JPH0980670A - ハロゲン化銀写真感光材料及びその画像形成方法 - Google Patents
ハロゲン化銀写真感光材料及びその画像形成方法Info
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Landscapes
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 高濃度であり、かつリニアリティ、階調可変
性に優れた感光材料の提供。 【構成】 1、支持体上の一方に少なくとも2層のハロ
ゲン化銀乳剤層を有し、前記乳剤層の少なくとも1層及
び/又はその隣接する親水性コロイド層にヒドラジン誘
導体を含有し、支持体に最も近い乳剤層及び/又はその
隣接する親水性コロイド層に酸化されて現像制御剤を放
出するレドックス化合物を含有し、かつ該支持体に最も
近い乳剤層と支持体の間に固体状に分散された染料を含
有する層を有することを特徴とするハロゲン化銀写真感
光材料。2、pH11.0未満の現像液で処理したと
き、ガンマ(γ)が10以上であることを特徴とする1
記載のハロゲン化銀写真感光材料。
性に優れた感光材料の提供。 【構成】 1、支持体上の一方に少なくとも2層のハロ
ゲン化銀乳剤層を有し、前記乳剤層の少なくとも1層及
び/又はその隣接する親水性コロイド層にヒドラジン誘
導体を含有し、支持体に最も近い乳剤層及び/又はその
隣接する親水性コロイド層に酸化されて現像制御剤を放
出するレドックス化合物を含有し、かつ該支持体に最も
近い乳剤層と支持体の間に固体状に分散された染料を含
有する層を有することを特徴とするハロゲン化銀写真感
光材料。2、pH11.0未満の現像液で処理したと
き、ガンマ(γ)が10以上であることを特徴とする1
記載のハロゲン化銀写真感光材料。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、黒白ハロゲン化銀写真
感光材料に関し、更に詳しくは印刷製版用ハロゲン化銀
写真感光材料及びその画像形成方法に関する。
感光材料に関し、更に詳しくは印刷製版用ハロゲン化銀
写真感光材料及びその画像形成方法に関する。
【0002】
【従来の技術】近年の印刷製版分野においては高精細な
画像を得るためFMスクリーニングといった従来よりも
小さい網点で画像形成するスクリーニング方式が普及し
始めている。こうしたスクリーニング方式においては、
小点がつきにくく大点がつぶれやすいといった問題があ
り、リニアリティの優れたハロゲン化銀写真感光材料
(以下、感光材料とも言う)が求められている。さらに
高い網点品質および高濃度が要求されている。
画像を得るためFMスクリーニングといった従来よりも
小さい網点で画像形成するスクリーニング方式が普及し
始めている。こうしたスクリーニング方式においては、
小点がつきにくく大点がつぶれやすいといった問題があ
り、リニアリティの優れたハロゲン化銀写真感光材料
(以下、感光材料とも言う)が求められている。さらに
高い網点品質および高濃度が要求されている。
【0003】これらの要望に対しては、小点の濃度がの
りやすい超硬調タイプ感光材料が適している。
りやすい超硬調タイプ感光材料が適している。
【0004】印刷製版用感光材料において超硬調の画像
再現をなし得る写真技術としては、例えば米国特許第
4,269,929号等に見られるようなヒドラジン誘
導体を含有する感光材料や特開平4−98239号等に
見られるような造核促進剤を含有する感光材料がpH1
1.0未満の安定な現像液で処理しても優れた硬調性が
得られるものとして知られている。
再現をなし得る写真技術としては、例えば米国特許第
4,269,929号等に見られるようなヒドラジン誘
導体を含有する感光材料や特開平4−98239号等に
見られるような造核促進剤を含有する感光材料がpH1
1.0未満の安定な現像液で処理しても優れた硬調性が
得られるものとして知られている。
【0005】しかしながら、ヒドラジン誘導体を用いた
場合には、高濃度及び高い網点品質が得られるが、大点
がつぶれやすい、黒ポツの発生を招きやすい、露光条件
のちょっとした変動により写真性能が大きく変動してし
まうと言った問題がある。
場合には、高濃度及び高い網点品質が得られるが、大点
がつぶれやすい、黒ポツの発生を招きやすい、露光条件
のちょっとした変動により写真性能が大きく変動してし
まうと言った問題がある。
【0006】これに対して、ヒドラジン化合物を含有す
る感材中にレドックス反応により写真有用基を放出する
化合物を併用することによって写真性能の向上をはかる
技術が知られている。ところがレドックス化合物を使用
した場合には、リニアリティが向上するが、感度、濃度
の低下、さらに網点品質の劣化も大きく満足なものが得
られないのが現状である。
る感材中にレドックス反応により写真有用基を放出する
化合物を併用することによって写真性能の向上をはかる
技術が知られている。ところがレドックス化合物を使用
した場合には、リニアリティが向上するが、感度、濃度
の低下、さらに網点品質の劣化も大きく満足なものが得
られないのが現状である。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】上記のような問題に対
し、本発明の目的は高い網点品質及び高濃度が得られ、
かつリニアリティ、露光安定性に優れ、黒ポツの発生の
ない感光材料を提供することにある。
し、本発明の目的は高い網点品質及び高濃度が得られ、
かつリニアリティ、露光安定性に優れ、黒ポツの発生の
ない感光材料を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は 1、支持体上の一方に少なくとも2層のハロゲン化銀乳
剤層を有し、前記乳剤層の少なくとも1層及び/又はそ
の隣接する親水性コロイド層にヒドラジン誘導体を含有
し、支持体に最も近い乳剤層及び/又はその隣接する親
水性コロイド層に酸化されて現像制御剤を放出するレド
ックス化合物を含有し、かつ該支持体に最も近い乳剤層
と支持体の間に固体状に分散された染料を含有する層を
有することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料 2、pH11.0未満の現像液で処理したとき、ガンマ
(γ)が10以上であることを特徴とする1記載のハロ
ゲン化銀写真感光材料により達成される。
剤層を有し、前記乳剤層の少なくとも1層及び/又はそ
の隣接する親水性コロイド層にヒドラジン誘導体を含有
し、支持体に最も近い乳剤層及び/又はその隣接する親
水性コロイド層に酸化されて現像制御剤を放出するレド
ックス化合物を含有し、かつ該支持体に最も近い乳剤層
と支持体の間に固体状に分散された染料を含有する層を
有することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料 2、pH11.0未満の現像液で処理したとき、ガンマ
(γ)が10以上であることを特徴とする1記載のハロ
ゲン化銀写真感光材料により達成される。
【0009】即ち、本発明者らはヒドラジン誘導体と現
像制御剤を放出するレドックス化合物で造核促進と制御
のバランスを取り、更に下層に固体分散染料層を設ける
ことにより、超硬調性とリニアリティの両立とともに、
ヒドラジンを用いても露光安定性が得られ、黒ポツの発
生を招かないことを見出し、本発明に至ったものであ
る。
像制御剤を放出するレドックス化合物で造核促進と制御
のバランスを取り、更に下層に固体分散染料層を設ける
ことにより、超硬調性とリニアリティの両立とともに、
ヒドラジンを用いても露光安定性が得られ、黒ポツの発
生を招かないことを見出し、本発明に至ったものであ
る。
【0010】以下、本発明を具体的に説明する。
【0011】本発明に係るヒドラジン誘導体としては、
下記一般式〔H〕で表される化合物である。
下記一般式〔H〕で表される化合物である。
【0012】
【化1】
【0013】式中、Aはアリール基、又は硫黄原子また
は酸素原子を少なくとも1個を含む複素環を表し、Gは
−(CO)n−基、スルホニル基、スルホキシ基、−P
(=O)R2−基、またはイミノメチレン基を表し、n
は1または2の整数を表し、A1、A2はともに水素原
子あるいは一方が水素原子で他方が置換もしくは無置換
のアルキルスルホニル基、または置換もしくは無置換の
アシル基を表し、Rは水素原子、各々置換もしくは無置
換のアルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキ
シ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ
環オキシ基、アミノ基、カルバモイル基、またはオキシ
カルボニル基を表す。R2は各々置換もしくは無置換の
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール
基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオ
キシ基、アリールオキシ基、アミノ基等を表す。
は酸素原子を少なくとも1個を含む複素環を表し、Gは
−(CO)n−基、スルホニル基、スルホキシ基、−P
(=O)R2−基、またはイミノメチレン基を表し、n
は1または2の整数を表し、A1、A2はともに水素原
子あるいは一方が水素原子で他方が置換もしくは無置換
のアルキルスルホニル基、または置換もしくは無置換の
アシル基を表し、Rは水素原子、各々置換もしくは無置
換のアルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキ
シ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ
環オキシ基、アミノ基、カルバモイル基、またはオキシ
カルボニル基を表す。R2は各々置換もしくは無置換の
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール
基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオ
キシ基、アリールオキシ基、アミノ基等を表す。
【0014】一般式〔H〕で表される化合物のうち、更
に好ましくは下記一般式〔Ha〕で表される化合物であ
る。
に好ましくは下記一般式〔Ha〕で表される化合物であ
る。
【0015】
【化2】
【0016】式中、R1は脂肪族基(例えばオクチル
基、デシル基)、芳香族基(例えばフェニル基、2−ヒ
ドロキシフェニル基、クロロフェニル基)又は複素環基
(例えばピリジル基、チェニル基、フリル基)を表し、
これらの基はさらに適当な置換基で置換されたものが好
ましく用いられる。更にR1には、バラスト基又はハロ
ゲン化銀吸着促進基を少なくとも一つ含むことが好まし
い。
基、デシル基)、芳香族基(例えばフェニル基、2−ヒ
ドロキシフェニル基、クロロフェニル基)又は複素環基
(例えばピリジル基、チェニル基、フリル基)を表し、
これらの基はさらに適当な置換基で置換されたものが好
ましく用いられる。更にR1には、バラスト基又はハロ
ゲン化銀吸着促進基を少なくとも一つ含むことが好まし
い。
【0017】耐拡散基としてはカプラーなどの不動性写
真用添加剤にて常用されるバラスト基が好ましく、バラ
スト基としては炭素数8以上の写真性に対して比較的不
活性である例えばアルキル基、アルケニル基、アルキニ
ル基、アルコキシ基、フェニル基、フェノキシ基、アル
キルフェノキシ基などが挙げられる。
真用添加剤にて常用されるバラスト基が好ましく、バラ
スト基としては炭素数8以上の写真性に対して比較的不
活性である例えばアルキル基、アルケニル基、アルキニ
ル基、アルコキシ基、フェニル基、フェノキシ基、アル
キルフェノキシ基などが挙げられる。
【0018】ハロゲン化銀吸着促進基としては、チオ尿
素、チオウレタン基、メルカプト基、チオエーテル基、
チオン基、複素環基、チオアミド複素環基、メルカプト
複素環基、或いは特開昭64−90439号に記載の吸
着基などが挙げられる。
素、チオウレタン基、メルカプト基、チオエーテル基、
チオン基、複素環基、チオアミド複素環基、メルカプト
複素環基、或いは特開昭64−90439号に記載の吸
着基などが挙げられる。
【0019】一般式〔Ha〕において、Xはフェニル基
に置換可能な基を表し、mは0〜4の整数を表し、mが
2以上の場合Xは同じであっても異なってもよい。
に置換可能な基を表し、mは0〜4の整数を表し、mが
2以上の場合Xは同じであっても異なってもよい。
【0020】一般式〔Ha〕において、A3、A4は一般
式〔H〕におけるA1及びA2と同義であり、ともに水素
原子であることが好ましい。
式〔H〕におけるA1及びA2と同義であり、ともに水素
原子であることが好ましい。
【0021】一般式〔Ha〕において、Gはカルボニル
基、スルホニル基、スルホキシ基、ホスホリル基または
イミノメチレン基を表すが、Gはカルボニル基が好まし
い。一般式〔Ha〕において、R2としては水素原子、
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリル基、
複素環基、アルコキシ基、水酸基、アミノ基、カルバモ
イル基、オキシカルボニル基を表す。最も好ましいR2
としては、−COOR3基及び−CON(R4)(R5)
基が挙げられる(R3はアルキニル基または飽和複素環
基を表し、R4は水素原子、アルキル基、アルケニル
基、アルキニル基、アリール基または複素環基を表し、
R5はアルケニル基、アルキニル基、飽和複素環基、ヒ
ドロキシ基またはアルコキシ基を表す)。
基、スルホニル基、スルホキシ基、ホスホリル基または
イミノメチレン基を表すが、Gはカルボニル基が好まし
