JPH0317029A - 弗素化炭化水素系溶剤組成物 - Google Patents
弗素化炭化水素系溶剤組成物Info
- Publication number
- JPH0317029A JPH0317029A JP1149499A JP14949989A JPH0317029A JP H0317029 A JPH0317029 A JP H0317029A JP 1149499 A JP1149499 A JP 1149499A JP 14949989 A JP14949989 A JP 14949989A JP H0317029 A JPH0317029 A JP H0317029A
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- JP
- Japan
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- fluorinated hydrocarbon
- composition
- weight
- present
- trifluoroethanol
- Prior art date
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- Pending
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- Extraction Or Liquid Replacement (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
［産業上の利用分野］
本発明は、代替フロンとして使用できるとともに溶剤等
として優れた特性を有する新規な弗素化炭化水素系溶剤
組成物に関するものである。 ［従来の技術］ 弗素化炭化水素系化合物（以下単にフロンという）は、
毒性が少なく化学的に安定なものが多く、標準沸点の異
なる各種フロンが入手できることから、これらの特性を
活かして溶剤、発泡剤、プロベラントあるいは冷媒等と
して１，１．２−トリクロロー１，２．２−トリフルオ
ロエタン（ Ｒ １１３ ）が、発泡剤としてトリクロ
ロモノフルオロメタン（Ｒｌｌ）が、プロベラントや冷
媒としてジクロロジフルオロメタン（ Ｒ １２ ）が
使われている。 ［発明が解決しようとする課題］ 化学的に特に安定なＲ １１． Ｒ １２、Ｒ １１３
は対流圏内での寿命が長く、拡散して成層圏に達し、こ
こで太陽光線により分解して発生する塩素ラジカルがオ
ゾンと連鎖反応を起こし、オゾン層を破壊するとのこと
から、これら従来のフロンの使用規制が実施されること
となった．このため、これらの従来のフロンに代わり、
オゾン層を破壊しにくい代替フロンの探索が活発に行な
われている． 本発明は、従来のフロンの使用量を低減し、且つ該フロ
ンが有している優れた特性を満足しながら代替フロンと
して使用できる新規なフロン組成物を提供することを目
的とするものである。
として優れた特性を有する新規な弗素化炭化水素系溶剤
組成物に関するものである。 ［従来の技術］ 弗素化炭化水素系化合物（以下単にフロンという）は、
毒性が少なく化学的に安定なものが多く、標準沸点の異
なる各種フロンが入手できることから、これらの特性を
活かして溶剤、発泡剤、プロベラントあるいは冷媒等と
して１，１．２−トリクロロー１，２．２−トリフルオ
ロエタン（ Ｒ １１３ ）が、発泡剤としてトリクロ
ロモノフルオロメタン（Ｒｌｌ）が、プロベラントや冷
媒としてジクロロジフルオロメタン（ Ｒ １２ ）が
使われている。 ［発明が解決しようとする課題］ 化学的に特に安定なＲ １１． Ｒ １２、Ｒ １１３
は対流圏内での寿命が長く、拡散して成層圏に達し、こ
こで太陽光線により分解して発生する塩素ラジカルがオ
ゾンと連鎖反応を起こし、オゾン層を破壊するとのこと
から、これら従来のフロンの使用規制が実施されること
となった．このため、これらの従来のフロンに代わり、
オゾン層を破壊しにくい代替フロンの探索が活発に行な
われている． 本発明は、従来のフロンの使用量を低減し、且つ該フロ
ンが有している優れた特性を満足しながら代替フロンと
して使用できる新規なフロン組成物を提供することを目
