JPH0369353B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0369353B2 JPH0369353B2 JP62290249A JP29024987A JPH0369353B2 JP H0369353 B2 JPH0369353 B2 JP H0369353B2 JP 62290249 A JP62290249 A JP 62290249A JP 29024987 A JP29024987 A JP 29024987A JP H0369353 B2 JPH0369353 B2 JP H0369353B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ester
- compound
- salts
- reaction
- esters
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Cephalosporin Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Thiazole And Isothizaole Compounds (AREA)
- Pyridine Compounds (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
- Nitrogen- Or Sulfur-Containing Heterocyclic Ring Compounds With Rings Of Six Or More Members (AREA)
- Indole Compounds (AREA)
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
Description
この発明は、新規なセフエム化合物およびその
塩に関するものである。 さらに詳しく述べると、この発明は、抗菌活性
を有する新規な7−アシルアミノ−3−ビニルセ
フアロスポラン酸誘導体およびその塩類を製造す
るための中間体である新規なセフエム化合物およ
びその塩に関するものである。 従つて、この発明の目的は、多数の病原性微生
物に対して優れた抗菌活性を示し、抗菌性薬剤、
特に経口投与用薬剤として有用な新規な7−アシ
ルアミノ−3−ビニルセフアロスポラン酸誘導体
およびその医薬上許容される塩類を製造するため
の中間体である新規なセフエム化合物およびその
塩類を提供することにある。 この発明の目的とするセフエム化合物()は
新規化合物であり、下記一般式により表わすこと
ができる。 [式中、R4はアリール基、 RBは式 −CH2−X1、−CH2P (R5)3・X2 または−
CH=P(R5)3 (式中、R5はアリール基、X1およびX2はそれぞ
れハロゲンを意味する)で示される基、R1はカ
ルボキシ基または保護されたカルボキシ基を意味
する] 下記の方法1ないし4で製造される目的化合物
()および対応する原料化合物()、()お
よび()において、これら化合物中の不斉炭素
原子および二重結合に基づき、化学異性体および
幾何異性体の如き1個または2個以上の立体異性
体の対が存在し得るが、これらの異性体は何れも
この発明に包含されるものとする。 目的化合物()の適当な塩類としては、医薬
上許容される塩類、特に慣用される非毒性塩が含
まれ、塩基との塩類および酸付加塩、すなわち無
機塩基との塩類、例えばナトリウム塩、カリウム
塩等のアルカリ金属塩、カルシウム塩、マグネシ
ウム塩等のアルカリ土類金属塩、アンモニウム
塩、有機塩基との塩類、例えばトリエチルアミン
塩、ピリジン塩、ピコリン塩、エタノールアミン
塩、トリエタノールアミン塩、ジシクロヘキシル
アミン塩、N,N′−ジベンジルエチレンジアミ
ン塩等の有機アミン塩、塩酸塩、臭化水素酸塩、
硫酸塩、燐酸塩等の無機酸付加塩、ぎ酸塩、酢酸
塩、トリフルオロ酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸
塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸
塩、p−トリエンスルホン酸塩等の有機カルボン
酸またはスルホン酸付加塩、アルギニン、アスパ
ラギン酸、グルタミン酸等の塩基性または酸性ア
ミノ酸との塩類等が含まれる。 上記および下記の説明において、種々の定義に
含まれる適当な例を詳細に説明すると次の通りで
ある。 低級の語は、特にことわらない限り、1ないし
7個の炭素原子を有する基を含むものとして用い
る。 適当な「保護されたカルボキシ」としては、ペ
ニシリンまたはセフアロスポリン化合物の3位ま
たは4位で慣用されるエステル化されたカリボキ
シが含まれる。 エステル化されたカルボキシにおける適当なエ
ステル部分としては、メチルエステル、エチルエ
ステル、プロピルエステル、イソプロピルエステ
ル、ブチルエステル、イソブチルエステル、第3
級ブチルエステル、ペンチルエステル、第3級ペ
ンチルエステル、ヘキシルエステル等の低級アル
キルエステル、ビニルエステル、アリルエステル
等の低級アルケニルエステル、エチニルエステ
ル、プロピニルエステル等の低級アルキルエステ
ル、メトキシメチルエステル、エトキシメチルエ
ステル、イソプロポキシメチルエステル、1−メ
トキシエチルエステル、1−エトキシエチルエス
テル等の低級アルコキシ(低級)アルキルエステ
ル、メチルチオメチルエステル、エチルチオメチ
ルエステル、エチルチオエチルエステル、イソプ
ロピルチオメチルエステル等の低級アルキルチオ
(低級)アルキルエステル、2−アミノ−2−カ
リボキシエチルエステル、3−アミノ−3−カル
ボキシプロピルエステル等のアミノおよびカルボ
キシ置換低級アルキルエステル、2−第3級ブト
キシカルボニルアミノ−2−ベンズヒドリルオキ
シカルボニルエチルエステル、3−第3級ブトキ
シカルボニルアミノ−3−ベンズヒドリルオキシ
カルボニルプロピルエステル等の低級アルコキシ
カルボニルアミノおよびモノ(もしくはジもしく
はトリ)フエニル(低級)アルコキシカルボニル
置換低級アルキルエステルのような保護されたア
ミノおよび保護されたカルボキシ置換低級アルキ
ルエステル、2−ヨードエチルエステル、2,
2,2−トリクロロエチルエステル等のモノ(も
しくはジもしくはトリ)ハロ(低級)アルキルエ
ステル、アセトキシメチルエステル、プロピオニ
ルオキシメチルエステル、ブチリルオキシメチル
エステル、シソブチリルオキシメチルエステル、
バレリルオキシメチルエステル、ピバロイルオキ
シメチルエステル、ヘキサノイルオキシメチルエ
ステル、2−アセトキシエチルエステル、2−プ
ロピオニルオキシエチルエステル、1−アセトキ
シプロピルエステル等の低級アルカノイルオキシ
(低級)アルキルエステル、メシルメチルエステ
ル、2−メシルエチルエステル等の低級アルカン
スルホニル(低級)アルキルエステル、ベンジル
エステル、4−メトキシベンジルエステル、4−
ニトロベンジルエステル、フエネチルエステル、
トリチルエステル、ベンズヒドリルエステル、ビ
ス(メトキシフエニル)メチルエステル、3,4
−ジメトキシベンジルエステル、4−ヒドロキシ
−3,5−第3級ブチルベンジルエステル等の1
個または2個以上の適当な置換基を有していても
よいモノ(もしくはジ−もしくはトリ)フエニル
(低級)アルキルエステルのような1個または2
個以上の置換基を有していてもよいアル(低級)
アルキルエステル、フエニルエステル、トリルエ
ステル、第3級ブチルフエニルエステル、キシリ
ルエステル、メシチルエステル、クメニルエステ
ル、サリチルエステル等の1個または2個以上の
適当な置換基を有してもよいアリールエステル、
フタリジルエステル等の複素環式エステル等が含
まれる。 適当な「ハロゲン」としては、クロロ、ブロ
モ、ヨード等が含まれる。 適当な「アリール」としては、フエニル、トリ
ル、キシリル、ナフチル等が含まれる。 本発明の目的化合物()およびその塩類は下
記反応式の方法により製造される。 [式中、R1、R4、R5、X1およびX2はそれぞれ前
と同じ意味である。] 目的化合物()の製造における方法1ないし
4を詳しく説明すると、次の通りである。 方法1 化合物(−a)またはその塩類は、化合物
()またはその塩類にハロゲン化剤を反応させ
ることにより製造される。 化合物()の適当な塩類としては、化合物
()について例示したのと同じ塩基が含まれる。 この反応に用いる適当なハロゲン化剤として
は、3塩化燐、5塩化燐、オキシ塩化燐、3臭化
燐、5臭化燐等の燐ハロゲン化物、塩化チオニル
等のハロゲン化チオニル、ホスゲン等のヒドロキ
シ基をハロゲンに変えるために慣用されるものが
用いられる。 この反応は、ナトリウムメトキサイド、ナトリ
ウムエトキサイド、カリウム第3級ブトキサイド
等のアルカリ金属アルコキサイド、酢酸ナトリウ
ム等のアルカン酸アルカリ金属、トリエチルアミ
ン等のトリアルキルアミン、ピリジン、ルチジ
ン、ピロリン等のピリジン化合物、キノリン等の
有機塩基のような塩基の存在下に行なわれるのが
好ましい。 この反応は、通常メチレンクロライド、クロロ
