JPH0943783A - ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 製版用としての写真性能の劣化がなく、ラン
ニングでも安定した性能が得られ、かつフィルムに付着
する汚れ、残色のないハロゲン化銀写真感光材料の処理
方法の提供。更に環境を悪化させない現像薬としてアス
コルビン酸類を用いても上記の性能を得られるハロゲン
化銀写真感光材料の処理方法の提供。 【構成】 （１）シンジオタクチックポリスチレンを主
成分とする支持体上に、ハロゲン化銀乳剤層を有するハ
ロゲン化銀写真感光材料を、現像槽、定着槽、水洗槽又
は安定化浴槽、乾燥部を有した自動現像機の現像槽の空
気接触係数が２５以上、１０００以下である自動現像機
にて現像処理することを特徴とするハロゲン化銀写真感
光材料の処理方法。 （２）アスコルビン酸又はその誘導体を含有する現像液
にて処理することを特徴とする（１）項記載のハロゲン
化銀写真感光材料の処理方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はハロゲン化銀写真感光材
料の処理方法に関し、詳しくは改良された製版用ハロゲ
ン化銀写真感光材料の処理方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、環境に対する関心の高まりととも
に、処理液の安全性に関心が集まってきており、例えば
現像液に関しては、より安全性の高い現像主薬として米
国特許５，３２６，８１６号報に記載されているような
アスコルビン酸類を用いる方法が開示されている。

【０００３】また写真処理廃液量の低減も重要である。
即ち、写真処理廃液は通常、公共下水道に放出すること
ができないために、廃液を回収してから、面倒でかつ費
用のかかる焼却法により破壊処理しているのが実情であ
る。そのため写真処理廃液の低減化が強く望まれてお
り、そのための１手段として自動現像機での現像液補充
量を減少させることが望まれている。

【０００４】処理液の低補充化には種々の方法が提案さ
れており、例えば自動現像機の現像槽の空気接触係数を
増大させることは非常に有効であるとされている。

【０００５】ここでいう空気接触係数とは現像タンク液
量（ｃｍ³）を空気との接触面積（ｃｍ²）で割ったもの
であり、単位はｃｍである。一般に使用されている自動
現像機の空気接触係数は０．６〜２０である。

【０００６】従来より製版用写真感光材料に用いられて
いる支持体は、ポリエチレンテレフタレートフィルム
（以下、ＰＥＴと表示する）が主体であった。しかしな
がら該フィルムは処理液の低補充化のために自動現像機
の空気接触係数を大きくしてやると、ランニング処理に
て処理後のフィルムに汚れを発生するという問題を招い
た。

【０００７】ランニングでは処理疲労と経時疲労が同時
に起きる。空気酸化によるｐＨ上昇の寄与分がなくなる
ため銀スラッジは発生し易くなる。そのためにフィルム
に付着する汚れの量が増大するものと考えられる。

【０００８】ランニングによって製版用としての写真性
能の劣化がなく、安定した性能が得られ、かつフィルム
に付着する汚れ、残色などのステインのないハロゲン化
銀写真感光材料及びその処理方法が強く望まれていた。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】従って本発明の目的は
ランニングによって製版用としての写真性能の劣化がな
く、安定した性能が得られ、かつフィルムに付着する汚
れ、残色などのステインのないハロゲン化銀写真感光材
料の処理方法を提供することにある。

【００１０】更に本発明の他の目的は、環境を悪化させ
ない現像薬としてアスコルビン酸類を用いても上記の性
能を得られるハロゲン化銀写真感光材料の処理方法を提
供することにある。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は以下によ
り解決された。

【００１２】（１）シンジオタクチックポリスチレンを
主成分とする支持体上に、少なくとも１層のハロゲン化
銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材料を、現像
槽、定着槽、水洗槽又は安定化浴槽、乾燥部を有した自
動現像機の現像槽の空気接触係数が２５以上、１０００
以下である自動現像機にて現像処理することを特徴とす
るハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。

【００１３】（２）アスコルビン酸又はその誘導体を含
有する現像液にて処理することを特徴とする（１）項記
載のハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。

【００１４】以下、本発明を詳述する。

【００１５】本発明において、シンジオタクチックポリ
スチレン（ＳＰＳ）を主成分とするフィルムとは、立体
規則性構造（タクチシチィー）が主としてシンジオタク
チック構造、即ち炭素−炭素結合が形成される主鎖に対
して側鎖であるフェニール基や置換フェニール基が交互
に反対方向に位置する立体構造を有するものであり、主
鎖の主たる連鎖が、ラセモ連鎖であるスチレン系重合体
或いは、それを含む組成物であり、スチレンの単独重合
体であれば、特開昭６２−１１７７０８号記載の方法で
重合することが可能であり、またその他の重合体につい
ては、特開平１−４６９１２号、同１−１７８５０５号
等に記載された方法により重合することにより得ること
ができる。

【００１６】そのタクティシティーは同位体炭素によ
る、核磁気共鳴法（１３Ｃ−ＮＭＲ法）により定量され
る。１３Ｃ−ＮＭＲ法により測定されるタクティシティ
ーは、連続する複数個の構成単位の存在割合、例えば２
個の場合はダイアッド、３個の場合はトリアッド、５個
の場合はペンタッドによって示すことができるが、本発
明に言う主としてシンジオタクチック構造を有するスチ
レン系重合体とは、通常ラセミダイアッドで７５％以
上、好ましくは８５％以上、若しくはラセミトリアッド
６０％以上、好ましくは７５％以上、若しくはラセミペ
ンタッド３０％以上、好ましくは５０％以上であること
が好ましい。

【００１７】シンジオタクチックポリスチレン系組成物
を構成する重合体の具体的なモノマーとしては、スチレ
ン、メチルスチレン等のアルキルスチレン、クロロメチ
ルスチレン、クロロスチレン等のハロゲン化（アルキ
ル）スチレン、アルコキシスチレン、ビニル安息香酸エ
ステル等を主成分とする単独若しくは混合物である。

【００１８】本発明のシンジオタクチック構造を有する
ポリスチレン系樹脂は、上記のような原料モノマーを重
合用の触媒として、特開平５−３２０４４８号、４頁〜
１０頁に記載の（イ）（ａ）遷移金属化合物及び（ｂ）
アルミノキサンを主成分とするもの、又は（ロ）（ａ）
遷移金属化合物及び（ｃ）遷移金属化合物と反応してイ
オン性錯体を形成しうる化合物を主成分とするものを用
いて重合して製造することができる。

【００１９】本発明に係るスチレン系重合体を製造する
には、まず、前記スチレン系単量体を上記触媒の何れか
の存在下に重合させる。この際、重合方法、重合条件
（重合温度、重合時間）、溶媒などは適宜選定すればよ
い。通常は−５０〜２００℃、好ましくは３０〜１００
℃の温度において、１秒〜１０時間、好ましくは１分〜
６時間程度重合が行われる。また重合方法としてはスラ
リー重合法、溶液重合法、塊状重合法、気相重合法な
ど、何れも用いることができるし、連続重合、非連続重
合の何れであってもよい。

【００２０】ここで溶液重合にあっては、溶媒として例
えばベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼンな
どの芳香族炭化水素、シクロペンタン、ヘキサン、ヘプ
タン、オクタンなどの脂肪族炭化水素などを一種又は二
種以上を組合わせて使用することができる。

【００２１】この場合、単量体／溶媒（体積比）は任意
に選択することができる。また重合体の分子量制御や組
成制御は、通常用いられている方法によって行えばよ
い。

【００２２】分子量制御は例えば水素、温度、モノマー
濃度などで行うことができる。

【００２３】本発明に係るＳＰＳフィルムの分子量には
製膜される限りにおいては制限がないが、重量平均分子
量で、１０，０００〜３，０００，０００であることが
好ましく特には、３０，０００〜１，５００，０００の
ものが好ましい。またこのときの分子量分布（数平均分
子量／重量平均分子量）は１．５〜８が好ましい。この
分子量分布については、異なる分子量のものを混合する
ことにより調整することも可能である。

【００２４】また、本発明の効果を損なわない程度に、
これらと共重合可能な他のモノマーを共重合すること
は、かまわない。

【００２５】（重合例）特開平３−１３１８４３号に準
じてＳＰＳペレットを作製した。触媒の調製から重合反
応までは、全て乾燥アルゴン気流下で行った。内容積５
００ｍｌのガラス製容器に硫酸銅５水塩（ＣｕＳＯ₄・
５Ｈ₂Ｏ）１７．８ｇ（７１ミリモル）、精製ベンゼン
２００ｍｌ及びトリメチルアルミニウム２４ｍｌを入
れ、４０℃で８時間撹拌して触媒の調製を行った。これ
をアルゴン気流下Ｎｏ．３ガラスフィルターで濾過し
て、濾液を凍結乾燥させた。これを取り出し、２リット
ルのステンレス製容器にいれ、この中に更にトリブチル
アルミニウム、ペンタシクロペンタジエチルチタンメト
キシドを混合し９０℃に加熱した。

【００２６】この中に、精製したスチレンを１リットル
入れ、この温度中で８時間重合反応を続けた。この後室
温まで冷却し、１リットルの塩化メチレンを入れ、更に
撹拌しながらナトリウムメチラートのメタノール溶液を
加えて触媒を失活させた。

