３１３５５号、特願昭５１−１４
８５８鰻、英国特許第９６１３９５号、米国特許第２７
９５５６４号、同第２９１４４叩号、同第３０３３８３
３号、同第３５４７８９９号、同第３２２７６７２号、
同第３２９０４１７号、同第３２６２９１９号、同第３
２４５９３２号、同第２６８１８９７号、同第３２３０
２７５、号、カナダ国特許第７０４７７８号、ジヨン、
シー、ペトロプーロスら著１オフイシアル、ダイジェス
ト ．Ｊ（ＪＯｈｎＣ．ＰｅｔｒＯｐＯｕｌＯｓｅｔ
ａｌＯｆｆｉｃｉａｌＤｉｇｅｓｔ）？７１９〜７３６
（１９６１）林貞男著１エマルジョン入門ョ（１９７０
）、室井宗一著１高分子ラテツークスの化学Ｊ（１９７
０）、本山卓彦著１ビニルエマルジョンＪ（１９６５）
マイク、シヤイダー、ジユアングら著１ジャーナル、オ
ブ、サイエンス、ポリマー、ケミストリー、エデイシヨ
ンＪ（ＭｉｋｅＳｈｉ一ＤｅｒＪｕａｎｇｅｔａｌ；Ｊ
ＯｕｎａｌＯｆＰＯｌｙｍｅｒＳｃｉｅｎｃ，ＰＯｌｙ
ｒｎｅｒＣｈｅｍｉｓｔｒｙＥｄｉｔｌＯｎ）↓↓，２
０８９〜２１０７（１９７６）などに記載の方法を参考
にして行なうと好都合である。

目的に応じて、重合の開始剤、濃度、重合温度、反応時
間などが幅広く、かつ、容易に変更できることはいうま
でもない。たとえば、一例をあげると、重合は、一般に
２０〜１８０℃、好ましくは４０〜１２０℃で行なわれ
る。重合反応は、通常重合すべき単量体にたいし０．０
５〜５重量％のラジカル重合開始剤と必要に応じて０．
１〜１鍾量％の乳化剤を用いて行なわれる。開始剤とし
ては、アゾビス化合物、パーオキサイド、ハイドロパー
オキサイド、レドックス触媒など、たとえば過流酸カリ
ウム、過流酸アンモニウム、Ｔｅｒｔ−ブチルパーオク
トエート、ベンゾイルパーオキサイド、イソプロピルパ
ーカーボネート、２，４−ジクロベンゾイルパーオキサ
イド、メチルエチルケトンパーオキサイド、クメンハイ
ドロパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、アゾビ
スイソブチロニトリル２−２″−アゾビス（２−アミジ
ノプロパン）ハイドロクロライド、などがある。乳化剤
としてはアニオン性、カチオン性、両性、ノニオン性の
界面活性剤の他、水溶性ポリマーなどがある。

たとえばラウリン酸ソーダ、ドデシル硫酸ナトリウム、
１−オクトキシカルボニルメチルー１−オクトキシカル
ボニルメタンスルホン酸ナトリウム、ラウリルナフタレ
ンスルホン酸ナトリウム、ラウリルベンゼンスルホン酸
ナトリウム、ラウリル酸ナトリウム、セチルトリメチル
アンモニウムクロライド、ドデシルトリメチルアンモニ
ウムクロライド、Ｎ−２−エチルヘキシルピリジニウム
クロライド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテ
ル、ポリオキシエチレンソルビタンラウリルエステル、
ポリビニルアルコールなどがある。本発明のポリマーラ
テックスのサイズに特に限定はないが、０．０１〜０．
９μ、特に０．０１〜０．２μであることが好ましい。

次に具体的な合成例を示す。

合成例１ 例示ポリマーラテックス１の合成 蒸気バス上に温度計、窒素導入管、攪拌装置、還流冷却
管を装置した１ｅの三ツロフラスコを設置する。

２．５ｙのノニルフエノキシポリオくーシエチレンプロ
パンスルホン酸ナトリウムエテールを３５０ｍ１の蒸留
水に溶解して注入する。

これにｎ−ブチルメタクリレート２５ｆ！と２−メタク
リロイルオキシエチルホスフエート２５ダを入れて乳化
させる。０．８ｙの２，２″−アゾビスー（２−アミジ
ノプロパン）ハイドロクロライドを１００ｍ１の蒸留水
に溶解し（これをＡ液とする。