ホルム、エチレンクロライド、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、N,N−ジメチルホルムアミド
等のこの反応に悪影響を及ぼさない慣用溶媒、ま
たはこれらの混合物中で行なわれる。 反応温度は特に限定されないが、通常冷却下な
いし加温下に反応が行なわれる。 方法2 化合物(−b)またはその塩類、化合物(
−a)またはその塩類に式P(R5)3(式中、R5は
前と同じ意味)で示されるトリ置換ホスフインを
反応させることにより製造される。 この反応は、よう化ナトリウム、よう化カリウ
ム、臭化ナトリウム等のアルカリ金属ハライドの
ような金属ハライドの存在下に行なうのが好まし
く、この場合、化合物(−a)におけるX1の
ハロゲンが、目的化合物(−b)において、上
記金属ハライドのハロゲンと置換される場合があ
る。 この反応は、通常N,N−ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキサイド、メチレンクロライ
ド、テトラヒドロフラン、酢酸エチル等のこの反
応に悪影響を及ぼさない慣用溶媒、またはこれら
の混合物中で行なわれる。 反応温度は特に限定されないが、通常冷却下な
いし加温下に反応が行なわれる。 方法3 化合物(−c)またはその塩類は、化合物
(−b)またはその塩基を反応させることによ
り製造される。 この反応は、方法1で例示したような有機塩
基、あるいはリチウム、ナトリウム、カリウム等
のアルカリ金属、カルシウム等のアルカリ土類金
属、水素化ナトリウム等の水素化アルカリ金属、
水素化カルシウム等の水素化アルカリ土類金属、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水酸化ア
ルカリ金属、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の
炭酸アルカリ金属、炭酸水素ナトリウム、炭酸水
素カリウム等の炭酸水素アルカリ金属のような無
機塩基の存在下に行なわれるのが好ましい。 この反応は、通常アセトン、テトラヒドロフラ
ン、水等のこの反応に悪影響を及ぼさない慣用溶
媒中で行なわれる。 反応温度は特に限定されないが、通常冷却下な
いし若干加温する程度の温度で反応が行なわれ
る。 方法4 化合物(−a)またはその塩類は、化合物
()またはその塩類に式R4−CHO(式中、R4は
前と同じ意味)で示される化合物()を反応さ
せることにより行なわれる。 この反応は、モレキユラーシーブ等の脱水剤の
存在下に行なうのが好ましい。 この反応は、通常N,N−ジメチルホルムアミ
ド等のこの反応に悪影響を及ぼさない慣用溶媒中
で行なわれる。 反応温度は特に限定されないが、通常室温ない
し加熱下に反応が行なわれる。 上記方法1ないし4並びに反応混合物の後処理
において、原料化合物または目的化合物が光学も
しくは幾何異性体を含む場合には、これが他の光
学もしくは幾何異性体に変る場合があるが、この
場合もこの発明に含まれるものとする。 本発明の化合物()は、抗菌剤として有用な
7−アシルアミノ−3−ビニルセフアロスポラン
酸の合成中間体として有用である。この7−アシ
ルアミノ−3−ビニルセフアロスポラン酸は、例
えば後述の参考例に記載の方法によつて本発明の
化合物()から製造される。 目的化合物の有用性を示すために、本発明の目
的化合物()を原料化合物として使用して製造
される7−アシルアミノ−3−ビニルセフアロス
ポラン酸の代表的なものについて抗菌活性を測定
した結果を次に示す。 (1) 試験1:試験管内抗菌活性 [試験化合物] 7−[2−(3−メタンスルホンアミドフエニ
ル)−D−グリシンアミド]−3−ビニル−3−
セフエム−4−カルボン酸(化合物A) [試験方法] 下記の寒天平板倍数希釈法により、試験管内
抗菌活性を測定した。 トリプチケース・ソーイ・ブロス(菌数
108/ml)中で一夜培養した試験菌株の1白金
耳を、各濃度の試験化合物を含むハート・イン
フユージヨン・アガー(HI寒天)に接種し、
37℃で20時間培養した後、最低発育阻止濃度
(MIC)をμg/ml単位で測定した。 [試験結果]
塩に関するものである。 さらに詳しく述べると、この発明は、抗菌活性
を有する新規な7−アシルアミノ−3−ビニルセ
フアロスポラン酸誘導体およびその塩類を製造す
るための中間体である新規なセフエム化合物およ
びその塩に関するものである。 従つて、この発明の目的は、多数の病原性微生
物に対して優れた抗菌活性を示し、抗菌性薬剤、
特に経口投与用薬剤として有用な新規な7−アシ
ルアミノ−3−ビニルセフアロスポラン酸誘導体
およびその医薬上許容される塩類を製造するため
の中間体である新規なセフエム化合物およびその
塩類を提供することにある。 この発明の目的とするセフエム化合物()は
新規化合物であり、下記一般式により表わすこと
ができる。 [式中、R4はアリール基、 RBは式 −CH2−X1、−CH2P (R5)3・X2 または−
CH=P(R5)3 (式中、R5はアリール基、X1およびX2はそれぞ
れハロゲンを意味する)で示される基、R1はカ
ルボキシ基または保護されたカルボキシ基を意味
する] 下記の方法1ないし4で製造される目的化合物
()および対応する原料化合物()、()お
よび()において、これら化合物中の不斉炭素
原子および二重結合に基づき、化学異性体および
幾何異性体の如き1個または2個以上の立体異性
体の対が存在し得るが、これらの異性体は何れも
この発明に包含されるものとする。 目的化合物()の適当な塩類としては、医薬
上許容される塩類、特に慣用される非毒性塩が含
まれ、塩基との塩類および酸付加塩、すなわち無
機塩基との塩類、例えばナトリウム塩、カリウム
塩等のアルカリ金属塩、カルシウム塩、マグネシ
ウム塩等のアルカリ土類金属塩、アンモニウム
塩、有機塩基との塩類、例えばトリエチルアミン
塩、ピリジン塩、ピコリン塩、エタノールアミン
塩、トリエタノールアミン塩、ジシクロヘキシル
アミン塩、N,N′−ジベンジルエチレンジアミ
ン塩等の有機アミン塩、塩酸塩、臭化水素酸塩、
硫酸塩、燐酸塩等の無機酸付加塩、ぎ酸塩、酢酸
塩、トリフルオロ酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸
塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸
塩、p−トリエンスルホン酸塩等の有機カルボン
酸またはスルホン酸付加塩、アルギニン、アスパ
ラギン酸、グルタミン酸等の塩基性または酸性ア
ミノ酸との塩類等が含まれる。 上記および下記の説明において、種々の定義に
含まれる適当な例を詳細に説明すると次の通りで
ある。 低級の語は、特にことわらない限り、1ないし
7個の炭素原子を有する基を含むものとして用い
る。 適当な「保護されたカルボキシ」としては、ペ
ニシリンまたはセフアロスポリン化合物の3位ま
たは4位で慣用されるエステル化されたカリボキ
シが含まれる。 エステル化されたカルボキシにおける適当なエ
ステル部分としては、メチルエステル、エチルエ
ステル、プロピルエステル、イソプロピルエステ
ル、ブチルエステル、イソブチルエステル、第3
級ブチルエステル、ペンチルエステル、第3級ペ
ンチルエステル、ヘキシルエステル等の低級アル
キルエステル、ビニルエステル、アリルエステル
等の低級アルケニルエステル、エチニルエステ
ル、プロピニルエステル等の低級アルキルエステ
ル、メトキシメチルエステル、エトキシメチルエ
ステル、イソプロポキシメチルエステル、1−メ
トキシエチルエステル、1−エトキシエチルエス
テル等の低級アルコキシ(低級)アルキルエステ
ル、メチルチオメチルエステル、エチルチオメチ
ルエステル、エチルチオエチルエステル、イソプ
ロピルチオメチルエステル等の低級アルキルチオ
(低級)アルキルエステル、2−アミノ−2−カ
リボキシエチルエステル、3−アミノ−3−カル
ボキシプロピルエステル等のアミノおよびカルボ
キシ置換低級アルキルエステル、2−第3級ブト
キシカルボニルアミノ−2−ベンズヒドリルオキ
シカルボニルエチルエステル、3−第3級ブトキ
シカルボニルアミノ−3−ベンズヒドリルオキシ
カルボニルプロピルエステル等の低級アルコキシ
カルボニルアミノおよびモノ(もしくはジもしく
はトリ)フエニル(低級)アルコキシカルボニル
置換低級アルキルエステルのような保護されたア
ミノおよび保護されたカルボキシ置換低級アルキ
ルエステル、2−ヨードエチルエステル、2,
2,2−トリクロロエチルエステル等のモノ(も
しくはジもしくはトリ)ハロ(低級)アルキルエ
ステル、アセトキシメチルエステル、プロピオニ
ルオキシメチルエステル、ブチリルオキシメチル
エステル、シソブチリルオキシメチルエステル、
バレリルオキシメチルエステル、ピバロイルオキ
シメチルエステル、ヘキサノイルオキシメチルエ
ステル、2−アセトキシエチルエステル、2−プ
ロピオニルオキシエチルエステル、1−アセトキ
シプロピルエステル等の低級アルカノイルオキシ
(低級)アルキルエステル、メシルメチルエステ
