JPS6149757B2 - - Google Patents

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JPS6149757B2
JPS6149757B2 JP56048620A JP4862081A JPS6149757B2 JP S6149757 B2 JPS6149757 B2 JP S6149757B2 JP 56048620 A JP56048620 A JP 56048620A JP 4862081 A JP4862081 A JP 4862081A JP S6149757 B2 JPS6149757 B2 JP S6149757B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
data
transistor
bit line
memory cell
transistors
Prior art date
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Expired
Application number
JP56048620A
Other languages
English (en)
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JPS57169994A (en
Inventor
Hiroshi Shimada
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
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Publication of JPS57169994A publication Critical patent/JPS57169994A/ja
Publication of JPS6149757B2 publication Critical patent/JPS6149757B2/ja
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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
    • G11C11/41Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming static cells with positive feedback, i.e. cells not needing refreshing or charge regeneration, e.g. bistable multivibrator or Schmitt trigger
    • G11C11/413Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing, timing or power reduction
    • G11C11/417Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing, timing or power reduction for memory cells of the field-effect type
    • G11C11/419Read-write [R-W] circuits

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Static Random-Access Memory (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は半導体記憶装置、特にスタテイツ
ク・ランダム・アクセス・メモリ(以下これをス
タテイツクRAMと略称する)に用いられる半導
体記憶装置に関する。
まず、従来のスタテイツクRAMを第1図につ
いて説明する。このスタテイツクRAMは、ビツ
ト線(例えばD1,DB1)およびワード線例え
ばW1を有し、ビツト線D1,DB1間には、ワ
ード線W1からのワードデコーダ出力によりゲー
トされるトランスハア用トランジスタQ1,Q2
を介して抵抗およびフリツプフロツプからなるメ
モリセルCE1が接続され、そしてビツト線D
1,DB1は負荷トランジスタQ3,Q4を介し
て電源に接続されていて、またビツト線D1,
DB1はコラム選択用のトランジスタQ5,Q6
を介してセンスアンプ回路1に接続され出力回路
2を介して端子3に出力が送出されるようになつ
ている。
上記構成のスタテイツクRAMにおいて、第2
図aに示す波形のアドレス出力が図示しない外部
アドレスバツフア、コーダを通過すると、ワード
線W1には第2図bのような波形のワードデコー
ダ出力が加わり、これによりトランジスタQ1,
Q2がオンしてビツト線D1,DB1のいずれか
を接地レベルへ書き込み回路を通して引きこむこ
とによつてQ7またはQ8がオンしてセルCEの
プリツプフロツプにデータが書込まれる。例えば
メモリセルCEの情報を第1図に示す“H”、
“L”の状態にする。また、コラムデコーダ出力
がトランジスタQ5,Q6に加えられることでト
ランジスタQ5,Q6がONする。セルデータの
読出し時に、いままでビツト線D1,DB1に別
のメモリセルによる逆データが残つていると、メ
モリセルCE1によつて第1図に示すように電流
I1が流れ、ビツト線DB1の“H”データは
“L”データに反転し、ビツト線D1の“L”デ
ータはトランジスタQ3によつて充電され、
“H”になり、ビツト線D1,DB1に現われる出
力の動きは第2図の実線のようになつて、データ
の読出しが可能となる。
本発明の目的は、データ読出し時のビツト線
(もしくはデータバス線)の動きを迅速にし、デ
ータの読出し速度を向上させた半導体記憶装置を
提供するにある。
本発明の特徴とするところは、スタテイツク
RAMにおいて、そのビツト線もしくはデータバ
ス線間をトランジスタにより接続し、このトラン
ジスタをデータの読出し時にのみ導通するように
したものである。
以下、本発明の実施例を図面について説明す
る。
第3図は本発明にかかる半導体記憶装置の一部
の回路例を示すもので、第1図の場合と同様にビ
ツト線D1,DB1およびワード線W1を有し、
ビツト線D1,DB1間には、ワード線W1から
のワードデコーダ出力によりゲート制御されるト
ランスフア用のトランジスタQ1,Q2を介して
抵抗およびフリツプフロツプからなるメモリセル
CE1が接続され、さらにビツト線D1,DB1に
は負荷トランジスタQ3,Q4がそれぞれ接続さ
れており、またさらにビツト線D1,DB1には
コラムデコーダ出力により制御されるコラム選択
用のトランジスタQ5,Q6がそれぞれ接続され
ているとともに、このトランジスタQ5,Q6を
通して読出されるメモリセルCE1のデータはセ
ンスアンプ回路1、出力回路2を介して端子3に
出力されるようになつている。また、ビツト線D
1,DB1間にはトランジスタQ9のドレイン・
ソースが接続され、このトランジスタQ9のゲー