い。一般式〔Ha〕において、R2としては水素原子、
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリル基、
複素環基、アルコキシ基、水酸基、アミノ基、カルバモ
イル基、オキシカルボニル基を表す。最も好ましいR2
としては、−COOR3基及び−CON(R4)(R5)
基が挙げられる(R3はアルキニル基または飽和複素環
基を表し、R4は水素原子、アルキル基、アルケニル
基、アルキニル基、アリール基または複素環基を表し、
R5はアルケニル基、アルキニル基、飽和複素環基、ヒ
ドロキシ基またはアルコキシ基を表す)。
【0022】次に一般式〔H〕で表される化合物の具体
例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるもので
はない。
例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるもので
はない。
【0023】
【化3】
【0024】
【化4】
【0025】
【化5】
【0026】
【化6】
【0027】
【化7】
【0028】その他の好ましいヒドラジン誘導体の具体
例としては、米国特許第5,229,248号第4カラ
ム〜第60カラムに記載されている(1)〜(252)
である。
例としては、米国特許第5,229,248号第4カラ
ム〜第60カラムに記載されている(1)〜(252)
である。
【0029】本発明に係るヒドラジン誘導体は、公知の
方法により合成することができ、例えば米国特許5,2
29,248号第59カラム〜第80カラムに記載され
たような方法により合成することができる。
方法により合成することができ、例えば米国特許5,2
29,248号第59カラム〜第80カラムに記載され
たような方法により合成することができる。
【0030】添加量は、硬調化させる量(硬調化量)で
あれば良く、ハロゲン化銀粒子の粒径、ハロゲン組成、
化学増感の程度、抑制剤の種類などにより最適量は異な
るが、一般的にハロゲン化銀1モル当たり10-6〜10
-1モルの範囲であり、好ましくは10-5〜10-2モルの
範囲である。
あれば良く、ハロゲン化銀粒子の粒径、ハロゲン組成、
化学増感の程度、抑制剤の種類などにより最適量は異な
るが、一般的にハロゲン化銀1モル当たり10-6〜10
-1モルの範囲であり、好ましくは10-5〜10-2モルの
範囲である。
【0031】本発明に用いられるヒドラジン誘導体は、
ハロゲン化銀乳剤層又はその隣接層に添加される。
ハロゲン化銀乳剤層又はその隣接層に添加される。
【0032】ヒドラジン誘導体による硬調化を効果的に
促進するために、下記一般式〔Na〕又は〔Nb〕で表
される造核促進剤を用いることが好ましい。
促進するために、下記一般式〔Na〕又は〔Nb〕で表
される造核促進剤を用いることが好ましい。
【0033】
【化8】
【0034】一般式〔Na〕において、R11、R12、R
13は水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アルケニ
ル基、置換アルケニル基、アルキニル基、アリール基、
置換アリール基を表し、R11、R12、R13で環を形成す
ることができる。特に好ましくは脂肪族の3級アミン化
合物である。これらの化合物は分子中に耐拡散性基又は
ハロゲン化銀吸着基を有するものが好ましい。耐拡散性
を有するためには分子量100以上の化合物が好まし
く、さらに好ましくは分子量300以上である。又、好
ましい吸着基としては複素環、メルカプト基、チオエー
テル基、チオン基、チオウレア基などが挙げられる。一
般式〔Na〕として特に好ましくは、分子中にハロゲン
化銀吸着基としてチオエーテル基を少なくとも一つ有す
る化合物である。 以下にこれら造核促進剤〔Na〕の
具体例を挙げる。
13は水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アルケニ
ル基、置換アルケニル基、アルキニル基、アリール基、
置換アリール基を表し、R11、R12、R13で環を形成す
ることができる。特に好ましくは脂肪族の3級アミン化
合物である。これらの化合物は分子中に耐拡散性基又は
ハロゲン化銀吸着基を有するものが好ましい。耐拡散性
を有するためには分子量100以上の化合物が好まし
く、さらに好ましくは分子量300以上である。又、好
ましい吸着基としては複素環、メルカプト基、チオエー
テル基、チオン基、チオウレア基などが挙げられる。一
般式〔Na〕として特に好ましくは、分子中にハロゲン
化銀吸着基としてチオエーテル基を少なくとも一つ有す
る化合物である。 以下にこれら造核促進剤〔Na〕の
具体例を挙げる。
【0035】
【化9】
【0036】
【化10】
【0037】
【化11】
【0038】
【化12】
【0039】一般式〔Nb〕においてArは置換又は無
置換の芳香族基又は複素環基を表す。R14は水素原子、
アルキル基、アルキニル基、アリール基を表すが、Ar
とR14は連結基で連結されて環を形成してもよい。これ
らの化合物は分子内に耐拡散性基又はハロゲン化銀吸着
基を有するものが好ましい。好ましい耐拡散性を持たせ
るための分子量は120以上が好ましく、特に好ましく
は300以上である。又、好ましいハロゲン化銀吸着基
としては一般式〔H〕で表される化合物のハロゲン化銀
吸着基と同義の基が挙げられる。
置換の芳香族基又は複素環基を表す。R14は水素原子、
アルキル基、アルキニル基、アリール基を表すが、Ar
とR14は連結基で連結されて環を形成してもよい。これ
らの化合物は分子内に耐拡散性基又はハロゲン化銀吸着
基を有するものが好ましい。好ましい耐拡散性を持たせ
るための分子量は120以上が好ましく、特に好ましく
は300以上である。又、好ましいハロゲン化銀吸着基
としては一般式〔H〕で表される化合物のハロゲン化銀
吸着基と同義の基が挙げられる。
【0040】一般式〔Nb〕の具体的化合物としては以
下に示すものが挙げられる。
下に示すものが挙げられる。
【0041】
【化13】
【0042】
【化14】
【0043】その他の好ましい造核促進化合物の具体例
は、特開平6−258751号に記載されている例示
(2−1)〜(2−20)の化合物及び同6−2587
51号記載の3−1〜3−6である。
は、特開平6−258751号に記載されている例示
(2−1)〜(2−20)の化合物及び同6−2587
51号記載の3−1〜3−6である。
【0044】本明に用いられるヒドラジン化合物、造核
促進剤はハロゲン化銀乳剤層側の層ならば、どの層にも
用いることができるが、好ましくはハロゲン化銀乳剤層
又はその隣接層に用いることが好ましい。また、添加量
はハロゲン化銀粒子の粒径、ハロゲン組成、化学増感の
程度、抑制剤の種類などにより最適量は異なるが、一般
的にハロゲン化銀1モル当たり10-6〜10-1モルの範
囲が好ましく、特に10-5〜10-2モルの範囲が好まし
い。
促進剤はハロゲン化銀乳剤層側の層ならば、どの層にも
用いることができるが、好ましくはハロゲン化銀乳剤層
又はその隣接層に用いることが好ましい。また、添加量
はハロゲン化銀粒子の粒径、ハロゲン組成、化学増感の
程度、抑制剤の種類などにより最適量は異なるが、一般
的にハロゲン化銀1モル当たり10-6〜10-1モルの範
囲が好ましく、特に10-5〜10-2モルの範囲が好まし
い。
【0045】本発明のハロゲン化銀写真感光材料におい
て、支持体に最も近い乳剤層及び/又はその隣接する親
水性コロイド層に酸化さて現像抑制剤を放出するレドッ
クス化合物の少なくとも1種を含有する。
て、支持体に最も近い乳剤層及び/又はその隣接する親
水性コロイド層に酸化さて現像抑制剤を放出するレドッ
クス化合物の少なくとも1種を含有する。
【0046】以下、酸化されることのより現像抑制剤を
放出し得るレドックス化合物について説明する。
放出し得るレドックス化合物について説明する。
【0047】レッドックス化合物はレドックス基として
ハイドロキノン類、カテコール類、ナフトハイドロキノ
ン類、アミノフェノール類、ピラゾリドン類、ヒドラジ
ン類、レダクトン類などを有する。
ハイドロキノン類、カテコール類、ナフトハイドロキノ
ン類、アミノフェノール類、ピラゾリドン類、ヒドラジ
ン類、レダクトン類などを有する。
【0048】好ましいレドックス化合物はレドックス基
として−NHNH−基を有する化合物及び下記一般式
〔1〕、〔2〕、〔3〕、〔4〕、〔5〕または〔6〕
で表される化合物である。
として−NHNH−基を有する化合物及び下記一般式
〔1〕、〔2〕、〔3〕、〔4〕、〔5〕または〔6〕
で表される化合物である。
【0049】レドックス基として−NHNH−基を有す
る化合物としては次の一般式〔RE−a〕または〔RE
−b〕である。
る化合物としては次の一般式〔RE−a〕または〔RE
−b〕である。
【0050】一般式〔RE−a〕 T−NHNHCOV−(Time)−PUG 一般式〔RE−b〕 T−NHNHCOCOV−(Time)−PUG 式中、TおよびVは各々置換されてもよいアリール基ま
たは置換されてもよいアルキル基を表す。TおよびVで
表されるアリール基としてベンゼン環やナフタレン環を
含むもので、この環は種々の置換基で置換されてもよ
く、好ましい置換基として直鎖、分岐のアルキル基(好
ましくは炭素数2〜20のもの、例えばメチル、エチ
ル、イソプロピル基、ドデシル基等)、アルコキシ基
(好ましくは炭素数2〜21のもの、例えばメトキシ
基、エトキシ基等)、脂肪族アシルアミノ基(好ましく
は炭素数2〜21のアルキル基をもつもの、例えばアセ
チルアミノ基、ヘプチルアミノ基等)、芳香族アシルア
ミノ基等が挙げられ、これらの他に例えば上記のような
置換または未置換の芳香族環が−CONH−、−O−、
−SO2NH−、−NHCONH−、−CH2CHN−の
ような連結基で結合しているものも含む。写真有用性基
としては、5−ニトロインダゾール、4−ニトロインダ
ゾール、1−フェニルテトラゾール、1−(3−スルホ
フェニル)テトラゾール、5−ニトロベンズトリアゾー
ル、4−ニトロベンゾトリアゾール、5−ニトロイミダ
ゾール、4−ニトロイミダゾール等が挙げられる。
たは置換されてもよいアルキル基を表す。TおよびVで
表されるアリール基としてベンゼン環やナフタレン環を
含むもので、この環は種々の置換基で置換されてもよ
く、好ましい置換基として直鎖、分岐のアルキル基(好
ましくは炭素数2〜20のもの、例えばメチル、エチ
ル、イソプロピル基、ドデシル基等)、アルコキシ基
(好ましくは炭素数2〜21のもの、例えばメトキシ
基、エトキシ基等)、脂肪族アシルアミノ基(好ましく
は炭素数2〜21のアルキル基をもつもの、例えばアセ
チルアミノ基、ヘプチルアミノ基等)、芳香族アシルア
ミノ基等が挙げられ、これらの他に例えば上記のような
置換または未置換の芳香族環が−CONH−、−O−、
−SO2NH−、−NHCONH−、−CH2CHN−の
ような連結基で結合しているものも含む。写真有用性基
としては、5−ニトロインダゾール、4−ニトロインダ
ゾール、1−フェニルテトラゾール、1−(3−スルホ
フェニル)テトラゾール、5−ニトロベンズトリアゾー
ル、4−ニトロベンゾトリアゾール、5−ニトロイミダ
ゾール、4−ニトロイミダゾール等が挙げられる。
【0051】これらの現像抑制化合物は、T−NHNH
−CO−のCO部位にNやSなどのヘテロ原子を介して
直接またはアルキレン、フェニレン、アラルキレン、ア
リール基を介して更にNやSのヘテロ原子を介して接続
することができる。その他に、バラスト基がついたハイ
ドロキノン化合物にトリアゾール、インダゾール、イミ
ダゾール、チアゾール、チアジアゾールなどの現像抑制
基を導入したものも使用できる。例えば、2−(ドデシ
ルエチレンオキサイドチオプロピオン酸アミド−5−
(5−ニトロインダゾール−2−イル)ハイドロキノ
ン、2−(ステアリルアミド)−5−(1−フェニルテ
トラゾール−5−チオ)ハイドロキノン、2−(2,4
−ジ−t−アミルフェノプロピオン酸アミド−5−(5
−ニトロトリアゾール−2−イル)ハイドロキノン、2
−ドデシルチオ−5−(2−メルカプトチオチアジアゾ
ール−5−チオ)ハイドロキノン等が挙げられる。レド
ックス化合物は、米国特許4,269,929号の記載
を参考にして合成することができる。
−CO−のCO部位にNやSなどのヘテロ原子を介して
直接またはアルキレン、フェニレン、アラルキレン、ア
リール基を介して更にNやSのヘテロ原子を介して接続
することができる。その他に、バラスト基がついたハイ
ドロキノン化合物にトリアゾール、インダゾール、イミ
ダゾール、チアゾール、チアジアゾールなどの現像抑制
基を導入したものも使用できる。例えば、2−(ドデシ
ルエチレンオキサイドチオプロピオン酸アミド−5−
(5−ニトロインダゾール−2−イル)ハイドロキノ
ン、2−(ステアリルアミド)−5−(1−フェニルテ
トラゾール−5−チオ)ハイドロキノン、2−(2,4
−ジ−t−アミルフェノプロピオン酸アミド−5−(5
−ニトロトリアゾール−2−イル)ハイドロキノン、2
−ドデシルチオ−5−(2−メルカプトチオチアジアゾ
ール−5−チオ)ハイドロキノン等が挙げられる。レド
ックス化合物は、米国特許4,269,929号の記載
を参考にして合成することができる。
【0052】一般式〔RE−a〕または〔RE−b〕で
表される化合物のうち、特に好ましい化合物の一般式を
下記に挙げる。
表される化合物のうち、特に好ましい化合物の一般式を
下記に挙げる。
【0053】
【化15】
【0054】
【化16】
【0055】その他の好ましいレドックス化合物の具体
例としては、特開平4−245243号公報の236
(8)頁「0053」〜250(22)頁「0068」
