JPH0554509B2 - - Google Patents

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JPH0554509B2
JPH0554509B2 JP59184850A JP18485084A JPH0554509B2 JP H0554509 B2 JPH0554509 B2 JP H0554509B2 JP 59184850 A JP59184850 A JP 59184850A JP 18485084 A JP18485084 A JP 18485084A JP H0554509 B2 JPH0554509 B2 JP H0554509B2
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JP
Japan
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disazo
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present
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JP59184850A
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JPS6162563A (ja
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Masayuki Shoji
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Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
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Publication of JPS6162563A publication Critical patent/JPS6162563A/ja
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording-members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat or to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02Charge-receiving layers
    • G03G5/04Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
    • G03G5/06Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
    • G03G5/0664Dyes
    • G03G5/0675Azo dyes
    • G03G5/0679Disazo dyes
    • G03G5/0681Disazo dyes containing hetero rings in the part of the molecule between the azo-groups

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
  • Light Receiving Elements (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
技術分野 本発明は、新規なジスアゾ化合物およびその製
造方法に関する。 従来技術 積層型電子写真用感光体の電荷発生層に用いら
れる電荷発生顔料としてある種のジスアゾ化合物
が有効であることは、従来から知られている。 ここでいう積層型感光体とは、導電性支持体上
に、光によつて電荷担体を生成する能力を有する
電荷発生顔料を適切な方法例えば真空蒸着、顔料
溶液の塗布あるいは樹脂溶液に顔料の微細粒子を
分散した分散液の塗布などにより薄層として電荷
発生層を形成せしめ、その上に、電荷発生層で生
成した電荷担体を効率よく注入され得てしかもそ
の移動を行なうところの電荷搬送層(通常、この
電荷搬送層は電荷搬送物質と結着樹脂とからな
る)を形成せしめた感光体である。 これまで、この種の感光体に使用されるジスア
ゾ化合物としては、例えば、特開昭47−37543号
及び特開昭52−55643号などの公報に記載されて
いるベンジジン系ジスアゾ化合物、あるいは、特
開昭52−8832号公報に記載されているスチルベン
系ジスアゾ化合物などが知られている。 しかしながら、従来のジスアゾ化合物を用いた
積層型の感光体は一般に感度が低く、また、可視
域の感光波長域がおよそ450〜700nmに亘つてお
り、この感光波長特性からいつて赤色原稿の画像
再現性が悪かつた。そのため、この感光体を実装
する場合は、赤色光をカツトするフイルターを用
いる必要があるなどの理由から複写機設計上の不