）この１１２を、フラスコ内の空気を窒素ガスを導入し
て置換し、温度を７５゜Ｃに昇温した後添加し、攪拌を
続ける。約１時間後、残つたＡ液の１１２を添加し、更
に１時間後残つたＡ液全部を注入、７０℃で１時間半攪
拌を続けた後、降温し反応の終点とする。合成例２ 例示ポリマーラテックス１１の合成 合成例１と同様の反応容器に３５０ｍ１の蒸留水を入れ
、これに３０ｙ（７）ｎ−ブチルメタクリレート、１８
ｙの２−メタクリロイルオキシエチルホスフエート、お
よび２ｙのジビニルベンゼンを添加して、７５゜Ｃに昇
温し攪拌する。

これに合成例１のＡ；液の１１２をを注入し、約２時間
攪拌を続け、残つたＡ液の１１２を添加する。更に１時
間攪拌した後残つたＡ液全部を加えて１時間半攪拌し、
降温して反応の終点とする。本発明に用いられるポリマ
ーラテックスの好ましい具体例には次のようなも，のが
あるがこれに限定されるものではなく前記合成例と同様
にして合成できる。化合物例 （１）２−メタクリロイルオキシエチルホスフエートー
ｎ−ブチルメタクリレート共重合体（重量．比５０：５
０）（２）２−メタクリロイルオキシエチルホスフエー
トーエチルメタクリレート共重合体（重量比６０：４０
）（３）２−メタクリロイルオキシエチルホスフエーー
トーｎ−ブチルメタクリレート共重合体（重量比６０：
４０）（４）２−メタクリロイルオキシエチルホスフエ
ートーｎ−ブチルメタクリレート共重合体（重量比５５
：４５）（５）２−メタクリロイルオキシエチルホスフ
エートーエチルメタクリレート共重合体（重量比６５：
３５）（６）２−メタクリロイルオキシエチルホスフエ
ートースチレン共重合体（重量比３５：６５）（７）２
−メタクリロイルオキシエチルホスフエートービス（２
−メタクリロイルオキシエチル）ホスフェ−トーｎ−ブ
チルメタクリレート共重合体（重量比４５：５：５０）
（８）２−メタクリロイルオキシエチルホスフエートー
ｎ−ブチルメタクリレートースチレン共重合体（重量比
５０：３０：２０）（９）２−メタクリロイルオキシエ
チルホスフエートーｎ−ブチルメタクリレートービニル
アセテート共重合体（重量比４０：４０：２０）（１０
２−メタクリロイルオキシエチルホスフエートーエチル
メタクリレートー１，１−ジメチルー３−オキソブチル
アクリルアミド共重合体（重量比５０：２５：２５）（
１１）２−メタクリロイルオキシエチルホスフエートー
ｎ−ブチルメタクリレートージビニルベンゼン共重合体
（重量比６０：３６：４）（１２）１−メタクリロイル
オキシプロピルー２ーホスフエートーエチルメタクリレ
ート共重合体（重量比３５：６５）（１３）１−メタク
リロイルオキシプロピルー２ーホスフェートーｎ−ブチ
ルメタクリレートーエチレングリコールジメタクリレー
ト共重合体（重量比４０：５５：５）（１４）４−メタ
クリロイルオキシブチルホスフエートーｎ−ブチルアク
リレート共重合体（重量比６０：４０）（１５）２−ア
クリロイルオキシエチルホスフエートーエチルメタクリ
レート共重合体（重量比３０：７０）（１６）２−アク
リロイルオキシエチルホスフェートーｎ−ブチルメタク
リレート共重合体（重量比４２：５８）（１７）２−ア
クリロイルオキシエチルホスフェートーｎ−プロピルメ
タクリレートージアリルイソフタレート共重合体（重量
比５２：４５：３）（１８）２−アクリロイルオキシエ
チルホスフエートースチレンージビニルベンゼン共重合
体（重量比４５：５０：５）（１９）２−アクリロイル
オキシエチルホスフェートーｎ−ブチルアクリレートー
スチレン共重合体（重量比４２：３５：２３）（２０）
２−アクリロイルオキシエチルホスフエートーメチルメ
タクリレートー１，１−ジメチルー３−オキソブチルア
クリルアミド共重合体（重量比３８：３０：３２）（２
１）４−アクリロイルオキシブチルホスフェートーｎ−
ブチルメタクリレート共重合体（重量比３０：７０）（
２２）２−メタクリロイルオキシエチルホスフエートー
２−アクリロイルオキシエチルホスフェートーｎ−ブチ
ルメタクリレート共重合体（重量比３０：１０：６０）
（２３）２−メタクリロイルオキシエチルホスフエート
ーアクリル酸−ｎ−ブチルアクリレート共重合体（重量
比４０：５：５５）（２４）ビニルベンジルホスフエー
トースチレンージビニルベンゼン共重合体（重量比３５
：５５：１０）本発明のポリマーラテックスは、使用す
る写真感光材料の種類、形態又は塗布方式等により、そ
の使用量は異なる。