に記載されているR−1〜R−50である。
例としては、特開平4−245243号公報の236
(8)頁「0053」〜250(22)頁「0068」
に記載されているR−1〜R−50である。
【0056】また前記一般式〔1〕、〔2〕、〔3〕、
〔4〕、〔5〕または〔6〕で表されるレドックス化合
物について説明する。
〔4〕、〔5〕または〔6〕で表されるレドックス化合
物について説明する。
【0057】一般式〔1〕、〔2〕、〔3〕、〔4〕、
〔5〕または〔6〕中において、R1はアルキル基、ア
リール基または複素環基を表す。R2およびR3は水素原
子、アシル基、カルバモイル基、シアノ基、ニトロ基、
スルホニル基、アリール基、オキザリル基、複素環基、
アルコキシカルボニル基またはアリールオキシカルボニ
ル基を表す。R4は水素原子を表す。R5〜R9は水素原
子、アルキル基、アリール基または複素環基を表す。r
1、r2及びr3はベンゼン環に置換可能な置換基を表
す。X1、X2はO又はNHを表わす。Z1は5〜6員の
複素環を構成するのに必要な原子群を表す。WはN(R
10)R11、またはOHを表し、R10及びR11は水素原
子、アルキル基、アリール基または複素環基を表す。
〔5〕または〔6〕中において、R1はアルキル基、ア
リール基または複素環基を表す。R2およびR3は水素原
子、アシル基、カルバモイル基、シアノ基、ニトロ基、
スルホニル基、アリール基、オキザリル基、複素環基、
アルコキシカルボニル基またはアリールオキシカルボニ
ル基を表す。R4は水素原子を表す。R5〜R9は水素原
子、アルキル基、アリール基または複素環基を表す。r
1、r2及びr3はベンゼン環に置換可能な置換基を表
す。X1、X2はO又はNHを表わす。Z1は5〜6員の
複素環を構成するのに必要な原子群を表す。WはN(R
10)R11、またはOHを表し、R10及びR11は水素原
子、アルキル基、アリール基または複素環基を表す。
【0058】COUPは芳香族第1級アミン現像主薬の
酸化体とカップリング反応を起こし得るカプラー残基を
表し、★はカプラーのカップリング部位を表す。Tmは
タイミング基を表す。m1及びp1は0から3の整数を表
す。q1は0から4の整数を表す。nは0または1を表
す。PUGは現像抑制剤を表す。
酸化体とカップリング反応を起こし得るカプラー残基を
表し、★はカプラーのカップリング部位を表す。Tmは
タイミング基を表す。m1及びp1は0から3の整数を表
す。q1は0から4の整数を表す。nは0または1を表
す。PUGは現像抑制剤を表す。
【0059】前記一般式〔1〕、〔2〕、〔3〕、
〔4〕、〔5〕または〔6〕において、R1およびR5
〜R11で表されるアルキル基、アリール基、複素環基と
して好ましくは、メチル基、p−メトキシフェニル基、
ピリジル基等が挙げられる。R2およびR3で表わされる
アシル基、カルバモイル基、シアノ基、ニトロ基、スル
ホニル基、アリール基、オキザリル基、複素環基、アル
コキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基のな
かで好ましくはアシル基、カルバモイル基、シアノ基で
ある。これらの基の炭素数の合計は1〜20であること
が好ましい。R1〜R11はさらに置換基を有していても
よく、該置換基として、例えばハロゲン原子(塩素原
子、臭素原子等)、アルキル基(例えばメチル基、エチ
ル基、イソプロピル基、ヒドロキシエチル基、メトキメ
チル基、トリフルオロメチル基、t−ブチル基等)、シ
クロアルキル基(例えばシクロペンチル基、シクロヘキ
シル基等)、アラルキル基(例えばベンジル基、2−フ
ェネチル基等)、アリール基(例えばフェニル基、ナフ
チル基、、p−トリル基、p−クロロフェニル基等)、
アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、イソプ
ロポキシ基、ブトキシ基等)、アリールオキシ基(例え
ばフェノキシ基等)、シアノ基、アシルアミノ基(例え
ばアセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基等)、アル
キルチオ基(例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ブチ
ルチオ基等)、アリールチオ基(例えばフェニルチオ基
等)、スルホニルアミノ基(例えばメタンスルホニルア
ミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基等)、ウレイド基
(例えば3−メチルウレイド基、3,3−ジメチルウレ
イド基、1,3−ジメチルウレイド基等)、スルファモ
イルアミノ基(ジメチルスルファモイルアミノ基等)、
カルバモイル基(例えばメチルカルバモイル基、エチル
カルバモイル基、ジメチルカルバモイル基等)、スルフ
ァモイル基(例えばエチルスルファモイル基、ジメチル
スルファモイル基等)、アルコキシカルボニル基(例え
ばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等)、
アリールオキシカルボニル基(例えばフェノキシカルボ
ニル基等)、スルホニル基(例えばメタンスルホニル
基、ブタンスルホニル基、フェニルスルホニル基等)、
アシル基(例えばアセチル基、プロパノイル基、ブチロ
イル基等)、アミノ基(メチルアミノ基、エチルアミノ
基、ジメチルアミノ基等)、ヒドロキシル基、ニトロ
基、イミド基(例えばフタルイミド基等)、複素環基
(例えば、ピリジル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズ
チアゾリル基、ベンズオキサゾリル基等)が挙げられ
る。COUPで表されるカプラー残基としては以下のも
のを挙げることができる。シアンカプラー残基としては
フェノールカプラー、ナフトールカプラー等がある。マ
ゼンタカプラーとしては5−ピラゾロンカプラー、ピラ
ゾロンカプラー、シアノアセチルクマロンカプラー、開
鎖アシルアセトニトリルカプラー、インダゾロンカプラ
ー等がある。イエローカプラー残基としてはベンゾイル
アセトアニリドカプラー、ピバロイルアセトアニリドカ
プラー、マロンジアニリドカプラー等がある。無呈色カ
プラー残基としては開鎖または環状活性メチレン化合物
(例えばインダノン、シクロペンタノン、マロン酸ジエ
ステル、イミダゾリノン、オキサゾリノン、チアゾリノ
ン等)がある。さらにCoupで表されるカプラー残基
のうち本発明において好ましく用いられるものは、一般
式(Coup−1)〜一般式(Coup−8)で表すこ
とができる。
〔4〕、〔5〕または〔6〕において、R1およびR5
〜R11で表されるアルキル基、アリール基、複素環基と
して好ましくは、メチル基、p−メトキシフェニル基、
ピリジル基等が挙げられる。R2およびR3で表わされる
アシル基、カルバモイル基、シアノ基、ニトロ基、スル
ホニル基、アリール基、オキザリル基、複素環基、アル
コキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基のな
かで好ましくはアシル基、カルバモイル基、シアノ基で
ある。これらの基の炭素数の合計は1〜20であること
が好ましい。R1〜R11はさらに置換基を有していても
よく、該置換基として、例えばハロゲン原子(塩素原
子、臭素原子等)、アルキル基(例えばメチル基、エチ
ル基、イソプロピル基、ヒドロキシエチル基、メトキメ
チル基、トリフルオロメチル基、t−ブチル基等)、シ
クロアルキル基(例えばシクロペンチル基、シクロヘキ
シル基等)、アラルキル基(例えばベンジル基、2−フ
ェネチル基等)、アリール基(例えばフェニル基、ナフ
チル基、、p−トリル基、p−クロロフェニル基等)、
アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、イソプ
ロポキシ基、ブトキシ基等)、アリールオキシ基(例え
ばフェノキシ基等)、シアノ基、アシルアミノ基(例え
ばアセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基等)、アル
キルチオ基(例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ブチ
ルチオ基等)、アリールチオ基(例えばフェニルチオ基
等)、スルホニルアミノ基(例えばメタンスルホニルア
ミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基等)、ウレイド基
(例えば3−メチルウレイド基、3,3−ジメチルウレ
イド基、1,3−ジメチルウレイド基等)、スルファモ
イルアミノ基(ジメチルスルファモイルアミノ基等)、
カルバモイル基(例えばメチルカルバモイル基、エチル
カルバモイル基、ジメチルカルバモイル基等)、スルフ
ァモイル基(例えばエチルスルファモイル基、ジメチル
スルファモイル基等)、アルコキシカルボニル基(例え
ばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等)、
アリールオキシカルボニル基(例えばフェノキシカルボ
ニル基等)、スルホニル基(例えばメタンスルホニル
基、ブタンスルホニル基、フェニルスルホニル基等)、
アシル基(例えばアセチル基、プロパノイル基、ブチロ
イル基等)、アミノ基(メチルアミノ基、エチルアミノ
基、ジメチルアミノ基等)、ヒドロキシル基、ニトロ
基、イミド基(例えばフタルイミド基等)、複素環基
(例えば、ピリジル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズ
チアゾリル基、ベンズオキサゾリル基等)が挙げられ
る。COUPで表されるカプラー残基としては以下のも
のを挙げることができる。シアンカプラー残基としては
フェノールカプラー、ナフトールカプラー等がある。マ
ゼンタカプラーとしては5−ピラゾロンカプラー、ピラ
ゾロンカプラー、シアノアセチルクマロンカプラー、開
鎖アシルアセトニトリルカプラー、インダゾロンカプラ
ー等がある。イエローカプラー残基としてはベンゾイル
アセトアニリドカプラー、ピバロイルアセトアニリドカ
プラー、マロンジアニリドカプラー等がある。無呈色カ
プラー残基としては開鎖または環状活性メチレン化合物
(例えばインダノン、シクロペンタノン、マロン酸ジエ
ステル、イミダゾリノン、オキサゾリノン、チアゾリノ
ン等)がある。さらにCoupで表されるカプラー残基
のうち本発明において好ましく用いられるものは、一般
式(Coup−1)〜一般式(Coup−8)で表すこ
とができる。
【0060】
【化17】
【0061】式中R16はアシルアミド基、アニリノ基ま
たはウレイド基を表し、R17は1個またはそれ以上のハ
ロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基またはシアノ基
で置換されてもよいフェニル基を表す。
たはウレイド基を表し、R17は1個またはそれ以上のハ
ロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基またはシアノ基
で置換されてもよいフェニル基を表す。
【0062】
【化18】
【0063】式中、R18,R19はハロゲン原子、アシル
アミド基、アルコキシカルボニルアミド基、スルホウレ
イド基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ヒドロキシ基
または脂肪族基を表し、R20およびR21はおのおの脂肪
族基、芳香族基または複素環基を表す。またR20および
R21の一方が水素原子であってもよい。aは1〜4の整
数、bは0〜5の整数を表す。a、bが複数の場合、R
18は同一でも異なっていてもよく、またR19は同一でも
異なっていてもよい。
アミド基、アルコキシカルボニルアミド基、スルホウレ
イド基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ヒドロキシ基
または脂肪族基を表し、R20およびR21はおのおの脂肪
族基、芳香族基または複素環基を表す。またR20および
R21の一方が水素原子であってもよい。aは1〜4の整
数、bは0〜5の整数を表す。a、bが複数の場合、R
18は同一でも異なっていてもよく、またR19は同一でも
異なっていてもよい。
【0064】
【化19】
【0065】式中R22は3級アルキル基または芳香族基
を表し、R23は水素原子、ハロゲン原子またはアルコキ
シ基を表す。R24はアシルアミド基、脂肪族基、アルコ
キシカルボニル基、スルファモイル基、カルバモイル
基、アルコキシ基、ハロゲン原子またはスルホンアミド
基を表す。
を表し、R23は水素原子、ハロゲン原子またはアルコキ
シ基を表す。R24はアシルアミド基、脂肪族基、アルコ
キシカルボニル基、スルファモイル基、カルバモイル
基、アルコキシ基、ハロゲン原子またはスルホンアミド
基を表す。
【0066】
【化20】
【0067】式中R25は脂肪族基、アルコキシ基、アシ
ルアミノ基、スルホンアミド基、スルファモイル基、ジ
アシルアミノ基、R26は水素原子、ハロゲン原子、ニ
トロ基を表す。
ルアミノ基、スルホンアミド基、スルファモイル基、ジ
アシルアミノ基、R26は水素原子、ハロゲン原子、ニ
トロ基を表す。
【0068】
【化21】
【0069】R27、R28は水素原子、脂肪族基、芳香族
基、複素環基を表す。Z1で表される5〜6員の複素環
としては、単環でも縮合環でもよく、O、S、及びN原
子の1種を環内に有する5〜6員の複素環が挙げられ
る。これらの環上には置換基を有してもよく、具体的に
は前述の置換基を挙げることができる。
基、複素環基を表す。Z1で表される5〜6員の複素環