トには、第4図に示すように外部入力をもつ
ライトイネーブル回路4によりつくられた信号
WEBが加えられるようになつている。このとき
の入力および出力WEBを第5図に示す。
上記のように構成された半導体記憶回路におい
て、第2図bに示す波形のワードデコーダ出力が
ワード線W1を通してトランジスタQ1,Q2の
ゲートに加わると、このトランジスタQ1,Q2
がオンしてD1,DB1のいずれかを接地レベル
へ引き込むことによつてQ7,Q8のいずれかが
オンして、メモリセルCE1のフリツプフロツプ
にデータを書込み、例えばメモリセルCE1を第
3図に示す“H”、“L”の状態にする。この書込
み動作時、信号WEBはトランジスタQ9のゲー
トを制御して、トランジスタQ9をOFF状態に
保持する。
また、コラムデコーダ出力がトランジスタQ
5,Q6に加わることでこれらがONする。セル
データの読出し時に、第1図の場合と同様、いま
までビツト線D1,DB1に別のメモリセルによ
る逆データが残つている場合は、トランジスタQ
9を信号WEBにより導通すれば、このトランジ
スタQ9を通して電流I2が流れ、セルを流れる電
流I1によつてビツト線DB1が“H”から“L”
に反転されるほかに、電流I2によつてビツト線
DB1の電荷がビツト線D1に放電されるため、
ビツト線DB1の電位は迅速に“H”から“L”
へ反転しまたやや第1図の場合より電位が下が
る。ビツト線D1の“L”はトランジスタQ3を
流れる電流のほかに、電流I2によつて充電される
ため、第1図の場合よりも早く“H”に反転され
ることになる。したがつて、ビツト線D1,DB
1に現われる出力の動きは第2図の破線のように
変化し、“H”から“L”、“L”から“H”に反
転する時間は実線に示す従来のものよりTNSだけ
速くなり、その結果データの読出しか速くなる。
前記書込み動作に関しては、前述の通りトランジ
スタQ9を非導通にしておく。
これは、トランジスタQ9が導通することによ
つてビツト線対D1,DB1の電位の開きが抑制
され、読出し時には電位の反転を早めることがで
きるが、書込み動作においては、ビツト線対の電
位差を大きくしてメモリセルの状態を反転させる
必要があるため、トランジスタQ9が導通した状
態では書込みの時間が長くかかつたり、データの
書込みが行われない事態が生じる。
従つて、書込み動作時にはトランジスタQ9を
非導通にしておく。
なお、第2図cに示す1対のビツト線間の電位
差は、電位が安定した後では、実線で示す従来例
で0.7〜0.8V、破線で示す本発明の実施例では0.4
〜0.5Vとなる。しかし、センスアンプは0.2V程
度の電位差がついた時に出力するので、本発明を
用いたことによつて、ビツト線間の電位差が多少
小さくなつてもビツト線電位の切り替わり時にお
けるビツト線間の電位差は実質的に従来と変わり
なく、読み出し感度の低下は実質的にはない。ま
た、本発明におけるトランジスタQ9の接続位置
は、上記実施例に述べたようにビツト線D1,
DB1間に限らず、第3図の破線に示すようにデ
ータバスSD,SDB側に接続しても上記実施例と
同様の作用効果が得られる。
以上のように本発明においては、スタテイツク
RAMにおいて、そのビツト線もしくはデータバ
ス線間をトランジスタにより接続し、このトラン
ジスタをデータの読出し時にのみ導通させるよう
にしたので、ビツト線もしくはデータバス線の動
きが迅速となり、データの読出し速度を早くする
ことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来における半導体記憶装置の一部の
回路図、第2図は従来および本発明における説明
用波形図、第3図は本発明にかかる半導体記憶装
置の一部の回路図、第4図は本発明における信号
WEBを得るためのブロツク図、第5図はその波
形図である。 図において、Q10〜Q16……トランジス
タ、CEはメモリセル、D2,DB2はビツト線、
SD,SDBはデータバス線、W2はワード線。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 スタテイツクメモリセルと、該メモリセルに
    接続されたビツト線対と、該ビツト線対に接続さ
    れ、該ビツト線対の電位をセンスアンプ回路に伝
    えるデータバス線対を備えた半導体記憶装置にお
    いて、該ビツト線対又は該データバス線対間をト
    ランジスタにより接続し、該メモリセルのデータ
    の読出し動作時に該トランジスタを導通させ、該
    メモリセルへのデータの書込み動作時に該トラン
    ジスタを非導通とするようにしたことを特徴とす
    る半導体記憶装置。
JP56048620A 1981-03-31 1981-03-31 Semiconductor storage device Granted JPS57169994A (en)

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JP56048620A JPS57169994A (en) 1981-03-31 1981-03-31 Semiconductor storage device

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JP56048620A JPS57169994A (en) 1981-03-31 1981-03-31 Semiconductor storage device

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JPS57169994A JPS57169994A (en) 1982-10-19
JPS6149757B2 true JPS6149757B2 (ja) 1986-10-30

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ID=12808444

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JP56048620A Granted JPS57169994A (en) 1981-03-31 1981-03-31 Semiconductor storage device

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JPH0690877B2 (ja) * 1984-05-25 1994-11-14 株式会社東芝 半導体メモリ
JPS62145595A (ja) * 1985-12-20 1987-06-29 Toshiba Corp 半導体記憶装置
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KR920008763A (ko) * 1990-10-16 1992-05-28 김광호 스테어틱 램의 데이터 라인 등화회로 및 등화방법

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