しかしながら、一般には、その使用量は写真感光材料の
１ｄ当り約０．０１〜５．０ｙでよく、とくに０．０５
〜１．５ｙが望ましい。本発明に於るポリマーラテック
スの添加場所は、ハロゲン化銀写真感光材料の表面層で
あり、例えば表面保護層、バッキング層、及びハロゲン
化銀乳剤層である。これらの表面層に於ては、ポーリマ
ーラテツクスとともにゼラチン、ポリビニルアルコール
、セルロースアセテート、セルロースアセテートフタレ
ート等のバインダーを併用してもよい。本発明のポリマ
ーラテックスを含有する表面層！にはフッ素系界面活性
剤、マット剤を併用するととくに好ましい効果が得られ
る、とくにフッ素系界面活性剤の併用では、スタチツク
マーク防止に効果が大きい。

更に上記表面層には硬化剤、すベリ剤、アンチハレーシ
ヨン防止染料等各種の目的３の添加剤を含有させてもよ
い。本発明のポリマーラテックスと併用して好ましい効
果の得られるマット剤としてはハロゲン化銀、硫酸バリ
ウムストロンチウム、ポリメタクリル酸メチル、メタク
リル酸メチル−メタクリル酸４共重合体、コロイダルシ
リカ、粉末シリカ等がある。

さらに併用効果の得られるフッ素系界面活性剤としては
、以下の化合物例をあげることができる。

例えば、英国特許１３３０３５６号、米国特許３６６６
４７８号、同３５８９９０６号等に記載されているフッ
素系界面活性剤がある。代表的化合物例をあげるならば
、例えば、ＮーパーフルオロオクチルスルホニルーＮ−
プロピルグリシンカリウム塩、２−（Ｎーパーフルオロ
オクチルスルホニルーＮ−エチルアミノ）エチルホスフ
ェート、Ｎ−〔４一（パーフルオロノネニルオキシ）ベ
ンジル〕−Ｎ，Ｎ−ジメチルアンモニオアセテート、Ｎ
−）〔３−（Ｎ″，Ｎ″，Ｎ″一トリメチルアンモニオ
）プロピル〕パーフルオロオクチルスルホンアミドアイ
オダイド、及びＮ−（ポリオキシエチレニル）−Ｎープ
ロピルパーフルオロオクチルスルホアミド（Ｃ８Ｆｌ７
ＳＯ２Ｎ（Ｃ３Ｈ７）（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）−Ｈがあげら
れる。本発明の化合物を適用し得る支持体には、例えば
、ポリエチレンのようなポリオレフィン、ポリスチレン
、セルローストリアセテートのようなセルロース誘導体
、ポリエチレンテレフタレートのようなセルロースエス
テル等のフィルム又はバライタ紙、合成紙又は紙等の両
面をこれらのポリマーフィルムで被覆したシートからな
る支持体及びその類似物等が含まれる。

本発明に係るハロゲン化銀感光材料としては、通常の白
黒ハロゲン化銀感光材料（例えば、撮影用白黒感材、ｘ
−Ｒａｙ用白黒感材、印刷用白黒感材、等）、通常の多
層カラー感光材料、（例えば、カラーリバーサルフィル
ム、カラーネガティブフィルム、カラーポジティブフィ
ルム、等）、種々のハロゲン化銀感光材料を挙げること
ができる。

とくに、高温迅速処理用ハロゲン化銀感光材料、高感度
ハロゲン化銀感光材料に効果が大きい。以下に、本発明
の実施例を挙げて説明するが、これに限定されるもので
はない。実施例１ 下引き処理をしたポリエチレンテレフタレートフィルム
支持体（厚さ１８０μ）の両面に以下の組成から成る感
光性乳剤層、表面保護層を順に重ねて塗布、乾燥し、試
料１〜４を作成した。

各層の組成を以下に示す。〔感光性乳剤層〕 バインダーニゼラチン ２．５ｙ／イ 塗布銀量： ７ｙ／ｄ ハロゲン化銀組成：Ａｇｌｌ．５モル％＋ＡｇＢｒ９８
．５モル％ 硬膜剤：２−ヒドロキシー４，６−ジクロローｓ−トリ
アジンナトリウム塩０．５ｆ／１００ダバインダー カブリ防止剤：１−フェニルー５−メルメルカプトテト
ラゾール０．５ダ／ＡｇｌＯＯダ トリメチロールプロパン ５ｙ／ＡｇｌＯＯｙ 〔表面保護層〕 バインダーニゼラチン２ダ／イ 硬膜剤：２−ヒドロキシー４，６−ジクロローｓ−トリ
アジンナトリウム塩０．４ダ／１００ダバインダー 塗布助剤：ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム２８
ｍ９／Ｒｒｌマット剤：平均粒径５ｐのシリカ １．５ｇ／１００ダバインダー 試料１は上記組成のみから成り、試料２は１の組成に加
えて表面保護層に本発明の化合物１を０．５ダ／Ｒｒｌ
，試料３は同じく化合物２を０．２５ｙ／イ、試料４は
同じく化合物３を１ダ／ｄ含む。

