JPS6412268B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6412268B2 JPS6412268B2 JP7751981A JP7751981A JPS6412268B2 JP S6412268 B2 JPS6412268 B2 JP S6412268B2 JP 7751981 A JP7751981 A JP 7751981A JP 7751981 A JP7751981 A JP 7751981A JP S6412268 B2 JPS6412268 B2 JP S6412268B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- compound
- reaction
- present
- alkyl group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)
Description
本発明は新規なジスルホネート誘導体に関す
る。 本発明のジスルホネート誘導体は、下記一般式
（）で表わされる。 〔式中Ａは置換基として低級アルキル基又はヒド
ロキシル基を有しもしくは有しないアリレン基、
およびＲは直鎖状もしくは分枝状アルキル基、シ
クロヘキシル低級アルキル基、低級アルキル基を
有しもしくは有しないシクロヘキシル基又はアラ
ルキル基を示す〕 上記一般式（）中Ａで表わされるアリレン基
としては、芳香族炭化水素の２価基例えばフエニ
レン、ナフテレン基等を例示できる。該アリレン
基は低級アルキル基例えばメチル、エチル、プロ
ピル、ブチル基等の炭素数１〜５のアルキル基又
はヒドロキシル基を置換基として有していてもよ
く、之等置換基を有するアリレン基としては、例
えば４−メチル−１，２−フエニレン、１−ヒド
ロキシ−２，６−ナフチレン基等を例示できる。 またＲで表わされる直鎖状もしくは分枝状アル
キル基としては、例えばメチル、エチル、プロピ
ル、ヘキシル、オクチル、デシル、イソプロピ
ル、イソブチル、２−メチル−ブチル、１−エチ
ルペンチル基等の炭素数１〜10の直鎖状もしくは
分枝状アルキル基を、シクロヘキシル低級アルキ
ル基としては、例えばシクロヘキシルメチル、２
−シクロヘキシルエチル、３−シクロヘキシルプ
ロピル、１−シクロヘキシルメチルプロピル基等
を、低級アルキル基を有しもしくは有しないシク
ロヘキシル基としては、例えばシクロヘキシル
基、４−メチルシクロヘキシル、４−エチルシク
ロヘキシル、４−プロピルシクロヘキシル基等
を、またアラルキル基としては、例えばベンジ
ル、フエネチル、ワエニルプロピル基等を夫々例
示できる。 本発明の上記一般式（）で表わされるジスル
ホネート誘導体は、文献未記載の新規化合物であ
り、本発明者らは該化合物が総じてエステラーゼ
阻害作用およびキモトリプシン阻害作用を有し、
抗脂血症剤、抗炎症剤、免疫調整剤として医薬分
野において有用であることを見い出した。 本発明のジスルホネート誘導体は、例えば次に
示す方法により製造することができる。即ち一般
式 N2CHCOR （） 〔式中Ｒは直鎖状もしくは分枝状アルキル基、シ
クロヘキシル低級アルキル基、低級アルキル基を
有しもしくは有しないシクロヘキシル基又はアラ
ルキル基を示す〕 で表わされる化合物と、一般式 〔式中Ａは置換基として低級アルキル基又はヒド
ロキシル基を有しもしくは有しないアリレン基、
ｍは０、１又は２を示す〕 で表わされる化合物とを反応させることにより、
本発明化合物を製造できる。 上記反応は、通常適当な溶媒中で行なわれる。
溶媒としては、反応に関与しない限り特に限定は
なく、例えばジメチルエーテル、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテ
ル類、アセトニトリル、クロロホルム、ジクロル
メタン等の非プロトン性溶媒、石油エーテル、リ
グロイン等を好適に利用できる。原料化合物の使
用割合も特に限定されず適宜に選択できる。例え
ば化合物（）に対して化合物（）を２倍モル
以上用いるのが好ましい。上記反応は通常約−10
