JPS605589B2 - ピラゾ−ル誘導体の製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はピラゾール誘導体の製造方法に関する。

さらに詳しくは本発明は、一般式 〔式中Ｙは塩素原子またはニトロ基であり、Ｚはアリル
（ａｌｌｙｌ）基、プロパルギル基、４−ニトロペンジ
ル基、フェネチル基、フェナシル基「 ４−クロロフェ
ナシル基、２０４ージクロロフェナシル基、４ーメチル
スルホニルフェナシル基または２・４ージニトロフェニ
ル基である〕で表わされるピラゾール譲導体の製造方法
に係るものである。

本発明に係るピラゾール誘導体は一般に下記の法で製造
される。

（口） 十日ａｌ・Ｚ（ｍ） 溶媒，アルカリノ存在下＼ 還流温度又はそれ以下 １〜１０時間 上記反応式中Ｙ及びＺは前述の通りであり、歌１はハロ
ゲン原子である。

上記反応において使用する溶媒としてはアセトン、メチ
ルエチルケトン、ジメチルホルムアミドなどの非プロト
ン極性溶媒類があげられ、またアルカリとしては炭酸カ
リウム、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウムなどがあげ
られる。なお、沃化鋼、弗化鋼などのハロゲン化第一銅
触媒を存在させた場合に、その反応性を向上させること
ができる。次に本発明による具体的合成例を記載する。

製造例 １１・３ージメチルー４一（２・４−ジクｏｏ
ベンゾイル）一５一（２・４−ジニトロフエノキシ）ピ
ラゾール４ツロフラスコに１・３ージメチル−４一（２
・４ージクロロベンゾイル）−５−ヒドロキシピラゾー
ル１．４３夕を入れてメチルエチルケトン１５の‘に溶
解させた。

これに無水炭酸カリウム１．３８夕を加え鷹拝しながら
２・４ージニトロフェニルフルオリド０．９３夕を滴下
し、滴下終了後３時間還流条件下で反応させた。フラス
コ内容物を様遇しメチルエチルケトンを留去して反応沈
澱物を得、これを塩化メチレンに溶解させた。この溶液
と飽和炭酸水素ナトリウム水が溶液とを混合し分液して
有機層を取り出し、塩化メチレンを留去して固形物を得
た。この固形物をベンゼンで洗浄して融点１９０〜１９
〆○の目的物１．５８夕を得た。製造例 ２１・３ージ
メチル−４一（２１４−ジクロロベンゾイル）一５−プ
ロパルギルオキシピラゾーノレ２・４−ジニトロフヱニ
ルフルオリド０．９３夕に代えてプロパルギルブロミド
０．７１夕を使用することを除いては、前記製造例１と
同様にして反応させ、精製して、屈折率皿２５１．５８
５の目的物０．９３夕を得た。

製造例 ３１・３ージメチル−４一（２・４ージクロロ
ベンゾイル）−５−（４ークロロベンゾイルメトキシ）
ピラゾール２・４ージニトロフエニルフルオリド０．９
３夕に代えてｐークロロフェナシルブロミド１．０夕を
使用することを除いては、前記製造例１と同機にして反
応させ、精製して、茶褐色の半固状目的物１．７２夕を
得た。

製造例 ４ １・３ージメチルー４一（２・４ージクロロベンゾイル
）一５−ペンゾイルメトキシピラゾ−′レ４ツロフラス
コに１・３ージメチル−４一（２・４−ジクロロベンゾ
イル）一５一ヒドロキシピラゾール１．４３夕を入れて
、メチルエチルケトン１５叫に溶解させた。

これに無水炭酸カリウム１．３８夕を加えて鷹拝しなが
らフェナシルブロミド１．０夕を滴下し、滴下終了後３
時間還流条件下で反応させた。フラスコ内容物を櫨過し
、メチルエチルケトンを留去して反応沈澱物を得、これ
を塩化メチレンに溶解させた。この溶液と飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液とを混合し、分液して有機層を取り出
し、塩化メチレンを留去して融点１０２〜１０４午Ｃの
目的物１．９２夕を得た。上記製造法或いは製造例に準
じて製造した化合物を次表に記載する。

表 １ 本発明のピラゾール誘導体は、後記試験例にみる通り、
除草剤の有効成分として使用した場合に好適な作用効果
を示す。

特にィネなどの作物に対して実質的に害を与えることな
く、ヒヱ、カャツリグサ、キカシグサ、ホタルイ、ウリ
カワなどの有害雑草をよよく防除する。本発明除草剤は
各種雑草に対してすぐれた除草効果をもたらすので、そ
の適用範囲は水田をはじめ、畑地、果樹園、桑園、山林
、農道、グラウンド、工場敷地など多岐にわたり、適用
方法も±壌処理、茎葉処理を適宜選択できる。

本発明除草剤は、前述の有効成分すなわち、ピラゾール
誘導体を水に直接溶解ないしは分散させて、水溶液或は
水分散液とするほか、桂藻±、消石灰、炭酸カルシウム
、猪石、、ホワイトカーボン、カオリン、ベントナイト
、ジークライトなどの損体：ベンゼン、トルェン、キシ
レン・ソルベソトナフサ、エタノール、ジオキサン、ア
セトン、イソホロン、メチルイソブチルケトン、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、水などの溶剤
：さらに必要に応じてアルキル硫酸ソーダ、アルキルベ
ンゼンスルホン酸ソーダ、リグニンスルホン酸ソーダ、
ボリオキシェチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチ
レンアルキルアリールェーテル、ポリオキシェチレン脂
肪酸ェステル、ポリオキシェチレンソルピタン脂肪酸ェ
ステルなどのアニオン系或いは、非イオン系界面活性剤
などを適宜配合し、乳剤、水和剤、液剤、粉剤、粒剤の
形態に製剤して使用できる。