【００２７】内容物を２０リットルのメタノール中に徐
々に滴下して、更にガラスフィルターで濾過して３回メ
タノールで洗浄した後、乾燥させた。これを押出機でペ
レット化した後に、１３０℃で乾燥させた。

【００２８】本発明に係るＳＰＳフィルムとしては、ス
チレンから作られるＳＰＳ単独であることが好ましい
が、更にＳＰＳを含むフィルムとして、ＳＰＳに主鎖が
メソ連鎖であるアイソタクチック構造を有するスチレン
系重合体（ＩＰＳ）を混合することにより結晶化速度の
コントロールが可能であり、より強固なフィルムにする
ことが出来る。

【００２９】ＳＰＳとＩＰＳとを混合する際には、その
比はお互いの立体規則性の高さに依存するが、３０：７
０〜９９：１好ましくは５０：５０〜９８：２である。

【００３０】支持体中には本発明の目的を妨げない範囲
において、機能性付与のために無機微粒子、酸化防止
剤、ＵＶ吸収剤、帯電防止剤、染料、顔料、色素等を含
有させることが可能である。

【００３１】ＳＰＳ（シンジオタクチック・ポリスチレ
ン）を製膜するのに用いる重合体は、重量平均分子量が
１０，０００以上、更に好ましくは３０，０００以上で
ある。重量平均分子量が１０，０００未満のものでは、
強度特性や耐熱性に優れたフイルムを得ることができな
い。重量平均分子量の上限については、特に限定される
ものではないが、１，５００，０００以上では延伸張力
の増加に伴う破断の発生などが生じるため余り好ましく
ない。更に本発明のシンジオタクチックポリスチレン系
フィルムは、シンジオタクチックポリスチレン系ペレッ
トを１２０〜１８０℃で、１〜２４時間、真空下或いは
常圧下で空気又は窒素等の不活性気体雰囲気下で乾燥す
る。目的とする含有水分率は、特に限定されないが加水
分解による機械的強度等の低下を防ぐ観点から、０．０
５％以下、好ましくは０．０１％以下、更に好ましくは
０．００５％以下が良い。しかしながら目的を達成すれ
ば、これらの方法に特に限定されるものではない。

【００３２】製膜時に押し出す方法は公知の方法が適用
出来るが、例えばダイで押し出すことが好ましい。シン
ジオタクチックポリスチレンペレットを２８０〜３５０
℃で溶融、押出して、キャスティングロール上で静電印
加しながら冷却固化させて未延伸フィルムを作製する。

【００３３】次にこの未延伸フィルムを２軸延伸し、２
軸配向させる。延伸方法としては、公知の方法、例え
ば、縦延伸及び横延伸を順に行う逐次２軸延伸法のほ
か、横延伸・縦延伸の逐次２軸延伸法、横・縦・縦延伸
法、縦・横・縦延伸法、縦・縦・横延伸法、又は同時２
軸延伸法等を採用することができ、要求される機械的強
度や寸法安定性等の諸特性に応じて適宜選択することが
できる。

【００３４】一般に最初に長手方向に、次に幅手方向に
延伸を行う逐次２軸延伸方法が好ましく、この場合、縦
横の延伸倍率としては２．５〜６倍で、縦延伸温度はポ
リマーのガラス転移温度（Ｔｇ）に依存するが、通常
（Ｔｇ＋１０）℃〜（Ｔｇ＋５０）℃の温度範囲で延伸
する。シンジオタクチックポリスチレン系フイルムの場
合は、１１０〜１５０℃行うことが好ましい。幅手方向
の延伸温度としては、長手方向より若干高くして１１５
〜１６０℃で行うことが好ましい。

【００３５】次いでこの延伸フィルムを熱処理する。こ
の場合の熱処理温度としては用途に応じて適宜変更出来
る。高い収縮率を要求される収縮包装用途には１５０℃
以下、寸法安定性を要求される写真、印刷、医用用途に
は目的に応じて適宜１５０〜２７０℃の温度が採用され
る。

【００３６】熱処理時間は特に限定されないが通常５秒
から２０分程度が採用される。必要に応じて縦熱弛緩、
横熱弛緩処理等を施してもよいことは言うまでもない。

【００３７】この後にフィルムを急冷して巻き取っても
よいが、Ｔｇ〜熱処理温度の間で０．１分〜１５００時
間かけて徐冷し大きな径のコアに巻取り４０℃〜Ｔｇ間
で更に−０．０１〜−２０℃／分の間の平均冷却速度で
冷却すると、支持体に巻ぐせを付けにくくする効果があ
る点で好ましい。もちろん４０℃〜Ｔｇ間での熱処理
は、支持体を巻とってから乳剤塗布前までに０．１分〜
１５００時間恒温槽に入れて行ってもかまわない。

【００３８】上述の製膜法に加えて易滑性、接着性、帯
電防止性能等の諸特性を付与するため、ＳＰＳ支持体の
少なくとも片面に前述の特性等を付与したＳＰＳ支持体
を積層したＳＰＳ積層フイルムを作製することも出来
る。

【００３９】積層の方法は樹脂が溶融された状態で層流
で積層した後、ダイより押し出すとか、冷却、固化した
ＳＰＳ未延伸支持体又はＳＰＳ一軸延伸支持体に、溶融
ＳＰＳを押出しラミネートし、しかる後、縦・横両方向
に、又は一軸延伸方向と直角方向に延伸、熱固定して得
られる。ＳＰＳ樹脂の押出条件、延伸温度、延伸倍率、
熱固定温度等はＳＰＳ積層支持体の組み合わせによって
は若干異なるが、最適条件を選ぶよう微調整すればよ
く、大幅な変更にはならない。

【００４０】勿論、積層は２層以上の積層からなり、同
種ポリマーの組み合わせ（共重合ポリマーの組み合わせ
を含む）であってもよいし、異種ポリマーであってもよ
いことは言うまでもない。

【００４１】上記積層フィルムに加えて同様な方法で表
面処理（塩化ビニリデン塗布によるガスバリヤー性付
与、インライン塗布による易滑性、易接着性付与等）を
行ってもよい。即ち、ＳＰＳ未延伸フイルムに又はＳＰ
Ｓ一軸延伸後に、或いはＳＰＳ二軸延伸後に、インライ
ン・コーティングすることによって作製することができ
る。

【００４２】上述の製膜法はその用途、目的に応じて適
宜変えられるもので、本発明はいかなる理由でも、これ
らの方法に限定されるものではない。

【００４３】このようにして得られたシンジオタクチッ
ク・ポリスチレン系延伸フイルムの厚さは、用途に応じ
て異なるが、極薄コンデンサー用の０．３μｍ厚さのも
の、通常コンデンサー用の６μｍ又は１２μｍ厚さのも
の、医用、印刷感材用の１００μｍの厚さのもの、電気
絶縁材料（スロットライナー等）用の２５０μｍ厚さ
と、多岐に亘るが上記製膜条件は０．３〜５００μｍの
厚さのものに有効である。

【００４４】次にハロゲン化銀写真感光材料用親水性コ
ロイド層塗布前の支持体の下引処理に付いて述べる。

【００４５】下引き層を塗設する際には薬品処理、機械
的粗面化処理、コロナ放電処理、火炎処理、紫外線処
理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、
レーザー処理などを施すことが好ましい。これらの処理
により表面の表面張力を５０ｄｙｎｅ／ｃｍ以上にする
ことが好ましい。下引き層に付いては当業界で用いられ
ているものなら何れを用いても構わない。

【００４６】また下引層は単層でも構わないが、より機
能性を求め、接着力を高めるためには重層であることが
望ましい。

【００４７】以下に下引き層の重層法について説明す
る。

【００４８】重層法においては下引き第１層は、支持体
に良く接着することが好ましく、素材としてはメタクリ
ル酸、アクリル酸等の不飽和カルボン酸若しくはそのエ
ステル、スチレン、塩化ビニリデン、塩化ビニル等の単
量体から得られる重合体若しくは共重合体、水分散系の
ポリエステル、ポリウレタン、ポリエチレンイミン、エ
ポキシ樹脂などが挙げられる。

