JPS5980661A - N−フエニルテトラヒドロフタルイミド誘導体、その製造法およびそれを有効成分とする除草剤 - Google Patents
N−フエニルテトラヒドロフタルイミド誘導体、その製造法およびそれを有効成分とする除草剤Info
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- JPS5980661A JPS5980661A JP19114182A JP19114182A JPS5980661A JP S5980661 A JPS5980661 A JP S5980661A JP 19114182 A JP19114182 A JP 19114182A JP 19114182 A JP19114182 A JP 19114182A JP S5980661 A JPS5980661 A JP S5980661A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は一般式
〔式中、R1は低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基
、低級アルコキシ低級アル゛コキシ基、シクロアルキル
オキシ基、シクロアルキル低級アルコキシ基、ハロ低級
アルコキシ基またはシアノ低級アルコキシ基を、助は水
素原子、メチル基またはメトキシ基を、Xは塩素原子ま
たは臭素原子を表わす。〕 で示されるN−フェニルテトラヒドロフタルイミド誘導
体(以下、本発明化合物と記す。)、その製造法および
それを有効成分とする除草剤に関するものである。
、低級アルコキシ低級アル゛コキシ基、シクロアルキル
オキシ基、シクロアルキル低級アルコキシ基、ハロ低級
アルコキシ基またはシアノ低級アルコキシ基を、助は水
素原子、メチル基またはメトキシ基を、Xは塩素原子ま
たは臭素原子を表わす。〕 で示されるN−フェニルテトラヒドロフタルイミド誘導
体(以下、本発明化合物と記す。)、その製造法および
それを有効成分とする除草剤に関するものである。
ある種のN−フェニルテトラヒドロフタルイミド誘導体
、例えば、2−(4−クロロ−2−フルオロフェニル)
−4,5,6,7−テトラヒドロ−2H−イソインドー
ル−1,8−ジオンが除草剤の有効成分として用いうろ
ことは特開昭51−51521号公報に記載されている
。
、例えば、2−(4−クロロ−2−フルオロフェニル)
−4,5,6,7−テトラヒドロ−2H−イソインドー
ル−1,8−ジオンが除草剤の有効成分として用いうろ
ことは特開昭51−51521号公報に記載されている
。
しかしながら、これらの化合物は除草剤の有効成分とし
て必ずしも常に充分なもの、であるとはいえない。
て必ずしも常に充分なもの、であるとはいえない。
本発明化合物は畑地の茎葉処理および土壌処理において
、問題となる種々の雑草、例えば、スベリヒュ、シロザ
、アオビユ(アオゲイトウ)、アメリカッノクサネム、
イチビ、アメリカキンゴジカ、アメリカアサガオ、マル
バアサガオ、セイヨウヒルガオ、ヨウシュチョウセンア
サガオ、イヌホオズキ、オナモミ、ヒマ□ワリ、ブタフ
サ等の広葉雑草等に対して除草効力を有し、シカもいく
つかの本発明化合物はトウモロコシ、ダイズ等の主要作
物に対して問題となるような薬害を示さない。
、問題となる種々の雑草、例えば、スベリヒュ、シロザ
、アオビユ(アオゲイトウ)、アメリカッノクサネム、
イチビ、アメリカキンゴジカ、アメリカアサガオ、マル
バアサガオ、セイヨウヒルガオ、ヨウシュチョウセンア
サガオ、イヌホオズキ、オナモミ、ヒマ□ワリ、ブタフ
サ等の広葉雑草等に対して除草効力を有し、シカもいく
つかの本発明化合物はトウモロコシ、ダイズ等の主要作
物に対して問題となるような薬害を示さない。
・ また、本発明化合物のあるものは水田において問題
となる種々の雑草、例えば、タイヌビエ等のイネ科雑草
、アゼナ、キカシグサ、ミゾハコベ等の広葉雑草、タマ
ガヤツリ等のカヤツリグサ科雑草、コナギ、ウリカワ等
の水田雑草に対して除草効力を有し、しかもイネに対し
て問題となるような薬害を示さない。
となる種々の雑草、例えば、タイヌビエ等のイネ科雑草
、アゼナ、キカシグサ、ミゾハコベ等の広葉雑草、タマ
ガヤツリ等のカヤツリグサ科雑草、コナギ、ウリカワ等
の水田雑草に対して除草効力を有し、しかもイネに対し
て問題となるような薬害を示さない。
本発明化合物は水田、畑地、果樹園、牧草地、芝生地、