的とするものである。
本発明は、１．１−ジクロロ−２． ２， ３， ３．
３−ペンタフルオロプロパン（ Ｒ ２２５ｃａ ，
沸点５１．１ ”Ｃ）．１．３−ジクロロ−１．２，２
，３．３−ペンタフルオロプロパン（ Ｒ ２２５ｃｂ
．沸点５６。ｌ’ｃ），及び ｌ−クロロ−２． ２
， ３． ３−テトラフルオロプロパン（ Ｒ ２４４
ｃａ，沸点 ５４℃）のいずれか１種と２． ２． ２
− トリフルオロエタノール（ ＴＦＥ ，沸点７３．
６℃）からなる弗素化炭化水素系溶剤組成物に関するち
のである． 本発明の組成物は，特に洗浄溶剤として従来のＲ １１
３よりも洗浄力が大きいため、Ｒ １１３代替として極
めて有用なものである。 本発明の組成物のＲ ２２５ｃａとＴＦＥの混合比はＲ
２２５ｃａが６０〜９９重量％，及びＴＦＥが１〜４
０重量％であり、好ましくは Ｒ ２２５ｃａが７０〜
９０重量％，及びＴＦεが１０〜３０重量％である。 本発明の組成物のＲ ２２５ｃｂとＴＦＥの混合比はＲ
２２５ｃｂが６０〜９９重量％．及びＴＦＥが１〜４
０重量％であり，好ましくは Ｒ ２２５ｃｂが７０〜
９０重量％，及びＴＦＥがｌＯ〜３０重量％である。 本発明の組成物のＲ ２４４ｃａとＴＦＥの混合比はＲ
２４４ｃａが６０〜９９重量％，及びＴＦＥが１〜４
０重量％であり、好ましくはＲ ２４４ｃａが７０〜９
０重量％，及びＴＦＥがｌＯ〜３０重量％である．本発
明の組成物には、用途に応じてその他の成分を更に添加
混合することができる．例えば、溶剤としての用途にお
いては、ベンタン．イソペンタン，ヘキサン，イソヘキ
サン．ネオヘキサン，ヘブタン，イソへブタン，２．３
−ジメチルブタン，シクロベンタン等の炭化水素類、ニ
トロメタン，ニトロエタン，ニトロブロバン等のニトロ
アルカン類、ジエチルアミン，トリエチルアミン，イソ
ブロビルアミン，プチルアミン，イソブチルアミン等の
アミン類、メタノール，エタノール．ｎ−プロビルアル
コール，ｉ−プロビルアルコール，ｎ−ブチルアルコー
ル，ｉ−ブチルアルコール，Ｓ−ブチルアルコール，ｔ
−ブチルアルコール等のアルコール類、メチルセロソル
ブ，テトラヒドロフラン，１．４−ジオキサン等のエー
テル類、アセトン．メチルエチルケトン．メチルブチル
ケトン等のケトン類、酢酸エチル，酢酸プロビル，酢酸
ブチル等のエステル類、ジクロロメクンｔｒａｎｓｅ−
１．２−ジクロロエチレン， ｃｉｓ−１，’２−ジ
クロロエチレン．２−ブロモプロパン等のハロゲン化炭
化水素類、その他、１．１−ジクロロ−１−フル才ロエ
タン等の本発明以外のフロン類等を適宜添加することが
できる。 本発明の弗素化炭化水素系溶剤組成物は、従来のフロン
と同様、熱媒体や発泡剤等の各種用途に使用でき、特に
溶剤として用いた場合、従来のＲ １１３より高い溶解
力を有するため好適である。 溶剤の具体的な用途としては、フラックス，グリース，
油，ワックス．インキ等の除去剤，塗料用溶剤，抽出剤
、ガラス，セラミックス．プラスチック．ゴム，金属製
各種物品，特にＩＣ部品．電気機器．精密機械，光学レ
ンズ等の洗浄剤や水切り剤等を挙げることができる。洗
浄方法としては、手拭き，浸漬．スプレー．揺動，超音
波洗浄，蒸気洗浄等を採用すればよい。 ［実施例ゴ 以下に本発明の実施例を示す。 実施例１〜３ 本発明の組成物を用いてフラックスの洗浄試験を行なっ
た。プリント基板全面にブラックス（タムラＡＬ−４，
タムラ製作所製）を塗布し，２００℃の電気炉で２分間
焼成後、本発明の組成物中に５分間浸漬した。比較例と
してＲ１１３についても同様の試験を行なった。 本発明の組成物の混合比及びフラックスの除去の度合い
を第１表に示す。 ０；良好に除去できる ○：ほぼ良好△：微量残存
×：かなり残存実施例４〜６ 本発明の組成物を用いて機械油の洗浄試験を行なった。 ＳＯＳ−３０４のテストビース（２５ｍ＋ｎＸ ３Ｏｎ
＋ｍＸ ２ｍｍ厚）を機械油（ＧＱ−３０日本石油（＃
＃製）中に浸漬した後、本発明の組成物中に５分間浸漬
した。 比較例としてＲ１１３についても同様の試験を行なった
。 本発明の組成物の混合比及び機械油の除去の度合いを第
２表に示す。 ０：良好に除去できる ○：ほぼ良好△：微量残存
×：がなり残存［発明の効果］ 本発明の弗素化炭化水素系溶剤組成物は、従来のフロン