ル、2−メシルエチルエステル等の低級アルカン
スルホニル(低級)アルキルエステル、ベンジル
エステル、4−メトキシベンジルエステル、4−
ニトロベンジルエステル、フエネチルエステル、
トリチルエステル、ベンズヒドリルエステル、ビ
ス(メトキシフエニル)メチルエステル、3,4
−ジメトキシベンジルエステル、4−ヒドロキシ
−3,5−第3級ブチルベンジルエステル等の1
個または2個以上の適当な置換基を有していても
よいモノ(もしくはジ−もしくはトリ)フエニル
(低級)アルキルエステルのような1個または2
個以上の置換基を有していてもよいアル(低級)
アルキルエステル、フエニルエステル、トリルエ
ステル、第3級ブチルフエニルエステル、キシリ
ルエステル、メシチルエステル、クメニルエステ
ル、サリチルエステル等の1個または2個以上の
適当な置換基を有してもよいアリールエステル、
フタリジルエステル等の複素環式エステル等が含
まれる。 適当な「ハロゲン」としては、クロロ、ブロ
モ、ヨード等が含まれる。 適当な「アリール」としては、フエニル、トリ
ル、キシリル、ナフチル等が含まれる。 本発明の目的化合物()およびその塩類は下
記反応式の方法により製造される。 [式中、R1、R4、R5、X1およびX2はそれぞれ前
と同じ意味である。] 目的化合物()の製造における方法1ないし
4を詳しく説明すると、次の通りである。 方法1 化合物(−a)またはその塩類は、化合物
()またはその塩類にハロゲン化剤を反応させ
ることにより製造される。 化合物()の適当な塩類としては、化合物
()について例示したのと同じ塩基が含まれる。 この反応に用いる適当なハロゲン化剤として
は、3塩化燐、5塩化燐、オキシ塩化燐、3臭化
燐、5臭化燐等の燐ハロゲン化物、塩化チオニル
等のハロゲン化チオニル、ホスゲン等のヒドロキ
シ基をハロゲンに変えるために慣用されるものが
用いられる。 この反応は、ナトリウムメトキサイド、ナトリ
ウムエトキサイド、カリウム第3級ブトキサイド
等のアルカリ金属アルコキサイド、酢酸ナトリウ
ム等のアルカン酸アルカリ金属、トリエチルアミ
ン等のトリアルキルアミン、ピリジン、ルチジ
ン、ピロリン等のピリジン化合物、キノリン等の
有機塩基のような塩基の存在下に行なわれるのが
好ましい。 この反応は、通常メチレンクロライド、クロロ
ホルム、エチレンクロライド、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、N,N−ジメチルホルムアミド
等のこの反応に悪影響を及ぼさない慣用溶媒、ま
たはこれらの混合物中で行なわれる。 反応温度は特に限定されないが、通常冷却下な
いし加温下に反応が行なわれる。 方法2 化合物(−b)またはその塩類、化合物(
−a)またはその塩類に式P(R5)3(式中、R5は
前と同じ意味)で示されるトリ置換ホスフインを
反応させることにより製造される。 この反応は、よう化ナトリウム、よう化カリウ
ム、臭化ナトリウム等のアルカリ金属ハライドの
ような金属ハライドの存在下に行なうのが好まし
く、この場合、化合物(−a)におけるX1の
ハロゲンが、目的化合物(−b)において、上
記金属ハライドのハロゲンと置換される場合があ
る。 この反応は、通常N,N−ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキサイド、メチレンクロライ
ド、テトラヒドロフラン、酢酸エチル等のこの反
応に悪影響を及ぼさない慣用溶媒、またはこれら
の混合物中で行なわれる。 反応温度は特に限定されないが、通常冷却下な
いし加温下に反応が行なわれる。 方法3 化合物(−c)またはその塩類は、化合物
(−b)またはその塩基を反応させることによ
り製造される。 この反応は、方法1で例示したような有機塩
基、あるいはリチウム、ナトリウム、カリウム等
のアルカリ金属、カルシウム等のアルカリ土類金
属、水素化ナトリウム等の水素化アルカリ金属、
水素化カルシウム等の水素化アルカリ土類金属、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水酸化ア
ルカリ金属、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の
炭酸アルカリ金属、炭酸水素ナトリウム、炭酸水
素カリウム等の炭酸水素アルカリ金属のような無
機塩基の存在下に行なわれるのが好ましい。 この反応は、通常アセトン、テトラヒドロフラ
ン、水等のこの反応に悪影響を及ぼさない慣用溶
媒中で行なわれる。 反応温度は特に限定されないが、通常冷却下な
いし若干加温する程度の温度で反応が行なわれ
る。 方法4 化合物(−a)またはその塩類は、化合物
()またはその塩類に式R4−CHO(式中、R4は
前と同じ意味)で示される化合物()を反応さ
せることにより行なわれる。 この反応は、モレキユラーシーブ等の脱水剤の
存在下に行なうのが好ましい。 この反応は、通常N,N−ジメチルホルムアミ
ド等のこの反応に悪影響を及ぼさない慣用溶媒中
で行なわれる。 反応温度は特に限定されないが、通常室温ない
し加熱下に反応が行なわれる。 上記方法1ないし4並びに反応混合物の後処理
において、原料化合物または目的化合物が光学も
しくは幾何異性体を含む場合には、これが他の光
学もしくは幾何異性体に変る場合があるが、この
場合もこの発明に含まれるものとする。 本発明の化合物()は、抗菌剤として有用な
7−アシルアミノ−3−ビニルセフアロスポラン
酸の合成中間体として有用である。この7−アシ
ルアミノ−3−ビニルセフアロスポラン酸は、例
えば後述の参考例に記載の方法によつて本発明の
化合物()から製造される。 目的化合物の有用性を示すために、本発明の目
的化合物()を原料化合物として使用して製造
される7−アシルアミノ−3−ビニルセフアロス
ポラン酸の代表的なものについて抗菌活性を測定
した結果を次に示す。 (1) 試験1:試験管内抗菌活性 [試験化合物] 7−[2−(3−メタンスルホンアミドフエニ
ル)−D−グリシンアミド]−3−ビニル−3−
セフエム−4−カルボン酸(化合物A) [試験方法] 下記の寒天平板倍数希釈法により、試験管内
抗菌活性を測定した。 トリプチケース・ソーイ・ブロス(菌数
108/ml)中で一夜培養した試験菌株の1白金
耳を、各濃度の試験化合物を含むハート・イン
フユージヨン・アガー(HI寒天)に接種し、
37℃で20時間培養した後、最低発育阻止濃度
(MIC)をμg/ml単位で測定した。 [試験結果]
【表】
(2) 試験2:ラツトに対する抗生物質経口投与後
の血清レベルの測定 [試験化合物] 化合物A [試験動物] 生後6週間の雄ラツト、SD系、体重各160な
いし230g [試験方法] 一夜絶食させたラツトに試験化合物A(100
mg/Kg)を経口投与した。規定時間毎にラツト
をクロロホルム麻酔し、血液試料を心臓から採
取した。各血清試料中の抗生物質レベルをラツ
ト血清で作つた標準溶液を用いてデイスク法に
より測定した。 [試験結果]
の血清レベルの測定 [試験化合物] 化合物A [試験動物] 生後6週間の雄ラツト、SD系、体重各160な
いし230g [試験方法] 一夜絶食させたラツトに試験化合物A(100
mg/Kg)を経口投与した。規定時間毎にラツト
をクロロホルム麻酔し、血液試料を心臓から採
取した。各血清試料中の抗生物質レベルをラツ
ト血清で作つた標準溶液を用いてデイスク法に
より測定した。 [試験結果]
【表】
(3) 試験3:実験的マウス感染症に対する保護効
果 [試験化合物] 化合物A [試験動物] 生後4週間の雄マウス、ICR系、体重各20.0
±1.5g [試験方法] 2.5%ムチンにけんだくした菌数1.3×104の病
原性微生物を腹腔内に注射した。注射の1時間
後、化合物Aを経口投与した。このマウスを4
日後に生死判定し、ED50値を計算した。 [試験結果]
果 [試験化合物] 化合物A [試験動物] 生後4週間の雄マウス、ICR系、体重各20.0
±1.5g [試験方法] 2.5%ムチンにけんだくした菌数1.3×104の病
原性微生物を腹腔内に注射した。注射の1時間
後、化合物Aを経口投与した。このマウスを4
日後に生死判定し、ED50値を計算した。 [試験結果]
【表】
この発明の目的化合物()から得られる7−
アシルアミノ−3−ビニル−セフアロスポラン酸
を治療の目的で投与するにあたつては、上記化合
物を主成分として含み、これに医薬上許容される
担体、例えば経口、非経口、または外用に適した
有機もしくは無機、固体もしくは液体の賦形薬を
加えた慣用製剤の形で投与できる。このような製
剤としては錠剤、顆粒剤、散剤、カプセル等の固
体、および液剤、けんだく剤、シロツプ、乳剤、
レモネード等の液体が含まれる。 さらに、必要に応じて、上記製剤中に補助剤、
安定剤、湿潤剤、そのほか乳糖、ステアリン酸マ
グネシウム、白土、しよ糖、コーンスターチ、タ
ルク、ステアリン酸、ゼラチン、寒天、ペクチ
ン、ピーナツツ油、オリーブ油、カカオ脂、エチ
レングリコール等の繁用される添加物を含有させ
ることができる。 7−アシルアミノ−3−ビニル−セフアロスポ
ラン酸の投与量は、患者の年令、状態、疾病の種