森林あるいは非農耕地の除草剤の有効成分として用いる
ことができる。
森林あるいは非農耕地の除草剤の有効成分として用いる
ことができる。
本発明化合物は一般式
〔式中、Xは前記と同じ意味を表わす。〕で示されるア
ニリン誘導体と1.0〜10当lの一般式 %式%[] 〔式中、2は塩素原子または臭素原子を表わし・R1お
よび助は前記と同じ意味を表わす。〕で示されるハロカ
ルボン酸エステルとを溶媒中、0.5〜l、0当量の脱
ハロゲン化水素剤の存在下あるいは非存在下、0℃〜2
00℃、1.0時間〜96時間反応させることによって
製造することができる。
ニリン誘導体と1.0〜10当lの一般式 %式%[] 〔式中、2は塩素原子または臭素原子を表わし・R1お
よび助は前記と同じ意味を表わす。〕で示されるハロカ
ルボン酸エステルとを溶媒中、0.5〜l、0当量の脱
ハロゲン化水素剤の存在下あるいは非存在下、0℃〜2
00℃、1.0時間〜96時間反応させることによって
製造することができる。
溶媒には、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル
、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテル等のエーテル類、アセトン、メチ
ルエチルケトン、メチルイソブチルケ!・ン、イソポロ
ン、シクロヘキサノン等のケトン類、メタノール、エタ
ノール、イソプロパツール、【−プクノール、オクタツ
ール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブ、ジエチ
レングリコール、グリセリン等のアルコール類、アセト
ニトリル、イソブチロニトリル等のニトリル類、ピリジ
ン、トリエチルアミン、N、N−ジエチルアニリン、ト
リブチルアミン、N−メチルモルホリン等の第三級アミ
ン類、ホルムアミド、N、N−ジメチルボルムアミド、
アセトアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド、
スルポラン等の硫黄化合物等あるいは、それらの混合物
がある。
、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテル等のエーテル類、アセトン、メチ
ルエチルケトン、メチルイソブチルケ!・ン、イソポロ
ン、シクロヘキサノン等のケトン類、メタノール、エタ
ノール、イソプロパツール、【−プクノール、オクタツ
ール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブ、ジエチ
レングリコール、グリセリン等のアルコール類、アセト
ニトリル、イソブチロニトリル等のニトリル類、ピリジ
ン、トリエチルアミン、N、N−ジエチルアニリン、ト
リブチルアミン、N−メチルモルホリン等の第三級アミ
ン類、ホルムアミド、N、N−ジメチルボルムアミド、
アセトアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド、
スルポラン等の硫黄化合物等あるいは、それらの混合物
がある。
脱ハロゲン化水素剤には、ピリジン、トリエチルアミン
、N、N−ジエチルアニリン等の有機塩基、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム、水素化ナトリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキ
シド、ナトリウムエトキシド等のアルカリ金属アルコキ
シド等がある。
、N、N−ジエチルアニリン等の有機塩基、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム、水素化ナトリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキ
シド、ナトリウムエトキシド等のアルカリ金属アルコキ
シド等がある。
反応終了後は通常の後処理を行い、必要ならば、クロマ
トグラフィー、再結晶等によって精製する。
トグラフィー、再結晶等によって精製する。
次に本発明化合物の製造例を示す。
製造例1 (本発明化合物12の製造)2−(8−アミ
ノ−4−ブロム−6−フルオロフェニル)−4,5,6
,7−テトラヒドロ−2H−イソインドール−1,3−
ジオン0.85gを1.4−ジオキリ・ン5 mlに溶