〜60℃好ましくは約０℃〜室温程度の温度条件下
に有利に進行する。 上記において原料とする化合物（）は、例え
ば下式に示すように、公知の化合物（）とジア
ゾメタン（）との反応により製造される。 〔各式中Ｒは上記に同じ〕 上式において化合物（）と（）との反応
は、通常前記したと同様の適当な溶媒を用い、約
−10℃〜室温程度の温度下に行なわれる。化合物
（）は、通常化合物（）の約２倍モル以上用
いられるのが好適である。この反応により得られ
る化合物（）は、反応終了後適当な分離手段例
えばクロマトグラフイ、再結晶等により単離でき
るが、本発明では特にこれを単離することなく、
引き続き化合物（）との反応に供することがで
きる。 かくして得られる本発明のジスルホネート誘導
体は、通常採用される分離手段例えばカラムクロ
マトグラフイー、再結晶等により単離可能であ
る。 以下本発明化合物の製造のための原料化合物
（ジアゾケトン体）及び本発明化合物の代表例を
夫々表１及び表２に示す。尚表中MSはマススペ
クトル分析結果（M+）を、NMRはCDCl3中で測
定された核磁気共嗚スペクトル分析結果（δppm）
を示すものである。
る。 本発明のジスルホネート誘導体は、下記一般式
（）で表わされる。 〔式中Ａは置換基として低級アルキル基又はヒド
ロキシル基を有しもしくは有しないアリレン基、
およびＲは直鎖状もしくは分枝状アルキル基、シ
クロヘキシル低級アルキル基、低級アルキル基を
有しもしくは有しないシクロヘキシル基又はアラ
ルキル基を示す〕 上記一般式（）中Ａで表わされるアリレン基
としては、芳香族炭化水素の２価基例えばフエニ
レン、ナフテレン基等を例示できる。該アリレン
基は低級アルキル基例えばメチル、エチル、プロ
ピル、ブチル基等の炭素数１〜５のアルキル基又
はヒドロキシル基を置換基として有していてもよ
く、之等置換基を有するアリレン基としては、例
えば４−メチル−１，２−フエニレン、１−ヒド
ロキシ−２，６−ナフチレン基等を例示できる。 またＲで表わされる直鎖状もしくは分枝状アル
キル基としては、例えばメチル、エチル、プロピ
ル、ヘキシル、オクチル、デシル、イソプロピ
ル、イソブチル、２−メチル−ブチル、１−エチ
ルペンチル基等の炭素数１〜10の直鎖状もしくは
分枝状アルキル基を、シクロヘキシル低級アルキ
ル基としては、例えばシクロヘキシルメチル、２
−シクロヘキシルエチル、３−シクロヘキシルプ
ロピル、１−シクロヘキシルメチルプロピル基等
を、低級アルキル基を有しもしくは有しないシク
ロヘキシル基としては、例えばシクロヘキシル
基、４−メチルシクロヘキシル、４−エチルシク
ロヘキシル、４−プロピルシクロヘキシル基等
を、またアラルキル基としては、例えばベンジ
ル、フエネチル、ワエニルプロピル基等を夫々例
示できる。 本発明の上記一般式（）で表わされるジスル
ホネート誘導体は、文献未記載の新規化合物であ
り、本発明者らは該化合物が総じてエステラーゼ
阻害作用およびキモトリプシン阻害作用を有し、
抗脂血症剤、抗炎症剤、免疫調整剤として医薬分
野において有用であることを見い出した。 本発明のジスルホネート誘導体は、例えば次に
示す方法により製造することができる。即ち一般
式 N2CHCOR （） 〔式中Ｒは直鎖状もしくは分枝状アルキル基、シ
クロヘキシル低級アルキル基、低級アルキル基を
有しもしくは有しないシクロヘキシル基又はアラ
ルキル基を示す〕 で表わされる化合物と、一般式 〔式中Ａは置換基として低級アルキル基又はヒド
ロキシル基を有しもしくは有しないアリレン基、
ｍは０、１又は２を示す〕 で表わされる化合物とを反応させることにより、
本発明化合物を製造できる。 上記反応は、通常適当な溶媒中で行なわれる。
溶媒としては、反応に関与しない限り特に限定は
なく、例えばジメチルエーテル、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテ
ル類、アセトニトリル、クロロホルム、ジクロル
メタン等の非プロトン性溶媒、石油エーテル、リ
グロイン等を好適に利用できる。原料化合物の使
用割合も特に限定されず適宜に選択できる。例え