としては、単環でも縮合環でもよく、O、S、及びN原
子の1種を環内に有する5〜6員の複素環が挙げられ
る。これらの環上には置換基を有してもよく、具体的に
は前述の置換基を挙げることができる。
【0070】Tmで表されるタイミング基として、好ま
しくは−OCH2−又はその他の2価のタイミング基、
例えば米国特許4,248,962号、同4,409,
323号、又は同3,674,478号、Reserc
h Disclosure21228(1981年12
月)、又は特開昭57−56837号、特開平4−43
8号公報等に記載のものが挙げられる。
しくは−OCH2−又はその他の2価のタイミング基、
例えば米国特許4,248,962号、同4,409,
323号、又は同3,674,478号、Reserc
h Disclosure21228(1981年12
月)、又は特開昭57−56837号、特開平4−43
8号公報等に記載のものが挙げられる。
【0071】PUGとして好ましい現像抑制剤は、例え
ば米国特許4,477,563号、特開昭60−218
644号、同60−221750号、同60−2336
50号、又は同61−11743号に記載のある現像抑
制剤が挙げられる。
ば米国特許4,477,563号、特開昭60−218
644号、同60−221750号、同60−2336
50号、又は同61−11743号に記載のある現像抑
制剤が挙げられる。
【0072】以下に本発明で用いられる一般式〔1〕〜
〔6〕で表される化合物の具体例を列挙するが、本発明
はこれらに限定されるものではない。
〔6〕で表される化合物の具体例を列挙するが、本発明
はこれらに限定されるものではない。
【0073】
【化22】
【0074】
【化23】
【0075】
【化24】
【0076】
【化25】
【0077】
【化26】
【0078】
【化27】
【0079】
【化28】
【0080】
【化29】
【0081】ヒドラジン誘導体及びレドックス化合物の
添加は、メタノールやエタノール等のアルコール類、エ
チレングリコール,トリエチレングリコール,プロピレ
ングリコールなどのグリコール類、エーテル、ジメチル
ホルムアミド、ジメチルスルホオキサイド、テトラヒド
ロフラン、酢酸エチルなどのエステル類、アセトンやメ
チルエチルケトンなどのケトン類に溶解してから添加す
ることができる。また水や有機溶媒に溶けにくいもの
は、高速インペラー分散、サンドミル分散、超音波分
散、ボールミル分散などにより平均粒子径が0.01か
ら6μmまで任意に分散することができる。分散には、
アニオンやノニオンなどの表面活性剤、増粘剤、ラテッ
クスなどを添加して分散することができる。その添加量
は、ハロゲン化銀1モルあたり10-6〜10-1モルであ
り、好ましくは10-4〜10-2モルの範囲である。
添加は、メタノールやエタノール等のアルコール類、エ
チレングリコール,トリエチレングリコール,プロピレ
ングリコールなどのグリコール類、エーテル、ジメチル
ホルムアミド、ジメチルスルホオキサイド、テトラヒド
ロフラン、酢酸エチルなどのエステル類、アセトンやメ
チルエチルケトンなどのケトン類に溶解してから添加す
ることができる。また水や有機溶媒に溶けにくいもの
は、高速インペラー分散、サンドミル分散、超音波分
散、ボールミル分散などにより平均粒子径が0.01か
ら6μmまで任意に分散することができる。分散には、
アニオンやノニオンなどの表面活性剤、増粘剤、ラテッ
クスなどを添加して分散することができる。その添加量
は、ハロゲン化銀1モルあたり10-6〜10-1モルであ
り、好ましくは10-4〜10-2モルの範囲である。
【0082】本発明においてレドックス化合物は、ハロ
ゲン化銀乳剤層中、乳剤層の隣接層、隣接層を介した他
の層などに存在させることができるが、少なくとも支持
体に最も近い乳剤層及び/又はその隣接する親水性コロ
イド層に添加されていることが必要である。
ゲン化銀乳剤層中、乳剤層の隣接層、隣接層を介した他
の層などに存在させることができるが、少なくとも支持
体に最も近い乳剤層及び/又はその隣接する親水性コロ
イド層に添加されていることが必要である。
【0083】これらの層に使用するゼラチンは、公知の
架橋剤で膨潤させることができるが層別に架橋させるに
は、分子量を調節したり、架橋促進剤を使用するのがよ
い。通常使用される各層のゼラチン量は0.1〜2.0
g/m2である。架橋剤はグラムゼラチン当たり0.0
1ミリモルから1ミリモル使用するのが好ましい。
架橋剤で膨潤させることができるが層別に架橋させるに
は、分子量を調節したり、架橋促進剤を使用するのがよ
い。通常使用される各層のゼラチン量は0.1〜2.0
g/m2である。架橋剤はグラムゼラチン当たり0.0
1ミリモルから1ミリモル使用するのが好ましい。
【0084】本発明においては、少なくとも1層のハロ
ゲン化銀乳剤層と支持体との間に染料の固体分散微粒子
体を含有する。固体分散微粒子化される染料としては、
一般式〔7〕〜〔12〕の化合物を用いるのが好まし
い。
ゲン化銀乳剤層と支持体との間に染料の固体分散微粒子
体を含有する。固体分散微粒子化される染料としては、
一般式〔7〕〜〔12〕の化合物を用いるのが好まし
い。
【0085】
【化30】
【0086】上記一般式〔7〕〜〔12〕において、A
およびA′は同一でも異なっていてもよく、それぞれ酸
性核を表し、Bは塩基性核を表し、Qはアリール基また
は複素環基を表し、Q′は複素環基を表し、X4および
Y1は同一でも異なっていてもよくそれぞれ電子吸引性
基をあらわし、L1、L2およびL3はそれぞれメチン基
を表す。m2は0または1を表し、tは0、1または2
を表し、p2は0または1を表す。但し、一般式〔7〕
〜〔12〕で表される染料は、分子中にカルボキシ基、
スルホンアミド基およびスルファモイル基から選ばれる
基を少なくとも1つ有する。
およびA′は同一でも異なっていてもよく、それぞれ酸
性核を表し、Bは塩基性核を表し、Qはアリール基また
は複素環基を表し、Q′は複素環基を表し、X4および
Y1は同一でも異なっていてもよくそれぞれ電子吸引性
基をあらわし、L1、L2およびL3はそれぞれメチン基
を表す。m2は0または1を表し、tは0、1または2
を表し、p2は0または1を表す。但し、一般式〔7〕
〜〔12〕で表される染料は、分子中にカルボキシ基、
スルホンアミド基およびスルファモイル基から選ばれる
基を少なくとも1つ有する。
【0087】一般式〔7〕、〔8〕および
〔9〕のAお
よびA′で表される酸性核としては、好ましくは5−ピ
ラゾロン、バルビツール酸、チオバルビツール酸、ロー
ダニン、ヒダントイン、チオヒダントイン、オキサゾロ
ン、イソオキサゾロン、インダンジオン、ピラゾリジン
ジオン、オキサゾリジンジオン、ヒドロキシピリドン、
ピラゾロピリドンが挙げられる。
よびA′で表される酸性核としては、好ましくは5−ピ
ラゾロン、バルビツール酸、チオバルビツール酸、ロー
ダニン、ヒダントイン、チオヒダントイン、オキサゾロ
ン、イソオキサゾロン、インダンジオン、ピラゾリジン
ジオン、オキサゾリジンジオン、ヒドロキシピリドン、
ピラゾロピリドンが挙げられる。
【0088】一般式
〔9〕および〔11〕のBで表され
る塩基性核としては、好ましくはピリジン、キノリン、
オキサゾール、ベンズオキサゾール、ナフトオキサゾー
ル、チアゾール、ベンズチアゾール、ナフトチアゾー
ル、インドレニン、ピロール、インドールが挙げられ
る。
る塩基性核としては、好ましくはピリジン、キノリン、
オキサゾール、ベンズオキサゾール、ナフトオキサゾー
ル、チアゾール、ベンズチアゾール、ナフトチアゾー
ル、インドレニン、ピロール、インドールが挙げられ
る。
【0089】一般式〔7〕および〔10〕のQで表され
るアリール基としては、例えばフェニル基、ナフチル基
等が挙げられる。また、一般式〔7〕、〔10〕および
〔12〕のQおよびQ′で表される複素環基としては、
例えばピリジル基、キノリル基、イソキノリル基、ピロ
リル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、インドリル
基、フリル基、チエニル基等が挙げられる。該アリール
基および複素環基は、置換基を有するものを含み、該置
換基としては、例えば前述の一般式〔7〕〜〔12〕の
化合物のアミノ基、複素環基等の置換基として例示した
もの等が挙げられ、これら置換基は2種以上組み合わせ
て有しても良い。好ましい置換基としては、炭素数1〜
8のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、t−ブチ
ル基、オクチル基、2−ヒドロキシエチル基、2−メト
キシエチル基等)、ヒドロキシ基、シアノ基、ハロゲン
原子、(例えばフッ素原子、塩素原子等)、炭素数1か
ら6のアルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、
2−ヒドロキシエトキシ基、メチレンジオキシ基、ブト
キシ基等)、置換アミノ基(例えばジメチルアミノ基、
ジエチルアミノ基、ジ(n−ブチル)アミノ基、N−エ
チル−N−ヒドロキシエチルアミノ基、N−エチル−N
−メタンスルホンアミドエチルアミノ基、モルホリノ
基、ピペリジノ基、ピロリジノ基等)、カルボキシ基、
スルホンアミド基(例えばメタンスルホンアミド基、ベ
ンゼンスルホンアミド基等)、スルファモイル基(例え
ばスルファモイル基、メチルスルファモイル基、フェニ
ルスルファモイル基等)であり、これら置換基を組み合
わせても良い。
るアリール基としては、例えばフェニル基、ナフチル基
等が挙げられる。また、一般式〔7〕、〔10〕および
〔12〕のQおよびQ′で表される複素環基としては、
例えばピリジル基、キノリル基、イソキノリル基、ピロ
リル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、インドリル
基、フリル基、チエニル基等が挙げられる。該アリール
基および複素環基は、置換基を有するものを含み、該置
換基としては、例えば前述の一般式〔7〕〜〔12〕の
化合物のアミノ基、複素環基等の置換基として例示した
もの等が挙げられ、これら置換基は2種以上組み合わせ
て有しても良い。好ましい置換基としては、炭素数1〜
8のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、t−ブチ
ル基、オクチル基、2−ヒドロキシエチル基、2−メト
キシエチル基等)、ヒドロキシ基、シアノ基、ハロゲン
原子、(例えばフッ素原子、塩素原子等)、炭素数1か
ら6のアルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、
2−ヒドロキシエトキシ基、メチレンジオキシ基、ブト
キシ基等)、置換アミノ基(例えばジメチルアミノ基、
ジエチルアミノ基、ジ(n−ブチル)アミノ基、N−エ
チル−N−ヒドロキシエチルアミノ基、N−エチル−N
−メタンスルホンアミドエチルアミノ基、モルホリノ
基、ピペリジノ基、ピロリジノ基等)、カルボキシ基、
スルホンアミド基(例えばメタンスルホンアミド基、ベ
ンゼンスルホンアミド基等)、スルファモイル基(例え
ばスルファモイル基、メチルスルファモイル基、フェニ
ルスルファモイル基等)であり、これら置換基を組み合
わせても良い。
【0090】一般式〔10〕および〔11〕のX4およ
びY1で表される電子吸引性基は、同一でも異なってい
てもよく、置換基定数Hammettのσp値(藤田稔
夫編、“化学の領域増刊122号 薬物の構造活性相
関”96〜103頁(1979)南江堂などに記載され
ている。)が0.3以上の基が好ましく、例えばシアノ
基、アルコキシカルボニル基(例えばメトキシカルボニ
ル基、エトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、
オクチルオキシカルボニル基等)、アリールオキシカル
ボニル基(例えばフェノキシカルボニル基、4−ヒドロ
キシフェノキシカルボニル基)、カルバモイル基(例え
ばカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基、フェニル
カルバモイル基、4−カルボキシフェニルカルバモイル
基等)、アシル基(例えばメチルカルボニル基、エチル
カルボニル基、ブチルカルボニル基、フェニルカルボニ
ル基、4−エチルスルホンアミドカルボニル基等)、ア
ルキルスルホニル基(例えばメチルスルホニル基、エチ
ルスルホニル基、ブチルスルホニル基、オクチルスルホ
ニル基等)、アリールスルホニル基(例えばフェニルス
ルホニル基、4−クロロスルホニル基等)が挙げられ
る。
びY1で表される電子吸引性基は、同一でも異なってい
てもよく、置換基定数Hammettのσp値(藤田稔
夫編、“化学の領域増刊122号 薬物の構造活性相
関”96〜103頁(1979)南江堂などに記載され
ている。)が0.3以上の基が好ましく、例えばシアノ
基、アルコキシカルボニル基(例えばメトキシカルボニ
ル基、エトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、
オクチルオキシカルボニル基等)、アリールオキシカル
ボニル基(例えばフェノキシカルボニル基、4−ヒドロ
キシフェノキシカルボニル基)、カルバモイル基(例え
ばカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基、フェニル
カルバモイル基、4−カルボキシフェニルカルバモイル
基等)、アシル基(例えばメチルカルボニル基、エチル
カルボニル基、ブチルカルボニル基、フェニルカルボニ
ル基、4−エチルスルホンアミドカルボニル基等)、ア
ルキルスルホニル基(例えばメチルスルホニル基、エチ
