JPH0369353B2 - - Google Patents

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JPH0369353B2
JPH0369353B2 JP62290249A JP29024987A JPH0369353B2 JP H0369353 B2 JPH0369353 B2 JP H0369353B2 JP 62290249 A JP62290249 A JP 62290249A JP 29024987 A JP29024987 A JP 29024987A JP H0369353 B2 JPH0369353 B2 JP H0369353B2
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JP
Japan
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ester
compound
salts
reaction
esters
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JP62290249A
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JPS63152388A (ja
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Takao Takatani
Hisashi Takasugi
Takashi Masugi
Hideaki Yamanaka
Koji Kawabata
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Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
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Publication date
Application filed by Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd filed Critical Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Publication of JPS63152388A publication Critical patent/JPS63152388A/ja
Publication of JPH0369353B2 publication Critical patent/JPH0369353B2/ja
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Description

【発明の詳細な説明】
この発明は、新規なセフエム化合物およびその
塩に関するものである。 さらに詳しく述べると、この発明は、抗菌活性
を有する新規な7−アシルアミノ−3−ビニルセ
フアロスポラン酸誘導体およびその塩類を製造す
るための中間体である新規なセフエム化合物およ
びその塩に関するものである。 従つて、この発明の目的は、多数の病原性微生
物に対して優れた抗菌活性を示し、抗菌性薬剤、
特に経口投与用薬剤として有用な新規な7−アシ
ルアミノ−3−ビニルセフアロスポラン酸誘導体
およびその医薬上許容される塩類を製造するため
の中間体である新規なセフエム化合物およびその
塩類を提供することにある。 この発明の目的とするセフエム化合物()は
新規化合物であり、下記一般式により表わすこと
ができる。 [式中、R4はアリール基、 RBは式 −CH2−X1、−CH2P (R53・X2 または−
CH=P(R53 (式中、R5はアリール基、X1およびX2はそれぞ
れハロゲンを意味する)で示される基、R1はカ
ルボキシ基または保護されたカルボキシ基を意味
する] 下記の方法1ないし4で製造される目的化合物
()および対応する原料化合物()、()お
よび()において、これら化合物中の不斉炭素
原子および二重結合に基づき、化学異性体および
幾何異性体の如き1個または2個以上の立体異性
体の対が存在し得るが、これらの異性体は何れも