ば化合物（）に対して化合物（）を２倍モル
以上用いるのが好ましい。上記反応は通常約−10
〜60℃好ましくは約０℃〜室温程度の温度条件下
に有利に進行する。 上記において原料とする化合物（）は、例え
ば下式に示すように、公知の化合物（）とジア
ゾメタン（）との反応により製造される。 〔各式中Ｒは上記に同じ〕 上式において化合物（）と（）との反応
は、通常前記したと同様の適当な溶媒を用い、約
−10℃〜室温程度の温度下に行なわれる。化合物
（）は、通常化合物（）の約２倍モル以上用
いられるのが好適である。この反応により得られ
る化合物（）は、反応終了後適当な分離手段例
えばクロマトグラフイ、再結晶等により単離でき
るが、本発明では特にこれを単離することなく、
引き続き化合物（）との反応に供することがで
きる。 かくして得られる本発明のジスルホネート誘導
体は、通常採用される分離手段例えばカラムクロ
マトグラフイー、再結晶等により単離可能であ
る。 以下本発明化合物の製造のための原料化合物
（ジアゾケトン体）及び本発明化合物の代表例を
夫々表１及び表２に示す。尚表中MSはマススペ
クトル分析結果（M+）を、NMRはCDCl3中で測
定された核磁気共嗚スペクトル分析結果（δppm）
を示すものである。
【表】
【表】
【表】
【表】
尚表２中化合物１〔注１〕については元素分析
に代えNMR分析を行なつた。その結果は次の通
りである。 Ｈ−NMR（CDCl3） δppm＝8.45−8.05（ｍ、3H）、7.85−7.60（ｍ、
1H）、4.64（ｓ、4H）、2.50−2.20（ｍ、4H）、
1.80−1.30（ｍ、4H）、1.00−0.75（ｍ、6H） 次に上記表２に示す本発明化合物の製造例を挙
げる。 製造例 １ １−ジアゾ−２−ペンタノン1.2ｇをエーテル
30mlに溶解し、室温下ｍ−ベンゼンジスルホン酸
の1.2ｇを徐々に加え、窒素の発生がなくなるま
で撹拌する。反応後エーテル層を水洗し、無水硫
酸ナトリウムで乾燥したのち、減圧下で溶媒を留
去し、得られる油状物をカラムクロマトグラフイ
ー（シリカゲル、展開溶媒クロロホルム）で分離
精製して、無色透明な油状のビス（２−オキソペ
ンチル）−１，３−ベンゼンジスルホネート（化
合物１）1.8ｇ得る（収率78.3％）。 MS（M+）＝406 製造例 ２ 適当な出発原料を用い、製造例１と同様の操作
により化合物２〜５を合成した。 製造例 ３ ４−エチル−シクロヘキシルジアゾメチルケト
ン1.8ｇをジオキサン50mlに溶解し、室温下４−
メチル−１，２−ベンゼンジスルホン酸1.2ｇを
徐々に加え、窒素の発生がなくなるまで撹拌す
る。反応後水洗し、エーテル層を無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥する。乾燥後減圧下で溶媒を留去し、
残渣をエタノール−水にて再結晶して、融点94〜
95.5℃のビス〔２−（４−エチルシクロヘキシル）
−２−オキソエチル〕−４−メチル−１，２−ベ
ンゼンジスルホネート（化合物６）2.0ｇ得た
（収率72.0％）。 MS（M+）＝556 Ｈ−NMR（CDCl3） δppm＝8.2−8.0（ｍ、2H）、7.60−7.45（ｍ、
1H）、4.83（ｓ、2H）、4.79（ｓ、2H）、2.80−
2.30（ｍ、2H）、2.51（ｓ、3H）、2.00−0.70
（ｍ、28H） 元素分析（C27H40S2O3として） Ｈ(%) Ｃ(%) 計算値 7.40 57.33 測定値 7.23 57.38 製造例 ４ 適当な出発原料を用い、製造例３と同様の操作
により化合物７及び８を合成した。 次に本発明化合物のエステラーゼ阻害作用およ
びキモトリプシン阻害作用の試験結果について説
明する。 １ エステラーゼ阻害作用 0.1モルのトリス塩酸緩衝液（PH8.0）の一定
量に基質としてメチルブチレート10μモル50％
エタノール溶液を加え、さらにこれに本発明化
合物の50％エタノール溶液を加えた後、ただち
に酵素液として、精製したラツト肝臓マイクロ
ゾーム画分エステラーゼ溶液（37℃、１時間に
て9μモルのメチルブチレートを水解するよう