【００４９】下引き第１層に用いることができるポリマ
ーラテックスとしては、ゴム状物質を用いてもよい。ゴ
ム状物質は一般にビニル単量体−ジオレフィンからな
り、ビニル単量体としてはスチレン、アクリロニトリ
ル、メタクリロニトリル、メタクリル酸メチル、アクリ
ル酸メチル、酢酸ビニル等が好ましく用いられ、ジオレ
フィンとしては、ブタジエン、イソプレン、クロロプレ
ンが好ましく用いられる。これらの成分に加え、不飽和
カルボン酸としてアクリル酸、メタクリル酸、イタコン
酸、無水マレイン酸若しくはこれらのアルキルエステ
ル、アクロレイン、メテクロレイン、アクリル酸グリシ
ジル、メタクリル酸グリシジル、アクリル酸２−ヒドロ
キシエチル、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル、アク
リル酸アリル、メタクリル酸アリル、Ｎ−メチロールア
クリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、ビニ
ルイソシアネート、アリルイソシアネート等の架橋可能
な成分を加えるのがよい。ジオレフィンの含有量として
好ましくは１０〜６０重量％程度である。市販されてい
て入手しやすいものとして、スチレン−ブタジエン、ス
チレン−イソプレン、スチレン−クロロプレン、メチル
メタクリレート−ブタジエン、アクリロニトリル−ブタ
ジエン等を挙げることができるが好ましくはポリマーラ
テックスを構成するモノマーとしてスチレン及びその誘
導体、メタクリル酸、アクリル酸やイタコン酸及びそれ
らのエステル（アルキルアクリレート、アルキルメタク
リレート等）、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２
−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプ
ロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリ
レート等のヒドロキシ基含有モノマー、アクリルアミ
ド、メタクリルアミド、Ｎ−メチルメタクリルアミド、
Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリル
アミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメ
チロールアクリルアミド、Ｎ−メトキシメチルアクリル
アミド等のアミド基含有モノマー、Ｎ，Ｎ−ジエチルア
ミノエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノメタ
クリレート等のアミノ基含有モノマー、グリシジルアク
リレート、グリシジルメタクリレート等のエポキシ基含
有モノマー、アクリル酸やメタクリル酸の塩（ナトリウ
ム塩、カリウム塩、アンモニウム塩等）等のカルボキシ
ル基又はカルボン酸塩を含有するモノマー、スチレンス
ルホン酸やビニルスルホン酸及びそれらの塩（ナトリウ
ム塩、カリウム塩、アンモニウム塩等）等のスルホン酸
基又はスルホン酸塩を含有するモノマー、イタコン酸、
マレイン酸、フマル酸の塩（ナトリウム塩、カリウム
塩、アンモニウム塩）等のカルボキシル基又はカルボン
酸塩を含有するモノマー、無水マレイン酸、無水イタコ
ン酸等の酸無水物を含有するモノマー、ビニルイソシア
ネート、アリルイソシアネート、ビニルメチルエーテ
ル、ビニルエチルエーテル、アクリロニトリル、酢酸ビ
ニル等が挙げられ、一種若しくは二種以上で共重合させ
て用いることができる。

【００５０】ポリマーラテックスの重合方法としては乳
化重合法、溶液重合法、塊状重合法、懸濁重合法、放射
線重合法等が挙げられる。

【００５１】溶液重合法では、溶媒中で適当な濃度のモ
ノマーの混合物（通常、溶媒に対して４０重量％以下、
好ましくは１０〜２５重量％の混合物）を開始剤の存在
下で約１０〜２００℃、好ましくは３０〜１２０℃の温
度で、約０．５〜４８時間、好ましくは２〜２０時間重
合を行う。開始剤としては重合溶媒に可溶なもので、過
酸化ベンゾイル、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢ
Ｎ）、過酸化ジ第３ブチル等の有機溶媒系開始剤、過硫
酸アンモニウム（ＡＰＳ）、過硫酸カリウム、２，２′
−アゾビス−（２−アミノジプロパン）−ハイドロクロ
ライド等の水溶性開始剤、又はこれらと２価の鉄塩や亜
硫酸水素ナトリウム等の還元剤を組み合わせたものが挙
げられる。

【００５２】溶媒としてはモノマーの混合物を溶解する
ものであればよく、水、メタノール、エタノール、ジメ
チルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、ジオキサン
若しくはこれらの混合溶媒等が挙げられる。

【００５３】乳化重合法では水を分散媒とし、水に対し
て１０〜５０重量％のモノマーとモノマーに対して０．
０５〜５重量％の重合開始剤、０．１〜２０重量％の分
散剤を用い、約３０〜１００℃、好ましくは６０〜９０
℃で３〜８時間、撹拌しながら重合せしめる。開始剤と
しては、水溶性過酸化物（過酸化カリウム、過硫酸アン
モニウム等）、水溶性アゾ化合物（２，２′−アゾビス
−〔２−アミノジプロパン〕−ハイドロクロライド等）
又はこれらと２価の鉄塩や亜硫酸水素ナトリウム等の還
元剤を組み合わせたものが挙げられる。分散剤としては
アニオン性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤、水溶性
ポリマー等が挙げられる。

【００５４】得られる重合体の分子量は通常、ポリスチ
レン若しくはポリエチレンオキシド換算で５００〜５，
０００，０００程度、好ましくは１，０００〜５００，
０００である。

【００５５】疎水性のポリマーラテックスの合成法に関
しては、米国特許２，８５２，３８６号、同２，８５
３，４５７号、同３，４１１，９１１号、同３，４１
１，９１２号、同４，１９７，１２７号、ベルギー特許
６８８，８８２号、同６９１，３６０号、同７１２，８
２３号、特公昭４５−５３３１号、特開昭６０−１８５
４０号、同５１−１３０２１７号、同５８−１３７８３
１号、同５５−５０２４０号等に詳しく記載されてい
る。疎水性ポリマーの平均粒径は０．００５〜２．０μ
ｍ程度、好ましくは０．０１〜０．８μｍである。

【００５６】この中で好ましいものは、水分散性ポリエ
ステルとスチレン系重合体を構成要素とする共重合体で
ある。この水分散性ポリエステルとスチレン系重合体を
構成要素とする共重合体又は、組成物について説明す
る。

【００５７】水分散性ポリエステルとは、多塩基酸又は
そのエステル形成性誘導体とポリオール又はそのエステ
ル形成性誘導体との縮重合反応により得られる実質的に
線状のポリマーである。このポリマーの多塩基酸成分と
しては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、無水
フタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、１，４−
シクロヘキサンジカルボン酸、アジピン酸、セバシン
酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ダイマー酸など
を例示することができる。これら成分と共にマレイン
酸、フマール酸、イタコン酸などの不飽和多塩基酸やｐ
−ヒドロキシ安息香酸、ｐ−（β−ヒドロキシエトキ
シ）安息香酸などのヒドロキシカルボン酸を小割合で用
いることができる。

【００５８】またポリオール成分としてはエチレングリ
コール、ジエチレングリコール、１，４−ブタンジオー
ル、ネオペンチルグリコール、ジプロピレングリコー
ル、１，６−ヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサ
ンジメタノール、キシリレングリコール、トリメチロー
ルプロパン、ポリ（エチレンオキシド）グリコール、ポ
リ（テトラメチレンオキシド）グリコールなどを例示す
ることができる。

【００５９】該水分散性ポリエステルに水分散性及び水
溶性を付与するために、スルホン酸塩、ジエチレングリ
コール、ポリアルキレンエーテルグリコールなどの導入
が有効な手段である。特にスルホン酸塩を有するジカル
ボン酸成分（スルホン酸塩を有するジカルボン酸及び／
又はそのエステル形成性誘導体）を水分散性ポリエステ
ル中の全ジカルボン酸成分に対して５〜１５モル％含有
することが好ましい。下引層に用いられるスルホン酸塩
を有するジカルボン酸及び／又はそのエステル形成性誘
導体としてはスルホン酸アルカリ金属塩の基を有するも
のが特に好ましく、例えば４−スルホイソフタル酸、５
−スルホイソフタル酸、スルホテレフタル酸、４−スル
ホフタル酸、４−スルホナフタレン−２，７−ジカルボ
ン酸、５−（４−スルホフェノキシ）イソフタル酸など
のアルカリ金属塩叉はそのエステル形成性誘導体が用い
られるが、５−スルホイソフタル酸ナトリウム塩又はそ
のエステル形成性誘導体が特に好ましい。これらのスル
ホン酸塩を有するジカルボン酸及び／又はそのエステル
形成性誘導体は、水溶性及び耐水性の点から全ジカルボ
ン酸成分に対し６〜１０モル％で用いられることが特に
好ましい。

【００６０】下引層に用いるスチレン系重合体のモノマ
ーとしては、スチレン単独でかまわないし又共重合する
際には、例えばアルキルアクリレート、アルキルメタク
リレート（アルキル基としてはメチル基、エチル基、ｎ
−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブ
チル基、ｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基、シクロ
ヘキシル基、フェニル基、ベンジル基、フェニルエチル
基等）；２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒド
ロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピル
アクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート
等のヒドロキシ含有モノマー；アクリルアミド、メタク
リルアミド、Ｎ−メチルメタクリルアミド、Ｎ−メチル
アクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、Ｎ
−メチロールアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチロールア
クリルアミド、Ｎ−メトキシメチルアクリルアミド等の
アミド基含有モノマー；Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル
アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノメタクリレート
のアミノ基含有モノマー；グリシジルアクリレート、グ
リシジルメタクリレート等のエポキシ基含有モノマー；
アクリル酸、メタクリル酸及びそれらの塩（ナトリウム
塩、カリウム塩、アンモニウム塩）等のカルボキシル基
又はその塩を含有するモノマー；スチレンスルホン酸、
ビニルスルホン酸及びそれらの塩（ナトリウム塩、カリ
ウム塩、アンモニウム塩）等のスルホン酸基又はその塩
を含有するモノマー；イタコン酸、マレイン酸、フマー
ル酸及びそれらの塩（ナトリウム塩、カリウム塩、アン
モニウム塩）等のカルボキシル基又はその塩を含有する
モノマー；無水マレイン酸、無水イタコン酸等の酸無水
物を含有するモノマー；ビニルイソシアネート、アリル
イソシアネート、ビニルメチルエーテル、ビニルエチル
エーテル、アクリロニトリル、塩化ビニル、酢酸ビニ
ル、塩化ビニリデン等が挙げられる。上述のモノマー
は、１種若しくは２種以上を用いて共重合させることが
できる。