この発明に包含されるものとする。 目的化合物()の適当な塩類としては、医薬
上許容される塩類、特に慣用される非毒性塩が含
まれ、塩基との塩類および酸付加塩、すなわち無
機塩基との塩類、例えばナトリウム塩、カリウム
塩等のアルカリ金属塩、カルシウム塩、マグネシ
ウム塩等のアルカリ土類金属塩、アンモニウム
塩、有機塩基との塩類、例えばトリエチルアミン
塩、ピリジン塩、ピコリン塩、エタノールアミン
塩、トリエタノールアミン塩、ジシクロヘキシル
アミン塩、N,N′−ジベンジルエチレンジアミ
ン塩等の有機アミン塩、塩酸塩、臭化水素酸塩、
硫酸塩、燐酸塩等の無機酸付加塩、ぎ酸塩、酢酸
塩、トリフルオロ酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸
塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸
塩、p−トリエンスルホン酸塩等の有機カルボン
酸またはスルホン酸付加塩、アルギニン、アスパ
ラギン酸、グルタミン酸等の塩基性または酸性ア
ミノ酸との塩類等が含まれる。 上記および下記の説明において、種々の定義に
含まれる適当な例を詳細に説明すると次の通りで
ある。 低級の語は、特にことわらない限り、1ないし
7個の炭素原子を有する基を含むものとして用い
る。 適当な「保護されたカルボキシ」としては、ペ
ニシリンまたはセフアロスポリン化合物の3位ま
たは4位で慣用されるエステル化されたカリボキ
シが含まれる。 エステル化されたカルボキシにおける適当なエ
ステル部分としては、メチルエステル、エチルエ
ステル、プロピルエステル、イソプロピルエステ
ル、ブチルエステル、イソブチルエステル、第3
級ブチルエステル、ペンチルエステル、第3級ペ
ンチルエステル、ヘキシルエステル等の低級アル
キルエステル、ビニルエステル、アリルエステル
等の低級アルケニルエステル、エチニルエステ
ル、プロピニルエステル等の低級アルキルエステ
ル、メトキシメチルエステル、エトキシメチルエ
ステル、イソプロポキシメチルエステル、1−メ
トキシエチルエステル、1−エトキシエチルエス
テル等の低級アルコキシ(低級)アルキルエステ
ル、メチルチオメチルエステル、エチルチオメチ
ルエステル、エチルチオエチルエステル、イソプ
ロピルチオメチルエステル等の低級アルキルチオ
(低級)アルキルエステル、2−アミノ−2−カ
リボキシエチルエステル、3−アミノ−3−カル
ボキシプロピルエステル等のアミノおよびカルボ
キシ置換低級アルキルエステル、2−第3級ブト
キシカルボニルアミノ−2−ベンズヒドリルオキ
シカルボニルエチルエステル、3−第3級ブトキ
シカルボニルアミノ−3−ベンズヒドリルオキシ
カルボニルプロピルエステル等の低級アルコキシ
カルボニルアミノおよびモノ(もしくはジもしく
はトリ)フエニル(低級)アルコキシカルボニル
置換低級アルキルエステルのような保護されたア
ミノおよび保護されたカルボキシ置換低級アルキ
ルエステル、2−ヨードエチルエステル、2,
2,2−トリクロロエチルエステル等のモノ(も
しくはジもしくはトリ)ハロ(低級)アルキルエ
ステル、アセトキシメチルエステル、プロピオニ
ルオキシメチルエステル、ブチリルオキシメチル
エステル、シソブチリルオキシメチルエステル、
バレリルオキシメチルエステル、ピバロイルオキ
シメチルエステル、ヘキサノイルオキシメチルエ
ステル、2−アセトキシエチルエステル、2−プ
ロピオニルオキシエチルエステル、1−アセトキ
シプロピルエステル等の低級アルカノイルオキシ
(低級)アルキルエステル、メシルメチルエステ
ル、2−メシルエチルエステル等の低級アルカン
スルホニル(低級)アルキルエステル、ベンジル
エステル、4−メトキシベンジルエステル、4−
ニトロベンジルエステル、フエネチルエステル、
トリチルエステル、ベンズヒドリルエステル、ビ
ス(メトキシフエニル)メチルエステル、3,4
−ジメトキシベンジルエステル、4−ヒドロキシ
−3,5−第3級ブチルベンジルエステル等の1
個または2個以上の適当な置換基を有していても
よいモノ(もしくはジ−もしくはトリ)フエニル
(低級)アルキルエステルのような1個または2
個以上の置換基を有していてもよいアル(低級)
アルキルエステル、フエニルエステル、トリルエ
ステル、第3級ブチルフエニルエステル、キシリ