に調整する）を加え、37℃にて60分間反応を行
つた。 反応終了後メチルブチレートのアリカリ性ヒ
ドロキシルアミンによるヒドロキサム酸誘導体
に第二鉄塩を加えて、生ずる赤色を比色（波長
540nｍ）し、残存するメチルブチレート含量
を定量した。本発明化合物の１×10-4モル濃度
におけるエステラーゼ阻害率は下式により算出
した。 阻害率（％）＝Ａ−Ｂ／Ａ×100 Ａ：本発明化合物の無添加反応系のエステル水
解量 Ｂ：本発明化合物の添加反応系のエステル水解
量 ２ キモトリプシン阻害作用 0.1モルのトリス塩酸緩衝液（PH8.0）の一定
量に酵素液としてキモトリプシンの0.1ユニツ
トを加え、本発明化合物の50％エタノール溶液
を加えた後37℃にて20分間反応を行つた。反応
終了後直ちに基質としてＮ−アセチル−Ｌ−チ
ロシンエチルエステル（ATEE）を10μモル加
えて37℃にて30分間反応を行つた。 反応終了後ATEEの残存量をエステラーゼ阻
害活性測定法と同様のヒドロキサム酸法にて定
量し、同様にしてキモトリプシン阻害率（％）
を算出した。 以上の方法による本発明化合物のエステラーゼ
及びキモトリプシン阻害率を表３に示す。表３よ
り明らかなように本発明化合物はエステラーゼ阻
害作用およびキモトリプシン阻害作用を有し、抗
高脂血症剤、抗炎症剤、免疫調整剤として有用で
あることが判る。
に代えNMR分析を行なつた。その結果は次の通
りである。 Ｈ−NMR（CDCl3） δppm＝8.45−8.05（ｍ、3H）、7.85−7.60（ｍ、
1H）、4.64（ｓ、4H）、2.50−2.20（ｍ、4H）、
1.80−1.30（ｍ、4H）、1.00−0.75（ｍ、6H） 次に上記表２に示す本発明化合物の製造例を挙
げる。 製造例 １ １−ジアゾ−２−ペンタノン1.2ｇをエーテル
30mlに溶解し、室温下ｍ−ベンゼンジスルホン酸
の1.2ｇを徐々に加え、窒素の発生がなくなるま
で撹拌する。反応後エーテル層を水洗し、無水硫
酸ナトリウムで乾燥したのち、減圧下で溶媒を留
去し、得られる油状物をカラムクロマトグラフイ
ー（シリカゲル、展開溶媒クロロホルム）で分離
精製して、無色透明な油状のビス（２−オキソペ
ンチル）−１，３−ベンゼンジスルホネート（化
合物１）1.8ｇ得る（収率78.3％）。 MS（M+）＝406 製造例 ２ 適当な出発原料を用い、製造例１と同様の操作
により化合物２〜５を合成した。 製造例 ３ ４−エチル−シクロヘキシルジアゾメチルケト
ン1.8ｇをジオキサン50mlに溶解し、室温下４−
メチル−１，２−ベンゼンジスルホン酸1.2ｇを
徐々に加え、窒素の発生がなくなるまで撹拌す
る。反応後水洗し、エーテル層を無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥する。乾燥後減圧下で溶媒を留去し、
残渣をエタノール−水にて再結晶して、融点94〜
95.5℃のビス〔２−（４−エチルシクロヘキシル）
−２−オキソエチル〕−４−メチル−１，２−ベ
ンゼンジスルホネート（化合物６）2.0ｇ得た
（収率72.0％）。 MS（M+）＝556 Ｈ−NMR（CDCl3） δppm＝8.2−8.0（ｍ、2H）、7.60−7.45（ｍ、
1H）、4.83（ｓ、2H）、4.79（ｓ、2H）、2.80−
2.30（ｍ、2H）、2.51（ｓ、3H）、2.00−0.70
（ｍ、28H） 元素分析（C27H40S2O3として） Ｈ(%) Ｃ(%) 計算値 7.40 57.33 測定値 7.23 57.38 製造例 ４ 適当な出発原料を用い、製造例３と同様の操作
により化合物７及び８を合成した。 次に本発明化合物のエステラーゼ阻害作用およ
びキモトリプシン阻害作用の試験結果について説
明する。 １ エステラーゼ阻害作用 0.1モルのトリス塩酸緩衝液（PH8.0）の一定
量に基質としてメチルブチレート10μモル50％
エタノール溶液を加え、さらにこれに本発明化
合物の50％エタノール溶液を加えた後、ただち
に酵素液として、精製したラツト肝臓マイクロ
ゾーム画分エステラーゼ溶液（37℃、１時間に
て9μモルのメチルブチレートを水解するよう