類、および投与化合物の種類により異なるが、一
般に1日当り1mgないし約4000mgまたはそれ以上
の量を患者に投与できる。1回の平均投与量とし
ては、上記化合物約50mg、100mg、250mg、500mg、
1000mg、2000mgを、病原性微生物による疾病の治
療に用いることができる。 次に、この発明を実施例により詳細に説明す
る。 原料化合物の製造 製造例 1 7−(5−アミノ−5−カルボキシペンタンア
ミド)−3−ヒドロキシメチル−3−セフエム−
4−カルボン酸ナトリウム(118.6g)を水
(1000ml)およびアセトン(600ml)に溶かした溶
液に、ベンゾイルクロライド(42.1g)を氷冷撹
拌下10℃で、反応混合物を20%炭酸ナトリウム水
溶液でPH6.5ないし7.5に調整しながら適下する。
同温度で1時間撹拌を続けた後、反応混合物を濃
塩酸でPH6.0に調整し、アセトンを留去し、酢酸
エチル(500ml)で洗浄する。水溶液に酢酸エチ
ル(300ml)を加え、ジフエニルジアゾメタンと
酢酸エチルを溶液を、薄層クロマトグラフイー上
で原料化合物が消失するまで加え、濃塩酸でPH
3.0に調整する。酢酸エチル層を分取し、塩化ナ
トリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥し、減圧濃縮する。残留物をアセトン
(400ml)にとかし、溶液をジイソプロピルエーテ
ル(4000ml)に滴下する。沈澱する結晶を濾取し
乾燥すると、mp100−110℃の7−(5−ベンズア
ミド−5−ベンズヒドリルオキシカルボニルペン
タンアミド)−3−ヒドロキシメチル−3−セフ
エム−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル
(224.8g)を得る。 IR(ヌジヨール):3270、1770、1730、1660、
1640cm-1 NMRδppm(DMSO−d6):1.3−2.7(6H、m)、
3.38(1H、s)、3.63(2H、m)、4.27(2H、d、
J=5Hz)、4.67(1H、m)、5.15(1H、d、J
=5Hz)、5.77(1H、dd、J=5Hz、8Hz)、
6.87(1H、s)、6.95(1H、s)、7.43(25H、
m)、7.97(1H、m)、8.87(1H、m) 製造例 2 5塩化燐(27.0g)と、メチレンクロライド
(200ml)のけんだく液に、ピリジン(10.3g)を
0℃で滴下し、5℃で20分間撹拌する。これに7
−(5−ベンズアミド−5−ベンズヒドリルオキ
シカルボニルペンタンアミド)−3−ヒドロキシ
メチル−3−セフエム−4−カルボン酸ベンズヒ
ドリルエステル(21.0g)を−40℃で一度に加
え、−30℃で1時間、−10℃でさらに1時間撹拌を
続ける。反応混合物に−40℃に冷却したメタノー
ル(100ml)を−40℃で一度に加え、−10℃で1時
間撹拌する。溶媒を留去し、残留物にメチレンク
ロライド(100ml)、水(30ml)およびジイソプロ
ピルエーテル(100ml)を加え、混合物を氷冷下
少時撹拌する。沈殿する結晶を濾取し、酢酸エチ
ル(300ml)にけんだくし、炭酸水素ナトリウム
水溶液でPH8.0に調整する。有機層を分取し、塩
化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウム
で乾燥する。溶媒を留去すると、mp135−140℃
(分解)の7−アミノ−3−クロロメチル−3−
セフエム−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステ
ル(2.8g)を得る。 IR(ヌジヨール):3400、1760、1725、1650cm-1 NMRδppm(DMSO−d6):3.60(2H、q、J=17
Hz)、4.38(2H、s)、4.85(1H、d、J=5
Hz)、5.05(1H、d、J=5Hz)、6.95(1H、
s)、7.4(10H、m)、8.8(2H、m) 目的化合物の製造 実施例 1 7−アミノ−3−クロロメチル−3−セフエム
−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル(8.0
gを)N,N−ジメチルホルムアミド(40ml)に
とかした溶液に、モレキユラーシーブ(10g)お
よびベンズアルデヒド(2.1g)を加え、40℃で
40分間撹拌する。これによう化ナトリウム(2.9
g)およびトリフエニルホスフイン(10.1g)を
加え、40℃で1時間撹拌する。反応混合物をジイ
ソプロピルエーテル(200ml)と酢酸エチル(100
ml)の混合物中に滴下し、沈殿する結晶を濾取し
乾燥すると、mp150−158℃(分解)の[4−ベ
ンズヒドリルオキシカルボニル−7−ベンジリデ
ンアミノ−3−セフエム−3−イル]メチル−ト
リフエニルホスホニウムヨーダイド(16.9g)を
得る。 IR(ヌジヨール):1780、1705、1635cm-1 NMRδppm(DMSO−d6):3.67(2H、m)、5.2
(2H、m)、5.58(1H、d、J=5Hz)、5.82
(1H、d、J=5Hz)、6.30(1H、s)、7.2−
8.3(30H、m)、8.70(1H、s) 実施例 2 [4−ベンズヒドリルオキシカルボニル−7−
ベンジリデンアミノ−3−セフエム−3−イル]
メチル−トリフエニルホスホニウムヨーダイド
(16.9g)をメチレンクロライド(200ml)および
水(100ml)にとかした溶液に、36%ホルムアル
デヒド水溶液(48ml)を加え、炭酸ナトリウムで
PH9.0に調整する。混合物を室温で1時間撹拌後、
有機層を分取し、塩化ナトリウム水溶液で洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去す
ると、mp124−132℃の7−ベンジリデンアミン
−3−ビニル−3−セフエム−4−カルボン酸ベ
ンズヒドリルエステル(8.6g)を得る。 IR(ヌジヨール):1770、1710、1630cm-1 NMRδppm(DMSO−d6):3.75(2H、q、J=18
Hz)、5.1−5.8(4H、m)、6.75(1H、dd、J=10
Hz、18Hz)、6.93(1H、s)、7.1−8.0(15H、m)、
8.58(1H、s) 参考例 1 7−ベンジリデンアミノ−3−ビニル−3−セ
フエム−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル
(8.6g)とアニソール(10ml)のけんだく液に、
トリフルオロ酢酸(10ml)を−20℃で滴下し、反
応混合物を撹拌下徐々に室温にし、室温で半時間
撹拌する。反応混合物を酢酸エチル(100ml)お
よび飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(100ml)の
混合物中に注入し、20%炭酸ナトリウム水溶液で
PH7.5に調整する。水層を分取し、酢酸エチル
(100ml)で洗浄し、濃塩酸PH7.2に調整し、アル
ミナ(10ml)でカラムクロマトグラフイーに付
す。15%塩化ナトリウム水溶液で溶離し、目的化
合物を含むクラクシヨンを集め、濃塩酸でPH3.3
に調整する。沈殿する結晶を濾取し、アセトンで
洗浄し乾燥すると、mp200−230℃(分解)の7
−アミノ−3−ビニル−3−セフエム−4−カル
ボン酸(2.0g)を得る。 IR(ヌジヨール):1800、1605cm-1 NMRδppm(D2O+NaHCO3):3.67(2H、s)、
4.8−5.8(5H、m)、6.88(1H、dd、J=12Hz、
18Hz) 参考例 2 2−(3−メタンスルホンアミドフエニル)−D
−グリシン(2.44g)とメチレンクロライド(25
ml)のけんだく液に、塩化水素ガスを5ないし10
℃で5分間吹込む。5酸化燐(3.1g)を加え、
混合物を0ないし10℃で5時間撹拌する。沈殿し
た固体を濾取し、メチレンクロライド(5ml)で
洗浄し、乾燥すると残留物(2.7g)を得る。こ
の残留物を、7−アミノ−3−ビニル−3−セフ
エム−4−カルボン酸(1.8g)とトリメチルシ
リルイアセトアミド(6.3g)をメチレンクロラ
イド(30ml)にとかした溶液に−15℃で撹拌下に
加え、−5ないし0℃で3時間撹拌を続ける。反
応混合物に水(30ml)加え、少時振とうする。水
層を分取し、20%炭酸ナトリウム水溶液でPH5に
調整し、減圧下に濃縮乾固し、得られる固体を非
イオン性吸着樹脂「ダイヤイオンHP−20」(120
ml)でクロマグラフイーに付す。水洗後、30%イ
ソプロピルアルコールで溶離し、目的化合物を含
むフラクシヨンを集め減圧濃縮する。残留物を凍
結乾燥すると、7−[2−(3−メタンスルホンア
ミドフエニル)−D−グリシンアミド]−3−ビニ
ル−3−セフエム−4−カルボン酸(0.47g)を
得る。 IR(ヌジヨール):3300−3150、1760、1685、
1605cm-1
アシルアミノ−3−ビニル−セフアロスポラン酸
を治療の目的で投与するにあたつては、上記化合
物を主成分として含み、これに医薬上許容される
担体、例えば経口、非経口、または外用に適した