ルエステル、メシチルエステル、クメニルエステ
ル、サリチルエステル等の1個または2個以上の
適当な置換基を有してもよいアリールエステル、
フタリジルエステル等の複素環式エステル等が含
まれる。 適当な「ハロゲン」としては、クロロ、ブロ
モ、ヨード等が含まれる。 適当な「アリール」としては、フエニル、トリ
ル、キシリル、ナフチル等が含まれる。 本発明の目的化合物()およびその塩類は下
記反応式の方法により製造される。 [式中、R1、R4、R5、X1およびX2はそれぞれ前
と同じ意味である。] 目的化合物()の製造における方法1ないし
4を詳しく説明すると、次の通りである。 方法1 化合物(−a)またはその塩類は、化合物
()またはその塩類にハロゲン化剤を反応させ
ることにより製造される。 化合物()の適当な塩類としては、化合物
()について例示したのと同じ塩基が含まれる。 この反応に用いる適当なハロゲン化剤として
は、3塩化燐、5塩化燐、オキシ塩化燐、3臭化
燐、5臭化燐等の燐ハロゲン化物、塩化チオニル
等のハロゲン化チオニル、ホスゲン等のヒドロキ
シ基をハロゲンに変えるために慣用されるものが
用いられる。 この反応は、ナトリウムメトキサイド、ナトリ
ウムエトキサイド、カリウム第3級ブトキサイド
等のアルカリ金属アルコキサイド、酢酸ナトリウ
ム等のアルカン酸アルカリ金属、トリエチルアミ
ン等のトリアルキルアミン、ピリジン、ルチジ
ン、ピロリン等のピリジン化合物、キノリン等の
有機塩基のような塩基の存在下に行なわれるのが
好ましい。 この反応は、通常メチレンクロライド、クロロ
ホルム、エチレンクロライド、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、N,N−ジメチルホルムアミド
等のこの反応に悪影響を及ぼさない慣用溶媒、ま
たはこれらの混合物中で行なわれる。 反応温度は特に限定されないが、通常冷却下な
いし加温下に反応が行なわれる。 方法2 化合物(−b)またはその塩類、化合物(
−a)またはその塩類に式P(R53(式中、R5
前と同じ意味)で示されるトリ置換ホスフインを
反応させることにより製造される。 この反応は、よう化ナトリウム、よう化カリウ
ム、臭化ナトリウム等のアルカリ金属ハライドの
ような金属ハライドの存在下に行なうのが好まし
く、この場合、化合物(−a)におけるX1
ハロゲンが、目的化合物(−b)において、上
記金属ハライドのハロゲンと置換される場合があ
る。 この反応は、通常N,N−ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキサイド、メチレンクロライ
ド、テトラヒドロフラン、酢酸エチル等のこの反
応に悪影響を及ぼさない慣用溶媒、またはこれら
の混合物中で行なわれる。 反応温度は特に限定されないが、通常冷却下な
いし加温下に反応が行なわれる。 方法3 化合物(−c)またはその塩類は、化合物
(−b)またはその塩基を反応させることによ
り製造される。 この反応は、方法1で例示したような有機塩
基、あるいはリチウム、ナトリウム、カリウム等
のアルカリ金属、カルシウム等のアルカリ土類金
属、水素化ナトリウム等の水素化アルカリ金属、
水素化カルシウム等の水素化アルカリ土類金属、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水酸化ア
ルカリ金属、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の
炭酸アルカリ金属、炭酸水素ナトリウム、炭酸水
素カリウム等の炭酸水素アルカリ金属のような無
機塩基の存在下に行なわれるのが好ましい。 この反応は、通常アセトン、テトラヒドロフラ
ン、水等のこの反応に悪影響を及ぼさない慣用溶
媒中で行なわれる。 反応温度は特に限定されないが、通常冷却下な
いし若干加温する程度の温度で反応が行なわれ
る。 方法4 化合物(−a)またはその塩類は、化合物
()またはその塩類に式R4−CHO(式中、R4
前と同じ意味)で示される化合物()を反応さ
せることにより行なわれる。 この反応は、モレキユラーシーブ等の脱水剤の
存在下に行なうのが好ましい。 この反応は、通常N,N−ジメチルホルムアミ
ド等のこの反応に悪影響を及ぼさない慣用溶媒中