帯電防止能の評価：帯電防止能は表面抵抗率及びスタチ
ツクマーク発生の測定によつて定めた。（１）表面抵抗
率は試料の試験片を電極間隔０．１４ｄぃ長さ１０ｃｍ
の真チユウ製電極（試験片と接する部分はステンレス使
用）に挾さみ、武田理研製絶縁計ＴＲ８６５ｌ型で１分
値を測定する。（２）スタチツォ“クマーク発生試験は
、ゴムシート状に未露光感光材料の帯電防止剤を含む表
面を下向きにして、上からゴムローラーで圧着後、剥離
することによりスタチツクマークを発生させる方法によ
つた。各測定条件は、表面抵抗率は、２５′Ｃ、３０％
ＲＨて測定し、スタチツクマーク発生試験は、２５゜Ｃ
，３０％ＲＨで行う。なお、試料の試験片の調湿は前記
条件で一昼夜行なつた。スタチツクマークの発生の程度
を評価するために、各サンプルを次の組成の現像液を用
いて２０゜Ｃで５分間現像した。

現像液組成 Ｎ−メチルーｐ−アミノフェノール硫 酸塩４ダ 無水亜硫酸ソーダ６０ダ ハイドロキノン１０ダ 炭酸ソーダ（１水塩）５３ｆ 臭化カリ２５ｆ 水を加えて１ｅとする。

スタチツクマークの評価は次の５段階の規準に従つた。

Ａ：スタチツクマークの発生が認められない。Ｂ：スタ
チツクマークが少し発生する。Ｃ：スタチツクマークが
相当発生する。

Ｄ：スタチツクマークが著しく発生する。

Ｅ：スタチツクマークが全面に発生する。

これらの試料の帯電防止性を測定した結果を第１表に示
す。

第１表から化合物２〜４は帯電防止性を著るしく改良す
ることが分る。

実施例２ 下引き処理したセルローストリアセテートフィルムの片
面に以下の組成から成るバック層を塗布、乾燥し、バッ
ク付きベース５〜８を作つた後、支持体の反対側に特開
昭５１−３０７２５号明細書実施例５と同様にハレーシ
ヨン防止層、赤感光層、ゼラチン中間層、緑感光層、黄
色フィルター層、青感層、保護層をこれらの順に塗布し
て試料デ５〜８を得た。

〔バック層〕

バインダーニゼラチン４ｇ／イ 塗布剤：ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム）１０
ｍｇ／７７１２ マット化剤：平均粒径４ｐのポリスチレン粒子１．５ダ
／１００ｇバインダー試料５のバック層は上記組成のみ
から成り、試料６は上記組成に加えて本発明の化合物１
１を０．０５ｙ／イ、試料７は同じく化合物１５を０．
１００ｙ／ｄ、試料８は同じく化合物２４を１．５ｙ／
ｄ含む。

＊３これらの試料の帯電防止能の評価を第２表に示す
。第２表から化合物１１，１５，２４は帯電防止性を著
しく良化することが明らかである。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 下記Ａ群より選ばれる少なくとも１つのモノマー、
   ２０〜９９重量％と、下記Ｂ群より選ばれる少なくとも
   １つのモノマー、１〜８０重量％を乳化重合して得られ
   るポリマーラテックスを含有する表面層を有することを
   特徴とする帯電防止されたハロゲン化銀写真感光材料。 Ａ群：一般式（ I ）で表わされるモノマー（ I ）▲数
   式、化学式、表等があります▼但しＲ＿１：水素原子又
   はメチル基 Ａ：酸素原子又は−ＮＨ− Ｒ＿２：炭素数２〜１０のアルキル基、炭素数６〜１２
   のアリーレン基、炭素数７〜１３のアルキルアリーレン
   基又は− 〔（ＣＨ＿２）＿ｎＯ〕＿ｍ（ＣＨ＿２）＿ｎ−（ｍ＝
   １〜６、ｎ＝２、３）Ｍ：水素原子、アルカリ金属原子
   又はア ンモニウムイオン 但しＲ＿２はハロゲンイオン、水酸基又はアリール基で
   置換されてもよい。 Ｂ群：Ａ群以外のモノマーで、少なくとも１つのビニル
   基を有するモノマーであり、Ａ群のモノマーと共重合可
   能なもの。