有機もしくは無機、固体もしくは液体の賦形薬を
加えた慣用製剤の形で投与できる。このような製
剤としては錠剤、顆粒剤、散剤、カプセル等の固
体、および液剤、けんだく剤、シロツプ、乳剤、
レモネード等の液体が含まれる。 さらに、必要に応じて、上記製剤中に補助剤、
安定剤、湿潤剤、そのほか乳糖、ステアリン酸マ
グネシウム、白土、しよ糖、コーンスターチ、タ
ルク、ステアリン酸、ゼラチン、寒天、ペクチ
ン、ピーナツツ油、オリーブ油、カカオ脂、エチ
レングリコール等の繁用される添加物を含有させ
ることができる。 7−アシルアミノ−3−ビニル−セフアロスポ
ラン酸の投与量は、患者の年令、状態、疾病の種
類、および投与化合物の種類により異なるが、一
般に1日当り1mgないし約4000mgまたはそれ以上
の量を患者に投与できる。1回の平均投与量とし
ては、上記化合物約50mg、100mg、250mg、500mg、
1000mg、2000mgを、病原性微生物による疾病の治
療に用いることができる。 次に、この発明を実施例により詳細に説明す
る。 原料化合物の製造 製造例 1 7−(5−アミノ−5−カルボキシペンタンア
ミド)−3−ヒドロキシメチル−3−セフエム−
4−カルボン酸ナトリウム(118.6g)を水
(1000ml)およびアセトン(600ml)に溶かした溶
液に、ベンゾイルクロライド(42.1g)を氷冷撹
拌下10℃で、反応混合物を20%炭酸ナトリウム水
溶液でPH6.5ないし7.5に調整しながら適下する。
同温度で1時間撹拌を続けた後、反応混合物を濃
塩酸でPH6.0に調整し、アセトンを留去し、酢酸
エチル(500ml)で洗浄する。水溶液に酢酸エチ
ル(300ml)を加え、ジフエニルジアゾメタンと
酢酸エチルを溶液を、薄層クロマトグラフイー上
で原料化合物が消失するまで加え、濃塩酸でPH
3.0に調整する。酢酸エチル層を分取し、塩化ナ
トリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥し、減圧濃縮する。残留物をアセトン
(400ml)にとかし、溶液をジイソプロピルエーテ
ル(4000ml)に滴下する。沈澱する結晶を濾取し
乾燥すると、mp100−110℃の7−(5−ベンズア
ミド−5−ベンズヒドリルオキシカルボニルペン
タンアミド)−3−ヒドロキシメチル−3−セフ
エム−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル
(224.8g)を得る。 IR(ヌジヨール):3270、1770、1730、1660、
1640cm-1 NMRδppm(DMSO−d6):1.3−2.7(6H、m)、
3.38(1H、s)、3.63(2H、m)、4.27(2H、d、
J=5Hz)、4.67(1H、m)、5.15(1H、d、J
=5Hz)、5.77(1H、dd、J=5Hz、8Hz)、
6.87(1H、s)、6.95(1H、s)、7.43(25H、
m)、7.97(1H、m)、8.87(1H、m) 製造例 2 5塩化燐(27.0g)と、メチレンクロライド
(200ml)のけんだく液に、ピリジン(10.3g)を
0℃で滴下し、5℃で20分間撹拌する。これに7
−(5−ベンズアミド−5−ベンズヒドリルオキ
シカルボニルペンタンアミド)−3−ヒドロキシ
メチル−3−セフエム−4−カルボン酸ベンズヒ
ドリルエステル(21.0g)を−40℃で一度に加
え、−30℃で1時間、−10℃でさらに1時間撹拌を
続ける。反応混合物に−40℃に冷却したメタノー
ル(100ml)を−40℃で一度に加え、−10℃で1時
間撹拌する。溶媒を留去し、残留物にメチレンク
ロライド(100ml)、水(30ml)およびジイソプロ
ピルエーテル(100ml)を加え、混合物を氷冷下
少時撹拌する。沈殿する結晶を濾取し、酢酸エチ
ル(300ml)にけんだくし、炭酸水素ナトリウム
水溶液でPH8.0に調整する。有機層を分取し、塩
化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウム
で乾燥する。溶媒を留去すると、mp135−140℃
(分解)の7−アミノ−3−クロロメチル−3−
セフエム−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステ
ル(2.8g)を得る。 IR(ヌジヨール):3400、1760、1725、1650cm-1 NMRδppm(DMSO−d6):3.60(2H、q、J=17
Hz)、4.38(2H、s)、4.85(1H、d、J=5
Hz)、5.05(1H、d、J=5Hz)、6.95(1H、
s)、7.4(10H、m)、8.8(2H、m) 目的化合物の製造 実施例 1 7−アミノ−3−クロロメチル−3−セフエム
−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル(8.0
gを)N,N−ジメチルホルムアミド(40ml)に
とかした溶液に、モレキユラーシーブ(10g)お
よびベンズアルデヒド(2.1g)を加え、40℃で
40分間撹拌する。これによう化ナトリウム(2.9
g)およびトリフエニルホスフイン(10.1g)を
加え、40℃で1時間撹拌する。反応混合物をジイ
ソプロピルエーテル(200ml)と酢酸エチル(100
ml)の混合物中に滴下し、沈殿する結晶を濾取し
乾燥すると、mp150−158℃(分解)の[4−ベ
ンズヒドリルオキシカルボニル−7−ベンジリデ
ンアミノ−3−セフエム−3−イル]メチル−ト
リフエニルホスホニウムヨーダイド(16.9g)を
得る。 IR(ヌジヨール):1780、1705、1635cm-1 NMRδppm(DMSO−d6):3.67(2H、m)、5.2
(2H、m)、5.58(1H、d、J=5Hz)、5.82
(1H、d、J=5Hz)、6.30(1H、s)、7.2−
8.3(30H、m)、8.70(1H、s) 実施例 2 [4−ベンズヒドリルオキシカルボニル−7−
ベンジリデンアミノ−3−セフエム−3−イル]
メチル−トリフエニルホスホニウムヨーダイド
(16.9g)をメチレンクロライド(200ml)および
水(100ml)にとかした溶液に、36%ホルムアル
デヒド水溶液(48ml)を加え、炭酸ナトリウムで
PH9.0に調整する。混合物を室温で1時間撹拌後、
有機層を分取し、塩化ナトリウム水溶液で洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去す
ると、mp124−132℃の7−ベンジリデンアミン
−3−ビニル−3−セフエム−4−カルボン酸ベ
ンズヒドリルエステル(8.6g)を得る。 IR(ヌジヨール):1770、1710、1630cm-1 NMRδppm(DMSO−d6):3.75(2H、q、J=18
Hz)、5.1−5.8(4H、m)、6.75(1H、dd、J=10
Hz、18Hz)、6.93(1H、s)、7.1−8.0(15H、m)、
8.58(1H、s) 参考例 1 7−ベンジリデンアミノ−3−ビニル−3−セ
フエム−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル
(8.6g)とアニソール(10ml)のけんだく液に、
トリフルオロ酢酸(10ml)を−20℃で滴下し、反
応混合物を撹拌下徐々に室温にし、室温で半時間
撹拌する。反応混合物を酢酸エチル(100ml)お
よび飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(100ml)の
混合物中に注入し、20%炭酸ナトリウム水溶液で
PH7.5に調整する。水層を分取し、酢酸エチル
(100ml)で洗浄し、濃塩酸PH7.2に調整し、アル
ミナ(10ml)でカラムクロマトグラフイーに付
す。15%塩化ナトリウム水溶液で溶離し、目的化
合物を含むクラクシヨンを集め、濃塩酸でPH3.3
に調整する。沈殿する結晶を濾取し、アセトンで
洗浄し乾燥すると、mp200−230℃(分解)の7
−アミノ−3−ビニル−3−セフエム−4−カル
ボン酸(2.0g)を得る。 IR(ヌジヨール):1800、1605cm-1 NMRδppm(D2O+NaHCO3):3.67(2H、s)、
4.8−5.8(5H、m)、6.88(1H、dd、J=12Hz、
18Hz) 参考例 2 2−(3−メタンスルホンアミドフエニル)−D
−グリシン(2.44g)とメチレンクロライド(25
ml)のけんだく液に、塩化水素ガスを5ないし10
℃で5分間吹込む。5酸化燐(3.1g)を加え、
混合物を0ないし10℃で5時間撹拌する。沈殿し
た固体を濾取し、メチレンクロライド(5ml)で
洗浄し、乾燥すると残留物(2.7g)を得る。こ
の残留物を、7−アミノ−3−ビニル−3−セフ
エム−4−カルボン酸(1.8g)とトリメチルシ
リルイアセトアミド(6.3g)をメチレンクロラ
イド(30ml)にとかした溶液に−15℃で撹拌下に
加え、−5ないし0℃で3時間撹拌を続ける。反
応混合物に水(30ml)加え、少時振とうする。水
層を分取し、20%炭酸ナトリウム水溶液でPH5に
調整し、減圧下に濃縮乾固し、得られる固体を非