が有している優れた特性を満足しながら、代替フロンと
して使用できるとともに、従来のフロンと同様の使い方
ができるため、従来技術の大幅な変更を要しない等の利
点がある。又、溶剤としてよく使われてぃるＲ １１３
よりもフラックスや油等の溶解除去性に優れるためＲ１
１３に代わる洗浄溶剤として最適である。
３−ペンタフルオロプロパン（ Ｒ ２２５ｃａ ，
沸点５１．１ ”Ｃ）．１．３−ジクロロ−１．２，２
，３．３−ペンタフルオロプロパン（ Ｒ ２２５ｃｂ
．沸点５６。ｌ’ｃ），及び ｌ−クロロ−２． ２
， ３． ３−テトラフルオロプロパン（ Ｒ ２４４
ｃａ，沸点 ５４℃）のいずれか１種と２． ２． ２
− トリフルオロエタノール（ ＴＦＥ ，沸点７３．
６℃）からなる弗素化炭化水素系溶剤組成物に関するち
のである． 本発明の組成物は，特に洗浄溶剤として従来のＲ １１
３よりも洗浄力が大きいため、Ｒ １１３代替として極
めて有用なものである。 本発明の組成物のＲ ２２５ｃａとＴＦＥの混合比はＲ
２２５ｃａが６０〜９９重量％，及びＴＦＥが１〜４
０重量％であり、好ましくは Ｒ ２２５ｃａが７０〜
９０重量％，及びＴＦεが１０〜３０重量％である。 本発明の組成物のＲ ２２５ｃｂとＴＦＥの混合比はＲ
２２５ｃｂが６０〜９９重量％．及びＴＦＥが１〜４
０重量％であり，好ましくは Ｒ ２２５ｃｂが７０〜
９０重量％，及びＴＦＥがｌＯ〜３０重量％である。 本発明の組成物のＲ ２４４ｃａとＴＦＥの混合比はＲ
２４４ｃａが６０〜９９重量％，及びＴＦＥが１〜４
０重量％であり、好ましくはＲ ２４４ｃａが７０〜９
０重量％，及びＴＦＥがｌＯ〜３０重量％である．本発
明の組成物には、用途に応じてその他の成分を更に添加
混合することができる．例えば、溶剤としての用途にお
いては、ベンタン．イソペンタン，ヘキサン，イソヘキ
サン．ネオヘキサン，ヘブタン，イソへブタン，２．３
−ジメチルブタン，シクロベンタン等の炭化水素類、ニ
トロメタン，ニトロエタン，ニトロブロバン等のニトロ
アルカン類、ジエチルアミン，トリエチルアミン，イソ
ブロビルアミン，プチルアミン，イソブチルアミン等の
アミン類、メタノール，エタノール．ｎ−プロビルアル
コール，ｉ−プロビルアルコール，ｎ−ブチルアルコー
ル，ｉ−ブチルアルコール，Ｓ−ブチルアルコール，ｔ
−ブチルアルコール等のアルコール類、メチルセロソル
ブ，テトラヒドロフラン，１．４−ジオキサン等のエー
テル類、アセトン．メチルエチルケトン．メチルブチル
ケトン等のケトン類、酢酸エチル，酢酸プロビル，酢酸
ブチル等のエステル類、ジクロロメクンｔｒａｎｓｅ−
１．２−ジクロロエチレン， ｃｉｓ−１，’２−ジ
クロロエチレン．２−ブロモプロパン等のハロゲン化炭
化水素類、その他、１．１−ジクロロ−１−フル才ロエ
タン等の本発明以外のフロン類等を適宜添加することが
できる。 本発明の弗素化炭化水素系溶剤組成物は、従来のフロン
と同様、熱媒体や発泡剤等の各種用途に使用でき、特に
溶剤として用いた場合、従来のＲ １１３より高い溶解
力を有するため好適である。 溶剤の具体的な用途としては、フラックス，グリース，
油，ワックス．インキ等の除去剤，塗料用溶剤，抽出剤
、ガラス，セラミックス．プラスチック．ゴム，金属製
各種物品，特にＩＣ部品．電気機器．精密機械，光学レ
ンズ等の洗浄剤や水切り剤等を挙げることができる。洗
浄方法としては、手拭き，浸漬．スプレー．揺動，超音
波洗浄，蒸気洗浄等を採用すればよい。 ［実施例ゴ 以下に本発明の実施例を示す。 実施例１〜３ 本発明の組成物を用いてフラックスの洗浄試験を行なっ
た。プリント基板全面にブラックス（タムラＡＬ−４，
タムラ製作所製）を塗布し，２００℃の電気炉で２分間
焼成後、本発明の組成物中に５分間浸漬した。比較例と
してＲ１１３についても同様の試験を行なった。 本発明の組成物の混合比及びフラックスの除去の度合い
を第１表に示す。 ０；良好に除去できる ○：ほぼ良好△：微量残存
×：かなり残存実施例４〜６ 本発明の組成物を用いて機械油の洗浄試験を行なった。 ＳＯＳ−３０４のテストビース（２５ｍ＋ｎＸ ３Ｏｎ
＋ｍＸ ２ｍｍ厚）を機械油（ＧＱ−３０日本石油（＃
＃製）中に浸漬した後、本発明の組成物中に５分間浸漬