かし、ブロム酢酸エチル8.8gを加え、6時間還流し
た。さらにトリエチルアミン0.21を加え、1時間還
流した。放冷後、水、トルエンを加え、トルエン抽出し
た。トルエン層を乾燥、濃縮し、残渣をシリカゲルカラ
ムを用いて精製し、2−(4−ブロモ1−2−フルオロ
−5−エトキシカルボニルメチルイミノフェニル)−4
,5,6,7−テトラヒドロ−2H−イソインドール−
1,3−ジオン1.Ofを得た。 nDl、5281 このような製造法によって製造できる本発明化合物のい
くつかを第1表に示す。
ノ−4−ブロム−6−フルオロフェニル)−4,5,6
,7−テトラヒドロ−2H−イソインドール−1,3−
ジオン0.85gを1.4−ジオキリ・ン5 mlに溶
かし、ブロム酢酸エチル8.8gを加え、6時間還流し
た。さらにトリエチルアミン0.21を加え、1時間還
流した。放冷後、水、トルエンを加え、トルエン抽出し
た。トルエン層を乾燥、濃縮し、残渣をシリカゲルカラ
ムを用いて精製し、2−(4−ブロモ1−2−フルオロ
−5−エトキシカルボニルメチルイミノフェニル)−4
,5,6,7−テトラヒドロ−2H−イソインドール−
1,3−ジオン1.Ofを得た。 nDl、5281 このような製造法によって製造できる本発明化合物のい
くつかを第1表に示す。
第1表
一般式
本発明化合物を製造する場合、原料化合物である一般式
〔■〕のアニリン誘導体は一般式〔式中、Xは前記と同
じ意味を表わす。〕で示されるニトロベンゼン銹導体と
2.0〜10当量の鉄粉とを溶媒中、触媒量〜大過剰量
の酸の存在下、20℃〜2oo℃、0.5時間〜24時
間反応させることによって製造することができる。
〔■〕のアニリン誘導体は一般式〔式中、Xは前記と同
じ意味を表わす。〕で示されるニトロベンゼン銹導体と
2.0〜10当量の鉄粉とを溶媒中、触媒量〜大過剰量
の酸の存在下、20℃〜2oo℃、0.5時間〜24時
間反応させることによって製造することができる。
溶媒には、メタノール、エタノール等のアルコール類、
テトラヒドロフラン、酢酸、水等がある。
テトラヒドロフラン、酢酸、水等がある。
酸には、塩酸、酢酸等がある。
反応終了後は通常の後処理を行い、必要ならば、クロマ
トグラフィー、再結晶等によって精製する。
トグラフィー、再結晶等によって精製する。
次にこの一般式rII]のアニリン誘導体の製造例を示
す。
す。
製造例2
2−(4−クロロ−2−フルオロ−5−ニトロフェニル
)−4,5,6,7−テトラヒドロ−2H−イソインド
ール−1,3−ジオン16.2gを酢酸200−に溶か
し、鉄粉14fを含む596酢酸水30づに90〜10
0℃で滴下した。滴下後、1時間還流した。放冷後、ク
ロロホルムを加え、炉別した。r液の有機層を分離し、
飽和重曹水で洗い乾燥、濃縮した。残渣は結晶化し、エ
ーテル/石油エーテルより再結晶し、2−(8−アミノ
−4−クロロ−6−フルオ白フェニル)−4,5,6,
7−チトラヒドロー2 tr−イソインドール−1,8
−ジオン7.5fを得た。
)−4,5,6,7−テトラヒドロ−2H−イソインド
ール−1,3−ジオン16.2gを酢酸200−に溶か
し、鉄粉14fを含む596酢酸水30づに90〜10
0℃で滴下した。滴下後、1時間還流した。放冷後、ク
ロロホルムを加え、炉別した。r液の有機層を分離し、
飽和重曹水で洗い乾燥、濃縮した。残渣は結晶化し、エ
ーテル/石油エーテルより再結晶し、2−(8−アミノ
−4−クロロ−6−フルオ白フェニル)−4,5,6,
7−チトラヒドロー2 tr−イソインドール−1,8
−ジオン7.5fを得た。
mP 144.5−146.5℃
製造例3
製造例2と同様にして、2−(4−ブロモ−2−フルオ
ロ−5−pトロフェニル)−4゜5.6.7−チトラヒ
ドロー2 H−イソインドール−1,3−ジオンより2
−(8−アミノ−4−プロモー6−フルオロフェニル)
−4、b、6.7−テトラヒドロ−211−イソインド
ール−L、8−ジオンを得た。
ロ−5−pトロフェニル)−4゜5.6.7−チトラヒ
ドロー2 H−イソインドール−1,3−ジオンより2
−(8−アミノ−4−プロモー6−フルオロフェニル)
−4、b、6.7−テトラヒドロ−211−イソインド
ール−L、8−ジオンを得た。
+111) ’ 168〜164.5℃本発明化合物を
除草剤の有効成分として用いる場合は、通常固体担体、
液体担体、界面活性剤その他の製剤用補助剤と混合して
、乳剤、水和剤、懸濁剤、粒剤、粉剤、等に製剤する。