【００６１】水分散性ポリエステルをビニル系重合体に
変性するには、水分散性ポリエステルの末端に付加重合
可能な基を導入してビニル系共重合体のモノマーと共重
合することによりグラフト化する方法、ビニル系共重合
体を重合しモノマーとしてカルボン酸、グリシジル基若
しくはアミノ基等水分散性ポリエステルを縮重合する際
に反応可能基を導入しグラフト化する方法等がある。

【００６２】また重合開始剤には、過硫酸アンモニウ
ム、過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウムなどがあり、好
ましくは過硫酸アンモニウムが使用される。更に重合に
ついては特に界面活性剤を必要とせず、ソープフリーで
反応可能である。しかし重合安定性を改良する目的で、
系内に界面活性剤を乳化剤として用いることができ、一
般のノニオン・アニオン何れの界面活性剤も使用でき
る。

【００６３】上記の水分散性ポリエステルとスチレン系
共重合体の変性する割合は、９９／１〜５／９５、好ま
しくは９７／３〜５０／５０、更に好ましくは９５／５
〜８０／２０がよい。

【００６４】下引き第１層中には塗布性を向上させるた
めに活性剤の添加やメチルセルロース等のセルロース化
合物を含有させることが好ましい。

【００６５】下引き処理は前記フィルム製膜の前に行っ
ても構わないが、下引組成物が延伸可能であるならば、
製膜途中である縦延伸の前、縦延伸と横延伸の間、横延
伸後熱処理の前など任意の場所で行うことが可能であ
る。

【００６６】延伸ができない場合、例えば親水性基を有
するポリマーを用いるには、親水性高分子間での相互作
用が強く、延伸できないことがあるが、スチーム下で延
伸したり、延伸助剤としてポリグリセリンなどを添加す
ることにより延伸が可能となる。

【００６７】親水基を有するモノマーの中で好ましい物
としては、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸
等の不飽和カルボン酸が挙げられる。この含有量として
は耐水性の点からみて、１〜１０重量％が好ましく、更
に好ましくは１〜８重量％、より好ましくは、１〜６重
量％、最も好ましくは、１〜４重量％である。またこの
共重合体の第４成分として、その他の共重合可能な単量
体を０〜１５重量％、好ましくは、０〜１０重量％の範
囲で、必要に応じて共重合させる事ができる。この例と
しては、メチルスチレン等のアルキル置換スチレン、ク
ロロスチレン、クロルメチルスチレン等のハロゲン化ス
チレン、アクリロニトリル等の不飽和ニトリル化合物、
アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、アクリル酸ｔ
−ブチル等の脂肪族、メタクリル酸シクロヘキシル等の
脂環族、アクリル酸ベンジル等の芳香族（メタ）アクリ
ル酸エステル化合物、更にはゴム変性化合物である、ブ
タジエン、イソプレン等を挙げることができる。

【００６８】これらの共重合体の製法は特に制限がな
く、通常は一般公知のラジカル開始剤を用いて、ラジカ
ル重合により得ることができる。

【００６９】これらの単量体からなる共重合体のＧＰＣ
法により測定される標準ポリスチレン換算の重量平均分
子量としては、１，５００〜７００，０００であること
が好ましく、２，０００〜５００，０００であることが
更に好ましい。

【００７０】下引き第２層は写真乳剤層と良く接着する
親水性樹脂層であることが好ましい。

【００７１】親水性樹脂層を構成するバインダーとして
はゼラチン、ゼラチン誘導体、ガゼイン、寒天、アルギ
ン酸ソーダ、でんぷん、ポリビニルアルコール、ポリア
クリル酸共重合体、カルボキシメチルセルロース、ヒド
ロキシエチルセルロース等の水溶性ポリマー類、ポリス
チレンスルホン酸ソーダ共重合体と疎水性ラテックスの
組み合わせなどが挙げられるが、ゼラチンが好ましい。

【００７２】これら下引き２層中には硬膜剤を用いて膜
強度を高めることが好ましく、このような硬膜剤として
は例えばホルムアルデヒド、グルタルアルデヒドのよう
なアルデヒド化合物、米国特許２，７３２，３０３号、
同３，２８８，７７５号、英国特許９７４，７２３号、
同１，１６７，２０７号等に記載されている反応性ハロ
ゲンを有する化合物、ジアセチル、シクロペンタンジオ
ンの如きケトン化合物、ビス（２−クロロエチル）尿
素、２−ヒドロキシ−４，６−ジクロロ−１，３，５−
トリアジン、ジビニルスルホン、５−アセチル−１，３
−ジアクリロイルヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジ
ン、米国特許３，２３２，７６３号、同３，６３５，７
１８号、英国特許９９４，８０９号等に記載の反応性オ
レフィンを有する化合物、米国特許３，５３９，６４４
号、同３，６４２，４８６号、特公昭４９−１３５６８
号、同５３−４７２７１号、同５６−４８８６０号、特
開昭５３−５７２５７号、同６１−１２８２４０号、同
６２−４２７５号、同６３−５３５４１号、同６３−２
６４５７２号等に記載のビニルスルホン化合物、Ｎ−ヒ
ドロキシメチルフタルイミド、米国特許２，７３２，３
１６号、同２，５８６，１６８号等に記載のＮ−メチロ
ール化合物、米国特許３，１０３，４３７号等に記載の
イソシアネート化合物、米国特許２，９８３，６１１
号、同３，１０７，２８０号等に記載のアジリジン化合
物、米国特許２，７２５，２９４号、同２，７２５，２
９５号等に記載の酸誘導体類、米国特許３，１００，７
０４号等に記載のカルボジイミド系化合物、米国特許
３，０９１，５３７号等に記載のエポキシ系化合物、米
国特許３，３２１，３１３号、同３，５４３，２９２号
等に記載のイソオキサゾール系化合物、ムコクロル酸の
ようなハロゲノカルボキシアルデヒド類、ジヒドロキシ
ジオキサン、ジクロロジオキサン等のジオキサン誘導体
等の有機硬膜剤及びクロムミョウバン、硫酸ジルコニウ
ム、三塩化クロム等の無機硬膜剤である。またゼラチン
に対して硬膜作用が比較的速い硬膜剤としては、特開昭
５０−３８５４０号に記載のジヒドロキノリン骨格を有
する化合物、特開昭５１−５９６２５号、同６２−２６
２８５４号、同６２−２６４０４４号、同６３−１８４
７４１号に記載のＮ−カルバモイルピリジニウム塩類、
特公昭５５−３８６５５号に記載のアシルイミダゾール
類、特公昭５３−２２０８９号に記載のＮ−アシルオキ
シイミダゾール類、特公昭５３−２２０８９号に記載の
Ｎ−アシルオキシイミノ基を分子内に２個以上有する化
合物、特開昭５２−９３４７０号に記載のＮ−スルホニ
ルオキシイミド基を有する化合物、特開昭５８−１１３
９２９号に記載のリン−ハロゲン結合を有する化合物、
特開昭６０−２２５１４８号、同６１−２４０２３６
号、同６３−４１５８０号に記載のクロロホルムアミジ
ニウム化合物等が知られている。

【００７３】この下引き第２層には、滑り剤として２酸
化珪素、２酸化チタン等の無機微粒子や、ポリメタクリ
ル酸メチル等の有機系マット材（１〜１０μｍ）を含有
することが好ましい。

【００７４】これ以外にも必要に応じて各種の添加剤例
えば帯電防止剤、ハレーション防止染料、着色用染料、
顔料、塗布助剤などを含有することができる。

【００７５】この中でも特に帯電防止剤を含有させるこ
とが好ましい。好ましい帯電防止剤としては非感光性の
導電体及び／又は半導体微粒子が挙げられる。

【００７６】下引き層に用いられる非感光性の導電体及
び／又は半導体微粒子とは、粒子中に存在する電荷担
体、例えば陽イオン、陰イオン、電子、正孔等によって
導電性を示すもので、有機材料、無機材料或いは両者の
複合材料でもよい。好ましくは電子伝導性を示す化合物
であり、有機材料であればポリアニリン、ポリピロー
ル、ポリアセチレン等の高分子微粒子等を挙げることが
できる。

【００７７】無機材料であれば酸素不足酸化物、金属過
剰酸化物、金属不足酸化物、酸素過剰酸化物等の不定比
化合物を形成し易い金属酸化物微粒子等が挙げられる。
また電荷移動錯体若しくは有機−無機複合材料であれば
ホスファゼン金属錯体等を挙げることができる。この中
で下引き層に最も好ましい化合物は製造方法などが多様
な方式をとることが可能な金属酸化物微粒子である。ま
た下引き層における導電体は体積固有抵抗が１０³Ω・
ｃｍ以下のものを、半導体については１０¹²Ω・ｃｍ以
下のものをそれぞれ導電体、半導体として定義する。

【００７８】以下に好ましい導電性微粒子の作成方法を
例示する。

【００７９】（半導体微粒子溶液の調製）塩化第二錫水
和物６５ｇを水／エタノール混合溶液２０００ｃｃに溶
解し、均一溶液を得た。次いでこれを煮沸し共沈澱物を
得た。生成した沈澱物をデカンテーションにより取り出
し、蒸留水にて沈澱物を何度も水洗する。沈澱物を洗浄
した蒸留水中に硝酸銀を滴下し塩素イオンの反応がない
ことを確認後、蒸留水１０００ｃｃ添加し全量を２００
０ｃｃとする。更に３０％アンモニア水を４０ｃｃ加
え、水浴中で加温し、コロイド状ゲル分散液を得た。こ
のコロイド状ゲル分散液を分散液Ａ−１とする。