イオン性吸着樹脂「ダイヤイオンHP−20」(120
ml)でクロマグラフイーに付す。水洗後、30%イ
ソプロピルアルコールで溶離し、目的化合物を含
むフラクシヨンを集め減圧濃縮する。残留物を凍
結乾燥すると、7−[2−(3−メタンスルホンア
ミドフエニル)−D−グリシンアミド]−3−ビニ
ル−3−セフエム−4−カルボン酸(0.47g)を
得る。 IR(ヌジヨール):3300−3150、1760、1685、
1605cm-1
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 式 [式中、R4はアリール基、 RBは式 −CH2−X1、−CH2P (R5)3・X2 または−
CH=P(R5)3 (式中、R5はアリール基、X1およびX2はそれぞ
れハロゲンを意味する)で示される基、R1はカ
ルボキシ基または保護されたカルボキシ基を意味
する] で示される化合物またはその塩類。
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB7939985 | 1979-11-19 | ||
| GB7939985 | 1979-11-19 | ||
| GB8004335 | 1980-02-08 | ||
| GB8012991 | 1980-04-21 | ||
| GB8022920 | 1980-07-14 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62044400A Division JPS62277391A (ja) | 1979-11-19 | 1987-02-26 | 7−アシルアミノ−3−ビニルセフアロスポラン酸誘導体およびその製法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3201550A Division JPH0710870B2 (ja) | 1979-11-19 | 1991-05-10 | 新規セフェム化合物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63152388A JPS63152388A (ja) | 1988-06-24 |
| JPH0369353B2 true JPH0369353B2 (ja) | 1991-10-31 |
Family
ID=10509300
Family Applications (12)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16398980A Granted JPS5686187A (en) | 1979-11-19 | 1980-11-19 | 7-acylamino-3-vinylcephalosporanic acid derivative and its preparation |
| JP16399080A Pending JPS5686188A (en) | 1979-11-19 | 1980-11-19 | 7-acylamino-3-substituted cephalosporanic acid derivative and its preparation |
| JP19117582A Granted JPS5896092A (ja) | 1979-11-19 | 1982-10-29 | 7−アシルアミノ−3−置換セフアロスポラン酸誘導体およびその製造法 |
| JP22640283A Granted JPS59144788A (ja) | 1979-11-19 | 1983-11-29 | 7−アシルアミノ−3−置換セフアロスポラン酸誘導体およびその製法 |
| JP27813884A Pending JPS60185787A (ja) | 1979-11-19 | 1984-12-29 | 7−アシルアミノ−3−置換セフアロスポラン酸誘導体およびその製造方法 |
| JP62044400A Granted JPS62277391A (ja) | 1979-11-19 | 1987-02-26 | 7−アシルアミノ−3−ビニルセフアロスポラン酸誘導体およびその製法 |
| JP29025087A Granted JPS63152385A (ja) | 1979-11-19 | 1987-11-17 | 新規な7−置換−3−ビニルセファロスポラン酸 |
| JP29024887A Granted JPS63152387A (ja) | 1979-11-19 | 1987-11-17 | 7−アシルアミノ−3−ビニル セファロスポラン酸誘導体 |
| JP29024987A Granted JPS63152388A (ja) | 1979-11-19 | 1987-11-17 | 新規なセフェム化合物 |
| JP62290253A Granted JPS63146863A (ja) | 1979-11-19 | 1987-11-17 | カルボン酸類 |
| JP62290252A Granted JPS63152371A (ja) | 1979-11-19 | 1987-11-17 | アミノチアゾール誘導体 |
| JP62290251A Granted JPS63152370A (ja) | 1979-11-19 | 1987-11-17 | 新規カルボン酸 |
Family Applications Before (8)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16398980A Granted JPS5686187A (en) | 1979-11-19 | 1980-11-19 | 7-acylamino-3-vinylcephalosporanic acid derivative and its preparation |
| JP16399080A Pending JPS5686188A (en) | 1979-11-19 | 1980-11-19 | 7-acylamino-3-substituted cephalosporanic acid derivative and its preparation |
| JP19117582A Granted JPS5896092A (ja) | 1979-11-19 | 1982-10-29 | 7−アシルアミノ−3−置換セフアロスポラン酸誘導体およびその製造法 |
| JP22640283A Granted JPS59144788A (ja) | 1979-11-19 | 1983-11-29 | 7−アシルアミノ−3−置換セフアロスポラン酸誘導体およびその製法 |
| JP27813884A Pending JPS60185787A (ja) | 1979-11-19 | 1984-12-29 | 7−アシルアミノ−3−置換セフアロスポラン酸誘導体およびその製造方法 |
| JP62044400A Granted JPS62277391A (ja) | 1979-11-19 | 1987-02-26 | 7−アシルアミノ−3−ビニルセフアロスポラン酸誘導体およびその製法 |
| JP29025087A Granted JPS63152385A (ja) | 1979-11-19 | 1987-11-17 | 新規な7−置換−3−ビニルセファロスポラン酸 |
| JP29024887A Granted JPS63152387A (ja) | 1979-11-19 | 1987-11-17 | 7−アシルアミノ−3−ビニル セファロスポラン酸誘導体 |
Family Applications After (3)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62290253A Granted JPS63146863A (ja) | 1979-11-19 | 1987-11-17 | カルボン酸類 |
| JP62290252A Granted JPS63152371A (ja) | 1979-11-19 | 1987-11-17 | アミノチアゾール誘導体 |
| JP62290251A Granted JPS63152370A (ja) | 1979-11-19 | 1987-11-17 | 新規カルボン酸 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (12) | JPS5686187A (ja) |
| ZA (1) | ZA806977B (ja) |
Families Citing this family (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4464369A (en) * | 1977-03-14 | 1984-08-07 | Fujisawa Pharmaceutical Co., Ltd. | 7-Acylamino-3-cephem-4-carboxylic acid derivatives and pharmaceutical compositions |