除草剤の有効成分として用いる場合は、通常固体担体、
液体担体、界面活性剤その他の製剤用補助剤と混合して
、乳剤、水和剤、懸濁剤、粒剤、粉剤、等に製剤する。
これらの製剤には有効成分として本発明化合物を重量比
で01〜9596、好ましくは1〜8096含有する。
で01〜9596、好ましくは1〜8096含有する。
固体担体には、カオリンクレー、アタパルジャイトクレ
ー、ベント□ナイト、−酸性白土、パイロフィライト、
タルク、珪藻土、方解石、クルミ粉、尿素、硫酸アンモ
ニウム、合成含水酸化珪素等の微粉末あるいは粒状物が
あり、液体担体には、キシレン、メチルナフタリン等の
芳香族炭化水素類、イソプロパツール、エチレンクリコ
ール、セロソルブ等のアルコール類、ア士トン、シクロ
ヘキサノン、イソホロン等のケトン類、大豆油、綿実油
等の植物油、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、
水等がある。
ー、ベント□ナイト、−酸性白土、パイロフィライト、
タルク、珪藻土、方解石、クルミ粉、尿素、硫酸アンモ
ニウム、合成含水酸化珪素等の微粉末あるいは粒状物が
あり、液体担体には、キシレン、メチルナフタリン等の
芳香族炭化水素類、イソプロパツール、エチレンクリコ
ール、セロソルブ等のアルコール類、ア士トン、シクロ
ヘキサノン、イソホロン等のケトン類、大豆油、綿実油
等の植物油、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、
水等がある。
乳化、分散、湿炭等のために用いら’JLる界面活性剤
には、アルキル硫酸エステル塩、アルヤル(アリール)
スルホン酸塩、ジアルキルスルホこはく酸塩、ポリオキ
シエチレンアルキルアリールエーテルりん酸エステル塩
等の胸イオン界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキル
エーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリール、エー
テル、ポリオキシエチレン、ポリオキシブロビレンブロ
ックコボリマー、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキ
シソルビタン脂肪酸エステル等の非イオン界面活性剤等
がある。製剤用補助剤には、リグニンスルホン酸塩、ア
ルギン酸塩、ポリビニルアルコール、アラビアガム、C
MC(カルボキシメチルセルロース)、FAI’(酸性
りん酸イソプロピル)等がある。
には、アルキル硫酸エステル塩、アルヤル(アリール)
スルホン酸塩、ジアルキルスルホこはく酸塩、ポリオキ
シエチレンアルキルアリールエーテルりん酸エステル塩
等の胸イオン界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキル
エーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリール、エー
テル、ポリオキシエチレン、ポリオキシブロビレンブロ
ックコボリマー、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキ
シソルビタン脂肪酸エステル等の非イオン界面活性剤等
がある。製剤用補助剤には、リグニンスルホン酸塩、ア
ルギン酸塩、ポリビニルアルコール、アラビアガム、C
MC(カルボキシメチルセルロース)、FAI’(酸性
りん酸イソプロピル)等がある。
次に製剤例を示す。なお、本発明化合物は第1表の化合
物番号で示す。部は重エル部を示すっ製剤例1 本発明化合物9.50部、リグニンスルホン酸カルシウ
ム8部、ラウリル硫酸ソーダ2部および合成含水酸化珪
素45部をよく粉砕混合して水和剤を得る。
物番号で示す。部は重エル部を示すっ製剤例1 本発明化合物9.50部、リグニンスルホン酸カルシウ
ム8部、ラウリル硫酸ソーダ2部および合成含水酸化珪
素45部をよく粉砕混合して水和剤を得る。
製剤例2
本発明化合物5.10部、ポリオキシエチレンスチリル
フェニルエーテル14部、ドデシルベンゼンスルホン酸
カルシウム6部、キシレン30部およびシクロへキサノ
ン40部をよく混合して乳剤を得る。
フェニルエーテル14部、ドデシルベンゼンスルホン酸
カルシウム6部、キシレン30部およびシクロへキサノ
ン40部をよく混合して乳剤を得る。
製剤例3