利があつた。 目 的 本発明の目的は、電子写真感光体特にさきに述
べた積層型電子写真感光体において有効な新規な
ジスアゾ化合物を提供することにある。 本発明の他の目的は、上記ジスアゾ化合物の製
造方法を提供することにある。 すなわち本発明の1つは、下記一般式() 〔但し、Aは 又は
【式】で示されるカツ プラー残基(ここで、Xはベンゼン環、ナフタレ
ン環またはカルバゾール環を表わし、Arはフエ
ニル基もしくは低級アルキル基、低級アルコキシ
基、ハロゲン原子、ニトロ基、ハロメチル基また
はシアノ基で置換されたフエニル基を表わし、
R1,R2およびR3は水素もしくは低級アルキル基
を表わす)である。〕 で表わされる新規なジスアゾ化合物である。 一般式()におけるXの具体例としては、ベ
ンゼン環、ナフタレン環、カルバゾール環などが
例示できる。 また、本発明の他の一つは式() で表わされる3,6−ビス(4−アミノフエニ
ル)−s−テトラジンをジアゾ化して一般式() (式中、Yはアニオン官能基を表わす。) で表されるテトラゾニウム塩とし、このテトラゾ
ニウム塩と前記Aで表わされるカツプラー残基を
有するカツプラーとを反応させることを特徴とす
る一般式() (式中、Aは前記と同じカツプラー残基を表わ
す。) で表わされる新規なジスアゾ化合物の製造方法で
ある。 この製造方法にあつて3,6−ビス(4−アミ
ノフエニル)−s−テトラジンのジアゾ化は、こ
れを、例えば塩酸あるいは硫酸のような無機酸中
で、亜硝酸ナトリウムを−10℃ないし50℃にて添
加することにより行なわれる。このジアゾ化反応
は、およそ30分間から3時間で完結する。さら
に、反応混合物に例えばホウフツ化水素酸あるい
はホウフツ化ナトリウム水溶液などを加えてテト
ラゾニウム塩として沈殿させ、結晶を取してか
ら次の反応に用いることが望ましい。 次いで、このテトラゾニウム塩に前記Aで表わ
されたカツプラーを作用させカツプリング反応を
起させることにより行なわれる。実際には、この
反応はN,N−ジメチルホルムアミド(DMF)
やジメチルスルホキシドなどの有機溶媒にテトラ
ゾニウム塩およびカツプラーを混合溶解してお
き、これを約−10℃ないし40℃にて酢酸ナトリウ
ム水溶液などのアルカリ水溶液を滴下することに
より行なわれる。この反応はおよそ5分間ないし
3時間で完結する。 反応終了後、析出している結晶を取し、適切
な方法により精製(例えば、水あるいは/および
有機溶剤による洗浄、再結晶法など)することに
より上記ジスアゾ化合物の製造は完了する。 このようにして製造される本発明のジスアゾ化
合物の製造例を示せば次の通りである。 製造例 水79mlと濃塩酸79mlとより成る塩酸中へ3,6
−ビス(4−アミノフエニル)−s−テトラジン
22.8gを加え約60℃で1時間加熱した後、−3℃
まで冷却し、次いで、これに亜硝酸ナトリウム
13.1gを水30mlに溶解した溶液を−3℃〜0℃の
温度で50分間にわたり滴下した。その後同温度で
30分撹拌したのち、この反応液中に42%硼弗化水
素酸120mlを添加し、析出した結晶を別し、水
洗、乾燥して31.38g(収率78.8%)のテトラゾ
ニウムジフルオロボレートの赤色結晶を得た。 分解点106℃以上、赤外線吸収スペクトル
(KBr錠剤法)では2280cm-1にN2 に基ずく吸収
帯が認められた。 このようにして得られたテトラゾニウム塩4.6
gとカツプリング成分として2−ヒドロキシ−3
−ナフトエ酸アニリド5.8g(テトラゾニウム塩
の2倍モル)とを冷却したN,N−ジメチルホル
ムアミド700ml中に溶解し、これに酢酸ナトリウ
ム2.5gおよび水25mlからなる溶液を5〜10℃の
温度で20分間にわたつて滴下し、冷却を中止した
後、生成した沈殿を取し、80℃に加熱したN,
N−ジメチルホルムアミド700mlで3回洗浄し、
次に水700mlで2回洗浄し、80℃で2mmHgの減圧
下に乾燥して表−1の化合物No.1のジスアゾ顔料
5.6g(収率68.9%)を得た。 表−1および表−2に上記製造例に従つて、合
成した本発明のジスアゾ化合物例を示す。
【表】
【表】
【表】 これらの新規なジスアゾ化合物は常温において
赤〜赤紫色の粉体である。 第1図から第12図には本発明の代表的なジス
アゾ化合物の赤外線吸収スペクトル(KBr錠剤
法)を示した。 第1図…化合物No.1 第2図…化合物No.2 第
3図…化合物No.3 第4図…化合物No.4 第5図
…化合物No.5 第6図…化合物No.10 第7図…化
合物No.12 第8図…化合物No.13 第9図…化合物
No.16 第10図…化合物No.19 第11図…化合物
No.21 第12図…化合物No.24 本発明のジスアゾ化合物は、前述の通り、電子
写真感光体の感光材料として、特に積層型感光体
の電荷発生材料として有効であり、その点を明ら
かにするために、以下に具体的な用途例を示す。
また、本発明の進歩性を明らかにするために、従
来のジスアゾ化合物との比較も同様に示す。 用途例 本発明のジスアゾ化合物No.12を76重量部、ポリ
エステル樹脂(東洋紡績社製バイロン200)のテ