【００８０】（半導体微粒子粉末の調製）塩化第二錫水
和物６５ｇと三塩化アンチモン１．５ｇをエタノール１
０００ｇに溶解し均一溶液を得た。この溶液に１Ｎ水酸
化ナトリウム水溶液を前記溶液のｐＨが３になるまで滴
下してコロイド状酸化第二錫と酸化アンチモンの共沈殿
物を得た。得られた共沈澱を５０℃に２４時間放置し赤
褐色のコロイド状沈澱物を得た。

【００８１】赤褐色のコロイド状沈澱物を遠心分離によ
り分離した。過剰なイオンを除くたスめ沈澱物に水を加
え遠心分離によって水洗した。この操作を３回繰り返し
過剰イオンを除去した。過剰イオンを除去したコロイド
状沈澱１００ｇを平均粒径０．３μｍの硫酸バリウム５
０ｇ及び水１０００ｇに混合し９００℃に加熱された焼
成炉中に噴霧し青みがかった平均粒径０．１μｍの酸化
第二錫と硫酸バリウムからなる粉末混合物Ａ−２を得
た。

【００８２】下引層組成物の塗布液濃度は通常２０重量
％以下であり、好ましくは１５重量％以下である。塗布
量はフィルム１ｍ²当たり塗布液重量で１〜３０ｇでよ
く、更には５〜２０ｇであることが好ましい。

【００８３】塗布方法としては公知の種々の方法が適用
できる。例えばロールコート法グラビアロールコート
法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、バーコ
ート法、含浸法及びカーテンコート法等を単独若しくは
組み合わせて適用することができる。

【００８４】次に本発明に用いられるアスコルビン酸に
ついて述べる。

【００８５】本発明のハロゲン化銀写真感光材料の処理
方法において、用いられる現像液は実質的にジヒドロキ
シベンゼン化合物を含有せず、下記一般式（Ａ）で表さ
れる化合物が含有される。

【００８６】

【化１】

【００８７】式中、Ｒ₁、Ｒ₂は各々、独立して置換又は
非置換のアルキル基、置換又は非置換のアミノ基、置換
又は非置換のアルキルチオ基を表し、Ｒ₁、Ｒ₂は互いに
結合して環を形成してもよい。ｋは０又は１を表し、ｋ
が１のときＸは−ＣＯ−又は−ＣＳ−基を表す。Ｍ₁、
Ｍ₂は各々水素原子又はアルカリ金属原子を表す。なお
本発明においては上記式中のＲ₁とＲ₂が互いに結合して
環を形成した下記一般式（Ａ−ａ）で表される化合物が
好ましい。

【００８８】

【化２】

【００８９】式中、Ｒ₃は水素原子、置換又は無置換の
アルキル基、置換又は無置換のアリール基、置換又は無
置換のアミノ基、置換又は無置換のアルコキシ基、スル
ホ基、カルボキシル基、アミド基、スルホンアミド基を
表し、Ｙ₁はＯ又はＳを表し、Ｙ₂はＯ、Ｓ又はＮＲ₄を
表す。Ｒ₄は置換又は無置換のアルキル基、置換又は無
置換のアリール基を表す。

【００９０】前記一般式（Ａ）又は一般式（Ａ−ａ）に
おけるアルキル基としては、低級アルキル基が好まし
く、例えば炭素数１〜５のアルキル基であり、アミノ基
としては無置換のアミノ基或いは低級アルキル基で置換
されたアミノ基が好ましく、アルコキシ基としては低級
アルコキシ基が好ましく、アリール基としては好ましく
はフェニル基或いはナフチル基等であり、これらの基は
置換基を有していてもよく、ヒドロキシル基、ハロゲン
原子、アルコキシ基、スルホ基、カルボキシル基、アミ
ド基、スルホンアミド基等が好ましい置換基として挙げ
られる。

【００９１】本発明に係る前記一般式（Ａ）又は一般式
（Ａ−ａ）で表される具体的化合物例を以下に示すが、
本発明はこれらに限定されるものではない。

【００９２】

【化３】

【００９３】

【化４】

【００９４】これらの化合物は、代表的にはアスコルビ
ン酸或いはエリソルビン酸又はそれらから誘導される誘
導体であり、市販品として入手できるか或いは容易に公
知の合成法により合成することができる。

【００９５】本発明に係るアスコルビン酸或いはエリソ
ルビン酸又はそれらから誘導体の使用量は、現像液１リ
ットル当たり０．０５〜１２０ｇ、好ましくは１０〜６
０ｇ、更に好ましくは４０〜５０ｇであることが好まし
い。

【００９６】前記一般式（Ａ）で示される現像剤と超加
成性を示す補助現像剤としては３−ピラゾリドン誘導体
及びｐ−アミノフェノール誘導体が挙げられる。以下、
補助現像剤の具体的化合物例を挙げるが、これらに限定
されるものではない。

【００９７】１−フェニル−３−ピラゾリドン、１−フ
ェニル−４−メチル−４′−ヒドロキシメチル−３−ピ
ラゾリドン、１−フェニル−５−メチル−３−ピラゾリ
ドン、１−ｐ−アミノフェニル−４，４′−ジメチル−
３−ピラゾリドン、１−ｐ−トリル−４，４′−ジメチ
ル−３−ピラゾリドン、１−ｐ−トリル−４−メチル−
４′−ヒドロキシメチル−３−ピラゾリドン、Ｎ−メチ
ル−ｐ−アミノフェノール、Ｎ−（β−ヒドロキシエチ
ル）−ｐ−アミノフェノール、Ｎ−（４−ヒドロキシフ
ェニル）グリシン、２−メチル−ｐ−アミノフェノー
ル、ｐ−ベンジルアミノフェノールなど。

【００９８】本発明のハロゲン化銀写真感光材料の処理
方法においては実質的にジヒドロキシベンゼン系現像剤
を含有しないことが特徴である。ここで言うジヒドロキ
シベンゼン系現像剤とは下記一般式Ｖ−１〜Ｖ−３で示
される化合物で人体がアレルギー性を示す化合物であ
る。

【００９９】

【化５】

【０１００】式中、Ｒ₅、Ｒ₆、Ｒ₇及びＲ₇は各々独立し
て水素原子、アルキル基、アリール基、カルボキシル
基、ハロゲン原子、或いはスルホ基を表す。

【０１０１】具体的化合物としては例えばハイドロキノ
ン、クロロハイドロキノン、ブロモハイドロキノン、イ
ソプロピルハイドロキノン、メチルハイドロキノン、
２，３−ジクロロハイドロキノン、２，５−ジクロロハ
イドロキノン、２，３−ジブロモハイドロキノン、２，
５−ジメチルハイドロキノン等が挙げられるが最も一般
的に用いられてきたものハイドロキノンである。

【０１０２】本発明においては、これらのジヒドロキシ
ベンゼン類が実質的に含有しないものであり、ここで言
う実質的にとは、全く含有しないか若しくはアレルギー
作用や現像効果を発現しない程度に微量含有するものを
言う。しかし本発明においては全く含有しない場合が好
ましい。

【０１０３】本発明の処理方法において現像槽の空気接
触係数は２５以上、１０００以下であるが、好ましくは
１００〜７５０の範囲でよく、より好ましくは２５０〜
５００であることが本発明の効果を良好に奏する。

【０１０４】本発明に用いられる自動現像機は公知であ
るローラー型、ドラム型などの自動現像機を用いてもよ
く、本発明で言う空気接触係数を増大させるにはローラ
ー型自動現像機が好ましい。

【０１０５】図１に一般的なローラー型自動現像機の例
を示す。図１において処理するフィルムはフィルム挿入
部Ａにセットされる。スタートボタンをＯＮにするとフ
ィルム検出手段により、処理しようとするフィルムの存
在が確認され、フィルム引き出しローラーＢの回転によ
り、フィルム端が取り込みローラーに係合され、以下、
順次、搬送ローラーの回転によって現像槽Ｃ、定着槽
Ｅ、水洗槽Ｇに案内されて処理される。

【０１０６】水洗が完了されたフィルムは、スクイズ部
Ｈに案内されて水切りした後、乾燥部Ｉに案内されて乾
燥され、フィルム排出口Ｊを通じて装置外へ排出され
る。

【０１０７】ローラー型自動現像機において本発明で言
う空気接触係数を増大させるには、図２に示したＣの部
分の現像槽の上部に、蓋を取り付けたり、Ｂ及びＤのロ
ーラーの直径を大きくするなどの方法が採られる。

【０１０８】現像槽の上部に蓋を取り付けて空気接触係
数を調節する場合は、図３に示したように蓋に穴を開け
て調節することが好ましい。蓋に開ける穴の形状や数に
よって空気接触係数を調節することが可能である。用い
られる蓋の材質はステンレス、酸化アルミニウム、プラ
スチック、アクリル、テフロンなどの安定性のよい材質
であればよく、現像液と反応しないものが好ましい。ま
た定着槽や乾燥部を持つ自動現像機であるため定着液と
反応したりせず、かつ耐熱性を有した材質であることが
好ましい。