本発明化合物7.2部、合成水酸化珪素1部、リグニン
スルホン酸カルシウム2部、ベントナイト80部および
カオリン、クレー65部をよく粉砕混合し、水を加えて
よく練り合せナコ後、造粒乾燥して粒剤を得る。
スルホン酸カルシウム2部、ベントナイト80部および
カオリン、クレー65部をよく粉砕混合し、水を加えて
よく練り合せナコ後、造粒乾燥して粒剤を得る。
製剤例4
本発明化合物9.25部、ポリオキシエチレンソルビタ
ンモノオレエート8部、CMC3部、水69部を混合し
、有効成分の粒度が5ミクロン以ドになるまで湿式粉砕
して懸濁剤を僻吻得る。
ンモノオレエート8部、CMC3部、水69部を混合し
、有効成分の粒度が5ミクロン以ドになるまで湿式粉砕
して懸濁剤を僻吻得る。
これらの製剤はそのままであるい′は水等で希釈し、茎
葉処理あるいは土壌処理する。土壌処理の場合は製剤を
土壌表面に散布する(必要に応じ、散布後土壌と混和す
る。 )かまたは土壌に潅注する。
葉処理あるいは土壌処理する。土壌処理の場合は製剤を
土壌表面に散布する(必要に応じ、散布後土壌と混和す
る。 )かまたは土壌に潅注する。
また、他の除草剤と混合して用いることにより、除草効
力の増強を期待できる。さらに、殺虫剤、殺ダニ剤、殺
線虫剤、殺菌剤、植物生長調節剤、肥ネ・1、土ta改
良剤等と混合して用いることもできる。
力の増強を期待できる。さらに、殺虫剤、殺ダニ剤、殺
線虫剤、殺菌剤、植物生長調節剤、肥ネ・1、土ta改
良剤等と混合して用いることもできる。
本発明化合物を除草剤の有効成分として用いる場合、そ
の施用格は通當1アールあたり0.01y〜100g、
好ましくは、0,1f−50gであり、乳剤、水和剤、
11■燭剤等は1アールあたり1リットル〜10リット
ルの(必要ならば、展着剤等の散布補助剤を添加した)
水で希釈して施用し、粒剤、粉剤等はなんら希釈するこ
となくそのまま施用する。
の施用格は通當1アールあたり0.01y〜100g、
好ましくは、0,1f−50gであり、乳剤、水和剤、
11■燭剤等は1アールあたり1リットル〜10リット
ルの(必要ならば、展着剤等の散布補助剤を添加した)
水で希釈して施用し、粒剤、粉剤等はなんら希釈するこ
となくそのまま施用する。
展着剤には前記の界面活性剤のほか、ポリオキシエチレ
ン樹脂酸(エステル)、リグニンスルポン酸塩、アビエ
チン酸塩、ジナフチルメタンジスルホン酸塩、パラフィ
ン等がある。
ン樹脂酸(エステル)、リグニンスルポン酸塩、アビエ
チン酸塩、ジナフチルメタンジスルホン酸塩、パラフィ
ン等がある。
次に 本発明化合物が除草剤の有効成分として有用であ
ることを試験例で示す。なお、本発明化合物は第1表の
化合物番号で示し、比較対照に用いた化合物は第2表の
化合物記号で示す。
ることを試験例で示す。なお、本発明化合物は第1表の
化合物番号で示し、比較対照に用いた化合物は第2表の
化合物記号で示す。
第2表
なお、作物にに対する薬害と’a’(8草(こ対する除
草効力は、訓育時に枯れ残り?コ(Jl:試植物O)地
上部の乾燥重量をはかり、化合1勿を′9(試していな
い場合に対する比率(96)を1t−j’?:L、第3
表の区分に従って評価し、桑7v、と除草りjj力をO
から5までの数値で示す。
草効力は、訓育時に枯れ残り?コ(Jl:試植物O)地
上部の乾燥重量をはかり、化合1勿を′9(試していな
い場合に対する比率(96)を1t−j’?:L、第3
表の区分に従って評価し、桑7v、と除草りjj力をO
から5までの数値で示す。
第8表
試験例1 畑地藁処理試験
面積88 X 28 crtt”、深さ11mのバット
に畑地土壌を詰め、ダイズ、マルバアサガオ、イチビ、
イヌホウズキ、オナモミ、アメリカツノクサネムを播種
し、1”8日間耐酸した。
に畑地土壌を詰め、ダイズ、マルバアサガオ、イチビ、
イヌホウズキ、オナモミ、アメリカツノクサネムを播種
し、1”8日間耐酸した。
その後、乳剤にした供試化合物を展着剤を含む1アール
あたり10リツトル相当の水で希釈し、その所定量を小
型噴霧器で植物体の上方から茎葉部全面に均一に散布し
た。このとき各植物の生育は草種により異なるが、2〜
4葉期で、草丈は2〜12crnであった。散布20日
後に除草効力を調査した。その結果を第4表に示す。な
お、本試験は全期間を通して温室内で行った。
あたり10リツトル相当の水で希釈し、その所定量を小
型噴霧器で植物体の上方から茎葉部全面に均一に散布し