ルスルホニル基、ブチルスルホニル基、オクチルスルホ
ニル基等)、アリールスルホニル基(例えばフェニルス
ルホニル基、4−クロロスルホニル基等)が挙げられ
る。
【0091】一般式〔7〕〜〔12〕のL1、L2および
L3で表されるメチン基は、置換基を有するものを含
み、該置換基としては例えば炭素数1〜6のアルキル基
(例えばメチル基、エチル基、ヘキシル基等)、アリー
ル基(例えばフェニル基、トリル基、4−ヒドロキシフ
ェニル基等)、アラルキル基(例えばベンジル基、フェ
ネチル基等)、複素環基(例えばピリジル基、フリル
基、チエニル基等)、置換アミノ基(例えばジメチルア
ミノ基、ジエチルアミノ基、アニリノ基等)、アルキル
チオ基(例えばメチルチオ基等)が挙げられる。
L3で表されるメチン基は、置換基を有するものを含
み、該置換基としては例えば炭素数1〜6のアルキル基
(例えばメチル基、エチル基、ヘキシル基等)、アリー
ル基(例えばフェニル基、トリル基、4−ヒドロキシフ
ェニル基等)、アラルキル基(例えばベンジル基、フェ
ネチル基等)、複素環基(例えばピリジル基、フリル
基、チエニル基等)、置換アミノ基(例えばジメチルア
ミノ基、ジエチルアミノ基、アニリノ基等)、アルキル
チオ基(例えばメチルチオ基等)が挙げられる。
【0092】本発明において、一般式〔7〕〜〔12〕
で表される染料の中で、分子中にカルボキシル基を少な
くとも1つ有する染料が好ましく用いられ、更に好まし
くは一般式〔7〕で表される染料であり、特に好ましく
は一般式〔7〕においてQがフリル基である染料であ
る。
で表される染料の中で、分子中にカルボキシル基を少な
くとも1つ有する染料が好ましく用いられ、更に好まし
くは一般式〔7〕で表される染料であり、特に好ましく
は一般式〔7〕においてQがフリル基である染料であ
る。
【0093】好ましく用いられる染料の具体例を下記に
示すが、これらに限定されるものではない。
示すが、これらに限定されるものではない。
【0094】
【化31】
【0095】
【化32】
【0096】
【化33】
【0097】一般式〔7〕〜〔12〕で表される化合物
のその他の好ましい具体例としては、例えば特願平5−
277011号19〜30頁に記載のNo.I−1〜N
o.I−30、II−1〜II−12、III−1〜III−8、
IV−1〜IV−9、V−1〜V−8、VI−1〜VI−5が挙
げられるがこれらに限定されるものではない。
のその他の好ましい具体例としては、例えば特願平5−
277011号19〜30頁に記載のNo.I−1〜N
o.I−30、II−1〜II−12、III−1〜III−8、
IV−1〜IV−9、V−1〜V−8、VI−1〜VI−5が挙
げられるがこれらに限定されるものではない。
【0098】本発明に係る染料の固体微粒子分散物を製
造する方法としては、特開昭52−92716号、同5
5−155350号、同55−155351号、同63
−197943号、同平3−182743号、世界特許
WO88/04794号等に記載された方法を用いるこ
とができる。具体的には、ボールミル、遊星ミル、振動
ミル、サンドミル、ローラーミル、ジェットミル、ディ
スクインペラーミル等の微分散機を用いて製造すること
ができる。また、固体微粒子分散される化合物が、比較
的低pHで水不溶性であり比較的高pHで水可溶性であ
る場合、該化合物を弱アルカリ性水溶液に溶解した後、
解離性に対して1〜2当量の酸を加えてpHを下げて弱
酸性とする事によって微粒子状固体を析出させる方法や
該化合物の弱アルカリ性溶解液と酸性水溶液を、pHを
調整しながら同時に混合して微粒子状固体を作製する方
法によって該化合物の分散物を得ることができる。
造する方法としては、特開昭52−92716号、同5
5−155350号、同55−155351号、同63
−197943号、同平3−182743号、世界特許
WO88/04794号等に記載された方法を用いるこ
とができる。具体的には、ボールミル、遊星ミル、振動
ミル、サンドミル、ローラーミル、ジェットミル、ディ
スクインペラーミル等の微分散機を用いて製造すること
ができる。また、固体微粒子分散される化合物が、比較
的低pHで水不溶性であり比較的高pHで水可溶性であ
る場合、該化合物を弱アルカリ性水溶液に溶解した後、
解離性に対して1〜2当量の酸を加えてpHを下げて弱
酸性とする事によって微粒子状固体を析出させる方法や
該化合物の弱アルカリ性溶解液と酸性水溶液を、pHを
調整しながら同時に混合して微粒子状固体を作製する方
法によって該化合物の分散物を得ることができる。
【0099】本発明の固体微粒子分散物は、単独で用い
てもよく、2種以上を混合して用いても良く、本発明以
外の固体微粒子分散物と混合して使用しても良い。2種
以上を混合して用いる場合には、それぞれ単独に分散し
た後混合してもよく、また、同時に分散することもでき
る。
てもよく、2種以上を混合して用いても良く、本発明以
外の固体微粒子分散物と混合して使用しても良い。2種
以上を混合して用いる場合には、それぞれ単独に分散し
た後混合してもよく、また、同時に分散することもでき
る。
【0100】本発明に係わる染料の固体微粒子分散物
を、水系分散媒の存在下で製造する場合、分散中ないし
は分散後に、界面活性剤を共存させるのが好ましい。こ
のような界面活性剤としては、アニオン性界面活性剤、
ノニオン性界面活性剤、カチオン界面活性剤および両性
界面活性剤のいずれでも使用できるが、好ましくは、例
えばアルキルスルホン酸塩、アルキルベンゼンスルホン
酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、アルキル硫酸
エステル類、スルホコハク酸エステル類、スルホアルキ
ルポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、N
−アシル−N−アルキルタウリン類などのアニオン性界
面活性剤および例えばサポニン、アルキレンオキサイド
誘導体、糖のアルキルエステル類などのノニオン界面活
性剤である。特に好ましくは、上記のアニオン界面活性
剤である。界面活性剤の具体例としては例えば特願平5
−277011号46〜32頁に記載の1〜32の化合
物が挙げられるがこれらに限定されるものではない。
を、水系分散媒の存在下で製造する場合、分散中ないし
は分散後に、界面活性剤を共存させるのが好ましい。こ
のような界面活性剤としては、アニオン性界面活性剤、
ノニオン性界面活性剤、カチオン界面活性剤および両性
界面活性剤のいずれでも使用できるが、好ましくは、例
えばアルキルスルホン酸塩、アルキルベンゼンスルホン
酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、アルキル硫酸
エステル類、スルホコハク酸エステル類、スルホアルキ
ルポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、N
−アシル−N−アルキルタウリン類などのアニオン性界
面活性剤および例えばサポニン、アルキレンオキサイド
誘導体、糖のアルキルエステル類などのノニオン界面活
性剤である。特に好ましくは、上記のアニオン界面活性
剤である。界面活性剤の具体例としては例えば特願平5
−277011号46〜32頁に記載の1〜32の化合
物が挙げられるがこれらに限定されるものではない。
【0101】アニオン性活性剤および/またはノニオン
性活性剤の使用量は、活性剤の種類あるいは前記染料の
分散液条件などによって一様ではないが、通常、染料1
g当たりり0.1mg〜2000mgでよく、好ましく
は0.5mg〜1000mgでよく、さらに好ましくは
1mg〜500mgでよい。
性活性剤の使用量は、活性剤の種類あるいは前記染料の
分散液条件などによって一様ではないが、通常、染料1
g当たりり0.1mg〜2000mgでよく、好ましく
は0.5mg〜1000mgでよく、さらに好ましくは
1mg〜500mgでよい。
【0102】染料の分散液での濃度としては、0.01
〜50重量%となるように使用され、好ましくは0.1
〜30重量%である。界面活性剤の添加位置は、染料の
分散開始前に添加するのがよく、また必要によっては分
散終了後にさらに染料分散液に添加してもよい。これら
アニオン性活性剤および/またはノニオン性活性剤は、
それぞれ単独で使用してもよく、またそれぞれ2種以上
をくみあわせてもよく、さらに両者の活性剤を組み合わ
せてもよい。
〜50重量%となるように使用され、好ましくは0.1
〜30重量%である。界面活性剤の添加位置は、染料の
分散開始前に添加するのがよく、また必要によっては分
散終了後にさらに染料分散液に添加してもよい。これら
アニオン性活性剤および/またはノニオン性活性剤は、
それぞれ単独で使用してもよく、またそれぞれ2種以上
をくみあわせてもよく、さらに両者の活性剤を組み合わ
せてもよい。
【0103】本発明に係わる染料の固体微粒子分散物
は、平均粒子径が0.01μm〜5μmとなるように分
散することが好ましく、さらに好ましくは0.01μm
〜1μmであり、特に好ましくは0.01μm〜0.5
μmである。また、粒子サイズ分布の変動係数として
は、50%以下であることが好ましく、さらに好ましく
は40%以下であり、特に好ましくは30%以下となる
固体微粒子分散物である。ここで、粒子サイズ分布の変
動係数は、下記の式で表される値である。
は、平均粒子径が0.01μm〜5μmとなるように分
散することが好ましく、さらに好ましくは0.01μm
〜1μmであり、特に好ましくは0.01μm〜0.5
μmである。また、粒子サイズ分布の変動係数として
は、50%以下であることが好ましく、さらに好ましく
は40%以下であり、特に好ましくは30%以下となる
固体微粒子分散物である。ここで、粒子サイズ分布の変
動係数は、下記の式で表される値である。
【0104】 (粒径の標準偏差)/(粒径の平均値)×100 本発明の固体微粒子分散物は、分散開始前または分散終
了後に、写真構成層のバインダーとして用いられる親水
性コロイドを添加することができる。親水性コロイドと
しては、ゼラチンを用いるのが有利であるが、そのほか
にも例えばフェニルカルバミル化ゼラチン、アシル化ゼ
ラチン、フタル化ゼラチン等のゼラチン誘導体、ゼラチ
ンと重合可能なエチレン基を持つモノマーとのグラフト
ポリマー、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシメ
チルセルロース、セルロース硫酸エステルなどのセルロ
ース誘導体、ポリビニルアルコール、部分酸化されたポ
リビニルアセテート、ポリアクリルアミド、ポリ−N,
N−ジメチルアクリルアミド、ポリ−N−ビニルピロリ
ドン、ポリメタクリル酸などの合成親水性ポリマー、寒
天、アラビアゴム、アルギン酸、アルブミン、カゼイン
などを用いることができる。これらは、2種以上組み合
わせて使用してよい。本発明の固体微粒子分散物に添加
する親水性コロイドの添加量としては、重量百分率で
0.1%〜12%となるように添加するのが好ましく、
さらに好ましくは0.5%〜8%である。
了後に、写真構成層のバインダーとして用いられる親水
性コロイドを添加することができる。親水性コロイドと
しては、ゼラチンを用いるのが有利であるが、そのほか
にも例えばフェニルカルバミル化ゼラチン、アシル化ゼ
ラチン、フタル化ゼラチン等のゼラチン誘導体、ゼラチ
ンと重合可能なエチレン基を持つモノマーとのグラフト
ポリマー、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシメ
チルセルロース、セルロース硫酸エステルなどのセルロ
ース誘導体、ポリビニルアルコール、部分酸化されたポ
リビニルアセテート、ポリアクリルアミド、ポリ−N,
N−ジメチルアクリルアミド、ポリ−N−ビニルピロリ
ドン、ポリメタクリル酸などの合成親水性ポリマー、寒
天、アラビアゴム、アルギン酸、アルブミン、カゼイン
などを用いることができる。これらは、2種以上組み合
わせて使用してよい。本発明の固体微粒子分散物に添加
する親水性コロイドの添加量としては、重量百分率で
0.1%〜12%となるように添加するのが好ましく、
さらに好ましくは0.5%〜8%である。
【0105】本発明の固体微粒子分散物は、少なくとも
支持体と支持体に最も近い乳剤層との間にある少なくと
も1層の親水性コロイド層に含有されることが必要であ
るが、その他に、写真材料を構成する層例えば感光性ハ
ロゲン化銀乳剤層、乳剤層上層、乳剤層下層、保護層、
支持体下塗層、バッキング層などの層にも用いることが
できる。特にハレーション防止効果を高めるには、支持
体と乳剤層の間の層、または乳剤層とは反対側の構成層
に添加されるのが好ましい。
支持体と支持体に最も近い乳剤層との間にある少なくと
も1層の親水性コロイド層に含有されることが必要であ
るが、その他に、写真材料を構成する層例えば感光性ハ
ロゲン化銀乳剤層、乳剤層上層、乳剤層下層、保護層、
支持体下塗層、バッキング層などの層にも用いることが
できる。特にハレーション防止効果を高めるには、支持
体と乳剤層の間の層、または乳剤層とは反対側の構成層
に添加されるのが好ましい。
【0106】さらに、リニアリティーの改良ノ効果を最
大限に発揮するには、支持体に最も近いハロゲン化銀乳
剤層及び該ハロゲン化銀乳剤層と支持体との間にある少
なくとも1層の親水性コロイド層に含有されていること
が好ましい。
大限に発揮するには、支持体に最も近いハロゲン化銀乳
剤層及び該ハロゲン化銀乳剤層と支持体との間にある少
なくとも1層の親水性コロイド層に含有されていること
が好ましい。
【0107】また特にセーフライト性向上の効果を高め
るには、乳剤層の上側の層に添加されるのが好ましい。