に調整する）を加え、37℃にて60分間反応を行
つた。 反応終了後メチルブチレートのアリカリ性ヒ
ドロキシルアミンによるヒドロキサム酸誘導体
に第二鉄塩を加えて、生ずる赤色を比色（波長
540nｍ）し、残存するメチルブチレート含量
を定量した。本発明化合物の１×10-4モル濃度
におけるエステラーゼ阻害率は下式により算出
した。 阻害率（％）＝Ａ−Ｂ／Ａ×100 Ａ：本発明化合物の無添加反応系のエステル水
解量 Ｂ：本発明化合物の添加反応系のエステル水解
量 ２ キモトリプシン阻害作用 0.1モルのトリス塩酸緩衝液（PH8.0）の一定
量に酵素液としてキモトリプシンの0.1ユニツ
トを加え、本発明化合物の50％エタノール溶液
を加えた後37℃にて20分間反応を行つた。反応
終了後直ちに基質としてＮ−アセチル−Ｌ−チ
ロシンエチルエステル（ATEE）を10μモル加
えて37℃にて30分間反応を行つた。 反応終了後ATEEの残存量をエステラーゼ阻
害活性測定法と同様のヒドロキサム酸法にて定
量し、同様にしてキモトリプシン阻害率（％）
を算出した。 以上の方法による本発明化合物のエステラーゼ
及びキモトリプシン阻害率を表３に示す。表３よ
り明らかなように本発明化合物はエステラーゼ阻
害作用およびキモトリプシン阻害作用を有し、抗
高脂血症剤、抗炎症剤、免疫調整剤として有用で
あることが判る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 〔式中Ａは置換基として低級アルキル基又はヒド
ロキシル基を有しもしくは有しないアリレン基、
およびＲは直鎖状もしくは分枝状アルキル基、シ
クロヘキシル低級アルキル基、低級アルキルを有
しもしくは有しないシクロヘキシル基又はアラル
キル基を示す〕 で表わされるジスルホネート誘導体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7751981A JPS57193442A (en) | 1981-05-21 | 1981-05-21 | Disulfonate derivative and its preparation |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7751981A JPS57193442A (en) | 1981-05-21 | 1981-05-21 | Disulfonate derivative and its preparation |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57193442A JPS57193442A (en) | 1982-11-27 |
| JPS6412268B2 true JPS6412268B2 (ja) | 1989-02-28 |
Family
ID=13636211
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7751981A Granted JPS57193442A (en) | 1981-05-21 | 1981-05-21 | Disulfonate derivative and its preparation |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57193442A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105830272B (zh) | 2013-12-18 | 2019-08-06 | 三菱化学株式会社 | 非水系电解液和使用其的非水系电解液二次电池 |
-
1981
- 1981-05-21 JP JP7751981A patent/JPS57193442A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57193442A (en) | 1982-11-27 |
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