た。このとき各植物の生育は草種により異なるが、2〜
4葉期で、草丈は2〜12crnであった。散布20日
後に除草効力を調査した。その結果を第4表に示す。な
お、本試験は全期間を通して温室内で行った。
第4表
第 4 表 のつづき
試験例2 畑地土壌混和処理試験
直径10副、深さ1OcInの円筒型プラスデックポッ
トに畑地土壌を詰め、ダイズ、ワタ、マルバアサガオ、
イチビを播伸し、′覆土した。
トに畑地土壌を詰め、ダイズ、ワタ、マルバアサガオ、
イチビを播伸し、′覆土した。
乳剤にした供試化合物を1アールあたり10゜す・ソ、
トル、相当の水で希釈し、その所定量を小型噴霧器で土
壌表面に散布した後、深さ4cmまで、の土壌表層部分
をよく混和した。散布後20日間温室内で育成し、除草
効力を調査した。その結果を、第5表に示すっ 第5表 試験例3 水田上カッ処理試験 直径8 cm、 l 2 (Inの円筒型プラスチッ
クポ・ソトに水田上樋を詰め、タイヌビエ、広葉雑草(
アゼナ、キカシグサ、ミゾハコベ)の種子を1〜2cm
の深さに混ぜ込んだ。湛水して水田状1円とした後、ウ
リカワの塊茎を1〜2t:mの深さに埋め込み、更に2
葉期のイネを移植し、温室内で育成した。6日後(各椎
茸の発生初期)に乳剤にした供試化合物を1ボ、・、ト
あたり5ミリリツトルの水で希釈し、その所定垣を水面
に滴下したつ滴下後20日間温室内で育成し、除草効力
を刺青した。
トル、相当の水で希釈し、その所定量を小型噴霧器で土
壌表面に散布した後、深さ4cmまで、の土壌表層部分
をよく混和した。散布後20日間温室内で育成し、除草
効力を調査した。その結果を、第5表に示すっ 第5表 試験例3 水田上カッ処理試験 直径8 cm、 l 2 (Inの円筒型プラスチッ
クポ・ソトに水田上樋を詰め、タイヌビエ、広葉雑草(
アゼナ、キカシグサ、ミゾハコベ)の種子を1〜2cm
の深さに混ぜ込んだ。湛水して水田状1円とした後、ウ
リカワの塊茎を1〜2t:mの深さに埋め込み、更に2
葉期のイネを移植し、温室内で育成した。6日後(各椎
茸の発生初期)に乳剤にした供試化合物を1ボ、・、ト
あたり5ミリリツトルの水で希釈し、その所定垣を水面
に滴下したつ滴下後20日間温室内で育成し、除草効力
を刺青した。
その結果を第6表に示すっ
第6表
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1) 一般式 〔式中、川は低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、
低級アルコキシ低級アルコキシ基、シクロアルキルオキ
シ基、シクロアルキル低級アルコキシ基、ハロ低級アル
コキシ基またはシアノ低級アルコキシ基を、R2は水素
原子、メチル基またはメトキシ基を、Xは塩素原子また
は臭素原子を表わす。〕 で示されるN−フェニルテトラヒドロフタルイミド誘導
体。 (2) 一般式 〔式中、Xは塩素原子または臭素原子を表オ)す 。
〕 で示されるアニリン誘導体と一般式 %式% 〔式中、R1は低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基
、低級アルコキシ低級アルコキシ基、シクロアルキルオ
キシ基、シクロアルキル低級アルコキシ基、ハロ低級ア
ル:Jキシ基またはシアノ低級アルコキシ基を、k2は
水素原子、メチル基またはメトキシ基を、Zは塩素原子
まtこは臭素原子を表イ)す。〕 で示されるハロカルボン酸エステルとを反応させること
を特徴とする一般式 1し2 〔式中、R1、:R2およびXは前記と同じ意味を表わ
すっ〕 で示されるN−フェニルテトラヒドロフタル〜 イミド誘導体の製造法。 (8)一般式 〔式中、川は低級アルコキシ基、低級アルキル低級アル
コキシ基、ハロ低級アルコキシ基またはシアノ低級5ア
ルコキシ基を、助は水素原子、メチル基またはメトキシ
基を、Xは塩素原子または臭素原子を表わす。〕で示さ
れるN−フェニルテトラヒドロフタルイミド誘導体を有
効成分とすることを特徴とする除草剤。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19114182A JPS5980661A (ja) | 1982-10-29 | 1982-10-29 | N−フエニルテトラヒドロフタルイミド誘導体、その製造法およびそれを有効成分とする除草剤 |