| ZA806977B (en) * | 1979-11-19 | 1981-10-28 | Fujisawa Pharmaceutical Co | 7-acylamino-3-vinylcephalosporanic acid derivatives and processes for the preparation thereof |
| FR2476087A1 (fr) * | 1980-02-18 | 1981-08-21 | Roussel Uclaf | Nouvelles oximes derivees de l'acide 3-alkyloxy ou 3-alkyl-thiomethyl 7-amino thiazolyl acetamido cephalosporanique, leur procede de preparation et leur application comme medicaments |
| EP0156118A1 (en) * | 1980-08-29 | 1985-10-02 | Fujisawa Pharmaceutical Co., Ltd. | New starting compounds for the preparation of cephem compounds and processes for preparation thereof |
| JPS6052754B2 (ja) * | 1981-01-29 | 1985-11-21 | 山之内製薬株式会社 | 7−アミノ−3−ハロゲノメチル−△↑3−セフェム−4−カルボン酸類およびその製法 |
| JPS58135894A (ja) * | 1982-01-22 | 1983-08-12 | Fujisawa Pharmaceut Co Ltd | 7―置換ブチルアミド―3―ビニルセファロスポラン酸誘導体 |
| JPS5921695A (ja) * | 1982-07-29 | 1984-02-03 | Dai Ichi Seiyaku Co Ltd | セフアロスポリン誘導体 |
| ZA836918B (en) * | 1982-09-30 | 1984-05-30 | Fujisawa Pharmaceutical Co | 7-substituted-3-vinyl-3-cephem compounds and processes for the production of the same |
| DK162718C (da) * | 1982-09-30 | 1992-05-11 | Fujisawa Pharmaceutical Co | Analogifremgangsmaade til fremstilling af 7-substitueret-3-vinyl-3-cephemforbindelser |
| JPS58159496A (ja) * | 1983-03-02 | 1983-09-21 | Kyoto Yakuhin Kogyo Kk | セフエム系化合物 |
| JPS59210092A (ja) * | 1983-05-13 | 1984-11-28 | Dai Ichi Seiyaku Co Ltd | セフアロスポリン誘導体 |
| GB8318846D0 (en) * | 1983-07-12 | 1983-08-10 | Fujisawa Pharmaceutical Co | Prophylactic/therapeutic agent against fish diseases |
| GB8329030D0 (en) * | 1983-10-31 | 1983-11-30 | Fujisawa Pharmaceutical Co | Cephem compounds |
| EP0238060B1 (en) | 1986-03-19 | 1992-01-08 | Banyu Pharmaceutical Co., Ltd. | Cephalosporin derivatives, processes for their preparation and antibacterial agents |
| CA1283404C (en) * | 1986-07-01 | 1991-04-23 | Shigeru Sanai | Cephalosporin compounds, processes for their preparation and antibacterial agents |
| JP4157177B2 (ja) * | 1997-06-04 | 2008-09-24 | 大塚化学ホールディングス株式会社 | 3−アルケニルセフェム化合物の製造法 |
| AT406773B (de) * | 1998-04-02 | 2000-08-25 | Biochemie Gmbh | Neues salz von 7-(2-(aminothiazol-4yl)-2- |
| ITMI20022076A1 (it) * | 2002-10-01 | 2004-04-02 | Antibioticos Spa | Sali di intermedi del cefdinir. |
| US7980324B2 (en) | 2006-02-03 | 2011-07-19 | Black & Decker Inc. | Housing and gearbox for drill or driver |
| JP4779741B2 (ja) * | 2006-03-22 | 2011-09-28 | 株式会社日立製作所 | ヒートポンプシステム,ヒートポンプシステムの軸封方法,ヒートポンプシステムの改造方法 |
| UY34585A (es) * | 2012-01-24 | 2013-09-02 | Aicuris Gmbh & Co Kg | Compuestos b-lactámicos sustituidos con amidina, su preparación y uso |
| KR101485316B1 (ko) * | 2014-04-16 | 2015-01-22 | (주)에이치티씨 | 플렛 케이블용 컨넥터 핀 자동 압착장치 |
Family Cites Families (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE789817A (fr) * | 1971-10-07 | 1973-04-06 | Glaxo Lab Ltd | Perfectionnements aux composes de cephalosporine |
| GB1325846A (en) * | 1972-02-23 | 1973-08-08 | Lilly Co Eli | Process for the preparation of a 3-thiomethyl cephalosporin |
| DE2209019A1 (de) * | 1972-02-25 | 1973-08-30 | Lilly Co Eli | Verfahren zur herstellung von 3-thiomethylcephalosporinverbindungen |
| JPS5729474B2 (ja) * | 1974-01-14 | 1982-06-23 | ||
| ES467601A1 (es) * | 1977-03-12 | 1979-06-16 | Hoechst Ag | Procedimiento para la preparacion de derivados de cefem. |
| DE2714880A1 (de) * | 1977-04-02 | 1978-10-26 | Hoechst Ag | Cephemderivate und verfahren zu ihrer herstellung |
| US4200745A (en) * | 1977-12-20 | 1980-04-29 | Eli Lilly And Company | 7[2-(2-Aminothiazol-4-yl)-2-alkoxyimino]acetamido 3[4-alkyl-5-oxo-6-hydroxy-3,4 dihydro 1,2,4-triazin 3-yl]thio methyl cephalosporins |
| FR2432521A1 (fr) * | 1978-03-31 | 1980-02-29 | Roussel Uclaf | Nouvelles oximes o-substituees derivees de l'acide 7-amino thiazolyl acetamido cephalosporanique, leur procede de preparation et leur application comme medicaments |
| ZA792581B (en) * | 1978-05-26 | 1981-01-28 | Glaxo Group Ltd | Cephalosporin antibiotics |
| GB1604723A (en) * | 1978-05-26 | 1981-12-16 | Glaxo Operations Ltd | 7-(2-aminothiazol-4-yl)-2-oxyimino-acetamido)-cephem derivatives |