した。 比較例としてＲ１１３についても同様の試験を行なった
。 本発明の組成物の混合比及び機械油の除去の度合いを第
２表に示す。 ０：良好に除去できる ○：ほぼ良好△：微量残存
×：がなり残存［発明の効果］ 本発明の弗素化炭化水素系溶剤組成物は、従来のフロン
が有している優れた特性を満足しながら、代替フロンと
して使用できるとともに、従来のフロンと同様の使い方
ができるため、従来技術の大幅な変更を要しない等の利
点がある。又、溶剤としてよく使われてぃるＲ １１３
よりもフラックスや油等の溶解除去性に優れるためＲ１
１３に代わる洗浄溶剤として最適である。
Claims (6)
- （１）１，１−ジクロロ−２，２，３，３，３−ペンタ
フルオロプロパン及び２，２，２−トリフルオロエタノ
ールとからなる弗素化炭化水素系溶剤組成物。 - （２）１，１−ジクロロ−２，２，３，３，３−ペンタ
フルオロプロパン６０〜９９重量％，及び２，２，２−
トリフルオロエタノール１〜４０重量％からなる請求項
１に記載の組成物。 - （３）１，３−ジクロロ−１，２，２，３，３−ペンタ
フルオロプロパン及び２，２，２−トリフルオロエタノ
ールとからなる弗素化炭化水素系溶剤組成物。 - （４）１，３−ジクロロ−１，２，２，３，３−ペンタ
フルオロプロパン６０〜９９重量％，及び２，２，２−
トリフルオロエタノール１〜４０重量％からなる請求項
３に記載の組成物。 - （５）１−クロロ−２，２，３，３−テトラフルオロプ
ロパン及び２，２，２−トリフルオロエタノールとから
なる弗素化炭化水素系溶剤組成物。 - （６）１−クロロ−２，２，３，３−テトラフルオロプ
ロパン６０〜９９重量％，及び２，２，２−トリフルオ
ロエタノール１〜４０重量％からなる請求項５に記載の
組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1149499A JPH0317029A (ja) | 1989-06-14 | 1989-06-14 | 弗素化炭化水素系溶剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1149499A JPH0317029A (ja) | 1989-06-14 | 1989-06-14 | 弗素化炭化水素系溶剤組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0317029A true JPH0317029A (ja) | 1991-01-25 |
Family
ID=15476494
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1149499A Pending JPH0317029A (ja) | 1989-06-14 | 1989-06-14 | 弗素化炭化水素系溶剤組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0317029A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5304321A (en) * | 1989-11-06 | 1994-04-19 | Kali-Chemie Ag | Cleaning compositions, formed of hydrogen-containing fluorochlorohydrocarbons and partially fluorinated alkanols |
-
1989
- 1989-06-14 JP JP1149499A patent/JPH0317029A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5304321A (en) * | 1989-11-06 | 1994-04-19 | Kali-Chemie Ag | Cleaning compositions, formed of hydrogen-containing fluorochlorohydrocarbons and partially fluorinated alkanols |
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