で行なわれる。 反応温度は特に限定されないが、通常室温ない
し加熱下に反応が行なわれる。 上記方法1ないし4並びに反応混合物の後処理
において、原料化合物または目的化合物が光学も
しくは幾何異性体を含む場合には、これが他の光
学もしくは幾何異性体に変る場合があるが、この
場合もこの発明に含まれるものとする。 本発明の化合物()は、抗菌剤として有用な
7−アシルアミノ−3−ビニルセフアロスポラン
酸の合成中間体として有用である。この7−アシ
ルアミノ−3−ビニルセフアロスポラン酸は、例
えば後述の参考例に記載の方法によつて本発明の
化合物()から製造される。 目的化合物の有用性を示すために、本発明の目
的化合物()を原料化合物として使用して製造
される7−アシルアミノ−3−ビニルセフアロス
ポラン酸の代表的なものについて抗菌活性を測定
した結果を次に示す。 (1) 試験1:試験管内抗菌活性 [試験化合物] 7−[2−(3−メタンスルホンアミドフエニ
ル)−D−グリシンアミド]−3−ビニル−3−
セフエム−4−カルボン酸(化合物A) [試験方法] 下記の寒天平板倍数希釈法により、試験管内
抗菌活性を測定した。 トリプチケース・ソーイ・ブロス(菌数
108/ml)中で一夜培養した試験菌株の1白金
耳を、各濃度の試験化合物を含むハート・イン
フユージヨン・アガー(HI寒天)に接種し、
37℃で20時間培養した後、最低発育阻止濃度
(MIC)をμg/ml単位で測定した。 [試験結果]
【表】 (2) 試験2:ラツトに対する抗生物質経口投与後
の血清レベルの測定 [試験化合物] 化合物A [試験動物] 生後6週間の雄ラツト、SD系、体重各160な
いし230g [試験方法] 一夜絶食させたラツトに試験化合物A(100
mg/Kg)を経口投与した。規定時間毎にラツト
をクロロホルム麻酔し、血液試料を心臓から採
取した。各血清試料中の抗生物質レベルをラツ
ト血清で作つた標準溶液を用いてデイスク法に
より測定した。 [試験結果]
【表】 (3) 試験3:実験的マウス感染症に対する保護効
果 [試験化合物] 化合物A [試験動物] 生後4週間の雄マウス、ICR系、体重各20.0
±1.5g [試験方法] 2.5%ムチンにけんだくした菌数1.3×104の病
原性微生物を腹腔内に注射した。注射の1時間
後、化合物Aを経口投与した。このマウスを4
日後に生死判定し、ED50値を計算した。 [試験結果]
【表】 この発明の目的化合物()から得られる7−
アシルアミノ−3−ビニル−セフアロスポラン酸
を治療の目的で投与するにあたつては、上記化合
物を主成分として含み、これに医薬上許容される
担体、例えば経口、非経口、または外用に適した
有機もしくは無機、固体もしくは液体の賦形薬を
加えた慣用製剤の形で投与できる。このような製
剤としては錠剤、顆粒剤、散剤、カプセル等の固
体、および液剤、けんだく剤、シロツプ、乳剤、
レモネード等の液体が含まれる。 さらに、必要に応じて、上記製剤中に補助剤、
安定剤、湿潤剤、そのほか乳糖、ステアリン酸マ
グネシウム、白土、しよ糖、コーンスターチ、タ
ルク、ステアリン酸、ゼラチン、寒天、ペクチ
ン、ピーナツツ油、オリーブ油、カカオ脂、エチ
レングリコール等の繁用される添加物を含有させ
ることができる。 7−アシルアミノ−3−ビニル−セフアロスポ
ラン酸の投与量は、患者の年令、状態、疾病の種
類、および投与化合物の種類により異なるが、一
般に1日当り1mgないし約4000mgまたはそれ以上
の量を患者に投与できる。1回の平均投与量とし
ては、上記化合物約50mg、100mg、250mg、500mg、
1000mg、2000mgを、病原性微生物による疾病の治
療に用いることができる。 次に、この発明を実施例により詳細に説明す
る。 原料化合物の製造 製造例 1 7−(5−アミノ−5−カルボキシペンタンア
ミド)−3−ヒドロキシメチル−3−セフエム−
4−カルボン酸ナトリウム(118.6g)を水
(1000ml)およびアセトン(600ml)に溶かした溶
液に、ベンゾイルクロライド(42.1g)を氷冷撹
拌下10℃で、反応混合物を20%炭酸ナトリウム水
溶液でPH6.5ないし7.5に調整しながら適下する。
同温度で1時間撹拌を続けた後、反応混合物を濃
塩酸でPH6.0に調整し、アセトンを留去し、酢酸