| JPS5559196A (en) * | 1978-10-27 | 1980-05-02 | Glaxo Group Ltd | Cephalosporin compound |
| BE879666A (fr) * | 1978-10-27 | 1980-04-28 | Glaxo Group Ltd | Nouvelles cephalosporines, leur preparation et compositions les contenant |
| IT1207006B (it) * | 1978-11-15 | 1989-05-17 | Glaxo Group Ltd | Antibiotici cefalosporinici composizioni che li contengono e procedimento per produrli |
| AU531801B2 (en) * | 1978-11-17 | 1983-09-08 | Glaxo Group Limited | Chphalosporin antibiotics |
| BE881870A (fr) * | 1979-02-23 | 1980-08-22 | Glaxo Group Ltd | Nouvelles cephalosporines qui exercent une activite contre des organismes gram-negatifs |
| JPS55124790A (en) * | 1979-03-19 | 1980-09-26 | Sankyo Co Ltd | Cephem compound, its preparation and antimicrobials consisting the same mainly |
| NL160860B (nl) * | 1979-03-22 | American Cyanamid Co | Werkwijze voor het bereiden van een vulcaniseerbaar mengsel. | |
| ZA806977B (en) * | 1979-11-19 | 1981-10-28 | Fujisawa Pharmaceutical Co | 7-acylamino-3-vinylcephalosporanic acid derivatives and processes for the preparation thereof |
-
1980
- 1980-11-11 ZA ZA00806977A patent/ZA806977B/xx unknown
- 1980-11-19 JP JP16398980A patent/JPS5686187A/ja active Granted
- 1980-11-19 JP JP16399080A patent/JPS5686188A/ja active Pending
-
1982
- 1982-10-29 JP JP19117582A patent/JPS5896092A/ja active Granted
-
1983
- 1983-11-29 JP JP22640283A patent/JPS59144788A/ja active Granted
-
1984
- 1984-12-29 JP JP27813884A patent/JPS60185787A/ja active Pending
-
1987
- 1987-02-26 JP JP62044400A patent/JPS62277391A/ja active Granted
- 1987-11-17 JP JP29025087A patent/JPS63152385A/ja active Granted
- 1987-11-17 JP JP29024887A patent/JPS63152387A/ja active Granted
- 1987-11-17 JP JP29024987A patent/JPS63152388A/ja active Granted
- 1987-11-17 JP JP62290253A patent/JPS63146863A/ja active Granted
- 1987-11-17 JP JP62290252A patent/JPS63152371A/ja active Granted
- 1987-11-17 JP JP62290251A patent/JPS63152370A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0215556B2 (ja) | 1990-04-12 |
| JPH0219828B2 (ja) | 1990-05-07 |
| JPS63152370A (ja) | 1988-06-24 |
| JPS6238357B2 (ja) | 1987-08-17 |
| JPS59144788A (ja) | 1984-08-18 |
| JPS62277391A (ja) | 1987-12-02 |
| JPH0338277B2 (ja) | 1991-06-10 |
| JPS6320435B2 (ja) | 1988-04-27 |
| ZA806977B (en) | 1981-10-28 |
| JPH0338278B2 (ja) | 1991-06-10 |
| JPH0333712B2 (ja) | 1991-05-20 |
| JPH0225905B2 (ja) | 1990-06-06 |
| JPS63152388A (ja) | 1988-06-24 |
| JPS5686188A (en) | 1981-07-13 |
| JPS63146863A (ja) | 1988-06-18 |
| JPH0314832B2 (ja) | 1991-02-27 |
| JPS5686187A (en) | 1981-07-13 |
| JPS60185787A (ja) | 1985-09-21 |
| JPS5896092A (ja) | 1983-06-07 |
| JPS63152387A (ja) | 1988-06-24 |
| JPS63152385A (ja) | 1988-06-24 |
| JPS63152371A (ja) | 1988-06-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0710870B2 (ja) | 新規セフェム化合物 | |
| JPS63146863A (ja) | カルボン酸類 | |
| JPH0149273B2 (ja) | ||
| EP0236231B1 (en) | Novel cephem compounds | |
| AU612990B2 (en) | Antibiotic compounds | |
| JPS6133836B2 (ja) | ||
| JP4028607B2 (ja) | 新規なセファロスポリン誘導体またはその塩 | |
| JPH01319486A (ja) | セフアロスポリン化合物、その製法及びこれを含有する抗菌剤組成物 | |
| CA1150726A (en) | Cephalosporins, processes for the preparation and pharmaceuticals containing these compounds | |
| JPS6129957B2 (ja) | ||
| CA1093549A (en) | Cephalosporin antibiotics | |
| JPH11279180A (ja) | 新規なセファロスポリン誘導体またはその塩並びにそれらを含有する抗菌剤 | |
| JPH064643B2 (ja) | セフアロスポリン化合物 | |
| JP3140525B2 (ja) | 新規なセファロスポリン誘導体およびその塩 | |
| JPH051271B2 (ja) | ||
| JPH027316B2 (ja) | ||
| JPH0316358B2 (ja) | ||
| JP3914276B2 (ja) | 新規なセファロスポリン誘導体またはその塩 | |
| JPH08259572A (ja) | 新規なセファロスポリン誘導体またはその塩 | |
| JP4057667B2 (ja) | 新規なセファロスポリン誘導体またはその塩 | |
| EP0122156A2 (en) | Improvements in or relating to benzothienylglycyl cephalosporin derivatives | |
| EP0168222A2 (en) | 3-(Alkynylalkyloxy) Cephalosporins | |
| NO791788L (no) | Cefalosporiner og fremgangsmaate til deres fremstilling | |
| JPH0129796B2 (ja) | ||
| JPH072751B2 (ja) | 新規なセフアロスポリン類およびその塩 |