【０１０９】図３に本発明で取り付けた蓋の形状例を示
したが、これらに限定されることなく作成することが出
来る。

【０１１０】本発明のハロゲン化銀写真感光材料の処理
方法に用いられる感光材料のハロゲン化銀組成としては
塩化銀、臭化銀、沃臭化銀及び塩沃臭化銀等を用いるこ
とができる。好ましいハロゲン化銀組成としては５０モ
ル％以上の塩化銀を含有することである。ハロゲン化銀
粒子の平均粒径は０．０２５〜０．５μｍの範囲のもの
が用いられ、好ましくは０．０５〜０．３０μｍであ
る。

【０１１１】ハロゲン化粒子は、どのような結晶型のも
のであってもよく、例えば立方体、８面体、１４面体な
どの単結晶であってもよく、種々の形状を有した多双晶
粒子であってもよい。

【０１１２】本発明のハロゲン化銀写真感光材料に用い
られる乳剤は、公知の方法で製造できる。例えばリサー
チ・ディスクロージャー（ＲＤ）Ｎｏ．１７６４３（１
９７８年１２月），２２〜２３頁の“Ｅｍｕｌｓｉｏｎ
Ｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎａｎｄ Ｔｙｐｅｓ”に記載
の方法、或は同（ＲＤ）Ｎｏ．１８７１６（１９７９年
１１月），６４８頁に記載の方法で調製することができ
る。

【０１１３】本発明のハロゲン化銀写真感光材料に用い
られる乳剤は、例えばＴ．Ｈ．Ｊａｍｅｓ著“Ｔｈｅ
Ｔｈｅｏｒｙ ｏｆ ｔｈｅ Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉ
ｃｐｒｏｃｅｓｓ”第４版、Ｍａｃｍｉｌｌａｎ社刊
（１９７７年）３８〜１０４頁に記載の方法、Ｇ．Ｆ．
Ｄｕｆｆｉｎ著“Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ Ｅｍｕｌ
ｓｉｏｎ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ”、Ｆｏｃａｌ Ｐｒｅ
ｓｓ社刊（１９６６年）、Ｐ．Ｇｌａｆｋｉｄｅｓ著
“Ｃｈｉｍｉｅ ｅｔ Ｐｈｙｓｉｑｕｅ Ｐｈｏｔｏ
ｇｒａｐｈｉｑｕｅ”Ｐａｕｌ Ｍｏｎｔｅｌ社刊（１
９６７年）或はＶ．Ｌ．Ｚｅｌｉｋｍａｎ他著“Ｍａｋ
ｉｎｇ Ａｎｄ Ｃｏａｔｉｎｇ Ｐｈｏｔｏｇｒａｐ
ｈｉｃ Ｅｍｕｌｓｉｏｎ” Ｆｏｃａｌ Ｐｒｅｓｓ
社刊（１９６４）などに記載の方法により調製すること
ができる。

【０１１４】即ち、酸性法、アンモニア法、中性法など
の溶液条件にて順混合法、逆混合法、ダブルジェット
法、コントロール・ダブルジェット法などの混合条件、
コンバージョン法、コア／シェル法などの粒子調製条件
及びこれらの組合わせ法を用いて製造することができ
る。

【０１１５】ハロゲン化銀乳剤は２種類以上の粒子を混
合して用いることができる。例えば主乳剤として１０モ
ル％以下の塩化銀及び５モル％以下の沃化銀を含有する
立方晶、八面体又は平板状の塩沃臭化銀乳剤であり、副
乳剤として塩化銀５０モル％以上で沃化銀が５モル％以
下を含む立方晶、八面体又は平板状塩沃臭化銀乳剤を混
合粒子とすることができる。

【０１１６】ハロゲン化銀乳剤は、２層以上の多層構造
を有したハロゲン化粒子であってもよい。例えばコア部
に塩化銀、シェル部に臭化銀からなる粒子或はコア部に
臭化銀、シェル部に塩化銀である塩臭化銀乳剤であって
もよい。このときの沃化銀量は任意の層に５モル％以内
で含有させてよい。

【０１１７】ハロゲン化銀の粒径分布は、狭い分布を有
した単分散乳剤或は広い分布を有した多分散乳剤の何れ
であってもよい。単分散乳剤の製法は公知で、例えば
Ｊ．Ｐｈｏｔ．Ｓｃｉ，１２．２４２〜２５１，（１９
６３）、特開昭４８−３６８９０号、同５２−１６３６
４号、同５５−１４２３２９号、同５８−４９９３８
号、英国特許１，４１３，７４８号、米国特許３，５７
４，６２８号、同３，６５５，３９４号などに詳しく記
載されている。本発明のハロゲン化銀写真感光材料に用
いられる乳剤は、上記の単分散乳剤を得るための方法と
して、例えば種晶を用い、この種晶を成長核として銀イ
オン及びハライドイオンを供給し成長させた乳剤を用い
てもよい。

【０１１８】コア／シェル型乳剤の製法は公知で例えば
Ｊ．Ｐｈｏｔ．Ｓｃｉ，２４．１９８（１９７６）、米
国特許２、５９２、２５０号、同３，５０５，０６８
号、同４，２１０，４５０号、同４，４４４，８７７号
或は特開昭６０−１４３３３１号などに記載の方法を参
考にすることができる。

【０１１９】本発明のハロゲン化銀写真感光材料に用い
られる乳剤は、アスペクト比（粒子径／粒子厚みの比）
が３以上の平板状粒子であってもよい。このような平板
状粒子の利点としては、分光増感効率の向上や画像の粒
状性及び鮮鋭性の改良などが得られるとして例えば英国
特許２，１１２，１５７号、米国特許４，４１４，３１
０号、同４，４３４，２２６号などで開示されており、
乳剤はこれら公報に記載の方法により調製することがで
きる。

【０１２０】乳剤は可溶性塩類を除去するためにヌーデ
ル水洗法、フロキュレーション沈降法などを用いてよ
く、好ましい水洗法としては例えば、特公昭３５−１６
０８６号記載のスルホ基を含む芳香族炭化水素系アルデ
ヒド樹脂を用いる方法、又は特開昭６３−１５８６４４
号記載の高分子凝集剤である例示Ｇ−３、Ｇ−８などを
用いる脱塩法を挙げることができる。

【０１２１】本発明のハロゲン化銀写真感光材料に用い
られる乳剤は、物理熟成又は化学熟成前後の工程で、各
種の写真用添加剤を用いることができる。このような工
程で使用される化合物としては例えばリサーチ・ディス
クロージャー（ＲＤ）Ｎｏ．１７６４３（１９７８年１
２月）同Ｎｏ．１８７１６（１９７９年１１月）及び同
Ｎｏ．３０８１１９（１９８９年１２月）に記載されて
いる各種の化合物を用いることができる。これら３つの
（ＲＤ）に記載されている化合物種類と記載箇所を下記
に掲載した。

【０１２２】 添加剤 ＲＤ−１７６４３ ＲＤ−１８７１６ ＲＤ−３０８１１９ 頁 分類 頁 頁 分類 化学増感剤 ２３ III ６４８右上 ９９６ III 増感色素 ２３ IV ６４８〜６４９ ９９６〜８ IVＡ 減感色素 ２３ IV ９９８ IVＢ 染料 ２５〜２６ VIII ６４９〜６５０ １００３ VIII 現像促進剤 ２９ XXI ６４８右上 カブリ抑制剤・安定剤 ２４ IV ６４９右上 １００６〜７ VI 増白剤 ２４ Ｖ ９９８ Ｖ 硬膜剤 ２６ Ｘ ６５１左 １００４〜５ Ｘ 界面活性剤 ２６〜２７ XI ６５０右 １００５〜６ XI 可塑剤 ２７ XII ６５０右 １００６ XII スベリ剤 ２７ XII マット剤 ２８ XVI ６５０右 １００８〜９ XVI バインダー ２６ XXII １００３〜４ IX 支持体 ２８ XVII １００９ VII 本発明の感光材料の写真処理は例えば、前記のＲＤ−１
７６４３のXX〜XXI、２９〜３０頁或は同３０８１１９
のXX〜XXI、１０１１〜１０１２頁に記載されているよ
うな処理液による処理がなされてよい。この処理は銀画
像を形成する白黒写真処理であって処理温度は通常１８
℃から５０℃の範囲で処理される。

【０１２３】なお現像液には公知の例えば保恒剤、アル
カリ剤、ｐＨ緩衡剤、カブリ防止剤、硬膜剤、現像促進
剤、界面活性剤、消泡剤、色調剤、硬水軟化剤、溶解助
剤、粘性付与剤などを必要に応じて用いてもよい。

【０１２４】定着液にはチオ硫酸塩、チオシアン酸塩な
どの定着剤が用いられ、更に硬膜剤として水溶性のアル
ミニウム塩例えば硫酸アルミニウム或はカリ明ばんなど
を含んでいてもよい。その他保恒剤、ｐＨ調整剤、硬水
軟化剤などを含有していてもよい。

【０１２５】

【実施例】以下実施例によって本発明を具体的に説明す
る。なお、当然のことではあるが本発明は以下に述べる
実施例に限定されるものではない。

【０１２６】実施例１ （支持体の作成） （ＳＰＳの合成）トルエン２００重量部にスチレンを１
００重量部、トリイソブチルアルミニウム５６ｇ、ペン
タメチルシクロペンタジエニルチタントリメトキサイド
２３４ｇを使用して９６℃８時間反応を行った。水酸化
ナトリウムのメタノール溶液で触媒を分解除去した後、
メタノールで３回洗浄して目的の化合物を３４重量部得
た。