るには、乳剤層の上側の層に添加されるのが好ましい。
【0108】染料の固体微粒子分散物の好ましい使用量
は、染料の種類、写真感光材料の特性などにより一様で
はないが、写真感光材料1m2あたり1mg〜1gであ
り、さらに好ましくは5mg〜800mgであり、特に
好ましくは10mg〜500mgである。
は、染料の種類、写真感光材料の特性などにより一様で
はないが、写真感光材料1m2あたり1mg〜1gであ
り、さらに好ましくは5mg〜800mgであり、特に
好ましくは10mg〜500mgである。
【0109】本発明においては、一般的に知られている
硫黄増感、Se、Te増感、還元増感及び貴金属増感法
を適宜選択し併用してもよい、また化学増感を行わなく
てもよい。
硫黄増感、Se、Te増感、還元増感及び貴金属増感法
を適宜選択し併用してもよい、また化学増感を行わなく
てもよい。
【0110】硫黄増感剤としては、ゼラチン中に含まれ
る硫黄化合物の他、種々の硫黄化合物、例えばチオ硫酸
塩、チオ尿素類、ローダニン類、ポリスルフィド化合物
等を用いることができる。Se増感剤としては、トリフ
ェニルセレノホスフィン等が好ましく用いられる。
る硫黄化合物の他、種々の硫黄化合物、例えばチオ硫酸
塩、チオ尿素類、ローダニン類、ポリスルフィド化合物
等を用いることができる。Se増感剤としては、トリフ
ェニルセレノホスフィン等が好ましく用いられる。
【0111】貴金属増感法のうち金増感法はその代表的
なもので、金化合物、主として金錯塩を用いる。金以外
の貴金属、例えば白金、パラジウム、ロジウム等の錯塩
を含有しても差支えない。
なもので、金化合物、主として金錯塩を用いる。金以外
の貴金属、例えば白金、パラジウム、ロジウム等の錯塩
を含有しても差支えない。
【0112】還元増感剤としては第一錫塩、アミン類、
ホルムアミジンスルフィン酸、シラン化合物などを用い
ることができる。
ホルムアミジンスルフィン酸、シラン化合物などを用い
ることができる。
【0113】本発明において、ハロゲン化銀乳剤中のハ
ロゲン化銀のハロゲン組成は、純塩化銀、60モル%以
上の塩化銀を含む塩臭化銀又は60モル%以上の塩化銀
を含む塩沃臭化銀であることが好ましい。
ロゲン化銀のハロゲン組成は、純塩化銀、60モル%以
上の塩化銀を含む塩臭化銀又は60モル%以上の塩化銀
を含む塩沃臭化銀であることが好ましい。
【0114】ハロゲン化銀の平均粒径は0.7μm以下
であることが好ましく、特に0.5〜0.1μmが好ま
しい。平均粒径とは、写真科学の分野の専門家には常用
されており、容易に理解される用語である。粒径とは、
粒子が球状又は球に近似できる粒子の場合には粒子直径
を意味する。粒子が立方体である場合には球に換算し、
その球の直径を粒径とする。平均粒径を求める方法の詳
細については、ミース,ジェームス:ザ・セオリー・オ
ブ・ザ・フォトグラフィックプロセス(C.E.Mee
s&T.H.James著:The theory o
f the photographic proces
s),第3版,36〜43頁(1966年(マクミラン
「Mcmillan」社刊))を参照すればよい。
であることが好ましく、特に0.5〜0.1μmが好ま
しい。平均粒径とは、写真科学の分野の専門家には常用
されており、容易に理解される用語である。粒径とは、
粒子が球状又は球に近似できる粒子の場合には粒子直径
を意味する。粒子が立方体である場合には球に換算し、
その球の直径を粒径とする。平均粒径を求める方法の詳
細については、ミース,ジェームス:ザ・セオリー・オ
ブ・ザ・フォトグラフィックプロセス(C.E.Mee
s&T.H.James著:The theory o
f the photographic proces
s),第3版,36〜43頁(1966年(マクミラン
「Mcmillan」社刊))を参照すればよい。
【0115】ハロゲン化銀粒子の形状には制限はなく、
平板状、球状、立方体状、14面体状、正八面体状その
他いずれの形状でもよい。又、粒径分布は狭い方が好ま
しく、特に平均粒径の±40%の粒径域内に全粒子数の
90%、望ましくは95%が入るような、いわゆる単分
散乳剤が好ましい。
平板状、球状、立方体状、14面体状、正八面体状その
他いずれの形状でもよい。又、粒径分布は狭い方が好ま
しく、特に平均粒径の±40%の粒径域内に全粒子数の
90%、望ましくは95%が入るような、いわゆる単分
散乳剤が好ましい。
【0116】本発明における可溶性銀塩と可溶性ハロゲ
ン塩を反応させる形式としては、正混合法、同時混合
法、それらの組合せなどのいずれを用いてもよい。
ン塩を反応させる形式としては、正混合法、同時混合
法、それらの組合せなどのいずれを用いてもよい。
【0117】粒子を銀イオン過剰の下において形成させ
る方法(いわゆる逆混合法)を用いることもできる。同
時混合法の一つの形式としてハロゲン化銀の生成される
液相中のpAgを一定に保つ方法、即ちいわゆるコント
ロールド・ダブルジェット法を用いることができ、この
方法によると、結晶形が規則的で粒径が均一に近いハロ
ゲン化銀乳剤が得られる。
る方法(いわゆる逆混合法)を用いることもできる。同
時混合法の一つの形式としてハロゲン化銀の生成される
液相中のpAgを一定に保つ方法、即ちいわゆるコント
ロールド・ダブルジェット法を用いることができ、この
方法によると、結晶形が規則的で粒径が均一に近いハロ
ゲン化銀乳剤が得られる。
【0118】ハロゲン化銀乳剤に用いられるハロゲン化
銀粒子は粒子を形成する過程又は成長させる過程の少な
くとも1つの過程でカドミウム塩、亜鉛塩、鉛塩、タリ
ウム塩、イリジウム塩、ロジウム塩、ルテニウム塩、オ
スニウム塩あるいはこれらの元素を含む錯塩を添加する
ことが好ましい。
銀粒子は粒子を形成する過程又は成長させる過程の少な
くとも1つの過程でカドミウム塩、亜鉛塩、鉛塩、タリ
ウム塩、イリジウム塩、ロジウム塩、ルテニウム塩、オ
スニウム塩あるいはこれらの元素を含む錯塩を添加する
ことが好ましい。
【0119】ハロゲン化銀乳剤及びその調製方法につい
ては、詳しくはリサーチ・ディスクロージャー(Res
earch Disclosure)176号1764
3,22〜23頁(1978年12月)に記載もしくは
引用された文献に記載されている。
ては、詳しくはリサーチ・ディスクロージャー(Res
earch Disclosure)176号1764
3,22〜23頁(1978年12月)に記載もしくは
引用された文献に記載されている。
【0120】本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、自
動現像機を用いて処理されることが好ましい。その際に
感光材料の面積に比例した一定量の現像液及び定着液を
補充しながら処理される。その現像補充量及び定着補充
量は、廃液量を少なくするために1m2当たり300m
l以下であることが好ましく、さらに好ましくは1m2
当たり75〜200mlである。
動現像機を用いて処理されることが好ましい。その際に
感光材料の面積に比例した一定量の現像液及び定着液を
補充しながら処理される。その現像補充量及び定着補充
量は、廃液量を少なくするために1m2当たり300m
l以下であることが好ましく、さらに好ましくは1m2
当たり75〜200mlである。
【0121】本発明は現像時間短縮の要望から自動現像
機を用いて処理する時にフィルム先端が自動現像機に挿
入されてから乾燥ゾーンから出て来るまでの全処理時間
(Dry to Dry)が10〜60秒であることが
好ましい。ここでいう全処理時間とは、黒白感光材料を
処理するのに必要な全工程時間を含み、具体的には処理
に必要な、例えば現像、定着、漂白、水洗、安定化処
理、乾燥等の工程の時間を全て含んだ時間、つまりDr
y to Dryの時間である。更に好ましくは全処理
時間(Dry to Dry)が15〜50秒である。
機を用いて処理する時にフィルム先端が自動現像機に挿
入されてから乾燥ゾーンから出て来るまでの全処理時間
(Dry to Dry)が10〜60秒であることが
好ましい。ここでいう全処理時間とは、黒白感光材料を
処理するのに必要な全工程時間を含み、具体的には処理
に必要な、例えば現像、定着、漂白、水洗、安定化処
理、乾燥等の工程の時間を全て含んだ時間、つまりDr
y to Dryの時間である。更に好ましくは全処理
時間(Dry to Dry)が15〜50秒である。
【0122】また、自動現像機には90℃以上の伝熱体
(例えば90℃〜130℃のヒートローラー等)あるい
は150℃以上の輻射物体(例えばタングステン、炭
素、ニクロム、酸化ジルコニウム・酸化イットリウム・
酸化トリウムの混合物、炭化ケイ素などに直接電流を通
して発熱放射させたり、抵抗発熱体から熱エネルギーを
銅、ステンレス、ニッケル、各種セラミックなどの放射
体に伝達させて発熱させたりして赤外線を放出するも
の)で乾燥するゾーンを持つものが含まれる。
(例えば90℃〜130℃のヒートローラー等)あるい
は150℃以上の輻射物体(例えばタングステン、炭
素、ニクロム、酸化ジルコニウム・酸化イットリウム・
酸化トリウムの混合物、炭化ケイ素などに直接電流を通
して発熱放射させたり、抵抗発熱体から熱エネルギーを
銅、ステンレス、ニッケル、各種セラミックなどの放射
体に伝達させて発熱させたりして赤外線を放出するも
の)で乾燥するゾーンを持つものが含まれる。
【0123】本発明において用いることのできる現像主
薬としては、ジヒドロキシベンゼン類(例えばハイドロ
キノン、クロルハイドロキノン、ブロムハイドロキノ
ン、2,3−ジクロロハイドロキノン、メチルハイドロ
キノン、イソプロピルハイドロキノン、2,5−ジメチ
ルハイドロキノン等)、3−ピラゾリドン類(例えば1
−フェニル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−4−メ
チル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−4,4−ジメ
チル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−4−エチル−
3−ピラゾリドン、1−フェニル−5−メチル−3−ピ
ラゾリドン等)、アミノフェノール類(例えばo−アミ
ノフェノール、p−アミノフェノール、N−メチル−o
−アミノフェノール、N−メチル−p−アミノフェノー
ル、2,4−ジアミノフェノール等)、ピロガロール、
アスコルビン酸、1−アリール−3−ピラゾリン類(例
えば1−(p−ヒドロキシフェニル)−3−アミノピラ
ゾリン、1−(p−メチルアミノフェニル)−3−アミ
ノピラゾリン、1−(p−アミノフェニル)−3−アミ
ノピラゾリン、1−(p−アミノ−N−メチルフェニ
ル)−3−アミノピラゾリン等)、遷移金属錯塩類(T
i,V,Cr,Mn,Fe,Co,Ni,Cu等の遷移
金属の錯塩であり、これらは現像液として用いるために
還元力を有する形であれば良く、例えばTi3+、V2+、
Cr2+、Fe2+等の錯塩の形をとり、配位子としては、
エチレンジアミン四酢酸(EDTA)、ジエチレントリ
アミン五酢酸(DTPA)等のアミノポリカルボン酸お
よびその塩、ヘキサメタポリリン酸、テトラポリリン酸
等のリン酸類およびその塩などが挙げられる。)など
を、単独もしくは組み合わせて使用することができる
が、3−ピラゾリドン類とジヒドロキシベンゼン類との
組合せ、又はアミノフェノール類とジヒドロキシベンゼ
ン類との組合せ或いは3−ピラゾリドン類とアスコルビ
ン酸との組合せ、アミノフェノール類とアスコルビン酸
との組合せ、3ーピラゾリドン類と遷移金属錯塩類との
組合せ、アミノフェノール類と遷移金属錯塩類との組合
せで使用することが好ましい。また現像主薬は、通常
0.01〜1.4モル/リットルの量で用いられるのが
好ましい。
薬としては、ジヒドロキシベンゼン類(例えばハイドロ
キノン、クロルハイドロキノン、ブロムハイドロキノ
ン、2,3−ジクロロハイドロキノン、メチルハイドロ
キノン、イソプロピルハイドロキノン、2,5−ジメチ
ルハイドロキノン等)、3−ピラゾリドン類(例えば1
−フェニル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−4−メ
チル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−4,4−ジメ
チル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−4−エチル−
3−ピラゾリドン、1−フェニル−5−メチル−3−ピ
ラゾリドン等)、アミノフェノール類(例えばo−アミ
ノフェノール、p−アミノフェノール、N−メチル−o
−アミノフェノール、N−メチル−p−アミノフェノー
ル、2,4−ジアミノフェノール等)、ピロガロール、
アスコルビン酸、1−アリール−3−ピラゾリン類(例
えば1−(p−ヒドロキシフェニル)−3−アミノピラ
ゾリン、1−(p−メチルアミノフェニル)−3−アミ
ノピラゾリン、1−(p−アミノフェニル)−3−アミ
ノピラゾリン、1−(p−アミノ−N−メチルフェニ
ル)−3−アミノピラゾリン等)、遷移金属錯塩類(T
i,V,Cr,Mn,Fe,Co,Ni,Cu等の遷移
金属の錯塩であり、これらは現像液として用いるために
還元力を有する形であれば良く、例えばTi3+、V2+、
Cr2+、Fe2+等の錯塩の形をとり、配位子としては、
エチレンジアミン四酢酸(EDTA)、ジエチレントリ
アミン五酢酸(DTPA)等のアミノポリカルボン酸お
よびその塩、ヘキサメタポリリン酸、テトラポリリン酸
等のリン酸類およびその塩などが挙げられる。)など
を、単独もしくは組み合わせて使用することができる