エチル(500ml)で洗浄する。水溶液に酢酸エチ
ル(300ml)を加え、ジフエニルジアゾメタンと
酢酸エチルを溶液を、薄層クロマトグラフイー上
で原料化合物が消失するまで加え、濃塩酸でPH
3.0に調整する。酢酸エチル層を分取し、塩化ナ
トリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥し、減圧濃縮する。残留物をアセトン
(400ml)にとかし、溶液をジイソプロピルエーテ
ル(4000ml)に滴下する。沈澱する結晶を濾取し
乾燥すると、mp100−110℃の7−(5−ベンズア
ミド−5−ベンズヒドリルオキシカルボニルペン
タンアミド)−3−ヒドロキシメチル−3−セフ
エム−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル
(224.8g)を得る。 IR(ヌジヨール):3270、1770、1730、1660、
1640cm-1 NMRδppm(DMSO−d6):1.3−2.7(6H、m)、
3.38(1H、s)、3.63(2H、m)、4.27(2H、d、
J=5Hz)、4.67(1H、m)、5.15(1H、d、J
=5Hz)、5.77(1H、dd、J=5Hz、8Hz)、
6.87(1H、s)、6.95(1H、s)、7.43(25H、
m)、7.97(1H、m)、8.87(1H、m) 製造例 2 5塩化燐(27.0g)と、メチレンクロライド
(200ml)のけんだく液に、ピリジン(10.3g)を
0℃で滴下し、5℃で20分間撹拌する。これに7
−(5−ベンズアミド−5−ベンズヒドリルオキ
シカルボニルペンタンアミド)−3−ヒドロキシ
メチル−3−セフエム−4−カルボン酸ベンズヒ
ドリルエステル(21.0g)を−40℃で一度に加
え、−30℃で1時間、−10℃でさらに1時間撹拌を
続ける。反応混合物に−40℃に冷却したメタノー
ル(100ml)を−40℃で一度に加え、−10℃で1時
間撹拌する。溶媒を留去し、残留物にメチレンク
ロライド(100ml)、水(30ml)およびジイソプロ
ピルエーテル(100ml)を加え、混合物を氷冷下
少時撹拌する。沈殿する結晶を濾取し、酢酸エチ
ル(300ml)にけんだくし、炭酸水素ナトリウム
水溶液でPH8.0に調整する。有機層を分取し、塩
化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウム
で乾燥する。溶媒を留去すると、mp135−140℃
(分解)の7−アミノ−3−クロロメチル−3−
セフエム−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステ
ル(2.8g)を得る。 IR(ヌジヨール):3400、1760、1725、1650cm-1 NMRδppm(DMSO−d6):3.60(2H、q、J=17
Hz)、4.38(2H、s)、4.85(1H、d、J=5
Hz)、5.05(1H、d、J=5Hz)、6.95(1H、
s)、7.4(10H、m)、8.8(2H、m) 目的化合物の製造 実施例 1 7−アミノ−3−クロロメチル−3−セフエム
−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル(8.0
gを)N,N−ジメチルホルムアミド(40ml)に
とかした溶液に、モレキユラーシーブ(10g)お
よびベンズアルデヒド(2.1g)を加え、40℃で
40分間撹拌する。これによう化ナトリウム(2.9
g)およびトリフエニルホスフイン(10.1g)を
加え、40℃で1時間撹拌する。反応混合物をジイ
ソプロピルエーテル(200ml)と酢酸エチル(100
ml)の混合物中に滴下し、沈殿する結晶を濾取し
乾燥すると、mp150−158℃(分解)の[4−ベ
ンズヒドリルオキシカルボニル−7−ベンジリデ
ンアミノ−3−セフエム−3−イル]メチル−ト
リフエニルホスホニウムヨーダイド(16.9g)を
得る。 IR(ヌジヨール):1780、1705、1635cm-1 NMRδppm(DMSO−d6):3.67(2H、m)、5.2
(2H、m)、5.58(1H、d、J=5Hz)、5.82
(1H、d、J=5Hz)、6.30(1H、s)、7.2−
8.3(30H、m)、8.70(1H、s) 実施例 2 [4−ベンズヒドリルオキシカルボニル−7−