製剤時の配合割合は例えば、有効成分を１〜９頂重量％
、望ましくは１〜７の重量％、担体または溶剤を５〜９
９重量％、望ましくは２５〜９＄重量％、界面活性剤を
０〜３の重量％、望ましくは１〜２の重量％とするのが
適当である。また、本発明除草剤は他の除草剤、殺虫剤
、殺菌剤などの農薬類、或は肥料、土壌などと混用、併
用することができ、この場合に一層すぐれた効果を示す
場合もある。

本発明除草剤の施用適量は気象条件、土壌条件、薬剤の
製剤形態、施用時期、施用方法、対象雑草の種類などの
相違により一概に規定できないが、一般に１アール当り
の施用有効成分量として１〜５００夕、望ましくは１０
〜１００夕である。次に、本発明に係る除草剤の植物試
験及び製剤の実施例を記載するが、勿論本発明はこれら
の記載のみに限定されるものではない。試験例 １ １／２０００アールポットに、水田土壌をいれて飽水さ
せた後、食餌ビヱ種子を播種し、軽く覆土して畑状態で
発芽させた。

子葉鞘が出現したときに湛水して水深３肌とし、各供試
化合物の水分散液を有効成分当り１００タ′ａになるよ
うに滴下処理した。薬液処理３週間後に生育状態を肉眼
で観察し、下記基準（１〜５の５点法）に基づいて生育
抑制程度を表わし、表２に掲載した。生育抑制程度 ５
：完全な枯死状態 １：無処理区と同様の生育 表 ２ 試験例 ２ 有効成分の施用量を減少させて処理することを除いては
、前記試験例１と同様にして試験を行なつた。

表３ 試験例 ３ １／２０００アールポットに水田土壌を入れて飽水させ
た後、ホタルィ種子を多量に含む土壌を各ポットの土壌
表面にまいた。

ホタルイが１葉期に達したときに湛水して水深３肌とし
、所定量の各供試化合物の水分散液を滴下処理した。薬
液処理３週間後に生育状態を肉眼で観察し、試験例１の
場合と同様の基準で生育抑制程度を表わし、表４の結果
を得た。表４ 試験例 ４ １′２０００アールポットにウリカワの塊茎を植え込ん
で湛水して水深３肌とし、温室内に生育させた。

ウリカワが２葉期に達したときに、所定量の各供試化合
物の水分散液を滴下処理した。薬液処理３週間後に生育
状態を内眼で観察し、試験例１の場合と同様の基準で生
育抑制程度を表わし、表５の結果を得た。表５ 試験例 ５ １／２０００アールポットに水田土壌を詰めて飽水させ
た後、２．真庭期の水稲苗を移植し湛水して生育させた
。

移植後３日目に湛水深３肌の状態で供試化合物の水分散
液を所定の処理量になるよう滴下処理をおこなった。処
理後４週間目に全個体を抜取り、風乾車を秤量して無処
理区を１００とする指数を求めた。表６ 製剤例 １ ‘１）ベントナィト ５頚重量部
（２１ジークライト ３０
〃【３｝ＩＪグニンスルホン酸ソーダ ５
″以上の各成分を混合、造粒し、これに適量のアセト
ンで希釈した１・３−ジメチルー４一（２１４−ジクロ
ロベンゾイル）一５一（２・４ージニトロフェノキシ）
ピラゾール７重量部をスプレーして本発明除草剤（粒剤
）を得た。

製剤例 ２ （１）１・３ージメチル−４一（２・４一ジクロロべン
ゾイル〉一５一アリロキシピラゾール２の重量部 （２）キシレン ６０
〃（３｝ソルボール２８０組（商品名：東邦化学工業
製）２０ 〃以上の各成分を均一に混合して、本発明除
草剤（乳剤）を得た。

製剤例 ３ ○｝１・３ージメチルー４一（２・４ージクロロベンゾ
イル）−５ーベンゾイルメトキシピラゾール
２の重量部（２）ジークライ
ト ７５ 〃｛３’ラベリンＳ
（商品名：第一工業製薬製）２ 〃（４｝リグニンスル
ホン酸ソーダ ３ 〃以上の各成分を均一に混
合して、本発明除草剤（水和剤）を得た。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Ｙは塩素原子またはニトロ基である〕で表わされ
   る化合物と一般式Ｈａｌ−Ｚ〔式中Ｚはアリル（ａｌｌ
   ｙｌ）基、プロパルギル基、４−ニトロベンジル基、フ
   エネチル基、フエナシル基、４−クロロフエナシル基、
   ２・４−ジクロロフエナシル基、４−メチルスルホニル
   フエナシル基または２・４−ジニトロフエニル基である
   〕で表わされる化合物とを反応させて、一般式▲数式、
   化学式、表等があります▼ 〔式中Ｙ及びＺは前述の通りである〕で表わされるピラ
   ゾール誘導体の製造方法。