【０１２７】（ＳＰＳフィルムの作成）得られたＳＰＳ
を３３０℃でダイからフィルム状に熔融押し出しをおこ
ない、冷却ドラム上で急冷固化して未遠心フィルムを得
た。このとき冷却ドラムの引き取り速度を２段階でおこ
ない、厚さ１３７０μｍ、１２６５μｍ及び１０５４μ
ｍの未延伸フィルムを１３５℃で予熱し、縦延伸（３．
１倍）した後、１３０℃で横延伸（３．４倍）し、更に
２５０℃で熱固定をおこなった。その結果、支持体とし
て曲げ弾性率４５０ｋｇ／ｍｍ²の１３０μｍ及び１０
０μｍの２軸延伸フィルムを得た。なお比較のＰＥＴの
曲げ弾性率は４６０ｋｇ／ｍｍ²であった。

【０１２８】（ＳＰＳフィルムの下塗）具体例で示す下
塗用ラテックス（固形分２０％）の下塗ラテックス液を
得られたＳＰＳフィルム及び比較のＰＥＴフィルムに乾
燥後に０．５μｍの膜厚になるように１２０℃で１分間
で乾燥した。塗布前には０．５ｋＶ・Ａ・ｍｉｎ／ｍ²
のコロナ放電処理をした。上記ＳＰＳフィルムの上には
コロナ放電後にスチレン−グリシジルアクリレート及び
ゼラチンの各々０．３μｍの接着層を形成させたた。

【０１２９】（ハロゲン化銀乳剤Ａの調製）同時混合法
を用いて塩化銀７０モル％、残りは臭化銀からなる平均
厚み０．０５μｍ平均直径０．１５μｍの塩臭化銀コア
粒子を調製した。コア粒子混合時にＫ₃ＲｕＣｌ₆を銀１
モル当たり８×１０^-8モル添加した。このコア粒子に同
時混合法を用いてシェルを付けた。その際Ｋ₂ＩｒＣｌ₆
を銀１モル当たり３×１０^-7モル添加した。得られた乳
剤は平均厚み０．１０μｍ平均直径０．２５μｍのコア
／シェル型単分散（変動係数１０％）の（１００）面を
主平面として有する塩沃臭化銀（塩化銀９０モル％、沃
臭化銀０．２モル％、残りは臭化銀からなる）平板粒子
の乳剤であった。ついで特開平２−２８０１３９号に記
載の変性ゼラチン（ゼラチン中のアミノ基をフェニルカ
ルバミルで置換したもので例えば特開平２−２８０１３
９号２８７（３）頁の例示化合物Ｇ−８）を使い脱塩し
た。脱塩後のＥＡｇは５０℃で１９０ｍＶであった。

【０１３０】得られた乳剤に４ヒドロキシ−６−メチル
−１，３，３ａ７−テトラザインデンを銀１モル当たり
１×１０^-3モル添加し更に臭化カリウム及びクエン酸を
添加してｐＨ５．６、ＥＡｇ１２３ｍＶに調整して塩化
金酸を２×１０^-5モル添加した後、無機硫黄を３×１０
^-6モル添加して温度６０℃で最高感度がでるまで化学熟
成を行った。熟成終了後、４−ヒドロキシ−６−メチル
−１，３，３ａ７−テトラザインデンを銀１モル当たり
２×１０^-3モル、１−フェニル−５−メルカプトテトラ
ゾールを３×１０^-4モル及びゼラチンを添加した。

【０１３１】（ハロゲン化銀乳剤Ｂの調製）同時混合法
を用いて塩化銀６０モル％、沃化銀２．５モル％、残り
は臭化銀からなる平均厚み０．０５μｍ、平均直径０．
１５μｍの塩沃臭化銀コア粒子を調製した。コア粒子混
合時にＫ₃Ｒｈ（Ｈ₂Ｏ）Ｂｒ₅を銀１モル当たり２×１
０^-8モル添加した。このコア粒子に同時混合法を用いて
シェルを付けた。その際Ｋ₂ＩｒＣｌ₆を銀１モル当たり
３×１０^-7モル添加した。得られた乳剤は平均厚み０．
１０μｍ、平均直径０．４２μｍのコア／シェル型単分
散（変動係数１０％）の塩沃臭化銀（塩化銀９０モル
％、沃臭化銀０．５モル％、残りは臭化銀からなる）平
板粒子の乳剤であった。ついで特開平２−２８０１３９
号に記載の変性ゼラチン（ゼラチン中のアミノ基をフェ
ニルカルバミルで置換したもので例えば特開平２−２８
０１３９号２８７（３）頁の例示化合物Ｇ−８）を使い
脱塩した。脱塩後のＥＡｇは５０℃で１８０ｍＶであっ
た。

【０１３２】得られた乳剤に４−ヒドロキシ−６−メチ
ル−１，３，３ａ７−テトラザインデンを銀１モル当た
り１×１０^-3モル添加し、更に臭化カリウム及びクエン
酸を添加してｐＨ５．６、ＥＡｇ１２３ｍＶに調整し
て、塩化金酸を２×１０^-5モル添加した後にＮ，Ｎ，
Ｎ′−トリメチル−Ｎ′−ヘプタフルオロセレノ尿素を
３×１０^-5モル添加して温度６０℃で最高感度が出るま
で化学熟成を行った。

【０１３３】熟成終了後、４−ヒドロキシ−６−メチル
−１，３，３ａ７−テトラザインデンを銀１モル当たり
２×１０^-3モル、１−フェニル−５−メルカプトテトラ
ゾールを３×１０^-4モル及びゼラチンを添加した。

【０１３４】（ＨｅＮｅレーザー光源用印刷製版スキャ
ナー用ハロゲン化銀写真感光材料の調製）上記の支持体
の一方の下塗層上に、下記の処方１のゼラチン下塗層を
ゼラチン量が０．５ｇ／ｍ²になるように、その上に処
方２のハロゲン化銀乳剤層１を銀量１．５ｇ／ｍ²、ゼ
ラチン量が０．５ｇ／ｍ²になるように、更にその上層
に中間保護層として下記処方３の塗布液をゼラチン量が
０．３ｇ／ｍ²になるように、更にその上層に処方４の
ハロゲン化銀乳剤層２を銀量１．４ｇ／ｍ²、ゼラチン
量が０．４ｇ／ｍ²になるように、更に下記処方５の塗
布液をゼラチン量が０．６ｇ／ｍ²になるよう同時重層
塗布した。また反対側の下塗層上には下記処方６のバッ
キング層をゼラチン量が０．６ｇ／ｍ²になるように、
その上に下記処方７の疎水性ポリマー層を、更にその上
に下記処方８のバッキング保護層をゼラチン量が０．４
ｇ／ｍ²になるように乳剤層側と同時重層塗布すること
で試料を得た。

【０１３５】 処方１（ゼラチン下塗層組成） ゼラチン ０．５ｇ／ｍ² 固体微粒子分散染料（平均粒径０．１μｍ） ２５ｍｇ／ｍ² ポリスチレンスルホン酸ナトリウム １０ｍｇ／ｍ² Ｓ−１（ソジウム−イソ−アミル−ｎ−デシルスルホサクシネート） ０．４ｍｇ／ｍ² 処方２（ハロゲン化銀乳剤層１組成） ハロゲン化銀乳剤Ａ 銀量１．５ｇ／ｍ²になるように 固体微粒子分散染料（平均粒径０．１μｍ） ２０ｍｇ／ｍ² シクロデキストリン（親水性ポリマー） ０．５ｇ／ｍ² 増感色素ｄ−１ ５ｍｇ／ｍ² 増感色素ｄ−２ ５ｍｇ／ｍ² ヒドラジン誘導体Ｈ−１ ２０ｍｇ／ｍ² 造核促進剤：ＡＭ−１ ４０ｍｇ／ｍ² レドックス化合物：ＲＥ−１ ２０ｍｇ／ｍ² 化合物ｅ １００ｍｇ／ｍ² ラテックスポリマーｆ ０．５ｇ／ｍ² 硬膜剤ｇ ５ｍｇ／ｍ² Ｓ−１ ０．７ｍｇ／ｍ² ２−メルカプト−６−ヒドロキシプリン ５ｍｇ／ｍ² ＥＤＴＡ ３０ｍｇ／ｍ² コロイダルシリカ（平均粒径０．０５μｍ） １０ｍｇ／ｍ² 処方３（中間層組成） ゼラチン ０．３ｇ／ｍ² Ｓ−１ ２ｍｇ／ｍ² 処方４（ハロゲン化銀乳剤層２組成） ハロゲン化銀乳剤Ｂ 銀量１．４ｇ／ｍ²になるように 増感色素ｄ−１ ３ｍｇ／ｍ² 増感色素ｄ−２ ３ｍｇ／ｍ² ヒドラジン誘導体Ｈ−２０ ２０ｍｇ／ｍ² 造核促進剤：Ｎｂ−１２ ４０ｍｇ／ｍ² レドックス化合物：ＲＥ−１ ２０ｍｇ／ｍ² ２−メルカプト−６−ヒドロキシプリン ５ｍｇ／ｍ² ＥＤＴＡ ２０ｍｇ／ｍ² ラテックスポリマーｆ ０．５ｇ／ｍ² Ｓ−１ １．７ｍｇ／ｍ² 処方５（乳剤保護層組成） ゼラチン ０．６ｇ／ｍ² 固体微粒子分散染料ＡＨ（平均粒径０．１μｍ） ４０ｍｇ／ｍ² Ｓ−１ １２ｍｇ／ｍ² マット剤：平均粒径３．５μｍの単分散シリカ ２５ｍｇ／ｍ² １，３−ビニルスルホニル−２−プロパノール ４０ｍｇ／ｍ² 界面活性剤ｈ １ｍｇ／ｍ² コロイダルシリカ（平均粒径０．０５μｍ） １０ｍｇ／ｍ² 化合物 ｊ ３０ｍｇ／ｍ² 処方６（バッキング層組成） ゼラチン ０．６ｇ／ｍ² Ｓ−１ ５ｍｇ／ｍ² ラテックスポリマーｆ ０．３ｇ／ｍ² コロイダルシリカ（平均粒径０．０５μｍ） ７０ｍｇ／ｍ² ポリスチレンスルホン酸ナトリウム ２０ｍｇ／ｍ² 化合物 ｉ １００ｍｇ／ｍ^２ 処方７（疎水性ポリマー層組成） ラテックス（メチルメタクリレート：アクリル酸＝９７：３） １．０ｇ／ｍ² 硬膜剤ｇ ６ｍｇ／ｍ² 処方８（バッキング保護層） ゼラチン ０．４ｇ／ｍ² マット剤：平均粒径５μｍの単分散ポリメチルメタクリレート ５０ｍｇ／ｍ² ソジウム−ジ−（２−エチルヘキシル）−スルホサクシネート １０ｍｇ／ｍ² 界面活性剤ｈ １ｍｇ／ｍ² 染料ｋ ２０ｍｇ／ｍ² Ｈ（ＯＣＨ₂ＣＨ₂）₆₈ＯＨ ５０ｍｇ／ｍ² 化合物 ｊ ２０ｍｇ／ｍ^２