が、3−ピラゾリドン類とジヒドロキシベンゼン類との
組合せ、又はアミノフェノール類とジヒドロキシベンゼ
ン類との組合せ或いは3−ピラゾリドン類とアスコルビ
ン酸との組合せ、アミノフェノール類とアスコルビン酸
との組合せ、3ーピラゾリドン類と遷移金属錯塩類との
組合せ、アミノフェノール類と遷移金属錯塩類との組合
せで使用することが好ましい。また現像主薬は、通常
0.01〜1.4モル/リットルの量で用いられるのが
好ましい。
【0124】本発明においては、銀スラッジ防止剤とし
て特公昭62−4702号、特開平3−51844号、
同4−26838号、同4−362942号、同1−3
19031号等に記載の化合物が挙げられる。
て特公昭62−4702号、特開平3−51844号、
同4−26838号、同4−362942号、同1−3
19031号等に記載の化合物が挙げられる。
【0125】また、現像廃液は通電して再生することが
できる。具体的には、現像廃液に陰極(例えばステンレ
スウール等の電気伝導体または半導体)を、電解質溶液
に陽極(例えば炭素、金、白金、チタン等の溶解しない
電気伝導体)を入れ、陰イオン交換膜を介して現像廃液
槽と電解質溶液槽が接するようにし、両極に通電して再
生する。通電しながら本発明に係る感光材料を処理する
こともできる。その際、現像液に添加される各種の添加
剤、例えば現像液に添加することができる保恒剤、アル
カリ剤、pH緩衝剤、増感剤、カブリ防止剤、銀スラッ
ジ防止剤等を追加添加することが出来る。また、現像液
に通電しながら感光材料を処理する方法があり、その際
に上記のような現像液に添加できる添加剤を追加添加で
きる。現像廃液を再生して利用するする場合には、用い
られる現像液の現像主薬としては、遷移金属錯塩類が好
ましい。
できる。具体的には、現像廃液に陰極(例えばステンレ
スウール等の電気伝導体または半導体)を、電解質溶液
に陽極(例えば炭素、金、白金、チタン等の溶解しない
電気伝導体)を入れ、陰イオン交換膜を介して現像廃液
槽と電解質溶液槽が接するようにし、両極に通電して再
生する。通電しながら本発明に係る感光材料を処理する
こともできる。その際、現像液に添加される各種の添加
剤、例えば現像液に添加することができる保恒剤、アル
カリ剤、pH緩衝剤、増感剤、カブリ防止剤、銀スラッ
ジ防止剤等を追加添加することが出来る。また、現像液
に通電しながら感光材料を処理する方法があり、その際
に上記のような現像液に添加できる添加剤を追加添加で
きる。現像廃液を再生して利用するする場合には、用い
られる現像液の現像主薬としては、遷移金属錯塩類が好
ましい。
【0126】本発明において保恒剤として用いる亜硫酸
塩、メタ重亜硫酸塩としては、亜硫酸ナトリウム、亜硫
酸カリウム、亜硫酸アンモニウム、メタ重亜硫酸ナトリ
ウムなどがある。亜硫酸塩は0.25モル/リットル以
上が好ましい。特に好ましくは0.4モル/リットル以
上である。
塩、メタ重亜硫酸塩としては、亜硫酸ナトリウム、亜硫
酸カリウム、亜硫酸アンモニウム、メタ重亜硫酸ナトリ
ウムなどがある。亜硫酸塩は0.25モル/リットル以
上が好ましい。特に好ましくは0.4モル/リットル以
上である。
【0127】現像液には、その他必要によりアルカリ剤
(水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等)、pH緩衝剤
(例えば炭酸塩、燐酸塩、硼酸塩、硼酸、酢酸、クエン
酸、アルカノールアミン等)、溶解助剤(例えばポリエ
チレングリコール類、それらのエステル、アルカノール
アミン等)、増感剤(例えばポリオキシエチレン類を含
む非イオン界面活性剤、四級アンモニウム化合物等)、
界面活性剤、消泡剤、カブリ防止剤(例えば臭化カリウ
ム、臭化ナトリウムの如きハロゲン化物、ニトロベンズ
インダゾール、ニトロベンズイミダゾール、ベンゾトリ
アゾール、ベンゾチアゾール、テトラゾール類、チアゾ
ール類等)、キレート化剤(例えばエチレンジアミン四
酢酸又はそのアルカリ金属塩、ニトリロ三酢酸塩、ポリ
燐酸塩等)、現像促進剤(例えば米国特許2,304,
025号、特公昭47−45541号に記載の化合物
等)、硬膜剤(例えばグルタルアルデヒド又は、その重
亜硫酸塩付加物等)、あるいは消泡剤などを添加するこ
とができる。現像液のpHは8.5〜10.9に調整さ
れることでガンマ(γ)10以上の硬調な画像が得られ
る。
(水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等)、pH緩衝剤
(例えば炭酸塩、燐酸塩、硼酸塩、硼酸、酢酸、クエン
酸、アルカノールアミン等)、溶解助剤(例えばポリエ
チレングリコール類、それらのエステル、アルカノール
アミン等)、増感剤(例えばポリオキシエチレン類を含
む非イオン界面活性剤、四級アンモニウム化合物等)、
界面活性剤、消泡剤、カブリ防止剤(例えば臭化カリウ
ム、臭化ナトリウムの如きハロゲン化物、ニトロベンズ
インダゾール、ニトロベンズイミダゾール、ベンゾトリ
アゾール、ベンゾチアゾール、テトラゾール類、チアゾ
ール類等)、キレート化剤(例えばエチレンジアミン四
酢酸又はそのアルカリ金属塩、ニトリロ三酢酸塩、ポリ
燐酸塩等)、現像促進剤(例えば米国特許2,304,
025号、特公昭47−45541号に記載の化合物
等)、硬膜剤(例えばグルタルアルデヒド又は、その重
亜硫酸塩付加物等)、あるいは消泡剤などを添加するこ
とができる。現像液のpHは8.5〜10.9に調整さ
れることでガンマ(γ)10以上の硬調な画像が得られ
る。
【0128】本発明の化合物は現像処理の特殊な形式と
して、現像主薬を感光材料中、例えば乳剤層中に含み、
感光材料をアルカリ水溶液中で処理して現像を行わせる
アクチベータ処理液に用いてもよい。このような現像処
理は、チオシアン酸塩による銀塩安定化処理と組み合わ
せて、感光材料の迅速処理の方法の一つとして利用され
ることが多く、そのような処理液に適用も可能である。
このような迅速処理の場合、本発明の効果が特に大き
い。
して、現像主薬を感光材料中、例えば乳剤層中に含み、
感光材料をアルカリ水溶液中で処理して現像を行わせる
アクチベータ処理液に用いてもよい。このような現像処
理は、チオシアン酸塩による銀塩安定化処理と組み合わ
せて、感光材料の迅速処理の方法の一つとして利用され
ることが多く、そのような処理液に適用も可能である。
このような迅速処理の場合、本発明の効果が特に大き
い。
【0129】定着液としては一般に用いられる組成のも
のを用いることができる。定着液は一般に定着剤とその
他から成る水溶液であり、pHは通常3.8〜5.8で
ある。定着剤としては、チオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸
カリウム、チオ硫酸アンモニウム等のチオ硫酸塩、チオ
シアン酸ナトリウム、チオシアン酸カリウム、チオシア
ン酸アンモニウム等のチオシアン酸塩の他、可溶性安定
銀錯塩を生成し得る有機硫黄化合物で定着剤として知ら
れているものを用いることができる。
のを用いることができる。定着液は一般に定着剤とその
他から成る水溶液であり、pHは通常3.8〜5.8で
ある。定着剤としては、チオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸
カリウム、チオ硫酸アンモニウム等のチオ硫酸塩、チオ
シアン酸ナトリウム、チオシアン酸カリウム、チオシア
ン酸アンモニウム等のチオシアン酸塩の他、可溶性安定
銀錯塩を生成し得る有機硫黄化合物で定着剤として知ら
れているものを用いることができる。
【0130】定着液には、硬膜剤として作用する水溶性
アルミニウム塩、例えば塩化アルミニウム、硫酸アルミ
ニウム、カリ明礬などを加えることができる。
アルミニウム塩、例えば塩化アルミニウム、硫酸アルミ
ニウム、カリ明礬などを加えることができる。
【0131】定着液には、所望により、保恒剤(例えば
亜硫酸塩、重亜硫酸塩)、pH緩衡剤(例えば酢酸)、
pH調整剤(例えば硫酸)、硬水軟化能のあるキレート
剤等の化合物を含むことができる。
亜硫酸塩、重亜硫酸塩)、pH緩衡剤(例えば酢酸)、
pH調整剤(例えば硫酸)、硬水軟化能のあるキレート
剤等の化合物を含むことができる。
【0132】現像液は、固定成分の混合物でも、グリコ
ールやアミンを含む有機性水溶液でも、粘度の高い半練
り状態の粘稠液体でもよい。又、使用時に希釈して用い
てもよいし、あるいはそのまま用いてもよい。
ールやアミンを含む有機性水溶液でも、粘度の高い半練
り状態の粘稠液体でもよい。又、使用時に希釈して用い
てもよいし、あるいはそのまま用いてもよい。
【0133】本発明の現像処理に際しては、現像温度を
20〜35℃の通常の温度範囲に設定することもできる
し、35〜40℃の高温処理の範囲に設定することもで
きる。
20〜35℃の通常の温度範囲に設定することもできる
し、35〜40℃の高温処理の範囲に設定することもで
きる。
【0134】
【実施例】以下、本発明を実施例によって具体的に説明
するが、本発明はこれによって限定されるものではな
い。
するが、本発明はこれによって限定されるものではな
い。
【0135】実施例1 (ハロゲン化銀乳剤A1の調製)同時混合法を用いて塩
化銀95モル%、残りは臭化銀からなる平均厚み0.0
5μm平均直径0.15μmの塩臭化銀コア粒子を調製
した。コア粒子混合時にK3Rh(NO)4(H2O)を
銀1モル当たり8×10-8モル、K3OsCl6を銀1モ
ル当たり8×10-6モル添加した。このコア粒子に、同
時混合法を用いてシェルを付けた。その際K2IrCl6
を銀1モル当たり3×10-7モル添加した。
化銀95モル%、残りは臭化銀からなる平均厚み0.0
5μm平均直径0.15μmの塩臭化銀コア粒子を調製
した。コア粒子混合時にK3Rh(NO)4(H2O)を
銀1モル当たり8×10-8モル、K3OsCl6を銀1モ
ル当たり8×10-6モル添加した。このコア粒子に、同
時混合法を用いてシェルを付けた。その際K2IrCl6
を銀1モル当たり3×10-7モル添加した。
【0136】さらに沃化銀微粒子を用いてKIコンバー
ジョンを用い、得られた乳剤は平均直径0.2μmのコ
ア/シェル型単分散(変動係数10%)の塩沃臭化銀
(塩化銀90モル%、沃臭化銀0.2モル%、残りは臭
化銀からなる)立方晶の乳剤であった。
ジョンを用い、得られた乳剤は平均直径0.2μmのコ
ア/シェル型単分散(変動係数10%)の塩沃臭化銀
(塩化銀90モル%、沃臭化銀0.2モル%、残りは臭
化銀からなる)立方晶の乳剤であった。
【0137】ついで特開平2−280139号に記載の
変性ゼラチン(ゼラチン中のアミノ基をフェニルカルバ
ミルで置換したもので、例えば特開平2−280139
号287(3)頁の例示化合物G−8)を使い脱塩し
た。脱塩後のEAgは50℃で190mVであった。
変性ゼラチン(ゼラチン中のアミノ基をフェニルカルバ
ミルで置換したもので、例えば特開平2−280139
号287(3)頁の例示化合物G−8)を使い脱塩し
た。脱塩後のEAgは50℃で190mVであった。
【0138】得られた乳剤に4−ヒドロキシ−6−メチ
ル−1,3,3a,7−テトラザインデンを銀1モル当
たり1×10-3モル添加し、更に臭化カリウム及びクエ
ン酸を添加してpH5.6、EAg123mVに調整し
て、p−トルエンチオスルホン酸ナトリウム1×10-3
モルを添加後、銀1モル当たりクロラミンTを350m
g、無機硫黄(S8)を0.6mg、トリクロロオーレ
イト6mgを添加して温度60℃で最高感度がでるまで
化学熟成を行った。
ル−1,3,3a,7−テトラザインデンを銀1モル当
たり1×10-3モル添加し、更に臭化カリウム及びクエ
ン酸を添加してpH5.6、EAg123mVに調整し
て、p−トルエンチオスルホン酸ナトリウム1×10-3
モルを添加後、銀1モル当たりクロラミンTを350m
g、無機硫黄(S8)を0.6mg、トリクロロオーレ
イト6mgを添加して温度60℃で最高感度がでるまで
化学熟成を行った。
【0139】熟成終了後、銀1モル当たり4−ヒドロキ
シ−6−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデン
を2×10-3モル、1−フェニル−5−メルカプトテト
ラゾールを3×10-4モル、沃化カリウムを300mg
を添加した。
シ−6−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデン
を2×10-3モル、1−フェニル−5−メルカプトテト
ラゾールを3×10-4モル、沃化カリウムを300mg
を添加した。
【0140】(ハロゲン化銀乳剤A2、A3の調製)ハ
ロゲン化銀乳剤A1に対し、前記Rh錯体の添加量をそ
れぞれ9×10-8モル/Ag、10×10-8モル/Ag
とした以外は全く同様にしてハロゲン化銀乳剤A2、A
3を調製した。
ロゲン化銀乳剤A1に対し、前記Rh錯体の添加量をそ
れぞれ9×10-8モル/Ag、10×10-8モル/Ag
とした以外は全く同様にしてハロゲン化銀乳剤A2、A
3を調製した。
【0141】(ヒドラジン誘導体を含有する印刷製版ス
キャナー用ハロゲン化銀写真感光材料の調製)支持体上
に、下記の処方1のゼラチン下塗層をゼラチン量が0.
5g/m2になるように塗布し、その上に処方2のハロ
ゲン化銀乳剤層1を銀量1.5g/m2、ゼラチン量が
1.0g/m2になるように、さらにその上層に下記処
方3のハロゲン化銀乳剤層2を銀量1.5g/m2、ゼ
ラチン量が1.0g/m2になるように、さらに下記処
方4の保護層塗布液をゼラチン量が0.6g/m2にな
るように同時重層塗布した。
キャナー用ハロゲン化銀写真感光材料の調製)支持体上
に、下記の処方1のゼラチン下塗層をゼラチン量が0.