| JP20697290A JPH03169859A (ja) | 1982-10-29 | 1990-08-03 | N―フェニルテトラヒドロフタルイミド誘導体およびそれを有効成分とする除草剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19114182A JPS5980661A (ja) | 1982-10-29 | 1982-10-29 | N−フエニルテトラヒドロフタルイミド誘導体、その製造法およびそれを有効成分とする除草剤 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20697290A Division JPH03169859A (ja) | 1982-10-29 | 1990-08-03 | N―フェニルテトラヒドロフタルイミド誘導体およびそれを有効成分とする除草剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5980661A true JPS5980661A (ja) | 1984-05-10 |
| JPH0322382B2 JPH0322382B2 (ja) | 1991-03-26 |
Family
ID=16269568
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19114182A Granted JPS5980661A (ja) | 1982-10-29 | 1982-10-29 | N−フエニルテトラヒドロフタルイミド誘導体、その製造法およびそれを有効成分とする除草剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5980661A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5136868A (en) * | 1983-11-04 | 1992-08-11 | Fmc Corporation | Herbicidal 1-aryl-4-substituted-1,4-dihydro-5h-tetrazol-5-ones and sulfur analogs thereof |
| US5488874A (en) * | 1991-10-18 | 1996-02-06 | Abbott Laboratories | Liquid aspirating method |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58103363A (ja) * | 1981-12-11 | 1983-06-20 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | テトラヒドロフタルイミド類およびこれを有効成分とする除草剤 |
-
1982
- 1982-10-29 JP JP19114182A patent/JPS5980661A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58103363A (ja) * | 1981-12-11 | 1983-06-20 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | テトラヒドロフタルイミド類およびこれを有効成分とする除草剤 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5136868A (en) * | 1983-11-04 | 1992-08-11 | Fmc Corporation | Herbicidal 1-aryl-4-substituted-1,4-dihydro-5h-tetrazol-5-ones and sulfur analogs thereof |
| US5488874A (en) * | 1991-10-18 | 1996-02-06 | Abbott Laboratories | Liquid aspirating method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0322382B2 (ja) | 1991-03-26 |
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