ベンジリデンアミノ−3−セフエム−3−イル]
メチル−トリフエニルホスホニウムヨーダイド
(16.9g)をメチレンクロライド(200ml)および
水(100ml)にとかした溶液に、36%ホルムアル
デヒド水溶液(48ml)を加え、炭酸ナトリウムで
PH9.0に調整する。混合物を室温で1時間撹拌後、
有機層を分取し、塩化ナトリウム水溶液で洗浄
し、硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を留去す
ると、mp124−132℃の7−ベンジリデンアミン
−3−ビニル−3−セフエム−4−カルボン酸ベ
ンズヒドリルエステル(8.6g)を得る。 IR(ヌジヨール):1770、1710、1630cm-1 NMRδppm(DMSO−d6):3.75(2H、q、J=18
Hz)、5.1−5.8(4H、m)、6.75(1H、dd、J=10
Hz、18Hz)、6.93(1H、s)、7.1−8.0(15H、m)、
8.58(1H、s) 参考例 1 7−ベンジリデンアミノ−3−ビニル−3−セ
フエム−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル
(8.6g)とアニソール(10ml)のけんだく液に、
トリフルオロ酢酸(10ml)を−20℃で滴下し、反
応混合物を撹拌下徐々に室温にし、室温で半時間
撹拌する。反応混合物を酢酸エチル(100ml)お
よび飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(100ml)の
混合物中に注入し、20%炭酸ナトリウム水溶液で
PH7.5に調整する。水層を分取し、酢酸エチル
(100ml)で洗浄し、濃塩酸PH7.2に調整し、アル
ミナ(10ml)でカラムクロマトグラフイーに付
す。15%塩化ナトリウム水溶液で溶離し、目的化
合物を含むクラクシヨンを集め、濃塩酸でPH3.3
に調整する。沈殿する結晶を濾取し、アセトンで
洗浄し乾燥すると、mp200−230℃(分解)の7
−アミノ−3−ビニル−3−セフエム−4−カル
ボン酸(2.0g)を得る。 IR(ヌジヨール):1800、1605cm-1 NMRδppm(D2O+NaHCO3):3.67(2H、s)、
4.8−5.8(5H、m)、6.88(1H、dd、J=12Hz、
18Hz) 参考例 2 2−(3−メタンスルホンアミドフエニル)−D
−グリシン(2.44g)とメチレンクロライド(25
ml)のけんだく液に、塩化水素ガスを5ないし10
℃で5分間吹込む。5酸化燐(3.1g)を加え、
混合物を0ないし10℃で5時間撹拌する。沈殿し
た固体を濾取し、メチレンクロライド(5ml)で
洗浄し、乾燥すると残留物(2.7g)を得る。こ
の残留物を、7−アミノ−3−ビニル−3−セフ
エム−4−カルボン酸(1.8g)とトリメチルシ
リルイアセトアミド(6.3g)をメチレンクロラ
イド(30ml)にとかした溶液に−15℃で撹拌下に
加え、−5ないし0℃で3時間撹拌を続ける。反
応混合物に水(30ml)加え、少時振とうする。水
層を分取し、20%炭酸ナトリウム水溶液でPH5に
調整し、減圧下に濃縮乾固し、得られる固体を非
イオン性吸着樹脂「ダイヤイオンHP−20」(120
ml)でクロマグラフイーに付す。水洗後、30%イ
ソプロピルアルコールで溶離し、目的化合物を含
むフラクシヨンを集め減圧濃縮する。残留物を凍
結乾燥すると、7−[2−(3−メタンスルホンア
ミドフエニル)−D−グリシンアミド]−3−ビニ
ル−3−セフエム−4−カルボン酸(0.47g)を
得る。 IR(ヌジヨール):3300−3150、1760、1685、
1605cm-1

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 式 [式中、R4はアリール基、 RBは式 −CH2−X1、−CH2P (R53・X2 または−
    CH=P(R53 (式中、R5はアリール基、X1およびX2はそれぞ
    れハロゲンを意味する)で示される基、R1はカ
    ルボキシ基または保護されたカルボキシ基を意味
    する] で示される化合物またはその塩類。
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