トラヒドロフラン溶液(固形分濃度2%)1260重
量部およびテトラヒドロフラン3700重量部をボー
ルミル中で粉砕混合し、得られた分散液をアルミ
ニウム蒸着したポリエステルベース(導電性支持
体)のアルミ面上にドクターブレードを用いて塗
布し、自然乾燥して、厚さ約1μmの電荷発生層を
形成した。 一方、9−エチルカルバゾール−3−アルデヒ
ド−1−メチル−1−フエニルヒドラゾン2重量
部、ポリカーボネート樹脂(帝人化成社製パンラ
イトK1300)2重量部およびテトラヒドロフラン
16重量部を混合溶解して溶液としたのち、これを
前記電荷発生層上にドクターブレードで塗布し80
℃で2分間、次いで100℃で5分間乾燥して厚さ
約20μmの電荷搬送層を形成せしめ、第13図に
示した積層型の感光体(A)を作成した。 比較のために、上記感光体の作成手順に従い、
本発明のジスアゾ化合物の代りに 前述した特開昭45−37543号公報および特開
昭52−55643号公報に記載されているベンジジ
ン系ジスアゾ化合物である4,4′−ビス(2−
ヒドロキシ−3−フエニルカルバモイル−1−
ナフチルアゾ)−3,3′−ジクロルジフエニル、
および 特開昭52−8832号公報に記載されているスチ
ルベン系ジスアゾ化合物である4,4′−ビス
(2−ヒドロキシ−3−フエニルカルバモイル
−1−ナフチルアゾ)スチルベン を用いた以外は全く同様にして、それぞれ感光体
(B)および感光体(C)を作成した。 このようにして作成した感光体(A),(B)および(C)
について、市販の静電複写紙試験装置(川口電機
製作所社製SP−428型)を用いて、その静電特性
を測定した。 すなわち、まず感光体に−6KVのコロナ放電
を20秒間行なつて負帯電させてその時の表面電位
を測定してVdo(ボルト)を求め、そのまま20秒
間暗所で暗減衰させてその時の表面電位を測定し
てVpo(ボルト)とした。ついで、タングステン
ランプからその表面が照度4.5ルツクスになるよ
う感光層に光照射を施し、その表面電位がVpoの
1/2になる迄の時間(秒)を求めて露光量E1/2
(ルツクス・秒)とした。同様に、Vpoの1/5及び
1/10になる迄時間(秒)を求めて、露光量E1/5
(ルツクス・秒)及びE1/10(ルツクス・秒)を
求めた。この結果を表−3に示した。
【表】 表−3の結果から明らかなように、本発明のジ
スアゾ化合物を用いた感光体(A)は従来のジスアゾ
化合物を用いた感光体(B)および(C)と比較して感度
が高いことが判る。 効 果 以上述べてきたことから、本発明のジスアゾ化
合物がきわめて有効な材料であることが理解され
る。即ち、本発明のジスアゾ化合物を用いた感光
体は感度が高く、また、その感光波長域が可視域
の短波長側(およそ450〜600nm)にあるため赤
色原稿の複写画像再現性も優れたものとなつてい
る。 さらに、本発明のジスアゾ化合物は、樹脂中に
電荷発生物質と電荷搬送物質とを分散させた単層
型の感光層を有する電子写真感光体における電荷
発生物質として、また、樹脂中に光導電性物質を
分散させた感光層を有する電子写真感光体におけ
る光導電性物質としても有用である。
【図面の簡単な説明】
第1図ないし第12図は本発明の代表的なジス
アゾ化合物の赤外線吸収スペクトル図(KBr錠
剤法)、第13図は本発明にかかわる電子写真感
光体の一例の拡大断面図である。 11…支持体(ポリエステルベース)、22…
アルミニウム蒸着膜、33…電荷発生層、44…
電荷搬送層。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式() 〔但し、Aは 又は【式】で示されるカツ プラー残基(ここで、Xはベンゼン環、ナフタレ
    ン環またはカルバゾール環を表わし、Arはフエ
    ニル基もしくは低級アルキル基、低級アルコキシ
    基、ハロゲン原子、ニトロ基、ハロメチル基また
    はシアノ基で置換されたフエニル基を表わす、
    R1,R2およびR3は水素もしくは低級アルキル基
    を表わす)である。〕 で表わされるジスアゾ化合物。 2 式() で表わされる3,6−ビス(4−アミノフエニ
    ル)−s−テトラジンをジアゾ化して一般式() (式中、Yはアニオン官能基を表わす。) で表わされるテトラゾニウム塩とし、このテトラ
    ゾニウム塩と下記Aで表わされるカツプラー残基
    を有するカツプラーとを反応させることを特徴と
    する一般式() 〔但し、Aは 又は【式】で示されるカツ プラー残基(ここで、Xはベンゼン環、ナフタレ
    ン環またはカルバゾール環を表わし、Arはフエ
    ニル基もしくは低級アルキル基、低級アルコキシ
    基、ハロゲン原子、ニトロ基、ハロメチル基また
    はシアノ基で置換されたフエニル基を表わす、
    R1,R2およびR3は水素もしくは低級アルキル基
    を表わす)である。〕 で表わされるジスアゾ化合物の製造方法。
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