5g/m2になるように塗布し、その上に処方2のハロ
ゲン化銀乳剤層1を銀量1.5g/m2、ゼラチン量が
1.0g/m2になるように、さらにその上層に下記処
方3のハロゲン化銀乳剤層2を銀量1.5g/m2、ゼ
ラチン量が1.0g/m2になるように、さらに下記処
方4の保護層塗布液をゼラチン量が0.6g/m2にな
るように同時重層塗布した。
【0142】また、反対側の下塗層上には下記処方5の
バッキング層をゼラチン量0.6g/m2になるよう
に、その上に下記処方6のポリマー層を、さらにその上
に下記処方7のバッキング保護層をゼラチン量が0.4
g/m2になるように乳剤層側とカーテン塗布方式で2
00m/minの速さで同時重層塗布することで試料を
得た。
バッキング層をゼラチン量0.6g/m2になるよう
に、その上に下記処方6のポリマー層を、さらにその上
に下記処方7のバッキング保護層をゼラチン量が0.4
g/m2になるように乳剤層側とカーテン塗布方式で2
00m/minの速さで同時重層塗布することで試料を
得た。
【0143】 処方1(ゼラチン下塗層組成) ゼラチン 0.5g/m2 染料例示AD−8(ボールミル分散して粒径0.1μmの 粉体にしたもの) 表1に示す量 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 10mg/m2 (平均分子量500000) レドックス化合物:例示化合物 No.22 (酢酸エチルに溶解し、ゼラチン溶液中で高速分散し ながら酢酸エチルを除去して結晶を析出させたもの) ソジウム−イソ−アミル−n−デシルスルホサクシネート 表1に示す量 0.4mg/m2 処方2(ハロゲン化銀乳剤層1組成) ハロゲン化銀乳剤A2 銀量1.5g/m2相当量 増感色素d−1 6mg/m2 増感色素d−2 3mg/m2 硝酸タリウム 0.5mg/Ag1モル ヒドラジン誘導体例示H−6 2×10-3モル/Ag1モル ヒドラジン誘導体例示H−7 2×10-3モル/Ag1モル 染料例示AD−8 表1に示す量 アミン化合物AM−1 40mg/m2 レドックス化合物:例示化合物 No.22 表1に示す量 化合物e 100mg/m2 ラテックスポリマーf 0.5g/m2 硬膜剤g 5mg/m2 ソジウム−イソ−アミル−n−デシルスルホサクシネート 0.7mg/m2 サポニン 20mg/m2 2−メルカプト−6−ヒドロキシプリン 1mg/m2 アスコルビン酸 20mg/m2 EDTA 50mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 10mg/m2 処方3(ハロゲン化銀乳剤層2組成) ハロゲン化銀乳剤A1 銀量1.5g/m2相当量 増感色素d−1 0.5mg/m2 ドドラジン誘導体:例示化合物H−28 2×10-3モル/Ag1モル ヒドラジン誘導体:例示化合物H−29 2×10-3モル/Ag1モル アミン化合物AM−1 20mg/m2 ソジウム−イソ−アミル−n−デシルスルホサクシネート 1.7mg/m2 2−メルカプト−6−ヒドロキシプリン 1mg/m2 EDTA 50mg/m2 スチレン−マレイン酸共重合体(分子量70000) 10mg/m2 ラテックスポリマーf 0.5g/m2 ゼラチンはフタル化ゼラチンを用い、塗布液pHは4.8であった。
【0144】 処方4(乳剤保護層組成) ゼラチン 0.6g/m2 アミン化合物AM−1 20mg/m2 ソジウム−イソ−アミル−n−デシルスルホサクシネート 12mg/m2 レドックス化合物:例示化合物R−21 表1に示す量 マット剤:平均粒径3.5μmの球状ポリメチルメタクリ レート 25mg/m2 平均粒径8μmの不定形シリカ 12.5mg/m2 1,3−ビニルスルホニル−2−プロパノール 40mg/m2 界面活性剤h 1mg/m2 滑り剤(シリコーンオイル) 4mg/m2 コロイダルシリカ(平均粒径0.05μm) 20mg/m2 硬膜剤j 30mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 10mg/m2 処方5(バッキング層組成) ゼラチン 0.6g/m2 ソジウム−イソ−アミル−n−デシルスルホサクシネート 5mg/m2 ラテックスポリマーf 0.3g/m2 コロイダルシリカ(平均粒径0.05μm) 70mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 10mg/m2 化合物i 100mg/m2 処方6(ポリマー層組成) ラテックスj (メチルメタクリレート:アクリル酸=97:3) 1.0g/m2 硬膜剤g 6mg/m2 処方7(バッキング保護層) ゼラチン 0.4g/m2 マット剤:平均粒径5μmの単分散ポリメチルメタクリレート 50mg/m2 ソジウム−ジ−(2−エチルヘキシル)スルホサクシナート 10mg/m2 界面活性剤h 1mg/m2 染料k 20mg/m2 H−(OCH2CH2)68−OH 50mg/m2 硬膜剤g 20mg/m2 ポリスチレン酸ナトリウム 10mg/m2 水酸化亜鉛 50mg/m2
【0145】
【化34】
【0146】
【化35】
【0147】得られた試料をステップウエッジと密着さ
せ、HeNeレーザー光の代用特性として波長633n
mのフィルターを装着した高照度感光計で露光し、下記
組成の処理液を用い、迅速処理用自現機GR−26SR
(コニカ[株]製)にて下記処理条件で処理した。
せ、HeNeレーザー光の代用特性として波長633n
mのフィルターを装着した高照度感光計で露光し、下記
組成の処理液を用い、迅速処理用自現機GR−26SR
(コニカ[株]製)にて下記処理条件で処理した。
【0148】なお、微小な網点品質の評価をするため、
大日本スクリーン(株)製SG−747RUで8μmの
ランダムパターンの網点(FMスクリーニング)で露光
を行った後、前記同様の処理を行った。
大日本スクリーン(株)製SG−747RUで8μmの
ランダムパターンの網点(FMスクリーニング)で露光
を行った後、前記同様の処理を行った。
【0149】 (処理剤の調製) 現像液組成 (使用液1l当たり) ジエチレントリアミン5酢酸・5ナトリウム 1g 亜硫酸ナトリウム 42.5g ハイドロキノン 20g 4−メチル−4−ヒドロキシメチル−1−フェニル −3−ピラゾリドン 0.85g 炭酸カリウム 55g ベンゾトリアゾール 0.2g 臭化カリウム 4g 硼酸 8g ジエチレングリコール 40g 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 0.03g 亜硫酸カリウム 17.5g 8−メルカプトアデニン 0.078g 水と水酸化カリウムを加えて1リットルに仕上げ、pH10.4にする。
【0150】 定着液組成(使用液1l当たり) チオ硫酸アンモニウム(70%水溶液) 200ml 亜硫酸ナトリウム 22g 硼酸 9.8g 酢酸ナトリウム・3水和物 70g 酢酸(90%水溶液) 14.5g 酒石酸 3g 硫酸アルミニウム( %水溶液) 25ml 硫酸にて使用液のpHが4.9になるように調整した。
【0151】処理条件 (工程) (温度) (時間) 現像 38℃ 12秒 定着 35℃ 10秒 水洗 40℃ 10秒 乾燥 50℃ 12秒 合計 44秒 感度及びガンマの評価 得られた処理済み試料をデジタル濃度計PDA−65
(コニカ[株]製)を用いてセンシトメトリカーブを作
成しガンマを測定した。
(コニカ[株]製)を用いてセンシトメトリカーブを作
成しガンマを測定した。
【0152】ガンマ(γ)は、濃度0.1と3.0で得
られる直線の正接をもって表した。表中、ガンマ値は1
0以上ではじめて硬調な画像が得られ、十分に実用可能
な感光材料であることを示す。
られる直線の正接をもって表した。表中、ガンマ値は1
0以上ではじめて硬調な画像が得られ、十分に実用可能
な感光材料であることを示す。
【0153】黒ポツ評価 得られた現像済み試料フィルムを100倍のルーペを用
いて目視で評価を行い、黒ポツの発生の少ない順に5、
4、3、2、1の5段階にランク分けした。ランク1と
2は実用上好ましくないレベルである。
いて目視で評価を行い、黒ポツの発生の少ない順に5、
4、3、2、1の5段階にランク分けした。ランク1と
2は実用上好ましくないレベルである。
【0154】リニアリティの評価 前記SG−747RUで8μmのランダムパターンの網
点(FMスクリーニング)で露光量を変化させて、理論
上2%になるべき点が実際に2%に再現される露光量に
おいて、理論上95%になるべき点が何%になっている
かをXrite361型 濃度計の網点%測定モードで
測定した。95%に近い値であることが好ましい。
点(FMスクリーニング)で露光量を変化させて、理論
上2%になるべき点が実際に2%に再現される露光量に
おいて、理論上95%になるべき点が何%になっている
かをXrite361型 濃度計の網点%測定モードで
測定した。95%に近い値であることが好ましい。
【0155】露光安定性の評価 前記SG−747RUで8μmのランダムパターンの網
点(FMスクリーニング)で光量を変化させて露光を行
ったとき、中点(目標50%)が50%になる露光量に
対し倍の露光量をかけたときに中点が50%に対して何
%太るかを測定した。
点(FMスクリーニング)で光量を変化させて露光を行
ったとき、中点(目標50%)が50%になる露光量に
対し倍の露光量をかけたときに中点が50%に対して何
%太るかを測定した。
【0156】上記評価結果をまとめて表1に示した。
【0157】また、上記評価に先立ち上記乳剤層を単独
(上記処方のうち、他方の乳剤層を除いたもの)で塗布
したものを波長633nmのフィルターを通して10
−5秒の高照度のセンシトメトリーで濃度4を与える露
光量の逆数で感度を評価したところ、乳剤1に対し乳剤
2は−12.5%の感度であった。
(上記処方のうち、他方の乳剤層を除いたもの)で塗布
したものを波長633nmのフィルターを通して10
−5秒の高照度のセンシトメトリーで濃度4を与える露
光量の逆数で感度を評価したところ、乳剤1に対し乳剤
2は−12.5%の感度であった。
【0158】
【表1】
【0159】実施例2 増感色素d−1、d−2の代わりに、下記増感色素d−
3、d−4を用いた以外は実施例1と同様の方法で試料
を調製した。
3、d−4を用いた以外は実施例1と同様の方法で試料
を調製した。
【0160】得られた試料をステップウエッジと密着さ
せ、赤外レーザー光の代用特性として波長780nmの
フィルターを装着した高照度感光計で露光し、下記組成
の処理液を用い、迅速処理用自現機GR−26SR(コ
ニカ[株]製)にて下記処理条件で処理した。
せ、赤外レーザー光の代用特性として波長780nmの
フィルターを装着した高照度感光計で露光し、下記組成
の処理液を用い、迅速処理用自現機GR−26SR(コ
ニカ[株]製)にて下記処理条件で処理した。
【0161】なお、微小な網点品質の評価をするため、
大日本スクリーン(株)製MTR−1020で8μmの
ランダムパターンの網点(FMスクリーニング)で露光
を行った後、実施例1と同様の処理、評価を行った結果
をまとめて表2に示した。
大日本スクリーン(株)製MTR−1020で8μmの
ランダムパターンの網点(FMスクリーニング)で露光
を行った後、実施例1と同様の処理、評価を行った結果
をまとめて表2に示した。
【0162】
【化36】
【0163】
【表2】
【0164】表1、2より本発明の試料はリニアリテ
ィ、露光安定性に優れ、かつ硬調で黒ポツの発生も少な
いことが分かる。
ィ、露光安定性に優れ、かつ硬調で黒ポツの発生も少な
いことが分かる。
【0165】
【発明の効果】本発明により、高濃度で、かつリニアリ
ティ、階調可変性に優れたハロゲン化銀写真感光材料が
得られた。
ティ、階調可変性に優れたハロゲン化銀写真感光材料が
得られた。
Claims (2)
- 【請求項1】 支持体上の一方に少なくとも2層のハロ
ゲン化銀乳剤層を有し、前記乳剤層の少なくとも1層及
び/又はその隣接する親水性コロイド層にヒドラジン誘
導体を含有し、支持体に最も近い乳剤層及び/又はその
隣接する親水性コロイド層に酸化されて現像制御剤を放
出するレドックス化合物を含有し、かつ支持体に最も近
い該乳剤層と支持体の間に固体状に分散された染料を含
有する層を有することを特徴とするハロゲン化銀写真感
光材料。 - 【請求項2】 pH11.0未満の現像液で処理したと
き、ガンマ(γ)が10以上であることを特徴とする請
求項1記載のハロゲン化銀写真感光材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23533595A JPH0980670A (ja) | 1995-09-13 | 1995-09-13 | ハロゲン化銀写真感光材料及びその画像形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23533595A JPH0980670A (ja) | 1995-09-13 | 1995-09-13 | ハロゲン化銀写真感光材料及びその画像形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0980670A true JPH0980670A (ja) | 1997-03-28 |
Family
ID=16984588
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23533595A Pending JPH0980670A (ja) | 1995-09-13 | 1995-09-13 | ハロゲン化銀写真感光材料及びその画像形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0980670A (ja) |
-
1995
- 1995-09-13 JP JP23533595A patent/JPH0980670A/ja active Pending
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