【０１３６】

【化６】

【０１３７】

【化７】

【０１３８】

【化８】

【０１３９】なお塗布乾燥後のバッキング側の表面比抵
抗値は２３℃、２０％ＲＨで６×１０^１１で、乳剤側の
表面の膜面ｐＨは５．５であった。得られた試料を下記
記載の露光を行ってから、スタート時は自動現像機のタ
ンクに下記表１に記載の現像剤の使用液、下記組成の定
着液の使用液及び水洗槽に水を入れた。

【０１４０】そして自動現像機ＧＲ−２６ＳＲ（コニカ
〔株〕製）の現像槽の開口部を前述したように改造し、
表１に示したように空気接触係数を変化させて下記の条
件で現像処理した。

【０１４１】なお、予め感光材料１ｍ²当たり現像液の
使用液を２５０ｍｌ、定着液の使用液を３００ｍｌ及び
水を１５０ｍｌ添加しながら１日に面積の５０％を黒化
させた大全サイズのフィルムを１００枚処理し、これを
８日間ランニングを行い計８００枚処理した。評価は８
００枚ランニング後の性能である。処理後のバッキング
側の表面比抵抗値は２３℃、２０％ＲＨで３×１０¹¹で
あった。

【０１４２】 現像液処方（１リットル当たり） 化合物Ａ ５０．０ｇ 亜硫酸ナトリウム ２２．２ｇ ジメゾンＳ ２．３０ｇ （１−フェニル−４−ヒドロキシメチル−４−メチル−３−ピラゾリドン） 炭酸カリウム １１０．６ｇ ５−メチルベンゾトリアゾール ０．２５ｇ ＫＢｒ ７．５０ｇ ２−メルカプトヒポキサンチン ０．０６ｇ 純水（イオン交換水）を加えて全量を１リットルとしＫＯＨでｐＨを１０．３ に調整する。

【０１４３】 比較用現像液処方（ハイドロキノン系１リットル当たり） 純水 ８００ｍｌ 炭酸カリウム ５５ｇ ハイドロキノン １５ｇ ジメゾンＳ １．０ｇ ＤＴＰＡ・５Ｎａ １．４５ｇ ＫＢｒ ５ｇ ５−メチルベンゾトリアゾール ０．２ｇ １−フェニル−５−メルカプトテトラゾール ０．０３ｇ ２−メルカプトヒポキサンチン ０．０９ｇ 亜硫酸ナトリウム ４０ｇ ジエチレングリコール ４０ｇ 純水を加えて全量を１リットルとしＫＯＨでｐＨを１０．４に調整する。

【０１４４】 （定着液組成） チオ硫酸アンモニウム（７０％水溶液） ２００ｍｌ 亜硫酸ナトリウム ２２ｇ ほう酸 ９．８ｇ 酢酸ナトリウム・３水和物 ３４ｇ 酢酸（９０％水溶液） １４．５ｇ 酒石酸 ３．０ｇ 硫酸アルミニウム（２７％水溶液） ２５ｍｌ 水と硫酸を加えて５００ｍｌに仕上げ、使用時にｐＨ４．９になるようｐＨ調 整した。なお、使用時は水５００ｍｌを加えて１リットルの使用液にした。

【０１４５】処理条件（１） 処理工程 温度 時間 現像 ３５℃±０．３℃ ３０秒 定着 ３２℃±０．５℃ ２０秒 水洗 ２０〜２５℃ ２０秒 乾燥 ４５℃±０．５℃ ３０秒 処理条件（２） 処理工程 温度 時間 現像 ３５℃±０．３℃ １５秒 定着 ３２℃±０．５℃ １０秒 水洗 ２０〜２５℃ １０秒 乾燥 ４５℃±０．５℃ １５秒 評価方法 （黒ポツの評価）得られた現像済の試料の未露光部分の
黒ポツ（砂状の故障）を４０倍のルーペを使って目視評
価した。黒ポツの発生のないものを５ランクとし、黒ポ
ツの発生が増加するにつれ４、３、２、１と下げ評価を
した。ランク２と１は実用上好ましくないレベルであ
る。

【０１４６】（白ポツの評価）現像済みの試料の１００
％の網点に相当する部分の、網点の黒化部分に生じるピ
ンホール、いわゆる白ポツを１０倍のルーペを使って目
視評価した。白ポツの発生のないものを５ランクとし、
白ポツの発生が増加するにつれ４、３、２、１と下げ評
価をした。ランク２と１は実用上好ましくないレベルで
ある。

【０１４７】（フィルム汚れ）ランニング後の１枚目に
処理した試料の汚れの程度を下記のように目視で５段階
に評価した。

【０１４８】 Ａ：汚れが全く付着しない Ｂ：汚れが多少付着する Ｃ：汚れが付着するが実用可 Ｄ：汚れがやや付着する Ｅ：汚れが全面に付着する Ｃ以上が実用可のレベルと評価した。

【０１４９】（残色性）得られた感光材料を未露光の状
態で現像処理したものを８〜１０枚重ねた。その残色を
目視で観察し実用上、問題のないレベルを３として５段
階で評価した。５が良好で１が劣るレベルである。

【０１５０】（現像槽内部及びローラー部の汚れ評価）
ラニング試験後の汚れの程度を下記のように目視で５段
階に評価した。

【０１５１】 Ａ：汚れが全くない Ｂ：ローラー部にやや析出 Ｃ：ローラー部に析出 Ｄ：ローラー部に析出し、定着槽内部に析出物が浮遊 Ｅ：ローラー部に析出があって、定着槽内部に沈殿物発
生 Ａ、Ｂを実用可のレベルと評価した。

【０１５２】以上、得られた結果を下記の表１に示す。

【０１５３】

【表１】

【０１５４】表１から明かなように本発明によれば、黒
ポツ及び白ポツの発生が少なく、残色汚染のないハロゲ
ン化銀写真感光材料を得られた。また本発明の試料をラ
ンニング処理した場合の自動現像処理機の搬送ローラー
又は現像槽内部には、汚れが少ないことが分かった。

【０１５５】

【発明の効果】実施例で実証した如く本発明によれば製
版用としての写真性能の劣化がなく、ランニングでも安
定した性能を有し、かつフィルムに付着する汚れ、残色
のないハロゲン化銀写真感光材料の処理方法を得られ
た。更に本発明により環境を悪化させない現像薬として
アスコルビン酸類を用いた現像処理においても同様の結
果を得られた。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例に用いた自動現像機の側面図で
ある。

【図２】本発明の実施例に用いた自動現像機の現像槽の
断面図である。

【図３】本発明の実施例に用いた現像槽の蓋の例を鳥瞰
図で示したものである。

【符号の説明】

Ａ ＳＲ−ＣＳ Ｂ 検出−現像渡りラック Ｃ 現像槽 Ｄ 現像−定着渡りラック Ｅ 定着槽 Ｆ 定着−水洗渡りラック Ｇ 水洗槽 Ｈ スクイズラック Ｉ 乾燥ガイド Ｊ ガイド Ｋ 乾燥出口ラック Ｌ フィバスケット

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 シンジオタクチックポリスチレンを主成
   分とする支持体上に、少なくとも１層のハロゲン化銀乳
   剤層を有するハロゲン化銀写真感光材料を、現像槽、定
   着槽、水洗槽又は安定化浴槽、乾燥部を有した自動現像
   機の現像槽の空気接触係数が２５以上、１０００以下で
   ある自動現像機にて現像処理することを特徴とするハロ
   ゲン化銀写真感光材料の処理方法。
2. 【請求項２】 アスコルビン酸又はその誘導体を含有す
   る現像液にて処理することを特徴とする請求項１記載の
   ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。